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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024128717
(43)【公開日】2024-09-24
(54)【発明の名称】光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240913BHJP
H10K 50/00 20230101ALI20240913BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20240913BHJP
H10K 59/00 20230101ALI20240913BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240913BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20240913BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240913BHJP
G02F 1/1335 20060101ALN20240913BHJP
G02F 1/13363 20060101ALN20240913BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H10K50/00
H10K50/10
H10K59/00
H10K59/10
H10K50/86
G09F9/30 349E
G02F1/1335 510
G02F1/13363
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023037876
(22)【出願日】2023-03-10
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003845
【氏名又は名称】弁理士法人籾井特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】東 慎太郎
(72)【発明者】
【氏名】柳沼 寛教
【テーマコード（参考）】
2H149
2H291
3K107
5C094
【Ｆターム（参考）】
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB05
2H149BA02
2H149DA02
2H149DA06
2H149DA12
2H149DA27
2H149DB02
2H149EA02
2H149EA06
2H149EA07
2H149EA19
2H149FA24Y
2H149FA26Y
2H149FA40Y
2H149FA56Y
2H149FB03
2H149FB04
2H149FD25
2H149FD47
2H291FA22X
2H291FA30X
2H291FA94X
2H291FA95X
2H291FB05
2H291FD12
2H291GA02
2H291GA08
2H291GA23
2H291LA22
2H291LA25
2H291PA07
2H291PA84
2H291PA85
2H291PA87
3K107AA01
3K107AA05
3K107BB01
3K107CC32
3K107CC37
3K107EE26
3K107FF06
3K107FF14
3K107FF15
5C094AA16
5C094BA27
5C094BA43
5C094ED14
5C094FB01
5C094JA08
5C094JA09
5C094JA20
(57)【要約】
【課題】液晶配向固化層である光学異方性層を有し、かつ、斜め方向の光抜けが抑制された光学積層体を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による光学積層体は、偏光子を含む偏光板と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、をこの順に有する。第１光学異方性層および第２光学異方性層は、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層であり；第１光学異方性層の厚みは１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は５°～２５°であり；第２光学異方性層の厚みは１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は７０°～８５°である。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の実施形態による光学積層体は、偏光子を含む偏光板と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、をこの順に有する。第１光学異方性層および第２光学異方性層は、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層であり；第１光学異方性層の厚みは１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は５°～２５°であり；第２光学異方性層の厚みは１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は７０°～８５°である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
偏光子を含む偏光板と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、をこの順に有し、
該第１光学異方性層および該第２光学異方性層が、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層であり、
該第１光学異方性層の厚みが１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度が５°～２５°であり、
該第２光学異方性層の厚みが１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度が７０°～８５°である、
光学積層体。
該第１光学異方性層および該第２光学異方性層が、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層であり、
該第１光学異方性層の厚みが１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度が５°～２５°であり、
該第２光学異方性層の厚みが１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度が７０°～８５°である、
光学積層体。
【請求項2】
前記第１光学異方性層が右旋性を示し、前記第２光学異方性層が左旋性を示す、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記第１光学異方性層のねじれ角が３５°～５７°であり、前記第２光学異方性層のねじれ角が－２７°～－１０°である、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記第１光学異方性層が、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して右旋性のカイラル剤を０．０６０重量部～０．０９５重量部含み、
前記第２光学異方性層が、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して左旋性のカイラル剤を０．０７０重量部～０．０８２重量部含む、
請求項３に記載の光学積層体。
前記第２光学異方性層が、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して左旋性のカイラル剤を０．０７０重量部～０．０８２重量部含む、
請求項３に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記第２光学異方性層の第１光学異方性層と反対側に、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す別の光学異方性層をさらに有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項6】
請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体を備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、多くの場合、位相差フィルムのような光学異方性フィルムを含む光学積層体（例えば、偏光板と位相差フィルムとを一体化した反射防止フィルム）が用いられている。近年、画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴って、光学積層体についても薄型化の要望が強まっている。光学積層体の薄型化を目的として、厚みに対する寄与の大きい光学異方性層（光学異方性フィルム）の薄型化が進んでいる。薄型の光学異方性フィルムの代表例としては、液晶化合物を用いた光学異方性フィルムが挙げられる。液晶化合物は樹脂に比べて複屈折（Δｎ）が格段に大きいので、所望の面内位相差を得るための厚みを樹脂フィルムの延伸フィルムに比べて格段に小さくすることができる。一方で、液晶化合物を用いた光学異方性フィルムを含む光学積層体は、斜め方向から見たときに光抜けが発生する場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第６５５４５３６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、液晶配向固化層である光学異方性層を有し、かつ、斜め方向の光抜けが抑制された光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
［１］本発明の実施形態による光学積層体は、偏光子を含む偏光板と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、をこの順に有し；該第１光学異方性層および該第２光学異方性層は、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層であり；該第１光学異方性層の厚みは１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度は５°～２５°であり；該第２光学異方性層の厚みは１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と該偏光子の吸収軸方向とのなす角度は７０°～８５°である。
［２］上記［１］において、上記第１光学異方性層は右旋性を示し、上記第２光学異方性層は左旋性を示す。
［３］上記［１］または［２］において、上記第１光学異方性層のねじれ角は３５°～５７°であり、上記第２光学異方性層のねじれ角は－２７°～－１０°である。
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、上記第１光学異方性層は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して右旋性のカイラル剤を０．０６０重量部～０．０９５重量部含み；上記第２光学異方性層は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して左旋性のカイラル剤を０．０７０重量部～０．０８２重量部含む。
［５］上記［１］から［４］のいずれかにおいて、上記光学積層体は、上記第２光学異方性層の第１光学異方性層と反対側に、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す別の光学異方性層をさらに有する。
［６］本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。当該画像表示装置は、上記［１］から［５］のいずれかの光学積層体を備える。
［２］上記［１］において、上記第１光学異方性層は右旋性を示し、上記第２光学異方性層は左旋性を示す。
［３］上記［１］または［２］において、上記第１光学異方性層のねじれ角は３５°～５７°であり、上記第２光学異方性層のねじれ角は－２７°～－１０°である。
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、上記第１光学異方性層は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して右旋性のカイラル剤を０．０６０重量部～０．０９５重量部含み；上記第２光学異方性層は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して左旋性のカイラル剤を０．０７０重量部～０．０８２重量部含む。
［５］上記［１］から［４］のいずれかにおいて、上記光学積層体は、上記第２光学異方性層の第１光学異方性層と反対側に、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す別の光学異方性層をさらに有する。
［６］本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。当該画像表示装置は、上記［１］から［５］のいずれかの光学積層体を備える。
【発明の効果】
【0006】
本発明の実施形態によれば、液晶配向固化層である光学異方性層を有し、かつ、斜め方向の光抜けが抑制された光学積層体を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【0009】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
【0010】
Ａ．光学積層体
図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図示例の光学積層体１００は、偏光板１０と、第１光学異方性層２１と、第２光学異方性層２２と、を図面の上側からこの順に有する。図面の上側が視認側となり、図面の下側が画像表示パネル側となる。偏光板１０は、偏光子１１と、偏光子１１の一方の側（図示例では視認側）に配置された保護層１２と、を含む。図示例の偏光板は、いわゆる片保護偏光板である。目的に応じて、偏光子１１の保護層１２と反対側に別の保護層（内側保護層：図示せず）が配置されていてもよい。すなわち、偏光板は両保護偏光板であってもよい。光学積層体の薄型化の観点から、内側保護層は省略され得る。
図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図示例の光学積層体１００は、偏光板１０と、第１光学異方性層２１と、第２光学異方性層２２と、を図面の上側からこの順に有する。図面の上側が視認側となり、図面の下側が画像表示パネル側となる。偏光板１０は、偏光子１１と、偏光子１１の一方の側（図示例では視認側）に配置された保護層１２と、を含む。図示例の偏光板は、いわゆる片保護偏光板である。目的に応じて、偏光子１１の保護層１２と反対側に別の保護層（内側保護層：図示せず）が配置されていてもよい。すなわち、偏光板は両保護偏光板であってもよい。光学積層体の薄型化の観点から、内側保護層は省略され得る。
【0011】
本発明の実施形態においては、第１光学異方性層２１および第２光学異方性層２２は、互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層である。したがって、例えば第１光学異方性層が右旋性（dextro-rotatory）を有する場合には、第２光学異方性層は左旋性（levo-rotatory）を有する。あるいは、第１光学異方性層が左旋性を有し、第２光学異方性層が右旋性を有していてもよい。互いに異なる旋光性を有するカイラルネマチック相を示す液晶配向固化層を組み合わせて用いることにより、液晶配向固化層を含む光学積層体において問題となり得る斜め方向の光抜けを抑制することができる。特に、視野角が大きい（すなわち、正面方向からの傾斜が大きい：例えば極角が５０°以上である）場合に、効果が顕著なものとなり得る。結果として、視野角によらず優れた反射特性を有する光学積層体を実現することができる。さらに、第１光学異方性層２１の厚みは１．０μｍ～１．７μｍであり、その遅相軸方向と偏光子１１の吸収軸方向とのなす角度は５°～２５°である。第２光学異方性層２２の厚みは１．９μｍ～２．５μｍであり、その遅相軸方向と偏光子１１の吸収軸方向とのなす角度は７０°～８５°である。このような構成であれば、上記の効果がさらに顕著なものとなり得る。なお、カイラルネマチック相は、代表的には棒状液晶化合物がねじれ配向した状態を示す。ねじれ配向とは、光学異方性層の厚み方向を軸として、光学異方性層の一方の主面から他方の主面にかけて棒状液晶化合物がねじれていることを意味する。すなわち、ねじれ配向においては、棒状液晶化合物の配向方向（遅相軸方向）が、光学異方性層の厚み方向における位置によって異なるものとなる。さらに、上記のとおり、第１光学異方性層と第２光学異方性層とは互いに異なる旋光性を有するので、一方のねじれ方向が右回りであれば、他方のねじれ方向は左回りとなる。
【0012】
第１光学異方性層２１は、例えば、配向規制力を有する任意の適切な基板に形成された後、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して偏光板に貼着（転写）される。配向規制力は、代表的には、ラビング配向、延伸基材配向、光配向によって付与することができる。好ましくは、延伸基材配向または光配向である。同様に、第２光学異方性層２２は、例えば、配向規制力を有する任意の適切な基板に形成された後、任意の適切な接着層を介して第１光学異方性層に貼着される。なお、本明細書において「液晶配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。「液晶配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
【0013】
第１光学異方性層２１の遅相軸方向と偏光子１１の吸収軸方向とのなす角度は、上記のとおり５°～２５°であり、好ましくは６°～２２°であり、より好ましくは７°～１８°であり、さらに好ましくは８°～１５°であり、特に好ましくは１０°～１２°である。第２光学異方性層２２の遅相軸方向と偏光子１１の吸収軸方向とのなす角度は、上記のとおり７０°～８５°であり、好ましくは７２°～８４°であり、より好ましくは７３°～８３°であり、さらに好ましくは７５°～８２°であり、特に好ましくは７８°～８１°である。第１光学異方性層２１の遅相軸方向と第２光学異方性層２２の遅相軸方向とのなす角度は、好ましくは３０°～８０°であり、より好ましくは４０°～７０°であり、さらに好ましくは５０°～６０°である。偏光子の吸収軸方向、第１光学異方性層の遅相軸方向および第２光学異方性層の遅相軸方向がこのような関係であれば、斜め方向の光抜けをさらに良好に抑制することができる。
【0014】
１つの実施形態においては、光学積層体は、第２光学異方性層２２の第１光学異方性層２１と反対側に別の光学異方性層（図示せず）をさらに有していてもよい。別の光学異方性層は、代表的には、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートである。このような別の光学異方性層を設けることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能のさらなる広視野角化が可能となる。
【0015】
実用的には、光学積層体は、画像表示パネル側の最外層として粘着剤層（図示せず）を有し、画像表示パネルに貼り付け可能とされている。この場合、粘着剤層の表面には、光学積層体が使用に供されるまで、はく離ライナーが仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、光学積層体のロール形成が可能となる。
【0016】
光学積層体の総厚みは、例えば１２０μｍ以下であり、また例えば１０μｍ～１００μｍであり、また例えば１５μｍ～５０μｍである。本発明の実施形態によれば、液晶配向固化層を含むきわめて薄型の光学積層体において、斜め方向の光抜けを抑制することができる。なお、本明細書において「光学積層体の総厚み」とは、偏光板１０（実質的には、保護層１２）の視認側表面から第２光学異方性層２２の画像表示パネル側表面までの距離を意味する。言い換えれば、光学積層体の総厚みは、偏光板、第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、これらを積層するための接着層の合計厚みをいう。したがって、光学積層体の総厚みには、画像表示パネル側の粘着剤層の厚みは含まれない。
【0017】
以下、光学積層体の構成要素（偏光板、第１光学異方性層、第２光学異方性層および別の光学異方性層）について具体的に説明する。
【0018】
Ｂ．偏光板
Ｂ－１．偏光子
偏光子１１としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。偏光子は、代表的には、二色性物質（例えば、ヨウ素）を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成されている。ＰＶＡ系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン―酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物が挙げられる。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
Ｂ－１．偏光子
偏光子１１としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。偏光子は、代表的には、二色性物質（例えば、ヨウ素）を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成されている。ＰＶＡ系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン―酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物が挙げられる。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
【0019】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
【0020】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【0021】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性は向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0022】
偏光子の厚みは、例えば１２μｍ以下であり、好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～７μｍである。このような薄い偏光子と液晶配向固化層とを組み合わせることにより、光学積層体の顕著な薄型化が可能となる。また、偏光子の厚みが上記のような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。
【0023】
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４１．０％～４６．０％であり、より好ましくは４２．０％～４５．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。本発明の実施形態によれば、単体透過率が上記のような範囲であっても、偏光度をこのような範囲に維持することができる。
【0024】
Ｂ－２．保護層
保護層１２および内側保護層（存在する場合）は、任意の適切な樹脂フィルムで構成される。樹脂フィルムを構成する材料としては、代表的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が挙げられる。（メタ）アクリル系樹脂の代表例としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、特開２０００－２３００１６号公報、特開２００１－１５１８１４号公報、特開２００２－１２０３２６号公報、特開２００２－２５４５４４号公報、特開２００５－１４６０８４号公報に記載されている。これらの公報は、本明細書に参考として援用されている。異形加工の容易性等の観点から、セルロース系樹脂が好ましく、ＴＡＣがより好ましい。透湿度が低く、耐久性に優れた偏光板が得られるという観点からは、シクロオレフィン系樹脂および（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
保護層１２および内側保護層（存在する場合）は、任意の適切な樹脂フィルムで構成される。樹脂フィルムを構成する材料としては、代表的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が挙げられる。（メタ）アクリル系樹脂の代表例としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、特開２０００－２３００１６号公報、特開２００１－１５１８１４号公報、特開２００２－１２０３２６号公報、特開２００２－２５４５４４号公報、特開２００５－１４６０８４号公報に記載されている。これらの公報は、本明細書に参考として援用されている。異形加工の容易性等の観点から、セルロース系樹脂が好ましく、ＴＡＣがより好ましい。透湿度が低く、耐久性に優れた偏光板が得られるという観点からは、シクロオレフィン系樹脂および（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【0025】
光学積層体は、代表的には画像表示装置の視認側に配置され、保護層１２は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、保護層１２には、必要に応じて、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理が挙げられる。さらに／あるいは、保護層１２には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、光学積層体は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。
【0026】
内側保護層（存在する場合）は、１つの実施形態においては、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ～１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることをいう。
【0027】
保護層１２および内側保護層（存在する場合）の厚みは、それぞれ、好ましくは１０μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１２μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。なお、保護層１２に表面処理が施されている場合、保護層１２の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
【0028】
Ｃ．第１光学異方性層
第１光学異方性層は、上記のとおりカイラルネマチック相を示す。したがって、第１光学異方性層は、ネマチック液晶化合物とカイラル剤とを含む。第１光学異方性層は、上記のとおり、第２光学異方性層とは異なる旋光性を有する。具体的には、第１光学異方性層は、第２光学異方性層が左旋性を有する場合には右旋性を有し、第２光学異方性層が右旋性を有する場合には左旋性を有する。旋光性はカイラル剤によって制御され得る。カイラル剤については後述する。
第１光学異方性層は、上記のとおりカイラルネマチック相を示す。したがって、第１光学異方性層は、ネマチック液晶化合物とカイラル剤とを含む。第１光学異方性層は、上記のとおり、第２光学異方性層とは異なる旋光性を有する。具体的には、第１光学異方性層は、第２光学異方性層が左旋性を有する場合には右旋性を有し、第２光学異方性層が右旋性を有する場合には左旋性を有する。旋光性はカイラル剤によって制御され得る。カイラル剤については後述する。
【0029】
第１光学異方性層の厚みは、上記のとおり１．０μｍ～１．７μｍであり、好ましくは１．１μｍ～１．６μｍであり、より好ましくは１．２μｍ～１．５μｍである。本発明の実施形態においては、λ／２板に代えて所定のねじれ角を有するカイラルネマチック相を示す光学異方性層を用いて光学積層体（例えば、円偏光板または楕円偏光板）を構成することにより、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。さらに、このような光学異方性層を用いることにより、液晶配向固化層のλ／２板に比べて厚みを半分以下とすることができる。その結果、光学積層体の顕著な薄型化に貢献し得る。
【0030】
第１光学異方性層の遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は、上記のとおり５°～２５°であり、好ましくは６°～２２°であり、より好ましくは７°～１８°であり、さらに好ましくは８°～１５°であり、特に好ましくは１０°～１２°である。当該角度がこのような範囲であれば、第２光学異方性層の遅相軸方向を所定角度とする効果との相乗的な効果により、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。
【0031】
第１光学異方性層のねじれ角は、第１光学異方性層が右旋性を有する場合には、好ましくは３５°～５７°であり、より好ましくは３７°～５５°であり、さらに好ましくは３８°～５０°であり、特に好ましくは３９°～４５°である。ねじれ角がこのような範囲であれば、第２光学異方性層のねじれ角を所定範囲とする効果との相乗的な効果により、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。なお、本明細書においては、右旋性のねじれ角を「＋（正）」とし、左旋性のねじれ角を「－（負）」とする。したがって、第１光学異方性層が左旋性を有する場合には、ねじれ角の符号が「－（負）」となる。
【0032】
ネマチック液晶化合物（以下、単に液晶化合物と称する場合がある）としては、例えば、液晶ポリマーおよび液晶モノマーが挙げられる。液晶化合物は、好ましくは、重合可能である。液晶化合物が重合可能であると、液晶化合物を配向させた後に重合させることで、液晶化合物の配向状態を固定し得る。ここで、重合により形成されたポリマーは非液晶性である。したがって、形成された液晶配向固化層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、液晶配向固化層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学異方性層となる。
【0033】
液晶化合物の液晶性の発現機構は、サーモトロピックであってもよく、リオトロピックであってもよい。
【0034】
液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃～１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃～１００℃であり、最も好ましくは６０℃～９０℃である。
【0035】
液晶モノマーとしては、例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ－Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ－Ｓｉｌｌｉｃｏｎ－ＣＣ３７６７が挙げられる。
【0036】
カイラル剤としては、ネマチック液晶化合物（ネマチック液晶相）にねじれを付与し得る適切な材料が採用され得る。カイラル剤のねじり力は、好ましくは１×１０－６ｎｍ－１・（ｗｔ％）－１以上であり、より好ましくは１×１０－５ｎｍ－１・（ｗｔ％）－１～１×１０－２ｎｍ－１・（ｗｔ％）－１であり、さらに好ましくは１×１０－４ｎｍ－１・（ｗｔ％）－１～１×１０－３ｎｍ－１・（ｗｔ％）－１である。このようなねじり力を有するカイラル剤を所定量用いることにより、所望のねじれ角を有するカイラルネマチック相を実現し得る。
【0037】
カイラル剤は、好ましくは重合可能である。カイラル剤が重合可能であれば、ネマチック液晶化合物の配向状態をさらに良好に固定し得る。
【0038】
上記のとおり、第１光学異方性層は、右旋性であってもよく左旋性であってもよい。したがって、カイラル剤の旋光性は、右旋性であってもよく左旋性であってもよい。
【0039】
カイラル剤としては、例えば、特開２００３－２８７６２３号公報の［００４８］～［００５６］に記載の重合性カイラル剤を好適に用いることができる。また、カイラル剤は、市販品を用いてもよい。右旋性のカイラル剤の具体例としては、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ７５６、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｒ－８１１、Ｒ－１０１１、Ｒ－２０１１、Ｒ－３０１１、Ｒ－４０１１、Ｒ－５０１１が挙げられる。左旋性のカイラル剤の具体例としては、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｓ－８１１、Ｓ－１０１１、Ｓ－２０１１、Ｓ－３０１１、Ｓ－４０１１、Ｓ－５０１１が挙げられる。カイラル剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0040】
カイラル剤の配合量（結果として、第１光学異方性層におけるカイラル剤の含有量）は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して、好ましくは０．０６０重量部～０．０９５重量部であり、より好ましくは０．０６５重量部～０．０９４重量部であり、さらに好ましくは０．０７０重量部～０．０９３重量部であり、特に好ましくは０．０７５重量部～０．０９２重量部であり、とりわけ好ましくは０．０８０重量部～０．０９１重量部である。カイラル剤の配合量がこのような範囲であれば、所望のねじれ角を有するカイラルネマチック相を実現し得る。
【0041】
Ｄ．第２光学異方性層
第２光学異方性層は、第１光学異方性層と同様にカイラルネマチック相を示す。したがって、第２光学異方性層もまた、ネマチック液晶化合物とカイラル剤とを含む。第２光学異方性層は、上記のとおり、第１光学異方性層とは異なる旋光性を有する。具体的には、第２光学異方性層は、第１光学異方性層が右旋性を有する場合には左旋性を有し、第１光学異方性層が左旋性を有する場合には右旋性を有する。
第２光学異方性層は、第１光学異方性層と同様にカイラルネマチック相を示す。したがって、第２光学異方性層もまた、ネマチック液晶化合物とカイラル剤とを含む。第２光学異方性層は、上記のとおり、第１光学異方性層とは異なる旋光性を有する。具体的には、第２光学異方性層は、第１光学異方性層が右旋性を有する場合には左旋性を有し、第１光学異方性層が左旋性を有する場合には右旋性を有する。
【0042】
第２光学異方性層の厚みは、上記のとおり１．９μｍ～２．５μｍであり、好ましくは１．９μｍ～２．４μｍであり、より好ましくは２．０μｍ～２．３μｍである。本発明の実施形態においては、λ／４板に代えて所定のねじれ角を有するカイラルネマチック相を示す光学異方性層を用いて光学積層体（例えば、円偏光板または楕円偏光板）を構成することにより、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。
【0043】
第２光学異方性層の遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度は、上記のとおり７０°～８５°であり、好ましくは７２°～８４°であり、より好ましくは７３°～８３°であり、さらに好ましくは７５°～８２°であり、特に好ましくは７８°～８１°である。当該角度がこのような範囲であれば、第１光学異方性層の遅相軸方向を所定角度とする効果との相乗的な効果により、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。
【0044】
第２光学異方性層のねじれ角は、第２光学異方性層が左旋性を有する場合には、好ましくは－２７°～－１０°であり、より好ましくは－２５°～－１２°であり、さらに好ましくは－２０°～－１３°であり、特に好ましくは－１８°～－１４°である。ねじれ角がこのような範囲であれば、第１光学異方性層のねじれ角を所定範囲とする効果との相乗的な効果により、斜め方向の光抜けを良好に抑制することができる。第２光学異方性層が右旋性を有する場合には、ねじれ角の符号が「＋（正）」となる。
【0045】
ネマチック液晶化合物およびカイラル剤については、第１光学異方性層に関して上記Ｃ項で説明したとおりである。
【0046】
カイラル剤の配合量（結果として、第２光学異方性層におけるカイラル剤の含有量）は、ネマチック液晶化合物１００重量部に対して、好ましくは０．０７０重量部～０．０８２重量部であり、より好ましくは０．０７１重量部～０．０８１重量部であり、さらに好ましくは０．０７２重量部～０．０８０重量部であり、特に好ましくは０．０７３重量部～０．０７８重量部であり、とりわけ好ましくは０．０７４重量部～０．０７６重量部である。カイラル剤の配合量がこのような範囲であれば、所望のねじれ角を有するカイラルネマチック相を実現し得る。
【0047】
第２光学異方性層を構成する液晶化合物の複屈折Δｎは、好ましくは０．０６以上であり、より好ましくは０．０８以上であり、さらに好ましくは０．０９以上であり、特に好ましくは０．１０以上である。Δｎの上限は、例えば０．１３であり得、また例えば０．１２であり得る。Δｎがこのような範囲であれば、非常に薄い厚みで所望の光学特性を実現することができる。その結果、第２光学異方性層（したがって、光学積層体）をさらに薄くすることが可能となり、最終的に画像表示装置の顕著な薄型化に貢献し得る。なお、第１光学異方性層を構成する液晶化合物の複屈折Δｎも同様であるので、第１光学異方性層の薄型化が可能であり、第２光学異方性層の薄型化との相乗的な効果により、光学積層体（最終的に、画像表示装置）の顕著な薄型化に貢献し得る。
【0048】
Ｅ．別の光学異方性層
別の光学異方性層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。別の光学異方性層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能のさらなる広視野角化が可能となる。この場合、別の光学異方性層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、別の光学異方性層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。
別の光学異方性層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。別の光学異方性層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能のさらなる広視野角化が可能となる。この場合、別の光学異方性層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、別の光学異方性層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。
【0049】
別の光学異方性層は、任意の適切な材料で形成され得る。別の光学異方性層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該光学異方性層の形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、別の光学異方性層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ～５μｍである。
【0050】
Ｆ．画像表示装置
上記Ａ項～Ｅ項に記載の光学積層体は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような光学積層体を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、代表的には、その視認側に上記Ａ項～Ｅ項に記載の光学積層体を備える。
上記Ａ項～Ｅ項に記載の光学積層体は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような光学積層体を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、代表的には、その視認側に上記Ａ項～Ｅ項に記載の光学積層体を備える。
【実施例0051】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における測定方法および評価方法は以下のとおりである。
【0052】
（１）厚み
干渉膜厚計（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ９８００」）で測定した。
干渉膜厚計（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ９８００」）で測定した。
【0053】
（２）面内位相差Ｒｅ（５５０）
ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の「ＡＸＯ－Ｓｃａｎ」を用いて測定した。
ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の「ＡＸＯ－Ｓｃａｎ」を用いて測定した。
【0054】
（３）光学異方性層のねじれ角
ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の「ＡＸＯ－Ｓｃａｎ」を用い、当該装置の解析ソフトウェアを用いて導出した。
ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の「ＡＸＯ－Ｓｃａｎ」を用い、当該装置の解析ソフトウェアを用いて導出した。
【0055】
（４）光抜け
実施例および比較例で得られた光学積層体について、シンテック社製「ＬＣＤＭａｓｔｅｒ １Ｄ」を用いて、方位角５０°および極角６０°の輝度をシミュレーションし、以下の基準で評価した。なお、単位「ｎｔ」は「ｃｄ／ｍ２」と同義である。
Ａ（良好）：輝度が２．７（ｎｔ）以下
Ｂ（中間）：輝度が２．７（ｎｔ）を超えて３．４（ｎｔ）以下
Ｃ（不良）：輝度が３．４（ｎｔ）を超える
実施例および比較例で得られた光学積層体について、シンテック社製「ＬＣＤＭａｓｔｅｒ １Ｄ」を用いて、方位角５０°および極角６０°の輝度をシミュレーションし、以下の基準で評価した。なお、単位「ｎｔ」は「ｃｄ／ｍ２」と同義である。
Ａ（良好）：輝度が２．７（ｎｔ）以下
Ｂ（中間）：輝度が２．７（ｎｔ）を超えて３．４（ｎｔ）以下
Ｃ（不良）：輝度が３．４（ｎｔ）を超える
【0056】
［実施例１］
１．偏光板の作製
１－１．偏光子の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの偏光子を形成し、樹脂基材／偏光子の構成を有する偏光板を得た。偏光子の単体透過率Ｔｓは４３．３％であった。
１．偏光板の作製
１－１．偏光子の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの偏光子を形成し、樹脂基材／偏光子の構成を有する偏光板を得た。偏光子の単体透過率Ｔｓは４３．３％であった。
【0057】
１－２．偏光板の作製
得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、紫外線硬化型接着剤を介して、ＨＣ－ＴＡＣフィルムを貼り合わせた。なお、ＨＣ－ＴＡＣフィルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚み２５μｍ）にＨＣ層（厚み７μｍ）が形成されたフィルムであり、ＴＡＣフィルムが偏光子側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離してＨＣ層／ＴＡＣフィルム（保護層）／偏光子の構成を有する偏光板を得た。
得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、紫外線硬化型接着剤を介して、ＨＣ－ＴＡＣフィルムを貼り合わせた。なお、ＨＣ－ＴＡＣフィルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚み２５μｍ）にＨＣ層（厚み７μｍ）が形成されたフィルムであり、ＴＡＣフィルムが偏光子側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離してＨＣ層／ＴＡＣフィルム（保護層）／偏光子の構成を有する偏光板を得た。
【0058】
２．第１光学異方性層の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」）１００重量部および重合性カイラル剤（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」：右旋性）０．０９０重量部をシクロペンタノンに溶解して、固形分濃度２０重量％の溶液を調製した。この溶液に、重合開始剤、レベリング剤および架橋剤を所定量添加して、第１光学異方性層形成用塗工液を調製した。一方、基材として延伸ノルボルネン系フィルム（厚み：２３μｍ）を準備した。この基材上に、上記の第１光学異方性層形成用塗工液をスピンコーターにより塗布し、１００℃で３分間加熱して液晶化合物を配向させた。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光硬化を行い、液晶化合物の配向状態を固定した。このようにして、基材上に第１光学異方性層（厚み１．５μｍ）を形成した。第１光学異方性層は、ねじれ角が４０°（右旋性）のカイラルネマチック相を示した。
ネマチック液晶相を示す重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」）１００重量部および重合性カイラル剤（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」：右旋性）０．０９０重量部をシクロペンタノンに溶解して、固形分濃度２０重量％の溶液を調製した。この溶液に、重合開始剤、レベリング剤および架橋剤を所定量添加して、第１光学異方性層形成用塗工液を調製した。一方、基材として延伸ノルボルネン系フィルム（厚み：２３μｍ）を準備した。この基材上に、上記の第１光学異方性層形成用塗工液をスピンコーターにより塗布し、１００℃で３分間加熱して液晶化合物を配向させた。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光硬化を行い、液晶化合物の配向状態を固定した。このようにして、基材上に第１光学異方性層（厚み１．５μｍ）を形成した。第１光学異方性層は、ねじれ角が４０°（右旋性）のカイラルネマチック相を示した。
【0059】
３．第２光学異方性層の作製
カイラル剤「ＬＣ７５６」０．０９０重量部の代わりにＭｅｒｃｋ社「Ｓ－１０１１」（左旋性）０．０７５重量部を用いて第２光学異方性層形成用塗工液を調製したこと、および、塗工液の塗工厚みを変更したこと以外は第１光学異方性層の場合と同様にして、基材上に第２光学異方性層（厚み２．０μｍ）を形成した。第２光学異方性層は、ねじれ角が－１５°（左旋性）のカイラルネマチック相を示した。
カイラル剤「ＬＣ７５６」０．０９０重量部の代わりにＭｅｒｃｋ社「Ｓ－１０１１」（左旋性）０．０７５重量部を用いて第２光学異方性層形成用塗工液を調製したこと、および、塗工液の塗工厚みを変更したこと以外は第１光学異方性層の場合と同様にして、基材上に第２光学異方性層（厚み２．０μｍ）を形成した。第２光学異方性層は、ねじれ角が－１５°（左旋性）のカイラルネマチック相を示した。
【0060】
４．光学積層体の作製
上記で得られた偏光板の偏光子表面に、エポキシ系接着剤（厚み１μｍ）を介して第１光学異方性層を貼り合わせた後、基材を剥離した。次いで、第１光学異方性層表面に、エポキシ系接着剤（厚み１μｍ）を介して第２光学異方性層を貼り合わせた後、基材を剥離した。第１光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と１０°となるよう貼り合わせ；第２光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と８０°となるよう貼り合わせた。このようにして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を上記「光抜け」の評価に供した。結果を表１に示す。
上記で得られた偏光板の偏光子表面に、エポキシ系接着剤（厚み１μｍ）を介して第１光学異方性層を貼り合わせた後、基材を剥離した。次いで、第１光学異方性層表面に、エポキシ系接着剤（厚み１μｍ）を介して第２光学異方性層を貼り合わせた後、基材を剥離した。第１光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と１０°となるよう貼り合わせ；第２光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と８０°となるよう貼り合わせた。このようにして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を上記「光抜け」の評価に供した。結果を表１に示す。
【0061】
［実施例２～７］
第１光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向、ならびに、第２光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向を表１に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
第１光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向、ならびに、第２光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向を表１に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0062】
［比較例１］
カイラル剤を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、基材上に第１光学異方性層（厚み４．２μｍ）を形成した。第１光学異方性層のＲｅ（５５０）は２６０ｎｍであった。さらに、カイラル剤を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、基材上に第２光学異方性層（厚み２．０μｍ）を形成した。第２光学異方性層のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであった。実施例１と同様の偏光板を用い、以下の手順は実施例１と同様にして、第１光学異方性層および第２光学異方性層を順に貼り合わせた。第１光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と１５°となるよう貼り合わせ；第２光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と７５°となるよう貼り合わせた。このようにして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
カイラル剤を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、基材上に第１光学異方性層（厚み４．２μｍ）を形成した。第１光学異方性層のＲｅ（５５０）は２６０ｎｍであった。さらに、カイラル剤を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、基材上に第２光学異方性層（厚み２．０μｍ）を形成した。第２光学異方性層のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであった。実施例１と同様の偏光板を用い、以下の手順は実施例１と同様にして、第１光学異方性層および第２光学異方性層を順に貼り合わせた。第１光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と１５°となるよう貼り合わせ；第２光学異方性層は、その遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向と７５°となるよう貼り合わせた。このようにして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0063】
［比較例２～５］
第１光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向、ならびに、第２光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向を表１に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
第１光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向、ならびに、第２光学異方性層のねじれ角、厚みおよび貼り合わせ時の遅相軸方向を表１に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。得られた光学積層体を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0064】
【表1】
【0065】
表１から明らかなように、本発明の実施例によれば、液晶配向固化層である光学異方性層を有するにもかかわらず、斜め方向の光抜けが抑制された光学積層体が得られることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【0066】
本発明の実施形態による光学積層体は、画像表示装置（代表的には、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置）に好適に用いられ得る。
【符号の説明】
【0067】
１０ 偏光板
１１ 偏光子
１２ 保護層
２１ 第１光学異方性層
２２ 第２光学異方性層
１００ 光学積層体
１１ 偏光子
１２ 保護層
２１ 第１光学異方性層
２２ 第２光学異方性層
１００ 光学積層体
【図1】