特開 2024-135102 液晶装置および電子機器

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024135102

(43)【公開日】2024-10-04

(54)【発明の名称】液晶装置および電子機器

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1339 20060101AFI20240927BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20240927BHJP

   G02F 1/1337 20060101ALI20240927BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALI20240927BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1339 505

G02F1/13 505

G02F1/1337 515

G02F1/1368

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023045623

(22)【出願日】2023-03-22

(71)【出願人】

【識別番号】000002369

【氏名又は名称】セイコーエプソン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100149548

【弁理士】

【氏名又は名称】松沼 泰史

(74)【代理人】

【識別番号】100140774

【弁理士】

【氏名又は名称】大浪 一徳

(74)【代理人】

【識別番号】100114937

【弁理士】

【氏名又は名称】松本 裕幸

(74)【代理人】

【識別番号】100196058

【弁理士】

【氏名又は名称】佐藤 彰雄

(72)【発明者】

【氏名】柳澤 達也

【テーマコード（参考）】

2H088

2H189

2H192

2H290

【Ｆターム（参考）】

2H088EA10

2H088EA12

2H088GA02

2H088GA19

2H088HA02

2H088HA03

2H088HA08

2H088HA12

2H088HA18

2H088JA10

2H088KA27

2H088MA20

2H189AA08

2H189DA83

2H189DA87

2H189GA49

2H189HA11

2H189HA16

2H189JA10

2H189LA03

2H189LA05

2H189LA10

2H189LA14

2H189LA17

2H189MA05

2H189MA15

2H192AA24

2H192EA43

2H192FA01

2H192GD12

2H192GD25

2H192JA13

2H192JB02

2H290AA35

2H290BF04

2H290CA46

2H290CB22

(57)【要約】

【課題】液晶の劣化により生じたイオン性不純物をキセロゲルにより取り除くことができ、液晶パネルを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる液晶装置および電子機器を提供する。
【解決手段】第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で平面視で外周部に配置されるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材によって囲まれる内側に配置される液晶層と、少なくとも前記シール材の一部に沿って配置されるキセロゲルを含む吸着層と、を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材によって囲まれる内側に配置される液晶層と、
少なくとも前記シール材の一部に沿って配置されるキセロゲルを含む吸着層と、
を備えることを特徴とする液晶装置。

【請求項2】

前記吸着層は、前記シール材の前記液晶層側の側面に配置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。

【請求項3】

前記吸着層は、前記シール材の前記液晶層とは反対側の側面に配置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。

【請求項4】

前記吸着層は、前記シール材の角部に配置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。

【請求項5】

第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材によって囲まれる内部に配置される液晶層と、
前記第１基板と前記液晶層との間に配置される画素電極と、
前記画素電極よりも前記シール材側に配置されるダミー画素電極と、
平面視で前記画素電極と前記ダミー画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、
を備えることを特徴とする液晶装置。

【請求項6】

前記第１基板は、配向膜を有し、
前記吸着層は、前記配向膜よりも前記第１基板側に配置される、
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。

【請求項7】

前記第１基板は、配向膜を有し、
前記吸着層は、前記配向膜と重ならない位置に配置される、
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。

【請求項8】

前記吸着層は、平面視で前記画素電極と前記ダミー画素電極との間に配置された遮光層と重なる位置に配置される、
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。

【請求項9】

第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、
前記第１基板と前記液晶層との間に配置される第１画素電極と、
前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、平面視で前記第１画素電極と並んで配置される第２画素電極と、
平面視で前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、
を備えることを特徴とする液晶装置。

【請求項10】

前記第１基板は、配向膜を有し、
前記吸着層は、前記配向膜よりも前記第１基板側に配置される、
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶装置。

【請求項11】

前記第１基板は、配向膜を有し、
前記吸着層は、前記配向膜と重ならない位置に配置される、
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶装置。

【請求項12】

前記吸着層は、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置された遮光層と重なる位置に配置される、
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶装置。

【請求項13】

請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の液晶装置を備えた電子機器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液晶装置および電子機器に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、液晶装置として、シール材の内部に設けられた液晶を循環させる循環流路がシール材及び隔壁によって構成され、循環流路は、循環流路の液晶を強制的に流動させる強制循環装置が設けられるとともに、表示領域よりイオンに対する吸着性を高くする構成が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２０－１８７２１３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記特許文献１に開示される液晶装置では、循環経路を設ける分十分なスペースを確保する必要があるため、表示領域を縮小化したり、パネルを大型化しなければならないという課題があった。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明の１つの態様によれば、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材の内部に配置される液晶層と、少なくとも前記シール材の一部に沿って配置されるキセロゲルを含む吸着層と、を備える、液晶装置が提供される。

【0006】

本発明の別の態様によれば、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材の内部に配置される液晶層と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置される画素電極と、前記画素電極よりも前記シール材側に配置されるダミー画素電極と、平面視で前記画素電極と前記ダミー画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、を備える、液晶装置が提供される。

【0007】

本発明の別の態様によれば、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置される第１画素電極と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、平面視で前記第１画素電極と並んで配置される第２画素電極と、平面視で前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、を備える、液晶装置が提供される。

【0008】

本発明の別の態様によれば、上述した液晶装置を備えた電子機器が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の第１実施形態による液晶装置の構成例を示す平面図。

【図2】図１に示す液晶装置のＨ－Ｈ′断面図。

【図3】図１に示す液晶装置の画素の具体的構成例を模式的に示す断面図。

【図4】本発明の第１実施形態の変形例による液晶装置の画素の具体的構成例を模式的に示す断面図。

【図5】本発明の第２実施形態による液晶装置の画素の具体的構成例を模式的に示す断面図。

【図6】本発明の第３実施形態による液晶ディスプレイの構成例を示す分解斜視図。

【発明を実施するための形態】

【0010】

［第１実施形態］
以下、本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。
なお、以下の各図面においては各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。

【0011】

［液晶装置の全体構成］
図１は、第１実施形態に係る液晶装置１００の一態様を示す平面図である。図２は、図１の液晶装置１００のＨ―Ｈ’断面図である。図３は、図２に示す断面を拡大して模式的に示す説明図である。図１、図２、および図３に示すように、液晶装置１００は、第１基板１０（素子基板）と、第２基板２０（対向基板）とが所定の隙間を介してシール材１０３によって張り合わされた液晶パネル１００ｐを有している。

【0012】

シール材１０３は、光硬化樹脂や熱硬化性樹脂等からなる接着剤である。シール材１０３は、第２基板２０の外縁に沿うように枠状に設けられている。第１基板１０と第２基板２０との間でシール材１０３によって囲まれた領域には、液晶層５０が設置されている。シール材１０３には、液晶注入口として利用される途切れ部分（図示省略）が形成される場合がある。途切れ部分は、液晶を注入した後、封止材によって塞がれる。

【0013】

第１基板１０および第２基板２０は、それぞれ平面視で四角形状である。第１基板１０、第２基板２０、および液晶装置１００の略中央における表示領域１０Ａは、平面視で長方形状である。ここで、液晶パネル１００ｐにおいて、長辺方向に沿う方向をＸ軸方向と定義し、短辺方向に沿う方向をＹ方向と定義する。かかる形状に対応して、シール材１０３は、表示領域１０Ａの形状に合わせて略長方形に設けられる。シール材１０３の内周縁１０３ａと表示領域１０Ａの外周縁１０ａとの間には、矩形枠状の周辺領域１０Ｂが設けられている。

【0014】

周辺領域１０Ｂの外周部には、キセロゲルを含む吸着層１０２が設けられている。吸着層１０２は、シール材１０３の内周縁１０３ａと接するように搭載されている。吸着層１０２では、液晶層５０の液晶材料に光が当たることで生成するイオン性不純物が、キセロゲルからなる吸着層１０２に接触あるいは通過することにより、イオン性不純物のみが選択的に吸着される。キセロゲルの基となるゲルの官能基の違いにより、化学的に捕捉する劣化物を調整できる。また液晶材料自体は、ゲル構造の制御により、物理的にキセロゲルに吸着されない。

【0015】

第１基板１０は、石英やガラス等からなる透光性の基板本体１０ｗを有する。表示領域１０Ａの外側には、第１基板１０の第２基板２０側と対向する一方面１０ｓにおいて、第１基板１０のＸ軸方向に延びる一方の第１辺１０ｃに沿ってデータ線駆動回路１１および複数の端子１２が形成されている。第１基板１０の一方面１０ｓにおける第１辺１０ｃに隣接し、Ｙ軸方向に延びる一対の第２辺１０ｄに沿って走査線駆動回路１３が形成されている。複数の端子１２には、フレキシブル配線基板１４が接続されている。第１基板１０には、フレキシブル配線基板１４を介して各種電位や各種信号が入力される。

【0016】

ここで、第１基板１０に形成される層を説明する際、上層側あるいは表面側とは第１基板１０の基板本体１０ｗが位置する側とは反対側（第２基板２０および液晶層５０が位置する側）を意味し、下層側とは第１基板１０の基板本体１０ｗが位置する側を意味する。第２基板２０に形成される層を説明する際、上層側あるいは表面側とは第２基板２０の基板本体２０ｗが位置する側とは反対側（第１基板１０および液晶層５０が位置する側）を意味し、下層側とは第２基板２０の基板本体２０ｗが位置する側を意味する。

【0017】

第１基板１０の一方面１０ｓ側において、表示領域１０Ａには、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜等からなる透光性の複数の画素電極９Ａと、複数の画素電極９Ａの各々に電気的に接続するトランジスター（図示省略）と、がマトリクス状に形成されている。画素電極９Ａの上層側には第１無機配向膜１６が形成されている。

【0018】

図２および図３に示すように、第１基板１０の一方面１０ｓの側において、表示領域１０Ａと吸着層１０２とに挟まれた四角枠状の周辺領域１０Ｂには、画素電極９Ａと同時形成されたダミー画素電極９Ｂが形成されている。図２では、１つの辺当たり、２列のダミー画素電極９Ｂが表されている。なお、ダミー画素電極９Ｂは、１列や３列以上で形成されていてもよい。

【0019】

図２に示すように、第２基板２０は、石英やガラス等からなる基板本体２０ｗを有している。基板本体２０ｗの第１基板１０側の面（一方面２０ｓ）には、ＩＴＯ膜からなる透光性の共通電極２１が後述する絶縁膜２２を介して形成されている。共通電極２１は、第２基板２０の全面にわたって形成されている。第２基板２０の一方面２０ｓの側には、共通電極２１の下層側に遮光層２９が形成されている。遮光層２９は、第２基板２０の一方面２０ｓと共通電極２１との間に介在されている。共通電極２１の液晶層５０側の表面には、第２無機配向膜２６が積層されている（図３参照）。遮光層２９と共通電極２１との間には、透光性の絶縁膜２２が形成されている。遮光層２９は、表示領域１０Ａの外周縁に沿って延在する額縁部を形成している。すなわち遮光層２９の内縁によって、表示領域１０Ａの外縁が規定されている。遮光層２９は、平面視でダミー画素電極９Ｂと重なる位置に形成されている。遮光層２９は、隣り合う画素電極９Ａにより挟まれた画素間領域に重なるブラックマトリクス部（図示せず）を含んで形成されてもよい。また、第２基板２０では、複数の画素電極９Ａの各々と平面視で重なる領域にレンズが形成されることもある。

【0020】

図１に示すように、第１基板１０には、平面視でシール材１０３より外側において第２基板２０の角部分と重なる領域に、第１基板１０と第２基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通用電極１０５Ａが形成されている。基板間導通用電極１０５Ａには、導電粒子を含んだ基板間導通材１０５Ｂが配置されている。第２基板２０の共通電極２１は、基板間導通用電極１０５Ａおよび基板間導通材１０５Ｂを介して、第１基板１０側に電気的に接続されている。このため、共通電極２１は、第１基板１０の側から共通電位が印加されている。

【0021】

［液晶装置の具体的構成］
図３に示すように、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６はいずれも、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ（ｘ＜２））、（ＳｉＯ_２）、チタン酸化膜（ＴｉＯ_２）、マグネシウム酸化膜（ＭｇＯ）、アルミニウム酸化膜（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、三酸化二アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_３）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）等の斜方蒸着膜からなる。従って、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６は、カラムと称せられる複数の凸部が斜めに傾いたカラム構造を有している。そのため、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６は、液晶層５０に用いた誘電異方性が負のネマチック液晶分子等の液晶分子（液晶材料５５）を垂直配向させた際、液晶材料５５の長軸を第１基板１０および第２基板２０に対する法線から斜めに傾いたプレチルトを付すことができる。本実施形態において、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６はいずれも、ＳｉＯ_２の斜方蒸着膜からなる。

【0022】

第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６は各々、第１基板１０および第２基板２０の略全面に形成されている。第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６の液晶層５０側の面には、有機シラン化合物層１７、２７が積層されている。このため、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６のシラノール基と液晶層５０とが接触していない。これにより、第１無機配向膜１６および第２無機配向膜２６のシラノール基と液晶層５０との間で光化学反応が発生しにくいので、液晶装置１００の信頼性を向上することができる。

【0023】

より具体的には、第１無機配向膜１６の表面では、Ｓｉ原子の未結合手（ダングリングボンド）や、Ｓｉ原子同士が結合したダイマー構造（Ｓｉ－Ｓｉ結合）が存在し、かかるＳｉ原子の未結合手は、液晶中や雰囲気中の水分等との反応によって、シラノール基（－Ｓｉ－ＯＨ）により終端されやすい。ここで、シラノール基は、反応性が高い。しかるに本実施形態では、第１無機配向膜１６の表面を有機シロキサン（デシルトリメトキシシラン）等のシランカップリング剤により水酸基（－ＯＨ）部分に有機シラン化合物層１７を結合させてある。従って、第１無機配向膜１６のシラノール基と液晶層５０とが接触していない。

【0024】

ここで用いたシランカップリング剤は、加水分解によってシラノール（Ｓｉ－ＯＨ）を生成した後、シラノール同士が徐々に縮合してシロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）を生成し、有機シラン化合物層１７を形成する。また、シランカップリング剤は、第１無機配向膜１６等の無機酸化物表面と強固な結合を生成し、自己組織化単分子膜を形成する。かかるシランカップリング剤としては、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン等を例示することができる。また、シランカップリング剤としては、疎水性有機官能基Ｒにフッ素原子（Ｆ）を含むものを用いることができる。いずれのシランカップリング剤を用いた場合も、有機シラン化合物層１７は撥水性を有している。なお、第２無機配向膜２６の側に形成した有機シラン化合物層２７も、有機シラン化合物層１７と同様な構成を有している。従って、吸着層１０２は、第１無機配向膜１６と第２無機配向膜２６との間で液晶層５０を囲むように設けられ、その液晶層５０と触れていない方にはシール材１０３が設けられており、第１基板１０と第２基板２０とを貼り合せている。

【0025】

［液晶装置の製造方法］
本実施形態の液晶装置１００を製造するにあたって、第１製造方法では、例えば、第１基板１０および第２基板２０を各々、大型のマザー基板の状態で貼り合わせ工程を行い、その後、第２基板２０用のマザー基板を切断して、液晶注入口を露出させる。次に、液晶注入工程を行った後、封止工程を行い、しかる後に、第１基板１０用のマザー基板を分割予定ラインに沿って切断して、単品サイズの液晶装置１００を得る。

【0026】

また、第２製造方法では、第１基板１０のみを大型のマザー基板の状態で構成した後、単品サイズの第２基板２０をマザー基板と貼り合わせる。次に、液晶注入工程を行った後、封止工程を行い、しかる後に、マザー基板を分割予定ラインに沿って切断して、単品サイズの液晶装置１００を得る。

【0027】

次に、液晶装置１の作用について説明する。

【0028】

図１～図３に示すように、本実施形態の液晶装置１００では、第１基板１０と、第２基板２０と、第１基板１０と第２基板２０との間、かつ平面視で外周部に配置されるシール材１０３と、第１基板１０と第２基板２０との間、かつ平面視でシール材１０３によって囲まれる内側に配置される液晶層５０と、少なくともシール材１０３の一部に沿って配置されるキセロゲルを含む吸着層１０２と、を備える。これにより本実施形態では、キセロゲルを含む吸着層１０２を液晶パネル１００ｐの表示領域１０Ａの外部に設置することで、液晶の劣化により生じたイオン性不純物を取り除くことができる。

【0029】

例えば投射型表示装置等に搭載された液晶装置１００において、光源からの強い光が表示領域１０Ａに入射すると、表示領域１０Ａの液晶が加熱される。加熱された液晶は、比重が低下して表示領域１０Ａの中央部から周囲に拡散していく。とくに液晶に強い光が当たることで生成するイオン性不純物のうち小さなものは、移動度が高く液晶よりも速く拡散していく。これにより、イオン性不純物を吸着層１０２によって効率的に捕らえることができる。そのため、表示領域１０Ａの液晶におけるイオン性不純物の濃度を低く維持することができる。したがって、画像を表示した際、表示領域１０Ａの角でのイオン性不純物の凝集に起因するシミ等の表示ムラが発生しにくくなる。さらに、表示領域１０Ａにおいて、液晶が光源からの光による光化学反応によって劣化した場合でも、表示領域１０Ａの液晶全体が劣化するまでの時間を延長することができる。

【0030】

このように本実施形態の液晶装置１００では、シール材１０３の液晶層５０側の内周縁１０３ａにキセロゲルを含む吸着層１０２を配置することにより、強い光源光が液晶層５０に侵入した場合に、液晶が加熱されて比重が低下し表示領域１０Ａの中心から周辺部に拡散するのに合わせて移動するイオン性不純物を吸着層１０２のキセロゲルにより捕捉することができ、液晶パネル１００ｐを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる。つまり、本実施形態では、従来のようなイオン性不純物を循環させる循環流路を配置するためのスペースを確保する必要がなくなり、上述したような表示領域１０Ａの拡大と、液晶パネル１００ｐの小型化が可能となる。

【0031】

さらに、ゲルの光による劣化とその液晶への影響を考慮しなくて良いため、プロジェクタ向け液晶パネル等といった高耐光性が要求される液晶パネルを製造することができる。

【0032】

また、本実施形態の液晶装置１００では、キセロゲルの元となるハイドロゲルあるいはオルガノゲルの作製方法によって、搭載方法を自由に決定することができる。例えば、ゲル溶液でガラス基板をコーティングさせてからゲルを作製することにより、薄いゲル膜が得られる。これをＵＶ光などによりパターニングすることにより、本実施形態のように表示領域１０Ａの周囲にゲルを設置すること（後述する変形例参照）や、後述する第２実施形態や第３実施形態のように液晶パネル１００ｐの画素間にゲルを設置することも可能である。

【0033】

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、吸着層１０２のキセロゲルを液晶パネル１００ｐの表示領域１０Ａの外部に設置することで、液晶の劣化により生じたイオン性不純物をキセロゲルにより取り除くことができ、液晶パネル１００ｐを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる。

【0034】

次に、実施形態による液晶装置および電子機器の他の実施形態および変形例について説明する。なお、上述した第１実施形態の構成要素と同一機能を有する構成要素には同一符号を付し、これらについては、説明が重複するので詳しい説明は省略する。

【0035】

［第１実施形態の変形例］
図４は、第１実施形態の変形例による液晶装置１００Ａの画素の具体的構成例を模式的に示す断面図であって、上述した第１実施形態の図３に対応する図である。図４に示すように、吸着層１０２Ａはシール材１０３の外周部を囲むように搭載されている。その他の構成は、第１実施形態と同様である。

【0036】

周辺領域１０Ｂの外周部には、キセロゲルを含む吸着層１０２Ａが設けられている。変形例による吸着層１０２Ａは、シール材１０３の外周縁１０３ｂと接するように搭載されている。吸着層１０２Ａの機能は、第１実施形態と同様である。つまり、吸着層１０２Ａでは、液晶層５０の液晶材料に光が当たることで生成するイオン性不純物が、吸着層１０２Ａに接触あるいは通過することにより、イオン性不純物のみが選択的に吸着される。

【0037】

このように構成される本変形例による液晶装置１００Ａでは、第１実施形態と同様に拡散したイオン性不純物がシール材１０３と接触した際に、イオン性不純物の一部がシール材１０３から染み出し、吸着層１０２Ａに接触することで、吸着層１０２Ａに内包される。すなわち、シール材１０３の外周縁１０３ｂにキセロゲルを含む吸着層１０２Ａを配置することにより、強い光源光が液晶層５０に侵入した場合に、液晶が加熱されて比重が低下し表示領域１０Ａの中心から周辺部に拡散するのに合わせて移動するイオン性不純物を吸着層１０２Ａのキセロゲルにより捕捉することができ、液晶パネル１００ｐを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる。

【0038】

また、本変形例では、シール材１０３の周辺領域に吸着層１０２Ａが設けられているため、強い光による吸着層１０２Ａの劣化を防ぐことに加えて、吸着層１０２Ａに起因する液晶の劣化を防ぐことができる。

【0039】

［第２実施形態］
次に、第２実施形態による液晶装置について詳細に説明する。図５は第２実施形態による液晶装置１００Ｂの画素の具体的構成例を模式的に示す断面図であって、上述した第１実施形態の図３に対応する図である。図５に示すように、第２実施形態の液晶装置１００Ｂは、表示領域１０Ａとシール材１０３とに挟まれた四角枠状の周辺領域１０Ｂにおいて、画素電極９Ａと同時形成されたダミー画素電極９Ｂが形成されている。画素電極９Ａとダミー画素電極９Ｂとの間には、吸着層１０２Ｂが設けられている。吸着層１０２Ｂは、第１無機配向膜１６や有機シラン化合物層１７よりも第１基板１０側に配置される。吸着層１０２Ｂの液晶層５０側の上部には、第１無機配向膜１６や有機シラン化合物層１７が設けられていない。その他の構成は、第１実施形態と同様である。

【0040】

また、図５では、画素電極９Ａとダミー画素電極９Ｂとの間にのみ吸着層１０２Ｂが設けられた構成を示しているが、後述する第３実施形態のように画素電極９Ａ、９Ａどうしの間に吸着層１０２Ｂを設けても良い。

【0041】

第２実施形態の液晶装置１００Ｂによれば、強い光源光が液晶層５０に侵入した場合に、液晶が加熱されて比重が低下し表示領域１０Ａの中心から周辺部に拡散するのに合わせて移動するイオン性不純物を吸着層１０２Ｂのキセロゲルにより捕捉することができ、液晶パネル１００ｐを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる。そして、第２実施形態では、画素電極９Ａとダミー画素電極９Ｂとの間に吸着層１０２Ｂを設けることにより、液晶層５０との接触面積を増やすことができ、効率よくイオン性不純物を吸着することができる。

【0042】

そして、第２実施形態においても、従来のようなイオン性不純物を循環させる循環流路を配置するためのスペースを確保する必要がなくなり、上述したような表示領域１０Ａの拡大と、液晶パネル１００ｐの小型化を図ることができる。

【0043】

また、この場合には、画素電極９Ａとダミー画素電極９Ｂとの間の小さな領域にのみ吸着層１０２Ｂを設ける構成であるので、光による吸着層１０２Ｂ自体の劣化も抑えることができる。

【0044】

また、本実施形態による液晶装置１００Ｂでは、吸着層１０２Ｂが第１無機配向膜１６や有機シラン化合物層１７よりも第１基板１０側に配置され、さらに平面視で第１無機配向膜１６や有機シラン化合物層１７に重ならない位置に配置されるので、液晶層５０との接触しやすくなり、効率よくイオン性不純物を吸着することができる。

【0045】

［第３実施形態］
次に、第３実施形態による液晶装置について詳細に説明する。図６は、第３実施形態による透過型ＴＦＴ液晶ディスプレイ（液晶ディスプレイ２００）の構成例を示す分解斜視図である。図６に示すように、第３実施形態による液晶ディスプレイ２００（液晶装置）は、バックライト光源２０１と、第１偏光板２０２Ａと、第２偏光板２０２Ｂと、第１ガラス基板２０３Ａ、第２ガラス基板２０３Ｂと、カラーフィルター２０４と、液晶層５０と、を備えている。

【0046】

第１偏光板２０２Ａは、バックライト光源２０１の第１ガラス基板２０３Ａに向かう面に設けられる。バックライト光源２０１は、第１偏光板２０２Ａに向けて光２０１Ｌを放出する。カラーフィルター２０４は、第２偏光板２０２Ｂの第２ガラス基板２０３Ｂに向かう面に設けられている。第１偏光板２０２Ａとカラーフィルター２０４との間には、それぞれ第１ガラス基板２０３Ａと第２ガラス基板２０３Ｂが設けられている。カラーフィルター２０４は、本実施形態においてＲＧＢの３色カラーフィルターが並んで配置される構成となっている。なお、カラーフィルターは、ＲＧＢの３色のものに限定されることはなく、３色以外の複数色のカラーフィルターが並ぶ構成であってもよく、また単色のカラーフィルターであってもよい。

【0047】

第１ガラス基板２０３Ａにおける第２ガラス基板２０３Ｂを向く面２０３ａには、複数の画素電極２０５Ａ（第１画素電極、第２画素電極）が縦横に配列され、それぞれＴＦＴが備わっている。第２ガラス基板２０３Ｂの第１ガラス基板２０３Ａを向く面２０３ｂには、対向電極２０５Ｂが設けられている。第１ガラス基板２０３Ａと第２ガラス基板２０３Ｂとの間には、液晶層５０が挟み込まれている。第１ガラス基板２０３Ａの第２ガラス基板２０３Ｂを向く面２０３ａには、画素電極２０５Ａ、２０５Ａ同士の間においてゲル膜２０７（吸着層）がパターニングされている。

【0048】

第３実施形態による液晶ディスプレイ２００においては、強い光源光が液晶層５０に侵入した場合に、液晶が加熱されて比重が低下し表示領域１０Ａの中心から周辺部に拡散するのに合わせて移動するイオン性不純物を画素電極２０５Ａ、２０５Ａ間にパターニングされたゲル膜２０７によって捕集することができ、液晶パネル１００ｐを大型化することなく液晶の劣化による影響を低減できる。そして、第３実施形態では、画素電極２０５Ａ、２０５Ａ間に吸着層をなすゲル膜２０７を設けることにより、液晶層５０との接触面積を増やすことができ、効率よくイオン性不純物を吸着することができる。

【0049】

そして、第３実施形態においても、従来のようなイオン性不純物を循環させる循環流路を配置するためのスペースを確保する必要がなくなり、上述したような表示領域１０Ａの拡大と、液晶パネル１００ｐの小型化を図ることができる。

【0050】

また、本第３実施形態による液晶ディスプレイ２００では、液晶層５０におけるイオン性不純物の濃度を低く維持することができる。そのため、液晶がバックライト光源２０１からの光による光化学反応によって劣化した場合でも、液晶層５０の液晶全体が劣化するまでの時間を延長することができる。しかも、第１ガラス基板２０３Ａ全体でなく、画素電極２０５Ａ間にゲル膜２０７を膜状配置することにより、電極反応によるゲルの光劣化を低減することができる。

【0051】

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

【0052】

上述した、第１実施形態では吸着層１０２がシール材１０３の内周縁１０３ａに配置され、変形例では吸着層１０２Ａがシール材１０３の外周縁１０３ｂに配置されているが、シール材１０３における吸着層の位置はこれに限定されることはない。例えば、吸着層がシール材１０３の角部に配置されていてもよい。

【0053】

また、第２実施形態における吸着層１０２Ｂが平面視で画素電極９Ａとダミー画素電極９Ｂとの間に配置された遮光層２９と重なる位置に配置される構成としてもよい。

【0054】

本発明を適用した液晶装置を備えた電子機器は、上記実施形態の投射型表示装置に限定されない。本発明を適用した液晶装置は、例えば、投射型のＨＵＤ（ヘッドアップディスプレイ）やＨＭＤ（ヘッドマウントディスプレイ）、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ等の電子機器に用いてもよい。

【0055】

本発明の一つの態様の液晶装置は、以下の構成を有していてもよい。
本発明の一態様の入力装置は、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で平面視で外周部に配置されるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材によって囲まれる内側に配置される液晶層と、少なくとも前記シール材の一部に沿って配置されるキセロゲルを含む吸着層と、を備える。

【0056】

本発明の一つの態様の入力装置では、前記吸着層は、前記シール材の前記液晶層側の側面に配置される、構成としてもよい。

【0057】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記吸着層は、前記シール材の前記液晶層とは反対側の側面に配置される、構成としてもよい。

【0058】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記吸着層は、前記シール材の角部に配置される、構成としてもよい。

【0059】

本発明の一つの態様の液晶装置では、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で平面視で外周部に配置されるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ平面視で前記シール材によって囲まれる内側に配置される液晶層と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置される画素電極と、前記画素電極よりも前記シール材側に配置されるダミー画素電極と、平面視で前記画素電極と前記ダミー画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、を備える。

【0060】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記第１基板は、配向膜を有し、前記吸着層は、前記配向膜よりも前記第１基板側に配置される、構成としてもよい。

【0061】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記第１基板は、配向膜を有し、前記吸着層は、前記配向膜と重ならない位置に配置される、構成としてもよい。

【0062】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記吸着層は、平面視で前記画素電極と前記ダミー画素電極との間に配置された遮光層と重なる位置に配置される、構成としてもよい。

【0063】

本発明の一つの態様の液晶装置では、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置される第１画素電極と、前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、平面視で前記第１画素電極と並んで配置される第２画素電極と、平面視で前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、キセロゲルを含む吸着層と、を備える。

【0064】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記第１基板は、配向膜を有し、前記吸着層は、前記配向膜よりも前記第１基板側に配置される、構成としてもよい。

【0065】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記第１基板は、配向膜を有し、前記吸着層は、前記配向膜と重ならない位置に配置される、構成としてもよい。

【0066】

本発明の一つの態様の液晶装置では、前記吸着層は、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置された遮光層と重なる位置に配置される、構成としてもよい。

【0067】

本発明の一態様の電子機器は、以下の構成を有していてもよい。
本発明の一態様の電子機器は、上記態様の液晶装置を備える。

【符号の説明】

【0068】

９Ａ…画素電極、９Ｂ…ダミー画素電極、１０…第１基板、１０Ａ…表示領域、１０Ｂ…周辺領域、１０ｗ…第１基板本体、１１…データ線駆動回路、１２…端子、１３…走査線駆動回路、１４…フレキシブル配線基板、１６…第１無機配向膜、１７…有機シラン化合物層、１９…第１基板本体、２０…第２基板、２０ｗ…第２基板本体、２１…共通電極、２６…第２無機配向膜、２７…有機シラン化合物層、２９…遮光層、５０…液晶層、５５…液晶材料、１００、１１０Ａ、１１０Ｂ…液晶装置、１００ｐ…液晶パネル、１０２、１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ…吸着層、１０３…シール材、１０３ａ…内周縁、１０３ｂ…外周縁、１０５Ａ…基板間導通用電極、１０５Ｂ…基板間導通材、２００…ＴＦＴ液晶ディスプレイ（液晶装置）、２０１…バックライト光源、２０１Ｌ…光、２０２Ａ…第１偏光板、２０２Ｂ…第２偏光板、２０３Ａ…第１ガラス基板、２０３Ｂ…第２ガラス基板、２０４…カラーフィルター、２０５Ａ…画素電極（第１画素電極）、２０５Ｂ…対向電極、２０６…ＴＦＴ、２０７…ゲル膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】