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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024135884
(43)【公開日】2024-10-04
(54)【発明の名称】放射線像の読取装置
(51)【国際特許分類】
G03B 42/02 20210101AFI20240927BHJP
【ＦＩ】
G03B42/02 G
G03B42/02 B
【審査請求】有
【請求項の数】15
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023046780
(22)【出願日】2023-03-23
(71)【出願人】
【識別番号】000138185
【氏名又は名称】株式会社モリタ製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100088672
【弁理士】
【氏名又は名称】吉竹 英俊
(74)【代理人】
【識別番号】100088845
【弁理士】
【氏名又は名称】有田 貴弘
(72)【発明者】
【氏名】藤井 優輔
(57)【要約】
【課題】セット時にイメージングプレートの放射線像形成面が外光に曝され難くすることを目的とする。
【解決手段】放射線像の読取装置は、イメージングプレート１０の表面１０ａから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、イメージングプレートを裏面１０ｂ側から支持するステージ６０と、イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面２１６を含むセット用ガイド２００と、を備え、セット用ガイド及びステージの少なくとも一方が反対傾斜面６４Ｆを含み、反対傾斜面は、プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共にプレートガイド面によって案内されたイメージングプレートを受けて斜め下方に案内する面であり、さらに、ステージ及びセット用ガイドの少なくとも一方が、イメージングプレートの表面側から接触してイメージングプレートを反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部２１８を含む。
【選択図】図１２
【解決手段】放射線像の読取装置は、イメージングプレート１０の表面１０ａから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、イメージングプレートを裏面１０ｂ側から支持するステージ６０と、イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面２１６を含むセット用ガイド２００と、を備え、セット用ガイド及びステージの少なくとも一方が反対傾斜面６４Ｆを含み、反対傾斜面は、プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共にプレートガイド面によって案内されたイメージングプレートを受けて斜め下方に案内する面であり、さらに、ステージ及びセット用ガイドの少なくとも一方が、イメージングプレートの表面側から接触してイメージングプレートを反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部２１８を含む。
【選択図】図１２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
イメージングプレートの表面から放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、
前記イメージングプレートを裏面側から支持するステージと、
前記ステージに支持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
下向き傾斜し、前記イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面を含み、前記イメージングプレートを前記ステージに向けて案内するセット用ガイドと、
を備え、
前記セット用ガイド及び前記ステージの少なくとも一方が反対傾斜面を含み、
前記反対傾斜面は、前記プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共に前記プレートガイド面によって案内された前記イメージングプレートを受けて前記イメージングプレートを斜め下方に案内する面であり、
さらに、前記ステージ及び前記セット用ガイドの少なくとも一方が、前記反対傾斜面によって案内される前記イメージングプレートに対して前記イメージングプレートの表面側から接触して前記イメージングプレートを前記反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部を含む、放射線像の読取装置。
前記イメージングプレートを裏面側から支持するステージと、
前記ステージに支持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
下向き傾斜し、前記イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面を含み、前記イメージングプレートを前記ステージに向けて案内するセット用ガイドと、
を備え、
前記セット用ガイド及び前記ステージの少なくとも一方が反対傾斜面を含み、
前記反対傾斜面は、前記プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共に前記プレートガイド面によって案内された前記イメージングプレートを受けて前記イメージングプレートを斜め下方に案内する面であり、
さらに、前記ステージ及び前記セット用ガイドの少なくとも一方が、前記反対傾斜面によって案内される前記イメージングプレートに対して前記イメージングプレートの表面側から接触して前記イメージングプレートを前記反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部を含む、放射線像の読取装置。
【請求項2】
請求項１に記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージが、前記反対傾斜面として、水平方向に対して傾斜し、前記イメージングプレートを裏面側から支持する支持面を含み、
前記ステージが、前記支持面によって支持される前記イメージングプレートを前記支持面の傾斜方向下側から受ける受面をさらに含み、
前記プレートガイド面が、前記支持面に向って徐々に下方に向い、前記イメージングプレートを前記支持面に向けて案内し、
前記セット用ガイドが、前記上下反転接触部を含み、
前記上下反転接触部は、前記受面が前記イメージングプレートを受ける位置の真上延長上よりも前記支持面近くに位置する部分である、放射線像の読取装置。
前記ステージが、前記反対傾斜面として、水平方向に対して傾斜し、前記イメージングプレートを裏面側から支持する支持面を含み、
前記ステージが、前記支持面によって支持される前記イメージングプレートを前記支持面の傾斜方向下側から受ける受面をさらに含み、
前記プレートガイド面が、前記支持面に向って徐々に下方に向い、前記イメージングプレートを前記支持面に向けて案内し、
前記セット用ガイドが、前記上下反転接触部を含み、
前記上下反転接触部は、前記受面が前記イメージングプレートを受ける位置の真上延長上よりも前記支持面近くに位置する部分である、放射線像の読取装置。
【請求項3】
請求項１に記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドが、前記反対傾斜面と前記上下反転接触部とを含む、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドが、前記反対傾斜面と前記上下反転接触部とを含む、放射線像の読取装置。
【請求項4】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージと、前記励起光源と、前記光検出器と、前記セット用ガイドのうち少なくとも前記プレートガイド面及び前記上下反転接触部と、前記反対傾斜面とを覆う筐体をさらに備える、放射線像の読取装置。
前記ステージと、前記励起光源と、前記光検出器と、前記セット用ガイドのうち少なくとも前記プレートガイド面及び前記上下反転接触部と、前記反対傾斜面とを覆う筐体をさらに備える、放射線像の読取装置。
【請求項5】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記プレートガイド面は、外向きに凸な湾曲面である部分を含む、放射線像の読取装置。
前記プレートガイド面は、外向きに凸な湾曲面である部分を含む、放射線像の読取装置。
【請求項6】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記プレートガイド面は、前記イメージングプレートの案内方向に直交する水平方向に沿って見て１つの直線又は複数の直線の組合せ形状を呈する、放射線像の読取装置。
前記プレートガイド面は、前記イメージングプレートの案内方向に直交する水平方向に沿って見て１つの直線又は複数の直線の組合せ形状を呈する、放射線像の読取装置。
【請求項7】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記上下反転接触部は、前記プレートガイド面に対して前記イメージングプレートの案内方向下流側に連続している、放射線像の読取装置。
前記上下反転接触部は、前記プレートガイド面に対して前記イメージングプレートの案内方向下流側に連続している、放射線像の読取装置。
【請求項8】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドは、前記反対傾斜面の傾斜方向において、下方に向うにつれて徐々に前記反対傾斜面に近づく反対傾斜面用ガイド面を含む、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドは、前記反対傾斜面の傾斜方向において、下方に向うにつれて徐々に前記反対傾斜面に近づく反対傾斜面用ガイド面を含む、放射線像の読取装置。
【請求項9】
請求項８に記載の放射線像の読取装置であって、
前記反対傾斜面用ガイド面は、前記上下反転接触部に対して下側に連続している、放射線像の読取装置。
前記反対傾斜面用ガイド面は、前記上下反転接触部に対して下側に連続している、放射線像の読取装置。
【請求項10】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面のうち上側の端部に対して前記イメージングプレートの厚みに応じた距離離れて位置する上挿入ガイドを含む、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面のうち上側の端部に対して前記イメージングプレートの厚みに応じた距離離れて位置する上挿入ガイドを含む、放射線像の読取装置。
【請求項11】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面による前記イメージングプレートの案内経路の途中に位置し、前記イメージングプレートの案内方向に沿った液体の流れを抑制する液体流込抑制凹部を有する、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面による前記イメージングプレートの案内経路の途中に位置し、前記イメージングプレートの案内方向に沿った液体の流れを抑制する液体流込抑制凹部を有する、放射線像の読取装置。
【請求項12】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
取外し状態で前記プレートガイド面の少なくとも一部が外部に露出する状態となるように、前記セット用ガイドの少なくとも一部が着脱可能に支持されている、放射線像の読取装置。
取外し状態で前記プレートガイド面の少なくとも一部が外部に露出する状態となるように、前記セット用ガイドの少なくとも一部が着脱可能に支持されている、放射線像の読取装置。
【請求項13】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面の上側端に前記イメージングプレートを投入するための投入口と、前記投入口を開閉可能に塞ぐシャッタを含む、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面の上側端に前記イメージングプレートを投入するための投入口と、前記投入口を開閉可能に塞ぐシャッタを含む、放射線像の読取装置。
【請求項14】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記セット用ガイドは、前記イメージングプレートの長手方向を、前記プレートガイド面における前記イメージングプレートの移動方向に沿わせた姿勢で、前記イメージングプレートを案内し、
前記ステージは、前記イメージングプレートの長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持する、放射線像の読取装置。
前記セット用ガイドは、前記イメージングプレートの長手方向を、前記プレートガイド面における前記イメージングプレートの移動方向に沿わせた姿勢で、前記イメージングプレートを案内し、
前記ステージは、前記イメージングプレートの長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持する、放射線像の読取装置。
【請求項15】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構をさらに備え、
前記セット用ガイドは、前記セット位置に位置する前記ステージに対向する位置に設けられる、放射線像の読取装置。
前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構をさらに備え、
前記セット用ガイドは、前記セット位置に位置する前記ステージに対向する位置に設けられる、放射線像の読取装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この開示は、放射線像の読取装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１は、イメージングプレートを搬送する搬送機構を備える放射線像の読取装置を開示している。搬送機構として、イメージングプレートを保持するベルトと、ベルトを周回させるベルト駆動機構とを備える例が開示されている。イメージングプレートは、ベルトの一部である保持面上に載置された状態で、搬送される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１１－５３４５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１に開示の技術では、イメージングプレートは、放射線像形成面を上向きにした状態で、筐体に形成された入口に挿入され、ベルトの保持面上に載置される。
【0005】
このため、イメージングプレートが入口に挿入される際に、上向きの放射線像形成面が読取装置外の光に曝される可能性がある。放射線像形成面が外光に曝されると、放射線像形成面が発光し、当該放射線像形成面に蓄えられたエネルギーが放出・散逸され画像データの一部が損失してしまう可能性がある。
【0006】
そこで、本開示は、イメージングプレートを放射線像の読取装置にセットする際に、イメージングプレートの放射線像形成面が外光に曝され難くすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するため、放射線像の読取装置は、イメージングプレートの表面から放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを裏面側から支持するステージと、前記ステージに支持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、下向き傾斜し、前記イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面を含み、前記イメージングプレートを前記ステージに向けて案内するセット用ガイドと、を備え、前記セット用ガイド及び前記ステージの少なくとも一方が反対傾斜面を含み、前記反対傾斜面は、前記プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共に前記プレートガイド面によって案内された前記イメージングプレートを受けて前記イメージングプレートを斜め下方に案内する面であり、さらに、前記ステージ及び前記セット用ガイドの少なくとも一方が、前記反対傾斜面によって案内される前記イメージングプレートに対して前記イメージングプレートの表面側から接触して前記イメージングプレートを前記反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部を含む。
【発明の効果】
【0008】
この放射線像の読取装置によると、イメージングプレートを放射線像の読取装置にセットする際に、イメージングプレートの放射線像形成面が外光に曝され難くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
｛第１実施形態｝
＜全体構成＞
以下、第１実施形態に係る放射線像の読取装置について説明する。図１は読取装置２０を示す概略斜視図である。図１において、筐体３０が２点鎖線で示されている。図２及び図３は読取装置２０を示す一部分解斜視図である。図１から図３ではステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する。図２及び図３ではセット用ガイド２００と読取ユニット９０とが分解されている。図２においてセット位置Ｐ１よりも内側のステージ６０の読取位置Ｐ２及び奥側位置Ｐ４が２点鎖線で示されている。
＜全体構成＞
以下、第１実施形態に係る放射線像の読取装置について説明する。図１は読取装置２０を示す概略斜視図である。図１において、筐体３０が２点鎖線で示されている。図２及び図３は読取装置２０を示す一部分解斜視図である。図１から図３ではステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する。図２及び図３ではセット用ガイド２００と読取ユニット９０とが分解されている。図２においてセット位置Ｐ１よりも内側のステージ６０の読取位置Ｐ２及び奥側位置Ｐ４が２点鎖線で示されている。
【0011】
放射線像の読取装置２０は、イメージングプレート１０の表面１０ａから放射線像を読取る装置である。
【0012】
イメージングプレート１０は、放射線像形成層１１を有する平たい形状であり、放射線像を記憶する記憶媒体である。イメージングプレート１０の表面１０ａ側に放射線像形成層１１が露出している。放射線像形成層１１は、照射された放射線のエネルギーを蓄積し、蓄積されたエネルギーに応じた発光光を発する層である。例えば、放射線像形成層１１は、樹脂で形成されたフィルムの一方の表面に輝尽性蛍光体を塗布することによって形成される。Ｘ線発生器からのＸ線が撮影対象物を透過してイメージングプレート１０に照射されると、Ｘ線の強度に応じたエネルギーが放射線像形成層１１に蓄積される。Ｘ線の強度は、撮影対象物におけるＸ線吸収領域の分布に基づいたものであるため、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布は、Ｘ線による撮影対象物の放射線像である。このように、イメージングプレート１０は、Ｘ線による放射線像を潜像として記憶する。
【0013】
読取装置２０は、放射線像形成層１１から放射線像を読取り、放射線像の画像データを生成する装置である。読取装置２０は、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４と、セット用ガイド２００を備える。ステージ６０は、イメージングプレート１０を裏面１０ｂ側から支持する。ステージ６０に支持されたイメージングプレート１０に対して励起光源９２からの励起光が照射される。イメージングプレート１０に励起光が照射されることによって、イメージングプレート１０の放射線像形成層１１が発光する。この発光光を光検出器９４が検出する。光検出器９４の検出信号に基づいて放射線像の画像データが生成される。
【0014】
セット用ガイド２００は、読取装置２０の外から供給されるイメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内するガイドである。本読取装置２０の利用者は、イメージングプレート１０をセット用ガイド２００に供給することで、当該イメージングプレート１０をステージ６０に読取りに適した姿勢でセットすることができる。
【0015】
なお、イメージングプレート１０のうち放射線像形成層１１が形成された表面１０ａは、放射線像形成面と把握されてもよいし、励起光照射面と把握されてもよい。また、当該表面とは反対側の裏面１０ｂは、ステージ６０の支持面６４Ｆと対面し、当該支持面６４Ｆに接触する接触面であると把握されてもよい。裏面１０ｂは、励起光が照射される面とは反対の面であり、放射線像形成層１１とは反対の面である。イメージングプレート１０が表裏に関して正しくステージ６０にセットされた場合には、イメージングプレート１０のうち支持面６４Ｆが向く方向と同じ方向を向く表面は、潜像を記憶可能な記憶面であり、また、記憶した潜像が読取られる読取り面である。
【0016】
読取装置２０の各部構成について説明する。
【0017】
＜筐体について＞
読取装置２０は、筐体３０を備えており（図１参照）、この筐体３０内に、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４と、セット用ガイド２００とが収容される。
読取装置２０は、筐体３０を備えており（図１参照）、この筐体３０内に、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４と、セット用ガイド２００とが収容される。
【0018】
筐体３０は、開口３１を有する。開口３１は、例えば、筐体３０の周囲の側面のうちの１つの面に形成されている。開口３１は、セット用ガイド２００のうち投入口２３０が形成された部分を外部に露出させることが可能な形状に形成されている。本実施形態では、開口３１は、セット用ガイド２００のうち投入口２３０が形成された外向き面全体を外部に露出させる方形状に形成されている。開口は、投入口２３０のみを外部に露出させる形状、例えば、スリット形状であってもよい。なお、筐体３０の全体が１つの部品として形成されている必要は無い。例えば、後に変形例において説明されるように、筐体のうち開口が形成された部分が他の部分に対して取外し可能であってもよいし、あるいは、筐体の一部が後述のベース板４１と一体に成形されている構成であってもよい。
【0019】
本読取装置２０の利用者は、当該開口３１を通じて、イメージングプレート１０をセット用ガイド２００の投入口２３０内に入れることができる。読取装置２０内に入れられたイメージングプレート１０は、ステージ６０にセットされる。
【0020】
取出口３２が、筐体３０の下部、例えば、筐体３０の一側面のうちの下側部分に設けられる。取出口３２は、外方に開口している。当該取出口３２内に回収トレイ４９が配置される。回収トレイ４９は、例えば、上方が開口する箱状に形成されている。ステージ６０から排出されたイメージングプレート１０が当該回収トレイ４９に排出される。読取装置２０の利用者は、取出口３２内の回収トレイ４９を外側に引出して読取済のイメージングプレート１０を回収することができる。回収トレイ４９は、筐体３０から取外し可能であってもよい。
【0021】
回収トレイ４９が取外可能である場合は、回収トレイ４９を清掃しやすいので好ましい。イメージングプレートを取出すための構成が上記構成であることは必須ではない。イメージングプレートを受ける回収用受部が外部に露出していてもよい。回収用受部がトレイ状ではなく、単なる平面状、又は、周りの一部のみが囲まれた形状であってもよい。回収用受部が、筐体から取外し可能でなくてもよいが、取外し可能であれば、回収用受部等の清掃が容易となる。
【0022】
筐体及び回収用受部のうちの少なくとも一方において、イメージングプレート１０の形状に合せた通過口が形成されていなくてもよい。
【0023】
筐体３０に、各種指示を受付けるためのスイッチ３３が設けられる。スイッチ３３は、例えば、電源スイッチ、読取り開始を指示するためのスタートスイッチ等である。
【0024】
筐体３０に、表示装置３４が設けられてもよい。表示装置３４は、例えば、液晶表示パネル又は有機ＥＬ（electro-luminescence）表示パネルにより構成される。この表示装置３４に、読取られた放射線像が表示されてもよい。表示装置３４に、操作のための諸情報が表示されてもよい。表示装置３４には、読取り開始後に読取り終了までの残り時間等の読取り進捗状況に関する情報が表示されてもよい。表示装置３４に、読取装置２０に対する誤操作等に対する警告、注意、あるいはエラー情報が表示されてもよい。表示装置３４は、表示機能及びタッチの検出機能を備えたタッチパネルであってもよい。この場合、上記スイッチの少なくとも一部の機能が、タッチパネルに組込まれてもよい。表示装置３４は、省略されてもよい。
【0025】
イメージングプレート１０を読取ることによって生成された放射線像の画像データが表示装置３４に表示されることは必須ではない。放射線像の画像データは、無線通信又は有線通信によって、読取装置２０と通信可能な他のコンピュータ（不図示）に送信されてもよい。放射線像の画像データは、本読取装置２０に着脱可能なデータ記録媒体（例えば、フラッシュメモリ）に記録されてもよい。
【0026】
＜筐体内部構成について＞
筐体３０の内部に設けられる各部構成について説明する。
筐体３０の内部に設けられる各部構成について説明する。
【0027】
筐体３０の内部に、支持部材４０が設けられる。この支持部材４０によって、ステージ６０と励起光源９２と光検出器９４と、セット用ガイド２００とが支持される。なお、下記例は一例であり、例えば、ステージ及びセット用ガイドを支持する構成は下記構成に限られない。支持部材に係る構成は本開示を限定するものでは無く、本開示は、重力を利用してイメージングプレート１０をステージに導く各種構成に適用可能である。
【0028】
【0029】
ベース板４１は、筐体３０の内部空間における下部に水平方向（重力方向に対して垂直な方向）に沿って配置される板状部材である。ここでは、ベース板４１は、細長い方形板状に形成されている。ベース板４１は、筐体３０の下向き開口を閉じることができる。
【0030】
ベース板４１上に中間支持板４２が立設状態で支持される。中間支持板４２は、重力方向に対して傾斜する傾斜面４２ａを有する板である（図３参照）。傾斜面４２ａは、斜め上方を向く面である。本実施形態では、中間支持板４２は、長方形のうちの上側の１つの角を斜めに切除した形状に形成されている。傾斜面４２ａ上に箱状部４４が支持されることによって、箱状部４４が斜め姿勢で支持されている。
【0031】
なお、本実施形態では、中間支持板４２に、回路ユニット４３が支持されている。回路ユニット４３は、例えば、回路基板に各種電気部品が実装されたユニットである。かかる回路ユニットは、例えば、読取装置２０の各種制御を実行する制御ユニットであってもよし、読取装置２０の各部に電力を供給する電源回路であってもよい。回路ユニット４３は、中間支持板４２ではない他の部分、例えば、ベース板４１、筐体３０又は箱状部４４によって支持されていてもよい。
【0032】
箱状部４４は、一対の長手方向側板４５と、一対の短手方向側板４６と、背板４７とを備える。背板４７は、一方向に長い長方形板状である。一対の長手方向側板４５のそれぞれは、背板４７の長辺の長さに応じた長方形板状に形成されている．背板４７の一対の長辺に、一対の長手方向側板４５が立設状態で支持されている。短手方向側板４６のそれぞれは、背板４７の短辺の長さに応じた長方形板状に形成されている。背板４７の一対の短辺に一対の短手方向側板４６が立設状態で支持される。これにより、箱状部４４は、背板４７を底とし、当該底の一方面側を一対の長手方向側板４５と一対の短手方向側板４６とで囲う箱状に形成されている。以下、一対の短手方向側板４６のうち上側のものを短手方向側板４６Ｕ、下側のものを短手方向側板４６Ｌと区別する場合がある。箱状部４４は、背板４７の反対側で開口している。背板４７に対する一対の長手方向側板４５及び一対の短手方向側板４６の固定は、例えば、ねじ止又は溶接によってなされる。
【0033】
背板４７は、中間支持板４２の傾斜面４２ａに当該傾斜面に沿った状態で支持される。背板４７は、傾斜面４２ａの傾斜に沿って斜め姿勢で支持されている。中間支持板４２に対する背板４７の固定は、例えば、ねじ止又は溶接によってなされる。
【0034】
背板４７に対して中間支持板４２とは反対側に一対の長手方向側板４５と一対の短手方向側板４６とが立設されている。箱状部４４は、中間支持板４２とは反対側で、斜め上側に開口している。
【0035】
一対の長手方向側板４５は、傾斜面４２ａの延在方向に沿って延在している。このため、一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁も、傾斜面４２ａの延在方向に沿って重力方向に対して傾斜している。一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁のそれぞれに、一対の支持ロッド４８が重力方向に対して傾斜する姿勢で支持されている。支持ロッド４８は、例えば、長手方向側板４５及び短手方向側板４６の少なくとも一方にねじ止、又は溶接されることによって支持される。
【0036】
本実施形態では、支持ロッド４８は、角棒状に形成されている。支持ロッド４８は、長手方向側板４５の長さよりも長い。支持ロッド４８の一端部は、長手方向側板４５の縁部に沿って上側の短手方向側板４６Ｕに達している。支持ロッド４８の他端部は、長手方向側板４５の縁部に沿って下側の短手方向側板４６Ｌを越えてさらに斜め下側に延出している。支持ロッド４８の他端部は、下端部であり、上記ベース板４１よりも上に位置する。
【0037】
上記一対の支持ロッド４８のうち背板４７とは反対側の外向き面に、励起光源９２及び光検出器９４が取付けられる。励起光源９２及び光検出器９４は、一対の短手方向側板４６間であって下側の短手方向側板４６Ｌ寄りに位置している。励起光源９２は、箱状部４４側に向けて励起光を照射し、光検出器９４は、箱状部４４側からの光を検出する。支持ロッド４８に対する励起光源９２及び光検出器９４の取付は、例えば、ねじ止によってなされる。
【0038】
ステージ６０は、一対の長手方向側板４５の間で、励起光源９２及び光検出器９４の内側を移動可能に支持されている。以下の説明において、便宜上、ステージ６０について、励起光源９２及び光検出器９４が設けられる側を前方、その反対側を後方という場合がある。また、以下の説明において、励起光源９２及び光検出器９４に対するステージ６０の相対的な移動方向を主走査方向Ａ１として参照する場合がある。ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０が励起光源９２及び光検出器９４の内側を通過する際に、励起光源９２からの励起光がイメージングプレート１０に照射され、励起光によるイメージングプレート１０の発光光が光検出器９４によって検出される。
【0039】
一対の支持ロッド４８のうち下側の短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する部分にセット用ガイド２００が取付けられる。支持ロッド４８に対するセット用ガイド２００の取付は、例えば、ねじ止によってなされる。
【0040】
ステージ６０は、支持ロッド４８の延在方向において下側の短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動することができる。ステージ６０が短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動した状態で、利用者は、セット用ガイド２００を通じて当該ステージ６０にイメージングプレート１０をセットすることができる。
【0041】
また、一対の支持ロッド４８の斜め下延長上に、回収トレイ４９が位置している。ステージ６０が短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動した状態で、ステージ６０から排出されたイメージングプレート１０が回収トレイ４９内に落下して回収される。回収トレイ４９は、筐体３０に対して移動可能に配置されている必要は無い。例えば、支持ロッドの延長上に位置する回収トレイが、中間支持板とは反対側から筐体外に開口しており、当該開口を通じて回収トレイ内のイメージングプレートが筐体外に取出されてもよい。
【0042】
本実施形態において、一対の長手方向側板４５は、箱状部４４の形態で筐体３０内の一定位置に支持される。長手方向側板４５が箱状部４４において一定位置に支持される構成は当該例に限られない。例えば、長手方向側板４５は、筐体３０の一部である側面等に固定されていてもよい。
【0043】
また、箱状部４４は、複数の板状部材がねじ止又は溶接等で固定される構成に限られない。箱状部の全体がプレス加工又は金型成形等によって形成された一体部材であってもよい。この場合は、箱状部を製造するために、ねじ止や溶接をなくすることができる。
【0044】
＜励起光源及び光検出器について＞
励起光源９２は、ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０に対して励起光を照射する。励起光は、放射線像形成層１１を励起させるための光であり、例えば、放射線像形成層１１を励起させる特定波長のレーザ光である。放射線像形成層１１に励起光が照射されると、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布に応じて放射線像形成層１１が発光する。
励起光源９２は、ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０に対して励起光を照射する。励起光は、放射線像形成層１１を励起させるための光であり、例えば、放射線像形成層１１を励起させる特定波長のレーザ光である。放射線像形成層１１に励起光が照射されると、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布に応じて放射線像形成層１１が発光する。
【0045】
励起光源９２は、励起光としてレーザ光を発するレーザ光源とＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーとを含む構成であってもよい。例えば、レーザ光源からのレーザ光の照射先が、放射線像形成層１１の表面１０ａに対して、主走査方向Ａ１に対して交差（直交）する副走査方向Ａ２方向に沿って移動するように、レーザ光源がＭＥＭＳミラーによって反射される構成であってもよい。なお、ミラーの構成は、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーの代わりに、ガルバノミラーやポリゴンミラー等を用いることもできる。ミラーの構成によっては、レンズ系の構成が別途必須となることがあるが、適宜の組み合わせにより本読取装置に利用できる。
【0046】
光検出器９４は、励起光によるイメージングプレート１０からの発光による光を検出し、その強度に応じた信号を出力するセンサである。この光検出器９４からの信号に基づいて、放射線像の画像データが生成される。
【0047】
光検出器９４は、光を検出する素子が一列に並んだ構成であってもよい。例えば、光検出器９４は、素子の配列方向を副走査方向Ａ２と平行にした姿勢に配置されてもよい。光を検出する素子は、シリコン光電子増倍管、光電子増倍管、フォトダイオード等であってもよい。
【0048】
本実施形態では、励起光源９２と光検出器９４とは、読取ユニット９０として一体化されている。例えば、励起光源９２と光検出器９４とは、モジュールケース９１内に収容された状態で、一体化されている。モジュールケース９１のうち支持部材４０側を向く部分に、副走査方向Ａ２に沿って細長い読取用スリット９０Ｓが形成されている（図３参照）。励起光は、当該読取用スリット９０Ｓを通ってイメージングプレート１０に向けて照射される。イメージングプレート１０の発光光は、当該読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４によって検出される。
【0049】
主走査方向Ａ１に沿うステージ６０の移動中に、励起光源９２によるレーザ光がステージ６０に保持されたイメージングプレート１０の放射線像形成層１１の表面１０ａに入射し、その照射先が副走査方向Ａ２に沿って移動する。これにより、放射線像形成層１１の表面１０ａが副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じる。
【0050】
光検出器９４は、励起光源９２からのレーザ光によって生じた放射線像形成層１１の発光光を検出可能な位置に設けられる。例えば、励起光源９２は、イメージングプレート１０に対して斜め方向からレーザ光を照射するように配置され、光検出器９４は、イメージングプレート１０に対してレーザ光が照射する位置の正面に配置される。そして、放射線像形成層１１の表面が副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じると、当該発光光が光検出器９４によって検出される。
【0051】
ステージ６０の移動中に、副走査方向Ａ２における励起光源９２の走査及び光検出器９４による走査が繰返し行われることによって、イメージングプレート１０の広い面、例えば、イメージングプレート１０の全面の放射線像が光検出器９４によって読取られる。
【0052】
なお、ステージ６０の移動中に読取りを行うことは必須ではない。例えば、ステージ６０が停止した状態で、励起光源９２及び光検出器９４が移動する構成であってもよい。また、ステージ６０と、励起光源９２及び光検出器９４の両方が移動する構成であってもよい。
【0053】
＜ステージ及びその移動のための構成について＞
図４は読取装置２０の内部構造をステージ６０の支持面６４Ｆに直交する外側から見た正面図である。図４において読取ユニット９０及びセット用ガイド２００は省略されている。図５は図４のＶ－Ｖ線断面図である。図５において、セット用ガイド２００は省略されず、また、読取ユニット９０が２線鎖線で示されている。
図４は読取装置２０の内部構造をステージ６０の支持面６４Ｆに直交する外側から見た正面図である。図４において読取ユニット９０及びセット用ガイド２００は省略されている。図５は図４のＶ－Ｖ線断面図である。図５において、セット用ガイド２００は省略されず、また、読取ユニット９０が２線鎖線で示されている。
【0054】
図１から図５に示すように、ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持するように構成されている。例えば、ステージ６０は、イメージングプレート１０よりも大きく広がる板状部分を含む。イメージングプレート１０がステージ６０の一方面側の支持面６４Ｆに接した状態で、ステージ６０に対して一定位置及び一定姿勢で保持される。ステージ６０がイメージングプレート１０を保持する構成が後により具体的に説明される。
【0055】
ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持した状態で主走査方向Ａ１に沿って移動する。ステージ６０を移動可能に支持するための構成について説明する。
【0056】
ステージ６０は、一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁部間を主走査方向Ａ１に沿って移動することができる。背板４７に対する下側の短手方向側板４６Ｌの突出寸法は、背板４７に対する長手方向側板４５の突出寸法よりも小さい。このため、ステージ６０は、主走査方向Ａ１に沿って、一対の長手方向側板４５の間から下側の短手方向側板４６Ｌを越えて下方に移動することができる。つまり、主走査方向Ａ１に沿って、一対の長手方向側板４５間の位置（図２において２点鎖線で示す位置Ｐ２、Ｐ４）と一対の長手方向側板４５間の下側に突出する位置Ｐ１（図２参照）との間で往復移動することができる。
【0057】
ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって移動駆動可能に構成される。ステージ移動機構５０は、移動駆動部５２と、一対のガイドロッド５６とを含む。
【0058】
移動駆動部５２は、ステージ６０に対して主走査方向Ａ１に沿った駆動力を付与する部分である。本実施形態では、移動駆動部５２は、モータ５３と、ネジ軸部５４とを含む。ネジ軸部５４は、周囲にネジ溝が形成された棒状部材である。ネジ軸部５４は、一対の短手方向側板４６間に掛渡すようにして、一対の短手方向側板４６に回転可能に支持されている。モータ５３は、箱状部４４に対して回転不能に固定されている。例えば、モータ５３は、下方の短手方向側板４６Ｌの外側にブラケット５３Ｂ等を介して回転不能に固定されている。モータ５３のシャフト５３ａがネジ軸部５４に相対回転不能に固定されており、モータ５３の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、ネジ軸部５４が正転方向又は逆転方向に回転駆動される。モータ５３のシャフト５３ａの回転運動は、ギヤ、プーリー等の伝達装置を介してネジ軸部５４に伝達されてもよい。
【0059】
ステージ６０は、ネジ溝を有する貫通孔６２ｈ１を有している（図２参照）。ネジ軸部５４は、上記貫通孔６２ｈ１に螺合している。ネジ軸部５４の回転によって、当該ネジ軸部５４が螺合するステージ６０が主走査方向Ａ１に沿って移動するように駆動される。
【0060】
ガイドロッド５６は細長い棒状部材であり、一対の短手方向側板４６の間に掛渡すように、一対の短手方向側板４６に固定されている。ガイドロッド５６は、ステージ６０に形成されたガイド孔６２ｈ２に挿通されている（図２参照）。これにより、ガイドロッド５６は、ステージ６０がネジ軸部５４周りに回転することを抑制する役割を果すことができる。ここでは、ガイドロッド５６は、複数（本実施例では２つ）設けられているが、１つであってもよい。
【0061】
移動駆動部５２による移動方向は上記例に限られず、水平方向又は斜め方向であってもよい。移動駆動部５２は、ステージ６０を移動させるアクチュエータであればよく、上記構成の他、リニアモータ等であってもよいし、ベルトによって移動させる機構であってもよい。ステージを移動させる代りに、読取ユニット９０を移動させてステージ上のイメージングプレートを読取ってもよい。読取ユニットがイメージングプレートの平面情報を読取ることができるセンサであれば、ステージ及び読取ユニットの両方が移動しない場合も想定される。
【0062】
ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、セット位置Ｐ１と、読取位置Ｐ２との間で往復移動される。
【0063】
セット位置Ｐ１は、ステージ６０に対してイメージングプレート１０をセット可能な位置である。本実施形態では、セット位置Ｐ１は、下側の短手方向側板４６Ｌの外側（下側）に突出する位置に設定される。セット位置Ｐ１において、ステージ６０の上端寄りの部分が短手方向側板４６Ｌ上に配置され、ステージ６０の長手方向中間部及び下端部が下側の短手方向側板４６Ｌから下方に延出する状態となる。セット位置Ｐ１においては、ステージ６０にセットされるイメージングプレート１０の配設領域（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には最大配設領域）が、下側の短手方向側板４６Ｌの外側に配置される。
【0064】
この状態において、ステージ６０の支持面６４Ｆは重力方向に対して傾斜している。ここでは、支持面６４Ｆは、長手方向側板４５の延在方向と同じ傾き方向に沿って傾斜している。つまり、支持面６４Ｆは斜め上方を向くように傾斜している。本実施形態では、支持面６４Ｆは、後述するプレートガイド面２１６に対して反対側で傾斜する反対傾斜面である。反対傾斜面としての支持面６４Ｆについては、後にプレートガイド面との関係でさらに説明される。
【0065】
セット位置Ｐ１に位置するステージ６０は、セット用ガイド２００によってガイドされたイメージングプレート１０を受けることができる。より具体的には、セット位置Ｐ１は、セット用ガイド２００の下側に設けられている（図５参照）。装置２０の外側からイメージングプレート１０がセット用ガイド２００の投入口２３０に挿入されると、イメージングプレート１０は、セット用ガイド２００によってガイドされつつ自重によって重力方向下側に移動する。イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆに達すると、イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆの傾きに従って斜め下方向に滑り落ちつつ、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに向って傾き、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが当該支持面６４Ｆに対して面接触し得る状態となる。この状態で、イメージングプレート１０がステージ６０に設けられた位置決め機構（後述する）によって位置決め保持される。本実施例ではこのように、イメージングプレート１０を正規姿勢に誘導する際に重力を利用する構成となっている。
【0066】
セット用ガイド２００がイメージングプレート１０をガイドするための構成が後により詳細に説明される。
【0067】
セット位置Ｐ１が上記位置に設定されていることは必須ではなく、例えば、セット用ガイド２００との位置関係に応じて、一対の長手方向側板４５の間に設定されていてもよい。
【0068】
読取位置Ｐ２は、励起光源９２と光検出器９４とが放射線像を読取る位置、即ち、励起光源９２からの励起光に応じて光検出器９４がイメージングプレート１０の放射線像を読取る位置である。本実施形態では、読取位置Ｐ２は、一対の長手方向側板４５の間の位置に設定される。より具体的には、読取位置Ｐ２は一対の長手方向側板４５の間であって下寄りの位置に設定される。
【0069】
すなわち、励起光源９２と光検出器９４とを含む読取ユニット９０は、一対の長手方向側板４５の外向きの縁部分間で一対の支持ロッド４８にネジ止等によって固定される。読取ユニット９０は、一対の長手方向側板４５の間であって上記セット位置Ｐ１寄りに位置する。読取ユニット９０のうち箱状部４４の内側を向く面に、読取用スリット９０Ｓが形成される。読取ユニット９０内の励起光源９２からの励起光が読取用スリット９０Ｓを通ってステージ６０上のイメージングプレート１０に照射される。また、この励起光によって励起されるイメージングプレート１０からの発光光が読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４に入射する。
【0070】
セット位置Ｐ１においてステージ６０にイメージングプレート１０がセットされると、イメージングプレート１０は主走査方向Ａ１に沿って箱状部４４内に向けて移動する。ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０が上記読取用スリット９０Ｓと向い合う位置に達すると、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像の読取りが開始される。ステージ６０の移動に伴って、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像が順次読取られる。イメージングプレート１０が読取用スリット９０Ｓを通過すると、読取ユニット９０による読取りが終了する。本実施形態のように、ステージ６０が移動することによって放射線像の読取りがなされる場合、読取位置Ｐ２は、ステージ６０上のイメージングプレート１０（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には、最も広いイメージングプレート１０）が上記読取用スリット９０Ｓに達して読取りが開始される位置と把握されてもよい。
【0071】
上記例とは異なり、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して読取ユニット９０が主走査方向Ａ１に沿って移動して放射線像を読取る場合、あるいは、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して２次元センサによって放射線像を読取る場合も想定される。この場合、一定位置に静止したイメージングプレート１０を保持する位置が、読取位置Ｐ２である。
【0072】
本実施例では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、排出位置Ｐ３にも移動する（図５参照）。排出位置Ｐ３は、ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０を排出するための位置である。排出位置Ｐ３は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１よりも離れた位置に設定される（図５において二点鎖線で示すステージ６０参照）。本例に限られず、排出位置Ｐ３とは異なる位置、例えば、セット位置Ｐ１においてステージ６０のイメージングプレート１０が、別途の機構によって、排出されてもよい。
【0073】
既に述べたように、回収トレイ４９が、排出位置Ｐ３の下方に設けられる。回収トレイ４９の上開口は、ステージ６０の下側延長上で開口している。イメージングプレート１０は、排出位置Ｐ３におけるステージ６０上を滑り落ちて、回収トレイ４９の上開口を通って、回収トレイ４９内に排出される。
【0074】
本実施形態では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、奥側位置Ｐ４にも移動する（図２参照）。奥側位置Ｐ４は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１とは反対側の位置にある。すなわち、ステージ６０は、セット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２を経過して奥側位置Ｐ４に移動することができる。奥側位置Ｐ４では、ステージ６０上のイメージングプレート１０は、読取ユニット９０によって覆われずに露出した状態となっていてもよいし、他の部材によって覆われていてもよい。
【0075】
上記ステージ移動機構５０の動作制御は、制御部１００（図３参照）によってなされる。制御部１００は、例えば、少なくとも１つのプロセッサと、記憶部とを備えるコンピュータによって構成される。プロセッサは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等であり、電気回路によって構成される。プロセッサが読取プログラムを実行することによって、読取りのための各種機能が実現される。この制御部１００によって、上記モータ５３の回転方向及び回転量の制御がなされることによって、主走査方向Ａ１に沿ったステージ６０の移動制御がなされる。かかる制御部１００は、上記回路ユニット４３によって実現される回路であることが想定される（図３参照）。
【0076】
本制御部１００によって、読取ユニット９０による励起光源９２及び光検出器９４の制御がなされてもよい。本制御部１００によって、光検出器９４によって検出された信号に基づいて放射線画像を生成するための各種信号処理、画像処理、表示装置３４による表示処理等がなされてもよい。
【0077】
ステージ６０を移動させる構成は上記例に限られない。移動機構は、読取ユニット９０を重力方向、水平方向又は斜め方向に移動させてもよい。また、ステージ６０が一定位置に支持され、読取ユニット９０が移動してもよい。
【0078】
【0079】
ステージ本体６１は、イメージングプレート１０の裏面１０ｂに面接触可能な支持面６４Ｆを有する。本実施形態では、ステージ本体６１は、可動支持体６２と、板状部６４とを含む。
【0080】
可動支持体６２は、直方体状に形成されている。可動支持体６２に、貫通孔６２ｈ１が形成されている（図２参照）。既に述べたように、モータ５３によって正逆両方向に回転駆動可能なネジ軸部５４が当該貫通孔６２ｈ１に螺合される。ネジ軸部５４が正転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って一方側に移動し、ネジ軸部５４が逆転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って他方側に移動することができる。かかる構造は、例えば、ボールネジと呼ばれる構造である。
【0081】
可動支持体６２には、上記貫通孔６２ｈ１と平行なガイド孔６２ｈ２が形成されている（図２参照）。このため、可動支持体６２は、ガイド孔６２ｈ２に挿通されたガイドロッド５６によるガイド下、貫通孔６２ｈ１に螺合するネジ軸部５４の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、主走査方向Ａ１に沿って両方向に移動駆動される。
【0082】
板状部６４は、イメージングプレート１０よりも大きく板状に広がる形状、ここでは、方形板状に形成されている。板状部６４が方形板状に形成されていることは必須ではなく、楕円形状等他の形状に形成されていてもよい。
【0083】
板状部６４の一方側の面に支持面６４Ｆが設けられる。支持面６４Ｆは、イメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。イメージングプレート１０として複数のサイズが想定される場合には、支持面６４Ｆは、最も大きいイメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。
【0084】
より具体的には、板状部６４は、一方向（ここでは主走査方向Ａ１）に沿って長い長方形状に形成されている。板状部６４の他方側の面（支持面６４Ｆとは反対側の面）のうち、板状部６４の長手方向の一方側の部分が可動支持体６２に固定されている。固定は、例えば、ねじ止によってなされる。板状部６４は、可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿ってセット位置Ｐ１側に向って延出するように、可動支持体６２によって片持ち状に支持されている。板状部６４の一方側の面のうち可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿って下方に延び出る部分の一部が他の部分よりも凹んでいる。この凹んだ部分の底面が、イメージングプレート１０の裏面に面接触可能な支持面６４Ｆである。
【0085】
ステージ６０が支持部材４０によって支持された状態で、板状部６４及び支持面６４Ｆは重力方向（下方向）に対して傾斜し、支持面６４Ｆは斜め上方向を向いている。本実施形態では、板状部６４及び支持面６４Ｆの傾斜角度は、長手方向側板４５の延在方向の傾斜角度及び一対の支持ロッド４８の傾斜角度と一致している。板状部６４及び支持面６４Ｆは、一定の傾斜角度を保った状態で、ガイドロッド５６によるガイド下、主走査方向Ａ１に沿って移動する。可動支持体６２が下側の短手方向側板４６Ｌ寄りに移動すると、板状部６４のうち可動支持体６２から延び出る部分は、下側の短手方向側板４６Ｌ上を通り、斜め下方に延び出る。この状態で、支持面６４Ｆが斜め上を向くように傾斜しているため、セット用ガイド２００を通じてイメージングプレート１０上に供給されるイメージングプレート１０を、支持面６４Ｆ上で受けることができる。
【0086】
なお、本実施形態では、板状部６４のうち可動支持体６２寄りの領域に、部分的な突部領域６４Ｐ（図６、図７参照）が形成されている。突部領域６４Ｐは、支持面６４Ｆのうち上側及び両側を囲む領域に形成されている。突部領域６４Ｐと支持面６４Ｆとの間には段差が存在している。突部領域６４Ｐが存在することによって、イメージングプレート１０がより確実に支持面６４Ｆ上に支持される。上記突部領域６４Ｐが存在することは必須ではない。
【0087】
位置決め機構７０は、支持面６４Ｆ上に支持されたイメージングプレート１０の縁部分に対して接触し、支持面６４Ｆの延在方向において当該縁部分をその外側から位置決めする位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを有する。本実施形態では、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦは、支持面６４Ｆに対して鋭角をなすように傾斜しており、イメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける。位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦが、イメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける構成を有していることは必須ではない。
【0088】
なお、ステージ６０が位置決め機構７０を有している必要は無く、例えば、ステージ６０が重力方向に対して直交する水平姿勢である場合には、イメージングプレート１０は、縁部で位置決めされることなく、ステージ６０上に載置されてもよい。
【0089】
ステージ６０が位置決め機構７０を備える構成において、位置決め機構７０は、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを少なくとも１つ有していればよい。位置決め機構７０が、イメージングプレート１０を少なくとも２方向において位置決めするためには、位置決め機構７０は、互いに異なる方向（例えば互いに直交する方向）を向く位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを少なくとも２つ有していればよい。例えば、位置決め機構は、イメージングプレート１０を下から支える上向きの位置決め面と、イメージングプレート１０の左右方向を一方から押える右向き若しくは左向きの位置決め面とを有していてもよい。本実施形態では、位置決め機構７０は、水平方向の位置決め機構と、上下方向の位置決め機構とを有している。このため、イメージングプレート１０は、水平方向及び上下方向において一定位置に位置決めされる。
【0090】
イメージングプレート１０は、位置決め機構７０によってイメージングプレート１０を正規姿勢に保持した状態で、読取位置Ｐ２に移動する。読取位置Ｐ２において、ステージ６０に正規姿勢で保持されたイメージングプレート１０の放射線像が、読取ユニット９０によって読取られる。正規姿勢とは、ステージ６０を基準として予め設定されたイメージングプレート１０の姿勢であり、読取ユニット９０による読取りに適した所定の姿勢である。本実施形態では、セット時及び読取り時において、ステージ６０の支持面６４Ｆにおいて位置決め面７２ＡＦ、７２ＣＦが一定位置に配置されている。イメージングプレート１０の一側の縁部分が位置決め面７２ＡＦに接触すると共に、イメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め面７２ＣＦに接した状態が、正規姿勢である。
【0091】
本実施形態では、ステージ６０は、イメージングプレート１０の長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持する。具体的には、板状部６４及び板状部６４の一方面側の支持面６４Ｆの長手方向は水平方向に対して傾斜しており、短手方向は水平方向に沿っている。このため、イメージングプレート１０の長手方向を板状部６４及び支持面６４Ｆの長手方向に沿わせた姿勢で、イメージングプレート１０をステージ６０上で支持すると、イメージングプレート１０の長手方向は水平方向に対して傾斜した姿勢となる。
【0092】
本実施形態では、副走査方向Ａ２（水平方向）の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの最小間隔は、主走査方向Ａ１の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最小間隔よりも小さい。また、副走査方向Ａ２（水平方向）の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの最大間隔は、主走査方向Ａ１の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最大間隔よりも小さい。このため、ステージ６０は、イメージングプレート１０の長手方向を、板状部６４及び支持面６４Ｆの長手方向に沿わせた姿勢で支持するのに適した構成を有している。
【0093】
本実施形態に拘らず、ステージは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で、当該イメージングプレートを支持してもよい。例えば、ステージの板状部及び支持面の長手方向が水平方向に沿っており、短手方向が水平方向に対して傾斜してもよい。
【0094】
【0095】
位置決め機構７０は、４つの位置決め部７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃ、７２Ｄを含む。位置決め部７２Ａ、７２Ｂによってイメージングプレート１０が副走査方向Ａ２（本実施形態では、水平方向）に位置決めされ、位置決め部７２Ｃ、７２Ｄによってイメージングプレート１０が主走査方向Ａ１（本実施形態では、上下方向）に位置決めされる。イメージングプレート１０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが開いた状態になり、上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄも開いた状態になる（図４参照）。この状態で、イメージングプレート１０をステージ６０にセットできる。イメージングプレート１０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが接近した状態になり、上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄも接近した状態になる。この状態で、ステージ６０にイメージングプレート１０が主走査方向Ａ１及び副走査方向Ａ２の両方において位置決めされた状態で保持される。
【0096】
上記左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ及び上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを開閉させる構成は特に限定されない。
【0097】
例えば、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方がバネ等の付勢部材によって閉方向に付勢されていてもよい。この場合、ステージ６０がセット位置Ｐ１に移動することで、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方がカム面等の固定箇所に押し当てられて付勢部材の付勢力に抗して開かれてもよい。また、ステージ６０が読取位置Ｐ２に移動することでカム面等による位置拘束が解除され、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が付勢部材の付勢力によって閉位置に向けて移動する構成であってもよい。
【0098】
また、例えば、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が、開閉のための駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって駆動されてもよい。
【0099】
上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄについても、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを駆動するのと同様構成によって開閉駆動されてもよい。
【0100】
なお、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの両方が、ステージ６０に対して一定位置に固定されていてもよい。左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの両方又は一方が省略されてもよい。
【0101】
また、上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの両方がステージ６０に対して一定位置に固定されていてもよい。上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの両方又は一方が省略されてもよい。
【0102】
もっとも、ステージ６０が斜め姿勢であることを想定すると、下側の位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆ上を滑り落ちるイメージングプレート１０を下側から受ける役割を果す。
【0103】
位置決め部７２Ｃについて説明する。位置決め部７２Ｃは、板状部６４のうち主走査方向Ａ１における一方側、ここでは、下側の側部に沿って突出する細長い部分である。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆを囲む境界のうち下側の境界に沿って副走査方向Ａ２に沿って延在している。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆよりも当該支持面６４Ｆから突出している。位置決め部７２Ｃの長さは、支持面６４Ｆ上に支持されるイメージングプレート１０の幅寸法（複数サイズが想定される場合には最大の幅寸法）よりも長くてもよい。
【0104】
位置決め部７２Ｃのうち内側（上側）を向く面が、位置決め面７２ＣＦに形成されている。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面（ここでは平面）に形成されていてもよいし、支持面６４Ｆに対して直角な平面に形成されていてもよい。位置決め面７２ＣＦは、重力方向に対して傾斜する支持面６４Ｆの下側に位置していることから、支持面６４Ｆに沿って下方に移動するイメージングプレート１０の下側の縁部分を受ける面の一例である。
【0105】
本実施形態では、位置決め部７２Ｃは、板状部６４とは別体に形成されている。位置決め部７２Ｃは、接触位置と退避位置との間で姿勢変更可能に構成される（図８参照）。接触位置は、位置決め面７２ＣＦを支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分に対向させる位置であり、退避位置は、位置決め面７２ＣＦを、支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分から退避させる位置である。
【0106】
位置決め部７２Ｃの動作ついて説明しておく。板状部６４のうち下端側部分が他の部分よりも幅狭に形成されている。位置決め部７２Ｃは、細長い位置決め本体部７３Ｃａと、一対の回転支持部７３Ｃｂとを含む。位置決め本体部７３Ｃａは、板状部６４のうち下端側部分全体に延在し得る長さに設定されている。位置決め本体部７３Ｃａの周囲を囲む面のうちの１つの面が上記位置決め面７２ＣＦに形成されている。位置決め本体部７３Ｃａの両端部から一対の回転支持部７３Ｃｂが延出している。一対の回転支持部７３Ｃｂが上記板状部６４のうち下端側部分の両側外方に配置されている。ネジ又はピン等によって構成される支持軸部によって、一対の回転支持部７３Ｃｂが上記板状部６４のうち下端側部分の両側に対して回転可能に支持される。
【0107】
位置決め部７２Ｃが接触位置に位置する状態では、上記したように、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆの下方延長上に交差するように位置する。このため、支持面６４Ｆを滑り落ちるイメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め面７２ＣＦに接触することができる（図８において実線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。
【0108】
位置決め面７２ＣＦが退避位置に位置変更されると、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆから退避する（図８において二点鎖線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。すなわち、退避位置にあるときの位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに沿って下方に移動したイメージングプレート１０の下側の縁部分を受けるポジションには位置しなくなる。本実施形態では、位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの裏側に向かって退避する。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの正面側に退避移動してもよい。位置決め面７２ＣＦが退避位置に移動すると、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ上を滑り落ちることができる。
【0109】
本実施形態では、一対の回転支持部７３Ｃｂのうちの一方に、支持面６４Ｆとは反対側に突出する突出片７３Ｃｂｐが突設されている。ステージ６０の移動によって突出片７３Ｃｂｐを押すことによって、位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に位置変更される。なお、退避位置から退避位置への位置決め部７２Ｃの付勢は、位置決め部７２Ｃ自体の自重によってなされてもよいし、ねじりコイルバネ等のばねによってなされてもよい。
【0110】
上記位置決め部７２Ｃを位置変更させるための構成について説明する。
【0111】
【0112】
一対の支持ロッド４８のうち箱状部４４から突出する部分にカム板８０が支持されている。カム板８０は、下側の短手方向側板４６Ｌの外側で、一対の支持ロッド４８間に位置する板状部材である。カム板８０は、読取位置Ｐ２におけるステージ本体６１に対して支持面６４Ｆとは反対側に位置している。
【0113】
上記カム板８０に、溝８４が形成されている（図４、図８参照）。溝８４は、上記位置決め部７２Ｃの一端に設けられた突出片７３Ｃｂｐを配置可能な位置において主走査方向Ａ１に沿って延びるように形成されている。溝８４は、カム板８０の両面に貫通しているが、ステージ６０側で開口する有底溝であってもよい。
【0114】
溝８４の奥に作動ローラ８５が位置している。作動ローラ８５は、副走査方向Ａ２に沿う軸周りに回転可能に支持されたローラである。作動ローラ８５は、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では突出片７３Ｃｂｐに接触せず、ステージ６０が排出位置Ｐ３に位置する状態で突出片７３Ｃｂｐに接触可能な位置に配置されている。なお、溝８４の奥に作動ローラ８５が設けられず、第２カム溝の奥の位置自体が、ステージ６０が排出位置Ｐ３に位置する状態で突出片７３Ｃｂｐと接触可能に設定されていてもよい。
【0115】
ステージ６０がセット位置Ｐ１及び読取位置Ｐ２に位置する状態では、突出片７３Ｃｂｐは作動ローラ８５に接触しない。この状態では、位置決め部７２Ｃの位置決め面７２ＣＦは、位置決め部７２Ｃの自重により又は付勢部材によって、イメージングプレート１０を下から支える接触位置に位置している。
【0116】
ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に移動すると、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触し、位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に移動する。これにより、イメージングプレート１０は、ステージ６０の支持面６４Ｆ上から下方に滑り落ちることができる。
【0117】
ステージ６０が上記構成である必要はない。例えば、支持面上においてイメージングプレートを位置決め部の全てが支持面に対して一定位置に固定されていてもよい。また、ステージは、斜めに傾斜する支持面に対して下方のみからイメージングプレートを支持する位置決め部を有する構成であってもよい。また、例えば、ステージは、斜めに傾斜する支持面に対して下方及び一側方のみからイメージングプレートを支持する位置決め部を有する構成であってもよい。また、ステージは、重力方向に対して垂直な水平方向の沿った支持面を有していてもよい。つまり、ステージ６０は、セット用ガイド２００によってガイドされるイメージングプレート１０をガイド先で支持する構成を有していればよい。
【0118】
＜セット用ガイドについて＞
図９はセット用ガイド２００が支持部材４０から取外された状態を示す斜視図である。図１０はセット用ガイド２００の分解斜視図である。図１１は図９のＸＩ－ＸＩ線断面においてシャッタ２４４の動作を示す説明図である。図１２は図９のＸＩ－ＸＩ線断面においてイメージングプレート１０のガイド動作を示す説明図である。
図９はセット用ガイド２００が支持部材４０から取外された状態を示す斜視図である。図１０はセット用ガイド２００の分解斜視図である。図１１は図９のＸＩ－ＸＩ線断面においてシャッタ２４４の動作を示す説明図である。図１２は図９のＸＩ－ＸＩ線断面においてイメージングプレート１０のガイド動作を示す説明図である。
【0119】
図１から図３、図５、図９から図１２に示すように、セット用ガイド２００は、プレートガイド面２１６を含んでおり、イメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内する。プレートガイド面２１６は、下向き傾斜する面であり、イメージングプレート１０を斜め下方に案内する面である。セット用ガイド２００は、一対の支持ロッド４８のうち下側の短手方向側板４６Ｌから突出する部分にネジ止等によって固定されている。これにより、セット用ガイド２００は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対して支持面６４Ｆ側から対向することができる。なお、セット用ガイド２００は、ガイドするイメージングプレート１０をセット位置Ｐ１のステージ６０に案内可能な状態で当該ステージ６０に対向していればよい。このため、例えば、セット用ガイド２００の一部が読取ユニット９０と干渉しない範囲で読取位置Ｐ２側にはみ出ていてもよい。
【0120】
より具体的には、セット用ガイド２００は、ガイドベース板２０１と、ガイド本体２１２とを備える。
【0121】
ガイドベース板２０１は、金属又は樹脂によって形成された板、ここでは、方形板状に形成されている。ガイドベース板２０１の幅寸法（副走査方向Ａ２における寸法）は、一対の支持ロッド４８の幅に応じた大きさに設定されており、当該一対の支持ロッド４８に掛渡すように固定される。主走査方向Ａ１におけるガイドベース板２０１の長さは、一対の支持ロッド４８のうち下側の短手方向側板４６Ｌから突出する部分の長さに応じた大きさに設定されている。ガイドベース板２０１は、ステージ６０のうち下側の短手方向側板４６Ｌから突出する部分上を覆うことができる。
【0122】
ガイドベース板２０１に、プレート通過開口２０２が形成されている。プレート通過開口２０２は、イメージングプレート１０が通過可能な方形状の開口である。例えば、プレート通過開口２０２は、イメージングプレート１０の大きさ（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には最大の大きさ）よりも大きい方形状に形成されている。プレート通過開口２０２は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０のうち支持面６４Ｆに対向する位置に形成される。ガイドベース板２０１は省略されてもよい。例えば、ガイド本体２１２は、支持ロッド４８に直接固定されてもよい。
【0123】
ガイドベース板２０１には、シャッタ作動用開口２０４が形成されている。シャッタ作動用開口２０４は、例えば、プレート通過開口２０２の隣に形成される。シャッタ作動用開口２０４は、例えば、主走査方向Ａ１に沿って長い長方形状の開口である。
【0124】
ガイド本体２１２は、例えば、清掃や滅菌の処理が容易で耐久性のある樹脂によって形成される。ガイド本体２１２は、プレートガイド面２１６を有しており、筐体３０の開口３１からステージ６０に向けてイメージングプレート１０を案内する。
【0125】
ガイド本体２１２は、副走査方向Ａ２に垂直な２つの外向き面を２つの底面２１３とする直方体状に形成されている。
【0126】
各底面２１３は、上底２１３ａ、当該上底２１３ａよりも長い下底２１３ｂ、上底２１３ａ及び下底２１３ｂに対して垂直（特に図１１参照）な辺２１３ｃ、上底２１３ａ及び下底２１３ｂに対して斜め方向に延びる（特に図１１参照）斜辺２１３ｄとで囲まれる台形状に形成されている。説明の便宜上、各辺の符号が図９、図１１に示される。
【0127】
ガイド本体２１２のうち２つの辺２１３ｃ間の面は、ガイドベース板２０１に平行な姿勢で当該ガイドベース板２０１に対向する。ガイドベース板２０１が一対の支持ロッド４８に取付けられた状態で、一対の支持ロッド４８間において、ガイド本体２１２のうち２つの辺２１３ｃ間の面がプレート通過開口２０２を介してステージ６０の支持面６４Ｆに対向する。
【0128】
ガイド本体２１２のうち２つの上底２１３ａ間の面、２つの下底２１３ｂ間の面、及び、２つの底面は、ガイドベース板２０１に対して垂直姿勢である。
【0129】
ガイド本体２１２のうち２つの斜辺２１３ｄ間の面は、ガイドベース板２０１に対して傾斜する姿勢で、当該ガイドベース板２０１に対して反対側を向いている。ガイド本体２１２のうち２つの斜辺２１３ｄ間の面は、筐体３０のうち開口３１が形成された面に沿うように配置される。ガイド本体２１２のうち２つの斜辺２１３ｄ間の面は、開口３１を通じて筐体３０の外に露出する。
【0130】
ガイド本体２１２は、一対の側壁部２１９、２２１と、ガイド部２１５と、上挿入ガイド２２２とを備える。
【0131】
一対の側壁部２１９、２２１は、上記底面２１３を外向き面とする板状部分であり、間隔をあけた並列姿勢で配置されている。
【0132】
一対の側壁部２１９の間にガイド部２１５と、上挿入ガイド２２２とが配置される。
【0133】
ガイド部２１５は、一対の側壁部２１９、２２１の間であって上底２１３ａ及び斜辺２１３ｄ寄りの位置に配置されている。ガイド部２１５のうちステージ６０側において斜め上を向く面がプレートガイド面２１６である。
【0134】
プレートガイド面２１６は、支持面６４Ｆに向って徐々に下方に向うように形成されている。本実施形態では、プレートガイド面２１６は、外向きに凸な湾曲面２１６ａである部分を含む。本実施形態では、プレートガイド面２１６の全体が湾曲面２１６ａである。湾曲面２１６ａは、副走査方向Ａ２に沿って見ると、上方及びステージ６０側に凸となる曲線を描いている。湾曲面２１６ａ上では、平坦なイメージングプレート１０が面接触し難く、従って、イメージングプレート１０が湾曲面２１６ａに張り付いた状態となり難い。このため、イメージングプレート１０は、湾曲面２１６ａ上を円滑に滑り落ちていくことができる。また、湾曲面２１６ａとイメージングプレート１０との摩擦量が軽減されるので、イメージングプレート１０表面の損傷の可能性も低減され好ましい。
【0135】
プレートガイド面２１６の上端は、ステージ６０における支持面６４Ｆの下端（例えば、位置決め面７２ＣＦの位置）よりも上に位置し、好ましくは、支持面６４Ｆの上端（例えば、離間位置に位置する位置決め面７２ＤＦの位置）よりも上に位置する。プレートガイド面２１６の上端からステージ６０から離れる方向に向って入口ガイド面２１７ａが延出する。入口ガイド面２１７ａは、ステージ６０から離れるのに連れて下側に向う形状に形成されている。入口ガイド面２１７ａによって、プレートガイド面２１６の上端から外れた位置に差込まれたイメージングプレート１０がプレートガイド面２１６の上端に向けて案内される。
【0136】
プレートガイド面２１６の下端は、プレートガイド面２１６の上端よりも下に位置し、好ましくは、支持面６４Ｆの上端（例えば、離間位置に位置する位置決め面７２ＤＦの位置）よりも下に位置し、より好ましくは、支持面６４Ｆのうち上端よりも下端（例えば、位置決め面７２ＣＦの位置）に近い高さに位置する。
【0137】
本実施形態において、ガイド部２１５のうち水平方向においてステージ６０側に最も突出する頂部が上下反転接触部２１８である。よって、上下反転接触部２１８は、プレートガイド面２１６に対してイメージングプレート１０の案内方向下流側に連続している。上下反転接触部２１８については、ステージ６０の支持面６４Ｆとの関係で後にさらに説明される。
【0138】
プレートガイド面２１６の下端からさらに下に向けて反対傾斜面用ガイド面２１７ｂが延出する。反対傾斜面用ガイド面２１７ｂは、上下反転接触部２１８に対して位置決め部７２Ｃ側で連続している。
【0139】
反対傾斜面用ガイド面２１７ｂは、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の傾斜方向において、下方に向うに連れて徐々に支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に近づく形状に形成されている。本実施形態では、反対傾斜面用ガイド面２１７ｂのうち上側部分は、上下反転接触部２１８に対して連続的に連なっており、外向きに凸となる湾曲面に形成されている。つまり、プレートガイド面２１６と上下反転接触部２１８と反対傾斜面用ガイド面２１７ｂとがこの順で連続して連なるように形成されている。反対傾斜面用ガイド面２１７ｂのうち下側部分は、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に沿う平面に形成されている。位置決め面７２ＣＦが接触位置に位置する状態で、反対傾斜面用ガイド面２１７ｂのうち下側部分が位置決め部７２Ｃに近接した状態となっていることが好ましい。これにより、反対傾斜面用ガイド面２１７ｂと位置決め部７２Ｃとの間にイメージングプレート１０が入り込む隙間が形成され難くなる。
【0140】
上挿入ガイド２２２は、プレートガイド面２１６の上端及び入口ガイド面２１７ａの上方に位置する。上挿入ガイド２２２のうち入口ガイド面２１７ａに対向する部分は、当該入口ガイド面２１７ａに対して間隔をあけて対向する上挿入ガイド面２２２ａに形成されている。上挿入ガイド面２２２ａは、ステージ６０から離れるにつれて入口ガイド面２１７ａから離れる方向に向っている。入口ガイド面２１７ａと上挿入ガイド面２２２ａとの間の間隔は、ステージ６０から離れるにつれて徐々に大きくなる。
【0141】
入口ガイド面２１７ａと上挿入ガイド面２２２ａと一対の側壁部２１９、２２１の内面とによって、プレートガイド面２１６の上側端にイメージングプレート１０を投入するための投入口２３０が形成される。
【0142】
投入口２３０は、イメージングプレート１０が通過可能な大きさに形成される。すなわち、上挿入ガイド面２２２ａは、プレートガイド面２１６の上側の端部に対してイメージングプレートＩＰの厚みに応じた距離離れている。これにより、投入口２３０の最小のスリット幅Ｗ（図１２参照）は、イメージングプレート１０の厚みＴに応じた大きさに設定されている。例えば、スリット幅Ｗは、イメージングプレート１０の厚みＴに対して１ｍｍ程度を加算した大きさに設定されていてもよい。例えば、イメージングプレート１０が放射線像を記憶する際、イメージングプレート１０の機械的な保護、Ｘ線情報の損失抑制等の観点から、イメージングプレート１０にプロテクタが装着される場合がある。スリット幅Ｗがイメージングプレート１０の厚みＴに応じた大きさに設定されれば、プロテクタによって覆われたイメージングプレート１０は、投入口２３０に挿入され難い。このため、プロテクタを装着したままのイメージングプレート１０が誤って読取装置２０内に挿入されることが抑制される。
【0143】
読取装置２０による読取対象となるイメージングプレート１０のサイズが複数である場合、投入口２３０の長さＬ（長手方向の幅）は、最も大きい幅のイメージングプレート１０が通過可能な大きさに設定される。イメージングプレート１０のサイズが異なる場合でも、イメージングプレート１０の厚みＴは同じであることが考えられる。そこで、上記のように、投入口２３０のスリット幅Ｗの大きさ設定によって、プロテクタを装着したままのイメージングプレート１０の誤挿入を抑制することで、種々サイズのイメージングプレート１０の読取りを可能としつつ、上記のような誤挿入を低減できる。また、イメージングプレート１０を投入口２３０に挿入する際のイメージングプレート１０の投入許容幅の自由度を制限することができる。このため、装置２０の内部へのイメージングプレート１０の投入位置が制限されるので、ステージ６０上における不慮の位置ずれや脱落が生じ難い。
【0144】
副走査方向Ａ２（水平方向）に沿った方向における投入口２３０及びプレートガイド面２１６の寸法は、イメージングプレート１０の短手方向の寸法よりも大きい。また、プレートガイド面２１６の上端と支持面６４Ｆとの間には、イメージングプレート１０の長手方向の寸法よりも大きい距離が隔てられている。これにより、セット用ガイド２００は、イメージングプレート１０の長手方向を、プレートガイド面２１６におけるイメージングプレート１０の移動方向に沿わせた姿勢で、イメージングプレート１０を案内することができる。換言すれば、セット用ガイド２００は、イメージングプレート１０の短手方向を、副走査方向Ａ２（水平方向）に沿わせた姿勢で、当該イメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内することができる。
【0145】
上記したように、ステージは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢でイメージングプレートを支持してもよい。この場合、セット用ガイドは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に沿わせた姿勢でステージに向けてガイドするとよい。
【0146】
上挿入ガイド２２２のうち上挿入ガイド面２２２ａに対してステージ６０側の端には、ステージ６０に向うにつれて上方に向う退避面２２２ｂが連なっている。
【0147】
上挿入ガイド２２２のうち退避面２２２ｂ部分に退避溝２２２ｂｇが形成されている。退避溝２２２ｂｇは、プレートガイド面２１６側に開口しつつ、副走査方向Ａ２に沿って延びる細長い溝状に形成されている。後述するシャッタ２４４が当該プレートガイド面２１６に退避移動することができる。
【0148】
ガイド本体２１２のうち２つの辺２１３ｃ間の面に、ステージ６０の支持面６４Ｆに向く開口２３２が形成されている。プレートガイド面２１６を滑り落ちるイメージングプレート１０は、当該開口２３２を通ってステージ６０の支持面６４Ｆに達することができる。各図において、ガイド本体２１２の上方に開口が描かれている。当該開口は、説明のための開口であり、実際は、塞がれている。
【0149】
本実施形態では、ガイド本体２１２は、ガイド部２１５と一方の側壁部２１９とを含むガイド分割体２１４と、上挿入ガイド２２２と他方の側壁部２２１とを含むガイド分割体２２０との２分割構成とされている（図１０参照）。ガイド本体２１２が、分割構造とされることによって、プレートガイド面２１６、上挿入ガイド面２２２ａ等を任意の形状に加工し易い。ガイド本体２１２を形成するための具体的な構成例は当該例に限られない。ガイド本体の全体が１つの部品によって構成されてもよいし、ガイド本体が任意の数で任意の境界で分割されてもよい。例えば、入口ガイド面２１７ａを形成する部分と、湾曲面２１６ａを形成する部分とが分割されていてもよい。
【0150】
ガイド分割体２１４、２２０の各側壁部２１９、２２１のうち辺２１３ｃ側の面がガイドベース板２０１に面接触した状態で、ネジＳ等によってガイド分割体２１４、２２０がガイドベース板２０１に固定されている。ガイド分割体２１４、２２０がガイドベース板２０１に固定されることによって、ガイド分割体２１４、２２０が合体状態に保たれている。セット用ガイド２００を一定位置に支持するための構成は上記例に限られない。後の変形例で説明するように、セット用ガイドが装置に対してスライド移動可能に嵌込固定されてもよい。
【0151】
ガイド本体２１２又はガイド２００は、支持部材４０から着脱可能に構成されていることが好ましい。この場合、投入されたイメージングプレート１０が読取装置２０内で詰ったとしても、ガイド本体２１２又はガイド２００を取外すことで、利用者が詰ったイメージングプレート１０に容易にアクセスすることができる。これにより、当該イメージングプレート１０の詰りを容易に解消できる。例えば、ガイド投入口２３０を含む部分が筐体から取外し可能に構成されていてもよい。
【0152】
本願実施形態では、ガイドベース板２０１は、ガイド本体２１２から外方にはみ出ている。ガイドベース板２０１のうちガイド本体２１２から外方にはみ出る両側部分が、一対の支持ロッド４８上に重ね合わされた状態で、セット用ガイド２００が一対の支持ロッド４８に着脱可能に取付けられている。セット用ガイド２００が当該一対の支持ロッド４８に取付けられた位置が、セット用ガイド２００がイメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内する案内位置である。本実施形態では、ネジＳがガイドベース板２０１を貫通して一対の支持ロッド４８のネジ孔に締結されている。ネジＳを締付けることによって、セット用ガイド２００が一対の支持ロッド４８に取付けられる。ネジＳを緩めて支持ロッド４８から取外すことによって、セット用ガイド２００が一対の支持ロッド４８から取外される。
【0153】
セット用ガイド２００を、支持ロッド４８を含む支持部材４０に着脱可能に取付ける構成は上記例に限られない。例えば、バネ等の弾性部材を利用した係止部材がセット用ガイド２００に係止することによって、セット用ガイド２００が支持部材４０に着脱可能に取付けられてもよい。つまり、装置２０の不可逆的な破損を伴うことなく、セット用ガイド２００を所定の案内位置から取外し、かつ、元の案内位置に戻すことができれば、セット用ガイド２００は案内位置から着脱可能であるといえる。
【0154】
また、セット用ガイド２００の全体が着脱可能である必要は無い。セット用ガイド２００の少なくとも一部が着脱可能であり、当該少なくとも一部の取外状態で、プレートガイド面１６の少なくとも一部が外部（筐体外）に露出した状態となればよい。イメージングプレート１０と接触するプレートガイド面２１６を含む部分が着脱可能であれば、清掃しやすいので、好ましい。
【0155】
セット用ガイド２００は、投入口２３０を開閉可能に塞ぐシャッタ２４４を含む。シャッタ２４４は、ステージ６０の移動に連動して動作するシャッタ機構２４０の一部である。
【0156】
即ち、シャッタ機構２４０は、揺動部材２４２を含む。揺動部材２４２は、揺動本体２４３と、シャッタ２４４とがＬ字状に連なる部材である。揺動本体２４３は、一方の側壁部２２１の外面に揺動可能に支持されている。例えば、揺動本体２４３は、ネジＳによって側壁部２２１に対して揺動可能に支持される。揺動本体２４３の一端にシャッタ２４４が連なっている。一方の側壁部２２１に、退避溝２２２ｂｇに貫通する貫通孔２２１ｈが形成されている（図１０から図１２参照）。貫通孔２２１ｈは、退避溝２２２ｂｇからプレートガイド面２１６側に向う細長い孔に形成されている。シャッタ２４４は、貫通孔２２１ｈを貫通して、一対の側壁部２１９、２２１間に配置される。揺動本体２４３の揺動に応じて、シャッタ２４４は、プレートガイド面２１６の上端と上挿入ガイド２２２との間に位置する閉位置（図１１において２点鎖線で示される）と、退避溝２２２ｂｇ内に位置する開位置（図１１において実線で示される）との間で往復移動可能に支持される。
【0157】
揺動本体２４３の他端部は、側壁部２２１から辺２１３ｃ側に延びている。揺動本体２４３の揺動に応じて、揺動本体２４３の他端部が辺２１３ｃから突出した突出位置と辺２１３ｃ側に近づいた退避位置との間で移動可能に支持される。揺動本体２４３の他端部が突出位置に位置する状態でシャッタ２４４が閉位置に位置する。揺動本体２４３の他端部が退避位置に位置する状態でシャッタ２４４が開位置に位置する。
【0158】
シャッタ２４４が開位置から閉位置側に移動するように、揺動部材２４２が常時付勢されている。例えば、揺動部材２４２の揺動軸が、揺動本体２４３の重心よりも揺動本体２４３の他端寄りに設定されることによって、揺動部材２４２が上記方向に重力によって付勢されている。揺動部材２４２は、別途設けられたねじりコイルバネ等のばねによって上記方向に付勢されていてもよい。
【0159】
本実施形態では、揺動本体２４３の他端にローラ２４３ｑが回転可能に支持されている。このローラ２４３ｑがシャッタ用カム２４８に接触することで、揺動本体２４３の他端とシャッタ用カム２４８との摩擦力が低減されている。揺動本体２４３の他端がシャッタ用カム２４８に直接接触してもよい。
【0160】
揺動部材２４２は、ステージ６０がセット位置Ｐ１に移動することで揺動する。ここでは、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態で、シャッタ２４４が開位置に移動し、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する途中で（イメージングプレート１０の読取開始までに）、シャッタ２４４が閉位置に移動する。
【0161】
すなわち、シャッタ機構２４０は、ステージ６０と共に移動するシャッタ用カム２４８を備える（図６、図９、図１１参照）。シャッタ用カム２４８は、例えば、板状部６４によって支持された部材であってもよいし、可動支持体６２によって支持された部材であってもよいし、板状部６４と一体化された部分であってもよい。
【0162】
シャッタ用カム２４８は、板状部６４の一側で、主走査方向Ａ１に沿う長尺部分である。副走査方向Ａ２において、シャッタ用カム２４８は、上記揺動部材２４２の他端と接触し得る位置に位置している。
【0163】
シャッタ用カム２４８は、主走査方向Ａ１に沿って読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に向うにつれてセット用ガイド２００から遠ざかる方向に向う作動面２４８ａと、主走査方向Ａ１及び副走査方向Ａ２の両方に沿うと共にセット用ガイド２００側を向く開状態維持面２４８ｂとを有する。作動面２４８ａは、セット位置Ｐ１寄り（下寄り）に位置している。開状態維持面２４８ｂは、当該作動面２４８ａから読取位置Ｐ２側（上側）に向けて延在している。
【0164】
ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、揺動部材２４２の他端のローラ２４３ｑがシャッタ用カム２４８の開状態維持面２４８ｂに乗上げた状態となっている。このため、揺動部材２４２の他端が退避位置に位置しており、シャッタ２４４は退避溝２２２ｂｇ内の開位置に位置している。
【0165】
この状態では、投入口２３０は開いており、イメージングプレート１０が当該投入口２３０を通じてプレートガイド面２１６に挿入され得る。
【0166】
ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動すると、シャッタ用カム２４８が読取位置Ｐ２側に移動する。作動面２４８ａが揺動部材２４２の他端位置に達すると、揺動部材２４２に作用する付勢力によって、揺動部材２４２の他端は、開状態維持面２４８ｂから作動面２４８ａに沿って、突出位置に移動する。これにより、シャッタ２４４が閉位置に移動する。ステージ６０がさらに読取位置Ｐ２側に移動する際には、揺動部材２４２に常時作用する付勢力によって、シャッタ２４４が閉位置に位置する状態が保たれる。
【0167】
ステージ６０がセット位置Ｐ１に戻ってくると、揺動部材２４２の他端のローラ２４３ｑが作動面２４８ａから開状態維持面２４８ｂ上に乗上げ退避位置に移動する。これにより、シャッタ２４４は退避溝２２２ｂｇ内の開位置に移動し、投入口２３０が開かれ、上記状態に戻る。
【0168】
本実施形態では、シャッタ２４４がステージ６０の移動を利用して開閉される例が説明された。シャッタ２４４は、ステージ６０を移動させるモータ５３とは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって駆動されてもよい。
【0169】
筐体３０は、セット用ガイド２００のうち一対の斜辺２１３ｄの間の面を、開口３１を通じて露出させた状態で、当該セット用ガイド２００及び支持部材４０、ステージ６０、読取ユニット９０等を覆っている（図１参照）。このため、筐体３０は、ステージ６０と、励起光源９２及び光検出器９４とを含む読取ユニット９０、セット用ガイド２００のうち少なくともプレートガイド面２１６及び上下反転接触部２１８と、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）とを覆っている。
【0170】
＜イメージングプレートを反転させつつステージに向けてガイドするための構成について＞
以下に、イメージングプレート１０を反転させつつステージ６０に向けてガイドするための構成に着目した説明がなされる。ここで、イメージングプレート１０を反転させるとは、イメージングプレート１０が水平姿勢及び傾斜姿勢であるかに拘らず、イメージングプレート１０のうち上向きとなる一方の面を他方の面に変更するように向きを変えることをいう。
以下に、イメージングプレート１０を反転させつつステージ６０に向けてガイドするための構成に着目した説明がなされる。ここで、イメージングプレート１０を反転させるとは、イメージングプレート１０が水平姿勢及び傾斜姿勢であるかに拘らず、イメージングプレート１０のうち上向きとなる一方の面を他方の面に変更するように向きを変えることをいう。
【0171】
セット用ガイド２００及びステージ６０の少なくとも一方が反対傾斜面を含む。反対傾斜面は、プレートガイド面２１６に対して反対側に下向き傾斜すると共に、プレートガイド面２１６によって案内されたイメージングプレート１０を受けてイメージングプレート１０を斜め下方に案内する面である。
【0172】
本実施形態では、ステージ６０が反対傾斜面を含む。より具体的には、ステージ６０の支持面６４Ｆが反対傾斜面である。つまり、プレートガイド面２１６は下に向うに連れてステージ６０側に向い、支持面６４Ｆは下に向うに連れてセット用ガイド２００側に向っている。換言すれば、プレートガイド面２１６及び支持面６４Ｆは、下方に向って互いに異なる側に傾斜している。このため、支持面６４Ｆは、プレートガイド面２１６に対して反対側に下向き傾斜している。また、支持面６４Ｆは、副走査方向Ａ２に沿って見て、プレートガイド面２１６の各部の接線の下方延長上に広がっている。このため、支持面６４Ｆは、重力に従い、プレートガイド面２１６によって下方に案内されたイメージングプレート１０を下方で受けることができる領域に広がっている。このため、支持面６４Ｆは、反対傾斜面の一例である。
【0173】
また、ステージ６０及びセット用ガイド２００の少なくとも一方が、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）によって案内されるイメージングプレート１０に対してイメージングプレート１０の表面側から接触してイメージングプレート１０を支持面６４Ｆ（反対傾斜面）と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部２１８を含む。例えば、上下反転接触部２１８は、水平方向において、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の最下端よりも支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の最上端寄りに位置していてもよい。この場合、プレートガイド面２１６上を滑り落ちたイメージングプレート１０が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に達すると、イメージングプレート１０の下端がさらに支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上を滑り落ちていくことが考えられる。そして、イメージングプレート１０の下端が水平方向において上下反転接触部２１８を超えて滑り落ちていくと、イメージングプレート１０の傾斜状態が逆となる。これにより、イメージングプレート１０が反転して、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上に支持される。
【0174】
本実施形態では、ステージ６０が、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）によって支持されるイメージングプレート１０を支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の傾斜方向下側から受ける受面を含む。下側の位置決め面７２ＣＦが、イメージングプレート１０を下側から受けるため、当該下側の位置決め面７２ＣＦが受面である。
【0175】
位置決め面７２ＣＦ（受面）との関係では、上下反転接触部２１８は、位置決め面７２ＣＦ（受面）がイメージングプレート１０を受ける位置の真上延長上よりも支持面６４Ｆ（反対傾斜面）近くに位置する部分である。図１２において位置決め面７２ＣＦ（受面）の真上延長線Ｌ１と、上下反転接触部２１８の真下延長線Ｌ２とが示される。水平方向におけるＬ１とＬ２との距離が、水平方向における位置決め面７２ＣＦ（受面）に対する上下反転接触部２１８の位置差Ｄである。位置差Ｄが０を越えていれば、イメージングプレート１０の傾斜を反対にすることができる。位置差Ｄが大きいほど、イメージングプレート１０の反対側傾斜角度を大きくでき、イメージングプレート１０が反転し易くなる。上下反転接触部２１８としての部分は、イメージングプレート１０に接触し得る部分であればよく、大きく広がる面であってもよいし、線状部分であってもよい。
【0176】
なお、位置決め面７２ＣＦが重力方向に対して傾いている場合等においては、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０を受ける位置を基準とし、上下反転接触部２１８は、当該位置の真上延長上よりも支持面６４Ｆ近くに位置していればよい。
【0177】
＜案内動作について＞
セット用ガイド２００によるイメージングプレート１０の案内動作について、主に図１２を参照しつつ説明する。
セット用ガイド２００によるイメージングプレート１０の案内動作について、主に図１２を参照しつつ説明する。
【0178】
イメージングプレート１０の長手方向を投入口２３０の延在方向に対して交差させた（好ましくは垂直）姿勢で、イメージングプレート１０が投入口２３０に挿入される（Ｑ１参照）。イメージングプレート１０の挿入端は、入口ガイド面２１７ａと上挿入ガイド面２２２ａとによって、ガイド部２１５と上挿入ガイド２２２との間で最も狭まる投入口２３０部分に案内される。仮にイメージングプレート１０にプロテクタが装着されたままの状態であると、プロテクタを含む厚みが、投入口２３０の幅Ｗを越えるので、イメージングプレート１０は投入口２３０よりさらに奥に侵入し難い。
【0179】
イメージングプレート１０が投入口２３０を越え、さらに奥に挿入される（Ｑ２参照）。イメージングプレート１０の過半が投入口２３０を越えてプレートガイド面２１６上に位置するようになると、手で押さなくても、重力によって、イメージングプレート１０はプレートガイド面２１６の傾斜に従って滑り落ちる。やがて、イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に達するようになる（Ｑ３参照）。イメージングプレート１０の下端は、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の傾斜に従って、さらに滑り落ちるように下方に移動する。
【0180】
イメージングプレート１０のうち下端よりも上側で上下反転接触部２１８に接触する部分は、線Ｌ２上の位置に保たれ、水平方向において線Ｌ１側への移動を規制される（Ｑ４参照）。このため、イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の傾斜に従って、線Ｌ１から線Ｌ２側に向って下方に移動すると、その前の状態よりも傾斜姿勢が反対になる。つまり、イメージングプレート１０の下端が線Ｌ１を越える前は、イメージングプレート１０は、プレートガイド面２１６と同方向に傾斜している。イメージングプレート１０の下端が線Ｌ１を越えて線Ｌ２に近づくと、イメージングプレート１０は支持面６４Ｆ（反対傾斜面）と同方向に傾斜するようになる。すると、イメージングプレート１０の下端に対して、イメージングプレート１０の重心が線Ｌ１とは反対側の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）側に偏ることになる。これにより、イメージングプレート１０の裏面が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）側に近づくように、イメージングプレート１０がさらに傾く。これにより、ステージ６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）は、イメージングプレート１０の裏面１０ｂに接触して当該イメージングプレート１０を支持面６４Ｆ（反対傾斜面）と同じ傾斜姿勢で保持することができる（Ｑ５参照）。
【0181】
＜読取動作について＞
本読取装置２０の読取動作例について説明する。
本読取装置２０の読取動作例について説明する。
【0182】
初期状態においては、ステージ６０はセット位置Ｐ１に位置している（図１、図４、図５参照）。この状態では、副走査方向Ａ２（水平方向）において位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ間が開いた状態となっている。また、主走査方向Ａ１において位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦが開いた状態となっている。さらに、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触しないため、位置決め部７２Ｃの位置決め面７２ＣＦは、イメージングプレート１０を下から支える接触位置に位置している。
【0183】
また、揺動部材２４２の他端のローラ２４３ｑが開状態維持面２４８ｂ上に乗上げているため、シャッタ２４４は退避溝２２２ｂｇ内の開位置に移動し、投入口２３０が開かれた状態となっている。
【0184】
この状態で、セット用ガイド２００における投入口２３０にイメージングプレート１０が挿入される（図１２参照）。イメージングプレート１０は、放射線像形成層１１（イメージングプレート１０の表面１０ａ）を下向きにした姿勢で、投入口２３０に挿入される。一般的に、太陽光は、空から照射される。また、室内照明器具は、天井等の頭上から照射される。本読取装置２０は、テーブル上等に設置されることが想定される。このため、本読取装置が設置される環境下における太陽光及び照明光の大部分は、読取装置２０に対して上方から照射されることが想定される。イメージングプレート１０の放射線像形成層１１を下向きにすると、放射線像形成層１１が太陽光及び照明光に不慮の曝露をされ難くなる。
【0185】
セット用ガイド２００に投入されたイメージングプレート１０は、セット用ガイド２００内のプレートガイド面２１６及び支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の共同作用によって反転された状態で、ステージ６０上に支持される。ステージ６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上では、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが重力方向において下を向き、放射線像形成層１１が重力方向において上を向く。このため、ステージ６０は、主にイメージングプレート１０の自重によって当該イメージングプレート１０を支持することができる。
【0186】
読取装置２０における読取のための指示が入力されると、制御部１００（図３参照）によってステージ移動機構５０の駆動によってステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向けて移動する。
【0187】
移動途中で、位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａに対して接近し、位置決め部７２Ｂと位置決め部７２Ａとがイメージングプレート１０の両側縁部分を左右両側から挟込む状態となる。
【0188】
また、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動すると、位置決め部７２Ｄが位置決め部７２Ｃに対して接近する。これにより、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦがイメージングプレート１０の上下縁部分を上下から挟込む状態となる。
【0189】
これにより、ステージ６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上において、イメージングプレート１０が主走査方向Ａ１及び副走査方向Ａ２の両方向において位置決め保持される。
【0190】
また、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する途中で、揺動部材２４２の他端のローラ２４３ｑが開状態維持面２４８ｂ上から作動面２４８ａを経て降りる。これにより、シャッタ２４４は退避溝２２２ｂｇから出て閉位置に移動し、投入口２３０が閉じられた状態となる。ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動すると、投入口２３０が閉じられるので、誤って複数のイメージングプレート１０が投入口２３０に挿入されることが抑制される。
【0191】
ステージ６０が読取位置Ｐ２に移動することで、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の潜像が読取られる。
【0192】
読取ユニット９０による読取り終了後、ステージ６０はセット位置Ｐ１に戻る。その移動途中で、上記と逆の動作が行われ、ステージ６０におけるイメージングプレート１０の保持が解除される。また、シャッタ２４４が開位置に移動し、投入口２３０が開かれる。
【0193】
ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に向けて移動すると、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触し、位置決め部７２Ｃの位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に移動する（図８参照）。位置決め面７２ＣＦ上に支持されていたイメージングプレート１０が、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）から位置決め面７２ＣＦ上を通って滑り落ち、回収トレイ４９内に回収される。位置決め面７２ＣＦの退避位置の姿勢や退避のさせ方の設計によっては、イメージングプレート１０は、滑り落ちる過程で位置決め面７２ＣＦ上を通らず（接触せず）回収トレイ４９内に回収されてもよい。
【0194】
この後、ステージ６０が排出位置Ｐ３からセット位置Ｐ１に戻る。すると、位置決め面７２ＣＦが接触位置に戻るように、位置決め部７２Ｃが回転移動する。この状態で、上記したように、セット位置Ｐ１のステージ６０にイメージングプレート１０をセットすることができる。
【0195】
＜効果等＞
以上のように構成された放射線像の読取装置２０によると、イメージングプレート１０を読取装置２０にセットする際に、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難くなる。
以上のように構成された放射線像の読取装置２０によると、イメージングプレート１０を読取装置２０にセットする際に、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難くなる。
【0196】
すなわち、本読取装置２０周りでは、太陽光及び天井照明光等、上方からの光の強度が最も強いことが想定される。本読取装置２０によると、イメージングプレート１０は、放射線像形成面である表面１０ａを下向けにした状態で、筐体３０内のプレートガイド面２１６面上に載置され得るため、当該載置時に、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難い。イメージングプレート１０は、プレートガイド面２１６よって斜め下方に案内され、プレートガイド面２１６とは反対側に下向き傾斜する支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に受止められ、さらに、斜め下方に案内される。イメージングプレート１０が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）によって斜め下方に案内される際、上下反転接触部２１８がイメージングプレート１０に表面１０ａ側から接触して、イメージングプレート１０を支持面６４Ｆ（反対傾斜面）と同じ傾斜姿勢に反転させる。このため、イメージングプレート１０の表裏が上下反転し、放射線像形成面を上向きにした姿勢で、イメージングプレート１０がステージ６０によって支持される。これにより、イメージングプレート１０を放射線像の読取装置２０にセットする際に、イメージングプレート１０が外光に曝され難くなるとともに、イメージングプレート１０の放射線像形成面を必ず上向きにした姿勢でステージ６０上に支持できるので、円滑に読取りが開始される。
【0197】
また、ステージ６０の支持面６４Ｆが反対傾斜面であり、ステージ６０がイメージングプレート１０を下から受ける受面としての位置決め面７２ＣＦを含み、セット用ガイド２００が上下反転接触部２１８を含む。このため、ステージ６０の支持面６４Ｆを、反対傾斜面として利用して、イメージングプレート１０を反転させることができ、構成の簡易化が可能となる。
【0198】
また、上下反転接触部２１８がイメージングプレート１０側に設けられるので、反転させたいイメージングプレート１０に当接しながら確実に反転作用を及ぼすことができるとともに、ステージ６０上のイメージングプレート１０を読取る際に、上下反転接触部２１８が邪魔となり難い。
【0199】
また、ステージ６０、励起光源９２、光検出器９４、プレートガイド面２１６、上下反転接触部２１８及び支持面６４Ｆ（反対傾斜面）は、筐体３０によって覆われている。このため、筐体３０内で、イメージングプレート１０の反転及びステージ６０へのセットがなされる。このため、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難い。
【0200】
また、プレートガイド面２１６は、外向きに凸な湾曲面２１６ａを含む。このため、イメージングプレート１０がプレートガイド面２１６に面接触し難く、イメージングプレート１０がプレートガイド面２１６上で留まり難い。これにより、プレートガイド面２１６は、イメージングプレート１０をより確実にステージ６０に向けて案内できる。
【0201】
また、上下反転接触部２１８は、プレートガイド面２１６に対してイメージングプレート１０の案内方向下流側に連続している。このため、プレートガイド面２１６と上下反転接触部２１８との間で、イメージングプレート１０が引っ掛り難く、イメージングプレート１０がステージ６０に向けて円滑に案内される。また、重力方向に一定距離滑り落ちてくるイメージングプレート１０の落下の勢いを利用して、イメージングプレート１０をステージ６０に向けて円滑に案内できる。
【0202】
また、セット用ガイド２００は、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の傾斜方向において、下方に向うにつれて支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に近づく反対傾斜面用ガイド面２１７ｂを含む。このため、イメージングプレート１０、特に、イメージングプレート１０の下端部が、反対傾斜面用ガイド面２１７ｂによってより確実に支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に向けて案内される。
【0203】
また、反対傾斜面用ガイド面２１７ｂは、上下反転接触部２１８に対して位置決め面７２ＣＦ（受面）側で連続している。このため、イメージングプレート１０が上下反転接触部２１８と反対傾斜面用ガイド面２１７ｂとの間で引っ掛り難い。
【0204】
また、セット用ガイド２００は、プレートガイド面２１６の上端に対してイメージングプレート１０の厚みに応じた距離離れて位置する上挿入ガイド２２２を含む。このため、イメージングプレート１０がプレートガイド面２１６のうち上端と上挿入ガイド２２２との間に挿入されることによって、イメージングプレート１０の裏面１０ｂをプレートガイド面２１６上に沿わせるようにイメージングプレート１０をプレートガイド面２１６上にセットし易い。
【0205】
また、セット用ガイド２００は、支持部材４０に対して着脱可能に取付けられる。セット用ガイド２００の少なくとも一部を取外すことで、当該セット用ガイド２００の清掃、滅菌処理を容易に行える。また、イメージングプレート１０の詰り等の不具合が生じても、セット用ガイド２００を取外すことで、当該不具合を解消し易い。セット用ガイド２００は、例えば、筐体３０を取外した状態で、支持部材４０から取外されてもよい。
【0206】
また、セット用ガイド２００は、投入口２３０を開閉可能に閉じるシャッタ２４４を含む。このため、イメージングプレート１０を挿入可能なタイミングを規制することができる。例えば、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態でシャッタ２４４が開き、セット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する途中でシャッタ２４４が閉じる。これにより、イメージングプレート１０を読取り中に、シャッタ２４４が追加投入されることが抑制される。また、シャッタ２４４が閉じている間は、投入口２３０から入り込む可能性のある微量な外光をシャットアウトできるので、イメージングプレート１０の画像読取りにおいて外光の入射がより高度に管理された環境を実現できる。
【0207】
また、セット用ガイド２００は、イメージングプレート１０の長手方向を、プレートガイド面２１６におけるイメージングプレート１０の移動方向に沿わせた姿勢で、イメージングプレート１０を案内し、ステージ６０は、イメージングプレート１０の長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持する。このため、イメージングプレート１０の短手方向を水平方向に沿わせる場合と比較して、上下反転接触部２１８によるイメージングプレート１０を大きく傾けやすい。換言すれば、上下反転接触部２１８によってイメージングプレート１０を傾けた場合に、イメージングプレート１０の下端に対するイメージングプレート１０の重心の位置ずれを大きくできる。このため、イメージングプレート１０がより確実に反転し易い。
【0208】
また、セット用ガイド２００は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対向するため、セット用ガイド２００を励起光源９２及び光検出器９４と干渉させずに配置し易い。
【0209】
｛変形例｝
上記実施形態では、プレートガイド面２１６は、幅方向（副走査方向Ａ２）に沿って同じ高さの部分が連続する面であることを想定した説明がなされた。つまり、上記プレートガイド面２１６を、その幅方向（副走査方向Ａ２）に沿いかつ当該プレートガイド面２１６に交差する断面で観察すると、プレートガイド面２１６は直線で表現される。
上記実施形態では、プレートガイド面２１６は、幅方向（副走査方向Ａ２）に沿って同じ高さの部分が連続する面であることを想定した説明がなされた。つまり、上記プレートガイド面２１６を、その幅方向（副走査方向Ａ２）に沿いかつ当該プレートガイド面２１６に交差する断面で観察すると、プレートガイド面２１６は直線で表現される。
【0210】
図１３に示す第１変形例に係るプレートガイド面４１６Ａ又は図１４に示す第２変形例に係るプレートガイド面４１６Ｂのように、プレートガイド面４１６Ａ、４１６Ｂは、その幅方向において凹凸をなす面であってもよい。
【0211】
プレートガイド面４１６Ａでは、複数の溝４１６Ａｇが並列するように形成されている。各溝４１６Ａｇは、プレートガイド面４１６Ａによるイメージングプレート１０の案内方向に沿って延びる溝である。溝４１６Ａｇは、底が曲面をなし、入口も曲面をなしている。このため、プレートガイド面４１６Ａの幅方向（副走査方向Ａ２）に沿いかつ当該プレートガイド面４１６Ａに交差する断面では、プレートガイド面４１６Ａは、曲線の波（例えば、サイン曲線）で表現される。
【0212】
プレートガイド面４１６Ｂでは、複数の溝４１６Ｂｇが並列するように形成されている。各溝４１６Ｂｇは、プレートガイド面４１６Ｂによるイメージングプレート１０の案内方向に沿って延びる溝である。溝４１６Ｂｇは、底が角をなすＶ字溝である。隣合う溝４１６Ｂｇ間の壁は、頂部が角をなす三角突条に形成されている。このため、プレートガイド面４１６Ｂの幅方向（副走査方向Ａ２）に沿いかつ当該プレートガイド面４１６Ｂに交差する断面では、プレートガイド面４１６Ｂは、三角波が連続する形状で表現される。
【0213】
これらのプレートガイド面４１６Ａ、４１６Ｂによると、プレートガイド面４１６Ａ、４１６Ｂとイメージングプレート１０とが面接触し難くなるため、イメージングプレート１０がプレートガイド面４１６Ａ、４１６Ｂに張り付きにくい。このため、イメージングプレート１０がプレートガイド面４１６Ａ、４１６Ｂによって円滑に案内される。
【0214】
また、イメージングプレート１０がステージ６０に向けて滑り落ちる際に、イメージングプレート１０が各溝４１６Ａｇ、４１６Ｂｇによる凹凸に引っ掛り難い。イメージングプレート１０が横ずれしようとすると、イメージングプレート１０が各溝４１６Ａｇ、４１６Ｂｇによる凹凸に引っ掛り得るため、イメージングプレート１０の横ずれが抑制される。複数の溝４１６Ａｇ、４１６Ｂｇの凹凸間の落差は、イメージングプレート１０の厚みより小さい設計であることが、当該凹凸にイメージングプレート１０が詰まる可能性を低減するので望ましい。
【0215】
図１５に示す第３変形例に係るセット用ガイド５００Ａのように、プレートガイド面２１６に対応するプレートガイド面５１６Ａは、複数の平面５１６Ａｆ１、５１６Ａｆ２の組合せによって構成されてもよい。ここでは、平面５１６Ａｆ１が投入口２３０からステージ６０に向って下向き傾斜しており、当該平面５１６Ａｆ１の下縁に平面５１６Ａｆ２が角をなして繋がっている。平面５１６Ａｆ２は、平面５１６Ａｆ１よりも大きく傾いている。
【0216】
平面５１６Ａｆ２の下縁に上下反転接触部２１８に対応する上下反転接触部５１８Ａが位置している。
【0217】
上下反転接触部５１８Ａの下側に反対傾斜面用ガイド面２１７ｂに対応する反対傾斜面用ガイド面５１７Ａｂが連なっている。本変形例では、反対傾斜面用ガイド面５１７Ａｂは平面であり、下方に向うに連れて徐々にステージ６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に向って近づく姿勢とされている。
【0218】
本変形例によっても、イメージングプレート１０が平面５１６Ａｆ１、５１６Ａｆ２によってステージ６０に向けて案内される。イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に接して下方に滑り落ちると、イメージングプレート１０の中間部が上下反転接触部５１８Ａに接触して、イメージングプレート１０が反転する。そして、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に接した状態で、イメージングプレート１０がステージ６０上に支持される。
【0219】
プレートガイド面は、３つ以上の平面の組合せによって構成されてもよい。
【0220】
図１６に示す第４変形例に係るセット用ガイド５００Ｂのように、プレートガイド面２１６に対応するプレートガイド面５１６Ｂは、１つの平面であってもよい。ここでは、平面であるプレートガイド面５１６Ｂが投入口２３０からステージ６０に向って下向き傾斜している。
【0221】
プレートガイド面５１６Ｂの下縁に上下反転接触部２１８に対応する上下反転接触部５１８Ｂｂが位置している。
【0222】
上下反転接触部５１８Ｂｂの下側に反対傾斜面用ガイド面２１７ｂに対応する反対傾斜面用ガイド面５１７Ｂｂが連なっている。本変形例では、反対傾斜面用ガイド面５１７Ｂは平面であり、下方に向うに連れて徐々にステージ６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に向って近づく姿勢とされている。
【0223】
本変形例によっても、イメージングプレート１０がプレートガイド面５１６Ｂによってステージ６０に向けて案内される。イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に接して下方に滑り落ちると、イメージングプレート１０の中間部が上下反転接触部５１８Ｂｂに接触して、イメージングプレート１０が反転する。そして、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが支持面６４Ｆ（反対傾斜面）に接した状態で、イメージングプレート１０がステージ６０上に支持される。
【0224】
図１７に示す第５変形例に係るセット用ガイド５００Ｃのように、プレートガイド面２１６に対応するプレートガイド面５１６Ｃは、１つの平面であってもよい。ここでは、平面であるプレートガイド面５１６Ｃが投入口２３０からステージ６０に向って下向き傾斜している。
【0225】
本変形例では、プレートガイド面５１６Ｃは、板５１５の上向きの面である。プレートガイド面５１６Ｃの下縁、即ち、板５１５の下縁に、上下反転接触部２１８に対応する上下反転接触部５１８Ｃｂが位置している。
【0226】
本変形例では、反対傾斜面用ガイド面は省略されている。
【0227】
本変形例でも、イメージングプレート１０は、第４変形例と同様に、プレートガイド面５１６Ｃからステージ６０に向けて案内され、反転して、ステージ６０上に保持される。
【0228】
これらの変形例に示されるように、プレートガイド面５１６Ａ、５１６Ｂ、５１６Ｃは、複数の平面５１６Ａｆ１、５１６Ａｆ２又は１つの平面５１６Ｂ、５１６Ｃであってもよい。この場合、曲面加工する場合と比較し、当該プレートガイド面５１６Ａ、５１６Ｂ、５１６Ｃを容易に加工できる。
【0229】
プレートガイド面に案内方向に沿って溝が形成されている場合を考慮すると、イメージングプレートの案内方向に直交する水平方向に沿って見て、プレートガイド面が１つの直線又は複数の直線の組合せ形状を呈していれば、それらの加工を容易に行える。
【0230】
上下反転接触部５１８Ａ、５１８Ｂｂ、５１８Ｃｂが直線部分であったり、平面であったりしても、その加工を容易に行える。また、反対傾斜面用ガイド面５１７Ａｂ、５１７Ｂが平面であれば、その加工を容易に行えると把握し得る。
【0231】
上記と同様に、イメージングプレートの案内方向に直交する水平方向に沿って見て、上下反転接触部が点又は直線形状を呈していたり、反対傾斜面用ガイド面が直線形状を呈していたりすれれば、それらの加工を容易に行えると把握し得る。
【0232】
なお、プレートガイド面は、下向き傾斜する面であればよい。プレートガイド面は、曲面だけ、平面だけ、曲面と平面との組合せ、平面と平面との組合せ等であってもよい。
【0233】
上記実施形態では、ステージ６０の支持面６４Ｆが反対傾斜面である例が説明された。反対傾斜面が支持面６４Ｆであることは必須ではなく、また、セット用ガイドが反対傾斜面を有していてもよい。
【0234】
図１８に示す第６変形例に係るセット用ガイド６００は、下向き傾斜するプレートガイド面６１６を有する。プレートガイド面６１６から下向きに上下反転接触部６１８が延出している。
【0235】
上下反転接触部６１８に対して間隔をあけて対向ガイド面６２０が位置している。対向ガイド面６２０は上下反転接触部６１８に対して平行である。
【0236】
対向ガイド面６２０の下端に反対傾斜面６３０が連なっている。反対傾斜面６３０は、プレートガイド面６１６に対して反対側に下向き傾斜している。
【0237】
反対傾斜面６３０の延長上の下方にステージ６０に対応するステージ６６０が位置する。ステージ６６０は水平方向に沿う支持面６６４Ｆを有している。ステージ６６０は、セット位置Ｐ１から水平方向に沿って移動して読取位置Ｐ２に向う。
【0238】
プレートガイド面６１６によって案内されたイメージングプレート１０は、重力によって下方に落ちて反対傾斜面６３０に受けられる。イメージングプレート１０は、反対傾斜面６３０によって斜め下方に案内され、上記ステージ６６０上に向う。
【0239】
イメージングプレート１０が反対傾斜面６３０によって斜め下方に案内される際に、イメージングプレート１０の下端が、上下反転接触部６１８の下方延長線Ｌ３上を越える。このため、仮にイメージングプレート１０が、プレートガイド面６１６と傾き方向と同じ傾き方向で、反対傾斜面６３０上に落下したとしても、イメージングプレート１０の下端よりも上側の部分が上下反転接触部６１８によって位置規制された状態で、イメージングプレート１０の下端が当該上下反転接触部６１８の下方延長線Ｌ３を越え、これにより、イメージングプレート１０の傾きが逆となるように反転される。イメージングプレート１０は、反転された状態で、反対傾斜面６３０上からステージ６６０上に滑り落ちる。
【0240】
このように、セット用ガイド６００が反対傾斜面６３０を有していても、イメージングプレート１０を反転させてステージ６６０にセットすることができる。
【0241】
上記変形例において、平面状の上下反転接触部６１８が省略され、プレートガイド面６１６の下端に線状の上下反転接触部が位置していてもよい。この場合、対向ガイド面６２０が省略され、プレートガイド面６１６と反対傾斜面６３０との距離が近付けられ、プレートガイド面６１６によって案内されるイメージングプレート１０が直接反対傾斜面６３０上に滑り落ちるようにしてもよい。
【0242】
本変形例のように、セット用ガイド６００が反対傾斜面６３０と上下反転接触部６１８とを含むと、ステージ６６０に反対傾斜面、上下反転接触部を設けなくてもよい。これにより、ステージ６６０を傾斜させる必要がなくなり、ステージ６６０の設計等に対する制約を少なくできる。また、特許文献１のような従来の横型タイプの読取装置にも用いることができる。
【0243】
反対傾斜面がステージ側に設けられる場合、反対傾斜面は支持面６６４Ｆであってもよいし（実施形態の例参照）、当該支持面６６４Ｆとは別に存在していてもよい。この場合、ステージ６０と共に移動する部材の面によって構成される反対傾斜面が、プレートガイド面から滑り落ちるイメージングプレート１０を受止めることができ、かつ、イメージングプレート１０を支持面６６４Ｆに向けて案内可能な位置に設けられればよい。
【0244】
図１９に示す第７変形例に係るステージ７６０のように、当該ステージ７６０が上下反転接触部７１８を有していてもよい。
【0245】
本変形例では、プレートガイド面７１６は、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）から離れている。イメージングプレート１０の下端がプレートガイド面７１６から支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上に達した状態で、イメージングプレート１０は、プレートガイド面７１６から離れる。イメージングプレート１０の下側において上下反転接触部が省略されている。このため、セット用ガイド７００側において上下反転接触部が省略されている。
【0246】
本変形例では、ステージ７６０の支持面６４Ｆ（反対傾斜面）の上方に、当該支持面６４Ｆから離れ、かつ、副走査方向Ａ２に沿って延びる上下反転接触部７１８が位置する。上下反転接触部７１８は、ステージ７６０に突設された支持柱７１９等によって、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）から離れた位置に支持される。上下反転接触部７１８は、受面である位置決め面７２ＣＦよりも上に位置する。
【0247】
この場合、イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上に達し、当該支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上を滑り落ちていく際に、イメージングプレート１０のうち下端よりも上側の部分が上下反転接触部７１８に接して、反転される。イメージングプレート１０は、反転した状態で、支持面６４Ｆ（反対傾斜面）上をさらに滑り落ちて、位置決め面７２ＣＦに達し、ステージ７６０上に支持される。
【0248】
なお、読取ユニット９０がイメージングプレート１０を読取る際には、上下反転接触部７１８を避けてステージ７６０から離れた位置で読取ユニット９０がイメージングプレート１０を読取ってもよいし、画像処理の工程において読取られた上下反転接触部７１８のデータを演算処理（編集や消去）してもよいし、ステージ７６０が読取位置Ｐ２に移動する途中でカム機構又は別の駆動機構等によって上下反転接触部７１８を退避移動させる構成としてもよい。
【0249】
｛第２実施形態｝
第２実施形態に係る放射線像の読取装置７２０について説明する。図２０は読取装置７２０を示す部分斜視図である。図２１は同読取装置７２０を示す部分側面図である。図２０及び図２１において、読取装置７２０のうちセット用ガイド８００が組込まれた部分が示される。図２２は本実施形態に係るセット用ガイド８００を示す分解斜視図である。
第２実施形態に係る放射線像の読取装置７２０について説明する。図２０は読取装置７２０を示す部分斜視図である。図２１は同読取装置７２０を示す部分側面図である。図２０及び図２１において、読取装置７２０のうちセット用ガイド８００が組込まれた部分が示される。図２２は本実施形態に係るセット用ガイド８００を示す分解斜視図である。
【0250】
この読取装置７２０と第１実施形態に係る読取装置２０との主な相違点は、セット用ガイド２００に対応するセット用ガイド８００に係る構成である。当該相違点に係るセット用ガイド８００が中心に説明される。
【0251】
セット用ガイド８００は、ガイド本体８１０と、ガイド支持部８３０と、蓋部８５０とを備える。
【0252】
ガイド支持部８３０が筐体３０に対応する筐体８８０内において一定位置に支持されている。ガイド本体８１０は、プレートガイド面２１６に対応するプレートガイド面８１６を備える部分である。ガイド支持部８３０によって、ガイド本体８１０が着脱可能に支持される。ガイド本体８１０がガイド支持部８３０によって支持された状態で、ガイド本体８１０がセット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対向する位置に配置される。この状態で、ガイド本体８１０のプレートガイド面８１６が、外部から投入されるイメージングプレート１０を反転させつつステージ６０に向けて案内することができる。ガイド本体８１０がガイド支持部８３０から取外されると、プレートガイド面８１６が外部に露出することができる。
【0253】
蓋部８５０は、ガイド本体８１０のうち筐体８８０の外向き部分を外側から覆う。蓋部８５０によって、ガイド支持部８３０とガイド本体８１０との合せ目等が外側から隠され、かつ、外光が装置７２０内に進入し難くなる。蓋部８５０が省略されてもよい。蓋部８５０は、ガイド本体８１０と一体化されてもよい。
【0254】
セット用ガイド８００の各部についてより具体的に説明する。
【0255】
ガイド支持部８３０は、一対の基部８３２と、一対の側壁部８３４と、中間連結部８３８とを備える。本実施形態では、ガイド支持部８３０は、幅方向において２分割された樹脂部品によって構成されている。ガイド支持部８３０の全体が樹脂等によって一体成形されていてもよい。
【0256】
一対の基部８３２のそれぞれは細長い部分であり、間隔をあけて平行に並んでいる。一対の基部８３２が筐体８８０内の一定位置に支持される。例えば、一対の基部８３２が、一対の支持ロッド４８にネジ止等によって固定される（図９参照）。
【0257】
一対の側壁部８３４が一対の基部８３２に対して立設状態で支持される。一対の側壁部８３４間の空間は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０の前方に広がっている。当該空間にガイド本体８１０が配置されることで、当該ガイド本体８１０がセット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対向することができる。
【0258】
本実施形態では、一対の側壁部８３４のうち上側部分の間隔は、下側部分の間隔よりも大きい。なお、一対の基部８３２は接着等により、筐体８８０内に支持される前に、予め一体的に接合されていてもよい。同様に、一対の側壁部８３４は接着等により、予め一体的に接合されていてもよい。同様に、一対の基部８３２の一方と一対の側壁部８３４の一方とは接着等により、予め一体的に接合されていてもよい。
【0259】
一対の側壁部８３４の内面に、スライド保持溝８３４ｇが形成されている。本実施形態では、スライド保持溝８３４ｇは、一対の側壁部８３４のうち上側部分において、後述する回収トレイ７８０に向って延びている。より具体的には、スライド保持溝８３４ｇは、主走査方向Ａ１に沿って延びる有底溝である。スライド保持溝８３４ｇのうち回収トレイ７８０側の下側端は開口している。スライド保持溝８３４ｇのうち回収トレイ７８０とは反対側の上側端は開口しない閉鎖端とされている。スライド保持溝８３４ｇは、直線状に延びていてもよいし、途中で曲っていてもよい。例えば、スライド保持溝８３４ｇの途中がクランク状に曲っており、一対のスライド保持用突部８１４ｐがスライド保持溝８３４ｇの途中に引っ掛る構成とされてもよい。これにより、ガイド本体部８１０とガイド支持部８３０とが容易に分離し難くなる。
【0260】
一対の側壁部８３４の先端部の上寄り部分に、一対の蓋支持部８３５が設けられている。蓋支持部８３５の外向き面は、筐体８８０の外向き面よりも内側に位置している。蓋支持部８３５の外向き面は、筐体８８０の外向き面と平行な方向に沿っている。
【0261】
蓋支持部８３５に蓋部８５０の取付突部８５４が嵌る凹部８３５ａが形成されている。
【0262】
一対の蓋支持部８３５の下方は、筐体８８０の外向きに開放される空間である。この空間に、蓋部８５０の爪部８５６が配置される。
【0263】
中間連結部８３８は、一対の側壁部８３４を結ぶ方向に延びる細長い部分である。中間連結部８３８は、上挿入ガイド面２２２ａと同様に、プレートガイド面８１６のうち上側の端部に対してイメージングプレート１０の厚みに応じた距離離れて位置する面を有する。プレートガイド面８１６のうち上側の端縁と中間連結部８３８とによって、挿入口８３９が形成される。
【0264】
なお、ガイド支持部８３０は筐体８８０内において一定位置に支持されればよく、その支持のための構成は上記例に限られない。例えば、ガイド支持部８３０が筐体８８０に直接固定されていてもよい。
【0265】
図２３はガイド本体８１０をプレートガイド面８１６側から見た斜視図である。図２０から図２３に示すように、ガイド本体８１０は、プレートガイド面１６に対応するプレートガイド面８１６を有する部材である。ガイド本体８１０は、例えば、樹脂等によって形成される。
【0266】
より具体的は、ガイド本体８１０は、ベース板部８１１と、中間基部８１２と、ガイド面形成部８１４とを備える。
【0267】
ガイド面形成部８１４は、上記一対の側壁部８３４のうち幅狭な上寄り部分間に配置可能な大きさに設定されている。中間基部８１２は、上記一対の側壁部８３４のうち幅広な下寄り部分間に配置可能な大きさに設定されている。中間基部８１２の上側にガイド面形成部８１４が位置している。
【0268】
そして、ガイド面形成部８１４及び中間基部８１２が、一対の側壁部８３４間の空間に配置される。この状態で、一対の側壁部８３４の内面がガイド面形成部８１４及び中間基部８１２の外向き側面に接触して、ガイド本体８１０が幅方向（副走査方向Ａ２）に位置決めされる。
【0269】
また、中間基部８１２のうちガイド面形成部８１４より外方に突出する両側突出部分８１５が、一対の側壁部８３４の上下方向中間に位置する下向き段部に接触し、ガイド本体８１０の上方向への位置規制がなされる。
【0270】
ガイド面形成部８１４のうち上向き部分からセット位置Ｐ１におけるステージ６０に対向する部分にわたってプレートガイド面８１６が形成されている。プレートガイド面８１６は、第１実施形態におけるプレートガイド面１６と同様構成である。
【0271】
ガイド面形成部８１４の両側面に、主走査方向Ａ１に沿って延びる一対のスライド保持用突部８１４ｐが形成されている。一対のスライド保持用突部８１４ｐが、主走査方向Ａ１に沿って下側からスライド保持溝８３４ｇに嵌め込まれる。つまり、ガイド本体８１０は、ガイド支持部８３０に対して下側からセットされる。
【0272】
ガイド本体８１０がガイド支持部８３０にセットされた状態で、一対のスライド保持用突部８１４ｐがスライド保持溝８３４ｇに嵌め込まれているため、ステージ６０の支持面６４Ｆに直交する方向（主走査方向Ａ１及び副走査方向Ａ２に直交する方向）において、ガイド本体８１０が一定位置に位置決めされる。
【0273】
ガイド面形成部８１４のうちプレートガイド面８１６とは反対側は開口しているが、これは必須ではない。
【0274】
中間基部８１２の一対の両側突出部分８１５に、一対の蓋保持用突部８１５ｐが突出している。蓋保持用突部８１５ｐは、両側突出部分８１５のうち蓋部８５０寄りの上端から上方に向って突出している。蓋保持用突部８１５ｐは、蓋支持部８３５の下縁に対して間隔をあけた位置に配置される。そして、蓋部８５０の爪部８５６が、蓋支持部８３５の下縁と蓋保持用突部８１５ｐとの間に入り込み、蓋保持用突部８１５ｐに引っ掛ることができる。
【0275】
ベース板部８１１は、中間基部８１２の下縁から外方に向って突出する板状部分である。ベース板部８１１が一対の側壁部８３４の下面に接触することで、ガイド支持部８３０に対するガイド本体８１０の上方位置がより確実に規制される。また、回収トレイ７８０が筐体８８０にセットされた状態で、回収トレイ７８０の上面がベース板部８１１の下面に接触する。これにより、ガイド本体８１０の下方への脱落が抑制される。ベース板部８１１は１つの部品であってもよいし、複数部品が組合わされた部品であってもよい。
【0276】
また、本実施形態では、プレートガイド面８１６にスリット８１６Ｓが形成されている。スリット８１６Ｓは、プレートガイド面８１６によるイメージングプレート１０の案内経路の途中に位置している。本実施形態では、スリット８１６Ｓは、プレートガイド面８１６のうち入口近くに位置している。スリット８１６Ｓは、プレートガイド面８１６の表面から裏面に向って貫通するスリットである。スリット８１６Ｓは、プレートガイド面８１６によるイメージングプレート１０の案内方向Ｆに対して直交している。
【0277】
スリット８１６Ｓは、プレートガイド面８１６側に開口し反対側に開口しない有底溝形状であってもよい。スリット８１６Ｓは、前記案内方向Ｆに沿っていてもよいし、前記案内方向Ｆに対して斜めであってもよい。
【0278】
プレートガイド面８１６の途中にスリット８１６Ｓが存在することによって、プレートガイド面８１６の入口部分に液体が浸入したとしても、当該液体はスリット８１６Ｓ内に入る。このため、イメージングプレート１０の案内方向に沿った液体の流れが抑制され、液体はプレートガイド面８１６を伝って読取装置７２０内に進入し難い。スリット８１６Ｓがプレートガイド面８１６の表面から裏面に向って貫通していれば、スリット８１６Ｓ上の液体はスリット８１６Ｓを通ってプレートガイド面８１６から離れた箇所に案内される。このため、液体が読取装置７２０内により進入し難い。後述のように、ガイド本体８１０を取外し、プレートガイド面８１６を滅菌、清掃する場合にも、スリット８１６Ｓがプレートガイド面８１６の表面から裏面に向って貫通していれば、液体等がより残留しにくいので好ましい。
【0279】
【0280】
蓋本体８５２は、板状に形成されている。筐体８８０にガイド本体８１０及びガイド支持部８３０を露出させる開口８８２ｈが形成されている。蓋本体８５２は、当該開口８８２ｈを塞ぐ大きさの板状に形成されている。
【0281】
蓋本体８５２は、蓋側挿入口８５３が形成されている。蓋側挿入口８５３は、イメージングプレート１０を挿入可能なスリット状に形成されている。蓋本体８５２が上記開口８８２ｈ内に配置された状態で、蓋側挿入口８５３が挿入口８３９に対向する位置に配置される。
【0282】
蓋本体８５２のうち筐体８８０の内側を向く面に、取付突部８５４と爪部８５６とが突設される。
【0283】
取付突部８５４は、凹部８３５ａに対向する位置に形成されている。取付突部８５４は、凹部８３５ａに挿入可能な突形状、ここでは、円柱状に形成されている。取付突部８５４の先端部に環状溝が形成され、当該環状溝にＯリング等の環状弾性部材８５４ａが装着されている。取付突部８５４が上記凹部８３５ａに嵌め込まれる。この状態で、環状弾性部材８５４ａが凹部８３５ａに筐体８８０の内側から引っ掛り、凹部８３５ａからの取付突部８５４の抜けを抑制する。環状弾性部材８５４ａを弾性変形させる程度の大きい力を加えれば、取付突部８５４を凹部８３５ａから抜くことができる。
【0284】
爪部８５６は、蓋支持部８３５と蓋保持用突部８１５ｐとの間に対向する位置に形成されている。爪部８５６は、蓋本体８５２から突出する方向に延びる部分と当該部分の先端部から下側に向う部分とを含むフック状に形成されている。この爪部８５６が蓋支持部８３５の下縁と蓋保持用突部８１５ｐとの間に挿入されて、蓋保持用突部８１５ｐに上方から引っ掛ることができる。
【0285】
本実施形態では、蓋本体８５２にガイド突部８５７が突設されており、蓋本体８５２に装着時に、当該ガイド突部８５７がガイド支持部８３０に形成されたガイド凹部８３６ａにガイド挿入される。
【0286】
回収トレイ７８０は、上記セット用ガイド８００及びセット位置Ｐ１のステージ６０の下方に位置する。より具体的には、筐体８８０のうちセット用ガイド８００及びセット位置Ｐ１のステージ６０の下方に、回収トレイ７８０を収容可能な空間８８２（図２０、図２１参照）が形成される。空間８８２には、回収トレイ７８０の一部を嵌込可能なトレイセット部８８３が配置される。
【0287】
回収トレイ７８０は、トレイ本体７８２と、セット突部７８６とを含む。
【0288】
トレイ本体７８２は、筐体８８０の前方、即ち、蓋側挿入口８５３と同じ側に開口する方形トレイ状に形成されている。トレイ本体７８２のうちの上壁部７８３の上面は、上記ベース板部８１１に沿って延びる平面に形成されている。当該上壁部７８３のうち筐体８８０の内側部分は、セット位置Ｐ１のステージ６０の下方に位置している。上壁部７８３のうちセット位置Ｐ１のステージ６０の下方延長上にスリット状のイメージングプレート通過口７８３ｈが形成されている。
【0289】
トレイ本体７８２内の最下面７８４ａは水平方向に沿っており、トレイ本体７８２内の奥側面は、イメージングプレート通過口７８３ｈから斜め下方向に延びる傾斜面７８４ｂである。イメージングプレート通過口７８３ｈを通過したイメージングプレート１０は、傾斜面７８４ｂを滑って最下面７８４ａ上に受止められる。最下面７８４ａ上には、ゴム等、トレイ本体７８２よりも柔軟なシートが敷設されてもよい。この場合、イメージングプレート１０の落下衝撃をシートによって受止めることができる。また、シートが滑り難いゴム等のシートであれば、イメージングプレート１０がトレイ本体７８２内から滑り出難い。
【0290】
傾斜面７８４ｂに水平方向に延びる凹溝７８４ｂｇ（図２０参照）が形成されている。利用者は、指先を凹溝７８４ｂｇ内に差込むことで、傾斜面７８４ｂにもたれかかるように支持されるイメージングプレート１０を容易に取出すことができる。
【0291】
セット突部７８６は、トレイ本体７８２から筐体８８０内に向けて延びる形状に形成されている。回収トレイ７８０が筐体８８０の上記空間８８２内に配置された状態で、当該セット突部７８６が上記トレイセット部８８３に形成されたセット凹部に嵌り込む。これにより、回収トレイ７８０が空間８８２内の一定位置に保持される。
【0292】
本実施形態において、セット用ガイド８００の少なくとも一部が着脱可能であり、セット用ガイド８００の当該少なくとも一部が取外された状態で、プレートガイド面８１６の少なくとも一部が露出する状態となる。
【0293】
本実施形態では、読取装置７２０の使用状態では、ガイド本体８１０は、一対の側壁部８３４間に位置する状態で、ガイド支持部８３０にセットされている。この状態で、一対のスライド保持用突部８１４ｐがスライド保持溝８３４ｇに嵌り込んでいる。
【0294】
また、取付突部８５４が凹部８３５ａに挿入されると共に、爪部８５６が蓋保持用突部８１５ｐに引っ掛った状態で、蓋部８５０がガイド支持部８３０に装着されている。
【0295】
さらに、回収トレイ７８０がガイド本体８１０の下方の空間８８２にセットされている。この状態で、回収トレイ７８０の上壁部７８３の上面がガイド本体８１０のベース板部８１１の下面の少なくとも一部に接触している。このため、ガイド本体８１０の下方への抜けが抑制されている。
【0296】
上記状態では、プレートガイド面８１６が、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対向する位置に配置される。このため、イメージングプレート１０を、蓋側挿入口８５３及び挿入口８３９に挿入すると、当該イメージングプレート１０はプレートガイド面８１６によってステージ６０に向けて案内される。この際、第１実施形態で説明したように、イメージングプレート１０が反転される。これにより、ステージ６０にイメージングプレート１０がセットされる。
【0297】
イメージングプレート１０の読取り終了後、第１実施形態で説明したように、下側の位置決め部７２Ｃが退避位置に移動する。すると、ステージ６０上のイメージングプレート１０が滑り落ちる。イメージングプレート１０は、イメージングプレート通過口７８３ｈを通って、回収トレイ７８０内に向う。回収トレイ７８０において、イメージングプレート１０は、傾斜面７８４ｂ上を滑って最下面７８４ａに達する。この状態で、イメージングプレート１０は、最下面７８４ａによって下から支えられ、かつ、傾斜面７８４ｂにもたれかかった状態となる。
【0298】
例えば、プレートガイド面８１６を滅菌、清掃したい場合、或いは、プレートガイド面８１６上でイメージングプレート１０が詰った場合には、次のようにしてプレートガイド面８１６を外部に露出させることができる。
【0299】
まず、回収トレイ７８０を筐体８８０外に引抜く（図２４参照）。次に、蓋部８５０を筐体８８０から外す。この際、蓋部８５０の上側の取付突部８５４を凹部８３５ａから抜く方向に移動させた後、蓋部８５０を上方に移動させると、爪部８５６と蓋保持用突部８１５ｐとの引っ掛りを解除することができる。回収トレイ７８０と蓋部８５０との取外しはいずれが先になされてもよい。
【0300】
回収トレイ７８０が取外されることで、ガイド本体８１０は、空間８８２内に向けて下方に移動可能な状態となる。また、蓋部８５０が取外されることで、利用者は、ガイド本体８１０の前方から当該ガイド本体８１０に触れることができるようになる。
【0301】
利用者は、ガイド本体８１０の前部に触れて当該ガイド本体８１０を下方に押下げることができる。すると、スライド保持用突部８１４ｐがスライド保持溝８３４ｇ内を移動しつつ、ガイド本体８１０が空間８８２内向って下方に移動する。スライド保持用突部８１４ｐがスライド保持溝８３４ｇを抜出ると、ガイド本体８１０を筐体８８０から前方に取外すことができるようになる。
【0302】
ガイド本体８１０が筐体８８０から取外されると、プレートガイド面８１６が外部に露出できるようになる。なお、プレートガイド面８１６の少なくとも一部が外部に露出するとは、利用者の指が当該プレートガイド面８１６に触れることができるようになること把握されてもよい。これにより、プレートガイド面８１６を露出させることでき、または、プレートガイド面８１６上に広がる空間に外部からアクセスできるようになり、詰ったイメージングプレート１０を除去することができる。
【0303】
上記と逆にすることで、ガイド本体８１０、蓋部８５０及び回収トレイ７８０を筐体８８０にセットされる。
【0304】
本実施形態によると、プレートガイド面８１６によるイメージングプレート１０のガイド動作によって、第１実施形態と同様に、イメージングプレート１０を放射線像の読取装置７２０にセットする際に、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難くすることができる。
【0305】
また、本実施形態によると、プレートガイド面８１６の少なくとも一部を外部に露出させるように、セット用ガイド８００の少なくとも一部が着脱可能とされている。このため、イメージングプレート１０の詰り等の不具合が生じても、セット用ガイド８００の少なくとも一部、ここでは、ガイド本体８１０を取外すことで、当該不具合を解消し易い。また、プレートガイド面８１６等の清掃、滅菌処理を容易に行える。
【0306】
特に、ガイド本体８１０の着脱は、回収トレイ７８０の移動による当該回収トレイ７８０の着脱、及び、蓋部８５０の移動による当該蓋部８５０の着脱によって行われる。このため、工具等を利用せずに、ガイド本体８１０を容易に着脱できる。
【0307】
なお、セット用ガイド８００の少なくとも一部を着脱可能に支持する構成は上記例に限られない。ガイド本体にバネ等の弾性部材を利用した係止部材が設けられ、当該係止部材がガイド支持部に着脱可能に係止する構成であってもよい。また、ガイド本体がねじ等によって着脱可能にガイド支持部に取付けられる構成であってもよい。また、セット用ガイドの全体が筐体に対して着脱可能であってもよい。つまり、装置７２０の不可逆的な破損を伴うことなく、セット用ガイドの少なくとも一部を所定の案内位置から取外し、かつ、元の案内位置に戻すことができれば、セット用ガイドの少なくとも一部は着脱可能であるといえる。
【0308】
また、プレートガイド面８１６の途中にスリット８１６Ｓが形成されている。当該スリット８１６Ｓによって読取装置７２０内への液体の浸入が抑制される。例えば、本発明の放射線像の読取装置は、病院やクリニック等医療機関の院内で使用される他、在宅診療の際に個人宅や施設等の訪問場所に持参し使用することも想定される。その際、飲料又は生活用水等の液体が読取装置７２０にかかってしまい、当該液体が蓋側挿入口８５３、挿入口８３９を通ってプレートガイド面８１６に達する可能性がある（もちろん、院内でも、飲料や清掃用の液体など、前述のような可能性は想定され得る）。当該液体は、スリット８１６Ｓ内に入るため、液体がプレートガイド面８１６を伝って読取装置７２０の奥深くに浸入し難い。
【0309】
プレートガイド面には複数のスリットが形成されてもよい。液体流込抑制凹部が上記スリット８１６Ｓであることは必須ではない。液体流込抑制凹部は、プレートガイド面の表面から奥側に貫通する孔であってもよいし、液体を一時的に貯める凹みであってもよい。
【0310】
図２５に示す変形例のように、液体流込抑制凹部は、プレートガイド面８１６に沿って形成されたスリット８１６Ｓａであってもよい。この場合、プレートガイド面８１６には、プレートガイド面８１６の幅方向に沿って並ぶ複数本のスリット８１６Ｓａを有していてもよい。
【0311】
図２６に示す変形例のように、液体流込抑制凹部は、プレートガイド面８１６に形成された複数の孔８１６Ｓｂであってもよい。
【0312】
いずれにせよ、プレートガイド面８１６に、イメージングプレート１０のガイドを妨げない程度で凹みが形成されていれば、液体がイメージングプレート１０表面を流れていくことが阻害され、筐体８８０内に液体が浸入し難くなる。
【0313】
なお、プレートガイド面８１６にスリット８１６Ｓ等の液体流込抑制凹部が形成されることは必須ではない。
【0314】
なお、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組合わせることができる。
【0315】
｛付記｝
本開示は、下記の各態様を開示する。
本開示は、下記の各態様を開示する。
【0316】
第１の態様は、イメージングプレートの表面から放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを裏面側から支持するステージと、前記ステージに支持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、下向き傾斜し、前記イメージングプレートを斜め下方に案内するプレートガイド面を含み、前記イメージングプレートを前記ステージに向けて案内するセット用ガイドと、を備え、前記セット用ガイド及び前記ステージの少なくとも一方が反対傾斜面を含み、前記反対傾斜面は、前記プレートガイド面に対して反対側に下向き傾斜すると共に前記プレートガイド面によって案内された前記イメージングプレートを受けて前記イメージングプレートを斜め下方に案内する面であり、さらに、前記ステージ及び前記セット用ガイドの少なくとも一方が、前記反対傾斜面によって案内される前記イメージングプレートに対して前記イメージングプレートの表面側から接触して前記イメージングプレートを前記反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる上下反転接触部を含む、放射線像の読取装置である。
【0317】
読取装置周りでは、太陽光及び天井照明光等、上方からの光の強度が最も強いことが想定される。本読取装置によると、イメージングプレートは、放射線像形成面である表面を下向けにした状態で、筐体内のプレートガイド面上に載置され得るため、当該載置時に、イメージングプレートの放射線像形成面が外光に曝され難い。イメージングプレートは、プレートガイド面よって斜め下方に案内され、プレートガイド面とは反対側に下向き傾斜する反対傾斜面に受止められ、さらに、斜め下方に案内される。イメージングプレートが反対傾斜面によって斜め下方に案内される際、上下反転接触部がイメージングプレートに表面側から接触して、イメージングプレートを反対傾斜面と同じ傾斜姿勢に反転させる。このため、イメージングプレートは、表裏が上下反転し、放射線像形成面を上向きにした姿勢で、ステージによって支持される。これにより、イメージングプレートを放射線像の読取装置にセットする際に、イメージングプレートが外光に曝され難くなるとともに、イメージングプレートの放射線像形成面を必ず上向きにした姿勢でステージ上に支持できるので、円滑に読取りが開始される。
【0318】
第２の態様は、第１の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージが、前記反対傾斜面として、水平方向に対して傾斜し、前記イメージングプレートを裏面側から支持する支持面を含み、前記ステージが、前記支持面によって支持される前記イメージングプレートを前記支持面の傾斜方向下側から受ける受面をさらに含み、前記プレートガイド面が、前記支持面に向って徐々に下方に向い、前記イメージングプレートを前記支持面に向けて案内し、前記セット用ガイドが、前記上下反転接触部を含み、前記上下反転接触部は、前記受面が前記イメージングプレートを受ける位置の真上延長上よりも前記支持面近くに位置する部分である、放射線像の読取装置である。
【0319】
ステージの支持面を、反対傾斜面として利用して、イメージングプレートを反転させることができるので、構成の簡易化が可能となる。
【0320】
第３の態様は、第１の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドが、前記反対傾斜面と前記上下反転接触部とを含むものである。
【0321】
この場合、ステージの支持面を傾斜させなくてもよい。
【0322】
第４の態様は、第１から第３のいずれか１つの態様に係る読取装置であって、前記ステージと、前記励起光源と、前記光検出器と、前記セット用ガイドのうち少なくともプレートガイド面及び前記上下反転接触部と、前記反対傾斜面とを覆う筐体をさらに備える、放射線像の読取装置である。
【0323】
この場合、筐体内で、イメージングプレートの反転及びステージへのセットがなされる。このため、イメージングプレートの放射線像形成面が外光に曝され難い。
【0324】
第５の態様は、第１から第４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記プレートガイド面は、外向きに凸な湾曲面である部分を含むものである。
【0325】
このように、プレートガイド面が、外向きに凸な湾曲面である部分を含めば、イメージングプレートがプレートガイド面に面接触し難く、プレートガイド面上で留まり難い。
【0326】
第６の態様は、第１から第４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記プレートガイド面は、前記イメージングプレートの案内方向に直交する水平方向に沿って見て１つの直線又は複数の直線の組合せ形状を呈するものである。
【0327】
これにより、プレートガイド面の加工が容易となる。
【0328】
第７の態様は、第１から第６のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記上下反転接触部は、前記プレートガイド面に対して前記イメージングプレートの案内方向下流側に連続しているものである。
【0329】
この場合、プレートガイド面と上下反転接触部との間で、イメージングプレートが引っ掛り難い。
【0330】
第８の態様は、第１から第７のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドは、前記反対傾斜面の傾斜方向において、下方に向うにつれて徐々に前記反対傾斜面に近づく反対傾斜面用ガイド面を含むものである。
【0331】
この場合、イメージングプレートが、反対傾斜面用ガイド面によって、反対傾斜面に向けてより確実に案内される。
【0332】
第９の態様は、第８の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記反対傾斜面用ガイド面は、前記上下反転接触部に対して下側に連続しているものである。
【0333】
この場合、イメージングプレートが、上下反転接触部と反対傾斜面用ガイド面との間で引っ掛り難い。
【0334】
第１０の態様は、第１から第９のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面のうち上側の端部に対して前記イメージングプレートの厚みに応じた距離離れて位置する上挿入ガイドを含むものである。
【0335】
この場合、イメージングプレートがプレートガイド面のうち上側の端部と上挿入ガイドとの間に挿入されることによって、イメージングプレートの裏面をプレートガイド面上に沿わせるようにイメージングプレートをプレートガイド面上にセットし易い。
【0336】
第１１の態様は、第１から第１０のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面による前記イメージングプレートの案内経路の途中に位置し、前記イメージングプレートの案内方向に沿った液体の流れを抑制する液体流込抑制凹部を有するものである。
【0337】
これにより、プレートガイド面上に液体が浸入しても、液体流込抑制凹部によって、当該液体が読取装置内部へ流込むことが抑制される。
【0338】
第１２の態様は、第１から第１１のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、取外し状態で前記プレートガイド面の少なくとも一部が外部に露出する状態となるように、前記セット用ガイドの少なくとも一部が着脱可能に支持されている。
【0339】
これにより、清掃、滅菌処理を容易に行える。また、イメージングプレートの詰り等の不具合が生じても、セット用ガイドの少なくとも一部を取外すことで、当該不具合を解消し易い。
【0340】
第１３の態様は、第１から第１２のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドは、前記プレートガイド面の上側端に前記イメージングプレートを投入するための投入口と、前記投入口を開閉可能に塞ぐシャッタを含む。
【0341】
これにより、イメージングプレートを挿入可能なタイミングを規制することができる。また、複数のイメージングプレートが投入口に投入されることで発生するプレート詰り等の放射線像の読取装置の不具合を防止することができる。
【0342】
第１４の態様は、第１から第１３のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記セット用ガイドは、前記イメージングプレートの長手方向を、前記プレートガイド面におけるイメージングプレートの移動方向に沿わせた姿勢で、前記イメージングプレートを案内し、前記ステージは、前記イメージングプレートの長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持するものである。
【0343】
この場合、上下反転接触部によって、イメージングプレートを大きく傾けることができる。これにより、イメージングプレートを上下反転させ易い。
【0344】
第１５の態様は、第１から第１４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構をさらに備え、前記セット用ガイドは、前記セット位置に位置する前記ステージに対向する位置に設けられるものである。
【0345】
これにより、セット用ガイドを、励起光源及び光検出器と干渉させずに配置し易い。
【0346】
上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
【符号の説明】
【0347】
１０ イメージングプレート
１０ａ 表面
１０ｂ 裏面
２０、７２０ 放射線像の読取装置
３０ 筐体
３１ 開口
５０ ステージ移動機構
６０ ステージ
６１ ステージ本体
６４Ｆ 支持面（反対傾斜面）
７２Ｃ 位置決め部
７２ＣＦ 位置決め面（受面）
９０ 読取ユニット
９２ 励起光源
９４ 光検出器
２００、５００Ａ、５００Ｂ、５００Ｃ、６００、７００、８００ セット用ガイド
２０４ 開口
２１６、４１６Ａ、４１６Ｂ、５１６Ａ、５１６Ｂ、５１６Ｃ、６１６、７１６、８１６ プレートガイド面
２１６ａ 湾曲面
２１７ａ 入口ガイド面
２１７ｂ 反対傾斜面用ガイド面
２１８、５１８Ａ、５１８Ｂｂ、５１８Ｃｂ、６１８、７１８ 上下反転接触部
２３０ 投入口
２４０ シャッタ機構
２４４ シャッタ
２４８ シャッタ用カム
５１６Ａｆ１、５１６Ａｆ２、５１６Ｂ、５１６Ｃ 平面
５１７Ａｂ、５１７Ｂ 反対傾斜面用ガイド面
６３０ 反対傾斜面
６６０、７６０ ステージ
６６４Ｆ 支持面
８１０ ガイド本体
８１６Ｓ、８１６Ｓａ スリット
８１６Ｓｂ 孔
Ｐ１ セット位置
Ｐ２ 読取位置
１０ａ 表面
１０ｂ 裏面
２０、７２０ 放射線像の読取装置
３０ 筐体
３１ 開口
５０ ステージ移動機構
６０ ステージ
６１ ステージ本体
６４Ｆ 支持面（反対傾斜面）
７２Ｃ 位置決め部
７２ＣＦ 位置決め面（受面）
９０ 読取ユニット
９２ 励起光源
９４ 光検出器
２００、５００Ａ、５００Ｂ、５００Ｃ、６００、７００、８００ セット用ガイド
２０４ 開口
２１６、４１６Ａ、４１６Ｂ、５１６Ａ、５１６Ｂ、５１６Ｃ、６１６、７１６、８１６ プレートガイド面
２１６ａ 湾曲面
２１７ａ 入口ガイド面
２１７ｂ 反対傾斜面用ガイド面
２１８、５１８Ａ、５１８Ｂｂ、５１８Ｃｂ、６１８、７１８ 上下反転接触部
２３０ 投入口
２４０ シャッタ機構
２４４ シャッタ
２４８ シャッタ用カム
５１６Ａｆ１、５１６Ａｆ２、５１６Ｂ、５１６Ｃ 平面
５１７Ａｂ、５１７Ｂ 反対傾斜面用ガイド面
６３０ 反対傾斜面
６６０、７６０ ステージ
６６４Ｆ 支持面
８１０ ガイド本体
８１６Ｓ、８１６Ｓａ スリット
８１６Ｓｂ 孔
Ｐ１ セット位置
Ｐ２ 読取位置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】