特開 2024-136874 描画装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024136874

(43)【公開日】2024-10-04

(54)【発明の名称】描画装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240927BHJP

   H05K 3/10 20060101ALI20240927BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

H05K3/10 C

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023048167

(22)【出願日】2023-03-24

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100110847

【弁理士】

【氏名又は名称】松阪 正弘

(74)【代理人】

【識別番号】100136526

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100136755

【弁理士】

【氏名又は名称】井田 正道

(72)【発明者】

【氏名】茂野 幸英

【テーマコード（参考）】

2H197

5E343

【Ｆターム（参考）】

2H197AA09

2H197AA22

2H197AA29

2H197CA03

2H197CA07

2H197CB16

2H197CC05

2H197CC11

2H197CC16

2H197CD12

2H197CD15

2H197DB23

2H197EA19

2H197EB16

2H197EB23

2H197HA02

2H197HA03

2H197HA04

2H197HA05

2H197HA10

2H197JA03

5E343AA02

5E343AA23

5E343AA26

5E343CC67

5E343DD68

5E343DD80

5E343FF30

5E343GG20

(57)【要約】

【課題】描画ヘッドのメンテナンスを容易とする。
【解決手段】第２ヘッド支持部６２によって支持される第２描画ヘッド群４０２は、第１ヘッド支持部６１によって支持される第１描画ヘッド群４０１と走査方向において隣接して配置される。第２描画ヘッド群４０２は、Ｘ方向に関して第１描画ヘッド群４０１とは異なる位置に、変調された光を照射する。描画装置１では、第２ヘッド支持部６２を、第１ヘッド支持部６１に対して走査方向に相対的に移動させることにより、第２描画ヘッド群４０２が、走査方向において第１描画ヘッド群４０１に隣接する描画位置と、当該描画位置よりも第１描画ヘッド群４０１から走査方向に離れた退避位置との間で移動する。これにより、第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２のメンテナンスを容易とすることができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記基板の上面に変調された光を照射する第１描画ヘッド群と、
前記ステージの上方にて前記第１描画ヘッド群を支持する第１ヘッド支持部と、
前記基板の前記上面に平行な走査方向に、前記ステージを前記第１描画ヘッド群に対して相対的に移動する走査機構と、
前記走査方向において前記第１描画ヘッド群と隣接して配置され、前記基板の前記上面において前記走査方向に垂直な幅方向に関して前記第１描画ヘッド群とは異なる位置に変調された光を照射する第２描画ヘッド群と、
前記ステージの上方にて前記第２描画ヘッド群を支持する第２ヘッド支持部と、
を備え、
前記第２ヘッド支持部を、前記第１ヘッド支持部に対して前記走査方向に相対的に移動させることにより、前記第２描画ヘッド群が、前記走査方向において前記第１描画ヘッド群に隣接する描画位置と、前記描画位置よりも前記第１描画ヘッド群から前記走査方向に離れた退避位置との間で移動する描画装置。

【請求項2】

請求項１に記載の描画装置であって、
前記第１描画ヘッド群は、前記幅方向に直線状に配列された複数の第１描画ヘッドを含み、
前記第２描画ヘッド群は、前記幅方向に直線状に配列された複数の第２描画ヘッドを含む描画装置。

【請求項3】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記第１描画ヘッド群は、前記第１ヘッド支持部のうち前記走査方向において前記第２ヘッド支持部と対向する側面に配置され、
前記第２描画ヘッド群は、前記第２ヘッド支持部のうち前記走査方向において前記第１ヘッド支持部と対向する側面に配置される描画装置。

【請求項4】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記第１描画ヘッド群の各第１描画ヘッドおよび前記第２描画ヘッド群の各第２描画ヘッドはそれぞれ、
光源からの光を変調して出射する空間光変調部と、
上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、前記光源からの光を前記空間光変調部へと導く照明光学系と、
前記空間光変調部の下方にて上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、前記空間光変調部からの光を前記基板の前記上面へと導く投影光学系と、
を備える描画装置。

【請求項5】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されており、
前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされ、
前記第２描画ヘッド群が前記描画位置に位置する状態で、前記第２ヘッド支持部に前記走査方向の他方側から当接して前記第２ヘッド支持部の前記走査方向の前記他方側への移動を制限する第１移動制限部が、前記基台上に設けられる描画装置。

【請求項6】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されており、
前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされ、
前記第２描画ヘッド群が前記退避位置に位置する状態で、前記第２ヘッド支持部に前記走査方向の前記一方側から当接して前記第２ヘッド支持部の前記走査方向の前記一方側への移動を制限する第２移動制限部が、前記基台上に設けられる描画装置。

【請求項7】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されており、
前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされ、
前記描画装置は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の他方側にて支持されて前記基板の前記上面上に予め設けられているアライメントマークを撮像する撮像部をさらに備え、
前記撮像部により取得された撮像画像に基づいて前記基板の位置が検出される描画装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、プリント基板や半導体基板等（以下、「基板」という。）に対するパターンの描画において、基板上に形成された感光材料に変調された光を照射し、当該光の照射領域を走査することによりパターンを直接的に描画する描画装置が利用されている。

【0003】

このような描画装置では、１枚の基板の描画に要する時間（すなわち、タクトタイム）を短縮するために、基板の走査方向に垂直な幅方向に複数の描画ヘッドを配列し、基板上において幅方向に並ぶ複数の領域を同時に描画することが行われている。ただし、描画ヘッドの大きさを考慮すると、幅方向に配列可能な描画ヘッドの数には限界がある。

【0004】

そこで、特許文献１の描画装置では、５つの描画ヘッドを千鳥状に２列に配列することで、描画ヘッドの数を増やすことが行われている。具体的には、当該描画装置では、Ｘ方向（幅方向）に並ぶ３つの描画ヘッドと、Ｘ方向に並ぶ２つの描画ヘッドとが、Ｙ方向（走査方向）に隣接して配置される。また、当該２つの描画ヘッドは、Ｘ方向に関して上記３つの描画ヘッドの間に配置される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０２１－２１７８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところで、特許文献１の描画装置では、（＋Ｙ）側に配置される３つの描画ヘッドは、（－Ｙ）側に配置される２つの描画ヘッドと、描画ヘッドを支持する支持部との間に挟まれている。このため、描画ヘッドの清掃等のメンテナンスを行う際に、当該３つの描画ヘッドに手が届きにくく、作業効率が低下して描画装置のダウンタイムが増大するおそれがある。また、Ｙ方向に隣接する２列の描画ヘッドの図示されていない光源部等が、門形の支持部上にてＸ方向に隣接して配置されるため、複数の描画ヘッドの取付位置に干渉が生じるおそれもある。

【0007】

一方、描画ヘッドのメンテナンスを容易にするために上記２列の描画ヘッドをＹ方向に離間させると、基板に対する描画の際に、基板のＹ方向における移動距離が大きくなるため、タクトタイムが増大するおそれがある。なお、特許文献１の描画装置では、（－Ｙ）側に配置される２つの描画ヘッドを取り付けるための取付部が、上記２列の描画ヘッドの間に設けられるため、当該２列の描画ヘッドのＹ方向における間隔をある程度以上小さくすることは難しい。

【0008】

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、描画ヘッドのメンテナンスを容易とすることを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明の態様１は、基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、前記基板を保持するステージと、前記基板の上面に変調された光を照射する第１描画ヘッド群と、前記ステージの上方にて前記第１描画ヘッド群を支持する第１ヘッド支持部と、前記基板の前記上面に平行な走査方向に、前記ステージを前記第１描画ヘッド群に対して相対的に移動する走査機構と、前記走査方向において前記第１描画ヘッド群と隣接して配置され、前記基板の前記上面において前記走査方向に垂直な幅方向に関して前記第１描画ヘッド群とは異なる位置に変調された光を照射する第２描画ヘッド群と、前記ステージの上方にて前記第２描画ヘッド群を支持する第２ヘッド支持部と、を備える。前記第２ヘッド支持部を、前記第１ヘッド支持部に対して前記走査方向に相対的に移動させることにより、前記第２描画ヘッド群が、前記走査方向において前記第１描画ヘッド群に隣接する描画位置と、前記描画位置よりも前記第１描画ヘッド群から前記走査方向に離れた退避位置との間で移動する。

【0010】

本発明の態様２は、態様１の描画装置であって、前記第１描画ヘッド群は、前記幅方向に直線状に配列された複数の第１描画ヘッドを含む。前記第２描画ヘッド群は、前記幅方向に直線状に配列された複数の第２描画ヘッドを含む。

【0011】

本発明の態様３は、態様１または２の描画装置であって、前記第１描画ヘッド群は、前記第１ヘッド支持部のうち前記走査方向において前記第２ヘッド支持部と対向する側面に配置される。前記第２描画ヘッド群は、前記第２ヘッド支持部のうち前記走査方向において前記第１ヘッド支持部と対向する側面に配置される。

【0012】

本発明の態様４は、態様１または２（態様１ないし３のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記第１描画ヘッド群の各第１描画ヘッドおよび前記第２描画ヘッド群の各第２描画ヘッドはそれぞれ、光源からの光を変調して出射する空間光変調部と、上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、前記光源からの光を前記空間光変調部へと導く照明光学系と、前記空間光変調部の下方にて上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、前記空間光変調部からの光を前記基板の前記上面へと導く投影光学系と、を備える。

【0013】

本発明の態様５は、態様１または２（態様１ないし４のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されている。前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされる。前記第２描画ヘッド群が前記描画位置に位置する状態で、前記第２ヘッド支持部に前記走査方向の他方側から当接して前記第２ヘッド支持部の前記走査方向の前記他方側への移動を制限する第１移動制限部が、前記基台上に設けられる。

【0014】

本発明の態様６は、態様１または２（態様１ないし５のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されている。前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされる。前記第２描画ヘッド群が前記退避位置に位置する状態で、前記第２ヘッド支持部に前記走査方向の前記一方側から当接して前記第２ヘッド支持部の前記走査方向の前記一方側への移動を制限する第２移動制限部が、前記基台上に設けられる。

【0015】

本発明の態様７は、態様１または２（態様１ないし６のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記第１ヘッド支持部は基台上に固定されている。前記第２ヘッド支持部は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の一方側において前記基台上にて移動可能とされる。前記描画装置は、前記第１ヘッド支持部の前記走査方向の他方側にて支持されて前記基板の前記上面上に予め設けられているアライメントマークを撮像する撮像部をさらに備える。前記撮像部により取得された撮像画像に基づいて前記基板の位置が検出される。

【発明の効果】

【0016】

本発明では、描画ヘッドのメンテナンスを容易とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】一の実施の形態に係る描画装置を示す斜視図である。

【図2】描画装置の斜視図である。

【図3】第１描画ヘッドの側面図である。

【図4】描画装置の一部を示す側面図である。

【図5】描画装置の一部を示す側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置１を示す斜視図である。描画装置１は、空間変調された略ビーム状の光を基板９上の感光材料に照射し、当該光の照射領域を基板９上にて走査することによりパターンの描画を行う直接描画装置である。図１では、互いに直交する３つの方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向として矢印にて示している。図１に示す例では、Ｘ方向およびＹ方向は互いに垂直な水平方向であり、Ｚ方向は鉛直方向（すなわち、上下方向）である。他の図においても同様である。

【0019】

基板９は、例えば、略矩形平板状のプリント基板である。基板９の（＋Ｚ）側の主面（以下、「上面９１」とも呼ぶ。）では、感光材料により形成されたレジスト膜が銅層上に設けられる。描画装置１では、基板９の当該レジスト膜に回路パターンが描画（すなわち、形成）される。なお、基板９の種類および形状等は様々に変更されてよい。

【0020】

描画装置１は、ステージ２１と、ステージ移動機構２２と、アライメント部３と、描画部４と、キャリブレーション部５と、第１ヘッド支持部６１と、第２ヘッド支持部６２とを備える。

【0021】

ステージ２１は、アライメント部３および描画部４よりも下側（すなわち、（－Ｚ）側）に配置された略矩形平板状の部材である。ステージ２１は、水平状態の基板９を下側から保持する基板保持部２５を備える。基板保持部２５は、例えば、基板９の下面を吸着して保持するバキュームチャックである。基板保持部２５は、バキュームチャック以外の構造を有していてもよく、例えば、メカニカルチャックであってもよい。基板保持部２５上に載置された基板９の上面９１は、Ｚ方向に対して略垂直であり、Ｘ方向およびＹ方向に略平行である。

【0022】

ステージ移動機構２２は、ステージ２１をアライメント部３および描画部４に対して水平方向（すなわち、基板９の上面９１に略平行な方向）に相対的に移動する移動機構である。ステージ移動機構２２は、基台１１の上面上に取り付けられ、基台１１によって下側から支持される。基台１１は、例えば、Ｘ方向の長さよりもＹ方向の長さの方が長い略直方体状の部材である。

【0023】

ステージ移動機構２２は、第１移動機構２３と、第２移動機構２４とを備える。第２移動機構２４は、ステージ２１を下側から支持するとともに、ステージ２１をガイドレールに沿ってＸ方向に直線移動する。第１移動機構２３は、第２移動機構２４を下側から支持するとともに、ステージ２１を第２移動機構２４と共にガイドレールに沿ってＹ方向に直線移動する。第１移動機構２３および第２移動機構２４の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。第１移動機構２３および第２移動機構２４の構造は、様々に変更されてよい。

【0024】

描画装置１では、Ｚ方向に延びる回転軸を中心としてステージ２１を回転するステージ回転機構が設けられてもよい。また、ステージ２１をＺ方向に移動するステージ昇降機構が描画装置１に設けられてもよい。ステージ回転機構として、例えば、サーボモータが利用可能である。ステージ昇降機構として、例えば、リニアサーボモータが利用可能である。ステージ回転機構およびステージ昇降機構の構造は、様々に変更されてよい。

【0025】

第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２は、基台１１の上面上に立設する。図１に示す例では、第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２はそれぞれ、ステージ２１およびステージ移動機構２２を跨ぐ門形の部材（いわゆる、ガントリー）である。第１ヘッド支持部６１と第２ヘッド支持部６２とは、略同形状であり、Ｙ方向に並んで配置される。第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２は、例えば、グラナイト等の石材により形成される。本実施の形態では、第１ヘッド支持部６１は、基台１１に固定されており、水平方向および上下方向に移動しない。

【0026】

第２ヘッド支持部６２は、第１ヘッド支持部６１の（＋Ｙ）側に配置される。第２ヘッド支持部６２の（＋Ｘ）側の下端部および（－Ｘ）側の下端部は、ステージ移動機構２２の（＋Ｘ）側および（－Ｘ）側に位置する一対のガイド６３に取り付けられる。各ガイド６３は、例えば、Ｙ方向に略平行に略直線状に延びるＬＭガイドであり、第２ヘッド支持部６２をＹ方向に関して移動可能な状態で支持する。第２ヘッド支持部６２は、基台１１上にて、第１ヘッド支持部６１よりも（＋Ｙ）側においてＹ方向に移動可能とされる。本実施の形態では、第２ヘッド支持部６２は、Ｘ方向および上下方向には移動しない。

【0027】

図１に例示する描画装置１では、第２ヘッド支持部６２のＹ方向への移動は、作業者の手作業により行われる。なお、描画装置１では、第２ヘッド支持部６２をＹ方向へと移動させる支持部移動機構（例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたもの等）が設けられてもよい。また、描画装置１では、第２ヘッド支持部６２は第１ヘッド支持部６１に対してＹ方向に相対的に移動可能であればよく、例えば、第２ヘッド支持部６２が基台１１に固定され、第１ヘッド支持部６１がＹ方向に移動可能とされてもよい。あるいは、第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２の双方が、Ｙ方向に移動可能とされてもよい。

【0028】

各ガイド６３の（－Ｙ）側の端部には、第１移動制限部６４が設けられている。第１移動制限部６４は、第１ヘッド支持部６１よりも（＋Ｙ）側において、ガイド６３の（－Ｙ）側の端部近傍に配置される。第１移動制限部６４は、例えば、基台１１の上面から上方へと延びる略四角柱状の部材である。第１移動制限部６４は、例えば、グラナイト等の石材により形成される。第１移動制限部６４は、基台１１上に固定される。第１移動制限部６４は、基台１１に直接的に固定されてもよく、基台１１に直接的に固定されている第１ヘッド支持部６１に固定されることによって、基台１１に間接的に固定されてもよい。

【0029】

図１に示す状態では、第２ヘッド支持部６２の下端部の（－Ｙ）側の側面が、第１移動制限部６４の（＋Ｙ）側の側面に（＋Ｙ）側から当接している。これにより、第２ヘッド支持部６２の（－Ｙ）方向への移動が制限される。このため、第２ヘッド支持部６２は、図１に示す位置（以下、「描画位置」とも呼ぶ。）よりも（－Ｙ）側へ移動することはできない。

【0030】

各ガイド６３の（＋Ｙ）側の端部には、第２移動制限部６５が設けられている。第２移動制限部６５は、第２ヘッド支持部６２よりも（＋Ｙ）側において、ガイド６３の（＋Ｙ）側の端部近傍に配置される。第２移動制限部６５、例えば、基台１１の上面から上方へと延びる略四角柱状の部材である。第２移動制限部６５は、例えば、グラナイト等の石材により形成される。第２移動制限部６５は、基台１１上に固定される。第２移動制限部６５は、例えば、基台１１の上面に直接的に固定される。

【0031】

図２に示すように、第２ヘッド支持部６２が一対のガイド６３の（＋Ｙ）側の端部近傍に移動した状態では、第２ヘッド支持部６２の下端部の（＋Ｙ）側の側面が、第２移動制限部６５の（－Ｙ）側の側面に（－Ｙ）側から当接している。これにより、第２ヘッド支持部６２の（＋Ｙ）方向への移動が制限される。このため、第２ヘッド支持部６２は、図２に示す位置（以下、「退避位置」とも呼ぶ。）よりも（＋Ｙ）側へ移動することはできない。

【0032】

描画装置１では、基板９に対するパターンの描画が行われる際には、第２ヘッド支持部６２および後述する第２描画ヘッド群４０２は、図１に示す描画位置に配置される。また、後述する第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２に対するメンテナンスやキャリブレーションが行われる際には、第２ヘッド支持部６２および第２描画ヘッド群４０２は、図２に示す退避位置に配置される。

【0033】

図１に示すように、アライメント部３は、Ｘ方向に配列される複数（図１に示す例では、３つ）のアライメントカメラ３１を備える。各アライメントカメラ３１は、例えば、ＣＣＤ（Charged Coupled Devices）またはＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）を撮像素子として有するデジタルカメラである。各アライメントカメラ３１は、ステージ２１およびステージ移動機構２２の上方にて第１ヘッド支持部６１によって支持される。図１に示す例では、３つのアライメントカメラ３１は、第１ヘッド支持部６１の（－Ｙ）側の部位に取り付けられる。３つのアライメントカメラ３１のうち、例えば、中央の１つのアライメントカメラ３１は第１ヘッド支持部６１に固定されており、他の２つのアライメントカメラ３１は第１ヘッド支持部６１上においてＸ方向に移動可能である。これにより、アライメントカメラ３１間のＸ方向の距離を変更することができる。なお、アライメント部３では、中央のアライメントカメラ３１もＸ方向に移動可能とされてよい。また、アライメント部３のアライメントカメラ３１の数は１つまたは２つであってもよく、４つ以上であってもよい。

【0034】

各アライメントカメラ３１は、基板９の上面９１に予め設けられているアライメントマーク（図示省略）を撮像する撮像部である。描画装置１では、アライメントカメラ３１により取得された撮像画像（すなわち、アライメントマークの画像）に基づいて、ステージ２１上における基板９の位置が検出される。そして、検出された基板９の位置に基づいて、基板９のアライメント（すなわち、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２に対する基板９の相対位置の補正）が行われる。

【0035】

描画部４は、第１ヘッド支持部６１によって支持される第１描画ヘッド群４０１と、第２ヘッド支持部６２によって支持される第２描画ヘッド群４０２と、を備える。第１描画ヘッド群４０１は、複数の第１描画ヘッド４１を含み、第２描画ヘッド群４０２は、複数の第２描画ヘッド４２を含む。各第１描画ヘッド４１および各第２描画ヘッド４２は、基板９の上面９１に変調された光を照射する。

【0036】

図１に示す例では、第１描画ヘッド群４０１は、Ｘ方向に略平行に略直線状に並ぶ４つの第１描画ヘッド４１を備える。４つの第１描画ヘッド４１のＹ方向およびＺ方向における位置は略同じである。４つの第１描画ヘッド４１は、互いに略同じ形状および略同じ構造を有する。また、第２描画ヘッド群４０２は、Ｘ方向に略平行に略直線状に並ぶ４つの第２描画ヘッド４２を備える。４つの第２描画ヘッド４２のＹ方向およびＺ方向における位置は略同じである。４つの第２描画ヘッド４２は、互いに略同じ形状および略同じ構造を有する。また、第１描画ヘッド４１と第２描画ヘッド４２とも、略同じ形状および略同じ構造を有する。なお、第１描画ヘッド群４０１に含まれる第１描画ヘッド４１の数および配置、並びに、第２描画ヘッド群４０２に含まれる第２描画ヘッド４２の数および配置は様々に変更されてよい。

【0037】

第１描画ヘッド群４０１の４つの第１描画ヘッド４１は、第１ヘッド支持部６１の（＋Ｙ）側の部位に取り付けられ、ステージ２１およびステージ移動機構２２の上方にて第１ヘッド支持部６１によって支持される。すなわち、第１描画ヘッド群４０１は、第１ヘッド支持部６１のうち、Ｙ方向において第２ヘッド支持部６２と対向する側面に配置される。また、第２描画ヘッド群４０２の４つの第２描画ヘッド４２は、第２ヘッド支持部６２の（－Ｙ）側の部位に取り付けられ、ステージ２１およびステージ移動機構２２の上方にて第２ヘッド支持部６２によって支持される。すなわち、第２描画ヘッド群４０２は、第２ヘッド支持部６２のうち、Ｙ方向において第１ヘッド支持部６１と対向する側面に配置される。描画位置に位置する第２描画ヘッド群４０２は、第１描画ヘッド群４０１の（＋Ｙ）側において第１描画ヘッド群４０１とＹ方向に隣接しており（すなわち、近接または接触した状態で配置され）、第１描画ヘッド群４０１とＹ方向にて対向する。

【0038】

４つの第１描画ヘッド４１は、Ｘ方向に関して略等ピッチにて配列される。４つの第２描画ヘッド４２も、Ｘ方向に関して略等ピッチにて配列される。４つの第１描画ヘッド４１のＸ方向におけるピッチと、４つの第２描画ヘッド４２のＸ方向におけるピッチとは、略同じである。以下の説明では、第１描画ヘッド群４０１における第１描画ヘッド４１のＸ方向におけるピッチ、および、第２描画ヘッド群４０２における第２描画ヘッド４２のＸ方向におけるピッチを、「描画ヘッドピッチ」とも呼ぶ。

【0039】

４つの第２描画ヘッド４２は、４つの第１描画ヘッド４１とＸ方向に関して異なる位置に配置される。これにより、第２描画ヘッド群４０２は、基板９の上面９１において、Ｘ方向に関して第１描画ヘッド群４０１とは異なる位置に変調された光を照射する。具体的には、４つの第２描画ヘッド４２は、４つの第１描画ヘッド４１よりも描画ヘッドピッチの半分の距離だけ（＋Ｘ）側にずれた位置に配置される。したがって、４つの第２描画ヘッド４２のうち（－Ｘ）側の３つの第２描画ヘッド４２はそれぞれ、Ｙ方向にて対向する２つの第１描画ヘッド４１のＸ方向に関する略中央に位置する。

【0040】

図３は、１つの第１描画ヘッド４１を（＋Ｘ）側から拡大して見た側面図である。図３では、第１ヘッド支持部６１の一部も併せて示す。第１描画ヘッド４１は、第１ヘッド支持部６１の（＋Ｙ）側の側面に取り付けられる。第１描画ヘッド４１の上部は、第１ヘッド支持部６１の上面（すなわち、（＋Ｚ）側の端面）から上方へと突出している。なお、第１描画ヘッド４１の上部と第１ヘッド支持部６１の上面とは、例えば、側面視において略三角形状の平板部材である補助具７１にて接続される。これにより、第１ヘッド支持部６１を第１描画ヘッド４１の上部までＺ方向に伸ばす場合に比べて、第１ヘッド支持部６１の重量を抑制しつつ第１描画ヘッド４１の安定性を向上することができる。図１および図２に示す他の第１描画ヘッド４１、および、各第２描画ヘッド４２の構造は、図３に示すものと略同様である。なお、各第２描画ヘッド４２は、図３に示す第１描画ヘッド４１とは左右反対に（すなわち、Ｙ方向における向きが逆に）配置され、第２ヘッド支持部６２（図１参照）に取り付けられる。各第２描画ヘッド４２の上部と第２ヘッド支持部６２の上面とは、例えば、補助具７１と略同形状の補助具７２にて接続される。これにより、第２ヘッド支持部６２を第２描画ヘッド４２の上部までＺ方向に伸ばす場合に比べて、第２ヘッド支持部６２の重量を抑制しつつ第２描画ヘッド４２の安定性を向上することができる。

【0041】

第１描画ヘッド４１は、光源部４１２と、照明光学系４１３と、空間光変調部４１４と、投影光学系４１５とを備える。光源部４１２、照明光学系４１３、空間光変調部４１４および投影光学系４１５は、描画ヘッドカバー４１６の内部に収容される。図３に示す例では、描画ヘッドカバー４１６は、Ｚ方向に略平行に直線状に延びる略矩形筒状の単一の部材である。図３では、図の理解を容易にするために、描画ヘッドカバー４１６を断面にて示し、描画ヘッドカバー４１６の内部の構造を実線にて示す。

【0042】

図３に示す例では、光源部４１２は、図示省略の光源から出射された光を描画ヘッドカバー４１６内へと導く光ファイバである。当該光源としては、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）またはＬＤ（Laser Diode）等が利用可能である。なお、当該光源は、ＬＥＤおよびＬＤ以外の光源であってもよい。光源部４１２は、第１描画ヘッド４１の下部に配置され、上方に向かって光を出射する。

【0043】

光源部４１２の略鉛直上方には、照明光学系４１３が配置される。照明光学系４１３は、上下方向に略平行に略直線状に配置された複数のレンズ等の光学素子を有する。照明光学系４１３は、光源部４１２から出射された上記光源からの光を上方へと導き、第１描画ヘッド４１の上端部に配置された空間光変調部４１４へと入射させる。

【0044】

空間光変調部４１４は、例えば、ＤＭＤ（Digital Micro Mirror Device）またはＧＬＶ（Grating Light Valve：グレーチング・ライト・バルブ）（シリコン・ライト・マシーンズ（サニーベール、カリフォルニア）の登録商標）等の光変調器を備える。当該光変調器は、照明光学系４１３によって導かれた上記光源からの光を変調して（すなわち、空間変調して）下方へと出射する。なお、当該光変調器は、ＤＭＤおよびＧＬＶ以外のものであってもよい。

【0045】

空間光変調部４１４の略鉛直下方には、投影光学系４１５が配置される。空間光変調部４１４および投影光学系４１５は、照明光学系４１３よりも（＋Ｙ）側に配置される。投影光学系４１５は、上下方向に略平行に略直線状に配置された複数のレンズ等の光学素子を有する。投影光学系４１５は、空間光変調部４１４から出射された変調された光を下方へと導く。投影光学系４１５の下端から出射された光は、描画ヘッド４１の下方に位置する基板９の上面９１（図１参照）に照射される。図３に示す例では、描画ヘッドカバー４１６の下端は開口しており、投影光学系４１５の下端部は、描画ヘッドカバー４１６の下端開口から下方に突出している。投影光学系４１５の下端部近傍には、第１描画ヘッド４１のフォーカス調整に利用されるフォーカス用センサ等が設けられてもよい。

【0046】

なお、第１描画ヘッド４１の光源部４１２では、上述の光ファイバが省略され、光源が描画ヘッドカバー４１６内に配置されてもよい。また、第１描画ヘッド４１では、光源部４１２、照明光学系４１３、空間光変調部４１４および投影光学系４１５が、描画ヘッドカバー４１６の内部において（＋Ｚ）側から（－Ｚ）側に向かってこの順に配列されてもよい。第２描画ヘッド４２についても同様である。

【0047】

描画装置１では、基板９に対するパターンの描画が行われる際には、上述のように、第２ヘッド支持部６２および第２描画ヘッド群４０２が図１に示す描画位置に配置される。描画位置に位置する第２ヘッド支持部６２は、第１移動制限部６４に当接する。これにより、第２ヘッド支持部６２のＹ方向における位置が正確かつ迅速に決定され、第１ヘッド支持部６１と第２ヘッド支持部６２との間のＹ方向における距離が所望の距離とされる。また、第１描画ヘッド群４０１に対する第２描画ヘッド群４０２の相対位置が所定の位置となるように、第２描画ヘッド群４０２が精度良く配置される。これにより、基板９に対するパターンの描画精度が向上される。図１に示す例では、複数の第２描画ヘッド４２は、所定の僅かな間隙を介して、複数の第１描画ヘッド４１に（＋Ｙ）側から近接する。なお、複数の第１描画ヘッド４１と複数の第２描画ヘッド４２とは、互いに接触していてもよい。

【0048】

描画装置１における基板９に対するパターン描画は、いわゆるマルチパス方式で行われる。具体的には、第１ヘッド支持部６１に支持された複数の第１描画ヘッド４１、および、描画位置に位置する第２ヘッド支持部６２に支持された複数の第２描画ヘッド４２から、変調された光を基板９の上面９１上に照射しつつ、ステージ移動機構２２の第１移動機構２３により基板９をＹ方向に移動して描画部４の下方を通過させる。これにより、複数の第１描画ヘッド４１および複数の第２描画ヘッド４２からの光の照射領域が基板９上にてＹ方向に走査され、基板９に対する描画が行われる。

【0049】

続いて、第２移動機構２４により、基板９をＸ方向に所定距離だけステップ移動させる。そして、第１移動機構２３による基板９のＹ方向への移動、および、当該移動と並行した複数の第１描画ヘッド４１および複数の第２描画ヘッド４２から基板９への光の照射が再度行われ、基板９に対する描画が行われる。描画装置１では、Ｙ方向に移動する基板９への光の照射と、Ｘ方向への基板９のステップ移動とが交互に行われることにより、基板９に対するパターンの描画が行われる。

【0050】

以下の説明では、Ｙ方向を「主走査方向」または「走査方向」とも呼び、Ｘ方向を「副走査方向」または「幅方向」とも呼ぶ。主走査方向および副走査方向は、基板９の上面９１に略平行な方向である。ステージ移動機構２２では、第１移動機構２３は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して主走査方向に相対的に移動する主走査機構である。第２移動機構２４は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して副走査方向に相対的に移動する副走査機構である。

【0051】

なお、描画装置１では、基板９を描画ヘッド４１に対してＹ方向に１回のみ相対移動することにより基板９上へのパターンの描画が完了するシングルパス方式（ワンパス方式とも呼ばれる。）により、基板９に対する描画が行われてもよい。この場合、パターンの描画時には、第２移動機構２４による基板９の副走査（すなわち、Ｘ方向へのステップ移動）は行われない。すなわち、ステージ移動機構２２は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して少なくとも走査方向に移動する走査機構である。

【0052】

描画装置１では、描画部４等のメンテナンスを行う際には、上述のように、第２ヘッド支持部６２および第２描画ヘッド群４０２が、図２に示す退避位置に配置される。退避位置に位置する第２描画ヘッド群４０２は、図１に示す状態よりも、第１描画ヘッド群４０１から（＋Ｙ）側に比較的大きく離れている。このため、メンテナンスを行う作業者は、複数の第１描画ヘッド４１に（＋Ｙ）側から容易にアクセスすることができる。また、当該作業者は、複数の第２描画ヘッド４２に（－Ｙ）側から容易にアクセスすることもできる。その結果、当該作業者は、描画部４のメンテナンスを容易に行うことができる。

【0053】

また、描画装置１では、第１ヘッド支持部６１に対する第１描画ヘッド４１の取り付け、および、第２ヘッド支持部６２に対する第２描画ヘッド４２の取り付けの際にも、第２ヘッド支持部６２が図２に示す退避位置に配置される。このように、第２ヘッド支持部６２を第１ヘッド支持部６１から比較的大きく離間させることにより、第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２の取り付け作業を容易に行うことができる。

【0054】

描画装置１では、描画部４のキャリブレーションを行う際にも、第２ヘッド支持部６２が図２に示す退避位置に配置される。第１描画ヘッド群４０１のキャリブレーションが行われる際には、ステージ移動機構２２によってステージ２１がＹ方向に移動され、図４に示すように、キャリブレーション部５が第１描画ヘッド群４０１の略鉛直下方に配置される。

【0055】

また、第２描画ヘッド群４０２のキャリブレーションが行われる際には、ステージ移動機構２２によってステージ２１がＹ方向に移動され、図５に示すように、キャリブレーション部５が退避位置に位置する第２描画ヘッド群４０２の略鉛直下方に配置される。上述のように、第２ヘッド支持部６２および第２描画ヘッド群４０２が退避位置に位置する状態では、第２ヘッド支持部６２が第２移動制限部６５に当接する。これにより、第２ヘッド支持部６２のＹ方向における位置が正確かつ迅速に決定される。したがって、第２描画ヘッド群４０２に対するキャリブレーション部５の相対位置が所定の位置となるように、キャリブレーション部５を精度良く配置することができる。その結果、第２描画ヘッド群４０２に対するキャリブレーションを精度良く行うことができる。

【0056】

図４および図５に示す例では、キャリブレーション部５は、ステージ２１の（＋Ｙ）側において、ステージ移動機構２２の第１移動機構２３のステージ上に固定されている。なお、キャリブレーション部５は、ステージ２１上において基板保持部２５の（＋Ｙ）側に設けられてもよい。

【0057】

キャリブレーション部５は、目盛部５２と、キャリブレーションカメラ５３と、カメラ移動機構５４とを備える。目盛部５２は、ステージ２１の上面と略同じ高さに設けられるＺ方向に略垂直な略平板状の部材である。目盛部５２は、例えば、Ｘ方向に略平行に延びる略矩形帯状の部材であり、透光性を有する。目盛部５２の上面には、当該上面上におけるＸ方向の位置を示す多数の目盛が設けられている。換言すれば、目盛部５２は、透光性目盛部材であり、例えば、略透明なガラススケールである。目盛部５２の当該目盛は、例えば、クロスパターンまたは他の形状のパターンである。なお、目盛部５２は、半透明の部材であってもよい。

【0058】

キャリブレーションカメラ５３は、目盛部５２の略鉛直下方において、上方を向けて配置される。キャリブレーションカメラ５３は、例えば、ＣＣＤまたはＣＭＯＳを撮像素子として有するデジタルカメラである。なお、キャリブレーションカメラ５３の種類や性能は、適宜設定されてよい。カメラ移動機構５４は、キャリブレーションカメラ５３をガイドレールに沿ってＸ方向に直線移動する移動機構である。カメラ移動機構５４の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。カメラ移動機構５４の構造は、様々に変更されてよい。

【0059】

図４に示すように、第１描画ヘッド群４０１の複数の第１描画ヘッド４１のキャリブレーションが行われる際には、カメラ移動機構５４によってキャリブレーションカメラ５３が移動され、キャリブレーション対象である１つの第１描画ヘッド４１の鉛直下方に配置される。そして、当該１つの第１描画ヘッド４１から、所定のキャリブレーションパターンが目盛部５２に照射される。キャリブレーションパターンは、例えば、十字型のパターンである。なお、キャリブレーションパターンの形状は様々に変更されてよい。

【0060】

キャリブレーションカメラ５３は、目盛部５２上における第１描画ヘッド４１からの光の照射領域（すなわち、キャリブレーションパターン）を、上記目盛と共に下方から撮像する。そして、キャリブレーションカメラ５３により取得された画像（以下、「検査画像」とも呼ぶ。）に基づいて、上記１つの第１描画ヘッド４１のキャリブレーションが行われる。また、他の第１描画ヘッド４１についても同様に、カメラ移動機構５４によってキャリブレーションカメラ５３がＸ方向へと移動し、当該他の第１描画ヘッド４１の鉛直下方に位置した後、同様の手順にてキャリブレーションが行われる。キャリブレーションは、検査画像から検出された各第１描画ヘッド４１の照射領域の位置（以下、「照射位置」とも呼ぶ。）と、設計上の理想的な照射位置（以下、「設計位置」とも呼ぶ。）とのずれ量に基づき、第１描画ヘッド４１の取り付け状態を調整することで行われてよい。

【0061】

図５に示す第２描画ヘッド群４０２の複数の第２描画ヘッド４２に対するキャリブレーションは、上述の複数の第１描画ヘッド４１に対するキャリブレーションと略同様の手順で行われる。すなわち、キャリブレーションカメラ５３が１つの第２描画ヘッド４２の鉛直下方に位置し、当該第２描画ヘッド４２から目盛部５２に照射されるキャリブレーションパターンを目盛と共に撮像する。そして、取得された検査画像に基づいて、当該第２描画ヘッド４２のキャリブレーションが行われる。その後、カメラ移動機構５４によってキャリブレーションカメラ５３がＸ方向に移動され、他の第２描画ヘッド４２についても同様の手順にてキャリブレーションが行われる。

【0062】

このように、描画装置１では、第１描画ヘッド群４０１と第２描画ヘッド群４０２とがＹ方向に比較的大きく離間した状態で、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２のキャリブレーションが行われる。このため、キャリブレーションの結果、第１描画ヘッド４１および／または第２描画ヘッド４２の調整が必要になった場合、上述のメンテナンス時と略同様に、当該調整を容易に行うことができる。なお、第２描画ヘッド群４０２を描画位置に配置した状態で、再び第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２のキャリブレーションを行ってもよい。この時のキャリブレーションは、上述の照射位置と設計位置とのずれに基づき、パターン描画に用いられる描画データの補正や、描画時のステージ２１の走査位置の補正によって行われてもよい。

【0063】

以上に説明したように、基板９に光を照射してパターンの描画を行う描画装置１は、ステージ２１と、第１描画ヘッド群４０１と、第１ヘッド支持部６１と、走査機構（上記例では、ステージ移動機構２２）と、第２描画ヘッド群４０２と、第２ヘッド支持部６２とを備える。ステージ２１は、基板９を保持する。第１描画ヘッド群４０１は、基板９の上面９１に変調された光を照射する。第１ヘッド支持部６１は、ステージ２１の上方にて第１描画ヘッド群４０１を支持する。走査機構は、基板９の上面９１に平行な走査方向（上記例では、Ｙ方向）に、ステージ２１を第１描画ヘッド群４０１に対して相対的に移動する。第２描画ヘッド群４０２は、走査方向において第１描画ヘッド群４０１と隣接して配置される。第２描画ヘッド群４０２は、基板９の上面９１において、走査方向に垂直な幅方向（上記例では、Ｘ方向）に関して第１描画ヘッド群４０１とは異なる位置に、変調された光を照射する。第２ヘッド支持部６２は、ステージ２１の上方にて第２描画ヘッド群４０２を支持する。

【0064】

描画装置１では、第２ヘッド支持部６２を、第１ヘッド支持部６１に対して走査方向に相対的に移動させることにより、第２描画ヘッド群４０２が、走査方向において第１描画ヘッド群４０１に隣接する描画位置と、当該描画位置よりも第１描画ヘッド群４０１から走査方向に離れた退避位置との間で移動する。

【0065】

このように、描画装置１では、第１描画ヘッド群４０１を支持する第１ヘッド支持部６１と、第２描画ヘッド群４０２を支持する第２ヘッド支持部６２とを別々に設け、さらに、第１ヘッド支持部６１と第２ヘッド支持部６２とを走査方向に離間可能とすることにより、描画装置１にて行われる作業に合わせて、第１描画ヘッド群４０１と第２描画ヘッド群４０２との間の走査方向における距離を変更することができる。

【0066】

具体的には、基板９に対するパターンの描画が行われる際には、第２描画ヘッド群４０２を第１描画ヘッド群４０１に隣接する描画位置に配置することにより、第１描画ヘッド群４０１と第２描画ヘッド群４０２との間の走査方向における距離を小さくすることができる。また、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２を別々の支持部にて支持することにより、１つの支持部にて支持する場合に比べて、第１描画ヘッド群４０１と第２描画ヘッド群４０２との間の走査方向における距離を小さくすることができる。その結果、パターン描画時における基板９の走査方向における移動距離を小さくし、１枚の基板の描画に要する時間（すなわち、タクトタイム）を短くすることができる。

【0067】

描画部４等のメンテナンスが行われる際には、第２描画ヘッド群４０２を第１描画ヘッド群４０１から比較的大きく離れた退避位置に配置することにより、上述のように、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２のメンテナンスを容易とすることができる。また、第１ヘッド支持部６１に対する第１描画ヘッド群４０１の取付作業、および、第２ヘッド支持部６２に対する第２描画ヘッド群４０２の取付作業が行われる際も同様に、第２ヘッド支持部６２を退避位置に配置することにより、上述のように取付作業を容易とすることができる。さらに、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２に対するキャリブレーションが行われる際も同様に、第２描画ヘッド群４０２を退避位置に配置することにより、上述のようにキャリブレーションを精度良く行うことができる。

【0068】

描画装置１では、第１描画ヘッド群４０１は、幅方向に直線状に配列された複数の第１描画ヘッド４１を含むことが好ましい。また、第２描画ヘッド群４０２は、幅方向に直線状に配列された複数の第２描画ヘッド４２を含むことが好ましい。これにより、基板９の１回の走査による描画面積を増大させることができ、タクトタイムをさらに短縮することができる。また、描画装置１では、複数の第２描画ヘッド４２を退避位置へと移動させることにより、複数の第１描画ヘッド４１および複数の第２描画ヘッド４２のメンテナンスおよび取付作業を容易とすることができる。

【0069】

上述のように、第１描画ヘッド群４０１は、第１ヘッド支持部６１のうち走査方向において第２ヘッド支持部６２と対向する側面（上記例では、（＋Ｙ）側の側面）に配置されることが好ましい。また、第２描画ヘッド群４０２は、第２ヘッド支持部６２のうち走査方向において第１ヘッド支持部６１と対向する側面（上記例では、（－Ｙ）側の側面）に配置されることが好ましい。これにより、第１描画ヘッド群４０１と第２描画ヘッド群４０２との間の走査方向における距離を容易に小さくすることができる。その結果、タクトタイムを容易に短くすることができる。

【0070】

上述のように、第１描画ヘッド群４０１の各第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド群４０２の各第２描画ヘッド４２はそれぞれ、照明光学系４１３と、空間光変調部４１４と、投影光学系４１５とを備える。好ましくは、照明光学系４１３は、上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、光源からの光を空間光変調部４１４へと導く。空間光変調部４１４は、光源からの光を変調して出射する。また、投影光学系４１５は、空間光変調部４１４の下方にて上下方向に直線状に配置された複数の光学素子を有し、空間光変調部４１４からの光を基板９の上面９１へと導く。

【0071】

このように、照明光学系４１３が空間光変調部４１４から上下方向に延びるＩ型の第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２は、それぞれ一繋がりの部材として構成される。一方、照明光学系４１３が空間光変調部４１４から側方へと延びるＬ型の描画ヘッドは、水平に延びる第１部材と、第１部材の端部から下方に延びる第２部材との２つの部材によって構成される。このため、Ｉ型の第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２は、Ｌ型の描画ヘッドに比べて、第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２への取付作業を容易とすることができる。また、複数の描画ヘッドが密集して配置された場合、通常、Ｉ型の描画ヘッドはＬ型の描画ヘッドに比べて照明光学系や空間光変調部等へのアクセスが難しくなるが、上述の描画装置１では、第２描画ヘッド群４０２を退避位置へと移動することにより、Ｉ型の第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２においても、照明光学系４１３や空間光変調部４１４等に容易にアクセスすることができる。

【0072】

上述のように、第１ヘッド支持部６１は基台１１上に固定されており、第２ヘッド支持部６２は、第１ヘッド支持部６１の走査方向の一方側（上記例では、（＋Ｙ）側）において基台１１上にて移動可能とされる。描画装置１では、第２描画ヘッド群４０２が描画位置に位置する状態で、第２ヘッド支持部６２に走査方向の他方側（上記例では、（－Ｙ）側）から当接して第２ヘッド支持部６２の走査方向の当該他方側への移動を制限する第１移動制限部６４が、基台１１上に設けられることが好ましい。これにより、描画位置における第２描画ヘッド群４０２の位置決めを精度良く行うことができる。その結果、上述のように、基板９に対するパターンの描画精度を向上することができる。

【0073】

また、描画装置１では、第２描画ヘッド群４０２が退避位置に位置する状態で、第２ヘッド支持部６２に走査方向の一方側（上記例では、（＋Ｙ）側）から当接して第２ヘッド支持部６２の走査方向の当該一方側への移動を制限する第２移動制限部６５が、基台１１上に設けられることが好ましい。これにより、退避位置における第２描画ヘッド群４０２の位置決めを精度良く行うことができる。したがって、上述のように、退避位置に位置する第２描画ヘッド群４０２に対してキャリブレーションを行う場合、第２描画ヘッド群４０２に対するキャリブレーション部５の相対位置が所定の位置となるように、キャリブレーション部５を精度良く配置することができる。その結果、第２描画ヘッド群４０２に対するキャリブレーションを精度良く行うことができる。

【0074】

描画装置１は、基板９の上面９１上に予め設けられているアライメントマークを撮像する撮像部（すなわち、アライメントカメラ３１）をさらに備えることが好ましい。また、アライメントカメラ３１は、第１ヘッド支持部６１の走査方向の他方側（上記例では、（－Ｙ）側）にて支持されることが好ましい。そして、アライメントカメラ３１により取得された撮像画像に基づいて基板９の位置が検出される。

【0075】

このように、第１描画ヘッド群４０１を支持する第１ヘッド支持部６１によってアライメントカメラ３１も支持することにより、アライメントカメラ３１用の支持部を第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２とは別に設ける場合に比べて、描画装置１の構造を簡素化することができる。また、基台１１に固定されている第１ヘッド支持部６１によってアライメントカメラ３１を支持することにより、基台１１上にて移動可能な第２ヘッド支持部６２によってアライメントカメラ３１を支持する場合に比べて、ステージ２１に対するアライメントカメラ３１の相対位置を精度良く取得することができる。その結果、基板９の位置を精度良く検出することができる。

【0076】

上述の描画装置１では、様々な変更が可能である。

【0077】

例えば、第１描画ヘッド群４０１は、第１ヘッド支持部６１の（＋Ｙ）側の側面以外の部位に取り付けられてもよい。また、第２描画ヘッド群４０２は、第２ヘッド支持部６２の（－Ｙ）側の側面以外の部位に取り付けられてもよい。

【0078】

第１描画ヘッド４１および第２描画ヘッド４２の構造は、上述の例には限定されず、様々に変更されてよい。例えば、光源部４１２は、描画ヘッドカバー４１６の内部に収容される光源（例えば、ＬＥＤまたはＬＤ等）を備えていてもよい。また、第１描画ヘッド４１はＬ型の描画ヘッドとされ、Ｙ方向に直線状に配置された複数の光学素子を有する照明光学系４１３が、空間光変調部４１４から（－Ｙ）側へと略水平に延びていてもよい。第２描画ヘッド４２も略同様に、Ｌ型の描画ヘッドとされてもよい。

【0079】

第１描画ヘッド群４０１に含まれる第１描画ヘッド４１の数は、１つであってもよく、２つ以上の範囲で適宜変更されてもよい。第２描画ヘッド群４０２に含まれる第２描画ヘッド４２の数も、１つであってもよく、２つ以上の範囲で適宜変更されてもよい。

【0080】

第１描画ヘッド群４０１に含まれる第１描画ヘッド４１の配置、および、第２描画ヘッド群４０２に含まれる第２描画ヘッド４２の配置も様々に変更されてよい。例えば、第１描画ヘッド群４０１では、複数の第１描画ヘッド４１が千鳥状に配置されてもよい。具体的には、例えば、第１描画ヘッド群４０１に５つの第１描画ヘッド４１が含まれる場合、Ｘ方向に略直線状に配列された３つの第１描画ヘッド４１が第１ヘッド支持部６１の（＋Ｙ）側の側面に取り付けられ、当該３つの第１描画ヘッド４１の（＋Ｙ）側に、残り２つの第１描画ヘッド４１が取り付けられる。（＋Ｙ）側の２つの第１描画ヘッド４１は、（－Ｙ）側の３つの第１描画ヘッド４１のＸ方向に関するそれぞれの間に配置される。第２描画ヘッド群４０２においても略同様に、複数の第２描画ヘッド４２が、例えば千鳥状に配置されてもよい。

【0081】

描画装置１では、第１移動制限部６４および／または第２移動制限部６５が、基台１１上から省略されてもよい。

【0082】

アライメント部３の各アライメントカメラ３１は、第２ヘッド支持部６２によって支持されてもよく、第１ヘッド支持部６１および第２ヘッド支持部６２とは異なる支持部によって支持されてもよい。また、アライメントカメラ３１は省略されてもよい。

【0083】

ステージ２１は、第１移動機構２３により、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２に対して主走査方向に相対的に移動すればよい。したがって、例えば、ステージ２１が固定されており、ステージ２１の上方において、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２が第１移動機構２３によって主走査方向に移動されてもよい。同様に、第１描画ヘッド群４０１および第２描画ヘッド群４０２が、第２移動機構２４によって副走査方向に移動されてもよい。

【0084】

上述の基板９は、必ずしもプリント基板には限定されない。描画装置１では、例えば、半導体基板、半導体パッケージ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池パネル用の基板等に対するパターンの描画が行われてもよい。

【0085】

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。

【符号の説明】

【0086】

１ 描画装置
９ 基板
１１ 基台
２１ ステージ
２２ ステージ移動機構
３１ アライメントカメラ
４１ 第１描画ヘッド
４２ 第２描画ヘッド
６１ 第１ヘッド支持部
６２ 第２ヘッド支持部
６４ 第１移動制限部
６５ 第２移動制限部
９１ （基板の）上面
４０１ 第１描画ヘッド群
４０２ 第２描画ヘッド群
４１３ 照明光学系
４１４ 空間光変調部
４１５ 投影光学系

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】