(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024138085
(43)【公開日】2024-10-07
(54)【発明の名称】封止用シートおよびポリマー組成物層
(51)【国際特許分類】
B32B 27/32 20060101AFI20240927BHJP
B32B 37/24 20060101ALI20240927BHJP
【ＦＩ】
B32B27/32 A
B32B37/24
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024119375
(22)【出願日】2024-07-25
(62)【分割の表示】P 2020125483の分割
【原出願日】2020-07-22
(71)【出願人】
【識別番号】000000066
【氏名又は名称】味の素株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100080791
【弁理士】
【氏名又は名称】高島 一
(74)【代理人】
【識別番号】100136629
【弁理士】
【氏名又は名称】鎌田 光宜
(74)【代理人】
【識別番号】100125070
【弁理士】
【氏名又は名称】土井 京子
(74)【代理人】
【識別番号】100121212
【弁理士】
【氏名又は名称】田村 弥栄子
(74)【代理人】
【識別番号】100174296
【弁理士】
【氏名又は名称】當麻 博文
(74)【代理人】
【識別番号】100137729
【弁理士】
【氏名又は名称】赤井 厚子
(72)【発明者】
【氏名】大橋 賢
(72)【発明者】
【氏名】細井 麻衣
(57)【要約】
【課題】事前乾燥の省略が可能な、ポリマー組成物層の含水率が充分に低減された封止用シートを提供すること。
【解決手段】支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートであって、ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上であり、並びにポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下である封止用シート。
【選択図】なし
【解決手段】支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートであって、ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上であり、並びにポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下である封止用シート。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートの製造方法であって、
ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上８０質量％以下であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下であり、
（１）架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを有機溶剤に溶かして、ポリマー組成物のワニスを調製する工程、
（２）得られたワニスを支持体上に塗布して塗膜を形成する工程、
（３）得られた塗膜を乾燥してポリマー組成物層（乾燥塗膜）を形成する工程、および
（４）得られたポリマー組成物層に保護シートを積層して積層体を形成する工程
を含む、製造方法。
ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上８０質量％以下であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下であり、
（１）架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを有機溶剤に溶かして、ポリマー組成物のワニスを調製する工程、
（２）得られたワニスを支持体上に塗布して塗膜を形成する工程、
（３）得られた塗膜を乾燥してポリマー組成物層（乾燥塗膜）を形成する工程、および
（４）得られたポリマー組成物層に保護シートを積層して積層体を形成する工程
を含む、製造方法。
【請求項2】
（５）得られた積層体を加熱するエージングでポリマー組成物層の含水率を５００ｐｐｍ以下に低減させる工程
をさらに含む、請求項１に記載の製造方法。
をさらに含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
架橋構造を有するオレフィン系ポリマーが、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されている、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項4】
支持体および保護シートの水蒸気透過度が、それぞれ、１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項5】
封止用シートが電子デバイスの封止に用いられる、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項6】
電子デバイスが有機ＥＬデバイスまたは太陽電池である、請求項５に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子デバイスの封止に有用な封止用シートおよびポリマー組成物層に関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ（Electroluminescence）デバイス、太陽電池等の電子デバイスを水分から保
護するため、ポリマー組成物層を用いて電子デバイスを封止することが行われている。
護するため、ポリマー組成物層を用いて電子デバイスを封止することが行われている。
【0003】
電子デバイスの封止に適したポリマー組成物層としては、吸湿性フィラーを含有するものが知られている。例えば、特許文献１には、支持体と、吸湿性の金属水酸化物を含むポリマー組成物層とから構成される封止用シートが開示されている。
【0004】
封止用シート（特に、吸湿性フィラーを使用する封止用シート）では、電子デバイスの封止に用いられるポリマー組成物層の表面および内部に存在する水分が電子デバイスに悪影響を及ぼすことを回避するために、封止前に、封止用シートを乾燥することが行われる。例えば、特許文献２では、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、封止体にマイクロ波および遠赤外線を同時照射して、封止体を乾燥することが開示されている。
【0005】
封止用シート（特に、吸湿性フィラーを使用する封止用シート）では、その保管時に、ポリマー組成物層の吸湿を防ぐ必要がある。ポリマー組成物層の吸湿を防ぐために、例えば特許文献３では、水蒸気透過度が１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である第１フィルムおよび第２フィルムでポリマー組成物層を保護することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】国際公開第２０１７／０５７７０８号
【特許文献2】特開２００６－２６９２４７号公報
【特許文献3】国際公開第２０１８／１８１４２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
封止用シートの封止前の乾燥（以下「事前乾燥」と記載することがある）は、電子デバイスの製造コストの削減の観点から省略することが望まれている。また、低透湿性の支持体、ポリマー組成物層、および低透湿性の保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートでは、保護シートを剥離せずにポリマー組成物層を事前乾燥することは困難である。本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、本発明の目的は、事前乾燥の省略が可能な、ポリマー組成物層の含水率が充分に低減された封止用シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上述の目的を達成し得る本発明は、以下の通りである。
［１］ 支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートであって、
ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質
量％以上であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下である封止用シート。
［２］ 酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して８０質量％以下である前記［１］に記載の封止用シート。
［３］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーが、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されている前記［１］または［２］に記載の封止用シート。
［４］ 支持体および保護シートの水蒸気透過度が、それぞれ、１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の封止用シート。
［５］ 電子デバイスの封止に用いられる前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の封止用シート。
［６］ 電子デバイスが、有機ＥＬデバイスまたは太陽電池である前記［５］に記載の封止用シート。
［７］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含むポリマー組成物層であって、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下であるポリマー組成物層。
［８］ 酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して８０質量％以下である前記［７］に記載のポリマー組成物層。
［９］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーが、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されている前記［７］または［８］に記載のポリマー組成物層。
［１］ 支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートであって、
ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含み、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質
量％以上であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下である封止用シート。
［２］ 酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して８０質量％以下である前記［１］に記載の封止用シート。
［３］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーが、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されている前記［１］または［２］に記載の封止用シート。
［４］ 支持体および保護シートの水蒸気透過度が、それぞれ、１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の封止用シート。
［５］ 電子デバイスの封止に用いられる前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の封止用シート。
［６］ 電子デバイスが、有機ＥＬデバイスまたは太陽電池である前記［５］に記載の封止用シート。
［７］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーおよび酸化カルシウムを含むポリマー組成物層であって、
酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上であり、並びに
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下であるポリマー組成物層。
［８］ 酸化カルシウムの含有量が、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して８０質量％以下である前記［７］に記載のポリマー組成物層。
［９］ 架橋構造を有するオレフィン系ポリマーが、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されている前記［７］または［８］に記載のポリマー組成物層。
【発明の効果】
【0009】
本発明の封止用シートのポリマー組成物層は含水率が充分に低く、事前乾燥の省略が可能である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明は、支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する封止用シートを提供する。支持体とポリマー組成物層との間、およびポリマー組成物層と保護シートとの間に、他の層（例えば離型層）が存在していてもよい。また、本発明は、ポリマー組成物層自体も提供する。
【0011】
ポリマー組成物層の含水率が、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で５００ｐｐｍ以下であることが、本発明の特徴の一つである。このようにポリマー組成物層の含水率が充分に低い本発明の封止用シートでは、事前乾燥を省略することが可能である。前記含水率は、低いほど好ましく（理想的には０ｐｐｍ）、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で、好ましくは２５０ｐｐｍ以下、より好ましくは１００ｐｐｍ以下である。前記含水率は、後述の実施例欄に記載するようにして測定することができる。
【0012】
ポリマー組成物層が多量の酸化カルシウムを吸湿性フィラーとして含有することが、本発明の特徴の一つである。多量の酸化カルシウムを使用することによって、封止用シートの製造時（特にエージング時）にポリマー組成物層の含水率を充分に低減させることができる。
【0013】
ポリマー組成物層の含水率を充分に低減させるために、酸化カルシウムの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して４０質量％以上、好ましくは４１質量％
以上、より好ましくは４２質量％以上である。一方、ポリマー組成物層の粘着性の観点から、酸化カルシウムの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７５質量％以下、さらに好ましくは７０質量％以下である。
以上、より好ましくは４２質量％以上である。一方、ポリマー組成物層の粘着性の観点から、酸化カルシウムの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７５質量％以下、さらに好ましくは７０質量％以下である。
【0014】
酸化カルシウムは、市販品を使用することができる。市販品としては、例えば、井上石灰工業社製「ＱＣ－Ｘ」；三共製粉社製「モイストップ＃１０」；吉澤石灰工業社製「ＨＡＬ－Ｇ」、「ＨＡＬ－Ｊ」、「ＨＡＬ－Ｆ」；Ｆｉｌｇｅｎ社製「ＣａＯ Ｎａｎｏ Ｐｏｗｄｅｒ」等が挙げられる。
【0015】
本発明では、酸化カルシウムを含む混合物を、吸湿性フィラーとして用いてもよい。そのような混合物としては、例えば、焼成ドロマイト（酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムを含む混合物）が挙げられる。焼成ドロマイトは、例えば、吉澤石灰工業社等から入手することができる。
【0016】
酸化カルシウムの粒子径および酸化カルシウムを含む混合物（以下「酸化カルシウム等」と記載することがある）の粒子径は、封止工程で酸化カルシウム等が電子デバイスを損傷することを防止するため、および酸化カルシウム等とポリマーとの界面結合力を高めるために、それぞれ、好ましくは０．０３～１０μｍ、より好ましくは０．０５～５μｍ、さらに好ましくは０．１～３μｍである。これらの粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定（ＪＩＳ Ｚ ８８２５）により粒度分布を体積基準で作成したときの該粒度分布のメジアン径である。
【0017】
ポリマー組成物層は、酸化カルシウム以外の吸湿性フィラー（以下「他の吸湿性フィラー」と記載することがある）を含んでいてもよい。他の吸湿性フィラーとしては、例えば、半焼成ハイドロタルサイト、焼成ハイドロタルサイト、酸化マグネシウム、モレキュラーシーブ等が挙げられる。他の吸湿性フィラーは、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。酸化カルシウム以外の吸湿性フィラーの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは０～４０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～２０質量％である。
【0018】
ポリマー組成物層が、架橋構造を有するオレフィン系ポリマー（以下「架橋オレフィン系ポリマー」と記載することがある）を含むことが、本発明の特徴の一つである。このような架橋オレフィン系ポリマーを使用することによって、高湿および高温条件下で保存されても接着強度の低下を抑制し得る（即ち、湿熱耐性が良好な）ポリマー組成物層を得ることができる。架橋オレフィン系ポリマーは、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0019】
湿熱耐性の観点から、架橋オレフィン系ポリマーの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは１～４０質量％、より好ましくは２～３５質量％、さらに好ましくは３～３０質量％である。
【0020】
架橋オレフィン系ポリマーは、カルボキシ基および／または酸無水物基（即ち、カルボニルオキシカルボニル基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－））を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されていることが好ましく、酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとから形成されていることがより好ましい。カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーおよびエポキシ基を有するオレフィン系ポリマーは、いずれも１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0021】
以下、架橋オレフィン系ポリマー、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーおよびエポキシ基を有するオレフィン系ポリマーの「オレフィン系ポリマー」部分について、説明する。
【0022】
オレフィン系ポリマーのオレフィン単位としては、１個のオレフィン性炭素－炭素二重結合を有するモノオレフィンおよび／または２個のオレフィン性炭素－炭素二重結合を有するジオレフィンに由来するものが好ましい。モノオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１－ブテン、イソブチレン（イソブテン）、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン等のα－オレフィンが挙げられる。ジオレフィンとしては、例えば、１，３－ブタジエン、イソプレン、１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチルブタジエン等が挙げられる。
【0023】
オレフィン系ポリマーは、単独重合体でもよく、ランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体でもよい。共重合体としては、２種以上のオレフィンの共重合体、およびオレフィンと非共役ジエン、スチレン等のオレフィン以外のモノマーとの共重合体が挙げられる。好ましい共重合体の例として、エチレン－非共役ジエン共重合体、エチレン－プロピレン共重合体、エチレン－プロピレン－非共役ジエン共重合体、エチレン－ブテン共重合体、プロピレン－ブテン共重合体、プロピレン－ブテン－非共役ジエン共重合体、スチレン－イソブチレン共重合体、スチレン－イソブチレン－スチレン共重合体、イソブチレン－イソプレン共重合体等が挙げられる。
【0024】
オレフィン系ポリマーとしては、ブテン系ポリマーおよびプロピレン系ポリマーが好ましい。ここで、「ブテン系ポリマー」とは、ポリマーを構成する全オレフィンモノマー単位のうちの主単位（最大含有量の単位）がブテン由来であるポリマーを指す。ブテンとしては、例えば１－ブテン、イソブチレン（イソブテン）等が挙げられる。「プロピレン系ポリマー」とは、ポリマーを構成する全オレフィンモノマー単位のうちの主単位（最大含有量の単位）がプロピレン由来であるポリマーを指す。
【0025】
ブテン系ポリマーが共重合体である場合、ブテン以外のモノマーとしては、例えば、スチレン、エチレン、プロピレン、イソプレン等が挙げられる。プロピレン系ポリマーが共重合体である場合、プロピレン以外のモノマーとしては、例えば、エチレン、ブテン、イソプレン等が挙げられる。
【0026】
オレフィン系ポリマーは、ワニスの増粘による流動性の低下を抑制する観点から非晶性であることが好ましい。ここで、非晶性とは、オレフィン系ポリマーが明確な融点を有しないことを意味し、例えば、オレフィン系ポリマーのＤＳＣ（示差走査熱量測定）で融点を測定した場合に明確なピークが観察されないものを使用することができる。
【0027】
次に、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーについて説明する。酸無水物基としては、例えば、無水コハク酸に由来する基、無水マレイン酸に由来する基、無水グルタル酸に由来する基等が挙げられる。カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーとしては、カルボキシ基および／または酸無水物基を有するブテン系ポリマー、並びにカルボキシ基および／または酸無水物基を有するプロピレン系ポリマーが好ましく、酸無水物基を有するブテン系ポリマーおよび酸無水物基を有するプロピレン系ポリマーがより好ましい。
【0028】
カルボキシ基を有するオレフィン系ポリマー中のカルボキシ基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。カルボキシ基の濃度は、ＪＩＳ Ｋ ２５０１の記載に従い、ポリマー１ｇ中に存在する酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数として定義される酸価の値より得られる。
【0029】
酸無水物基を有するオレフィン系ポリマー中の酸無水物基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。酸無水物基の濃度は、ＪＩＳ Ｋ ２５０１の記載に従い、ポリマー１ｇ中に存在する酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数として定義される酸価の値より得られる。
【0030】
カルボキシ基および酸無水物基の両方を有するオレフィン系ポリマー中のカルボキシ基の濃度と酸無水物基の濃度との合計は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。
【0031】
カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーは、例えば、カルボキシ基および／または酸無水物基を有する不飽和化合物で、オレフィン系ポリマーをラジカル反応条件下にてグラフト変性することによって得ることができる。また、カルボキシ基および／または酸無水物基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合することによって、酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーを得ることができる。
【0032】
カルボキシ基および／または酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーは市販品を使用してもよい。その市販品としては、例えば、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ２７９」（無水マレイン酸変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：３６質量％、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：３５，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３１２」（無水マレイン酸変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：２９質量％、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：６０，９００）、星光ＰＭＣ社製「ＥＲ６６１」（無水マレイン酸変性イソブチレン－イソプレンランダム共重合体、酸無水物基濃度０．８７ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：３９，７００）、東邦化学工業社製「ＨＶ－３００Ｍ」（無水マレイン酸変性液状ポリブテン（「ＨＶ－３００」（数平均分子量：１，４００）の変性品）、数平均分子量：２，１００、酸無水物基を構成するカルボキシ基の数：３．２個／１分子、酸価：４３．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸無水物基濃度：０．７７ｍｍｏｌ／ｇ）等が挙げられる。
【0033】
次に、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーについて説明する。エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとしては、エポキシ基を有するブテン系ポリマーおよびエポキシ基を有するプロピレン系ポリマーが好ましい。
【0034】
エポキシ基を有するオレフィン系ポリマー中のエポキシ基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。エポキシ基濃度は、ＪＩＳ Ｋ ７２３６－１９９５に基づいて得られるエポキシ当量から求められる。
【0035】
エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーは、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有する不飽和化合物で、オレフィン系ポリマーをラジカル反応条件下にてグラフト変性することによって得ることができる。また、エポキシ基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合することによって、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーを得ることができる。
【0036】
エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーは市販品を使用してもよい。その市販品としては、例えば、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３４１」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５
，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ２７６」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：３６質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：５７，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３１３」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）、星光ＰＭＣ社製「ＥＲ８５０」（グリシジルメタクリレート変性イソブチレン－イソプレンランダム共重合体、エポキシ基濃度：０．６５４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：９９，２００）等が挙げられる。
，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ２７６」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：３６質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：５７，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３１３」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）、星光ＰＭＣ社製「ＥＲ８５０」（グリシジルメタクリレート変性イソブチレン－イソプレンランダム共重合体、エポキシ基濃度：０．６５４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：９９，２００）等が挙げられる。
【0037】
カルボキシ基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとの使用量は、架橋構造が形成できれば特に限定されないが、エポキシ基の量（ｍｏｌ）とカルボキシ基の量（ｍｏｌ）との比（即ち、エポキシ基の量（ｍｏｌ）：カルボキシ基の量（ｍｏｌ））は、好ましくは１００：１０～１００：５００、より好ましくは１００：２５～１００：４７５、さらに好ましくは１００：４０～１００：４５０である。
【0038】
酸無水物基を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとの使用量は、架橋構造が形成できれば特に限定されないが、エポキシ基の量（ｍｏｌ）と酸無水物基の量（ｍｏｌ）との比（即ち、エポキシ基の量（ｍｏｌ）：酸無水物基の量（ｍｏｌ））は、好ましくは１００：１０～１００：５００、より好ましくは１００：２５～１００：４７５、さらに好ましくは１００：４０～１００：４５０である。
【0039】
カルボキシ基および酸無水物基の両方を有するオレフィン系ポリマーと、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーとの使用量は、架橋構造が形成できれば特に限定されないが、「エポキシ基の量（ｍｏｌ）」と「カルボキシ基の量（ｍｏｌ）および酸無水物基の量（ｍｏｌ）の合計」との比（即ち、エポキシ基の量（ｍｏｌ）：（カルボキシ基の量（ｍｏｌ）＋酸無水物基の量（ｍｏｌ）））は、好ましくは１００：１０～１００：５００、より好ましくは１００：２５～１００：４７５、さらに好ましくは１００：４０～１００：４５０である。
【0040】
ポリマー組成物層は、粘着性および柔軟性の観点から、架橋構造を有さないオレフィン系ポリマー（以下「非架橋オレフィン系ポリマー」と記載することがある）を含むことが好ましい。非架橋オレフィン系ポリマーは、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。非架橋オレフィン系ポリマーの「オレフィン系ポリマー」部分の説明は、上述した架橋オレフィン系ポリマー等の「オレフィン系ポリマー」部分の説明と同様である。
【0041】
ポリマー組成物層の粘着性および柔軟性の観点から、非架橋オレフィン系ポリマーの含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは５～５０質量％、より好ましくは１０～４５質量％、さらに好ましくは１５～４０質量％である。
【0042】
非架橋オレフィン系ポリマーは市販品を使用してもよい。その市販品としては、例えば、ＥＮＥＯＳ社製「ＨＶ－３００」（液状ポリブテン、数平均分子量１，４００）、ＥＮＥＯＳ社製「ＨＶ－１９００」（液状ポリブテン、数平均分子量：２，９００）、三井化学社製「Ｘ１１０２Ｃ」（プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計あたりのブテン単位の量：２９質量％）、ＢＡＳＦ社製「オパノールＢ１００」（ポリイソブチレン、粘度平均分子量：１，１１０，０００）、ＢＡＳＦ社製「Ｎ５０ＳＦ」（ポリイソブチレン、粘度平均分子量：４００，０００）、ＥＮＥＯＳ社製「テトラックス３Ｔ」（ポリイソブチレン、粘度平均分子量：３０，０００）、ＥＮＥＯＳ社製「テトラックス６Ｔ」（ポリイソブチレン、粘度平均分子量：６０，０００）が挙げら
れる。
れる。
【0043】
上述の酸無水物基を有するオレフィン系ポリマー、エポキシ基を有するオレフィン系ポリマーおよび非架橋オレフィン系ポリマーの数平均分子量は、ポリマー組成物のワニスの良好な塗工性等の観点から、それぞれ、１，０００，０００以下が好ましく、７５０，０００以下がより好ましく、５００，０００以下がより一層好ましく、４００，０００以下がさらに好ましく、３００，０００以下がさらに一層好ましく、２００，０００以下が特に好ましい。一方、ポリマー組成物のワニスの塗工時のハジキを防止し、形成されるポリマー組成物層の封止性能を発現させ、機械強度を向上させるという観点から、この数平均分子量は、１，０００以上が好ましく、２，０００以上がより好ましい。なお、本発明における数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。ＧＰＣ法による数平均分子量は、具体的には、測定装置として島津製作所社製「ＬＣ－９Ａ／ＲＩＤ－６Ａ」を、カラムとして昭和電工社製「Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ－８００Ｐ／Ｋ－８０４Ｌ／Ｋ－８０４Ｌ」を、移動相としてトルエン等を用いて、カラム温度４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
【0044】
ポリマー組成物層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、上述のもの以外の成分（以下「他の成分」と記載することがある）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、粘着付与剤、硬化促進剤、酸化防止剤、可塑剤等が挙げられる。これらは、いずれも１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0045】
粘着付与剤は、ポリマー組成物層に粘着性を付与する成分である。粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂（水素添加テルペン樹脂、テルペンフェノール共重合樹脂、芳香族変性テルペン樹脂等）、石油樹脂（脂肪族系石油樹脂、水添系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、共重合系石油樹脂）、クマロン－インデン樹脂、アルキルフェノール樹脂、キシレン樹脂等が挙げられる。
【0046】
粘着付与剤は市販品を使用することができる。その市販品としては、例えば、以下のものが挙げられる。ロジン系樹脂としては、例えば、パインクリスタル ＭＥ－Ｈ、パインクリスタルＭＥ－Ｄ、パインクリスタル ＭＥ－Ｇ、パインクリスタル ＫＲ－８５、パインクリスタル ＫＥ－３１１、パインクリスタル ＫＥ－３５９、パインクリスタル Ｄ－６０１１、パインクリスタル ＰＥ－５９０、パインクリスタル ＫＥ－６０４、パインクリスタル ＰＲ－５８０（いずれも荒川化学工業社製）等が挙げられる。
【0047】
テルペン樹脂としては、例えばＹＳレジンＰＸ１０００、ＹＳレジンＰＸ１１５０、ＹＳレジンＰＸ１１５０Ｎ、ＹＳレジンＰＸ１２５０、ＹＳレジンＴＨ１３０、ＹＳレジンＴＲ１０５、ＹＳレジンＬＰ、ＹＳレジンＣＰ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。
【0048】
水素添加テルペン樹脂としては、例えばクリアロンＰ、クリアロンＭ、クリアロンＫシリーズ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。
【0049】
テルペンフェノール共重合樹脂としては、例えばＹＳポリスター２０００、ポリスターＵ、ポリスターＴ、ポリスターＳ、マイティエースＧ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。
【0050】
芳香族変性テルペン樹脂としては、例えばＹＳレジンＴＯ８５、ＹＳレジンＴＯ１０５、ＹＳレジンＴＯ１１５、ＹＳレジンＴＯ１２５（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。
【0051】
水添系石油樹脂としては、例えばＥｓｃｏｒｅｚ５３００シリーズ、５６００シリーズ（いずれもエクソンモービル社製）；Ｔ－ＲＥＺ ＯＰ５０１、Ｔ－ＲＥＺ ＰＲ８０３、Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ０８５、Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１０３、Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１０５、Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１２５、（いずれも水添ジシクロペンタジエン系石油樹脂、ＥＮＥＯＳ社製）；Ｑｕｉｎｔｏｎｅ１３２５、Ｑｕｉｎｔｏｎｅ１３４５（いずれも日本ゼオン社製）；アイマーブＳ－１００、アイマーブＳ－１１０、アイマーブＰ－１００、アイマーブＰ－１２５、アイマーブＰ－１４０（いずれも水添ジシクロペンタジエン系石油樹脂、出光興産社製）；アルコン Ｐ－９０、アルコン Ｐ－１００、アルコン Ｐ－１１５、アルコンＰ－１２５、アルコン Ｐ－１４０、アルコン Ｍ－９０、アルコン Ｍ－１００、アルコン Ｍ－１１５、アルコン Ｍ－１３５、ＴＦＳ１３－０３０（いずれも荒川化学工業社製）等が挙げられる。
【0052】
芳香族系石油樹脂としては、例えばＥＮＤＥＸ１５５（イーストマン社製）；ネオポリマー Ｌ－９０、ネオポリマー１２０、ネオポリマー１３０、ネオポリマー１４０、ネオポリマー１５０、ネオポリマー１７０Ｓ、ネオポリマー１６０、ネオポリマー Ｅ－１００、ネオポリマー Ｅ－１３０、ネオポリマー Ｍ－１、ネオポリマー Ｓ、ネオポリマー Ｓ１００、ネオポリマー １２０Ｓ、ネオポリマー １３０Ｓ、ネオポリマー ＥＰ－１４０（いずれもＥＮＥＯＳ社製）；ペトコール ＬＸ、ペトコール １２０、ペトコール１３０、ペトコール１４０（いずれも東ソー社製）；Ｔ－ＲＥＺ ＲＢ０９３、Ｔ－ＲＥＺ ＲＣ１００、Ｔ－ＲＥＺ ＲＣ１１５、Ｔ－ＲＥＺ ＲＣ０９３，Ｔ－ＲＥＺ ＲＥ１００（いずれもＥＮＥＯＳ社製）等が挙げられる。
【0053】
共重合系石油樹脂としては、Ｔ－ＲＥＺ ＨＢ１０３、Ｔ－ＲＥＺ ＨＢ１２５、Ｔ－ＲＥＺ ＰＲ８０１、Ｔ－ＲＥＺ ＰＲ８０２、Ｔ－ＲＥＺ ＲＤ１０４（いずれもＥＮＥＯＳ社製）；ペトロタック６０、ペトロタック７０、ペトロタック ９０、ペトロタック９０ＨＳ、ペトロタック ９０Ｖ、ペトロタック１００Ｖ（いずれも東ソー社製）；ＱｕｉｎｔｏｎｅＤ１００（日本ゼオン社製）等が挙げられる。
【0054】
粘着付与剤の軟化点は、ポリマー組成物層の耐熱性等の観点から、５０～２００℃が好ましく、９０～１８０℃がより好ましく、１００～１５０℃がさらに好ましい。なお、軟化点は、ＪＩＳ Ｋ２２０７に従い環球法により測定される。
【0055】
粘着付与剤の含有量は、ポリマー組成物層の粘着性および封止性の観点から、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは０～５０質量％、より好ましくは０～４０質量％、さらに好ましくは０～３０質量％である。
【0056】
硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール化合物、３級・４級アミン系化合物、ジメチルウレア化合物、有機ホスフィン化合物等が挙げられる。
【0057】
イミダゾール化合物としては、例えば、１Ｈ－イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、２，４－ジアミノ－６－（２’－ウンデシルイミダゾリル－（１’））－エチル－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，５－ビス（ヒドロキシメチル）イミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ドデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２，４－ジアミノ－６－（２’－メチルイミダゾリル－（１
’））－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－（２’－メチルイミダゾリル－（１’））－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。イミダゾール化合物の具体例としては、キュアゾール２ＭＺ、２Ｐ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮＳ、Ｃ１１Ｚ－Ａ、２ＰＨＺ、１Ｂ２ＭＺ、１Ｂ２ＰＺ、２ＰＺ、Ｃ１７Ｚ、１．２ＤＭＺ、２Ｐ４ＭＨＺ－ＰＷ、２ＭＺ－Ａ、２ＭＡ－ＯＫ（いずれも四国化成工業社製）等が挙げられる。
’））－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－（２’－メチルイミダゾリル－（１’））－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。イミダゾール化合物の具体例としては、キュアゾール２ＭＺ、２Ｐ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮＳ、Ｃ１１Ｚ－Ａ、２ＰＨＺ、１Ｂ２ＭＺ、１Ｂ２ＰＺ、２ＰＺ、Ｃ１７Ｚ、１．２ＤＭＺ、２Ｐ４ＭＨＺ－ＰＷ、２ＭＺ－Ａ、２ＭＡ－ＯＫ（いずれも四国化成工業社製）等が挙げられる。
【0058】
３級・４級アミン系化合物としては、特に制限はないが、例えば、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩；ＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７）、ＤＢＮ（１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５）、ＤＢＵ－フェノール塩、ＤＢＵ－オクチル酸塩、ＤＢＵ－ｐ－トルエンスルホン酸塩、ＤＢＵ－ギ酸塩、ＤＢＵ－フェノールノボラック樹脂塩等のジアザビシクロ化合物；ベンジルジメチルアミン、２－（ジメチルアミノメチル）フェノール、２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール（ＴＡＰ）等の３級アミンまたはそれらの塩、芳香族ジメチルウレア、脂肪族ジメチルウレア等のジメチルウレア化合物；等が挙げられる。
【0059】
ジメチルウレア化合物としては、例えば、ＤＣＭＵ（３－（３，４－ジクロロフェニル）－１，１－ジメチルウレア）、Ｕ－ＣＡＴ３５１２Ｔ（サンアプロ社製）等の芳香族ジメチルウレア；Ｕ－ＣＡＴ３５０３Ｎ（サンアプロ社製）等の脂肪族ジメチルウレア等が挙げられる。中でも硬化性の点から、芳香族ジメチルウレアが好ましく用いられる。
【0060】
有機ホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラ－ｐ－トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、（４－メチルフェニル）トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン等が挙げられる。有機ホスフィン化合物の具体例としては、ＴＰＰ、ＴＰＰ－ＭＫ、ＴＰＰ－Ｋ、ＴＴＢｕＰ－Ｋ、ＴＰＰ－ＳＣＮ、ＴＰＰ－Ｓ（いずれも北興化学工業社製）等が挙げられる。
【0061】
硬化促進剤を使用する場合、その含有量は、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーの形成促進等のために、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは０．００１～５質量％、より好ましくは０．００１～２．５質量％、さらに好ましくは０．００１～１質量％である。
【0062】
本発明において酸化防止剤に特に限定はなく、公知のものを使用することができる。酸化防止剤を使用する場合、その含有量は、ポリマー組成物層の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは０．０１～５質量％、より好ましくは０．０５～２．５質量％、さらに好ましくは０．１～２質量％である。
【0063】
可塑剤としては、例えば、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、流動パラフィン、ワセリン等の鉱物油、ヒマシ油、綿実油、菜種油、大豆油、パーム油、ヤシ油、オリーブ油等の植物油等が挙げられる。
【0064】
本発明の封止用シートは、支持体、ポリマー組成物層、および保護シートをこの順に含む積層構造を有する。支持体および保護シートとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン；シクロオレフィンポリマー；ポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」と記載することがある）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリカーボネート；ポリイミド等のプラスチックフィルム等が挙げら
れる。支持体および保護シートは、いずれも単層フィルムでもよく、積層フィルムでもよい。
れる。支持体および保護シートは、いずれも単層フィルムでもよく、積層フィルムでもよい。
【0065】
保護シートでは、ポリマー組成物層と接する面が離型処理されていることが好ましい。一方、支持体は、離型処理されていてもよく、されていなくてもよい。離型処理としては、例えば、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤による離型処理が挙げられる。
【0066】
支持体および保護シートの厚さは、特に限定されないが、封止用シートの取り扱い性等の観点から、それぞれ、好ましくは１０～１５０μｍ、より好ましくは２０～１００μｍである。なお、支持体および保護シートが積層フィルムである場合、前記厚さは、積層フィルムの厚さである。一方、ポリマー組成物層の厚さは、封止性等の観点から、好ましくは５～２００μｍ、より好ましくは５～１５０μｍ、さらに好ましくは５～１００μｍである。
【0067】
支持体および保護シートの水蒸気透過度（以下「ＷＶＴＲ」と記載することがある）は、それぞれ、好ましくは１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である。ここでシートの「水蒸気透過度（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）」とは、後述する所定の温度および湿度の条件で、面積１ｍ２のシートを、２４時間で透過する水蒸気の量（ｇ）を意味する。水蒸気透過度が１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である低透湿性の支持体および低透湿性の保護シートを使用することにより、封止用シートの保管時に、ポリマー組成物層の吸湿を防ぐことができる。なお、低透湿性の支持体および低透湿性の保護シートを使用すれば、一般に、封止用シートの事前乾燥が困難である。この点、本発明では、上述したように多量の酸化カルシウムを使用するすることによって封止用シートの製造時（特にエージング時）にポリマー組成物層の含水率を充分に低減させることができるため、封止用シートの事前乾燥を省略できる。
【0068】
シートの「水蒸気透過度（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）」は、ＭＯＣＯＮ社製水蒸気透過率測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮシリーズ（ＩＳＯ １５１０６－２、ＪＩＳ Ｋ７１２９Ｂに従う）によって測定できる。具体的には、シートを５０ｃｍ２に切断し、シリコーングリースを使用して治具にセットした後、超純水を用いて温度４０度および湿度９０％ＲＨの条件に調節して、水蒸気透過度が定常状態になるまで測定する。
【0069】
低透湿性の支持体および低透湿性の保護シートとして、例えば、バリア層を有するフィルム、またはバリア層を有するフィルムと別のフィルムとの積層フィルムを使用することができる。バリア層としては、例えば、シリカ蒸着膜、窒化ケイ素膜、酸化ケイ素膜等の無機膜が挙げられる。バリア層は、複数の無機膜の複数層（例えば、シリカ蒸着膜）で構成されていてもよい。また、バリア層は、有機物と無機物から構成されていてもよく、有機層と無機膜の複合多層であってもよい。
【0070】
バリア層を有するフィルムとしては、例えば、ＷＶＴＲが０．０００５（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である高バリア性プラスチックフィルムを使用することができる。高バリア性プラスチックフィルムとしては、例えば、プラスチックフィルム表面に酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、ＳｉＣＮ、アモルファスシリコン等の無機膜を、化学気相成長法（例えば、熱、プラズマ、紫外線、真空熱、真空プラズマまたは真空紫外線による化学気相成長法）、または物理気相成長法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザー堆積法、分子線エピタキシー法等）により単層または複層で積層することによって製造されたものが挙げられる（例えば、特開２０１６－１８５７０５号公報、特許第５７１９１０６号公報、特許第５７１２５０９号公報、特許第５２９２３５８号公報等参照）。無機膜のク
ラックを防止するため、無機膜と透明平坦化層（例えば、透明プラスチック層）を交互に積層することが好ましい。
ラックを防止するため、無機膜と透明平坦化層（例えば、透明プラスチック層）を交互に積層することが好ましい。
【0071】
また、バリア層を有するフィルムとしては、例えば、ＷＶＴＲが０．０１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以上１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下である中バリア性プラスチックフィルムを使用することができる。中バリア性プラスチックフィルムとしては、例えば、バリア層として、基材表面に酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、ＳｉＣＮ、アモルファスシリコン等の無機物を含む無機膜を蒸着する方法、または基材に金属酸化物とバリア性を有する有機樹脂からなるコーティング液を塗布し、乾燥する方法等で製造されたものが挙げられる（例えば、特開２０１３－１０８１０３号公報、特許第４０２８３５３号公報等参照）。
【0072】
バリア層を有するフィルムとしては市販品を使用してもよい。中バリア性プラスチックフィルムの市販品としては、例えば、クラレ社製「クラリスタＣＩ」、三菱ケミカル社製「テックバリアＨＸ」、「テックバリアＬＸ」および「テックバリアＬ」、大日本印刷社製「ＩＢ－ＰＥＴ－ＰＸＢ」、凸版印刷社製「ＧＬ，ＧＸシリーズ」等が挙げられる、高バリア性プラスチックフィルムの市販品としては、例えば、三菱ケミカル社製「Ｘ－ＢＡＲＲＩＥＲ」等が挙げられる。
【0073】
本発明の封止用シートおよびポリマー組成物層は、例えば、（１）上述の成分を有機溶剤に溶かして、ポリマー組成物のワニスを調製し、（２）得られたワニスを支持体上に塗布して塗膜を形成し、（３）得られた塗膜を乾燥してポリマー組成物層（乾燥塗膜）を形成し、（４）得られたポリマー組成物層に保護シートを積層して積層体を形成し、（５）得られた積層体を加熱するエージングでポリマー組成物層の含水率を低減させることによって、製造することができる。
【0074】
ワニスの調製に使用し得る有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類；セロソルブ等のセロソルブ類；ブチルカルビトール等のカルビトール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンのアミド類；等を挙げることができる。有機溶剤は１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。有機溶剤として市販品を使用してもよい。その市販品としては、例えば、丸善石油化学社製「スワゾール」、出光興産社製「イプゾール」等が挙げられる。ワニスの塗布は、公知の方法（例えば、ダイコーターを使用する方法）で行えばよく、塗布方法に特に限定はない。
【0075】
塗膜の乾燥は、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーを形成するために、加熱によって行うことが好ましい。塗膜の乾燥温度は、好ましくは５０～２００℃、より好ましくは８０～１５０℃であり、その時間は、好ましくは１～６０分、より好ましくは１０～３０分である。乾燥は、常圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。
【0076】
ポリマー組成物層への保護シートの積層は、公知の機器を使用して行うことができる。この機器としては、例えば、ロールラミネーター、プレス機、真空加圧式ラミネーター等が挙げられる。
【0077】
積層体のエージング温度は、好ましくは８０～２００℃、より好ましくは１００～１５０℃であり、その時間は、好ましくは１０～２４０分、より好ましくは３０～１８０分である。
【0078】
本発明の封止用シートは、電子デバイスの封止に用いることができる。電子デバイスとしては、例えば、有機ＥＬデバイス、太陽電池、センサーデバイス等が挙げられる。電子デバイスは、より好ましくは有機ＥＬデバイスまたは太陽電池等の水分に弱い電子デバイスである。また、本発明の封止用シートは、導電性基板等の封止に用いることができる。
【実施例0079】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、成分の量および共重合単位の量における「部」および「％」は、特に断りがない限り、それぞれ「質量部」および「質量％」を意味する。
【0080】
＜成分＞
実施例および比較例で用いた成分を以下に示す。
（オレフィン系ポリマー）
「Ｔ－ＹＰ３４１」（星光ＰＭＣ社製、グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位／ブテン単位：７１％／２９％、エポキシ基濃度：０．６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）
「ＨＶ－３００Ｍ」（東邦化学工業社製、無水マレイン酸変性液状ポリブテン、酸無水物基濃度：０．７７ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：２，１００）
「ＨＶ－１９００」（ＥＮＥＯＳ社製、液状ポリブテン、数平均分子量：２，９００）
実施例および比較例で用いた成分を以下に示す。
（オレフィン系ポリマー）
「Ｔ－ＹＰ３４１」（星光ＰＭＣ社製、グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位／ブテン単位：７１％／２９％、エポキシ基濃度：０．６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）
「ＨＶ－３００Ｍ」（東邦化学工業社製、無水マレイン酸変性液状ポリブテン、酸無水物基濃度：０．７７ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：２，１００）
「ＨＶ－１９００」（ＥＮＥＯＳ社製、液状ポリブテン、数平均分子量：２，９００）
【0081】
（吸湿性フィラー）
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：１．８μｍ）
半焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＤＨＴ－４Ｃ」、粒子径（メジアン径）：４００ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１５ｍ２／ｇ）
焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＫＷ２２００」、粒子径（メジアン径）：４００ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１９０ｍ２／ｇ）
酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製「ＤＩＰＳＥＲＭＡＧ」）
モレキュラーシーブ４Ａ（ユニオン昭和社製）
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：１．８μｍ）
半焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＤＨＴ－４Ｃ」、粒子径（メジアン径）：４００ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１５ｍ２／ｇ）
焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＫＷ２２００」、粒子径（メジアン径）：４００ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１９０ｍ２／ｇ）
酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製「ＤＩＰＳＥＲＭＡＧ」）
モレキュラーシーブ４Ａ（ユニオン昭和社製）
【0082】
（粘着付与剤）
「Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１０５」（ＥＮＥＯＳ社製、水添脂環式石油樹脂、軟化点：１０５℃）
「Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１０５」（ＥＮＥＯＳ社製、水添脂環式石油樹脂、軟化点：１０５℃）
【0083】
（酸化防止剤）
「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」（ＢＡＳＦ社製、ヒンダードフェノール系酸化防止剤）
「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」（ＢＡＳＦ社製、ヒンダードフェノール系酸化防止剤）
【0084】
（硬化促進剤）
２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール（以下「ＴＡＰ」と略記する。）（化薬ヌーリオン社製）
２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール（以下「ＴＡＰ」と略記する。）（化薬ヌーリオン社製）
【0085】
＜実施例１＞
下記表に示す配合比のワニスを以下の手順で作製し、得られたワニスを用いて封止用シートを作製した。なお、下記表に記載の各成分の使用量（部）は、ワニス中の各成分の不揮発分の量を示す。また、下記表には、ワニスの不揮発分１００質量％に対する吸湿性フィラーの添加量を示す。
下記表に示す配合比のワニスを以下の手順で作製し、得られたワニスを用いて封止用シートを作製した。なお、下記表に記載の各成分の使用量（部）は、ワニス中の各成分の不揮発分の量を示す。また、下記表には、ワニスの不揮発分１００質量％に対する吸湿性フィラーの添加量を示す。
【0086】
具体的には、水添脂環式石油樹脂（粘着付与剤、ＥＮＥＯＳ社製「Ｔ－ＲＥＺ ＨＡ１
０５」）のスワゾール溶液（不揮発分：６０％）に、無水マレイン酸変性液状ポリブテン（東邦化学工業社製「ＨＶ－３００Ｍ」）、液状ポリブテン（ＥＮＥＯＳ社製「ＨＶ－１９００」）、酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）を３本ロールで分散させて、混合物を得た。得られた混合物に、グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体（星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３４１」）のスワゾール溶液（不揮発分：１５％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」）、硬化促進剤（ＴＡＰ、化薬ヌーリオン社製）およびトルエンを配合し、得られた混合物を高速回転ミキサーで均一に分散して、ポリマー組成物のワニス（不揮発分：６３％）を得た。
０５」）のスワゾール溶液（不揮発分：６０％）に、無水マレイン酸変性液状ポリブテン（東邦化学工業社製「ＨＶ－３００Ｍ」）、液状ポリブテン（ＥＮＥＯＳ社製「ＨＶ－１９００」）、酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）を３本ロールで分散させて、混合物を得た。得られた混合物に、グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体（星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３４１」）のスワゾール溶液（不揮発分：１５％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」）、硬化促進剤（ＴＡＰ、化薬ヌーリオン社製）およびトルエンを配合し、得られた混合物を高速回転ミキサーで均一に分散して、ポリマー組成物のワニス（不揮発分：６３％）を得た。
【0087】
片面がシリコーン系離型剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋クロス社製「ＳＰ４０２０」、ＰＥＴフィルムの厚さ：５０μｍ）と、低透湿性ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル社製「テックバリアＨＸ」、ＰＥＴフィルムの厚さ：１２μｍ）とを、ＳＰ４０２０のシリコーン系離型剤で処理されていない面とテックバリアＨＸとが接触するように貼合せて、積層フィルムを作製し、これを封止用シートの支持体および保護シートとして使用した（積層フィルムの厚さ：６２μｍ、積層フィルムの水蒸気透過度：０．１２（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ））。以下、「積層フィルムのシリコーン系離型剤で処理された面」を「離型処理面」と記載する。
【0088】
第１の積層フィルムの離型処理面上に、ポリマー組成物のワニスをダイコーターにて均一に塗布し、１４０℃で３０分加熱して、架橋構造を有するオレフィン系ポリマーを含むポリマー組成物層を形成した。
【0089】
その後、第２の積層フィルムを、その離型処理面とポリマー組成物層とが接触するように積層した後、１３０℃で６０分加熱（エージング）し、ポリマー組成物層の含水率を低減させることによって、「支持体（積層フィルム）／ポリマー組成物層／保護シート（積層フィルム）」との積層構造を有する封止用シート（ポリマー組成物層の厚さ：５０μｍ）を得た。
【0090】
＜実施例２＞
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）の使用量を２００部から２６０部に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）の使用量を２００部から２６０部に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0091】
＜実施例３＞
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）の使用量を２００部から３９０部に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）の使用量を２００部から３９０部に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0092】
＜実施例４＞
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）を酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：１．８μｍ）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）を酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：１．８μｍ）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0093】
＜比較例１＞
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から半焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＤＨＴ－４Ｃ」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から半焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＤＨＴ－４Ｃ」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0094】
＜比較例２＞
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＫＷ２２００」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から焼成ハイドロタルサイト（協和化学工業社製「ＫＷ２２００」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0095】
＜比較例３＞
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製「ＤＩＳＰＥＲＭＡＧ」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）から酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製「ＤＩＳＰＥＲＭＡＧ」）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0096】
＜比較例４＞
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）からモレキュラーシーブ４Ａ（ユニオン昭和社製）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
吸湿性フィラーを酸化カルシウム（吉澤石灰工業社製、メジアン径：２．１μｍ）からモレキュラーシーブ４Ａ（ユニオン昭和社製）に変えたこと以外は実施例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物層を有する封止用シートを作製した。
【0097】
＜比較例５＞
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例１と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
【0098】
＜比較例６＞
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例２と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例２と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
【0099】
＜比較例７＞
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例３と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
エージングの条件を１３０℃および２４時間に変更したこと以外は、比較例３と同様の方法にて、ポリマー組成物のワニス、および厚さ５０μｍのポリマー組成物を有する封止用シートを作製した。
【0100】
＜ポリマー組成物層の含水率＞
実施例および比較例で作製した封止用シートを長さ７０ｍｍおよび幅４０ｍｍにカットし、カットした封止用シートから支持体および保護シートを剥離して、得られたポリマー組成物層を乾燥したスクリューバイアルビン（三菱ケミカルアナリテック社製「ＶＡＢＨ１７」）に折りたたんで入れ、カールフィッシャー測定器（三菱ケミカルアナリテック社製「ＣＡ３１０型」）に直結した電気炉（三菱ケミカルアナリテック社製「ＶＡ－２３６Ｓ型」）に入れた。Ｎ２気流中、電気炉の温度を２５０℃まで昇温し、測定試料から脱離した水をカールフィッシャー測定液に捕集し、定法にて水の質量を測定した。測定した水の質量から、ポリマー組成物層の含水率（ｐｐｍ）を、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で算出した。結果を下記表に示す。
実施例および比較例で作製した封止用シートを長さ７０ｍｍおよび幅４０ｍｍにカットし、カットした封止用シートから支持体および保護シートを剥離して、得られたポリマー組成物層を乾燥したスクリューバイアルビン（三菱ケミカルアナリテック社製「ＶＡＢＨ１７」）に折りたたんで入れ、カールフィッシャー測定器（三菱ケミカルアナリテック社製「ＣＡ３１０型」）に直結した電気炉（三菱ケミカルアナリテック社製「ＶＡ－２３６Ｓ型」）に入れた。Ｎ２気流中、電気炉の温度を２５０℃まで昇温し、測定試料から脱離した水をカールフィッシャー測定液に捕集し、定法にて水の質量を測定した。測定した水の質量から、ポリマー組成物層の含水率（ｐｐｍ）を、ポリマー組成物層全体に対する質量基準で算出した。結果を下記表に示す。
【0101】
実施例および比較例で得られた各封止用シートのポリマー組成物層について、水蒸気侵入バリア性を以下の方法で評価した。
【0102】
＜水蒸気侵入バリア性の評価方法＞
支持体として、アルミニウム箔およびポリエチレンテレフタレートフィルムを備える複
合フィルム（東海東洋アルミ販売社製「ＰＥＴツキＡＬ１Ｎ３０」、アルミニウム箔の厚さ３０μｍ、ＰＥＴフィルムの厚さ２５μｍ）を用意した（複合フィルムの水蒸気の水蒸気透過度：０．００１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下）。
支持体として、アルミニウム箔およびポリエチレンテレフタレートフィルムを備える複
合フィルム（東海東洋アルミ販売社製「ＰＥＴツキＡＬ１Ｎ３０」、アルミニウム箔の厚さ３０μｍ、ＰＥＴフィルムの厚さ２５μｍ）を用意した（複合フィルムの水蒸気の水蒸気透過度：０．００１（ｇ／ｍ２／２４ｈｒ）以下）。
【0103】
前記複合フィルムを支持体として用いたこと以外は、各実施例および比較例と同様にして、「支持体（複合フィルム）／ポリマー組成物層／保護シート（積層フィルム）」との積層構造を有する試験用シートを得た。なお、ポリマー組成物層は、複合フィルムのアルミニウム箔上に形成した。
【0104】
無アルカリガラスで形成された５０ｍｍ×５０ｍｍ角のガラス板を用意した。このガラス板を、煮沸したイソプロピルアルコールで５分洗浄し、１５０℃において３０分以上乾燥した。
【0105】
乾燥後のガラス板の片面に、前記ガラス板の端部からの距離０ｍｍ～２ｍｍの周縁エリアを覆うマスクを用いて、カルシウムを蒸着した。これにより、ガラス板の片面の、前記ガラス板の端部からの距離０ｍｍ～２ｍｍの周縁エリアを除く中央部分に、厚さ２００ｎｍのカルシウム膜（純度：９９．８％）が形成された。
【0106】
窒素雰囲気内で、上述した試験用シートのポリマー組成物層と、前記ガラス板のカルシウム膜側の面とを、熱ラミネーター（フジプラ社製「ラミパッカーＤＡｉＳＹ Ａ４（ＬＰＤ２３２５）」）を用いて貼合せ、積層体を得た。この積層体を評価サンプルとして使用した。
【0107】
一般に、カルシウムが水と接触して酸化カルシウムになると、透明になる。また、前記の評価サンプルでは、ガラス板およびアルミニウム箔が充分に高い水蒸気浸入バリア性を有するので、水分は、通常、ポリマー組成物層の端部を通って面内方向（厚み方向に垂直な方向）に移動して、カルシウム膜に到達する。カルシウム膜に水分が到達すると、カルシウム膜は端部から次第に酸化されて透明になるので、カルシウム膜の縮小が観察される。したがって、評価サンプルへの水分侵入は、評価サンプルの端部からカルシウム膜までの封止距離（ｍｍ）を測定することによって、評価できる。そのため、カルシウム膜を含む評価サンプルを、電子デバイスのモデルとして使用できる。
【0108】
まず、評価サンプルの端部からカルシウム膜の端部までの当初封止距離Ｘ２（ｍｍ）を、顕微鏡（ミツトヨ社製「Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ ＭＦ－Ｕ」）により測定した。
【0109】
次いで、温度８５℃湿度８５％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に、評価サンプルを収納した。恒温恒湿槽に収納された評価サンプルの端部からカルシウム膜の端部までの間の封止距離Ｘ１（ｍｍ）が、当初封止距離Ｘ２よりも０．１ｍｍ増加した時点で、評価サンプルを恒温恒湿槽から取り出した。評価サンプルを恒温恒湿槽へ収納した時点から、評価サンプルを恒温恒湿槽から取り出した時点までの時間を、減少開始時間ｔ（時間）として求めた。この減少開始時間ｔは、評価サンプルを恒温恒湿槽に収納した時点ＴＰ１から、恒温恒湿槽に収納された評価サンプルの端部とカルシウム膜の端部との間の封止距離Ｘ１（ｍｍ）が「Ｘ２＋０．１ｍｍ」となる時点ＴＰ２までの時間に相当する。
【0110】
前記の封止距離Ｘ１および減少開始時間ｔを、式（１）のフィックの拡散式にあてはめて、水蒸気浸入バリア性パラメータとしての定数Ｋを算出した。
【0111】
【数1】
【0112】
得られた定数Ｋを用いて、ポリマー組成物層が水分の浸入を抑制する能力（水蒸気浸入バリア性）を、下記の基準で評価した。定数Ｋの値が小さいほど、水蒸気浸入バリア性が高いことを意味する。なお、下記「ｈｒ」は、「時間」を意味する。結果を下記表に記載する。なお、下記表中の「（ｃｍ／ｈｒ＾０．５）」は「（ｃｍ／ｈｒ０．５）」を」意味する。
（水蒸気浸入バリア性の基準）
〇：定数Ｋが、０．０２ｃｍ／ｈｒ０．５未満
×：定数Ｋが、０．０２ｃｍ／ｈｒ０．５以上
（水蒸気浸入バリア性の基準）
〇：定数Ｋが、０．０２ｃｍ／ｈｒ０．５未満
×：定数Ｋが、０．０２ｃｍ／ｈｒ０．５以上
【0113】
【表1】
【0114】
【表2】
【0115】
【表3】
【0116】
上記表で示されるように、酸化カルシウムを多量に使用し、且つ架橋構造を有するオレフィン系ポリマーを形成した実施例１～４では、含水率が低く、且つ水蒸気侵入バリア性に優れたポリマー組成物層を形成できた。一方、吸湿性フィラーとして、半焼成ハイドロ
タルサイト、焼成ハイドロタルサイト、酸化マグネシウムまたはモレキュラーシーブ４Ａを使用した比較例１～７では、ポリマー組成物層の含水率を充分に低減できなかった。特に、比較例５～７では、エージングを２４時間も行ったが、ポリマー組成物層の含水率を充分に低減できなかった。
タルサイト、焼成ハイドロタルサイト、酸化マグネシウムまたはモレキュラーシーブ４Ａを使用した比較例１～７では、ポリマー組成物層の含水率を充分に低減できなかった。特に、比較例５～７では、エージングを２４時間も行ったが、ポリマー組成物層の含水率を充分に低減できなかった。
【産業上の利用可能性】
【0117】
本発明の封止用シートは、電子デバイス（例えば、有機ＥＬデバイス、太陽電池、センサーデバイス等）、導電性基板等の封止に有用である。