特開 2024-140400 ガス測定器及びガス測定器の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024140400

(43)【公開日】2024-10-10

(54)【発明の名称】ガス測定器及びガス測定器の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 30/00 20060101AFI20241003BHJP

   G01N 27/12 20060101ALI20241003BHJP

   G01N 27/04 20060101ALI20241003BHJP

   B01J 20/285 20060101ALI20241003BHJP

【ＦＩ】

G01N30/00 C

G01N27/12 D

G01N27/12 B

G01N27/12 C

G01N27/04 F

B01J20/285 T

B01J20/285 N

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023051528

(22)【出願日】2023-03-28

【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）令和２年度 国立研究開発法人科学技術振興機構 研究成果展開事業産学共創プラットフォーム共同研究推進プログラム 産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願

(71)【出願人】

【識別番号】000191009

【氏名又は名称】新東工業株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】304027349

【氏名又は名称】国立大学法人豊橋技術科学大学

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100161425

【弁理士】

【氏名又は名称】大森 鉄平

(72)【発明者】

【氏名】水谷 学世

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 誉久

(72)【発明者】

【氏名】澤田 和明

(72)【発明者】

【氏名】野田 俊彦

【テーマコード（参考）】

2G046

2G060

【Ｆターム（参考）】

2G046AA18

2G046AA23

2G046AA24

2G046BA01

2G046BA09

2G046BB02

2G046BH02

2G046CA02

2G046DC18

2G046EA10

2G046FA01

2G046FA02

2G046FB01

2G046FE39

2G060AA01

2G060AB15

2G060AE19

2G060AF07

2G060BA01

2G060BB14

2G060JA01

2G060KA01

(57)【要約】

【課題】所定の異性体と、所定の異性体とは別の異性体とを判別できる技術を提供する。
【解決手段】ガス測定器は、複数の異性体を持つ化合物を含むサンプルガスが導入され、複数の異性体のうち所定の異性体を吸着する誘導体を含む吸着部材を有し、サンプルガスを通過させるフィルタと、その内部にフィルタを通過したサンプルガスが導入されるガス室と、ガス室の内部に配置され、化合物を検知するセンサと、を備える。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の異性体を持つ化合物を含むサンプルガスが導入され、前記複数の異性体のうち所定の異性体を吸着する誘導体を含む吸着部材を有し、前記サンプルガスを通過させるフィルタと、
その内部に前記フィルタを通過した前記サンプルガスが導入されるガス室と、
前記ガス室の前記内部に配置され、前記化合物を検知するセンサと、
を備える、ガス測定器。

【請求項2】

前記誘導体は、アミノ基及びカルボキシル基からなる群より選択される１以上の置換基を含む、請求項１に記載のガス測定器。

【請求項3】

前記誘導体は、セルロースから構成される、請求項１又は２に記載のガス測定器。

【請求項4】

前記誘導体は、アミロースから構成される、請求項１又は２に記載のガス測定器。

【請求項5】

前記フィルタは、前記サンプルガスが通過する複数の開口を含むメッシュ部材を有し、
前記吸着部材は、前記メッシュ部材の表面を被膜する、請求項１又は２に記載のガス測定器。

【請求項6】

前記メッシュ部材の前記吸着部材に吸着された前記所定の異性体を検知する別のセンサを更に備える、請求項５に記載のガス測定器。

【請求項7】

前記センサ及び前記別のセンサと通信可能に構成される制御部を更に備え、
前記制御部は、前記センサが検知した前記サンプルガスにおける前記化合物の濃度と、前記別のセンサが検知した前記サンプルガスにおける前記化合物の濃度との割合を出力する、請求項６に記載のガス測定器。

【請求項8】

前記センサは、前記化合物が付着する多孔質構造の検知部材を有する、請求項６に記載のガス測定器。

【請求項9】

前記フィルタは、最小幅が１５μｍ以下の開口を含む、請求項１又は２に記載のガス測定器。

【請求項10】

前記メッシュ部材は、多孔質構造を有する、請求項８に記載のガス測定器。

【請求項11】

請求項５に記載のガス測定器の製造方法であって、
金属から構成されるメッシュ部材を準備する工程と、
前記メッシュ部材に陽極酸化処理を施す工程と、
陽極酸化処理が施された前記メッシュ部材に、前記吸着部材を被膜する工程と、を含む、ガス測定器の製造方法。

【請求項12】

請求項１に記載のガス測定器の製造方法であって、
金属から構成される基板を準備する工程と、
前記基板に陽極酸化処理を施す工程と、
陽極酸化処理が施された前記基板に、前記化合物を検知する検知部材を形成する工程と、を含む、ガス測定器の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、ガス測定器及びガス測定器の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、基板及び基板上に形成された酸化スズ膜から構成されるセンサを備えるガス測定器を開示する。このガス測定器は、酸化スズ膜の表面に吸着した一酸化炭素と酸化スズ膜の酸素とが反応することで変化する抵抗値に基づいて、一酸化炭素を検知する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２－０９０３２４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

サンプルガスに含まれる化合物は、複数の異性体を持つ場合がある。複数の異性体のそれぞれは、同一の元素組成を有し、かつ、原子の結合状態及び立体配置が互いに異なる。異性体は、互いに等しい分子量を有する。特許文献１に記載のガス測定器は、センサの表面に吸着したガス分子とセンサとの間の酸化還元反応に基づいてガス分子を検知する。酸化還元反応は複数の異性体のそれぞれで共通であるため、特許文献１に記載のガス測定器では、サンプルガスが異性体の関係にある化合物のうち何れの異性体を含むのかを判別できない場合がある。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一側面に係るガス測定器は、フィルタ、ガス室及びセンサを備える。フィルタは、複数の異性体を持つ化合物を含むサンプルガスが導入され、吸着部材を有する。吸着部材は、誘導体を含む。誘導体は、複数の異性体のうち所定の異性体を吸着する。フィルタは、サンプルガスを通過させる。ガス室は、その内部にフィルタを通過したサンプルガスが導入される。センサは、ガス室の内部に配置される。センサは、化合物を検知する。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、所定の異性体と、所定の異性体とは別の異性体とを判別できる技術が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、実施形態に係るガス測定器の斜視図である。

【図2】図２は、実施形態に係るガス測定器の断面構成を模式的に示す図である。

【図3】図３の（Ａ）は、別のセンサが化合物を検知した一例を示すグラフである。図３の（Ｂ）は、センサが化合物を検知した一例を示すグラフである。

【図4】図４は、実施形態に係るガス測定方法を示すフローチャートである。

【図5】図５は、変形例に係るガス測定方法を示すフローチャートである。

【図6】図６は、変形例に係るガス測定器の製造方法を示すフローチャートである。

【図7】図７は、別の変形例に係るガス測定器の製造方法を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0008】

［本開示の実施形態の概要］
最初に、本開示の実施形態の概要を説明する。

【0009】

（条項１） 本開示の一側面に係るガス測定器は、フィルタ、ガス室及びセンサを備える。フィルタは、複数の異性体を持つ化合物を含むサンプルガスが導入され、吸着部材を有する。吸着部材は、誘導体を含む。誘導体は、複数の異性体のうち所定の異性体を吸着する。フィルタは、サンプルガスを通過させる。ガス室は、その内部にフィルタを通過したサンプルガスが導入される。センサは、ガス室の内部に配置される。センサは、化合物を検知する。

【0010】

このガス測定器では、フィルタの吸着部材が含む誘導体は、複数の異性体のうち所定の異性体を吸着する。ガス室には、フィルタによって所定の異性体がフィルタリングされたサンプルガスが導入される。したがって、センサは、所定の異性体とは別の異性体をサンプルガスから検知できる。結果として、このガス測定器は、サンプルガスに含まれる化合物について、吸着部材に吸着される所定の異性体と、所定の異性体とは別の異性体とを判別できる。

【0011】

（条項２） 条項１に記載のガス測定器において、誘導体は、アミノ基及びカルボキシル基からなる群より選択される１以上の置換基を含んでいてもよい。

【0012】

（条項３） 条項１又は２に記載のガス測定器において、誘導体は、セルロースから構成されていてもよい。

【0013】

（条項４） 条項１又は２に記載のガス測定器において、誘導体は、アミロースから構成されていてもよい。

【0014】

（条項５） 条項１～４の何れか一項に記載のガス測定器において、フィルタは、メッシュ部材を有してもよい。メッシュ部材は、サンプルガスが通過する複数の開口を含む。吸着部材は、メッシュ部材の表面を被膜していてもよい。サンプルガスが通過する複数の開口を含むメッシュ部材の表面は、所定の異性体を吸着する吸着部材に被膜されている。したがって、メッシュ部材を通過するサンプルガスの所定の異性体は吸着部材に吸着されるので、所定の異性体とは別の異性体を含むサンプルガスがガス室に導入される。結果として、このガス測定器は、サンプルガスに含まれる化合物について、所定の異性体と、所定の異性体とは別の異性体とを判別できる。

【0015】

（条項６） 条項５に記載のガス測定器において、メッシュ部材の吸着部材に吸着された所定の異性体を検知する別のセンサを更に備えてもよい。このガス測定器は、別のセンサによって、サンプルガスに含まれる所定の異性体も検知できる。

【0016】

（条項７） 条項６に記載のガス測定器において、センサ及び別のセンサと通信可能に構成される制御部を更に備えてもよい。制御部は、センサが検知したサンプルガスにおける化合物の濃度と、別のセンサが検知したサンプルガスにおける化合物の濃度との割合を出力してもよい。センサは、複数の異性体のうち所定の異性体とは別の異性体を検知する。したがって、制御部は、センサの出力からセンサが検知している別の異性体の量を取得できる。別のセンサは、複数の異性体のうち所定の異性体を検知する。したがって、制御部は、別のセンサの出力からセンサが検知している所定の異性体の量を取得できる。結果として、制御部は、別の異性体の量と所定の異性体の量とを比較できるので、ガス測定器は、サンプルガスが含む化合物の所定の異性体と別の異性体との割合を出力できる。

【0017】

（条項８） 条項１～７の何れか一項に記載のガス測定器において、センサは、化合物が付着する多孔質構造の検知部材を有してもよい。多孔質構造を有する検知部材の表面積は、多孔質構造を有さない検知部材の表面積よりも大きい。大きな表面積の検知部材には、より多くの化合物が吸着する。したがって、このガス測定器は、センサの精度を向上し得る。

【0018】

（条項９） 条項１～８の何れか一項に記載のガス測定器において、フィルタは、最小幅が１５μｍ以下の開口を含んでもよい。当該フィルタは、開口によってガス分子をふるい分けることができる。したがって、このガス測定器は、センサが検知する化合物をふるい分けることができる。

【0019】

（条項１０） 条項１～９の何れか一項に記載のガス測定器において、メッシュ部材は、多孔質構造を有していてもよい。多孔質構造を有するメッシュ部材の表面積は、多孔質構造を有さないメッシュ部材の表面積よりも大きい。大きな表面積のメッシュ部材には、より多くの所定の異性体が吸着する。したがって、このガス測定器は、センサの精度を向上し得る。

【0020】

（条項１１） 条項５～７の何れか一項に記載のガス測定器の製造方法は、以下の（１）～（３）の工程を備える。
（１）金属から構成されるメッシュ部材を準備する工程。
（２）メッシュ部材に陽極酸化処理を施す工程。
（３）陽極酸化処理が施されたメッシュ部材に、吸着部材を被膜する工程。

【0021】

このガス測定器の製造方法では、フィルタは、陽極酸化処理が施されたメッシュ部材と、メッシュ部材を被覆する吸着部材によって構成される。陽極酸化処理は、金属から構成されるメッシュ部材に多孔質構造を形成する。多孔質構造が形成されたメッシュ部材に、所定の異性体を吸着する誘導体を含む吸着部材が被膜される。多孔質構造を有するフィルタの表面積は、多孔質構造を有さないフィルタの表面積よりも大きい。したがって、この製造方法は、大きな表面積のフィルタを備えるガス測定器を、安価かつ簡易に製造できる。

【0022】

（条項１２） 条項１～１０の何れか一項に記載のガス測定器の製造方法は、以下の（１）～（３）の工程を備える。
（１）金属から構成される基板を準備する工程。
（２）基板に陽極酸化処理を施す工程。
（３）陽極酸化処理が施された基板に、化合物を検知する検知部材を形成する工程。

【0023】

このガス測定器の製造方法では、センサは、陽極酸化処理が施された基板と、基板に形成された検知部材とによって構成される。陽極酸化処理は、金属から構成される基板に多孔質構造を形成する。多孔質構造が形成された基板に、化合物を検知する多孔質構造の検知部材が形成される。多孔質構造の検知部材を有するセンサの表面積は、多孔質構造の検知部材を有さないセンサの表面積よりも大きい。したがって、この製造方法は、大きな表面積のセンサを備えるガス測定器を、安価かつ簡易に製造できる。

【0024】

［本開示の実施形態の例示］
以下、図面を参照しながら本開示の実施形態が詳細に説明される。図面の説明において同一要素には同一符号が付され、重複する説明は省略される。

【0025】

図１は、実施形態に係るガス測定器１の斜視図である。図２は、実施形態に係るガス測定器１の断面構成を模式的に示す図である。ガス測定器１は、サンプルガスに含まれる化合物を測定する。本実施形態では、ガス測定器１は、植物が放出する植物ホルモンを測定する。植物ホルモンとは、例えば、αピネン、βピネン、リモネン、ボルネオール、又はメントールである。

【0026】

植物ホルモンは、複数の異性体を含む場合がある。異性体には、構造異性体又は立体異性体などの種々の異性体が含まれる。複数の異性体のそれぞれは、同一の元素組成を有し、かつ、原子の結合状態及び立体配置が互いに異なる。一例として、ボルネオールは、一対の光学異性体を構成する（－）ボルネオール及び（＋）ボルネオールを含んでいる。植物ホルモンが複数の異性体を含む場合には、複数の異性体のうち特定の異性体が植物に作用することがある。この場合、植物が発生している植物ホルモンを、植物に作用する特定の異性体と、特定の異性体とは別の異性体とを判別することで、この植物の状態を検知できる。以下では、（－）ボルネオールを特定の異性体（所定の異性体とは別の異性体）、（＋）ボルネオールを特定の異性体とは別の異性体（所定の異性体）の例として、実施形態に係るガス測定器１について説明する。

【0027】

本実施形態では、ガス測定器１は、半導体デバイスとして提供される。ガス測定器１は、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールを含むサンプルガスを測定する。図１及び図２に示されるように、ガス測定器１は、フィルタ１０、ケース２０及びセンサ３０を備える。ケース２０は、その内部にガス室Ｓを画成する。ケース２０は、例えば、一対の二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層２１，２２と、一対の二酸化ケイ素の層２１，２２の間に位置するケイ素（Ｓｉ）の層２３とによって構成されている。二酸化ケイ素の層２１は、ケース２０の上面を構成する。二酸化ケイ素の層２２は、ケース２０の下面を構成する。

【0028】

ケース２０の二酸化ケイ素の層２１には、ガス室Ｓに連通する開口が形成されている。フィルタ１０は、その開口を覆うように配置されている。ガス室Ｓの内部には、フィルタ１０を通過したサンプルガスが導入される。図２に示されるように、フィルタ１０は、吸着部材１１及びメッシュ部材１２を有している。メッシュ部材１２は、サンプルガスが通過する複数の開口を含んでいる。一例として、図１に示されるように、メッシュ部材１２は、所定の方向（Ｙ方向）に延在する複数のスリットを形成する櫛状を呈している。この場合、複数の開口は、複数のスリットから構成されている。メッシュ部材１２は、例えば、アルミニウムから形成されている。なお、メッシュ部材１２は、格子状を呈していてもよい。

【0029】

吸着部材１１は、誘導体を含んでいる。本実施形態では、誘導体は、セルロースから構成されている。誘導体は、アミノ基及びカルボキシル基からなる群より選択される１以上の置換基を含んでいてもよい。アミノ基及びカルボキシル基は、アミノ酸とペプチド結合を形成する。一例として、吸着部材１１は、その一部がアミノ基によって置換されたセルロースから構成されている。なお、誘導体は、アミロースであってもよい。

【0030】

吸着部材１１は、メッシュ部材１２の表面を被膜している。図２に示されるように、本実施形態では、吸着部材１１は、櫛状を呈するメッシュ部材１２を構成する複数の櫛歯のそれぞれを被膜している。サンプルガスは、吸着部材１１によって被膜された複数の櫛歯の間のスリットを通過してガス室Ｓに導入される。図２に示されるように、ガス測定器１は、ポンプ５０を備えていてもよい。ポンプ５０は、ガス室Ｓを減圧する。減圧されたガス室Ｓには、サンプルガスが容易に導入される。

【0031】

吸着部材１１は、複数の異性体を持つ化合物から所定の異性体を吸着できる。本実施形態では、吸着部材１１は、サンプルガスに含まれる（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールを吸着する。例えば、サンプルガスに含まれる（＋）ボルネオールは、サンプルガスがメッシュ部材１２の開口を通過するときに、メッシュ部材１２を被膜している吸着部材１１に吸着される。ガス室Ｓには、（＋）ボルネオールがフィルタリングされたサンプルガスが導入される。

【0032】

センサ３０は、ガス室Ｓの内部に配置されている。センサ３０は、複数の異性体を持つ化合物を検知する。センサ３０は、一例として、基板３１と、基板３１の上に形成された検知部材３２とを含んでいる。本実施形態では、センサ３０は、半導体式であって、ポリアニリンなどの有機膜、及び酸化スズ（ＳｎＯ_２）などの酸化物半導体を含むＶＯＣ（Volatile Organic Compounds）センサである。センサ３０は、ＶＯＣセンサに限定されず、ガスの検知が可能なセンサであればよい。なお、ガス室Ｓの内部に複数のセンサが配置されていてもよい。複数のセンサは、それぞれ異なる化合物を検知してもよい。

【0033】

センサ３０は、サンプルガスに含まれるボルネオールを検知する。ガス室Ｓに導入されたサンプルガスが含むボルネオールは、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールが吸着部材１１に吸着されている。したがって、センサ３０は、（－）ボルネオールを検知できる。

【0034】

ガス測定器１では、吸着部材１１が含むセルロースは、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールを吸着する。ガス室Ｓには、フィルタ１０によって（＋）ボルネオールがフィルタリングされたサンプルガスが導入される。したがって、センサ３０は、サンプルガスから（－）ボルネオールを検知できる。結果として、ガス測定器１は、サンプルガスに含まれるボルネオールについて、吸着部材１１に吸着される（＋）ボルネオールと、（－）ボルネオールとを判別できる。

【0035】

ガス測定器１は、センサ３０とは別のセンサ３０Ａを更に備えてもよい。別のセンサ３０Ａは、メッシュ部材１２の吸着部材１１に吸着された所定の異性体を検知する。図２に示されるように、一例として、別のセンサ３０Ａは、メッシュ部材１２の吸着部材１１を検知部材とするセンサである。別のセンサ３０Ａは、例えばＶＯＣセンサとして構成され得る。別のセンサ３０Ａは、ＶＯＣセンサに限定されず、ガスの検知が可能なセンサであればよい。吸着部材１１は、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールを吸着する。したがって、別のセンサ３０Ａは、その表面の吸着部材１１に吸着された（＋）ボルネオールを検知できる。この場合、ガス測定器１は、サンプルガスに含まれる（＋）ボルネオールと（－）ボルネオールとをそれぞれ検知できる。

【0036】

図２に示されるように、ガス測定器１は、制御部４０を更に備えていてもよい。制御部４０は、センサ３０及び別のセンサ３０Ａと通信可能に構成されている。制御部４０は、センサ３０が検知した（－）ボルネオールの濃度と、別のセンサ３０Ａが検知した（＋）ボルネオールの濃度との割合を出力する。

【0037】

図３の（Ａ）は、一例として、別のセンサ３０Ａが（＋）ボルネオールを検知したときの出力と時間との関係を示すグラフである。図３の（Ｂ）は、一例として、センサ３０が（－）ボルネオールを検知したときの出力と時間との関係を示すグラフである。本実施形態では、制御部４０は、別のセンサ３０Ａ及びセンサ３０のそれぞれの出力と時間との関係に基づいて、サンプルガスに含まれる（－）ボルネオールの濃度と（＋）ボルネオールの濃度との間の比を出力する。一例として、制御部４０は、図３の（Ａ）に示される出力のピークＰ１と出力のベースラインＬ１とが画成する面積Ａ１と、図３の（Ｂ）に示される出力のピークＰ２と出力のベースラインＬ２とが画成する面積Ａ２との間の比を出力する。面積Ａ１は、別のセンサ３０Ａが検知した（＋）ボルネオールの量に相当する。面積Ａ２は、センサ３０が検知した（－）ボルネオールの量に相当する。面積Ａ１と面積Ａ２との割合は、サンプルガスに含まれる（－）ボルネオールの濃度と（＋）ボルネオールの濃度との割合に対応する。

【0038】

制御部４０は、校正用のガスによって校正されていてもよい。例えば、所定の濃度の（－）ボルネオールと所定の濃度の（＋）ボルネオールとを含む校正用のガスを検知したときの面積Ａ１及び面積Ａ２と、サンプルガスを検知したときの面積Ａ１及び面積Ａ２とを比較することによって、制御部４０は、サンプルガスに含まれる（－）ボルネオール及び（＋）ボルネオールのそれぞれの濃度を出力してもよい。

【0039】

フィルタ１０は、最小幅が１５μｍ以下の開口を含んでいてもよい。当該開口の最小幅は、例えば、１５μｍ以下、５μｍ以上である。フィルタ１０は、一例として、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）である。フィルタ１０は、フィルタ１０を通過するガス分子をふるい分けることができる。フィルタ１０の開口の最小幅が１５μｍ以下の場合には、フィルタ１０はより適切にガス分子をふるい分けできる。フィルタ１０は、メッシュ部材１２の開口の大きさを調節することによって、フィルタ１０を通過するガス分子をふるい分けてもよい。この場合、フィルタ１０は、開口の大きさを調整する駆動部又は温度調整部を含んでいる。フィルタ１０は、フィルタ１０を通過するガス分子に電界を作用させることによって、ガス分子をふるい分けてもよい。この場合、フィルタ１０は、ガス分子に電界を作用させる電極板又はコイルを含んでいる。フィルタ１０は、フィルタ１０を通過するガス分子を化学的に反応させることによって、ガス分子をふるい分けてもよい。この場合、フィルタ１０は、ガス分子を化学的に反応させる触媒部又は発熱部を含んでいる。

【0040】

図４は、実施形態に係るガス測定方法Ｍを示すフローチャートである。ガス測定方法Ｍは、ガス測定器１によって実行される。ガス測定方法Ｍでは、最初に、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールを含むサンプルガスが吸引される（ステップＳ１０）。例えば、ポンプ５０がガス室Ｓを減圧することによって、サンプルガスは、ガス室Ｓに吸引される。吸引されたサンプルガスは、フィルタ１０を通過する。

【0041】

次に、サンプルガスに含まれる（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールが吸着部材１１に吸着される（ステップＳ２０）。例えば、（＋）ボルネオールは、サンプルガスがメッシュ部材１２の開口を通過するときに、メッシュ部材１２を被膜している吸着部材１１に吸着される。

【0042】

次に、（＋）ボルネオールが別のセンサ３０Ａに検知される（ステップＳ３０）。例えば、別のセンサ３０Ａは、その表面を被膜する吸着部材１１に吸着された（＋）ボルネオールを検知する。

【0043】

次に、サンプルガスにおける（＋）ボルネオールの濃度が測定される（ステップＳ４０）。例えば、制御部４０は、所定の濃度の（＋）ボルネオールを含む校正用のガスを検知したときの面積Ａ１と、サンプルガスを検知したときの面積Ａ１とを比較することによって、サンプルガスにおける（＋）ボルネオールの濃度を測定する。

【0044】

次に、フィルタ１０を通過したサンプルガスがガス室Ｓに導入される（ステップＳ５０）。ガス室Ｓに導入されたサンプルガスは、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールが吸着部材１１に吸着されている。

【0045】

次に、（－）ボルネオールがセンサ３０に検知される（ステップＳ６０）。ガス室Ｓに導入されたサンプルガスが含むボルネオールは、（＋）ボルネオール及び（－）ボルネオールのうち（＋）ボルネオールが吸着部材１１に吸着されているので、センサ３０は、（－）ボルネオールを検知する。

【0046】

次に、サンプルガスにおける（－）ボルネオールの濃度が測定される（ステップＳ７０）。例えば、制御部４０は、所定の濃度の（－）ボルネオールを含む校正用のガスを検知したときの面積Ａ２と、サンプルガスを検知したときの面積Ａ２とを比較することによって、サンプルガスにおける（－）ボルネオールの濃度を測定する。

【0047】

最後に、サンプルガスに含まれる（－）ボルネオールの濃度と（＋）ボルネオールの濃度との割合が出力される（ステップＳ８０）。例えば、制御部４０は、ステップＳ７０において測定された（－）ボルネオールの濃度と、ステップＳ４０において測定された（＋）ボルネオールの濃度とをそれぞれ出力してもよい。

【0048】

図５は、ステップＳ７０の変形例に係るガス測定方法ＭＡを示すフローチャートである。ガス測定方法ＭＡでは、最初に、（－）ボルネオールの濃度が閾値を超えたか否かが判定される（ステップＳ７１）。例えば、制御部４０は、予め設定された所定の濃度の閾値と、サンプルガスにおける（－）ボルネオールの濃度とを比較して、（－）ボルネオールの濃度が所定の濃度の閾値を超えるか否かを判定する。（－）ボルネオールの濃度が所定の濃度の閾値を超えない場合には、ガス測定方法ＭＡは終了する。

【0049】

次に、（－）ボルネオールの濃度が所定の濃度の閾値を超える場合には、（－）ボルネオールの濃度が閾値を超えたことが出力される（ステップＳ７２）。例えば、制御部４０は、作業者などに（－）ボルネオールの濃度が閾値を超えたことを報知する。

【0050】

次に、（－）ボルネオールは、異常を示す異性体であるか否かが判定される（ステップＳ７３）。例えば、制御部４０は、植物の異常を示す植物ホルモンの情報を含む表を記憶している。植物の異常を示す植物ホルモンとは、一例として、植物が変形する可能性を示す植物ホルモンである。制御部４０は、センサ３０が検知した情報と、この表の情報とを照会することによって、異常を示す異性体か否かを判定する。（－）ボルネオールが異常を示す異性体ではない場合には、ガス測定方法ＭＡは終了する。なお、制御部４０は、植物の異常を示さない植物ホルモンの情報を含む表を記憶していてもよい。植物の異常を示さない植物ホルモンとは、一例として、植物の繁殖状態を示す植物ホルモンである。

【0051】

最後に、（－）ボルネオールが異常を示す異性体である場合には、作業手順が出力される（ステップＳ７４）。例えば、制御部４０は、作業者等に、植物を治療するための作業手順を表示する。

【0052】

以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、本開示は上記実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、及び変更がなされてもよい。フィルタ１０は、ＭＥＭＳには限定されない。フィルタ１０は、電場、磁場及び熱などのエネルギーによって、ガス分子をふるい分けてもよい。

【0053】

メッシュ部材１２は、多孔質構造を有していてもよい。例えば、メッシュ部材１２は、陽極酸化被膜を含んでいてもよい。陽極酸化被膜は、１ｎｍ以上、１０μｍ以下の複数の細孔を含んでいる。多孔質構造を有するメッシュ部材１２の表面積は、多孔質構造を有さないメッシュ部材１２の表面積よりも大きい。大きな表面積のメッシュ部材１２には、より多くの（＋）ボルネオールが吸着する。したがって、メッシュ部材１２が多孔質構造を有する場合には、センサの精度は向上し得る。

【0054】

図６は、メッシュ部材１２が陽極酸化被膜を有する場合のガス測定器の製造方法ＭＭ１を示すフローチャートである。最初に、メッシュ部材１２が準備される（ステップＳ１００）。例えば、アルミニウムから形成されているメッシュ部材１２が準備される。メッシュ部材１２は、銅から形成されていてもよい。

【0055】

次に、メッシュ部材１２が陽極酸化処理される（ステップＳ１１０）。具体的には、水酸化ナトリウム水溶液を用いてメッシュ部材１２を洗浄する工程、希硝酸を用いてメッシュ部材１２に付着した水酸化ナトリウムを中和する工程、過塩素酸及び酢酸の混合液を用いてメッシュ部材１２を電解研磨する工程、希硫酸を用いてメッシュ部材１２を陽極酸化する工程、及びメッシュ部材１２を水で洗浄して乾燥する工程が実行される。メッシュ部材１２を陽極酸化する工程では、希硫酸の温度を２０℃程度とし、かつ、陽極と陰極との間の距離を約８ｃｍとすることが望ましい。

【0056】

最後に、メッシュ部材１２に吸着部材１１が被膜される（ステップＳ１２０）。例えば、誘導体を含む溶液がメッシュ部材１２の表面に塗布される。塗布された溶液が乾燥することによって、メッシュ部材１２の表面に吸着部材１１が被膜される。

【0057】

センサ３０は、多孔質構造の検知部材３２を有していてもよい。例えば、基板３１は、陽極酸化被膜を含んでいてもよい。陽極酸化被膜を含む基板３１上には、多孔質構造を有する検知部材３２が形成される。多孔質構造を有する検知部材３２の表面積は、多孔質構造を有さない検知部材３２の表面積よりも大きい。大きな表面積の検知部材３２には、より多くの（－）ボルネオールが吸着する。したがって、検知部材３２が多孔質構造を有する場合には、センサの精度は向上し得る。

【0058】

図７は、基板３１が陽極酸化被膜を有する場合のガス測定器の製造方法ＭＭ２を示すフローチャートである。最初に、基板３１が準備される（ステップＳ２００）。例えば、アルミニウムから形成されている基板３１が準備される。基板３１は、銅から形成されていてもよい。次に、基板３１が陽極酸化処理される（ステップＳ２１０）。最後に、基板３１に検知部材３２が形成される（ステップＳ２２０）。

【符号の説明】

【0059】

１…ガス測定器、１０…フィルタ、１１…吸着部材、１２…メッシュ部材、３０，３０Ａ…センサ、３１…基板、３２…検知部材、４０…制御部、ＭＭ１，ＭＭ２…製造方法、Ｓ…ガス室。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】