特開 2024-141745 露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024141745

(43)【公開日】2024-10-10

(54)【発明の名称】露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 9/00 20060101AFI20241003BHJP

【ＦＩ】

G03F9/00 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023053552

(22)【出願日】2023-03-29

(71)【出願人】

【識別番号】000102212

【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003339

【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】曽原 直也

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 啓之

【テーマコード（参考）】

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H197AA05

2H197BA11

2H197CB16

2H197CC16

2H197CD12

2H197CD13

2H197CD15

2H197CD17

2H197CD18

2H197CD41

2H197DB11

2H197EA15

2H197EA17

2H197EA19

2H197EA25

2H197EB16

2H197EB17

2H197EB22

2H197EB23

2H197HA03

2H197HA08

2H197HA10

(57)【要約】

【課題】マスクとワークとの位置合わせ精度を向上させ、高い露光精度を実現することが可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】本露光装置が備える光出射部は、露光光を出射する。マスクステージは、露光用マスクを保持する。ワークステージは、ワークを保持する。投影光学系は、光出射部から出射され露光用マスクを透過した露光光を、ワークステージに保持されたワークに照射する。反射部材は、露光用マスクのマスクマークの検出工程時に、投影光学系により照射される露光光の照射領域に配置される。アライメント顕微鏡は、マスクマークの検出工程時に、マスクマークに照射された露光光の光路に配置され、反射部材により反射された反射光に基づいてマスクマークの画像を撮影する。移動機構は、マスクマークの検出工程時に、照射領域から外れた位置から照射領域に反射部材を移動させる。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

露光光を出射する光出射部と、
露光用マスクを保持するマスクステージと、
ワークを保持するワークステージと、
前記光出射部から出射され前記露光用マスクを透過した前記露光光を、前記ワークステージに保持された前記ワークに照射する投影光学系と、
前記露光用マスクのアライメントマークであるマスクマークの検出工程時に、前記投影光学系により照射される前記露光光の照射領域に配置される反射部材と、
前記マスクマークの検出工程時に、前記マスクマークに照射された前記露光光の光路に配置され、前記反射部材により反射された反射光に基づいて前記マスクマークの画像を撮影するアライメント顕微鏡と、
前記マスクマークの検出工程時に、前記照射領域から外れた位置から前記照射領域に前記反射部材を移動させる移動機構と
を具備する露光装置。

【請求項2】

請求項１に記載の露光装置であって、
前記ワークステージは、前記ワークが載置される載置面を有し、
前記移動機構は、前記マスクマークの検出工程時に、前記載置面が前記照射領域から外れるように前記ワークステージを移動させ、前記照射領域に前記反射部材を移動させる
露光装置。

【請求項3】

請求項１に記載の露光装置であって、
前記移動機構は、前記マスクマークの検出工程時に、前記ワークステージと前記アライメント顕微鏡との間に前記反射部材を挿入することで、前記照射領域に前記反射部材を移動させる
露光装置。

【請求項4】

請求項１に記載の露光装置であって、
前記反射部材は、前記照射領域以上の大きさで構成され、前記投影光学系により照射される前記露光光の全体を反射する
露光装置。

【請求項5】

請求項２に記載の露光装置であって、
前記反射部材は、前記ワークステージの前記載置面とは異なる位置に接続され、
前記移動機構は、前記ワークステージを移動させることで、前記照射領域に前記反射部材を移動させる
露光装置。

【請求項6】

請求項５に記載の露光装置であって、
前記反射部材は、前記反射部材の表面の高さ位置が前記載置面に載置された前記ワークの表面の高さ位置と等しくなるように、前記ワークステージに接続される
露光装置。

【請求項7】

請求項２に記載の露光装置であって、さらに、
前記反射部材を保持する移動ステージを具備し、
前記移動機構は、前記ワークステージ及び前記移動ステージの各々を移動させることで、前記照射領域に前記反射部材を移動させる
露光装置。

【請求項8】

請求項７に記載の露光装置であって、
前記移動機構は、前記ワークステージ及び前記移動機構の各々を、同一面に沿って移動させ、
前記反射部材は、前記反射部材の表面の高さ位置が前記載置面に載置された前記ワークの表面の高さ位置と等しくなるように、前記移動ステージに保持される
露光装置。

【請求項9】

請求項３に記載の露光装置であって、
前記反射部材は、前記ワーク全体を覆う大きさで構成され、前記マスクマークの検出工程時における前記ワークへの前記露光光の照射を遮蔽する
露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、露光装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体素子、プリント基板、又は液晶基板等のパターンをフォトリソグラフィにより製造する工程において、露光装置が使用される。露光装置は、パターンを形成したマスク（レクチル）と、そのパターンが転写されるワークとが所定の位置関係となるように位置合わせ（アライメント）される。その後、マスクに照射された露光光が、投影光学系によりワークに照射され、ワークにマスクパターンが転写（露光）される。

【0003】

特許文献１には、上記のような露光装置において、マスクとワークとの位置合わせを行うためのアライメントユニット（アライメント顕微鏡ともいう）について開示されている。アライメントユニットによりマスクに形成されたマスクマークと、ワークに形成されたワークマークとが撮影される。撮影されたマスクマーク及びワークマークの各々の画像に基づいて、マスクマーク及びワークマークの各々の位置座標が算出される。両者の位置が予め設定された位置関係になるようにマスクおよびワークの少なくとも一方が移動される。

【0004】

特許文献１に記載の露光装置では、ワークステージの略全面に全反射ミラーもしくはハーフミラーからなる反射部材が埋没される。マスクマークの検出工程時には、反射部材に投影されたマスクマークが、アライメントユニットにより撮影される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平８－２３３５２９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

近年では、配線パターン等の微細化がますます進み、露光精度のさらなる向上が求められている。

【0007】

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、マスクとワークとの位置合わせ精度を向上させ、高い露光精度を実現することが可能な露光装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る露光装置は、光出射部と、マスクステージと、ワークステージと、投影光学系と、反射部材と、アライメント顕微鏡と、移動機構とを具備する。
前記光出射部は、露光光を出射する。
前記マスクステージは、露光用マスクを保持する。
前記ワークステージは、ワークを保持する。
前記投影光学系は、前記光出射部から出射され前記露光用マスクを透過した前記露光光を、前記ワークステージに保持された前記ワークに照射する。
前記反射部材は、前記露光用マスクのアライメントマークであるマスクマークの検出工程時に、前記投影光学系により照射される前記露光光の照射領域に配置される。
前記アライメント顕微鏡は、前記マスクマークの検出工程時に、前記マスクマークに照射された前記露光光の光路に配置され、前記反射部材により反射された反射光に基づいて前記マスクマークの画像を撮影する。
前記移動機構は、前記マスクマークの検出工程時に、前記照射領域から外れた位置から前記照射領域に前記反射部材を移動させる。

【0009】

この露光装置では、マスクマークの検出工程時に、露光光の照射領域から外れた位置から、照射領域に反射部材が移動される。これにより、マスクとワークとの位置合わせ精度を向上させ、高い露光精度を実現することが可能となる。

【0010】

前記ワークステージは、前記ワークが載置される載置面を有してもよい。この場合、前記移動機構は、前記マスクマークの検出工程時に、前記載置面が前記照射領域から外れるように前記ワークステージを移動させ、前記照射領域に前記反射部材を移動させてもよい。

【0011】

前記移動機構は、前記マスクマークの検出工程時に、前記ワークステージと前記アライメント顕微鏡との間に前記反射部材を挿入することで、前記照射領域に前記反射部材を移動させてもよい。

【0012】

前記反射部材は、前記照射領域以上の大きさで構成され、前記投影光学系により照射される前記露光光の全体を反射してもよい。

【0013】

前記反射部材は、前記ワークステージの前記載置面とは異なる位置に接続されてもよい。この場合、前記移動機構は、前記ワークステージを移動させることで、前記照射領域に前記反射部材を移動させてもよい。

【0014】

前記反射部材は、前記反射部材の表面の高さ位置が前記載置面に載置された前記ワークの表面の高さ位置と等しくなるように、前記ワークステージに接続されてもよい。

【0015】

前記露光装置は、さらに、前記反射部材を保持する移動ステージを具備してもよい。この場合、前記移動機構は、前記ワークステージ及び前記移動ステージの各々を移動させることで、前記照射領域に前記反射部材を移動させてもよい。

【0016】

前記移動機構は、前記ワークステージ及び前記移動機構の各々を、同一面に沿って移動させてもよい。この場合、前記反射部材は、前記反射部材の表面の高さ位置が前記載置面に載置された前記ワークの表面の高さ位置と等しくなるように、前記移動ステージに保持されてもよい。

【0017】

前記反射部材は、前記ワーク全体を覆う大きさで構成され、前記マスクマークの検出工程時における前記ワークへの前記露光光の照射を遮蔽してもよい。

【発明の効果】

【0018】

以上のように、本発明によれば、マスクとワークとの位置合わせ精度を向上させ、高い露光精度を実現することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の第１の実施形態に係る露光装置の基本的な構成例を示す模式図である。

【図2】アライメント顕微鏡を用いたアライメントマークの検出動作例を説明するための模式図である（マスクマークの検出工程）。

【図3】アライメント顕微鏡を用いたアライメントマークの検出動作例を説明するための模式図である（ワークマークの検出工程）。

【図4】第２の実施形態に係る露光装置のマスクマークの検出工程を示す模式図である。

【図5】第２の実施形態に係る露光装置のワークマークの検出工程を示す模式図である。

【図6】第３の実施形態に係る露光装置のマスクマークの検出工程を示す模式図である。

【図7】第３の実施形態に係る露光装置のワークマークの検出工程を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。

【0021】

＜第１の実施形態＞
［露光装置の構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る露光装置の基本的な構成例を示す模式図である。
露光装置１は、光出射部２と、マスクステージＭＳと、ワークステージＷＳと、投影光学系３と、アライメント顕微鏡４と、マスクステージ移動機構５と、ワークステージ移動機構６と、投影光学系調整機構７と、顕微鏡移動機構８と、モニタ９と、制御装置１０とを有する。

【0022】

以下、図１に示すように、光出射部２の光軸方向（露光光ＥＬの出射方向）をＺ方向とし、Ｚ軸の正側を上方側、負側を下方側とする。またＺ方向に直交し、図中の左右に延在する方向をＸ方向とし、Ｘ軸の正側を右側、負側を左側とする。また、Ｚ方向及びＸ方向の各々に直交し、紙面に対して垂直となる奥行方向をＹ方向とし、Ｙ軸の正側を奥側、負側を手前側とする。もちろん、本技術の適用について、露光装置１が配置される向き等が限定される訳ではない。

【0023】

光出射部２は、下方側に向けて露光光ＥＬを出射する。例えば、光出射部２として、ショートアーク型の水銀ランプが用いられる。水銀ランプからは、例えば、波長３６５ｎｍ（ｉ線）、４０５ｎｍ（ｈ線）、４３６ｎｍ（ｇ線）等を含む紫外光が出射される。もちろんこのような構成に限定されず、紫外光とは異なる波長帯域の光を出射するランプが用いられてもよい。その他、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＬＤ（Laser Diode）等の固体光源が用いられてもよい。

【0024】

マスクステージＭＳは、光出射部２の下方側に配置される。マスクステージＭＳは、露光用マスク（以下、単にマスクと記載する）Ｍを保持する。本実施形態では、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に直交するように、マスクＭが配置される。マスクＭには、所定のマスクパターンＭＰが形成されている。またマスクＭには、アライメントマーク（マスクマーク）ＭＡＭが形成されている。マスクマークＭＡＭは、マスク・アライメントマークとも呼ばれる。

【0025】

投影光学系３は、光出射部２から出射されマスクＭを透過した露光光ＥＬを、ワークステージＷＳに保持されたワークＷに照射する。これにより、マスクＭに形成されているマスクパターンＭＰの像がワークＷに投影される。投影光学系３は、投影レンズを有する結像光学系として構成される。投影光学系３の詳しい構成は限定されず、任意の構成が採用されてよい。

【0026】

ワークステージＷＳは、ワークＷを保持する。本実施形態では、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に直交するように、ワークＷが配置される。

【0027】

ワークステージＷＳは、ワークＷが載置される載置面（載置領域）１１を有する。載置面１１に複数の真空吸着孔が形成され、真空吸着によりワークＷが保持される。なお、ワークＷを保持するための具体的な構成や方法は限定されず、任意に設計されてよい。

【0028】

マスクステージ移動機構５は、マスクステージＭＳを、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の各々において、直線的に移動させる（直動させる）。また、マスクステージ移動機構５は、マスクステージＭＳを、上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向として回転させる。またマスクステージ移動機構５は、マスクステージＭＳを、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に対してチルトさせる（傾斜させる）。

【0029】

ワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳを、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の各々において、直線的に移動させる。また、ワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳを、上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向として回転させる。またワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳを、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に対してチルトさせる。

【0030】

マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６の各々が駆動することで、マスクＭに対するワークＷの相対位置を変動させることが可能である。

【0031】

マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６の具体的な構成は限定されず、例えばステッピングモータ等を使ったリニアステージ等の任意の移動機構や、ギア機構等を使った任意の回転機構等が用いられてよい。

【0032】

例えば、ワークステージＷＳを定盤（プラテン）に配置し、リニアモータにより磁気浮上した状態で移動させる。このような構成を採用することも可能である。この場合、定盤も含めた全体をワークステージと呼び、ワークＷを保持するワークステージＷＳを移動体と呼ぶことも可能である。

【0033】

また、マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６の構成として、マスクステージＭＳに対するワークステージＷＳの相対的な位置関係を変動可能な任意の構成を採用することが可能である。

【0034】

例えば、マスクステージ移動機構５のみが設けられ、マスクステージＭＳのみが移動可能であってもよい。あるいは、ワークステージ移動機構６のみが設けられ、ワークステージＷＳのみが移動可能であってもよい。また、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の移動については、マスクステージ移動機構５によりマスクステージＭＳが移動される。上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向とする回転、及び光軸方向（Ｚ方向）に対するチルト（傾斜）については、ワークステージ移動機構６によりワークステージＷＳが移動される。このような構成も採用可能である。

【0035】

ワークＷには、アライメントマーク（ワークマーク）ＷＡＭが形成されている。ワークマークＷＡＭは、ワーク・アライメントマークとも呼ばれる。

【0036】

左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向とする回転方向において、マスクＭとワークＷとの位置合わせを行うために、マスクＭに対して３個以上のマスクマークＭＡＭを形成することが望ましい。３個以上のマスクマークＭＡＭに対応して、ワークＷに同数のワークマークＷＡＭが形成される。

【0037】

例えば、上下方向（Ｚ方向）から見た場合に、矩形状となるマスクＭが用いられるとする。この場合、例えば、マスクＭの４隅に、マスクマークＭＡＭが形成される。また上下方向（Ｚ方向）から見た場合に、矩形状となる基板がワークＷとして配置される。マスクＭの４隅に形成されたマスクマークＭＡＭに対応して、ワークＷの４隅にワークマークＷＡＭが形成される。もちろん、このような構成に限定されるわけではない。

【0038】

互いに対応するマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭは、上下方向（Ｚ方向）から見た場合にマスクＭ及びワークＷが所望の位置関係となる場合に、所定の位置関係となるように形成される。本実施形態では、マスクＭ及びワークＷが所望の位置関係となる場合に、互いに対応するマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭが同じ位置となるものとして説明を行う。もちろんそのような設定に限定されず、所定の位置関係として、任意の位置関係が設定されてよい。

【0039】

図１に示すように、ワークステージＷＳの左側の端部には、反射部材１２が接続されて固定される。反射部材１２は、上方側の表面Ｓ１の高さ位置が、載置面１１に載置されたワークＷの上方側の表面Ｓ２の高さ位置と等しくなるように接続され、ワークステージＷＳと一体的に移動する。

【0040】

なお、後にも述べるが、本開示において、「等しい」という概念は、「実質的に等しい」を含む概念とする。例えば「完全に等しい」を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。

【0041】

反射部材１２としては、例えば全反射ミラーやハーフミラー等が用いられる。その他、後に説明するマスクマークＭＡＭの検出工程時において、反射部材１２に投影されるマスクマークＭＡＭを撮影可能であるならば、反射部材１２として任意の構成が採用されてよい。

【0042】

また、反射部材１２は、上方から見た場合に、マスクＭを透過して投影光学系３により照射される露光光ＥＬの照射領域ＩＡ以上の大きさで構成される。典型的には、反射部材１２は、露光光ＥＬの照射領域ＩＡよりも大きいサイズで構成される。すなわち、反射部材１２は、露光光ＥＬの照射領域ＩＡをカバーするサイズで構成される。なお、露光光ＥＬの照射領域ＩＡは、ワークＷの露光工程時において、露光が可能な露光面となる。

【0043】

ワークステージ移動機構６が駆動して、ワークステージＷＳに接続された反射部材１２が、投影光学系３の下方側の露光光ＥＬの光軸上の位置に配置されたとする。その状態で露光光ＥＬが照射されると、反射部材１２により、投影光学系３により照射される露光光ＥＬの全体が反射される。

【0044】

従って、反射部材１２上には、マスクＭの像光が結像し、マスクＭの像の全体が映ることになる。もちろん、反射部材１２上にマスクマークＭＡＭの像も映ることになる。

【0045】

投影光学系調整機構７は、投影光学系３の調整を行う。例えば、投影光学系調整機構７が駆動することで、フォーカス位置の調整、結像倍率の調整、ディストーションの補正等が行われる。例えば、投影光学系３に含まれる投影レンズ等の光学素子の位置の調整、加工、交換等により、投影光学系３の調整を行うことが可能である。投影光学系調整機構７の具体的な構成は限定されず、任意の構成が採用されてよい。

【0046】

顕微鏡移動機構８は、アライメント顕微鏡４を、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の各々において、直線的に移動させる。なお、顕微鏡移動機構８により、アライメント顕微鏡４が、上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向として回転可能であってもよい。また顕微鏡移動機構８により、アライメント顕微鏡４が、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に対してチルト可能であってもよい。

【0047】

顕微鏡移動機構８が駆動することで、アライメント顕微鏡４を、投影光学系３とワークステージＷＳ（ワークＷ）との間の撮影位置（図２及び図３参照）から、図１に示す退避位置までの間で移動させることが可能となる。

【0048】

なお、アライメント顕微鏡４が撮影位置と退避位置との間で移動可能であるのならば、移動可能な方向が制限されていてもよい。例えば、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の各々における直動のみが可能な構成が採用されてもよい。あるいは、左右方向（Ｘ方向）のみに移動可能な構成が採用されてもよい。

【0049】

顕微鏡移動機構８の具体的な構成は限定されず、例えばステッピングモータ等を使ったリニアステージ等の任意の移動機構や、ギア機構等を使った任意の回転機構等が用いられてよい。

【0050】

アライメント顕微鏡４は、マスクＭとワークＷとの位置合わせを行う際に用いられる。アライメント顕微鏡４は、マスクマークＭＡＭの拡大画像、及びワークマークＷＡＭの拡大画像を撮影することが可能である。

【0051】

アライメント顕微鏡４は、おおよその形状が、一方向に延在する柱形状からなり、内部に、ビームスプリッタ１３と、レンズ系１４と、光学センサ１５とを有する。

【0052】

アライメント顕微鏡４の内部において、ビームスプリッタ１３、レンズ系１４、及び光学センサ１５は、光学センサ１５の撮影光軸Ｏを基準として配置される。

【0053】

ビームスプリッタ１３として、入射する光を分割して光学センサ１５に出射することが可能な任意の構成が採用されてよい。例えば、プレート型ビームスプリッタ、ペリクル型ビームスプリッタ、キューブ型ビームスプリッタ等の、様々な構成のビームスプリッタが用いられてよい。

【0054】

レンズ系１４としては、対物レンズ等を含む任意の構成が採用されてよい。例えば、キューブ型ビームスプリッタを用いる場合には、レンズ系１４として収差補正レンズが配置されてもよい。

【0055】

本実施形態では、光学センサ１５として、２次元の画像を撮影可能な撮像デバイス（撮像部）が用いられる。例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）センサやＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）センサ等のイメージセンサを備えるデジタルカメラを用いることが可能である。これに限定されず、非テレセントリックレンズやテレセントリックレンズ等の結像レンズと上記イメージセンサを組み合わせたデジタルカメラが用いられてもよい。

【0056】

またアライメント顕微鏡４のビームスプリッタ１３の下方側の位置には、照明部１６が配置される。照明部１６は、下方側に向かって非露光光ＮＥＬ（図３参照）を出射する。例えば、照明部１６としてリング照明が用いられ、非露光光ＮＥＬとして可視光が出射される。もちろん、このような構成に限定されるわけではなく、同軸照明法を行う構成が採用されてもよい。

【0057】

制御装置１０は、露光装置１が有する各ブロックの動作を制御する。制御装置１０は、例えばＣＰＵ、ＧＰＵ、ＤＳＰ等のプロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等のメモリ、ＨＤＤ等の記憶デバイス等、コンピュータに必要なハードウェアを有する。本実施形態では、不揮発性メモリ等の記憶デバイス等により記憶部１７が構成される。記憶部１７を実現するために、コンピュータ読み取り可能な非一過性の任意の記憶媒体が用いられてよい。

【0058】

制御装置１０のプロセッサが記憶部１７やメモリに記憶されている本技術に係るプログラムをＲＡＭにロードして実行することにより、本技術に係る位置合わせ方法（アライメント方法）、フォーカス制御方法を含む露光方法が実行される。

【0059】

例えばＰＣ（Personal Computer）等の任意のコンピュータにより、制御装置１０を実現することが可能である。もちろんＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等のＰＬＤ(Programmable Logic Device)や、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等のハードウェアが用いられてもよい。

【0060】

本実施形態では、制御装置１０のプロセッサが本技術に係るプログラムを実行することで、機能ブロックとして、顕微鏡移動制御部１８、位置合わせ制御部１９、及びフォーカス制御部２０が実現される。

【0061】

顕微鏡移動制御部１８は、顕微鏡移動機構８を制御して、アライメント顕微鏡４を移動させる。マスクマークＭＡＭの検出工程時、及びワークマークＷＡＭの検出工程時には、アライメント顕微鏡４は、投影光学系３とワークステージＷＳ（ワークＷ）との間の撮影位置に移動される（図２及び図３参照）。ワークＷに対する露光工程時には、図１に示すようにアライメント顕微鏡４は、退避位置に移動される。

【0062】

位置合わせ制御部１９は、アライメント顕微鏡４の光学センサ１５により撮影されたマスクマークＭＡＭの画像及びワークマークＷＡＭの画像に基づいて、マスクマークＭＡＭの位置及びワークマークＷＡＭの位置の各々を検出する。

【0063】

また位置合わせ制御部１９は、検出されたマスクマークＭＡＭの位置、及びワークマークＷＡＭの位置に基づいて、マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６を制御して、マスクＭ及びワークＷが所望の位置関係となるように位置合わせを行う。具体的には、マスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭが互いに同じ位置となるように（所定の位置関係となるように）、マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６が制御される。これによりマスクＭ及びワークＷの位置合わせが可能となる。

【0064】

フォーカス制御部２０は、ワークＷに投影（結像）されるマスクパターンＭＰのフォーカスを制御する。具体的には、フォーカス制御部２０により、ワークＷが、投影光学系３のフォーカス位置に配置されるように、投影光学系調整機構７、マスクステージ移動機構５、及びワークステージ移動機構６が制御される。

【0065】

本実施形態では、フォーカス制御として、投影光学系調整機構７を駆動することによる投影光学系３のフォーカス位置の調整、マスクステージ移動機構５を駆動することによるマスクステージＭＳの上下方向（Ｚ方向）における位置の調整、及びワークステージ移動機構６を駆動することによるワークステージＷＳの上下方向（Ｚ方向）における位置の調整が実行される。もちろん、このような制御に限定されず、任意のフォーカス制御が実行されてよい。

【0066】

その他、制御装置１０には、露光に関する様々な制御を実行する機能ブロックが構築されるが、図示は省略している。また、各機能ブロックを実現するために、ＩＣ（集積回路）等の専用のハードウェアが適宜用いられてもよい。

【0067】

マスクＭとワークＷとの位置合わせ、及びフォーカス制御が完了すると、ワークＷに対する露光工程が開始され、光出射部２から露光光ＥＬが出射される。光出射部２から出射された露光光ＥＬは、マスクパターンＭＰが形成されたマスクＭと、投影光学系３とを介して、レジストを塗布したワークＷ上に照射される。これにより、マスクパターンＭＰがワークＷ上に投影されて露光される。

【0068】

図２及び図３は、アライメント顕微鏡４を用いたアライメントマーク（マスクマークＭＡＭ／ワークマークＷＡＭ）の検出動作例を説明するための模式図である。図２は、マスクマークＭＡＭの検出工程を示す模式図である。図３は、ワークマークＷＡＭの検出工程を示す模式図である。

【0069】

まず図２に示すように、マスクステージＭＳにマスクＭが配置される。例えば、制御装置１０により、ロボットアーム等（図示は省略）が駆動され、位置合わせ前の基準位置にマスクＭが配置される。もちろん、オペレータにより、マスクＭが配置されてもよい。

【0070】

また、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、投影光学系３により照射される露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れた位置から、照射領域ＩＡに反射部材１２が移動される。

【0071】

本実施形態では、ワークステージ移動機構６が駆動することで、載置面１１が露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れるようにワークステージＷＳが移動され、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材１２が移動される。反射部材１２はワークステージＷＳの載置面１１とは異なる位置に接続されている。ワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳを移動させることで、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材１２を移動させる。

【0072】

図２に示すように、アライメント顕微鏡４が、アライメントマークの撮影位置に移動される。アライメントマークの撮影位置は、投影光学系３とワークステージＷＳ（ワークＷ）との間に設定されている。

【0073】

アライメントマークの撮影位置は、アライメント顕微鏡４のビームスプリッタ１３が、マスクマークＭＡＭに照射された露光光ＥＬの光路上に配置される位置に設定される。言い換えれば、アライメントマークの撮影位置は、アライメント顕微鏡４のビームスプリッタ１３に、マスクマークＭＡＭに照射された露光光ＥＬが入射する位置に設定される。

【0074】

図２に示すように、本実施形態では、ビームスプリッタ１３が、上下方向（Ｚ方向）に延在する露光光ＥＬの光路に対して、交差角度が４５度となるように配置される。具体的には、左上から右下に向かう斜め４５度の方向に平行となるように、ビームスプリッタ１３が配置される。

【0075】

光出射部２から露光光ＥＬが出射されると、マスクマークＭＡＭに照射された露光光ＥＬは、投影光学系３を介して上方側からビームスプリッタ１３に入射する。ビームスプリッタ１３を透過し下方側に進む露光光ＥＬは、反射部材１２により上方側に反射される。

【0076】

上方側に反射された露光光ＥＬは、ビームスプリッタ１３により反射され左右方向（Ｘ方向）に沿って左側に向かって進み、光学センサ１５に入射する。これにより、光学センサ１５により、マスクマークＭＡＭの画像が撮影される。

【0077】

このように本実施形態では、マスクマークＭＡＭに照射された露光光ＥＬの光路上にアライメント顕微鏡４が配置され、反射部材１２により反射された反射光に基づいてマスクマークＭＡＭの画像が撮影される。

【0078】

制御装置１０の位置合わせ制御部１９は、アライメント顕微鏡４の光学センサ１５により撮影されたマスクマークＭＡＭの画像に基づいて、マスクマークＭＡＭの位置を検出する。また、位置合わせ制御部１９は、光学センサ１５により撮影されたマスクマークＭＡＭの画像を取り込み、モニタ９に表示させることも可能である。オペレータは、モニタ９に表示されるマスクマークＭＡＭの画像を目視することで、マスクマークＭＡＭの検出を確認することができる。

【0079】

本実施形態では、位置合わせ制御部１９により、マスクマークＭＡＭの中心位置の座標が、マスクマークＭＡＭの位置として検出される。図２に示す例では、円形状からなるマスクマークＭＡＭが検出され、その中心位置の座標が算出される。もちろん、マスクマークＭＡＭの形状や、マスクマークＭＡＭのどの部分の位置をマスクマークＭＡＭの位置として検出するかは限定されず、任意に設定されてよい。

【0080】

マスクマークＭＡＭの位置を検出するために、例えば、画像サイズの換算、文字認識、形状認識、物体のモデル画像を用いたマッチング処理、エッジ検出、射影変換等の任意の画像認識技術が用いられてよい。また、例えばＤＮＮ（Deep Neural Network：深層ニューラルネットワーク）、ＲＮＮ（Recurrent Neural Network：回帰型ニューラルネットワーク）、ＣＮＮ（Convolutional Neural Network：畳み込みニューラルネットワーク）等を用いた任意の機械学習アルゴリズムが用いられてもよい。なお機械学習アルゴリズムの適用は、本開示内の任意の処理に対して実行されてよい。

【0081】

位置合わせ制御部１９により取得されたマスクマークＭＡＭの画像、及び位置合わせ制御部１９により検出されたマスクマークＭＡＭの位置（中心位置座標）は、記憶部１７に記憶される。

【0082】

図３に示すように、ワークマークＷＡＭの検出工程時には、光出射部２による露光光ＥＬの出射が停止される。そして、ワークステージＷＳの載置面１１にワークＷが載置され、投影光学系３の下方側にワークＷが配置されるように、ワークステージＷＳが移動される。

【0083】

例えば、制御装置１０により、ロボットアーム等（図示は省略）が駆動され、載置面１１にワークＷが配置される。もちろん、オペレータにより、ワークＷが配置されてもよい。

【0084】

アライメント顕微鏡４は移動されず、アライメントマークの撮影位置に配置されたままの状態である。そして、アライメント顕微鏡４の照明部１６により、ワークマークＷＡＭに向かって非露光光ＮＥＬが照射される。ワークマークＷＡＭに照射された非露光光ＮＥＬは、ワークマークＷＡＭにより反射され、ワークマークＷＡＭの上方側に配置されたビームスプリッタ１３に入射する。

【0085】

ビームスプリッタ１３に入射する非露光光ＮＥＬは反射され、左右方向（Ｘ方向）に沿って左側に向かって進み、光学センサ１５に入射する。これにより、光学センサ１５により、ワークマークＷＡＭの画像が撮影される。

【0086】

制御装置１０の位置合わせ制御部１９は、アライメント顕微鏡４の光学センサ１５により撮影されたワークマークＷＡＭの画像に基づいて、ワークマークＷＡＭの位置を検出する。また位置合わせ制御部１９は、光学センサ１５により撮影されたワークマークＷＡＭの画像を取り込み、モニタ９に表示させることも可能である。これにより、オペレータは、モニタ９に表示されるワークマークＷＡＭの画像を目視することで、ワークマークＷＡＭの検出を確認することができる。

【0087】

図３に示すように本実施形態では、十字形状からなるワークマークＷＡＭの中心位置の座標が、ワークマークＷＡＭの位置として算出される。もちろん、ワークマークＷＡＭの形状や、ワークマークＷＡＭのどの部分の位置をワークマークＷＡＭの位置として検出するかは限定されず、任意に設定されてよい。例えば、マスクマークＭＡＭと同じ形状で、ワークマークＷＡＭが構成されてもよい。

【0088】

位置合わせ制御部１９により取得されたワークマークＷＡＭの画像、及び位置合わせ制御部１９により検出されたワークマークＷＡＭの位置（中心位置座標）は、記憶部１７に記憶される。

【0089】

位置合わせ制御部１９により、マスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭの位置関係が所定の位置関係となるように、ワークステージＷＳが制御される。本実施形態では、マスクマークＭＡＭの位置（中心位置座標）と、ワークマークＷＡＭの位置（中心位置座標）とが一致するように、マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６が駆動され、マスクＭに対するワークＷの相対位置が制御される。

【0090】

図１～図３では、互いに対応する１組のマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭに対して配置される１個のアライメント顕微鏡４のみが図示されている。複数の組のマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭが形成される場合には、互いに対応する複数の組のマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭの各々に対して、アライメント顕微鏡４を用いて位置合わせが行われる。

【0091】

例えば互いに対応するマスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭの各組に対して１個ずつアライメント顕微鏡４が配置され、マスクマークＭＡＭの画像及びワークマークＷＡＭの画像が撮影される。これに限定されず、マスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭの組数よりも少ない数（例えば１個）のアライメント顕微鏡４により、マスクマークＭＡＭの画像及びワークマークＷＡＭの画像が順次撮影されてもよい。

【0092】

例えば、矩形状のマスクＭの４隅にマスクマークＭＡＭが形成され、矩形状の基板からなるワークＷの４隅にワークマークＷＡＭが形成される。この場合、４つのアライメント顕微鏡４が、マスクマークＭＡＭに照射される露光光ＥＬの光路上の位置であり、対応するワークマークＷＡＭに照射される非露光光ＮＥＬの光路上の位置であるアライメントマークの撮影位置にそれぞれ配置される。

【0093】

制御装置１０の位置合わせ制御部１９により、４個のマスクマークＭＡＭの位置と、４個のワークマークＷＡＭの位置とがそれぞれ検出される。そして、互いに対応する４組のマスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭとが、それぞれ所定の位置関係となるように、マスクステージ移動機構５及びワークステージ移動機構６が制御される。これにより、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向とする回転方向において、マスクＭとワークＷとの位置合わせを行うことが可能となる。

【0094】

マスクＭとワークＷとの位置合わせが完了すると、アライメント顕微鏡４は、図１に示す退避位置に退避される。もちろん、マスクマークＭＡＭの画像及びワークマークＷＡＭの画像の撮影が完了したタイミングや、位置合わせ制御部１９によりマスクマークＭＡＭの位置及びワークマークＷＡＭの位置の検出が完了したタイミング等、他のタイミングでアライメント顕微鏡４が退避位置に退避されてもよい。

【0095】

このように本実施形態では、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに、照射領域ＩＡ以上の大きさを有する反射部材１２が配置される。これにより、露光面（照射領域ＩＡ）の任意の位置にアライメントマーク（マスクマークＭＡＭ／ワークマークＷＡＭ）が配置される場合でも、高い精度で位置合わせが可能となる。

【0096】

すなわち、反射部材１２上のマスクマークＭＡＭが投影される位置にアライメント顕微鏡４を適宜移動させる。これにより、マスクマークＭＡＭ及びワークマークＷＡＭの各々の画像を撮影することが可能となり、アライメントマークの位置合わせが可能となる。この結果、様々なマスクＭ及びワークＷに対して、高い精度で位置合わせを行うことが可能となる。

【0097】

上記の特許文献１に記載の露光装置では、ワークステージの略全面に反射部材が埋没される。すなわち、ワークステージの載置面の全体に、反射部材が設けられる。マスクマークの検出工程は、ワークが配置されず反射部材が上方側に向けて露出する状態で行われる。

【0098】

ワークステージの載置面に反射部材が埋設される構成では、載置面に載置されるワークに対する吸着機能が制限される可能性が高い。例えば、マスクマークの検出工程時におけるマスクマークの撮影への影響が出ないように、真空吸着孔の数や位置等の吸着機構の構成が制限される可能性が高い。また、そもそもミラー部材等から構成される反射部材に対して、真空吸着用の真空吸着孔を形成することも難しい。

【0099】

このように吸着機構の構成が制限されてしまうと、反射部材のサイズが大きくなるほど、ワークを吸着できる部分が減少してしまう。この結果、プリント基板やウエハのような薄いワーク（例えば、厚みが０．０５ｍｍ以下のワーク）は、十分に真空吸着（固定）できず、ワークの平坦度やワークの位置決め精度等の低下により露光精度が低下してしまう。また、アライメント顕微鏡によるマスクマークＭＡＭの検出精度も低下してしまう。

【0100】

また、透光性を有する透明なワークに対しては、露光工程時にワークを透過した露光光が、載置面に設けられた反射部材により多重反射してしまうこともあり得る。この場合、レジストの不要な感光等が発生することにより、露光精度が低下してしまう。またワークマークの検出工程時において、多重反射によりワークマークの撮影精度が低下してしまうこともあり得る。

【0101】

また、ワークステージの載置面に反射部材が埋設される構成では、マスクマークの検出工程時において、ワークの載置面（反射部材）が投影光学系の直下に位置し、露光光が照射さる状態となる。従って、マスクマークの検出工程時に、ワークを交換して載置面に配置するといったことができない。

【0102】

この結果、マスクマークの検出工程の後に、光出射部による露光光の出射を停止させてから、載置面（反射部材）にワークを載置するという工程を順番に行う必要があり、生産性が低くなってしまう。

【0103】

また、ワークステージの載置面に反射部材が埋設される構成では、反射部材の上方側の表面の高さ位置と、ワークの上方側の表面の高さ位置とを等しくすることはできない。従って、マスクマークの検出工程時に、ワークステージをワークの厚み分だけ上方側に移動させて、反射部材に投影されるマスクマークの像のフォーカスを合わせる必要がある。この結果、ワークの厚み分の動作ストロークの精度が求められ、上方側への移動の際の位置ズレが生じた場合、アライメントマークの位置合わせ精度が低下してしまう。

【0104】

本実施形態に係る露光装置１では、ワークステージＷＳの載置面１１とは異なる位置に反射部材１２が設けられ、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れるように載置面１１を移動させるとともに、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材１２が移動される。

【0105】

この結果、載置面１１に、ワークＷを十分に真空吸着することが可能な吸着機構を構築することが可能となる。例えば、載置面１１の全領域にわたって真空吸着孔を偏りなく形成し、載置面１１の全面にわたってワークＷを吸着するような構成を実現することが可能となる。

【0106】

これにより、薄いワークＷに対しても十分に固定して保持することが可能となり、ワークＷの平坦度や位置決め精度の低下を防止することが可能となる。また透明なワークＷに対して、ワークＷを透過する露光光ＥＬの多重反射等を防止することが可能となる。この結果、種々のワークＷに対して高い露光精度を発揮することが可能となり、高いワーク対応力が発揮される。

【0107】

また本実施形態に係る露光装置１では、マスクマークＭＡＭの検出工程時には、ワークステージＷＳの載置面１１が、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れた位置に移動される。従って、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、ワークＷの交換作業を同時に行うことが可能である。この結果、スループットの向上及びタクトタイムの短縮が可能となり、高い生産性を発揮することが可能である。

【0108】

また本実施形態に係る露光装置１では、図１等に示すように、反射部材１２の上方側の表面Ｓ１の高さ位置と、ワークＷの上方側の表面Ｓ２の高さ位置とが等しくなるように、ワークステージＷＳに対して反射部材１２を接続することが可能である。

【0109】

従って、ワークステージＷＳを水平方向（ＸＹ平面方向）に移動させることで、反射部材１２の表面Ｓ１の高さ位置が、ワークステージＷＳに保持されたワークＷの表面Ｓ２の高さ位置と等しくなるように、反射部材１２を照射領域ＩＡに配置することが可能となる。

【0110】

この結果、例えばマスクマークＭＡＭの検出工程時に、ワークＷの厚み分の上方側への移動を不要とすることが可能となり、高い精度でアライメントマークの位置合わせを行うことが可能となる。

【0111】

また、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、反射部材１２の表面Ｓ１の高さ位置を、ワークＷの表面Ｓ２の高さ位置に高精度に一致させるために、ワークステージＷＳを上下方向（Ｚ方向）に沿って移動させる場合でも、調整量（移動量）が少なくて済むので、移動に伴う誤差が少なく、高い精度でアライメントマークの位置合わせを行うことが可能となる。

【0112】

以上、本実施形態に係る露光装置１では、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れた位置から、照射領域ＩＡに反射部材１２が移動される。これにより、マスクＭとワークＷとの位置合わせ精度を向上させ、高い露光精度を実現することが可能となる。

【0113】

本技術を適用することで、露光面（照射領域ＩＡ）内における任意のアライメントマークの位置合わせを、ワークＷの平坦度や生産性、露光精度を高く維持した状態で実現することが可能となる。

【0114】

本実施形態においてワークステージ移動機構６は、本技術に係る、マスクマークの検出工程時に、照射領域から外れた位置から照射領域に反射部材を移動させる移動機構の一実施形態に相当する。

【0115】

＜第２の実施形態＞
本技術の第２の実施形態に係る露光装置について説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した露光装置１における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。

【0116】

図４及び図５は、第２の実施形態に係る露光装置の基本的な構成例を示す模式図である。図４は、マスクマークＭＡＭの検出工程を示す模式図である。図５は、ワークマークＷＡＭの検出工程を示す模式図である。

【0117】

本実施形態に係る露光装置２３では、反射部材１２を保持する移動ステージ２５が構成される。移動ステージ２５の上方側の上面部に、反射部材１２が固定されて保持される。反射部材１２を固定するための構成及び方法は限定されず、任意の構成及び方法を採用することが可能である。

【0118】

本実施形態では、ワークステージ移動機構６により、ワークステージＷＳ及び移動ステージ２５の各々が移動される。

【0119】

ワークステージ移動機構６は、移動ステージ２５を、左右方向（Ｘ方向）、奥行方向（Ｙ方向）、及び上下方向（Ｚ方向）の各々において、直線的に移動させる。また、ワークステージ移動機構６は、移動ステージ２５を、上下方向（Ｚ方向）を回転軸方向として回転させる。またワークステージ移動機構６は、移動ステージ２５を、光出射部２の光軸方向（Ｚ方向）に対してチルトさせる。

【0120】

また本実施形態では、ワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳ及び移動ステージ２５の各々を、水平方向（ＸＹ平面方向）を面方向とする同一面に沿って移動させることが可能である。

【0121】

反射部材１２の上方側の表面Ｓ１の高さ位置が、載置面１１に載置されたワークＷの上方側の表面Ｓ２の高さ位置と等しくなるように、移動ステージ２５に反射部材１２を保持させる。これにより、反射部材１２の上方側の表面Ｓ１の高さ位置と、ワークＷの上方側の表面Ｓ２の高さ位置とが等しい状態で、ワークＷと反射部材１２とを水平方向（ＸＹ平面方向）にてそれぞれ移動させることが可能である。

【0122】

例えば、ワークステージＷＳ及び移動ステージ２５をともに定盤（プラテン）に配置し、リニアモータにより磁気浮上した状態でそれぞれ移動させる。このような構成を採用することが可能である。

【0123】

図４に示すように、ワークステージ移動機構６が駆動することで、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、載置面１１が露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れるようにワークステージＷＳが移動される。また反射部材１２が露光光ＥＬの照射領域ＩＡに配置されるように、移動ステージ２５が移動される。すなわちマスクマークＭＡＭの検出工程時に、露光光ＥＬの照射域ＩＡから外れた位置から、照射領域ＩＡに反射部材１２が移動される。

【0124】

このように本実施形態では、ワークステージ移動機構６は、ワークステージＷＳ、及び移動ステージ２５の各々を移動させることで、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材１２を移動させる。

【0125】

図５に示すように、ワークマークＷＡＭの検出工程時には、反射部材１２が露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れるように、移動ステージ２５が移動される。また載置面１１に配置されたワークＷが、投影光学系３の下方側に配置されるように、ワークステージＷＳが移動される。

【0126】

本実施形態に係る露光装置２３においても、ワークステージＷＳの載置面１１にワークＷを十分に真空吸着することが可能な吸着機構を構築することが可能となり、種々のワークＷに対して高い露光精度を発揮することが可能となる。

【0127】

またマスクマークＭＡＭの検出工程時に、ワークＷの交換作業を同時に行うことが可能であり、スループットの向上及びタクトタイムの短縮が可能である。この結果、高い生産性を発揮することが可能である。

【0128】

また、ワークステージＷＳ及び移動ステージ２５の各々を水平方向（ＸＹ平面方向）に沿って移動させることで、反射部材１２の表面Ｓ１の高さ位置が、ワークステージＷＳに保持されたワークＷの表面Ｓ２の高さ位置と等しくなるように、反射部材１２を照射領域ＩＡに配置することが可能である。これにより、高い精度でアライメントマークの位置合わせを行うことが可能となる。

【0129】

本実施形態においてワークステージ移動機構６は、本技術に係る、マスクマークの検出工程時に、照射領域から外れた位置から照射領域に反射部材を移動させる移動機構の一実施形態に相当する。なお、ワークステージ移動機構６とは別に、移動ステージ２５を移動させる移動機構が構成されてもよい。この場合、当該移動機構は、本技術に係る移動機構の一実施形態として機能する。

【0130】

＜第３の実施形態＞
図６及び図７は、第３の実施形態に係る露光装置の基本的な構成例を示す模式図である。図６は、マスクマークＭＡＭの検出工程を示す模式図である。図７は、ワークマークＷＡＭの検出工程を示す模式図である。

【0131】

本実施形態に係る露光装置２７では、反射部材移動機構２８が構成される。図６に示すように、反射部材移動機構２８は、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、ワークステージＷＳとアライメント顕微鏡４との間に反射部材１２を挿入することで、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材を移動させる。

【0132】

図７に示すように、ワークマークＷＡＭの検出工程時には、反射部材移動機構２８により、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れるように反射部材１２が移動される。

【0133】

反射部材移動機構２８の具体的な構成は限定されず、任意の構成が採用されてよい。例えば、露光装置１内のフレーム部材に伸縮可能なアーム機構が構成され、当該アーム機構に反射部材１２が接続されて固定される。マスクマークＭＡＭの検出工程時には、アーム機構が伸びることで、露光光ＥＬの照射領域ＩＡに反射部材１２が配置される。ワークマークＷＡＭの検出工程時には、アーム機構が縮むことで、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れる位置に、反射部材１２が配置される。このような構成が採用されてもよい。

【0134】

反射部材１２は、ワークＷ全体を覆う大きさで工程され、マスクマークＭＡＭの検出工程時におけるワークＷへの露光光ＥＬの照射を遮蔽する。これにより、マスクマークＭＡＭの検出工程時にワークＷが露光されてしまうことを防止することが可能となる。

【0135】

本実施形態に係る露光装置２７においても、ワークステージＷＳの載置面１１にワークＷを十分に真空吸着することが可能な吸着機構を構築することが可能となり、種々のワークＷに対して高い露光精度を発揮することが可能となる。

【0136】

またマスクマークＭＡＭの検出工程時に、ワークＷの交換作業を同時に行うことが可能であり、スループットの向上及びタクトタイムの短縮が可能である。この結果、高い生産性を発揮することが可能である。なお、反射部材１２が挿入される位置が、ワークステージＷＳに近い位置の場合、ワークＷの交換作業が難しい場合もあり得る。この場合、ワークステージＷＳを適宜移動させることで、ワークＷの交換作業が容易に実現可能である。

【0137】

本実施形態では、反射部材１２の表面Ｓ１の高さ位置が、ワークステージＷＳに保持されたワークＷの表面Ｓ２の高さ位置と等しくなるように、反射部材１２を照射領域ＩＡに配置することは難しい。

【0138】

本実施形態において反射部材移動機構２８は、本技術に係る、マスクマークの検出工程時に、照射領域から外れた位置から照射領域に反射部材を移動させる移動機構の一実施形態に相当する。

【0139】

本発明に係る露光装置は、マスクマークＭＡＭの検出工程時に、露光光ＥＬの照射領域ＩＡから外れた位置から、照射領域ＩＡに反射部材を移動させることが可能な任意の構成により実現される。本構成により、ワークステージＷＳの載置面１１にワークＷを十分に真空吸着することが可能な吸着機構を構築することが可能となり、種々のワークＷに対して高い露光精度を発揮することが可能となる。

【0140】

当然のことながら、上記した第１～第３の実施形態に係る露光装置１、２３、２７は、本発明に係る露光装置に含まれる。その他、第１及び第２の実施形態に係る露光装置１、２３において、反射部材１２の表面Ｓ２の高さ位置と、ワークステージＷＳに保持されたワークＷの表面Ｓ１の高さ位置とがそろっていない構成も、本発明に係る露光装置に含まれる。その他、任意の構成が採用されてよい。

【0141】

＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。

【0142】

露光光ＥＬの照射領域ＩＡのうちの一部の領域に反射部材１２が配置されてもよい。例えば、アライメントマークの位置が固定されている場合等においては、アライメントマークの位置に対応した一部の領域に反射部材１２が配置されてもよい。この場合でも、ワークステージＷＳの載置面１１にワークＷを十分に真空吸着することが可能な吸着機構を構築することが可能となり、種々のワークＷに対して高い露光精度を発揮することが可能となる。

【0143】

本発明に係る露光装置を用いて露光を行うことで、所定のパターンが形成された種々の基板を、部品として製造することが可能となる。例えば、部品として、電気回路素子、光学素子、ＭＥＭＳ、記録素子、センサ、或いは、型等を製造することが可能である。
電気回路素子としては、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、フラッシュメモリ、ＭＲＡＭのような、揮発性あるいは不揮発性の半導体メモリや、ＬＳＩ、ＣＣＤ、イメージセンサ、ＦＰＧＡのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。

【0144】

各図面を参照して説明した露光装置、制御装置、アライメント顕微鏡、移動機構、ビームスプリッタ、光学センサ等の各構成、位置合わせ方法、露光方法等はあくまで一実施形態であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、任意に変形可能である。すなわち本発明を実施するための他の任意の構成、処理フロー、アルゴリズム等が採用されてよい。

【0145】

本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が適宜使用されている。一方で、これら「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現される概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。

【0146】

本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含まない概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。

【0147】

以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。

【符号の説明】

【0148】

ＥＬ…露光光
ＩＡ…露光光の照射領域
Ｍ…露光用マスク（マスク）
ＭＡＭ…マスクマーク
ＭＳ…マスクステージ
ＮＥＬ…非露光光
Ｓ１…反射部材の表面
Ｓ２…ワークの表面
Ｗ…ワーク
ＷＡＭ…ワークマーク
ＷＳ…ワークステージ
１、２３、２７…露光装置
２…光出射部
３…投影光学系
４…アライメント顕微鏡
５…マスクステージ移動機構
６…ワークステージ移動機構
７…投影光学系調整機構
８…顕微鏡移動機構
１０…制御装置
１１…ワークステージの載置面
２５…移動ステージ
２８…反射部材移動機構

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】