特開 2024-143324 偏光子、偏光板、および画像表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024143324

(43)【公開日】2024-10-11

(54)【発明の名称】偏光子、偏光板、および画像表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/30 20060101AFI20241003BHJP

【ＦＩ】

G02B5/30

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023055940

(22)【出願日】2023-03-30

(71)【出願人】

【識別番号】000003964

【氏名又は名称】日東電工株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003845

【氏名又は名称】弁理士法人籾井特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】石▲崎▼ 優

(72)【発明者】

【氏名】井ノ原 拓実

(72)【発明者】

【氏名】森坂 雄介

【テーマコード（参考）】

2H149

【Ｆターム（参考）】

2H149AA02

2H149AA18

2H149AB13

2H149AB15

2H149AB18

2H149BA02

2H149BA12

2H149CA02

2H149EA12

2H149FA02X

2H149FA03W

2H149FA12Z

2H149FC01

2H149FD47

(57)【要約】

【課題】高温環境下における寸法変化が抑制された偏光子を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による偏光子は、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、一方の主面に寸法変化抑制層を有する。寸法変化抑制層は、チキソトロピー性材料のゲル化層である。チキソトロピー性材料は、例えばコロイド溶液であり；コロイドは、例えば、金属化合物コロイド、フィロケイ酸塩コロイドまたはアマイドコロイドであり；金属化合物コロイドは、例えばアルミナコロイドである。寸法変化抑制層の厚みは、例えば３０ｎｍ～１０００ｎｍである。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、一方の主面に寸法変化抑制層を有する偏光子であって、
該寸法変化抑制層が、チキソトロピー性材料のゲル化層である、
偏光子。

【請求項2】

前記チキソトロピー性材料がコロイド溶液である、請求項１に記載の偏光子。

【請求項3】

前記コロイドが、金属化合物コロイド、フィロケイ酸塩コロイドまたはアマイドコロイドである、請求項２に記載の偏光子。

【請求項4】

前記コロイドが金属化合物コロイドであり、該金属化合物コロイドが、アルミナコロイド、シリカコロイド、ジルコニアコロイド、チタニアコロイドおよび酸化スズコロイドからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項３に記載の偏光子。

【請求項5】

前記金属化合物コロイドがアルミナコロイドである、請求項４に記載の偏光子。

【請求項6】

前記寸法変化抑制層の厚みが３０ｎｍ～１０００ｎｍである、請求項１に記載の偏光子。

【請求項7】

請求項１から６のいずれかに記載の偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の主面に配置された保護層とを有する、偏光板。

【請求項8】

請求項７に記載の偏光板を備える、画像表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、偏光子、偏光板、および画像表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）には、その画像形成方式に起因して、多くの場合、画像表示パネルの少なくとも一方の側に偏光板が配置されている。偏光板は、代表的には、二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂で構成された偏光子を含む。偏光子はＰＶＡ系樹脂フィルムの延伸フィルムであるので、高温環境下において寸法変化が大きいという継続的な問題がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１８－０９１９８０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温環境下における寸法変化が抑制された偏光子を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0005】

［１］本発明の実施形態による偏光子は、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、一方の主面に寸法変化抑制層を有する。該寸法変化抑制層は、チキソトロピー性材料のゲル化層である。
［２］上記［１］において、上記チキソトロピー性材料はコロイド溶液である。
［３］上記［２］において、上記コロイドは、金属化合物コロイド、フィロケイ酸塩コロイドまたはアマイドコロイドである。
［４］上記［２］または［３］において、上記コロイドは金属化合物コロイドであり、該金属化合物コロイドは、アルミナコロイド、シリカコロイド、ジルコニアコロイド、チタニアコロイドおよび酸化スズコロイドからなる群から選択される少なくとも１種である。
［５］上記［３］または［４］において、上記金属化合物コロイドはアルミナコロイドである。
［６］上記［１］から［５］のいずれかにおいて、上記寸法変化抑制層の厚みは３０ｎｍ～１０００ｎｍである。
［７］本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。当該偏光板は、上記［１］から［６］のいずれかの偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の主面に配置された保護層とを有する。
［８］本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。当該画像表示装置は、上記［１］から［６］のいずれかの偏光子、あるいは、上記［７］の偏光板を備える。

【発明の効果】

【0006】

本発明の実施形態によれば、高温環境下における寸法変化が抑制された偏光子を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本発明の１つの実施形態による偏光子の概略断面図である。

【図2】本発明の１つの実施形態による偏光板の概略断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

【0009】

Ａ．偏光子
以下、図面を参照して本発明の代表的な実施形態を説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。また、見やすくかつ理解を容易にするために、図面は模式的または概念的に描かれており、厚み、長さ、幅、形状、大きさ、比率等は実際と異なっている場合があり、図面間で対応していない場合がある。

【0010】

Ａ－１．偏光子の概要
図１は、本発明の１つの実施形態による偏光子の概略断面図である。図示例の偏光子１０は、２つの主面を有する偏光子本体１１と、偏光子本体１１の一方の主面に形成された寸法変化抑制層１２と、を有する。寸法変化抑制層１２は、チキソトロピー性材料のゲル化層である。このような構成であれば、高温環境下における偏光子の寸法変化が抑制され得る。チキソトロピー性材料のゲル化層は強固であるので、高温環境下において適切に偏光子本体を拘束し、その結果、高温環境下における偏光子の寸法変化が抑制され得ると推定される。ただし、このようなメカニズムはあくまで推定であり、当該推定は本発明の実施形態を限定的に解釈するものではなく、かつ、本発明の実施形態はこのようなメカニズムに拘束されない。

【0011】

Ａ－２．偏光子本体
偏光子本体（以下、単に偏光子と称する場合がある）１１は、代表的には、二色性物質（例えば、ヨウ素）を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成されている。ＰＶＡ系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン―酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物が挙げられる。

【0012】

ＰＶＡ系樹脂は、好ましくはアセトアセチル変性されたＰＶＡ系樹脂を含む。このような構成であれば、所望の機械的強度を有する偏光子が得られ得る。アセトアセチル変性されたＰＶＡ系樹脂の配合量は、ＰＶＡ系樹脂全体を１００重量％としたときに、好ましくは５重量％～２０重量％であり、より好ましくは８重量％～１２重量％である。配合量がこのような範囲であれば、より優れた機械的強度を有する偏光子が得られ得る。

【0013】

偏光子は、好ましくは、ヨウ化物または塩化ナトリウム（まとめてハロゲン化物と称する場合がある）を含む。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化リチウムが挙げられる。偏光子におけるハロゲン化物の含有量は、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して、好ましくは５重量部～２０重量部であり、より好ましくは１０重量部～１５重量部である。ハロゲン化物は、後述の製造方法において、偏光子の前駆体であるＰＶＡ系樹脂層を形成する塗布液に配合され、最終的に偏光子に導入され得る。偏光子にハロゲン化物を導入することにより、偏光子におけるＰＶＡ分子の配向性を高めることができるので、優れた光学特性（代表的には、高い偏光度と高い単体透過率との両立）を有する偏光子を実現することができる。

【0014】

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４１．０％～４６．０％であり、より好ましくは４２．０％～４５．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。本発明の実施形態によれば、単体透過率が上記のような範囲であっても、偏光度をこのような範囲に維持することができる。

【0015】

偏光子の厚みは、例えば１５μｍ以下であり、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～７μｍである。このような薄い偏光子と液晶配向固化層とを組み合わせることにより、光学積層体の顕著な薄型化が可能となる。また、偏光子の厚みが上記のような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。

【0016】

偏光子は、任意の適切な方法により作製され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。

【0017】

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。

【0018】

上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。

【0019】

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性は向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

【0020】

Ａ－３．寸法変化抑制層
寸法変化抑制層１２は、上記のとおり、チキソトロピー性材料のゲル化層である。チキソトロピーとは、流体がせん断（例えば、撹拌、圧送、塗工）を受けた時、時間経過とともに粘度が低下し、せん断を止めて静止させておくと元の粘度にもどる現象をいう。したがって、チキソトロピー性材料とは、せん断応力下において粘度が低下して流動性の高いゾル（液体状）となり、静置するとゲル（固体状）となる材料をいう。チキソトロピー性材料は、その性質から明らかなとおり、せん断下の（例えば、撹拌による）ゾルを偏光子本体に塗布すると、塗布膜は自発的にゲル化してゲル化層となる。したがって、チキソトロピー性材料を用いることにより、寸法変化抑制層の形成に際して、加熱、紫外線照射（架橋または硬化）、貼り合わせ、転写等の付加的な工程および操作は一切必要とされない。したがって、きわめて簡便かつ高効率で寸法変化抑制層を形成することができる。さらに、偏光子本体に（例えば、熱または紫外線による）悪影響を与えることなく寸法変化抑制層を形成することができる。加えて、貼り合わせまたは転写のための接着層を必要としないので、偏光子（最終的には、偏光板および画像表示装置）の薄型化に貢献し得る。

【0021】

チキソトロピー性材料は、代表的にはコロイド溶液である。コロイド溶液は、代表的には、せん断下においてゾルであり、静置するとゲル化する。コロイド溶液は、代表的には、液状媒体（分散媒）と当該液状媒体に分散したコロイド粒子とを含む。

【0022】

分散媒としては、代表的には、水または有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ－ブチロラクトン等のエステル類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエ－テル類が挙げられる。

【0023】

コロイド（コロイド粒子）としては、例えば、金属化合物コロイド、フィロケイ酸塩コロイド、アマイド（酸アミド）コロイドが挙げられる。コロイド（コロイド粒子）は、好ましくは金属化合物コロイドである。金属化合物コロイドとしては、例えば、アルミナコロイド、シリカコロイド、ジルコニアコロイド、チタニアコロイド、酸化スズコロイドが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく組み合わせて用いてもよい。金属化合物コロイドは、好ましくはアルミナコロイドである。

【0024】

コロイド溶液におけるコロイド粒子の濃度は、好ましくは０．１重量％～３０．０重量％であり、より好ましくは０．１５重量％～２０．０重量％であり、さらに好ましくは０．１５重量％～１５．０重量％である。コロイド粒子の濃度がこのような範囲であれば、適切な機械的強度を有するゲル化層（寸法変化抑制層）が形成され得る。

【0025】

コロイド粒子の形状としては、任意の適切な形状が採用され得る。コロイド粒子の形状としては、例えば、球状、楕円球状、針状、棒状、繊維状、不定形が挙げられる。

【0026】

コロイド粒子のサイズは、目的、形状等に応じて適切に設定され得る。例えばコロイド粒子が球状である場合、平均一次粒子径は、好ましくは１ｎｍ～２００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ～１８０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ～１２０ｎｍである。例えばコロイド粒子が細長形状（例えば、針状、棒状、繊維状）である場合、平均アスペクト比（長径／短径）は、好ましくは３０～５０００であり、より好ましくは１００～３０００であり；平均短径は、好ましくは１ｎｍ～１０ｎｍであり、より好ましくは２ｎｍ～５ｎｍであり；平均長径は、好ましくは１００ｎｍ～１００００ｎｍであり、より好ましくは５００ｎｍ～７０００ｎｍである。コロイド粒子のサイズが大きすぎると、透明性および流動性が不十分となる場合がある。コロイド粒子のサイズが小さすぎると、保存安定性が不十分となる場合がある。

【0027】

コロイド溶液のｐＨは、例えば２．５～４．０であり得、また例えば３．０～３．６であり得る。必要に応じて、ｐＨ調整剤を用いてもよい。ｐＨ調整剤を用いることにより、コロイド溶液を中性にすることができる。その結果、偏光子本体に対する化学的な悪影響を抑制することができる。ｐＨ調整剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、尿素が挙げられる。

【0028】

コロイド溶液の粘度（２５℃）は、好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは１ｍＰａ・ｓ～２００ｍＰａ・ｓである。コロイド溶液の粘度がこのような範囲であれば、所望の厚みを有するゲル化層（寸法変化抑制層）が形成され得る。

【0029】

コロイド溶液は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、分散安定剤、カップリング剤、帯電防止剤が挙げられる。添加剤の種類、数、組み合わせ、配合量等は、目的に応じて適切に設定され得る。

【0030】

コロイド溶液は、代表的にはバインダー樹脂を含まない。言い換えれば、コロイド溶液は、代表的には接着機能を有さない。チキソトロピー性材料であるコロイド溶液は、自発的な膜形成機能（ゲル化機能）を有するので、バインダー樹脂を用いる必要がない。その結果、バインダー樹脂を硬化させるための加熱および／または活性エネルギー線（例えば、紫外線）照射が不要となるので、寸法変化抑制層の形成に際し、偏光子本体に対する悪影響を回避することができる。

【0031】

金属化合物コロイドは、好ましくは、上記のとおりアルミナコロイドである。したがって、チキソトロピー性材料は、好ましくはアルミナゾルである。アルミナには、ギブサイト、バイヤライト、ベーマイト、擬ベーマイト、ダイアスポア、無定形などの水酸化アルミニウム（アルミナ水和物）、ならびに、γ、η、δ、ρ、κ、θ、χ、α形のアルミナ結晶が包含される。アルミナとしては、好ましくは、ベーマイトまたは擬ベーマイトである。

【0032】

コロイド溶液として市販品を用いてもよい。市販品の具体例としては、川研ファインケミカル社製の商品名「アルミナゾル－Ｆ１０００」（アルミナコロイド）、ＢＹＫ社製の商品名「ＢＹＫ－ＡＱＵＡＧＥＬ ７１００」（フィロケイ酸塩コロイド）、楠本化成社製の商品名「ディスパロン」（アマイドコロイド）が挙げられる。

【0033】

寸法変化抑制層の厚みは、好ましくは３０ｎｍ～１０００ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍ～７００ｎｍであり、さらに好ましくは７０ｎｍ～５００ｎｍであり、特に好ましくは８０ｎｍ～４００ｎｍであり、とりわけ好ましくは１００ｎｍ～３００ｎｍである。寸法変化抑制層の厚みがこのような範囲であれば、偏光子（結果として、偏光板）の薄型化と偏光子の寸法変化抑制とを両立し得る。

【0034】

Ｂ．偏光板
図２は、本発明の１つの実施形態による偏光板の概略断面図である。偏光板１００は、偏光子１０と、偏光子１０の一方の主面に配置された第１の保護層２０と、偏光子１０の他方の主面に配置された第２の保護層３０とを有する。偏光子１０は、上記Ａ項で説明した本発明の実施形態による偏光子である。第１の保護層２０および第２の保護層３０のうち一方の保護層は省略されてもよい。この場合、寸法変化抑制層側の保護層が省略されてもよく、寸法変化抑制層と反対側の保護層が省略されてもよい。第１の保護層および第２の保護層のうち一方は、上記の偏光子の製造に用いられる樹脂基材であってもよい。

【0035】

第１の保護層および第２の保護層は、任意の適切な樹脂フィルムで構成される。樹脂フィルムを構成する材料としては、代表的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が挙げられる。（メタ）アクリル系樹脂の代表例としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、特開２０００－２３００１６号公報、特開２００１－１５１８１４号公報、特開２００２－１２０３２６号公報、特開２００２－２５４５４４号公報、特開２００５－１４６０８４号公報に記載されている。これらの公報は、本明細書に参考として援用されている。異形加工の容易性等の観点から、セルロース系樹脂が好ましく、ＴＡＣがより好ましい。透湿度が低く、耐久性に優れた偏光板が得られるという観点からは、シクロオレフィン系樹脂および（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。

【0036】

第１の保護層および第２の保護層の厚みは、それぞれ、好ましくは１０μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１２μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。

【0037】

偏光板１００を画像表示装置に適用したときに画像表示パネル側に配置される保護層（内側保護層）は、１つの実施形態においては、光学的に等方性を有する。本明細書において「光学的に等方性」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下であり；厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは－７ｎｍ～７ｎｍ、より好ましくは－５ｎｍ～５ｎｍであることをいう。別の実施形態においては、内側保護層は、任意の適切な位相差値を有する位相差層である。この場合、位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１２０ｎｍ～１６０ｎｍである。「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差であり、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄにより求められる。「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向位相差であり、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄにより求められる。ここで、「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率であり、「ｄ」は層（フィルム）の厚み（ｎｍ）である。

【0038】

Ｃ．画像表示装置
上記Ａ項に記載の偏光子または上記Ｂ項に記載の偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、そのような偏光子または偏光板を含む画像表示装置もまた、本発明の実施形態に包含され得る。画像表示装置としては、代表的には、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置、無機ＥＬ表示装置が挙げられる。

【実施例0039】

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。

【0040】

（１）厚み
実施例で得られた偏光子を切削し、偏光板断面を走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製 「ＪＳＭ７１００Ｆ」）を用いて観察し、寸法変化抑制層の厚みを測定した。偏光子本体の厚みについては、干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ－３０００」）を用いて測定した。

【0041】

（２）偏光子の収縮率
実施例および比較例で得られた偏光子を加熱ＴＭＡ試験に供した。具体的には以下のとおりである：偏光子を２０ｍｍ（吸収軸方向）×４ｍｍ（透過軸方向）にカットして測定サンプルとした。熱機械分析装置（日立ハイテクサイエンス社製、型番「ＴＭＡ７１００」）を用いて、測定サンプルを３０℃から１２０℃まで昇温して再度３０℃に冷却することを３サイクル繰り返した後、測定サンプルの長さ方向（吸収軸方向）における寸法変化率（収縮率）を測定した。なお、昇温速度は５℃／ｍｉｎとし、各温度での保持時間は１０分とした。
昇温温度を１２０℃から８０℃に変更したこと以外は上記と同様にして、測定サンプルの幅方向（透過軸方向）における寸法変化率（収縮率）を測定した。

【0042】

［実施例１］
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの偏光子を形成し、樹脂基材／偏光子の積層体を得た。偏光子の単体透過率Ｔｓは４３．３％であった。

【0043】

得られた積層体の偏光子表面に、バーコーターによりアルミナコロイド溶液（川研ファインケミカル社製、商品名「アルミナゾル－Ｆ１０００」）を塗布した。塗布膜は自発的にゲル化し、ゲル化層としての寸法変化抑制層を形成した。寸法変化抑制層の厚みは１４６ｎｍであった。寸法変化抑制層が形成された偏光子の収縮率を上記（２）のようにして測定した。結果を表１に示す。

【0044】

［比較例１］
実施例１で得られた樹脂基材／偏光子の積層体をそのまま（すなわち、寸法変化抑制層を形成することなく）、上記（２）の収縮率の測定に供した。結果を表１に示す。

【0045】

［実施例２］
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。

【0046】

得られた偏光子表面に、バーコーターによりアルミナコロイド溶液（川研ファインケミカル社製、商品名「アルミナゾル－Ｆ１０００」）を塗布した。塗布膜は自発的にゲル化し、ゲル化層としての寸法変化抑制層を形成した。寸法変化抑制層の厚みは６２．５ｎｍであった。寸法変化抑制層が形成された偏光子の収縮率を上記（２）のようにして測定した。結果を表１に示す。

【0047】

［比較例２］
実施例２で得られた偏光子をそのまま（すなわち、寸法変化抑制層を形成することなく）、上記（２）の収縮率の測定に供した。結果を表１に示す。

【0048】

【表1】

【0049】

表１から明らかなように、本発明の実施例の偏光子は、高温環境下における寸法変化（熱収縮）が抑制されている。特に、透過軸方向の寸法変化が良好に抑制されている。また、寸法変化抑制の効果は、寸法変化抑制層の厚みが大きい方が顕著であることがわかる。

【産業上の利用可能性】

【0050】

本発明の実施形態による偏光子および偏光板は、画像表示装置に好適に用いられる。

【符号の説明】

【0051】

１０ 偏光子
１１ 偏光子本体
１２ 寸法変化抑制層
２０ 第１の保護層
３０ 第２の保護層
１００ 偏光板

【図1】

【図2】