(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024143479
(43)【公開日】2024-10-11
(54)【発明の名称】混練装置
(51)【国際特許分類】
B01F 27/116 20220101AFI20241003BHJP
B01F 27/722 20220101ALI20241003BHJP
B01F 27/723 20220101ALI20241003BHJP
B01F 27/74 20220101ALI20241003BHJP
B01F 33/70 20220101ALI20241003BHJP
B01J 3/00 20060101ALI20241003BHJP
B29B 7/18 20060101ALI20241003BHJP
B01F 27/1143 20220101ALI20241003BHJP
【ＦＩ】
B01F27/116
B01F27/722
B01F27/723
B01F27/74
B01F33/70
B01J3/00 A
B29B7/18
B01F27/1143
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023056189
(22)【出願日】2023-03-30
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）令和４年度、国立研究開発法人科学技術振興機構、研究成果展開事業「超臨界ＣＯ２を用いた革新的なゴム混練プロセスの開発」委託研究、産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願
(71)【出願人】
【識別番号】000001199
【氏名又は名称】株式会社神戸製鋼所
(74)【代理人】
【識別番号】110001841
【氏名又は名称】弁理士法人ＡＴＥＮ
(72)【発明者】
【氏名】東 孝祐
(72)【発明者】
【氏名】原田 祥
(72)【発明者】
【氏名】岡本 幸也
(72)【発明者】
【氏名】川崎 亮太
(72)【発明者】
【氏名】山田 紗矢香
(72)【発明者】
【氏名】西村 真
【テーマコード（参考）】
4F201
4G036
4G078
【Ｆターム（参考）】
4F201AJ08
4F201BA01
4F201BC02
4F201BC12
4F201BK01
4F201BK14
4F201BK26
4F201BK54
4G036AC37
4G078AA13
4G078AA30
4G078AB06
4G078AB07
4G078BA01
4G078BA07
4G078CA01
4G078DA09
4G078DA10
4G078EA01
4G078EA15
(57)【要約】
【課題】超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて材料を混練する場合でも、材料に高い応力を付与できるようにする。
【解決手段】混練装置１は、混練室１０ａと、第一ロータ５０と、第二ロータ６０と、を備える。第一ロータ５０の周方向における第一最外径円弧部５１の長さは、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。第二ロータ６０の周方向における第二最外径円弧部６１の長さは、第二仮想円６０ｃの全周の長さの１／２以上である。第二最外径円弧部６１は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間（Ａ）で、第一最外径円弧部５１と向かい合う場合がある。
【選択図】図１５
【解決手段】混練装置１は、混練室１０ａと、第一ロータ５０と、第二ロータ６０と、を備える。第一ロータ５０の周方向における第一最外径円弧部５１の長さは、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。第二ロータ６０の周方向における第二最外径円弧部６１の長さは、第二仮想円６０ｃの全周の長さの１／２以上である。第二最外径円弧部６１は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間（Ａ）で、第一最外径円弧部５１と向かい合う場合がある。
【選択図】図１５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
超臨界状態または亜臨界状態の作動流体の存在下で、材料を混練させる部分である混練室と、
前記混練室の内部に配置され、第一回転軸を中心に回転する第一ロータと、
前記混練室の内部に配置され、前記第一ロータと平行に配置され、前記第一ロータと隣り合うように配置され、第二回転軸を中心に、前記第一ロータの回転方向とは逆向きに回転する第二ロータと、
を備え、
前記第一ロータは、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第一ロータのうち最も径方向外側の部分である第一最外径円弧部を備え、
前記第二ロータは、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第二ロータのうち最も径方向外側の部分である第二最外径円弧部を備え、
前記第一ロータの周方向における前記第一最外径円弧部の長さは、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一最外径円弧部を通るとともに前記第一回転軸を中心とする仮想円である第一仮想円の全周の長さの１／２以上であり、
前記第二ロータの周方向における前記第二最外径円弧部の長さは、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二最外径円弧部を通るとともに前記第二回転軸を中心とする仮想円である第二仮想円の全周の長さの１／２以上であり、
前記第二最外径円弧部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一最外径円弧部と向かい合う場合がある、
混練装置。
前記混練室の内部に配置され、第一回転軸を中心に回転する第一ロータと、
前記混練室の内部に配置され、前記第一ロータと平行に配置され、前記第一ロータと隣り合うように配置され、第二回転軸を中心に、前記第一ロータの回転方向とは逆向きに回転する第二ロータと、
を備え、
前記第一ロータは、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第一ロータのうち最も径方向外側の部分である第一最外径円弧部を備え、
前記第二ロータは、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第二ロータのうち最も径方向外側の部分である第二最外径円弧部を備え、
前記第一ロータの周方向における前記第一最外径円弧部の長さは、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一最外径円弧部を通るとともに前記第一回転軸を中心とする仮想円である第一仮想円の全周の長さの１／２以上であり、
前記第二ロータの周方向における前記第二最外径円弧部の長さは、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二最外径円弧部を通るとともに前記第二回転軸を中心とする仮想円である第二仮想円の全周の長さの１／２以上であり、
前記第二最外径円弧部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一最外径円弧部と向かい合う場合がある、
混練装置。
【請求項2】
請求項１に記載の混練装置であって、
前記第一ロータと前記第二ロータとの最小間隔は、前記混練室の内面と前記第一ロータとの最小間隔よりも小さく、前記混練室の内面と前記第二ロータとの最小間隔よりも小さい、
混練装置。
前記第一ロータと前記第二ロータとの最小間隔は、前記混練室の内面と前記第一ロータとの最小間隔よりも小さく、前記混練室の内面と前記第二ロータとの最小間隔よりも小さい、
混練装置。
【請求項3】
請求項１に記載の混練装置であって、
前記第一ロータは、前記第一ロータの径方向における内側に凹んだ形状を有する第一凹部を備え、
前記第二ロータは、前記第二ロータの径方向における内側に凹んだ形状を有する第二凹部を備える、
混練装置。
前記第一ロータは、前記第一ロータの径方向における内側に凹んだ形状を有する第一凹部を備え、
前記第二ロータは、前記第二ロータの径方向における内側に凹んだ形状を有する第二凹部を備える、
混練装置。
【請求項4】
請求項３に記載の混練装置であって、
前記第二凹部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一凹部と向かい合う場合がある、
混練装置。
前記第二凹部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一凹部と向かい合う場合がある、
混練装置。
【請求項5】
請求項３に記載の混練装置であって、
前記第一ロータは、
前記第一回転軸を含む第一基部と、
前記第一基部から径方向外側に突出する２つ以上の第一凸部と、
を備え、
前記第一凹部は、前記第一ロータの周方向に隣り合う２つの前記第一凸部により形成される第一凸部間凹部を備え、
前記第二ロータは、
前記第二回転軸を含む第二基部と、
前記第二基部から径方向外側に突出する２つ以上の第二凸部と、
を備え、
前記第二凹部は、前記第二ロータの周方向に隣り合う２つの前記第二凸部により形成される第二凸部間凹部を備える、
混練装置。
前記第一ロータは、
前記第一回転軸を含む第一基部と、
前記第一基部から径方向外側に突出する２つ以上の第一凸部と、
を備え、
前記第一凹部は、前記第一ロータの周方向に隣り合う２つの前記第一凸部により形成される第一凸部間凹部を備え、
前記第二ロータは、
前記第二回転軸を含む第二基部と、
前記第二基部から径方向外側に突出する２つ以上の第二凸部と、
を備え、
前記第二凹部は、前記第二ロータの周方向に隣り合う２つの前記第二凸部により形成される第二凸部間凹部を備える、
混練装置。
【請求項6】
請求項５に記載の混練装置であって、
前記第二凸部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一凸部と向かい合う場合がある、
混練装置。
前記第二凸部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一凸部と向かい合う場合がある、
混練装置。
【請求項7】
請求項６に記載の混練装置であって、
２つの前記第二凸部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、２つの前記第一凸部と向かい合う場合がある、
混練装置。
２つの前記第二凸部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、２つの前記第一凸部と向かい合う場合がある、
混練装置。
【請求項8】
請求項６に記載の混練装置であって、
前記第一ロータの径方向における前記第一凸部の外側端部である第一凸部先端部は、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一回転軸を中心とする円弧状であり、
前記第二ロータの径方向における前記第二凸部の外側端部である第二凸部先端部は、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二回転軸を中心とする円弧状である、
混練装置。
前記第一ロータの径方向における前記第一凸部の外側端部である第一凸部先端部は、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一回転軸を中心とする円弧状であり、
前記第二ロータの径方向における前記第二凸部の外側端部である第二凸部先端部は、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二回転軸を中心とする円弧状である、
混練装置。
【請求項9】
請求項８に記載の混練装置であって、
前記第一凸部先端部は、前記第一最外径円弧部であり、
前記第二凸部先端部は、前記第二最外径円弧部である、
混練装置。
前記第一凸部先端部は、前記第一最外径円弧部であり、
前記第二凸部先端部は、前記第二最外径円弧部である、
混練装置。
【請求項10】
請求項５に記載の混練装置であって、
前記第一ロータの径方向における、前記第一回転軸から前記第一凸部間凹部までの最小長さは、前記第一ロータの径方向における、前記第一回転軸から前記第一基部の外側の面までの最大長さよりも小さく、
前記第二ロータの径方向における、前記第二回転軸から前記第二凸部間凹部までの最小長さは、前記第二ロータの径方向における、前記第二回転軸から前記第二基部の外側の面までの最大長さよりも小さい、
混練装置。
前記第一ロータの径方向における、前記第一回転軸から前記第一凸部間凹部までの最小長さは、前記第一ロータの径方向における、前記第一回転軸から前記第一基部の外側の面までの最大長さよりも小さく、
前記第二ロータの径方向における、前記第二回転軸から前記第二凸部間凹部までの最小長さは、前記第二ロータの径方向における、前記第二回転軸から前記第二基部の外側の面までの最大長さよりも小さい、
混練装置。
【請求項11】
請求項１に記載の混練装置であって、
前記第一ロータは、前記第一回転軸を中心として所定ねじれ方向にねじれた形状を有する第一ねじれ部を備え、
前記第二ロータは、前記第二回転軸を中心として前記所定ねじれ方向にねじれた形状を有する第二ねじれ部を備える、
混練装置。
前記第一ロータは、前記第一回転軸を中心として所定ねじれ方向にねじれた形状を有する第一ねじれ部を備え、
前記第二ロータは、前記第二回転軸を中心として前記所定ねじれ方向にねじれた形状を有する第二ねじれ部を備える、
混練装置。
【請求項12】
請求項１に記載の混練装置であって、
前記混練室は、
前記第一回転軸を中心とする内周面を有し、前記第一ロータを収容する第一ロータ収容室と、
前記第二回転軸を中心とする内周面を有し、前記第二ロータを収容する第二ロータ収容室と、
前記第一ロータ収容室および前記第二ロータ収容室から上に延び、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間に配置されるロータ軸間上部室と、
を備える、
混練装置。
前記混練室は、
前記第一回転軸を中心とする内周面を有し、前記第一ロータを収容する第一ロータ収容室と、
前記第二回転軸を中心とする内周面を有し、前記第二ロータを収容する第二ロータ収容室と、
前記第一ロータ収容室および前記第二ロータ収容室から上に延び、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間に配置されるロータ軸間上部室と、
を備える、
混練装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、材料を混練する混練装置に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば特許文献１に、従来の混練装置が記載されている。同文献に記載の混練装置は、翼を有するロータ（特許文献１の要約、図２などを参照）を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第４５４２６０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて材料を混練する場合は、大気圧で混練する場合に比べ、材料の粘度が低下する。それに伴い、混練装置が材料に付与できる応力が低下し、材料の分散が不十分となるおそれがある。そのため、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて材料を混練する場合でも、材料に高い応力を付与できることが望まれる。
【0005】
そこで、本発明は、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて材料を混練する場合でも、材料に高い応力を付与することができる、混練装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
混練装置は、混練室と、第一ロータと、第二ロータと、を備える。前記混練室は、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体の存在下で、材料を混練させる部分である。前記第一ロータは、前記混練室の内部に配置され、第一回転軸を中心に回転する。前記第二ロータは、前記混練室の内部に配置され、前記第一ロータと平行に配置され、前記第一ロータと隣り合うように配置され、第二回転軸を中心に、前記第一ロータの回転方向とは逆向きに回転する。前記第一ロータは、第一最外径円弧部を備える。前記第一最外径円弧部は、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第一ロータのうち最も径方向外側の部分である。前記第二ロータは、第二最外径円弧部を備える。前記第二最外径円弧部は、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二回転軸を中心とする円弧状であるとともに前記第二ロータのうち最も径方向外側の部分である。前記第一ロータの周方向における前記第一最外径円弧部の長さは、第一仮想円の全周の長さの１／２以上である。前記第一仮想円は、前記第一回転軸が延びる方向から見たときに前記第一最外径円弧部を通るとともに前記第一回転軸を中心とする仮想円である。前記第二ロータの周方向における前記第二最外径円弧部の長さは、第二仮想円の全周の長さの１／２以上である。前記第二仮想円は、前記第二回転軸が延びる方向から見たときに前記第二最外径円弧部を通るとともに前記第二回転軸を中心とする仮想円である。前記第二最外径円弧部は、前記第一回転軸と前記第二回転軸との間で、前記第一最外径円弧部と向かい合う場合がある。
【発明の効果】
【0007】
上記の混練装置により、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて材料を混練する場合でも、材料に高い応力を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】第１実施形態の混練装置１を軸方向Ｚから見た断面図である。
【図5】第２実施形態の混練装置２０１を軸方向Ｚから見た断面図である。
【図10】第３実施形態の混練装置３０１を軸方向Ｚから見た断面図である。
【図15】第４実施形態の混練装置４０１を軸方向Ｚから見た断面図である。
【図22】比較例（例Ｄ１、例Ｄ２）の回転翼を示す斜視図である。
【図23】材料に付与できる最大せん断応力を示すグラフである。
【図24】材料に付与できる最大伸長応力を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0009】
【0010】
混練装置１（混練機）は、図１に示すように、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体を用いて、材料Ｍ（図３参照（以下の材料Ｍについても同様））を混練する装置である。以下では、「超臨界状態または亜臨界状態」を、「超臨界状態など」ともいう。混練装置１は、例えばバッチ式である。混練装置１では、超臨界状態などの作動流体が材料Ｍに膨潤し、材料Ｍが溶融し、材料Ｍの粘度が低下した状態で、材料Ｍが混練される。
【0011】
この混練装置１で混練される材料Ｍは、例えば、主材料と、副材料と、を含む。主材料は、例えば高分子材料を含み、具体的には例えば、ゴム（タイヤ用ゴムなど）または樹脂を含む。副材料は、主材料に添加（配合）される添加剤（配合剤）などである。副材料は、無機物を含んでもよく、有機物を含んでもよい。具体的には例えば、主材料がゴムである場合、副材料は、シリカ、カップリング剤、加硫剤などである。
【0012】
この混練装置１に用いられる作動流体は、超臨界状態の流体（超臨界流体）、または、亜臨界状態の流体（亜臨界流体）である。混練装置１は、超臨界混練装置、または、亜臨界混練装置である。超臨界流体の温度は、臨界温度（Ｔｃ）以上であり、超臨界流体の圧力は、臨界圧力（Ｐｃ）以上である。超臨界流体は、液体および気体の特性を有する。超臨界流体は、液体と同様に溶質を融解させる力（溶解性）と、気体と同様に溶質を拡散させる力（拡散性）と、を有する。亜臨界流体の特性（溶解性および拡散性）は、超臨界流体の特性とほぼ同じである。亜臨界流体の温度（Ｔ）および圧力（Ｐ）は、例えば次のいずれかの条件を満たす。以下の各例の温度（Ｔ）および臨界温度（Ｔｃ）のそれぞれの単位は摂氏である。［亜臨界状態の例１］Ｔ≧Ｔｃ、かつ、Ｐ＜Ｐｃ、を満たす。［亜臨界状態の例２］Ｔ＜Ｔｃ、かつ、Ｐ＜Ｐｃ、かつ、Ｔが常温よりも十分高く、かつ、Ｐが常圧（大気圧）よりも十分高い。［亜臨界状態の例３］０．５＜Ｔ／Ｔｃ＜１．０、かつ、０．５＜Ｐ／Ｐｃ、を満たす。［亜臨界状態の例４］０．５＜Ｔ／Ｔｃ、かつ、０．５＜Ｐ／Ｐｃ＜１．０、を満たす。［亜臨界状態の例５］臨界温度（Ｔｃ）が０℃以下の場合、０．５＜Ｐ／Ｐｃを満たす。
【0013】
作動流体を構成する物質は、できるだけ容易に、超臨界状態または亜臨界状態とすることが可能な物質であることが好ましい。作動流体の極性と材料Ｍの極性との差は、作動流体に材料Ｍが溶解できる程度に小さい。作動流体を構成する物質は、例えば二酸化炭素である。二酸化炭素の臨界温度（Ｔｃ）は、３１℃である。二酸化炭素の臨界圧力（Ｐｃ）は、７．４ＭＰａである。二酸化炭素は、例えば、３１℃以上、かつ７．１ＭＰａ以上であれば、亜臨界状態である。二酸化炭素は、例えば、２０℃の場合、１５ＭＰａ以上であれば、亜臨界状態である。なお、作動流体を構成する物質は、二酸化炭素でなくてもよく、例えば窒素などでもよい。作動流体は、亜臨界状態よりも、超臨界状態であることが好ましい。作動流体が超臨界状態の場合は、亜臨界状態の場合よりも、材料Ｍがより混練される。
【0014】
この混練装置１は、チャンバ１０と、ロータ４０と、を備える。
【0015】
（混練装置１に関する方向）
混練装置１に関する方向には、横方向Ｘ、上下方向Ｙ、および、軸方向Ｚなどがある。軸方向Ｚは、後述する第一回転軸５０ａおよび第二回転軸６０ａが延びる方向である。横方向Ｘは、軸方向Ｚと直交する方向であって、軸方向Ｚから見たときに第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとを結ぶ直線が延びる方向である。横方向Ｘは、水平方向でもよく、水平方向でなくてもよい。横方向Ｘにおいて、第二回転軸６０ａから第一回転軸５０ａに向かう側（向き）を横方向第一側Ｘ１とし、横方向第一側Ｘ１とは反対側を横方向第二側Ｘ２とする。上下方向Ｙは、軸方向Ｚおよび横方向Ｘのそれぞれに直交する方向である。上下方向Ｙは、鉛直方向でもよく、特に断らない限り鉛直方向でなくてもよい。上下方向Ｙにおける一方側を下側Ｙ２とする。後述するように、第一ロータ５０と第二ロータ６０とは互いに逆向きに回転するところ、第一ロータ５０の横方向第二側Ｘ２の部分、および、第二ロータ６０の横方向第一側Ｘ１の部分の、それぞれの移動の向きを、下側Ｙ２とする。上下方向Ｙにおいて、下側Ｙ２とは反対側を上側Ｙ１とする。上側Ｙ１は、鉛直方向の上でもよく、特に断らない限り鉛直方向の上でなくてもよい。後述する、第一回転軸５０ａを中心とする第一仮想円５０ｃの半径方向を、第一径方向という。第一仮想円５０ｃの円周方向を、第一周方向という。後述する、第二回転軸６０ａを中心とする第二仮想円６０ｃの半径方向を、第二径方向という。第二仮想円６０ｃの円周方向を、第二周方向という。
混練装置１に関する方向には、横方向Ｘ、上下方向Ｙ、および、軸方向Ｚなどがある。軸方向Ｚは、後述する第一回転軸５０ａおよび第二回転軸６０ａが延びる方向である。横方向Ｘは、軸方向Ｚと直交する方向であって、軸方向Ｚから見たときに第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとを結ぶ直線が延びる方向である。横方向Ｘは、水平方向でもよく、水平方向でなくてもよい。横方向Ｘにおいて、第二回転軸６０ａから第一回転軸５０ａに向かう側（向き）を横方向第一側Ｘ１とし、横方向第一側Ｘ１とは反対側を横方向第二側Ｘ２とする。上下方向Ｙは、軸方向Ｚおよび横方向Ｘのそれぞれに直交する方向である。上下方向Ｙは、鉛直方向でもよく、特に断らない限り鉛直方向でなくてもよい。上下方向Ｙにおける一方側を下側Ｙ２とする。後述するように、第一ロータ５０と第二ロータ６０とは互いに逆向きに回転するところ、第一ロータ５０の横方向第二側Ｘ２の部分、および、第二ロータ６０の横方向第一側Ｘ１の部分の、それぞれの移動の向きを、下側Ｙ２とする。上下方向Ｙにおいて、下側Ｙ２とは反対側を上側Ｙ１とする。上側Ｙ１は、鉛直方向の上でもよく、特に断らない限り鉛直方向の上でなくてもよい。後述する、第一回転軸５０ａを中心とする第一仮想円５０ｃの半径方向を、第一径方向という。第一仮想円５０ｃの円周方向を、第一周方向という。後述する、第二回転軸６０ａを中心とする第二仮想円６０ｃの半径方向を、第二径方向という。第二仮想円６０ｃの円周方向を、第二周方向という。
【0016】
チャンバ１０は、材料Ｍを混練させるための容器である。チャンバ１０は、混練室１０ａを備える。
【0017】
混練室１０ａは、材料Ｍを混練させる部分である。混練室１０ａは、超臨界状態などの作動流体の存在下（雰囲気下）で、材料Ｍを混練させる部分である。混練室１０ａは、チャンバ１０の内部に配置される。混練室１０ａは、材料Ｍを混練させる空間（混練空間）と、混練空間を形成する（囲む）チャンバ１０の内面と、を含む。混練室１０ａは、混練室１０ａの内部の作動流体が超臨界状態などの状態を維持できるように、密閉される。混練室１０ａは、ロータ収容室２０と、ロータ軸間上部室３０と、を備える。
【0018】
ロータ収容室２０は、ロータ４０を収容する部分である。ロータ収容室２０は、ロータ４０を収容する空間（ロータ収容空間）と、ロータ収容空間を形成するチャンバ１０の内面と、を含む。ロータ４０が２つ設けられる場合は、ロータ収容室２０は、第一ロータ収容室２１と、第二ロータ収容室２２と、を備える。
【0019】
第一ロータ収容室２１は、第一ロータ５０を収容する。第一ロータ収容室２１は、第一回転軸５０ａ（後述）を中心とする内周面を有する。第一ロータ収容室２１の内周面は、軸方向Ｚから見たときに、第一回転軸５０ａを中心とする円弧状である。
【0020】
第二ロータ収容室２２は、第二ロータ６０を収容する部分である。第二ロータ収容室２２は、第二回転軸６０ａ（後述）を中心とする内周面を有する。第二ロータ収容室２２の内周面は、軸方向Ｚから見たときに、第二回転軸６０ａを中心とする円弧状である。第一ロータ収容室２１の空間および第二ロータ収容室２２の空間（すなわちロータ収容室２０のロータ収容空間）は、軸方向Ｚから見たときに、略メガネ状である。
【0021】
ロータ軸間上部室３０は、混練室１０ａ内に入れることが可能な材料Ｍの量（例えば混練装置１による生産量）を増加させる。ロータ軸間上部室３０は、第一ロータ収容室２１および第二ロータ収容室２２から、上側Ｙ１（ここでは鉛直方向における上）に延びる。ロータ軸間上部室３０は、ロータ軸間領域Ａに配置される。ロータ軸間領域Ａは、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの、横方向Ｘにおける間の領域である。ロータ軸間領域Ａは、第一回転軸５０ａよりも横方向第二側Ｘ２、かつ、第二回転軸６０ａよりも横方向第一側Ｘ１の領域である。ロータ軸間上部室３０の少なくとも一部は、ロータ軸間領域Ａに配置される。ロータ軸間上部室３０の一部が、ロータ軸間領域Ａよりも横方向Ｘ外側に配置されてもよい。
【0022】
このロータ軸間上部室３０の形状は、様々に（任意に）設定可能である。図１に示す例では、ロータ軸間上部室３０の横方向第一側Ｘ１の内面（「左側面」という）は、第一ロータ収容室２１の上側Ｙ１部分（例えば上側Ｙ１端部）から上側Ｙ１に延びる。ロータ軸間上部室３０の左側面は、第一ロータ収容室２１のうち、第一回転軸５０ａの真上の位置から上側Ｙ１に延びる。ロータ軸間上部室３０の左側面は、上側Ｙ１ほど横方向第二側Ｘ２に配置されるように、上下方向Ｙに対して傾斜する方向に延びる。ロータ軸間上部室３０の左側面は、上下方向Ｙと一致する方向に延びてもよい。ロータ軸間上部室３０の横方向第二側Ｘ２の内面（右側面）は、ロータ軸間上部室３０の左側面と横方向Ｘに対称（例えば左右対称）に設けられてもよく、対称に設けられなくてもよい。
【0023】
ロータ４０は、混練室１０ａに対して回転することで、材料Ｍを混練する。ロータ４０は、ロータ収容室２０に収容される。ロータ４０は、複数設けられ、例えば２つ設けられ、３つ以上設けられてもよい。複数のロータ４０のうち、隣り合う２つのロータ４０を、第一ロータ５０および第二ロータ６０とする。
【0024】
第一ロータ５０は、複数のロータ４０の１つである。第一ロータ５０は、第一回転軸５０ａを中心に回転する。第一回転軸５０ａは、混練室１０ａに対する（チャンバ１０に対する）第一ロータ５０の回転軸である。第一ロータ５０は、混練室１０ａの内部に配置（収容）され、第一ロータ収容室２１の内部に配置（収容）される。図２に示すように、第一ロータ５０は、第一回転軸５０ａが延びる方向に延びるように設けられる。図２に示す例では、第一ロータ５０は、第一回転軸５０ａを中心とする円柱状（ロール状）である。なお、図２では、チャンバ１０を想像線（二点鎖線）で示した（図６、図１１、図１７、図２２も同様）。図１に示すように、第一ロータ５０は、第一最外径円弧部５１を備える。
【0025】
第一最外径円弧部５１は、軸方向Ｚから見たときに第一回転軸５０ａを中心とする円弧状であるとともに、第一ロータ５０のうち最も第一径方向外側の部分である。第一ロータ５０が円柱状である場合は、第一最外径円弧部５１は、第一ロータ５０の第一径方向外側の部分の全体（第一ロータ５０の外周部の全周）である。この例では、第一最外径円弧部５１は、第一仮想円５０ｃの全周と一致する。第一仮想円５０ｃは、軸方向Ｚから見たときに、第一最外径円弧部５１を通るとともに第一回転軸５０ａを中心とする仮想円である。第一仮想円５０ｃは、軸方向Ｚに直交する仮想円である。
【0026】
この第一最外径円弧部５１は、次の条件α１を満たす。［条件α１］第一ロータ５０の周方向（第一周方向）における第一最外径円弧部５１の長さ（周長）は、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。例えば、図１に示す例では、第一周方向における第一最外径円弧部５１の長さは、第一仮想円５０ｃの全周の長さと等しい。第一ロータ５０は、軸方向Ｚに延びるように設けられるところ（図２参照）、上記［条件α１］は、第一ロータ５０の、少なくとも一部の軸方向Ｚ位置（軸方向Ｚにおける位置）において満たされる。上記［条件α１］は、第一ロータ５０の軸方向Ｚの全体で満たされることが好ましい。上記［条件α１］は、第一ロータ５０の軸方向Ｚの一部で満たされてもよい。
【0027】
第二ロータ６０は、複数のロータ４０の１つであり、第一ロータ５０とは別のロータ４０である。第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心に回転する。第二回転軸６０ａは、混練室１０ａに対する（チャンバ１０に対する）第二ロータ６０の回転軸である。第二ロータ６０は、第一ロータ５０の回転方向とは逆向きに回転する。これは、第一ロータ５０と第二ロータ６０との隙間（例えば後述するロータ最外径部隙間Ａｇなど）で、材料Ｍに伸張応力を付与するためである。具体的には例えば、軸方向Ｚの一方側から見たときに、第一ロータ５０が右回りに回転する場合は、第二ロータ６０は、左回りに回転する。第二ロータ６０の回転速度の大きさ（回転数）は、第一ロータ５０の回転速度の大きさと等しい、または、略等しい。なお、第二ロータ６０の回転速度の大きさは、第一ロータ５０の回転速度の大きさと相違してもよい。
【0028】
この第二ロータ６０は、混練室１０ａの内部に配置（収容）され、第二ロータ収容室２２の内部に配置（収容）される。図２に示すように、第二ロータ６０は、第一ロータ５０と平行に配置される。さらに詳しくは、第一ロータ５０が延びる方向（すなわち第一回転軸５０ａが延びる方向）と、第二ロータ６０が延びる方向（すなわち第二回転軸６０ａが延びる方向）と、は平行である。図１に示すように、第二ロータ６０は、第一ロータ５０と隣り合うように配置される。さらに詳しくは、第二ロータ６０は、第一仮想円５０ｃと第二仮想円６０ｃとの間に、横方向Ｘのわずかな隙間（後述するロータ最外径部隙間Ａｇ、ロータ間クリアランスＬ３）ができるように配置される。
【0029】
この第二ロータ６０の構成（構造、形状など）は、例えば、第一ロータ５０の構成と同様である。具体的には例えば、第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心とする円柱状（ロール状）である（図２参照）。なお、第二ロータ６０の構成は、第一ロータ５０の構成と異なってもよい（以下で説明する他の実施形態でも同様）。第二ロータ６０の構成は、第一ロータ５０の構成と略等しい構成でもよく、第一ロータ５０の構成と全く異なる構成でもよい。以下では、第一ロータ５０の構成と第二ロータ６０の構成とが等しい場合について説明する。第二ロータ６０は、第一最外径円弧部５１と同様の、第二最外径円弧部６１を備える。
【0030】
第二最外径円弧部６１は、軸方向Ｚから見たときに第二回転軸６０ａを中心とする円弧状であるとともに、第二ロータ６０のうち最も第二径方向外側の部分である。図１に示す例では、第二最外径円弧部６１は、第二仮想円６０ｃの全周と一致する。第二仮想円６０ｃは、軸方向Ｚから見たときに、第二最外径円弧部６１を通るとともに、第二回転軸６０ａを中心とする仮想円である。第二仮想円６０ｃは、軸方向Ｚに直交する仮想円である。第二最外径円弧部６１は、次の条件α２を満たす。［条件α２］第二ロータ６０の周方向（第二周方向）における第二最外径円弧部６１の長さは、第二仮想円６０ｃの全周の長さの１／２以上である。
【0031】
（最外径円弧部の対向）
この第二最外径円弧部６１は、ロータ軸間領域Ａで、第一最外径円弧部５１と向かい合う（横方向Ｘに向かい合う）場合がある。以下では、第一ロータ５０の要素（ここでは第一最外径円弧部５１）と第二ロータ６０の要素（ここでは第二最外径円弧部６１）とが「向かい合う」ことは、ロータ軸間領域Ａで横方向Ｘに向かい合うことを意味する。第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１とが向かい合うとき、第二最外径円弧部６１の上下方向Ｙにおける範囲（上下範囲）は、第一最外径円弧部５１の上下範囲の、少なくとも一部に含まれる。
この第二最外径円弧部６１は、ロータ軸間領域Ａで、第一最外径円弧部５１と向かい合う（横方向Ｘに向かい合う）場合がある。以下では、第一ロータ５０の要素（ここでは第一最外径円弧部５１）と第二ロータ６０の要素（ここでは第二最外径円弧部６１）とが「向かい合う」ことは、ロータ軸間領域Ａで横方向Ｘに向かい合うことを意味する。第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１とが向かい合うとき、第二最外径円弧部６１の上下方向Ｙにおける範囲（上下範囲）は、第一最外径円弧部５１の上下範囲の、少なくとも一部に含まれる。
【0032】
この第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１とが、向かい合わない場合があってもよい（以下の「向かい合う場合がある」についても同様）。さらに詳しくは、図１に示す例では、第一ロータ５０の外周部の全周が第一最外径円弧部５１であり、第二ロータ６０の外周部の全周が第二最外径円弧部６１であるため、第二最外径円弧部６１は、第一最外径円弧部５１と常に向かい合う。一方、第一ロータ５０または第二ロータ６０の形状によっては、第二最外径円弧部６１は、第一最外径円弧部５１と向かい合わない場合がってもよい。
【0033】
例えば、第二最外径円弧部６１は、第一最外径円弧部５１と、あるタイミングで向かい合い、他のタイミングで向かい合っていなくてもよい。第二最外径円弧部６１は、第一最外径円弧部５１と、周期的に向かい合ってもよい。上記［条件α１］および［条件α２］が満たされる場合は、第一ロータ５０および第二ロータ６０の少なくともいずれかが１回転する間に、第二最外径円弧部６１は、第一最外径円弧部５１と向かい合うタイミングがある。
【0034】
例えば、第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１とは、軸方向Ｚにおけるある位置で向かい合い、軸方向Ｚにおける他の位置で向かい合っていなくてもよい。
【0035】
第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１とが向かい合ったときの、第二最外径円弧部６１と第一最外径円弧部５１との隙間を、ロータ最外径部隙間Ａｇとする。ロータ軸間領域Ａ内、かつ、混練室１０ａの内部の空間（ロータ４０が存在する部分を除く）には、ロータ隙間上部Ａｙ１およびロータ隙間下部Ａｙ２がある。ロータ隙間上部Ａｙ１は、第一仮想円５０ｃと第二仮想円６０ｃとの隙間部分（例えばロータ最外径部隙間Ａｇ）よりも上側Ｙ１、かつ、この隙間の近傍の領域である。ロータ隙間下部Ａｙ２は、第一仮想円５０ｃと第二仮想円６０ｃとの隙間部分（例えばロータ最外径部隙間Ａｇ）よりも下側Ｙ２、かつ、この隙間の近傍の領域である。
【0036】
（クリアランスについて）
混練装置１に関する隙間には、第一クリアランスＬ１と、第二クリアランスＬ２と、ロータ間クリアランスＬ３と、がある。
混練装置１に関する隙間には、第一クリアランスＬ１と、第二クリアランスＬ２と、ロータ間クリアランスＬ３と、がある。
【0037】
第一クリアランスＬ１は、混練室１０ａの内面と、第一ロータ５０と、の最小間隔（間隔の最小値）である。第一クリアランスＬ１は、第一ロータ収容室２１の内周面と、第一仮想円５０ｃと、の第一径方向における間隔である。
【0038】
第二クリアランスＬ２は、混練室１０ａの内面と、第二ロータ６０と、の最小間隔である。第二クリアランスＬ２は、第二ロータ収容室２２の内周面と、第二仮想円６０ｃと、の第二径方向における間隔である。
【0039】
ロータ間クリアランスＬ３は、第一ロータ５０と第二ロータ６０との最小間隔である。ロータ間クリアランスＬ３は、第一仮想円５０ｃと第二仮想円６０ｃとの横方向Ｘにおける間隔である。ロータ間クリアランスＬ３は、ロータ最外径部隙間Ａｇの最小間隔である。ロータ間クリアランスＬ３は、０よりも大きい。すなわち、第一仮想円５０ｃと第二仮想円６０ｃとは重ならず、第一ロータ５０と第二ロータ６０とは噛み合わない（混練装置１は噛みあい型ではない）。
【0040】
ロータ間クリアランスＬ３は、第一クリアランスＬ１よりも小さく、第二クリアランスＬ２よりも小さいことが好ましい。第一クリアランスＬ１および第二クリアランスＬ２が大きい（具体的にはロータ間クリアランスＬ３よりも大きい）ことで、ロータ４０とチャンバ１０との隙間での材料Ｍの発熱量が抑制される。その結果、混練装置１での長時間の混練が可能になる。
【0041】
また、ロータ間クリアランスＬ３が小さい（具体的には第一クリアランスＬ１および第二クリアランスＬ２のそれぞれよりも小さい）ことで、ロータ最外径部隙間Ａｇで材料Ｍに安定して応力をかけることができる。この理由は、次の通りである。ロータ間クリアランスＬ３が大きい場合は、ロータ最外径部隙間Ａｇに供給される材料Ｍよりも、ロータ最外径部隙間Ａｇから排出される材料Ｍが多くなり得る。すると、ロータ隙間上部Ａｙ１に材料Ｍがたまりにくくなり、ロータ最外径部隙間Ａｇに材料Ｍが供給されないタイミングが多くなり、ロータ最外径部隙間Ａｇで材料Ｍに応力をかけられないタイミングが多くなる。よって、ロータ間クリアランスＬ３が小さい（具体的には第一クリアランスＬ１および第二クリアランスＬ２のそれぞれよりも小さい）ことが好ましい。
【0042】
（作動）
混練装置１は、以下のように作動するように構成される。材料Ｍおよび作動流体が、密閉された混練室１０ａ内に入れられた状態とされる（図３参照）。この状態で、ロータ４０が、混練室１０ａに対して回転する。ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一ロータ５０と第二ロータ６０との隙間（この例ではロータ最外径部隙間Ａｇ）に移動する。材料Ｍがロータ最外径部隙間Ａｇを通るときに、上下方向Ｙの伸長流れ（後述）が材料Ｍに生じ、伸長応力が材料Ｍに付与される（作用する）。ロータ最外径部隙間Ａｇを通った材料Ｍは、ロータ隙間下部Ａｙ２に移動し、ロータ収容室２０の内面とロータ４０との隙間を通り、ロータ隙間上部Ａｙ１に戻る。ロータ４０が継続して回転することで、材料Ｍは、この移動を繰り返す。これにより、材料Ｍが、分配され（分配混合され、分配が進展し）、材料Ｍの偏り（混ざりムラ）が減る。具体的には、主材料における副材料の偏りが減る。また、材料Ｍが、分散され、材料Ｍが細かく散らばる。具体的には、材料Ｍの副材料が、主材料中に細かく散らばる。
混練装置１は、以下のように作動するように構成される。材料Ｍおよび作動流体が、密閉された混練室１０ａ内に入れられた状態とされる（図３参照）。この状態で、ロータ４０が、混練室１０ａに対して回転する。ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一ロータ５０と第二ロータ６０との隙間（この例ではロータ最外径部隙間Ａｇ）に移動する。材料Ｍがロータ最外径部隙間Ａｇを通るときに、上下方向Ｙの伸長流れ（後述）が材料Ｍに生じ、伸長応力が材料Ｍに付与される（作用する）。ロータ最外径部隙間Ａｇを通った材料Ｍは、ロータ隙間下部Ａｙ２に移動し、ロータ収容室２０の内面とロータ４０との隙間を通り、ロータ隙間上部Ａｙ１に戻る。ロータ４０が継続して回転することで、材料Ｍは、この移動を繰り返す。これにより、材料Ｍが、分配され（分配混合され、分配が進展し）、材料Ｍの偏り（混ざりムラ）が減る。具体的には、主材料における副材料の偏りが減る。また、材料Ｍが、分散され、材料Ｍが細かく散らばる。具体的には、材料Ｍの副材料が、主材料中に細かく散らばる。
【0043】
（超臨界状態などの作動流体が用いられることによる作用）
ここで、超臨界状態などの作動流体が用いられない密閉式混練機を、「従来の密閉式混練機」という。超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、低温でも材料Ｍの混練が可能であり、材料Ｍの発熱を抑制することができる。また、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、材料Ｍの粘度が低下し、材料Ｍの流動性が改善するため、材料Ｍがより分配される。また、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、異なる物質同士の界面の濡れ性が改善される。例えば、界面の濡れ性の改善について、ゴムとシリカとが混練される場合について説明する。シリカは、凝集性が高い。また、親水性のシリカは、親油性のゴムとなじみにくい。しかし、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、シリカ同士の凝集が抑制され、シリカがゴムとなじみやすくなる。その結果として、シリカが配合されたゴムの物性が向上する。
ここで、超臨界状態などの作動流体が用いられない密閉式混練機を、「従来の密閉式混練機」という。超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、低温でも材料Ｍの混練が可能であり、材料Ｍの発熱を抑制することができる。また、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、材料Ｍの粘度が低下し、材料Ｍの流動性が改善するため、材料Ｍがより分配される。また、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、異なる物質同士の界面の濡れ性が改善される。例えば、界面の濡れ性の改善について、ゴムとシリカとが混練される場合について説明する。シリカは、凝集性が高い。また、親水性のシリカは、親油性のゴムとなじみにくい。しかし、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、シリカ同士の凝集が抑制され、シリカがゴムとなじみやすくなる。その結果として、シリカが配合されたゴムの物性が向上する。
【0044】
（超臨界状態などの作動流体が用いられることによる課題）
上記のように、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、材料Ｍの粘度が低下する。そのため、従来の密閉式混練機と同様の装置構成を有する装置において、超臨界状態などの作動流体が用いられた場合は、従来の密閉式混練機に比べ、装置が材料Ｍに付与できる応力が小さくなる。すると、分散に物理的な力を必要とする材料Ｍでは、材料Ｍの分散が進みにくくなる（分散性が低下する、分散性能が不十分となる）。以下では、この課題の詳細をさらに説明する。
上記のように、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機に比べ、材料Ｍの粘度が低下する。そのため、従来の密閉式混練機と同様の装置構成を有する装置において、超臨界状態などの作動流体が用いられた場合は、従来の密閉式混練機に比べ、装置が材料Ｍに付与できる応力が小さくなる。すると、分散に物理的な力を必要とする材料Ｍでは、材料Ｍの分散が進みにくくなる（分散性が低下する、分散性能が不十分となる）。以下では、この課題の詳細をさらに説明する。
【0045】
（せん断応力について）
従来の密閉式混練機では、回転翼（混練装置１におけるロータ４０に相当）とチャンバとの間で、材料Ｍにせん断応力がかけられる。これにより、材料Ｍが昇温および溶融し、材料Ｍが流動性を持ち、材料Ｍが分配および分散される。ここで、せん断応力（σ）は、粘度（η）と、せん断速度（γ）より次式（数１）のように表される。
従来の密閉式混練機では、回転翼（混練装置１におけるロータ４０に相当）とチャンバとの間で、材料Ｍにせん断応力がかけられる。これにより、材料Ｍが昇温および溶融し、材料Ｍが流動性を持ち、材料Ｍが分配および分散される。ここで、せん断応力（σ）は、粘度（η）と、せん断速度（γ）より次式（数１）のように表される。
【0046】
【数1】
【0047】
超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、従来の密閉式混練機よりも低温での混練が可能となるため、材料Ｍの昇温による粘度（η）の低下は抑えることができる。しかし、超臨界状態などの作動流体が用いられる場合は、材料Ｍの粘度（η）が低下する。それに伴い、材料Ｍに付与できるせん断応力（σ）は、従来の密閉式混練機に比べ、同等以下となる。
【0048】
また、材料Ｍにせん断流れが生じる場合は、材料Ｍに力がかかっても、材料Ｍが回転するため、材料Ｍそのものに応力が加わらない可能性がある。
【0049】
そのため、従来の密閉式混練機と同様の装置構成を有する装置において、超臨界状態などの作動流体が用いられた場合は、超臨界状態などの作動流体が用いられない従来の密閉式混練機に対して、材料Ｍに付与できるせん断応力を高めることは困難である。
【0050】
（伸長応力について）
一方、材料Ｍを引き延ばす流れ（伸長流れ）が材料Ｍに生じる場合は、材料Ｍは回転しない。そのため、伸長流れは、せん断流れに比べ、材料Ｍに応力を加える効率が高い。また、伸長粘度は、せん断粘度よりも高い。よって、伸長応力を材料Ｍに付与する場合、せん断応力を材料Ｍに付与する場合に比べ、材料Ｍに付与できる応力を高くすることができる。
一方、材料Ｍを引き延ばす流れ（伸長流れ）が材料Ｍに生じる場合は、材料Ｍは回転しない。そのため、伸長流れは、せん断流れに比べ、材料Ｍに応力を加える効率が高い。また、伸長粘度は、せん断粘度よりも高い。よって、伸長応力を材料Ｍに付与する場合、せん断応力を材料Ｍに付与する場合に比べ、材料Ｍに付与できる応力を高くすることができる。
【0051】
ここで、例えば図２２に示すような、従来の密閉式混練機の回転翼では、材料Ｍを引き延ばす伸長流れを起こすことは困難である。そのため、材料Ｍに伸長応力を付与する（伸長応力を誘起させる）ことが難しい。
【0052】
そこで、図１に示す混練装置１は、超臨界状態などの作動流体を用いて材料Ｍの粘度が低下（従来の密閉式混練機に比べ低下）した場合であっても、材料Ｍに高い応力を付与できるように構成される。具体的には、混練装置１は、材料Ｍに高い伸長応力を付与できるように構成される。さらに具体的には、混練装置１は、上記［条件α１］および上記［条件α２］を満たすように構成される。
【0053】
なお、超臨界状態などの作動流体が用いられない従来の密閉式混練機において、回転翼を、本実施形態のロータ４０と同様の構成としても、材料Ｍの発熱量が大きくなり、材料Ｍの粘度が低下し、材料Ｍに十分高い応力を付与することができない。一方、本実施形態の混練装置１では、超臨界状態などの作動流体が用いられるので、材料Ｍの発熱量が抑制され、材料Ｍの粘度の低下が抑制され、材料Ｍに高い応力を付与することができる。
【0054】
【0055】
（速度分布）
図３に、材料Ｍの速度分布の解析結果を示す。図４に示す例では、ｔ／Ｔが、０、２．２、および３のそれぞれの時の、材料Ｍの速度分布を示す。上記「Ｔ」は、第一ロータ５０および第二ロータ６０の回転の周期であり、ｔは時間である。図４では、材料Ｍの速度の大きさを、グレーの色の濃さで示す。グレーの色が薄いほど材料Ｍが遅く、濃い（黒に近い）ほど材料Ｍが速いことを示す。
図３に、材料Ｍの速度分布の解析結果を示す。図４に示す例では、ｔ／Ｔが、０、２．２、および３のそれぞれの時の、材料Ｍの速度分布を示す。上記「Ｔ」は、第一ロータ５０および第二ロータ６０の回転の周期であり、ｔは時間である。図４では、材料Ｍの速度の大きさを、グレーの色の濃さで示す。グレーの色が薄いほど材料Ｍが遅く、濃い（黒に近い）ほど材料Ｍが速いことを示す。
【0056】
ｔ／Ｔ＝０の状態は、ロータ４０が回転する前の初期状態であり、材料Ｍの速度が０の状態である。初期状態では、材料Ｍは、ロータ収容室２０（図１参照）の内面とロータ４０との間、第一ロータ５０と第二ロータ６０との隙間（例えばロータ最外径部隙間Ａｇ）、および、ロータ隙間上部Ａｙ１にある。初期状態では、材料Ｍの上面（ここでは鉛直方向における上の面）は、ロータ４０の上端と同じ高さ（または略同じ高さ）にある。
【0057】
ｔ／Ｔ＝２．２の状態（およびｔ／Ｔ＝３の状態）では、材料Ｍの速度は、ロータ最外径部隙間Ａｇで最大となる。この結果により、ロータ最外径部隙間Ａｇで、材料Ｍに伸長流れが生じ、材料Ｍに伸長応力が作用していることが示される。また、ｔ／Ｔ＝２．２の状態（およびｔ／Ｔ＝３の状態）では、材料Ｍは、ロータ隙間上部Ａｙ１に溜まっており、ロータ最外径部隙間Ａｇから材料Ｍが浮き上がっている。材料Ｍが、ロータ隙間上部Ａｙ１に溜まっているので、ロータ最外径部隙間Ａｇに材料Ｍが安定して供給される。なお、ｔ／Ｔ＝２．２以前に材料Ｍの速度分布が定常状態となるため、ｔ／Ｔ＝２．２とｔ／Ｔ＝３とで材料Ｍの速度分布は概ね等しい。
【0058】
（粒子分配）
図４に、軸方向Ｚから見た、材料Ｍの粒子分配の解析結果を示す。この解析では、ロータ隙間上部Ａｙ１での材料Ｍを分配させる性能（分配性能、分配混合性能）を評価した。具体的には、この解析では、初期状態（ｔ／Ｔ＝０の状態）でロータ隙間上部Ａｙ１に配置した粒子（材料Ｍ）が、どのように移動するかを評価した。図４に示す例では、ｔ／Ｔが、０、１、および３のそれぞれの時の、粒子の位置（分配状況）を示す。
図４に、軸方向Ｚから見た、材料Ｍの粒子分配の解析結果を示す。この解析では、ロータ隙間上部Ａｙ１での材料Ｍを分配させる性能（分配性能、分配混合性能）を評価した。具体的には、この解析では、初期状態（ｔ／Ｔ＝０の状態）でロータ隙間上部Ａｙ１に配置した粒子（材料Ｍ）が、どのように移動するかを評価した。図４に示す例では、ｔ／Ｔが、０、１、および３のそれぞれの時の、粒子の位置（分配状況）を示す。
【0059】
ｔ／Ｔ＝１の状態（およびｔ／Ｔ＝３の状態）では、粒子は、ロータ隙間上部Ａｙ１に留まっていること（ロータ隙間上部Ａｙ１から移動しにくい、ロータ隙間上部Ａｙ１に滞留している）ことが示される（後述）。
【0060】
（第１の発明の効果）
図１に示す混練装置１による効果は、次の通りである。混練装置１は、混練室１０ａと、第一ロータ５０と、第二ロータ６０と、を備える。混練室１０ａは、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体の存在下で、材料Ｍを混練させる部分である。第一ロータ５０は、混練室１０ａの内部に配置され、第一回転軸５０ａを中心に回転する。第二ロータ６０は、混練室１０ａの内部に配置され、第一ロータ５０と平行に配置され（図２参照）、第一ロータ５０と隣り合うように配置される。第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心に、第一ロータ５０の回転方向とは逆向きに回転する。第一ロータ５０は、第一最外径円弧部５１を備える。第一最外径円弧部５１は、第一回転軸５０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第一回転軸５０ａを中心とする円弧状であるとともに、第一ロータ５０のうち最も径方向外側（第一径方向外側）の部分である。第二ロータ６０は、第二最外径円弧部６１を備える。第二最外径円弧部６１は、第二回転軸６０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第二回転軸６０ａを中心とする円弧状であるとともに、第二ロータ６０のうち最も径方向外側（第二径方向外側）の部分である。
図１に示す混練装置１による効果は、次の通りである。混練装置１は、混練室１０ａと、第一ロータ５０と、第二ロータ６０と、を備える。混練室１０ａは、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体の存在下で、材料Ｍを混練させる部分である。第一ロータ５０は、混練室１０ａの内部に配置され、第一回転軸５０ａを中心に回転する。第二ロータ６０は、混練室１０ａの内部に配置され、第一ロータ５０と平行に配置され（図２参照）、第一ロータ５０と隣り合うように配置される。第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心に、第一ロータ５０の回転方向とは逆向きに回転する。第一ロータ５０は、第一最外径円弧部５１を備える。第一最外径円弧部５１は、第一回転軸５０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第一回転軸５０ａを中心とする円弧状であるとともに、第一ロータ５０のうち最も径方向外側（第一径方向外側）の部分である。第二ロータ６０は、第二最外径円弧部６１を備える。第二最外径円弧部６１は、第二回転軸６０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第二回転軸６０ａを中心とする円弧状であるとともに、第二ロータ６０のうち最も径方向外側（第二径方向外側）の部分である。
【0061】
［構成１－１］第一ロータ５０の周方向（第一周方向）における第一最外径円弧部５１の長さは、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である（上記［条件α１］）。第一仮想円５０ｃは、第一回転軸５０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに、第一最外径円弧部５１を通るとともに第一回転軸５０ａを中心とする仮想円である。
【0062】
［構成１－２］第二ロータ６０の周方向（第二周方向）における第二最外径円弧部６１の長さは、第二仮想円６０ｃの全周の長さの１／２以上である（上記［条件α２］）。第二仮想円６０ｃは、第二回転軸６０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに、第二最外径円弧部６１を通るとともに第二回転軸６０ａを中心とする仮想円である。
【0063】
［構成１－３］第二最外径円弧部６１は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間で（ロータ軸間領域Ａで）、第一最外径円弧部５１と向かい合う場合がある。
【0064】
上記［構成１－３］では、第一最外径円弧部５１と第二最外径円弧部６１とが向かい合う場合がある。さらに、第一最外径円弧部５１は、上記［構成１－１］の条件を満たし、第二最外径円弧部６１は、上記［構成１－２］の条件を満たす。よって、第一ロータ５０および第二ロータ６０の少なくともいずれかが１回転する間に、第一最外径円弧部５１と第二最外径円弧部６１とが向かい合う。したがって、上記［構成１－１］、［構成１－２］、および［構成１－３］により、第一ロータ５０および第二ロータ６０の少なくともいずれかが１回転する間に、第一最外径円弧部５１と第二最外径円弧部６１との隙間（ロータ最外径部隙間Ａｇ）を材料Ｍが通る。ロータ最外径部隙間Ａｇを材料Ｍが通ることで、ロータ最外径部隙間Ａｇが延びる方向（上下方向Ｙ）の伸長流れを材料Ｍに生じさせ、材料Ｍに伸長応力を付与することができる。したがって、超臨界状態または亜臨界状態の作動流体の存在下での材料Ｍの混練でも、材料Ｍに高い応力を付与することができる。その結果、混練装置１による材料Ｍの分散性能（材料Ｍを細かく散らばらせる性能）を向上させることができる。
【0065】
（第２の発明の効果）
［構成２］第一ロータ５０と第二ロータ６０との最小間隔（ロータ間クリアランスＬ３）は、第一クリアランスＬ１よりも小さく、第二クリアランスＬ２よりも小さい。第一クリアランスＬ１は、混練室１０ａの内面と第一ロータ５０との最小間隔である。第二クリアランスＬ２は、混練室１０ａの内面と第二ロータ６０との最小間隔である。
［構成２］第一ロータ５０と第二ロータ６０との最小間隔（ロータ間クリアランスＬ３）は、第一クリアランスＬ１よりも小さく、第二クリアランスＬ２よりも小さい。第一クリアランスＬ１は、混練室１０ａの内面と第一ロータ５０との最小間隔である。第二クリアランスＬ２は、混練室１０ａの内面と第二ロータ６０との最小間隔である。
【0066】
上記［構成２］では、ロータ間クリアランスＬ３が小さく、具体的には第一クリアランスＬ１および第二クリアランスＬ２のそれぞれよりも小さい。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍが不足することが抑制され、ロータ隙間上部Ａｙ１からロータ最外径部隙間Ａｇに材料Ｍを安定して供給することができる。よって、混練装置１は、ロータ最外径部隙間Ａｇで、材料Ｍに応力を安定して付与することができる。また、上記［構成２］では、第一クリアランスＬ１および第二クリアランスＬ２が大きく、具体的にはロータ間クリアランスＬ３よりも大きい。よって、混練室１０ａの内面とロータ４０との隙間での、材料Ｍの発熱量を抑制することができる。その結果、混練装置１による材料Ｍの長時間の混練が可能になる。
【0067】
（第１２の発明の効果）
混練室１０ａは、第一ロータ収容室２１と、第二ロータ収容室２２と、ロータ軸間上部室３０と、を備える。第一ロータ収容室２１は、第一回転軸５０ａを中心とする内周面を有し、第一ロータ５０を収容する。第二ロータ収容室２２は、第二回転軸６０ａを中心とする内周面を有し、第二ロータ６０を収容する。
混練室１０ａは、第一ロータ収容室２１と、第二ロータ収容室２２と、ロータ軸間上部室３０と、を備える。第一ロータ収容室２１は、第一回転軸５０ａを中心とする内周面を有し、第一ロータ５０を収容する。第二ロータ収容室２２は、第二回転軸６０ａを中心とする内周面を有し、第二ロータ６０を収容する。
【0068】
［構成１２］ロータ軸間上部室３０は、第一ロータ収容室２１および第二ロータ収容室２２から上に延び、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間に配置される。
【0069】
上記［構成１２］により、混練室１０ａにロータ軸間上部室３０が設けられない場合（具体的には、ロータ収容室２０のみが設けられる場合）に比べ、混練室１０ａに入れることが可能な材料Ｍの量を増やすことができる。よって、混練装置１で混練できる材料Ｍの量（例えば生産量）を増やすことができる。
【0070】
（第２実施形態）
図５～図９を参照して、第２実施形態の混練装置２０１について、第１実施形態との相違点を説明する。なお、第２実施形態の混練装置２０１のうち、第１実施形態との共通点については、説明を省略する。共通点の説明を省略することについては、後述する他の実施形態の説明も同様である。
図５～図９を参照して、第２実施形態の混練装置２０１について、第１実施形態との相違点を説明する。なお、第２実施形態の混練装置２０１のうち、第１実施形態との共通点については、説明を省略する。共通点の説明を省略することについては、後述する他の実施形態の説明も同様である。
【0071】
相違点は、図５に示すように、第一ロータ５０が、第一凹部２５７を備えること、および、第二ロータ６０が、第二凹部２６７を備えることである。
【0072】
第一凹部２５７は、材料Ｍをより分配させる（材料Ｍの偏りを減らす、混ざりムラを減らす）ための部分である。第一凹部２５７は、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込み、材料Ｍをロータ隙間下部Ａｙ２に移動させるための部分である。第一凹部２５７は、第一径方向内側（第一ロータ５０の径方向における内側）に凹んだ形状を有する。第一凹部２５７は、第一最外径円弧部５１から、第一径方向内側に凹んだ形状を有する。第一凹部２５７は、第一仮想円５０ｃよりも第一径方向内側に設けられる。第一凹部２５７の「凹んだ形状」は、例えば溝状である（図６参照）。第一凹部２５７は、軸方向Ｚから見たときに、曲線を含んでもよく、例えば弧状（円弧状または円弧でない弧状）を含んでもよい。第一凹部２５７は、軸方向Ｚから見たときに、直線を含んでもよい（図１６参照）。例えば、第一凹部２５７は、軸方向Ｚから見たときに、図１６に示す第一凸部間凹部４５７ａの形状でもよく、第一凸部間外側凹部４５７ｃの形状でもよい（それぞれの形状については後述）。図５に示す、第一ロータ５０の外周部のうち、第一凹部２５７の部分は、第一最外径円弧部５１には含まれない。第一ロータ５０が第一凹部２５７を備える場合も、第一最外径円弧部５１について、上記［条件α１］が満たされる。
【0073】
第二ロータ６０は、例えば、第一ロータ５０と同様に構成される。第二ロータ６０は、第二凹部２６７を備える。
【0074】
第二凹部２６７は、材料Ｍをより分配させるための部分であり、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込み、材料Ｍをロータ隙間下部Ａｙ２に移動させるための部分である。第二凹部２６７は、第二径方向内側に凹んだ形状を有する（詳細は第一凹部２５７の説明を参照）。第二ロータ６０が第二凹部２６７を備える場合も、第二最外径円弧部６１について、上記［条件α２］が満たされる。
【0075】
（発熱の抑制）
第一ロータ５０に第一凹部２５７があることにより、材料Ｍの発熱が抑制される。さらに詳しくは、第一ロータ収容室２１の内面と、第一凹部２５７とが、第一径方向に向かい合ったとする（図示なし）。このとき、第一ロータ収容室２１の内面と、第一凹部２５７との隙間は、第一ロータ収容室２１の内面と、第一最外径円弧部５１と、の最小隙間（第一クリアランスＬ１）よりも広い。よって、第一ロータ５０の外周部の全周が第一最外径円弧部５１である場合（図１参照）に比べ、材料Ｍの発熱が抑制される。その結果、混練装置２０１での長時間の混練が可能になる。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７によっても、材料Ｍの発熱が抑制される。
第一ロータ５０に第一凹部２５７があることにより、材料Ｍの発熱が抑制される。さらに詳しくは、第一ロータ収容室２１の内面と、第一凹部２５７とが、第一径方向に向かい合ったとする（図示なし）。このとき、第一ロータ収容室２１の内面と、第一凹部２５７との隙間は、第一ロータ収容室２１の内面と、第一最外径円弧部５１と、の最小隙間（第一クリアランスＬ１）よりも広い。よって、第一ロータ５０の外周部の全周が第一最外径円弧部５１である場合（図１参照）に比べ、材料Ｍの発熱が抑制される。その結果、混練装置２０１での長時間の混練が可能になる。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７によっても、材料Ｍの発熱が抑制される。
【0076】
（生産量の増加）
第一ロータ５０に第一凹部２５７があることにより、第一ロータ５０の外周部の全周が第一最外径円弧部５１である場合（図１参照）に比べ、混練室１０ａ内に入れることが可能な材料Ｍの量が増える。よって、例えば、混練装置２０１による生産量を増加させることができる。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７があることによっても、混練室１０ａ内に入れることが可能な材料Ｍの量が増える。
第一ロータ５０に第一凹部２５７があることにより、第一ロータ５０の外周部の全周が第一最外径円弧部５１である場合（図１参照）に比べ、混練室１０ａ内に入れることが可能な材料Ｍの量が増える。よって、例えば、混練装置２０１による生産量を増加させることができる。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７があることによっても、混練室１０ａ内に入れることが可能な材料Ｍの量が増える。
【0077】
（材料Ｍの取り込み）
第一凹部２５７は、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込む。さらに詳しくは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一凹部２５７に入る。第一凹部２５７に入った材料Ｍは、第一ロータ５０の（第一凹部２５７の）回転に伴って、ロータ隙間上部Ａｙ１からロータ隙間下部Ａｙ２に移動する（図７のｔ／Ｔ＝２．２の状態を参照）。このように、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍが、第一凹部２５７に取り込まれる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍが減り、材料Ｍがより分配される（混練装置１の分配性能が向上する）。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７により、材料Ｍが取り込まれる。
第一凹部２５７は、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込む。さらに詳しくは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一凹部２５７に入る。第一凹部２５７に入った材料Ｍは、第一ロータ５０の（第一凹部２５７の）回転に伴って、ロータ隙間上部Ａｙ１からロータ隙間下部Ａｙ２に移動する（図７のｔ／Ｔ＝２．２の状態を参照）。このように、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍが、第一凹部２５７に取り込まれる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍが減り、材料Ｍがより分配される（混練装置１の分配性能が向上する）。第一凹部２５７と同様に、第二凹部２６７により、材料Ｍが取り込まれる。
【0078】
（凹部の対向）
第二凹部２６７は、ロータ軸間領域Ａで、第一凹部２５７と向かい合う場合があることが好ましい。第二凹部２６７と第一凹部２５７が向かい合うとき、第二凹部２６７の上下方向Ｙにおける範囲（上下範囲）は、第一凹部２５７の上下範囲の、少なくとも一部に含まれる。第二凹部２６７と第一凹部２５７とが向かい合うことにより、第二凹部２６７と第一凹部２５７との間の空間に、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込むことができる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍをより減らすことができる。なお、第一ロータ５０に第一凹部２５７が設けられ、第二ロータ６０に第二凹部２６７が設けられる場合に、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う場合があることが好ましいが、これらが向かい合う場合が無くてもよい。
第二凹部２６７は、ロータ軸間領域Ａで、第一凹部２５７と向かい合う場合があることが好ましい。第二凹部２６７と第一凹部２５７が向かい合うとき、第二凹部２６７の上下方向Ｙにおける範囲（上下範囲）は、第一凹部２５７の上下範囲の、少なくとも一部に含まれる。第二凹部２６７と第一凹部２５７とが向かい合うことにより、第二凹部２６７と第一凹部２５７との間の空間に、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込むことができる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍをより減らすことができる。なお、第一ロータ５０に第一凹部２５７が設けられ、第二ロータ６０に第二凹部２６７が設けられる場合に、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う場合があることが好ましいが、これらが向かい合う場合が無くてもよい。
【0079】
【0080】
（速度分布）
図７に、材料Ｍの速度分布の解析結果を示す。ｔ／Ｔ＝２．２の状態に示すように、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一凹部２５７（図５参照）および第二凹部２６７（図５参照）により取り込まれている。
図７に、材料Ｍの速度分布の解析結果を示す。ｔ／Ｔ＝２．２の状態に示すように、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一凹部２５７（図５参照）および第二凹部２６７（図５参照）により取り込まれている。
【0081】
（粒子分配）
ここで、図４に、第１実施形態の混練装置１での、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果を示す。上記のように、ｔ／Ｔ＝０のとき（初期状態のとき）に、ロータ隙間上部Ａｙ１に粒子（材料Ｍ）が配置される。この粒子は、その後も（ｔ／Ｔが２、および３の状態でも）ロータ隙間上部Ａｙ１に留まっている。そのため、混練の条件（例えば、材料Ｍの種類、混練時間など）によっては、材料Ｍの分配が不十分となる可能性がある。具体的には、材料Ｍの混ざりムラが生じる可能性がある。
ここで、図４に、第１実施形態の混練装置１での、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果を示す。上記のように、ｔ／Ｔ＝０のとき（初期状態のとき）に、ロータ隙間上部Ａｙ１に粒子（材料Ｍ）が配置される。この粒子は、その後も（ｔ／Ｔが２、および３の状態でも）ロータ隙間上部Ａｙ１に留まっている。そのため、混練の条件（例えば、材料Ｍの種類、混練時間など）によっては、材料Ｍの分配が不十分となる可能性がある。具体的には、材料Ｍの混ざりムラが生じる可能性がある。
【0082】
図８に、本実施形態の混練装置２０１での、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果を示す。図８に示す結果では、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する粒子は、第１実施形態におけるロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する粒子よりも少ない（図４参照）。また、図８では、第一周方向および第二周方向への粒子の分配が進展していることも示される。具体的には、ｔ／Ｔ＝３の状態では、粒子は、第一ロータ５０および第二ロータ６０の略全周にわたって存在する。なお、図８のｔ／Ｔ＝３の状態を示す図では、材料Ｍを示す粒子の一部にのみ符号を付した（図１３、および図２０も同様）した。なお、図９に、混練装置２０１での軸方向Ｚの粒子分配の解析結果を示す（後述）。
【0083】
図５に示す混練装置２０１による効果は、次の通りである。
【0084】
（第３の発明の効果）
［構成３－１］第一ロータ５０は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における内側に凹んだ形状を有する第一凹部２５７を備える。
［構成３－１］第一ロータ５０は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における内側に凹んだ形状を有する第一凹部２５７を備える。
【0085】
［構成３－２］第二ロータ６０は、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における内側に凹んだ形状を有する第二凹部２６７を備える。
【0086】
上記［構成３－１］により、次の効果が得られる。第一凹部２５７は、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを取り込むことができる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍを減らすことができる。よって、混練装置２０１は、材料Ｍをより分配させることができる。よって、混練装置２０１による材料Ｍの分配性能（材料Ｍの偏りを減らす性能）を向上させることができる。
【0087】
上記［構成３－１］により、混練室１０ａの内面（具体的には、第一ロータ収容室２１の内面）と第一凹部２５７との隙間を確保することができる。よって、第一ロータ５０に第一凹部２５７が設けられない場合に比べ、材料Ｍの発熱量を抑制することができる。その結果、混練装置２０１による材料Ｍの長時間の混練が可能になる。
【0088】
上記［構成３－１］により、混練室１０ａの内面（具体的には、第一ロータ収容室２１の内面）と第一凹部２５７との隙間を確保することができる。よって、第一凹部２５７が設けられない場合に比べ、混練室１０ａに入れることが可能な材料Ｍの量を増やすことができる。よって、混練装置１で混練できる材料Ｍの量（例えば生産量）を増やすことができる。
【0089】
上記［構成３－１］の第一凹部２５７による効果と同様の効果が、上記［構成３－２］の第二凹部２６７によっても得られる。よって、２つのロータ４０のうち一方のみが凹部（第一凹部２５７）を備える場合に比べ、上記［構成３－１］により得られる効果と同様の効果が、より得られる。
【0090】
（第４の発明の効果）
［構成４］第二凹部２６７は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間（ロータ軸間領域Ａ）で、第一凹部２５７と向かい合う場合がある。
［構成４］第二凹部２６７は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間（ロータ軸間領域Ａ）で、第一凹部２５７と向かい合う場合がある。
【0091】
上記［構成４］により、第一凹部２５７および第二凹部２６７は、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う場合がない場合に比べ、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを多く取り込むことができる。よって、混練装置２０１は、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍを、より減らすことができる。よって、混練装置２０１は、材料Ｍをより分配させることができる。
【0092】
（第３実施形態）
図１０～図１４を参照して、第３実施形態の混練装置３０１について、主に第２実施形態との相違点を説明する。主な相違点は、図１１に示す第一ロータ５０の第一ねじれ部３５８、および、第二ロータ６０の第二ねじれ部３６８である。
図１０～図１４を参照して、第３実施形態の混練装置３０１について、主に第２実施形態との相違点を説明する。主な相違点は、図１１に示す第一ロータ５０の第一ねじれ部３５８、および、第二ロータ６０の第二ねじれ部３６８である。
【0093】
第一ロータ５０は、第一ねじれ部３５８を備える。なお、第一ロータ５０は、第一傾斜部３５９（図１０参照）を備えてもよい。
【0094】
第一ねじれ部３５８は、材料Ｍを軸方向Ｚに分配させるための部分である。第一ねじれ部３５８は、軸方向Ｚへの材料Ｍの流れを誘起し、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配を進展させるための部分である（図１４参照）。第一ねじれ部３５８は、第一回転軸５０ａを中心として「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する。すなわち、軸方向Ｚから見た第一ねじれ部３５８の断面形状は、軸方向Ｚにおける位置が変わるにしたがって、「所定ねじれ方向」に回転する形状である。上記「所定ねじれ方向」は、軸方向Ｚの一方側から見たときに右回りまたは左回りの方向である。具体的には、第一凹部２５７は、第一回転軸５０ａを中心軸とする螺旋状である。第一ねじれ部３５８は、第一ロータ５０の軸方向Ｚの全体（または略全体）にわたって設けられる。なお、第一ねじれ部３５８は、第一ロータ５０の軸方向Ｚの一部のみに設けられてもよい。
【0095】
第一傾斜部３５９は、図１０に示すように、第一最外径円弧部５１と第一凹部２５７との、第一周方向における間に設けられる。第一傾斜部３５９は、第一凹部２５７よりも、第一周方向における外側の両側に設けられる。第一傾斜部３５９は、第一凹部２５７（第一径方向内側に凹んだ形状）には含まれない。図１０に示す例では、第一傾斜部３５９は、軸方向Ｚから見たときに、直線状である。なお、第一傾斜部３５９の有無は、材料Ｍの速度分布（図１２参照）および粒子分配（図１３および図１４参照）にほとんど影響しない。また、第一傾斜部３５９の、第一周方向における第一凹部２５７側の端部（すなわち、第一凹部２５７の、第一周方向における外側の端部）の、第一径方向における位置は、第一仮想円５０ｃ上でも、第一仮想円５０ｃよりも第一径方向内側でもよい。
【0096】
【0097】
第二ねじれ部３６８は、第二回転軸６０ａを中心として「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する。この「所定ねじれ方向」は、第一ねじれ部３５８のねじれの方向（「所定ねじれ方向」）と同じ方向である。第二ねじれ部３６８は、第二ロータ６０の軸方向Ｚの全体（または略全体）にわたって設けられる。なお、第二ねじれ部３６８は、第二ねじれ部３６８の軸方向Ｚの一部のみに設けられてもよい。第二ねじれ部３６８の少なくとも一部は、第一ねじれ部３５８の少なくとも一部と、横方向Ｘに向かい合う。
【0098】
（ねじれ部の作用）
第一ねじれ部３５８および第二ねじれ部３６８により、材料Ｍが軸方向Ｚに分配される。さらに詳しくは、上記のように、第一ロータ５０と第二ロータ６０とは互いに逆向きに回転する。また、第一ねじれ部３５８と第二ねじれ部３６８とで、ねじれの方向が同じである。よって、第一ロータ５０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、第二ロータ６０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、が互いに逆向きになる。よって、材料Ｍが軸方向Ｚに分配されやすい（混練装置３０１の軸方向Ｚの分配性能が向上する）（図１４参照）。
第一ねじれ部３５８および第二ねじれ部３６８により、材料Ｍが軸方向Ｚに分配される。さらに詳しくは、上記のように、第一ロータ５０と第二ロータ６０とは互いに逆向きに回転する。また、第一ねじれ部３５８と第二ねじれ部３６８とで、ねじれの方向が同じである。よって、第一ロータ５０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、第二ロータ６０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、が互いに逆向きになる。よって、材料Ｍが軸方向Ｚに分配されやすい（混練装置３０１の軸方向Ｚの分配性能が向上する）（図１４参照）。
【0099】
なお、第一ねじれ部３５８と第二ねじれ部３６８とで、ねじれの方向が逆である場合は、第一ロータ５０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、第二ロータ６０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、が同じになる。すると、材料Ｍが、軸方向Ｚの一方に偏り、軸方向Ｚの分配が不十分となる場合がある。ここで、通常、混練室１０ａを密閉するためのシールが、混練室１０ａ内でのロータ４０の軸方向Ｚにおける端部に設けられる。材料Ｍが軸方向Ｚの一方に偏ると、材料Ｍがこのシールを大きい力で押し、シールに影響を及ぼす可能性がある。よって、第一ねじれ部３５８と第二ねじれ部３６８とで、ねじれの方向が同じ（所定ねじれ方向）であることが好ましい。
【0100】
（解析）
混練装置３０１での材料Ｍの速度分布（図１２参照）および粒子分配（図１３および図１４参照）の解析結果について説明する。ここでは、第一ねじれ部３５８が、第一ロータ５０の軸方向Ｚの全体にわたって設けられる場合について説明する（第二ねじれ部３６８と第二ロータ６０との関係も同様）。この例では、軸方向Ｚから見た第一ロータ５０の断面形状は、軸方向Ｚ位置（軸方向Ｚにおける位置）によって異なる（第二ロータ６０も同様）。図１２に示す速度分布の解析結果は、ｔ／Ｔ＝２．２の状態のときに、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合うような、軸方向Ｚ位置での結果を示す。また、図１３に示す粒子分配の解析結果は、ｔ／Ｔが０、１、および３のときに 第一凹部２５７および第二凹部２６７が図１３に示すような配置になるような、軸方向Ｚ位置での結果を示す。この図１３に示す軸方向Ｚ位置では、第一凹部２５７（図１０参照）と第二凹部２６７（図１０参照）とは、向かい合わない。
混練装置３０１での材料Ｍの速度分布（図１２参照）および粒子分配（図１３および図１４参照）の解析結果について説明する。ここでは、第一ねじれ部３５８が、第一ロータ５０の軸方向Ｚの全体にわたって設けられる場合について説明する（第二ねじれ部３６８と第二ロータ６０との関係も同様）。この例では、軸方向Ｚから見た第一ロータ５０の断面形状は、軸方向Ｚ位置（軸方向Ｚにおける位置）によって異なる（第二ロータ６０も同様）。図１２に示す速度分布の解析結果は、ｔ／Ｔ＝２．２の状態のときに、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合うような、軸方向Ｚ位置での結果を示す。また、図１３に示す粒子分配の解析結果は、ｔ／Ｔが０、１、および３のときに 第一凹部２５７および第二凹部２６７が図１３に示すような配置になるような、軸方向Ｚ位置での結果を示す。この図１３に示す軸方向Ｚ位置では、第一凹部２５７（図１０参照）と第二凹部２６７（図１０参照）とは、向かい合わない。
【0101】
（軸方向の粒子分配）
ここで、図９に、第２実施形態の混練装置２０１での、軸方向Ｚの粒子分配（上下方向Ｙから見た粒子分配）の解析結果を示す。この例では、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配は不十分である。この理由は、次の通りである。図５に示す、ロータ収容室２０の内面とロータ４０との間には、材料Ｍが詰まっている。そのため、軸方向Ｚにおける圧力変化が材料Ｍに生じにくく、材料Ｍの軸方向Ｚへの流れが生じにくい。そのため、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配が不十分となっている。
ここで、図９に、第２実施形態の混練装置２０１での、軸方向Ｚの粒子分配（上下方向Ｙから見た粒子分配）の解析結果を示す。この例では、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配は不十分である。この理由は、次の通りである。図５に示す、ロータ収容室２０の内面とロータ４０との間には、材料Ｍが詰まっている。そのため、軸方向Ｚにおける圧力変化が材料Ｍに生じにくく、材料Ｍの軸方向Ｚへの流れが生じにくい。そのため、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配が不十分となっている。
【0102】
図１４に、本実施形態の混練装置３０１での、軸方向Ｚの粒子分配の解析結果を示す。ｔ／Ｔ＝３の状態のように、第一ロータ５０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、第二ロータ６０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、が互いに逆向きになっている。よって、軸方向Ｚへの材料Ｍの流れが生じ、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配が進展する。なお、図１３に、混練装置３０１での、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果を示す（後述）。
【0103】
図１１に示す混練装置３０１による効果は、次の通りである。
【0104】
（第１１の発明の効果）
［構成１１］第一ロータ５０は、第一回転軸５０ａを中心として「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する第一ねじれ部３５８を備える。第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心として上記「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する第二ねじれ部３６８を備える。
［構成１１］第一ロータ５０は、第一回転軸５０ａを中心として「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する第一ねじれ部３５８を備える。第二ロータ６０は、第二回転軸６０ａを中心として上記「所定ねじれ方向」にねじれた形状を有する第二ねじれ部３６８を備える。
【0105】
上記［構成１１］により、第一ロータ５０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、第二ロータ６０の回転に伴う軸方向Ｚへの材料Ｍの移動の向きと、を互いに逆向きにすることができる。よって、混練装置３０１は、材料Ｍを軸方向Ｚに分配させることができる。よって、混練装置３０１による材料Ｍの軸方向Ｚへの分配性能を向上させることができる。
【0106】
（第４実施形態）
図１５～図２１などを参照して、第４実施形態の混練装置４０１について、主に第３実施形態との相違点を説明する。主な相違点は、図１５に示すように、第一ロータ５０に第一凸部４５３があり、第二ロータ６０に第二凸部４６３があることである。
図１５～図２１などを参照して、第４実施形態の混練装置４０１について、主に第３実施形態との相違点を説明する。主な相違点は、図１５に示すように、第一ロータ５０に第一凸部４５３があり、第二ロータ６０に第二凸部４６３があることである。
【0107】
第一ロータ５０は、第一基部４５２と、第一凸部４５３と、を備える。
【0108】
第一基部４５２は、第一回転軸５０ａを含む部分である。図１５に示す例では、第一基部４５２は、第一ロータ５０のうち第一凸部４５３以外の部分である。図１６に示すように、第一基部４５２の外周部は、第一凸部間凹部底部４５７ａ１（後述）と、第一接続部４５７ｃ１（後述）と、第一基部最外径円弧部４５２ｃと、を含む。第一基部最外径円弧部４５２ｃは、第一最外径円弧部５１である。
【0109】
第一凸部４５３は、第一基部４５２から第一径方向外側に突出する部分（突起、翼）である。第一凸部４５３は、２つ以上設けられる。第一凸部４５３は、図１６に示す例では２つ設けられ、３つ以上設けられてもよい。第一ロータ５０は、略円柱状（略ロール状）の第一基部４５２と、翼状の第一凸部４５３と、の両方を有する、ハイブリッドロータである。複数の第一凸部４５３の構成は、互いに等しいまたは略等しい。図１６に示す例では、２つの第一凸部４５３の構成は、互いに第一周方向に対称である。以下では、１つの第一凸部４５３について説明する。第一凸部４５３の第一周方向における幅は、第一径方向外側ほど狭くなってもよく（先細りの形状でもよく）、一定でもよい。第一凸部４５３は、第一凸部基端部４５３ｂと、第一凸部側面部４５３ｓと、第一凸部先端部４５３ｔと、を備える。
【0110】
第一凸部基端部４５３ｂは、第一凸部４５３の第一径方向内側の端部（基端部）である。
【0111】
第一凸部側面部４５３ｓは、第一凸部４５３の、第一周方向外側を向く面（側面）である。第一凸部側面部４５３ｓは、第一凸部４５３の第一周方向外側の両側に設けられる。第一凸部側面部４５３ｓは、軸方向Ｚから見たとき、直線を含んでもよく、曲線（例えば弧状など）を含んでもよい。図１６に示す例では、第一凸部側面部４５３ｓは、軸方向Ｚから見たとき、直線のみを有する。
【0112】
第一凸部先端部４５３ｔは、第一凸部４５３の第一径方向外側の端部（先端部）である。第一凸部先端部４５３ｔは、軸方向Ｚから見たときに、直線を含んでもよく、曲線を含んでもよい。軸方向Ｚから見た第一凸部先端部４５３ｔは、弧状を含んでもよく、例えば円弧でない弧状を含んでもよく、例えば円弧状を含んでもよい。軸方向Ｚから見た第一凸部先端部４５３ｔは、第一回転軸５０ａを中心としない円弧状を含んでもよく、第一回転軸５０ａを中心とする円弧状を含んでもよい。軸方向Ｚから見た第一凸部先端部４５３ｔは、第一仮想円５０ｃよりも第一径方向内側に配置される部分（例えば円弧状部分など）を含んでもよい。軸方向Ｚから見た第一凸部先端部４５３ｔは、第一仮想円５０ｃに沿って延びる円弧状を含んでもよい。すなわち、第一凸部先端部４５３ｔは、第一最外径円弧部５１を含んでもよい。第一凸部４５３であって第一最外径円弧部５１である部分を、第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃとする。
【0113】
第一凹部２５７は、第一凸部間凹部４５７ａと、第一凸部間外側凹部４５７ｃと、を備える。
【0114】
第一凸部間凹部４５７ａは、第一周方向（第一ロータ５０の周方向）に隣り合う２つの第一凸部４５３により形成される。ここで、第一ロータ５０に第一凸部４５３が２つある場合、２つの第一凸部４５３の間の領域として、第一周方向の距離が短い方の領域と、第一周方向の距離が長い方の領域と、がある。この場合、第一凸部間凹部４５７ａは、第一周方向の距離が短い方の、２つの第一凸部４５３の間の領域に形成される。第一凸部間凹部４５７ａは、第一凸部間凹部底部４５７ａ１を備える。
【0115】
第一凸部間凹部底部４５７ａ１は、第一凸部間凹部４５７ａの第一径方向内側の部分（底部）である。第一凸部間凹部底部４５７ａ１は、２つの第一凸部４５３それぞれの第一凸部基端部４５３ｂの間に設けられる。第一凸部間凹部底部４５７ａ１は、軸方向Ｚから見たときに、直線を含んでもよく、曲線（例えば弧状）を含んでもよい。軸方向Ｚから見た第一凸部間凹部底部４５７ａ１は、円弧状でない弧状を含んでもよく、円弧状を含んでもよい。
【0116】
第一凸部間外側凹部４５７ｃは、第一凸部４５３の「第一凸部間外側」に設けられる。上記「第一凸部間外側」は、第一凸部４５３に対して、第一凸部間凹部４５７ａとは反対側（第一周方向における反対側）である。第一凸部間外側凹部４５７ｃは、第一凸部４５３により形成される。さらに詳しくは、第一凸部間外側凹部４５７ｃは、第一凸部間外側を向く第一凸部側面部４５３ｓと、第一接続部４５７ｃ１（後述）と、により形成される。第一凸部間外側凹部４５７ｃは、２つの第一凸部４５３のそれぞれの第一凸部４５３間外側に（合計２つ）設けられる。第一凸部間外側凹部４５７ｃの大きさは、第一凸部間凹部４５７ａよりも小さい。さらに詳しくは、軸方向Ｚから見たとき、第一仮想円５０ｃと１つの第一凸部間外側凹部４５７ｃとで囲まれた面積は、第一仮想円５０ｃと第一凸部間凹部４５７ａとで囲まれた面積よりも狭い。
【0117】
第一接続部４５７ｃ１は、第一凸部４５３の第一凸部間外側の第一凸部基端部４５３ｂと、第一基部最外径円弧部４５２ｃと、を接続する部分である。第一接続部４５７ｃ１は、軸方向Ｚから見たときに、直線を含んでもよく、曲線を含んでもよい。
【0118】
（第一最外径円弧部５１の長さ）
第一ロータ５０に第一凸部４５３が設けられる場合も、第一最外径円弧部５１について、上記［条件α１］が満たされる。具体的には、図１６に示す例では、第一最外径円弧部５１の第一周方向における長さは、第一基部最外径円弧部４５２ｃの第一周方向における長さと、第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃの第一周方向における長さと、の和である。この和は、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。
第一ロータ５０に第一凸部４５３が設けられる場合も、第一最外径円弧部５１について、上記［条件α１］が満たされる。具体的には、図１６に示す例では、第一最外径円弧部５１の第一周方向における長さは、第一基部最外径円弧部４５２ｃの第一周方向における長さと、第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃの第一周方向における長さと、の和である。この和は、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。
【0119】
なお、図１６に示す例において、第一凸部先端部４５３ｔが第一最外径円弧部５１を有さない場合は、第一最外径円弧部５１の第一周方向における長さは、第一基部最外径円弧部４５２ｃの第一周方向における長さである。この場合、第一基部最外径円弧部４５２ｃの第一周方向における長さは、第一仮想円５０ｃの全周の長さの１／２以上である。
【0120】
第二ロータ６０は、例えば、第一ロータ５０と同様の構成を備える。第二ロータ６０は、第二基部４６２と、第二凸部４６３と、を備える。第二基部４６２は、第二回転軸６０ａを含む。第二凸部４６３は、第二基部４６２から第二径方向外側に突出し、複数設けられる。第二凸部４６３は、第一凸部４５３と同様に、第二凸部先端部４６３ｔを備える。第二凸部先端部４６３ｔは、第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃを備えてもよい。第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃは、軸方向Ｚから見たときに、第二仮想円６０ｃに沿って延びる円弧状であり、第二最外径円弧部６１を構成する。
【0121】
また、第二凹部２６７は、第一凹部２５７と同様に、第二凸部間凹部４６７ａと、第二凸部間外側凹部４６７ｃと、を備える。
【0122】
（凸部の対向）
［例Ａ１］図１５に示すように、第二凸部４６３は、第一凸部４５３と向かい合う（ロータ軸間領域Ａで横方向Ｘに向かい合う）場合があることが好ましい。この場合、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間を材料Ｍが通ることで、材料Ｍに上下方向Ｙの伸長流れが生じる。よって、材料Ｍに伸長応力を付与することができる。
［例Ａ１］図１５に示すように、第二凸部４６３は、第一凸部４５３と向かい合う（ロータ軸間領域Ａで横方向Ｘに向かい合う）場合があることが好ましい。この場合、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間を材料Ｍが通ることで、材料Ｍに上下方向Ｙの伸長流れが生じる。よって、材料Ｍに伸長応力を付与することができる。
【0123】
図１６に示すように、第一凸部先端部４５３ｔが第一回転軸５０ａを中心とする円弧状であることが好ましい。また、第二凸部先端部４６３ｔが第二回転軸６０ａを中心とする円弧状であることが好ましい。［例Ａ２］これらの場合に、第二凸部先端部４６３ｔが、第一凸部先端部４５３ｔと向かい合う場合（図１５参照）があることが好ましい。この場合、第一凸部先端部４５３ｔが第一回転軸５０ａを中心とする円弧状でない場合、および、第二凸部先端部４６３ｔが第二回転軸６０ａを中心とする円弧状でない場合、のそれぞれの場合などに比べ、より大きい伸長応力を材料Ｍに付与することができる。
【0124】
第一凸部先端部４５３ｔが第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃであることが好ましい。また、第二凸部先端部４６３ｔが第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃであることが好ましい。［例Ａ３］第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃが、第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃと向かい合う場合（図１５参照）があることが好ましい。この場合、例えば、上記［例Ａ２］であって上記［例Ａ３］でない場合などに比べ、より大きい伸長応力を材料Ｍに付与することができる。
【0125】
［例Ｂ１］２つの第二凸部４６３は、２つの第一凸部４５３と向かい合う場合があることが好ましい。この場合、１つの第一凸部４５３と１つの第二凸部４６３とが向かい合う場合（図１８参照）に比べ、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間を材料Ｍが通るタイミングが増える。よって、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間で、材料Ｍに伸長応力を付与できるタイミングを増やすことができる。
【0126】
２つの第一凸部４５３それぞれの第一凸部先端部４５３ｔが、第一回転軸５０ａを中心とする円弧状であることが好ましい。２つの第二凸部４６３それぞれの第二凸部先端部４６３ｔが第二回転軸６０ａを中心とする円弧状であることが好ましい。［例Ｂ２］これらの場合に、２つの第一凸部４５３と、２つの第二凸部４６３とが、向かい合う場合があることが好ましい。この場合、例えば、上記［例Ｂ１］であって上記［例Ｂ２］でない場合などに比べ、より大きい伸長応力を材料Ｍに付与することができる。
【0127】
２つの第一凸部先端部４５３ｔのそれぞれが、第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃであることが好ましい。また、２つの第二凸部先端部４６３ｔのそれぞれが、第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃであることが好ましい。［例Ｂ３］この場合に、２つの第二凸部４６３それぞれの第二凸部最外径円弧部４６３ｔｃと、２つの第一凸部４５３それぞれの第一凸部最外径円弧部４５３ｔｃと、が向かい合う場合があることが好ましい。この場合、例えば、上記［例Ｂ２］であって上記［例Ｂ３］でない場合などに比べ、より大きい伸長応力を材料Ｍに付与することができる。
【0128】
（凹部の対向）
上記［例Ａ１］～［例Ｂ３］のように第一凸部４５３と第二凸部４６３とが向かい合う結果、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う（図１５および図１８参照）。さらに詳しくは、第一凸部４５３と第一周方向に隣り合う第一凹部２５７と、第二凸部４６３と第二周方向に隣り合う第二凹部２６７と、が向かい合う。よって、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合うことによる作用が得られる（第２実施形態を参照）。
上記［例Ａ１］～［例Ｂ３］のように第一凸部４５３と第二凸部４６３とが向かい合う結果、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う（図１５および図１８参照）。さらに詳しくは、第一凸部４５３と第一周方向に隣り合う第一凹部２５７と、第二凸部４６３と第二周方向に隣り合う第二凹部２６７と、が向かい合う。よって、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合うことによる作用が得られる（第２実施形態を参照）。
【0129】
上記［例Ｂ１］～［例Ｂ３］のように、２つの第一凸部４５３と２つの第二凸部４６３とが向かい合う結果、第一凸部間凹部４５７ａと第二凸部間凹部４６７ａとが向かい合う。また、第一凸部間凹部４５７ａと第二凸部間凹部４６７ａとが向かい合うのと同時、または、ロータ４０の回転に伴って、第一凸部間外側凹部４５７ｃと第二凸部間外側凹部４６７ｃとが向かい合う。よって、２つの第一凸部４５３と２つの第二凸部４６３とが向かい合う場合（図１５参照）は、１つのみの第一凸部４５３と１つのみの第二凸部４６３とが向かい合う場合（図１８参照）に比べ、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを多く取り込むことができる。
【0130】
なお、ロータ４０に第一凸部４５３および第二凸部４６３が設けられる場合に、第一凸部４５３と第二凸部４６３とが向き合う場合がなくてもよい。この場合でも、第一凹部２５７および第二凹部２６７があることによる作用（第２実施形態参照）が得られる。
【0131】
（凹部の深さ）
図１５に示すように、第一凸部間凹部４５７ａの深さは、第一凹部２５７による作用（第２実施形態参照）が十分得られる深さであることが好ましい。例えば、第一凸部間凹部４５７ａの深さは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを十分に取り込める深さであることが好ましい。具体的には、図１６に示すように、下記の長さｄ１は、下記の長さｄ２よりも小さいことが好ましく、長さｄ２の２／３よりも小さいことがより好ましい。長さｄ１は、第一径方向における、第一回転軸５０ａから第一凸部間凹部４５７ａまでの最小長さである。長さｄ２は、第一径方向における、第一回転軸５０ａから第一基部４５２の外側の面までの最大長さである。
図１５に示すように、第一凸部間凹部４５７ａの深さは、第一凹部２５７による作用（第２実施形態参照）が十分得られる深さであることが好ましい。例えば、第一凸部間凹部４５７ａの深さは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを十分に取り込める深さであることが好ましい。具体的には、図１６に示すように、下記の長さｄ１は、下記の長さｄ２よりも小さいことが好ましく、長さｄ２の２／３よりも小さいことがより好ましい。長さｄ１は、第一径方向における、第一回転軸５０ａから第一凸部間凹部４５７ａまでの最小長さである。長さｄ２は、第一径方向における、第一回転軸５０ａから第一基部４５２の外側の面までの最大長さである。
【0132】
第一凸部間凹部４５７ａの深さと同様に、第二凸部間凹部４６７ａの深さは、第二凹部２６７による作用（第２実施形態参照）が十分得られる深さであることが好ましい。具体的には、下記の長さｄ３は、下記の長さｄ４よりも小さいことが好ましく、長さｄ４の２／３よりも小さいことがより好ましい。長さｄ３は、第二径方向における、第二回転軸６０ａから第二凸部間凹部４６７ａまでの最小長さである。長さｄ４は、第二径方向における、第二回転軸６０ａから第二基部４６２の外側の面までの最大長さである。
【0133】
【0134】
ここで、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果について、図８に示す混練装置２０１での結果と、図１３に示す混練装置３０１での結果と、を比較する。すると、混練装置２０１に比べ、混練装置３０１の方が、ロータ隙間上部Ａｙ１での粒子の滞留が多くなっている。この原因は次の通りである。混練装置２０１と混練装置３０１とを比較すると、軸方向Ｚから見た第一ロータ５０および第二ロータ６０の断面形状は、ほぼ同じである。しかし、図１１に示すように、混練装置３０１は、混練装置２０１（図６参照）にはない第一ねじれ部３５８および第二ねじれ部３６８を備える。その結果、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが対向しない部分が増える。さらに詳しくは、図６に示す混練装置２０１では、ある軸方向Ｚ位置において、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが対向しているとき、他の軸方向Ｚ位置においても、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが対向する。一方、図１１に示す混練装置３０１では、一部の軸方向Ｚ位置において第一凹部２５７と第二凹部２６７とが対向するとき、他の軸方向Ｚ位置において第一凹部２５７と第二凹部２６７とが対向しない。その結果、図１３に示すように、混練装置３０１では、混練装置２０１（図８参照）に比べ、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍの量が増加し、材料Ｍの分配が悪化した。
【0135】
そこで、図１５に示すように、本実施形態の混練装置４０１は、第一凸部４５３および第二凸部４６３を備える。混練装置４０１では、混練装置３０１（図１０参照）に比べ、第一凸部４５３および第二凸部４６３が（第一凸部間凹部４５７ａおよび第二凸部間凹部４６７ａが）、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを多く取り込むことができる。図２０に、軸方向Ｚから見た粒子分配の解析結果を示す。この図２０では、混練装置３０１（図１３参照）に比べ、混練装置４０１では、ロータ隙間上部Ａｙ１の粒子の滞留が抑制されることが示されている（ｔ／Ｔ＝３の状態を参照）。また、混練装置４０１では、第一周方向および第二周方向への粒子の分配が進展していることが示されている。また、図２１に、軸方向Ｚの粒子分配の解析結果を示す。この図２１では、軸方向Ｚへの材料Ｍの分配も進展していることが示されている。
【0136】
（比較）
図２２に示す比較例の回転翼と、図１７に示す混練装置４０１のロータ４０と、について、材料Ｍに付与できる最大せん断応力および最大伸長応力を比較した（図２３および図２４参照）。比較例の回転翼（「ミキサ」ともいう）は、図２２に示すような３翼であり、図１６に示す第一最外径円弧部５１および第二最外径円弧部６１を備えない（またはわずかしか備えない）。なお、図２３および図２４に示す最大せん断応力および最大伸長応力の数値は、各例どうしの応力の比較や、最大せん断応力の大きさと最大伸長応力の大きさとの比較などを容易にするために示した一例にすぎない。
図２２に示す比較例の回転翼と、図１７に示す混練装置４０１のロータ４０と、について、材料Ｍに付与できる最大せん断応力および最大伸長応力を比較した（図２３および図２４参照）。比較例の回転翼（「ミキサ」ともいう）は、図２２に示すような３翼であり、図１６に示す第一最外径円弧部５１および第二最外径円弧部６１を備えない（またはわずかしか備えない）。なお、図２３および図２４に示す最大せん断応力および最大伸長応力の数値は、各例どうしの応力の比較や、最大せん断応力の大きさと最大伸長応力の大きさとの比較などを容易にするために示した一例にすぎない。
【0137】
（せん断応力の比較）
比較例のミキサ（図２２参照）で材料Ｍを混練する例として、図２３に示すように、下記の例Ｄ１および例Ｄ２を設定する。例Ｄ１は、超臨界状態の作動流体を用いて、比較例のミキサで材料Ｍを混練する例である。この例Ｄ１では、ミキサの回転数は６０ｒｐｍである。例Ｄ２は、超臨界状態の作動流体を用いることなく、大気圧雰囲気で、比較例のミキサで材料Ｍを混練する例である。この例Ｄ２では、ミキサの回転数は６０ｒｐｍである。図２３に示すように、例Ｄ１では、例Ｄ２の約１／３しか、材料Ｍにせん断応力が付与されない。
比較例のミキサ（図２２参照）で材料Ｍを混練する例として、図２３に示すように、下記の例Ｄ１および例Ｄ２を設定する。例Ｄ１は、超臨界状態の作動流体を用いて、比較例のミキサで材料Ｍを混練する例である。この例Ｄ１では、ミキサの回転数は６０ｒｐｍである。例Ｄ２は、超臨界状態の作動流体を用いることなく、大気圧雰囲気で、比較例のミキサで材料Ｍを混練する例である。この例Ｄ２では、ミキサの回転数は６０ｒｐｍである。図２３に示すように、例Ｄ１では、例Ｄ２の約１／３しか、材料Ｍにせん断応力が付与されない。
【0138】
図１７に示すロータ４０で材料Ｍを混練する例として、図２３に示すように、下記の例Ｅ１および例Ｅ２を設定する。例Ｅ１および例Ｅ２のそれぞれは、超臨界状態の作動流体を用いて、ロータ４０で材料Ｍを混練する例である。ロータ４０の回転数は、例Ｅ１では６０ｒｐｍであり、例Ｅ２では９０ｒｐｍである。図２３に示すように、例Ｅ１の最大せん断応力は、例Ｄ１とほぼ同じであった。例Ｅ２の最大せん断応力は、例Ｅ１の最大せん断応力の約１．５倍であった。例Ｅ２の最大せん断応力は、例Ｄ２と比べると小さく、例Ｄ２の約１／２であった。この結果では、ロータ４０の回転数を上げても、最大せん断応力は大きくは増加しないことが示されている。
【0139】
なお、図２３に示すグラフの最大応力Ｆｍａｘは、例Ｄ１、例Ｄ２の混練機において、図２２に示すものとは異なる回転翼を用いて、クリアランス等の条件を調整し、大気圧雰囲気で材料Ｍを混練した場合に、材料Ｍに与えることができる最大せん断応力である。
【0140】
（伸長応力の比較）
図２４に、上記の例Ｄ１、例Ｄ２、例Ｅ１、および例Ｅ２において、材料Ｍに付与できる最大伸長応力を示す。図２４に示すように、例Ｅ１の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大伸長応力の約２．５倍であった。また、例Ｅ２の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大伸長応力の約４倍であった。このように、比較例のミキサ（図２２参照）の例Ｄ１、例Ｄ２に比べ、ロータ４０の例Ｅ１、例Ｅ２では、大きい伸長応力が作用することが示される。また、図２４に示す例では、例Ｅ２の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大せん断応力（図２３参照）とほぼ同じであった。
図２４に、上記の例Ｄ１、例Ｄ２、例Ｅ１、および例Ｅ２において、材料Ｍに付与できる最大伸長応力を示す。図２４に示すように、例Ｅ１の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大伸長応力の約２．５倍であった。また、例Ｅ２の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大伸長応力の約４倍であった。このように、比較例のミキサ（図２２参照）の例Ｄ１、例Ｄ２に比べ、ロータ４０の例Ｅ１、例Ｅ２では、大きい伸長応力が作用することが示される。また、図２４に示す例では、例Ｅ２の最大伸長応力は、例Ｄ２の最大せん断応力（図２３参照）とほぼ同じであった。
【0141】
図１５に示す混練装置４０１による効果は、次の通りである。
【0142】
（第５の発明の効果）
［構成５－１］第一ロータ５０は、第一基部４５２と、２つ以上の第一凸部４５３と、を備える。第一基部４５２は、第一回転軸５０ａを含む。第一凸部４５３は、第一基部４５２から径方向外側（第一径方向外側）に突出する。
［構成５－１］第一ロータ５０は、第一基部４５２と、２つ以上の第一凸部４５３と、を備える。第一基部４５２は、第一回転軸５０ａを含む。第一凸部４５３は、第一基部４５２から径方向外側（第一径方向外側）に突出する。
【0143】
［構成５－２］第一凹部２５７は、第一凸部間凹部４５７ａを備える。第一凸部間凹部４５７ａは、第一ロータ５０の周方向（第一周方向）に隣り合う２つの第一凸部４５３により形成される。
【0144】
［構成５－３］第二ロータ６０は、第二基部４６２と、２つ以上の第二凸部４６３と、を備える。第二基部４６２は、第二回転軸６０ａを含む。第二凸部４６３は、第二基部４６２から径方向外側（第二径方向外側）に突出する。
【0145】
［構成５－４］第二凹部２６７は、第二凸部間凹部４６７ａを備える。第二凸部間凹部４６７ａは、第二ロータ６０の周方向（第二周方向）に隣り合う２つの第二凸部４６３により形成される。
【0146】
上記［構成５－１］により、第一凸部４５３は、第一ロータ５０の回転に伴って、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを、第一ロータ５０と第二ロータ６０との間に移動させることができる。また、上記［構成５－２］により、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍは、第一凸部間凹部４５７ａに入る（取り込まれる）ことができる。そして、第一ロータ５０の回転に伴って、第一凸部間凹部４５７ａは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを、ロータ隙間下部Ａｙ２に移動させる（取り込む）ことができる。第一ロータ５０と同様に、上記［構成５－３］および上記［構成５－４］により、第二ロータ６０の回転に伴って、第二凸部間凹部４６７ａは、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを、ロータ隙間下部Ａｙ２に移動させる（取り込む）ことができる。したがって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍを減らすことができる。よって、混練装置４０１は、材料Ｍをより分配させることができる。
【0147】
（第６の発明の効果）
［構成６］第二凸部４６３は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間で（ロータ軸間領域Ａで）、第一凸部４５３と向かい合う場合がある。
［構成６］第二凸部４６３は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間で（ロータ軸間領域Ａで）、第一凸部４５３と向かい合う場合がある。
【0148】
上記［構成６］により、第一凸部４５３と第二凸部４６３とが向かい合ったときに、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間で、材料Ｍに伸長応力を付与することができる。よって、混練装置４０１は、材料Ｍをより分散させることができる。
【0149】
また、第一凸部４５３と第二凸部４６３とが向かい合う結果、第一凸部４５３と第一周方向に隣り合う第一凹部２５７と、第二凸部４６３と第二周方向に隣り合う第二凹部２６７と、が向かい合う。よって、第一凹部２５７と第二凹部２６７とが向かい合う場合がない場合に比べ、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを多く取り込むことができる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍを、より減らすことができる。よって、混練装置４０１は、材料Ｍをより分配させることができる。
【0150】
（第７の発明の効果）
［構成７］２つの第二凸部４６３は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間で（ロータ軸間領域Ａで）、２つの第一凸部４５３と向かい合う場合がある。
［構成７］２つの第二凸部４６３は、第一回転軸５０ａと第二回転軸６０ａとの間で（ロータ軸間領域Ａで）、２つの第一凸部４５３と向かい合う場合がある。
【0151】
上記［構成７］により、１つのみの第一凸部４５３と１つのみの第二凸部４６３とが向かい合う場合（図１８参照）に比べ、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間を材料Ｍが通るタイミングが多くなる。よって、第一凸部４５３と第二凸部４６３との隙間で、材料Ｍに伸長応力を付与するタイミングを多くすることができる。
【0152】
また、２つの第一凸部４５３と２つの第二凸部４６３とが向かい合う結果、第一凸部間凹部４５７ａと第二凸部間凹部４６７ａとが向かい合う。よって、第一凸部間凹部４５７ａと第二凸部間凹部４６７ａとが向かい合う場合がない場合に比べ、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍを多く取り込むことができる。よって、ロータ隙間上部Ａｙ１で滞留する材料Ｍを、より減らすことができる。よって、混練装置４０１は、材料Ｍをより分配させることができる。
【0153】
（第８の発明の効果）
［構成８］図１６に示すように、第一凸部先端部４５３ｔは、第一回転軸５０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第一回転軸５０ａを中心とする円弧状である。第一凸部先端部４５３ｔは、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における第一凸部４５３の外側端部である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二回転軸６０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第二回転軸６０ａを中心とする円弧状である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における第二凸部４６３の外側端部である。
［構成８］図１６に示すように、第一凸部先端部４５３ｔは、第一回転軸５０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第一回転軸５０ａを中心とする円弧状である。第一凸部先端部４５３ｔは、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における第一凸部４５３の外側端部である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二回転軸６０ａが延びる方向（軸方向Ｚ）から見たときに第二回転軸６０ａを中心とする円弧状である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における第二凸部４６３の外側端部である。
【0154】
上記［構成８］および上記［構成６］により、次の効果が得られる。第一凸部先端部４５３ｔと第二凸部先端部４６３ｔとが上記の円弧状でない場合に比べ、第一凸部先端部４５３ｔと第二凸部先端部４６３ｔとが向かい合ったとき（図１５参照）に、材料Ｍに伸長応力をより確実に付与することができる。よって、混練装置４０１は、材料Ｍをより分散させることができる。
【0155】
上記［構成８］と上記［構成７］とを備える場合は、２つの円弧状の第一凸部先端部４５３ｔと２つの円弧状の第二凸部先端部４６３ｔとが向かい合う場合がある（図１５参照）。この場合は、１つのみの円弧状の第一凸部先端部４５３ｔと１つのみの円弧状の第二凸部先端部４６３ｔとが向かい合う場合に比べ、第一凸部先端部４５３ｔと第二凸部先端部４６３ｔとの隙間で、材料Ｍに伸長応力を付与するタイミングを多くすることができる。
【0156】
（第９の発明の効果）
［構成９］第一凸部先端部４５３ｔは、第一最外径円弧部５１である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二最外径円弧部６１である。
［構成９］第一凸部先端部４５３ｔは、第一最外径円弧部５１である。第二凸部先端部４６３ｔは、第二最外径円弧部６１である。
【0157】
上記［構成９］により、第一凸部先端部４５３ｔが第一最外径円弧部５１でない、または、第二凸部先端部４６３ｔが第二最外径円弧部６１でない場合に比べ、より大きい伸長応力を材料Ｍに付与することができる。
【0158】
（第１０の発明の効果）
［構成１０］下記の長さｄ１は、下記の長さｄ２よりも小さい。長さｄ１は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における、第一回転軸５０ａから第一凸部間凹部４５７ａまでの最小長さである。長さｄ２は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における、第一回転軸５０ａから第一基部４５２の外側の面までの最大長さである。下記の長さｄ３は、長さｄ４よりも小さい。長さｄ３は、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における、第二回転軸６０ａから第二凸部間凹部４６７ａまでの最小長さである。長さｄ４は、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における、第二回転軸６０ａから第二基部４６２の外側の面までの最大長さである。
［構成１０］下記の長さｄ１は、下記の長さｄ２よりも小さい。長さｄ１は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における、第一回転軸５０ａから第一凸部間凹部４５７ａまでの最小長さである。長さｄ２は、第一ロータ５０の径方向（第一径方向）における、第一回転軸５０ａから第一基部４５２の外側の面までの最大長さである。下記の長さｄ３は、長さｄ４よりも小さい。長さｄ３は、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における、第二回転軸６０ａから第二凸部間凹部４６７ａまでの最小長さである。長さｄ４は、第二ロータ６０の径方向（第二径方向）における、第二回転軸６０ａから第二基部４６２の外側の面までの最大長さである。
【0159】
上記［構成１０］により、第一凸部間凹部４５７ａの大きさ（深さ）、および、第二凸部間凹部４６７ａの大きさ（深さ）を確保することができる。よって、第一凸部間凹部４５７ａおよび第二凸部間凹部４６７ａに取り込まれる、ロータ隙間上部Ａｙ１（図１５参照）の材料Ｍの量を確保することができる。よって、図１５に示す混練装置４０１は、ロータ隙間上部Ａｙ１の材料Ｍの滞留をより減らすことができる。
【0160】
（変形例）
上記実施形態は様々に変形されてもよい。例えば、互いに異なる実施形態の構成要素（変形例を含む）どうしが組み合わされてもよい。例えば、上記実施形態の変形例どうしが様々に組み合わされてもよい。例えば、上記実施形態の構成要素（変形例を含む）の数が変更されてもよく、構成要素の一部が設けられなくてもよい。例えば、構成要素の配置は変更されてもよい。例えば、構成要素の包含関係は様々に変更されてもよい。例えば、ある上位の構成要素に含まれる下位の構成要素として説明したものが、この上位の構成要素に含まれなくてもよく、他の構成要素に含まれてもよい。例えば、互いに異なる複数の部材や部分として説明したものが、一つの部材や部分とされてもよい。例えば、一つの部材や部分として説明したものが、互いに異なる複数の部材や部分に分けて設けられてもよい。例えば、各構成要素は、各特徴（作用機能、配置、形状、作動など）の一部のみを有してもよい。
上記実施形態は様々に変形されてもよい。例えば、互いに異なる実施形態の構成要素（変形例を含む）どうしが組み合わされてもよい。例えば、上記実施形態の変形例どうしが様々に組み合わされてもよい。例えば、上記実施形態の構成要素（変形例を含む）の数が変更されてもよく、構成要素の一部が設けられなくてもよい。例えば、構成要素の配置は変更されてもよい。例えば、構成要素の包含関係は様々に変更されてもよい。例えば、ある上位の構成要素に含まれる下位の構成要素として説明したものが、この上位の構成要素に含まれなくてもよく、他の構成要素に含まれてもよい。例えば、互いに異なる複数の部材や部分として説明したものが、一つの部材や部分とされてもよい。例えば、一つの部材や部分として説明したものが、互いに異なる複数の部材や部分に分けて設けられてもよい。例えば、各構成要素は、各特徴（作用機能、配置、形状、作動など）の一部のみを有してもよい。
【0161】
具体的には例えば、図１５に示す第一ロータ５０は、第一凸部４５３を１つのみ備えてもよい。また、例えば、第一ロータ５０が第一凸部４５３を備える場合に、第一凸部間凹部４５７ａが設けられなくてもよい。また、例えば、第一ロータ５０が第一凸部４５３を備える場合に、第一ロータ５０が第一ねじれ部３５８（図１７参照）を備えなくてもよい。また、第一ロータ５０が第一凸部４５３を備えない場合に、第一ロータ５０が２つ以上の第一凹部２５７（図６参照）を備えてもよい。
【符号の説明】
【0162】
１、２０１、３０１、４０１ 混練装置
１０ａ 混練室
２１ 第一ロータ収容室
２２ 第二ロータ収容室
３０ ロータ軸間上部室
５０ 第一ロータ
５０ａ 第一回転軸
５０ｃ 第一仮想円
５１ 第一最外径円弧部
６０ 第二ロータ
６０ａ 第二回転軸
６０ｃ 第二仮想円
６１ 第二最外径円弧部
２５７ 第一凹部
２６７ 第二凹部
３５８ 第一ねじれ部
３６８ 第二ねじれ部
４５２ 第一基部
４５３ 第一凸部
４５３ｔ 第一凸部先端部
４５７ａ 第一凸部間凹部
４６２ 第二基部
４６３ 第二凸部
４６３ｔ 第二凸部先端部
４６７ａ 第二凸部間凹部
Ａ ロータ軸間領域（第一回転軸と第二回転軸との間）
１０ａ 混練室
２１ 第一ロータ収容室
２２ 第二ロータ収容室
３０ ロータ軸間上部室
５０ 第一ロータ
５０ａ 第一回転軸
５０ｃ 第一仮想円
５１ 第一最外径円弧部
６０ 第二ロータ
６０ａ 第二回転軸
６０ｃ 第二仮想円
６１ 第二最外径円弧部
２５７ 第一凹部
２６７ 第二凹部
３５８ 第一ねじれ部
３６８ 第二ねじれ部
４５２ 第一基部
４５３ 第一凸部
４５３ｔ 第一凸部先端部
４５７ａ 第一凸部間凹部
４６２ 第二基部
４６３ 第二凸部
４６３ｔ 第二凸部先端部
４６７ａ 第二凸部間凹部
Ａ ロータ軸間領域（第一回転軸と第二回転軸との間）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】