特開 2024-144092 乾燥装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024144092

(43)【公開日】2024-10-11

(54)【発明の名称】乾燥装置

(51)【国際特許分類】

   F26B 13/10 20060101AFI20241003BHJP

   F26B 13/02 20060101ALI20241003BHJP

【ＦＩ】

F26B13/10 E

F26B13/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023217317

(22)【出願日】2023-12-22

(31)【優先権主張番号】P 2023053228

(32)【優先日】2023-03-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】藤元 高佳

(72)【発明者】

【氏名】元井 昌司

【テーマコード（参考）】

3L113

【Ｆターム（参考）】

3L113AA02

3L113AB02

3L113AC08

3L113AC10

3L113AC31

3L113AC46

3L113AC48

3L113AC53

3L113AC67

3L113AC86

3L113BA32

3L113BA34

3L113CA10

3L113CA12

3L113CB24

3L113DA03

(57)【要約】

【課題】塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる乾燥装置を提供することを目的としている。
【解決手段】塗膜が形成された基材が内部を通過する筐体部と、前記筐体部内にガスを供給する供給部と、を有し、前記筐体部内で塗膜を加熱することによって乾燥させる第１の乾燥ユニットと第２の乾燥ユニットが並べられた乾燥装置であって、前記第１の乾燥ユニットには、前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内にガスを供給する供給部と、前記供給部から前記筐体部に供給されるまでにガスを加熱することによって塗膜を間接的に加熱する第１の加熱源と、が設けられ前記第２の乾燥ユニットには、前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内の塗膜を直接的に加熱する第２の加熱源が設けられている構成とする。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

塗膜が形成された基材が内部を通過する筐体部と、前記筐体部内にガスを供給する供給部と、を有し、前記筐体部内で塗膜を加熱することによって乾燥させる第１の乾燥ユニットと第２の乾燥ユニットが並べられた乾燥装置であって、
前記第１の乾燥ユニットには、前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内にガスを供給する供給部と、前記供給部から前記筐体部に供給されるまでにガスを加熱することによって塗膜を間接的に加熱する第１の加熱源と、が設けられ、
前記第２の乾燥ユニットには、前記筐体部内の塗膜を直接的に加熱する第２の加熱源が設けられていることを特徴とする乾燥装置。

【請求項2】

前記第２の乾燥ユニットは、前記第１の乾燥ユニットよりも先に塗膜の加熱を行う位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の乾燥装置。

【請求項3】

前記第２の加熱源は、赤外線を照射することによって塗膜を加熱することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項4】

前記第２の加熱源は、塗膜に熱エネルギーを付与する第１の加熱部と、第２の加熱部と、を有しており、
前記第２の加熱部は、前記第１の加熱部よりも塗膜に付与される熱エネルギーの出力が小さく調節され、前記第１の加熱部よりも後に塗膜に熱エネルギーが付与されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項5】

前記第２の加熱部は、前記第１の加熱部から前記第２の加熱部の順に塗膜に熱エネルギーが付与される乾燥処理方向に、前記第１の加熱部よりも塗膜に熱エネルギーを付与する範囲が広く設定されていることを特徴とする請求項４に記載の乾燥装置。

【請求項6】

前記第２の加熱部は、複数設けられており、それぞれが前記乾燥処理方向に沿って並べられていることを特徴とする請求項５に記載の乾燥装置。

【請求項7】

前記第１の乾燥ユニットには、前記筐体部内のガスを排出する排出部が設けられ、
前記第１の乾燥ユニットと前記第２の乾燥ユニットの間には、前記排出部により前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内から排出されたガスと前記供給部により前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部に供給するガスとで熱交換を行う熱交換部が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項8】

前記第１の乾燥ユニットには、前記筐体部内のガスを排出する排出部が設けられ、
前記供給部は、前記排出部により前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部から排出されたガスを前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内に供給することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項9】

前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内の圧力は、前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内の圧力よりも小さく設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項10】

基材の両面に塗膜が形成されており、
第２の加熱源は、基材の両面に形成された各々の塗膜を加熱可能に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の乾燥装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基材に形成された塗膜を加熱して乾燥させる乾燥装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

リチウムイオン電池は、ロールツーロールで搬送されるアルミ箔や、銅箔などのシート状の基材に対して、電極材料のスラリーを塗布して塗膜を形成し、形成した塗膜を乾燥させることで正極、負極が形成されている。なお、正極を形成する場合は、主にＮＭＰ（Ｎ‐メチル‐ピロリドン）を含有するスラリーが基材に塗布される。そして、塗膜の乾燥は、塗膜を加熱して塗膜に含まれる溶剤等を気化させることによって行われており、正極を形成する場合は塗膜から溶剤であるＮＭＰが気化する。

【0003】

塗膜の乾燥を行う乾燥装置の一例として、下記特許文献１には、基材が通過する内部空間を有する筐体部と、ガスを加熱する加熱源と、加熱源により加熱されたガスを筐体部内に供給するノズルと、を備えたものが開示されている。そして、乾燥装置は、加熱源により加熱したガスをノズルにより筐体部内に供給することによって、筐体部内に高温環境を形成する。この高温環境に搬送される基材上の塗膜を一定時間さらすことで、スラリーに含まれる溶剤（ＮＭＰ）等を気化させて塗膜を乾燥させている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１２－０９７９１７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、上記乾燥装置では、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーが多くなってしまう問題があった。すなわち、上記乾燥装置では、筐体部内において塗膜が加熱される際に塗膜から気化するＮＭＰの濃度が基準値を超えて危険物化することを防止するため、筐体部内に大量のガスを供給して筐体部内におけるＮＭＰの濃度が基準値を超えないように希釈している。そのため、筐体部内の温度を塗膜を乾燥させるために必要な温度に維持するために、ＮＭＰを希釈するために筐体部に供給する大量のガスを加熱源により加熱する必要があったため、消費するエネルギーが多くなってしまっていた。

【0006】

本発明は、上記問題を鑑みてされたものであり、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる乾燥装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記問題を解決するための本発明の乾燥装置は、塗膜が形成された基材が内部を通過する筐体部と、前記筐体部内にガスを供給する供給部と、を有し、前記筐体部内で塗膜を加熱することによって乾燥させる第１の乾燥ユニットと第２の乾燥ユニットが並べられた乾燥装置であって、前記第１の乾燥ユニットには、前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内にガスを供給する供給部と、前記供給部から前記筐体部に供給されるまでにガスを加熱することによって塗膜を間接的に加熱する第１の加熱源と、が設けられ前記第２の乾燥ユニットには、前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内の塗膜を直接的に加熱する第２の加熱源が設けられていることを特徴としている。

【0008】

上記乾燥装置によれば、第１の乾燥ユニットと第２の乾燥ユニットを備え、第２の乾燥ユニットでは、第２の加熱源により筐体部内を通過する基材に形成された塗膜を直接的に加熱することができるため、塗膜から気化した溶剤を希釈するために筐体部内に供給されるガスを加熱しなくても塗膜を加熱することが可能になる。これにより、第１の乾燥ユニットのみにより塗膜を加熱して乾燥させるよりも消費するエネルギーを削減することができる。したがって、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。

【0009】

また、前記第２の乾燥ユニットは、前記第１の乾燥ユニットよりも先に塗膜の加熱を行う位置に配置されている構成としてもよい。

【0010】

この構成によれば、第２の加熱源によりガスを介さずに塗膜を直接的に加熱する第２の乾燥ユニットが、第１の加熱源によりガスを介して塗膜を間接的に加熱する第１の乾燥ユニットよりも先に塗膜の加熱を行うため、第２の乾燥ユニットにより塗膜の温度を急速に高めた後に、第１の乾燥ユニットにより塗膜に温度のムラが生じないように塗膜を加熱することが可能になる。これにより、塗膜の乾燥にかかる時間を短縮することによって塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを削減しつつ、塗膜に乾燥ムラが生じることを防ぐことができる。

【0011】

また、前記第２の加熱源は、赤外線を照射することによって塗膜を加熱する構成としてもよい。

【0012】

この構成によれば、塗膜をその表面と内部の両方から加熱することができるため、塗膜の温度を急速に高めることができる。これにより、塗膜の乾燥にかかる時間を短縮することが可能になるため、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーをより削減することができる。

【0013】

また、前記第２の加熱源は、熱エネルギーを塗膜に付与する第１の加熱部と、第２の加熱部と、を有しており、前記第２の加熱部は、前記第１の加熱部よりも塗膜に付与される熱エネルギーの出力が小さく調節され、前記第１の加熱部よりも後に塗膜に熱エネルギーを付与する構成としてもよい。

【0014】

この構成によれば、第１の加熱部によって先に塗膜を加熱した後に、第１の加熱部よりも塗膜に付与される熱エネルギーの出力が小さく調節された第２の加熱部によって塗膜を加熱するため、塗膜の表面と内部の温度差を低減しつつ、塗膜の温度を急速に高めることができる。これにより、塗膜の乾燥ムラを抑制しつつ、塗膜の乾燥に要する時間を短縮することができる。また、複数の加熱部、すなわち、第１の加熱部と第２の加熱部によって塗膜を加熱するため、1つの加熱部によって塗膜を加熱する場合よりも塗膜の内部に熱を浸透させることができ、加熱後の塗膜の保温性を高めることができる。

【0015】

また、前記第２の加熱部は、前記第１の加熱部から前記第２の加熱部の順に塗膜に熱エネルギーが付与される乾燥処理方向において、前記第１の加熱部よりも塗膜に熱エネルギーを付与する範囲が広く設定されている構成としてもよい。

【0016】

この構成によれば、第２の加熱部によって塗膜の内部に熱を浸透させる時間を多くすることができるため、加熱後の塗膜の保温性をより高めることができる。

【0017】

また、前記第２の加熱部は、複数設けられており、それぞれが前記乾燥処理方向に沿って並べられている構成としてもよい。

【0018】

この構成によれば、第２の加熱部によって塗膜の内部に熱を浸透させる時間を多くすることができるため、加熱後の塗膜の保温性をより高めることができる。

【0019】

また、前記第１の乾燥ユニットには、前記筐体部内のガスを排出する排出部が設けられ、前記第１の乾燥ユニットと前記第２の乾燥ユニットの間には、前記排出部により前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内から排出されたガスと前記供給部により前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部に供給するガスとで熱交換を行う熱交換部が設けられている構成としてもよい。

【0020】

この構成によれば、熱交換部によって、排出部により第１の乾燥ユニットの筐体部から排出されたガスと供給部により第２の乾燥ユニットの筐体部に供給するガスとで熱交換を行うため、第２の乾燥ユニットの筐体部内で塗膜から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。すなわち、第１の加熱源により加熱され第１の乾燥ユニットの筐体部において塗膜を加熱した後のガスにより、供給部により第２の乾燥ユニットの筐体部に供給するガスを加熱することができる。そのため、第２の乾燥ユニットに第１の加熱源を設けることなく、第２の乾燥ユニットの筐体部内の温度を常温よりも高い温度に保つことが可能になる。これにより、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを抑えつつ、第２の乾燥ユニットの筐体部内で塗膜から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。

【0021】

また、前記第１の乾燥ユニットには、前記筐体部内のガスを排出する排出部が設けられ、前記供給部は、前記排出部により前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内から排出されたガスを前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内に供給する構成としてもよい。

【0022】

この構成によれば、排出部により第１の乾燥ユニットの筐体部内から排出されたガスを供給部により第２の乾燥ユニットの筐体部内に供給するため、第２の乾燥ユニットの筐体部内で塗膜から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。すなわち、第１の加熱源により加熱され第１の乾燥ユニットの筐体部において塗膜を加熱した後の高温のガスを供給部により第２の乾燥ユニットの筐体部内に供給するため、第２の乾燥ユニットに第１の加熱源を設けることなく、第２の乾燥ユニットの筐体部内の温度を常温よりも高い温度に保つことが可能になる。これにより、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを抑えつつ、第２の乾燥ユニットの筐体部内で塗膜から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。

【0023】

また、前記第１の乾燥ユニットの前記筐体部内の圧力は、前記第２の乾燥ユニットの前記筐体部内の圧力よりも小さく設定されている構成としてもよい。

【0024】

この構成によれば、前記第２の乾燥ユニットの筐体部において温められたガスを、第１の乾燥ユニットの筐体部内に供給させることができるため、その供給されたガスを熱風の一部として第１の乾燥ユニットにおける塗膜の加熱に利用することができる。

【0025】

また、基材の両面に塗膜が形成されており、第２の加熱源は、基材の両面に形成された各々の塗膜を加熱可能に設けられている構成としてもよい。

【0026】

この構成によれば、基材の両面に塗膜が形成された場合でもあっても、第２の乾燥ユニットによって基材の両面に形成された塗膜を加熱することが可能になる。

【発明の効果】

【0027】

本発明の乾燥装置によれば、塗膜を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】本発明の一実施形態における乾燥装置を概略的に示す図である。

【図2】本発明の一実施形態における乾燥装置が備える第２の乾燥ユニットを説明するための図であり、（ａ）は第２の加熱源を上から見た図を示し、（ｂ）は第２の加熱源を側面から見た図を示している。

【図3】本発明の一実施形態における塗膜の温度と塗膜に含まれる溶剤の含有率の関係を示す図である。

【図4】本発明の一実施形態における乾燥装置が備える第２の乾燥ユニットを説明するための図であり、図２の拡大図を示している。

【図5】本発明の一実施形態における乾燥装置の一つのバリエーションを示す図である。

【図6】本発明の一実施形態における乾燥装置の一つのバリエーションを示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0029】

本発明の第一実施形態における乾燥装置について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、水平方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向と表現し、ＸＹ平面と垂直な方向（つまり、鉛直方向）をＺ軸方向と表現する。

【0030】

図１は、本実施形態における乾燥装置１００を概略的に示す図である。

【0031】

本発明の乾燥装置１００は、図示しない塗布装置により基材１上に形成された塗膜１１（図２（ａ）および図２（ｂ）を参照）を乾燥させるためのものであり、図１に示すように、塗膜を加熱することによって乾燥させる第１の乾燥ユニット２と、第２の乾燥ユニット３と、を備えている。

【0032】

本実施形態における塗布装置は、基材１上に塗膜１１を形成するためのものであり、帯状の基材１を搬送する図示しない搬送部と、搬送される基材１上に電極材料のスラリー（以下、塗布液と呼ぶ）を塗布して塗膜１１を形成する図示しない塗布部と、を備えている。そして、塗布装置が搬送部により搬送される基材１上に塗布液を塗布して塗膜１１を形成し、乾燥装置１００が基材１上に形成された塗膜１１を加熱して乾燥させることによって、リチウムイオン電池の正極が形成される。

【0033】

基材１は、リチウムイオン電池の電池用極板となるアルミニウム箔などの金属箔が用いられる。この基材１は、一方向に長い帯状のシートであり、搬送部により搬送される。

【0034】

塗布液は、たとえば、活物質、バインダー、導電助剤をＮＭＰ（Ｎ‐メチル‐ピロリドン）などの溶剤により混合させたスラリーのことであり、リチウムイオン電池の電池用極板の材料（所謂、電極材料）として用いられる。この塗布液を塗布部により基材１上に塗布することで、基材１上に塗膜１１が形成される。

【0035】

以下、第１の乾燥ユニット２について説明する。

【0036】

第１の乾燥ユニット２は、基材１上に形成された塗膜１１を加熱して乾燥させるためのものである。本実施形態では、図１に示すように、同じ構造の第１の乾燥ユニット２が３つ設けられており、基材１の搬送経路に沿って上流側から順に第１の乾燥ユニット２ａ、第１の乾燥ユニット２ｂ、第１の乾燥ユニット２ｃが並べられている。以下の説明では、第１の乾燥ユニット２ａ、第１の乾燥ユニット２ｂ、第１の乾燥ユニット２ｃを区別しない場合には、単に第１の乾燥ユニット２と呼ぶ。

【0037】

第１の乾燥ユニット２は、図１に示すように、内部に基材１が通過する空間を有する筐体部２１と、筐体部２１内に供給されるガスを加熱する第１の加熱源２２と、筐体部２１内に第１の加熱源２２により加熱されたガスを導入する図示しないノズルと、筐体部２１内からガスを排出する第１の排出部２３と、を有している。ここでいうガスは、空気のことである。なお、ガスは、Ｎ２ガスやＨｅガス、Ａｒガスのような不活性ガスであってもよい。

【0038】

筐体部２１は、図１に示すように、基材１の搬送方向に長く形成された箱体であり、搬送部による基材１の搬送経路上に設けられている。この筐体部２１は、内部に基材１が通過する空間と、この空間に基材１が出入りするための入口および出口を有している。これにより、搬送部により搬送される基材１が筐体部２１内を通過するようになっている。そして、第１の乾燥ユニット２ａ、第１の乾燥ユニット２ｂ、および第１の乾燥ユニット２ｃは、各々の筐体部２１が基材１の搬送経路に沿って連通するように並べられている。これにより、搬送部により搬送される基材１が各々の第１の乾燥ユニット２の筐体部２１を連続して通過するようになっている。

【0039】

第１の加熱源２２は、筐体部２１内に供給されるガスを加熱することによって塗膜１１を間接的に加熱するためのものである。この第１の加熱源２２は、たとえば、電気ヒータや熱媒ヒータなどのヒータであり、ノズルにより筐体部２１内に導入される前のガスを所定の温度（塗膜１１を乾燥させるために必要な温度）になるまで加熱するようになっている。

【0040】

そして、第１の加熱源２２により加熱されたガスは、循環路５１（図１を参照）を通じてノズルから筐体部２１内に導入される。これにより、筐体部２１内に高温環境が形成される。そして、筐体部２１内を搬送部により搬送される基材１が通過することによって、基材１上の塗膜１１が高温環境にさらされて加熱され塗膜１１から溶剤が気化する。すなわち、第１の加熱源２２は、ガスを介して熱エネルギーを塗膜１１に与えることによって塗膜１１を表面から加熱している。

【0041】

第１の排出部２３は、筐体部２１内のガスを筐体部１１外に排出するための開口であり、筐体部２１の壁部に形成されている。そして、塗膜１１から気化した溶剤を含むガスが第１の排出部２３から筐体部２１外に排出される。

【0042】

また、第１の乾燥ユニット２には、図１に示すように第１の排出部２３から排出されたガスに対して溶剤の回収処理を行う溶剤回収ユニット４と、筐体部２１と溶剤回収ユニット４との間でガスを循環させる循環路５が設けられている。

【0043】

溶剤回収ユニット４は、筐体部２１内で塗膜１１から気化した溶剤を液化させて回収する処理を行うためのものであり、筐体部２１に付設するように設けられている。本実施形態における溶剤回収ユニット４は、図１に示すように、塗膜１１から気化した溶剤を含むガスを冷却する冷却部４１と、冷却部４１により冷却されたことによって液化した溶剤を貯留する回収部４２と、冷却部４１と回収部４２を接続する回収路４３と、を有している。

【0044】

冷却部４１は、溶剤を含むガスを冷却して溶剤を液化させるためのものである。この冷却部４１は、水冷方式を用いる冷却器であり、ガスが流れる空洞を有する本体部４４と、冷媒である水が流れる図示しない冷媒流路と、を有している。

【0045】

本体部４４は、内部にガスが流れる空洞を有する筐体であり、循環路５により筐体部２１と接続されている。これにより、筐体部２１内で塗膜から気化した溶剤を含むガスが、循環路５を介して本体部４４内に流入する。

【0046】

冷媒流路は、冷媒が流れる流路であり、本体部４４内に設けられている。この冷媒流路に冷媒を流すことによって、循環路５を介して筐体部２１から流入した本体部４４内のガスを冷却する。これにより、ガスに含まれる溶剤が液化する。

【0047】

回収部４２は、冷却部４１で液化した溶剤を回収するためのものであり、回収路４３により冷却部４１と接続されている。そして、回収路４３には、図示しないポンプが設けられており、このポンプにより冷却部４１で液化された溶剤が回収路４３を介して回収部４２に送られる。これにより、溶剤が回収部４２に回収される。そして、溶剤を回収された後のガスは、含まれる溶剤の濃度が低減された低濃度ガスとして冷却部４１の本体部４４内から循環路５に排出される。

【0048】

循環路５は、第１の乾燥ユニット２と溶剤回収ユニット４との間でガスを循環させるためのものである。本実施形態における循環路５は、図１に示すように第１の加熱源２２から筐体部２１にガスを送るよう接続された循環路５１、筐体部２１から冷却部４１にガスを送るよう接続された循環路５２、冷却部４１から第１の加熱源２２にガスを送るよう接続された循環路５３により構成されている。そして、循環路５の各所には、ガスを循環させるためのファンが設けられている。このファンにより、ガスが循環路５を介して第１の加熱源２２から筐体部２１、冷却部４１、第１の加熱源２２へ、というように循環する。

【0049】

また、第１の乾燥ユニット２には、循環路５により循環させられるガスを供給する供給部６１が設けられている。この供給部６１は、少なくとも溶剤回収ユニット４により溶剤が回収された後のガス中に含まれる溶剤の濃度よりも含まれる溶剤の濃度が低いガス（以下、低濃度ガスと呼ぶ）を第１の乾燥ユニット２に供給するための供給源である。

【0050】

この供給部６１は、図１に示すように、供給する低濃度ガスが第１の加熱源２２の手前側で、溶剤回収ユニット４により溶剤を回収された後のガスと合流することができるように供給路６２により循環路５３に接続されている。そして、供給路６２には、図示しないファンが設けられており、このファンにより低濃度ガスが供給路６２を介して供給部６１から循環路５に供給される。これにより、循環路５により循環するガスに含まれる溶剤の濃度を低減させることができる。

【0051】

また、供給部６１は、第１の乾燥ユニット２、溶剤回収ユニット４、循環路５の各部において、ガスに含まれる溶剤の濃度が基準値を超えて溶剤が危険物化することを防ぐため、溶剤を十分に希釈することが可能な量のガスを乾燥装置１００の動作中は供給し続けるようになっている。なお、基準値とは、溶剤が爆発する限界値のことである。

【0052】

そして、溶剤回収ユニット４により溶剤が回収された後のガスと供給部６１により供給される低濃度ガスが合流して循環路５により循環させられるガスは、第１の加熱源２２により加熱され、ノズルにより筐体部２１内に導入される。すなわち、溶剤を希釈するためのガスが第１の加熱源２２により加熱され、塗膜１１を加熱するためのガスとして筐体部２１内に供給されている。これにより、筐体部２１内において溶剤が危険物化することを防ぎつつ、筐体部２１内で塗膜１１を加熱することができる。

【0053】

また、第１の乾燥ユニット２には、循環路５により循環させられるガスの一部を装置外に排気するための排気部７１が設けられている。この排気部７１は、図１に示すように、冷却部４１から第１の加熱源２２にガスを送る循環路５３において供給部６１により低濃度ガスが供給される位置よりも手前側で排気路７２により接続されている。そして、排気路７２には、図示しないファンが設けられており、このファンにより排気量を調節しながら循環路５３を流れるガスを排気路７２を介して排気部７１から装置外に排気している。これにより、溶剤回収ユニット４により溶剤が回収された後のガスの一部が装置外に排気される。

【0054】

そして、排気部７１から排気されるガスの量は、少なくとも供給部６１により供給する量よりも多くなるようにファンにより調節される。これにより、筐体部２１内を筐体部２１外に対して負圧にすることができるため、筐体部２１からガスが漏れ出ることを防ぐことができる。

【0055】

以下、第２の乾燥ユニット３について説明する。なお、第１の乾燥ユニット２と同様の構成については詳細な説明を省略して説明する。

【0056】

第２の乾燥ユニット３は、基材１上に形成された塗膜１１を加熱して乾燥させるためのものである。本実施形態における第２の乾燥ユニット３は、図１に示すように、内部を基材１が通過する筐体部３１と、筐体部３１内で塗膜１１を加熱する第２の加熱源３２と、第２の排出部３３と、を有している。なお、筐体部３１および第２の排出部３３は、第１の乾燥ユニット２が有する筐体部２１および第１の排出部２３と同様な構成を有しているため、詳細な説明を省略する。

【0057】

第２の加熱源３２は、筐体部３１内で塗膜１１を直接的に加熱するためのものである。この第２の加熱源３２は、赤外線レーザなどのレーザ３４（図２（ａ）および図２（ｂ）を参照）を照射するレーザ光源である。

【0058】

第２の加熱源３２は、図１に示すように、筐体部３１内における筐体部３１の上側の壁部に複数取り付けられており、複数の第２の加熱源３２は基材１の搬送経路に沿って所定の間隔を空けて並べられている。そして、各々の第２の加熱源３２は、図２（ｂ）に示すように鉛直方向下側に向かってレーザ３４を照射するようになっている。

【0059】

各々の第２の加熱源３２は、レーザ３４を照射する図示しない発信器と、レーザ３４を所定の形状に整形するための図示しないレンズと、を有している。そして、発振器によりレンズにレーザ３４を照射することによって、所定の形状に整形されたレーザ３４が塗膜１１に照射されるようになっている。ここでいう所定の形状とは、図２（ａ）に示すように、基材１の幅方向の全体に亘ってレーザ３４を照射することが可能な形状のことである。これにより、各々の第２の加熱源３２は、基材１の幅方向の全体に亘ってレーザ３４を照射する。そして、各々の加熱源３２により基材１の幅方向の全体に亘って照射されるレーザ３４の下を、搬送部により基材１が定速で搬送されるため、塗膜１１の全体が一様に加熱される。

【0060】

このように、第２の加熱源３２は、塗膜１１にレーザ３４を照射することによって、ガスを介さずに塗膜１１を直接的に加熱しているため、第１の加熱源２２のようにガスを介して塗膜１１に熱エネルギー伝達させるよりも塗膜１１に伝達させる熱エネルギーを大きくすることができる。これにより、第２の加熱源３２は、第１の加熱源２２により塗膜１１を加熱するよりも塗膜１１の温度を急速に高めることができる。

【0061】

また、第２の加熱源３２により照射されたレーザ３４は、塗膜１１の内部に浸透、透過しながら塗膜１１に吸収され熱エネルギーに変換される。すなわち、第２の加熱源３２は、塗膜１１を内部から加熱することができる。これにより、第２の加熱源３２は、塗膜１１をその内部から加熱することができるため、第１の加熱源２２にように塗膜１１を表面から加熱するよりも塗膜１１の温度を急速に高めることができる。

【0062】

また、第２の加熱源３２は、ガスを介さずに塗膜１１を直接的に加熱することができるため、第１の加熱源２２のように塗膜１１から気化した溶剤を希釈するためのガスを加熱しなくても塗膜１１を加熱することが可能になる。これにより、第２の加熱源３２により塗膜１１を加熱する際に消費するエネルギーは、第１の加熱源２２により塗膜１１を加熱する際に消費するエネルギーよりも少なくなる。

【0063】

一方、第１の加熱源２２は、ガスを加熱し、そのガスにより筐体部２１内に高温環境を形成して塗膜１１を加熱しているため、複数の方向から塗膜１１を加熱することができる。すなわち、基材１の裏面側からも塗膜１１を加熱することができる。そのため、搬送機構による基材１の搬送中に基材１の撓みや位置ずれが生じたとしても、複数の方向から塗膜１１に対して熱エネルギーを与えることができる。これにより、第１の加熱源２２により塗膜１１を加熱した方が、第２の加熱源３２のように一方向から塗膜１１を加熱するよりも塗膜１１の温度にムラが生じにくくなっている。

【0064】

また、第２の乾燥ユニット３には、筐体部３１内にガスを供給する供給部８１が設けられている。この供給部８１は、ガスを供給するための供給源であり、図１に示すように供給路８２により筐体部３１に接続されている。そして、供給路８２には、図示しないファンが設けられており、このファンによりガスが供給路８２を介して供給部８１から筐体部３１内に供給される。

【0065】

ここで、図１に示すように、乾燥装置１００には、第１の排出部２３により第１の乾燥ユニット２の筐体部２１内から排出されたガスと供給部８１により第２の乾燥ユニット３の筐体部３１に供給するガスとで熱交換を行う熱交換部８３が設けられている。本実施形態では、熱交換部８３内で循環路５２と供給路８２を交差させており、第１の乾燥ユニット２において第１の排出部２３により筐体部２１内から排出されて循環路５２を流れるガスと供給路８２を流れるガスとで熱交換を行うようになっている。

【0066】

すなわち、熱交換部８３によって、第１の加熱源２２により加熱され第１の乾燥ユニット２の筐体部２１において塗膜１１を加熱した後のガスにより、供給部８１により第２の乾燥ユニット３の筐体部３１に供給するガスを加熱している。そのため、第２の乾燥ユニット３に第１の加熱源２１を設けることなく、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内の温度を常温よりも高い温度に保つことが可能になる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーを抑えつつ、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内で塗膜１１から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。なお、ここでいう常温以上の温度とは、たとえば、４０～６０℃程度の温度のことである。

【0067】

また、第２の乾燥ユニット３には、筐体部３１内の一部のガスを装置外に排気する排気部９１が設けられている。この排気部９１は、図１に示すように排気路９２により筐体部３１が有する第２の排出部３３に接続されている。そして、排気路９２には、図示しないファンが設けられており、このファンにより排気量を調節しながら筐体部３１内のガスを排気路９２を介して排気部９１から装置外に排気している。これにより、筐体部３１内で塗膜１１から気化した溶剤をガスとともに装置外に排気することができるため、塗膜１１から気化した溶剤が筐体部３１内で滞留することを防ぐことができる。

【0068】

そして、排気部９１から排気されるガスの量は、少なくとも供給部８１により供給する量よりも多くなるようにファンにより調節される。これにより、筐体部３１内を筐体部３１外に対して負圧にすることができるため、筐体部３１からガスが漏れ出ることを防ぐことができる。

【0069】

また、乾燥装置１００は、塗膜１１の乾燥の進行状態を制御するため、第１の乾燥ユニット２と第２の乾燥ユニット３による塗膜１１の乾燥工程を、乾燥初期、乾燥中期、および乾燥後期に分けて領域ごとに塗膜１１の温度を管理している。

【0070】

ここで、本実施形態では、第２の乾燥ユニット３が乾燥初期における塗膜１１の乾燥を行うようになっている。すなわち、第２の乾燥ユニット３は、図１に示すように、第１の乾燥ユニット２よりも上流側に位置するように第２の乾燥ユニット３の筐体部３１が第１の乾燥ユニット２ａの筐体部２１と連通するように設けられ、第１の乾燥ユニット２よりも先に塗膜１１の加熱を行うようになっている。そして、第１の乾燥ユニット２が乾燥中期および乾燥後期における塗膜１１の乾燥を行うようになっている。

【0071】

図３を用いて具体的に説明する。図３は、本実施形態における塗膜１１の温度と塗膜１１に含まれる溶剤の含有率の関係を示す図であり、実線Ａと実線Ｂが本実施形態における乾燥装置１００により塗膜１１の加熱を行う場合を示し、鎖線Ｃと鎖線Ｄが従来の乾燥装置のように第１の乾燥ユニット２のみにより塗膜１１の加熱を行う場合を示している。

【0072】

乾燥初期は、塗膜１１の温度を常温から所定の温度まで予熱する領域になっており、図３の実線Ｂで示すように塗膜１１における溶剤の含有率が含有率ａのようにほぼ横ばいになっている。すなわち、乾燥初期では、塗膜１１から溶剤がほぼ気化しない領域になっている。

【0073】

ここで、本実施形態では、第２の乾燥ユニット３により乾燥初期における塗膜１１の加熱を行う。すなわち、乾燥初期において、第１の加熱源２２よりも塗膜１１の温度を急速に高めることができる第２の加熱源３２により塗膜１１を加熱するため、図３の実線Ａと鎖線Ｃで示すように塗膜１１の温度を従来よりも急速に高めることができ、塗膜１１を所定の温度まで加熱する時間を短縮することができる。

【0074】

また、乾燥初期では塗膜１１から溶剤がほぼ気化しないため、乾燥初期において塗膜１１を加熱する第２の乾燥ユニット３では筐体部３１内に溶剤を希釈するためのガスを大量に供給する必要がない。そして、第２の乾燥ユニット３では、第２の加熱源３２により塗膜１１を直接的に加熱することができるため、第１の乾燥ユニット２のように塗膜１１を加熱するためのガスを筐体部３１に供給することも不要となっている。そのため、本実施形態では、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１には、その内部を換気するために用いる少量のガスを供給部８１により供給するだけでよく、従来の乾燥装置よりも塗膜１１を乾燥させる際に用いるガスの量を大幅に削減することができる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。

【0075】

乾燥中期は、塗膜１１の温度をほぼ一定の温度または緩やかに温度を高めることにより塗膜１１の乾燥を進行させる領域になっている。ここで、本実施形態では、第１の乾燥ユニット２により乾燥中期における塗膜１１の加熱を行う。すなわち、乾燥中期において、第２の加熱源３２よりも塗膜１１の温度にムラが生じることを抑制することができる第１の加熱源２２により塗膜１１を加熱するため、図３の実線Ａに示すように塗膜１１の温度をほぼ一定の温度になるように加熱しやすくなる。これにより、図３の実線Ｂに示す塗膜１１の溶剤の含有率が含有率ｂから含有率ｃのように一定の推移で塗膜１１から溶剤を気化させることができるため、塗膜１１を乾燥させすぎないように制御しながら塗膜１１の乾燥を進行させることができる。

【0076】

乾燥後期は、塗膜１１の温度を再び高めることにより塗膜１１を乾燥させる領域になっている。ここで、本実施形態では、第１の乾燥ユニット２により乾燥中期における塗膜１１の加熱を行う。すなわち、乾燥後期において、第２の加熱源３２よりも塗膜１１の温度にムラが生じることを抑制することができる第１の加熱源２２により塗膜１１を加熱するため、図３の実線Ｂに示す塗膜１１の含有率が含有率ｃから含有率ｄのように一定の推移で塗膜１１から溶剤を気化させ、塗膜１１を乾燥させすぎることがないように塗膜１１の温度を調節しながら塗膜１１を加熱することができる。これにより、塗膜１１に乾燥ムラを生じさせることなく塗膜１１を乾燥させることができる。

【0077】

このように、本実施形態における乾燥装置１００では、乾燥初期において第２の加熱源３２により塗膜１１の加熱を行うため、図３の実線Ａと鎖線Ｃに示すように従来の乾燥装置よりも塗膜１１を所定の温度まで加熱する時間が短くなり、図３の実線Ｂと鎖線Ｄに示すように塗膜１１の乾燥にかかる時間を短縮することができる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。そして、乾燥中期および乾燥後期において第１の加熱源２２により塗膜１１の加熱を行うため、加熱中の塗膜１１中のバインダーが偏析することを抑え、塗膜１１に変形が生じることを防ぐことができる。すなわち、本実施形態における乾燥装置１００では、塗膜１１に変形が生じることを防ぎつつ、塗膜の乾燥にかかる時間を短縮して塗膜１１の乾燥にかかる時間を短縮することができる。

【0078】

ここで、本実施形態における第２の乾燥ユニット３には、溶剤回収ユニット４をあえて設けていない。具体的には、本実施形態における第２の乾燥ユニット３は、塗膜１１から溶剤が気化しにくく溶剤の回収を必要としない乾燥初期において塗膜１１の加熱を行っている。そのため、第２の乾燥ユニット３には、溶剤回収ユニット４を設けていない。これにより、第１の乾燥ユニット２と第２の乾燥ユニット３のすべてに溶剤回収ユニット４を設ける場合に比べて設備の設置費と設備を稼働するためのランニングコストを削減している。

【0079】

また、第２の加熱源３２は、図４に示すように、レーザ３４を塗膜１１に照射する第１の加熱部３２ａと、第１の加熱部３２ａよりも出力が小さく調節されたレーザ３４を塗膜１１に照射する第２の加熱部３２ｂと、を有しており、本実施形態では、複数の第２の加熱源３２のうち、最初に塗膜１１を加熱する第２の加熱源３２を第１の加熱部３２ａとし、この第１の加熱部３２ａよりも後に塗膜１１の加熱を行うように基材１の搬送方向に沿って並べられた第２の加熱源３２を第２の加熱部３２ｂとしている。すなわち、本実施形態における第２の乾燥ユニット３は、第２の加熱部３２ｂよりも照射するレーザ３４の出力が大きく調節された第１の加熱部３２ａによって先に塗膜１１を加熱した後に、第１の加熱部３２ａよりも照射するレーザ３４の出力が小さく調節された第２の加熱部３２ｂによって塗膜１１を加熱するようになっている。これにより、塗膜１１の乾燥ムラを抑制しつつ、塗膜１１の乾燥に要する時間を短縮することができるようになっている。

【0080】

具体的に説明する。仮に、第２の乾燥ユニット３が、照射するレーザ３４の出力が大きく調節された第１の加熱部３２ａのみを有し、この第１の加熱部３２ａを基材１の搬送方向に沿って複数並べて各々の第１の加熱部３２ａによって塗膜１１の加熱を行うものであった場合、塗膜１１の温度を急速に高めて塗膜１１の乾燥に要する時間を短縮することができるが、塗膜１１の表面の温度が塗膜１１の内部の温度よりも急速に高まり、塗膜１１の表面と内部とで温度差が大きくなってしまうため、塗膜１１に乾燥ムラが生じる場合がある。

【0081】

これに対し、本実施形態における第２の乾燥ユニット３は、第１の加熱部３２ａによって先に塗膜１１を加熱した後に、第１の加熱部３２ａよりも照射するレーザ３４の出力が小さく調節された第２の加熱部３２ｂによって塗膜１１を加熱しているため、第１の加熱部３２ａのみによって塗膜１１を加熱する場合よりも塗膜１１の表面の温度を緩やかに高めることができる。これにより、塗膜１１の表面と内部に生じる温度差を低減しつつ、塗膜１１の温度を急速に高めることができる。したがって、塗膜１１の乾燥ムラを抑制しつつ、塗膜１１の乾燥に要する時間を短縮することができる。

【0082】

また、第２の乾燥ユニット３では、複数の第２の加熱源３２、すなわち、第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂによって塗膜１１を連続して加熱しているため、塗膜１１の乾燥に要する時間をより短縮することができる。具体的には、筐体部３１内の温度は、第２の加熱源３２によるレーザ３４の照射範囲以外は温度があまり高くならないため、筐体部３１内における第２の加熱源３２のレーザ３４の照射範囲から次の筐体部２１内で塗膜１１が加熱されるまでの間に塗膜１１の温度が低下する場合がある。これに対し、本実施形態における乾燥ユニット３では、第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂによって塗膜１１を連続して加熱しているため、塗膜１１の内部に熱を浸透させることができ、加熱後の塗膜１１の保温性を高めることができる。これにより、第２の乾燥ユニット３によって塗膜１１を加熱してから、第１の乾燥ユニット２によって塗膜１１を加熱するまでの間に塗膜１１の温度が低下することを防ぐことができるため、塗膜１１の乾燥に要する時間をより短縮することができる。

【0083】

また、本実施形態における第２の加熱部３２ｂは、基材１の搬送方向において第１の加熱部３２ａよりもレーザ３４の照射範囲が広くなるようにレーザ３４を照射するように設定されている。本実施形態では、図４に示すように、第１の加熱部３２ａよりも第２の加熱部３２ｂを多く設け、各々の第２の加熱部３２ｂを基材１の搬送方向に沿って並べることにより、基材１の搬送方向において第１の加熱部３２ａよりも第２の加熱部３２ｂが照射するレーザ３４の照射範囲を広くしている。このように、第２の加熱部３２ｂが照射するレーザ３４の照射範囲を広くすることにより、第２の加熱部３２ｂによって塗膜１１の内部に熱を浸透させる時間を多くすることができるため、加熱後の塗膜１１の保温性をより高めることができる。

【0084】

また、本実施形態における第２の乾燥ユニット３は、基材１の搬送方向において第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂのそれぞれが照射するレーザ３４間で隙間が生じないように、第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂのそれぞれを配置している。これにより、第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂのそれぞれが照射するレーザ３４間で隙間を空けて、第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂのそれぞれによってレーザ３４を照射する場合よりも、加熱後の塗膜１１の保温性を高めることができる。

【0085】

また、複数の第２の加熱部３２ｂのうち、塗膜１１を最後に加熱する第２の加熱部３２ｂは、筐体部３１の出口側の側壁近傍に位置する塗膜１１にレーザ３４を照射できるように設けられており、第２の加熱部３２ｂが照射するレーザ３４が筐体部３１の内壁に照射されない範囲において、第２の加熱部３２ｂによるレーザ３４の照射範囲の端部と筐体部３１の出口側の側壁との距離ができるだけ短くなるように照射することが好ましい。これにより、第２の乾燥ユニット３によって塗膜１１を加熱してから、第１の乾燥ユニット２によって塗膜１１を加熱するまでの時間を短縮することができるため、第２の乾燥ユニット３によって塗膜１１を加熱してから第１の乾燥ユニット２によって塗膜１１を加熱するまでに塗膜１１の温度が低下することをより防ぎやすくなる。

【0086】

このように、上記実施形態における乾燥装置１００によれば、第２の加熱源３２によって、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内を通過する基材１に形成された塗膜１１を直接的に加熱することができるため、塗膜１１から気化した溶剤を希釈するために筐体部１１内に供給されるガスを加熱しなくても塗膜１１を加熱することが可能になる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。

【0087】

また、第２の乾燥ユニット３は、第１の乾燥ユニット２よりも先に塗膜１１を加熱するため、塗膜１１から溶剤が気化しにくい位置で第２の加熱源３２により直接的に塗膜１１を加熱することができる。そのため、第２の乾燥ユニット３では、塗膜１１から気化した溶剤を希釈するために筐体部３１内に供給するガスの量を少なくしつつ、塗膜１１を加熱することができる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーをより削減することができる。

【0088】

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、各実施形態における構成およびそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。たとえば、上記実施形態では、第２の加熱源３２が、レーザを照射することによって塗膜１１を加熱する例について説明したが、塗膜１１に熱エネルギーを付与することにより塗膜を直接的に加熱することができるものであれば、これに限られない。たとえば、第２の加熱源３２が、マイクロ波を照射することによって塗膜１１を加熱するものであってもよいし、第２の加熱源３２が、赤外線ヒータ、赤外線ランプ、誘導加熱や、誘電加熱により塗膜１１を加熱するものであってもよい。

【0089】

また、上記実施形態では、第２の乾燥ユニット３が、乾燥初期において塗膜１１の加熱を行う例について説明したが、他の領域において加熱を行ってもよい。この場合、塗膜１１から気化した溶剤を回収するために第２の乾燥ユニット３に溶剤回収ユニット４を設ける必要がある。第２の乾燥ユニット３に溶剤回収ユニット４を設ける場合であっても、第２の乾燥ユニット３は第１の乾燥ユニット２のように循環路５を循環するガスを加熱しなくても第２の加熱源３２により塗膜１１を直接的に加熱することができるため、塗膜１１を加熱する際に消費するエネルギーを従来よりも削減することができる。

【0090】

また、図４において、第２の加熱源３２が１つの第１の加熱部３２ａと４つの第２の加熱部３２ｂを有している例を示しているが、これに限られない。また、上記実施形態では、第１の加熱部３２ａよりも第２の加熱部３２ｂを多く設け、各々の第２の加熱部３２ｂを基材１の搬送方向に沿って並べることにより、基材１の搬送方向において第１の加熱部３２ａよりも第２の加熱部３２ｂが照射するレーザ３４の照射範囲を広くする例について説明したが、これに限られない。たとえば、図５に示すように、基材１の搬送方向において、各々の第２の加熱部３２ｂによって照射するレーザ３４の照射範囲を第１の加熱部３２ａによって照射するレーザ３４の照射範囲よりも広く設定してレーザ３４を照射するように第２の加熱部３２ｂを構成してもよい。この場合、第２の加熱源３２が有する第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂの数が同じであっても、上記実施形態と同様に基材１の搬送方向において第１の加熱部３２ａよりも第２の加熱部３２ｂによって照射するレーザ３４の照射範囲を広くすることができる。

【0091】

また、上記実施形態では、第２の加熱源３２が第１の加熱部３２ａと第２の加熱部３２ｂを有している例について説明したが、これに限られない。たとえば、塗膜１１に乾燥ムラが生じない程度に、照射するレーザ３４の出力が調節された第２の加熱源３２を基材１の搬送方向に沿って並べて塗膜１１を加熱する構成にしてもよい。

【0092】

また、上記実施形態では、第２の乾燥ユニット３が筐体部３１を有している例について説明したが、筐体部３１を有していなくてもよい。また、第２の乾燥ユニット３と最も近い位置に配置された筐体部２１の入り口から、第２の乾燥ユニット３によって加熱されて塗膜１１から気化した溶剤含むガスを供給してもよい。具体的には、第２の乾燥ユニット３が筐体部３１を有している場合、筐体部３１内の圧力よりも筐体部２１内の圧力を小さく設定することによって筐体部３１内のガスを筐体部２１内に供給させる。また、第２の乾燥ユニット３が筐体部３１を有していない場合、筐体部２１の入り口近傍における筐体部２１外の圧力よりも筐体部２１内の圧力を小さく設定することによって筐体部３１の入り口近傍に存在するガスを筐体部２１内に供給させる。これにより、第２の乾燥ユニット３によって塗膜１１が加熱される際に温度が高まったガスを筐体部２１内に供給し、その筐体部２１内の塗膜１１の加熱に利用させることができる。また、第２の乾燥ユニット３によって加熱されて塗膜１１から気化した溶剤を筐体部３１内から筐体部２１内に供給することができるため、筐体部３１内において溶剤の濃度が高まることを抑制することができる。これにより、筐体部３１内に滞留する溶剤によって、第２の加熱源３２による塗膜１１の加熱が阻害されることを防ぎやすくなる。

【0093】

また、上記実施形態では、第２の乾燥ユニット３に第２の加熱源３２のみが設けられている例について説明したが、第１の加熱源２２と第２の加熱源３２が設けられていてもよい。

【0094】

また、上記実施形態では、乾燥装置１００が第２の乾燥ユニット３を１つだけ備えている例について説明したが、複数備えていてもよい。

【0095】

また、上記実施形態では、第２の加熱源３２が有する第２の加熱源３２が複数である例について説明したが、１つであってもよい。この場合、第２の加熱源３２により照射するレーザの出力を高めて塗膜１１の加熱を行う。

【0096】

また、上記実施形態では、塗布部により基材１の幅方向において１つの塗膜１１を形成している例について説明したが、塗布部により基材１の幅方向に沿って形成される各々の塗膜１１間に一定の間隔が空くように複数の塗膜１１を形成してもよい。この場合であっても、上記実施形態における乾燥装置１００では、第２の加熱源３２により基材１の幅方向の全体に亘ってレーザ３４を照射することによって、複数の塗膜１１を加熱することができるようになっている。なお、基材１に形成された塗膜１１の数だけ、第２の加熱源３２を設けて基材１の幅方向に沿って配列し、各々の第２の加熱源３２により塗膜１１を個別に加熱させてもよい。

【0097】

また、上記実施形態では、塗布部によって基材１の片面に塗膜１１を形成している例について説明したが、塗布部によって基材１の両面に塗膜１１を形成してもよい。この場合、第２の乾燥ユニット３は、基材１の両面に形成された塗膜１１を加熱するように構成される。すなわち、基材１の両面に形成された塗膜１１のそれぞれに対してレーザ３４を照射するように、第２の加熱源３２を設ける。たとえば、筐体部３１内における筐体部３１の上側の壁部と下側の壁部のそれぞれに第２の加熱源３２を取り付けるとよい。

【0098】

また、上記実施形態では、熱交換部８３によって第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内の温度を常温以上の温度に保たせる例について説明したがこれに限られない。たとえば、図６に示すように、供給部８１が、第１の排出部２３により第１の乾燥ユニット２の筐体部２１内から排出されたガスを第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内に供給する構成としてもよい。具体的には、図６に示すように供給部８１と排気路７２を接続し、第１の乾燥ユニット２において第１の加熱源２２により加熱され、筐体部２１内で塗膜１１を加熱した後に第１の排出部２３により筐体部２１内から排出され、溶剤回収ユニット４により溶剤を回収された後の低濃度ガスを排気路７２、供給部８１、および供給路８２を通じて筐体部３１内に供給している。

【0099】

すなわち、第１の加熱源２２により加熱され筐体部２１において塗膜１１を加熱した後の高温のガスを供給部８１により筐体部３１に供給すため、第２の乾燥ユニット３に第１の加熱源１２を設けることなく、筐体部３１内の温度を常温よりも高い温度に保つことが可能になる。これにより、塗膜１１を乾燥させる際に消費するエネルギーを抑えつつ、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内で塗膜１１から気化した溶剤が冷やされて液化することを抑制することができる。なお、供給部８１により第２の乾燥ユニット３の筐体部３１に供給するガスを排出する第１の乾燥ユニット２の筐体部２１の内部においてガスに含まれる溶剤の濃度が基準値以下の場合、溶剤回収ユニット４により溶剤を回収しなくてもよい。すなわち、第１の排出部２３により第１の乾燥ユニット２の筐体部２１内から排出されたガスを第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内に直接供給してもよい。

【0100】

また、熱交換部８３を設けなくてもよい。この場合、たとえば大気中のガスを第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内に直接供給してもよい。すなわち、第２の乾燥ユニット３の筐体部３１内には、常温のガスが供給されてもよい。

【0101】

また、上記実施形態では、塗布液に含まれる溶剤がＮＭＰである例について説明したが、水であってもよい。

【符号の説明】

【0102】

１００ 乾燥装置
１ 基材
１１ 塗膜
２ 第１の乾燥ユニット
２ａ 第１の乾燥ユニット
２ｂ 第１の乾燥ユニット
２ｃ 第１の乾燥ユニット
２１ 筐体部
２２ 第１の加熱源
２３ 第１の排出部
３ 第２の乾燥ユニット
３１ 筐体部
３２ 第２の加熱源
３２ａ 第１の加熱部
３２ｂ 第２の加熱部
３３ 第２の排出部
３４ レーザ
４ 溶剤回収ユニット
４１ 冷却部
４２ 回収部
４３ 回収路
４４ 本体部
５ 循環路
５１ 循環路
５２ 循環路
５３ 循環路
６１ 供給部
６２ 供給路
７１ 排気部
７２ 排気路
８１ 供給部
８２ 供給路
８３ 熱交換部
９１ 排気部
９２ 排気路

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】