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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024145899
(43)【公開日】2024-10-15
(54)【発明の名称】弁装置
(51)【国際特許分類】
F16K 31/06 20060101AFI20241004BHJP
【ＦＩ】
F16K31/06 305L
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023058479
(22)【出願日】2023-03-31
(71)【出願人】
【識別番号】000000974
【氏名又は名称】川崎重工業株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】000003207
【氏名又は名称】トヨタ自動車株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100135220
【弁理士】
【氏名又は名称】石田 祥二
(72)【発明者】
【氏名】岡本 将佳
(72)【発明者】
【氏名】二宮 誠
(72)【発明者】
【氏名】早▲瀬▼ 友哉
(72)【発明者】
【氏名】神谷 敏彦
(72)【発明者】
【氏名】兼子 直人
【テーマコード（参考）】
3H106
【Ｆターム（参考）】
3H106DA05
3H106DA13
3H106DA23
3H106DA36
3H106DB02
3H106DB12
3H106DB23
3H106DB32
3H106DC02
3H106DC17
3H106DD09
3H106EE42
3H106GB08
3H106KK12
(57)【要約】 （修正有）
【課題】電磁弁に異物が流れ込むことを抑制できる弁装置を提供する。
【解決手段】弁装置１は、第１弁口１１ａを有する第１弁室１１と、第２弁口１２ａを有する第２弁室１２と、第１弁口と第２弁口とを繋ぐ弁通路１３と、第２弁口の周囲の弁座１５と、を含むハウジング２と、第１弁室に収容され且つ第１弁口を開閉する第１弁体３１と、電磁力により第１弁体を移動させるソレノイド３６とを含む電磁弁３と、第２弁室に収容され且つ弁座に対して着座及び離反する第２弁体４１を含む逆流絞り弁４とを備え、逆流絞り弁は、弁通路のガスに押されることによって第２弁体が弁座から離反し、且つ第２弁室のガスに押されて第２弁体が弁座に着座して第２弁室から弁通路へのガスの流れを絞る。
【選択図】図１
【解決手段】弁装置１は、第１弁口１１ａを有する第１弁室１１と、第２弁口１２ａを有する第２弁室１２と、第１弁口と第２弁口とを繋ぐ弁通路１３と、第２弁口の周囲の弁座１５と、を含むハウジング２と、第１弁室に収容され且つ第１弁口を開閉する第１弁体３１と、電磁力により第１弁体を移動させるソレノイド３６とを含む電磁弁３と、第２弁室に収容され且つ弁座に対して着座及び離反する第２弁体４１を含む逆流絞り弁４とを備え、逆流絞り弁は、弁通路のガスに押されることによって第２弁体が弁座から離反し、且つ第２弁室のガスに押されて第２弁体が弁座に着座して第２弁室から弁通路へのガスの流れを絞る。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１弁口を有する第１弁室と、第２弁口を有する第２弁室と、前記第１弁口と前記第２弁口とを繋ぐ弁通路と、前記第２弁口の周囲の弁座と、を含むハウジングと、
前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、
前記第２弁室に収容され且つ前記弁座に対して着座及び離反する第２弁体を含む逆流絞り弁とを備え、
前記逆流絞り弁は、前記弁通路のガスに押されることによって前記第２弁体が前記弁座から離反し、且つ前記第２弁室のガスに押されて前記第２弁体が前記弁座に着座して前記第２弁室から前記弁通路へのガスの流れを絞る、弁装置。
前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、
前記第２弁室に収容され且つ前記弁座に対して着座及び離反する第２弁体を含む逆流絞り弁とを備え、
前記逆流絞り弁は、前記弁通路のガスに押されることによって前記第２弁体が前記弁座から離反し、且つ前記第２弁室のガスに押されて前記第２弁体が前記弁座に着座して前記第２弁室から前記弁通路へのガスの流れを絞る、弁装置。
【請求項2】
前記第２弁体は、前記ハウジングに摺動可能に収容され、外周面に少なくとも１つの切欠きを有し、
前記切欠きは、前記第２弁体の外周面と前記ハウジングとの間に流路を成している、請求項１に記載の弁装置。
前記切欠きは、前記第２弁体の外周面と前記ハウジングとの間に流路を成している、請求項１に記載の弁装置。
【請求項3】
前記第２弁体は、前記弁座に着座するシート部を有し、
前記シート部は、前記流路と前記第２弁口とを繋ぐスリットを少なくとも１つ有している、請求項２に記載の弁装置。
前記シート部は、前記流路と前記第２弁口とを繋ぐスリットを少なくとも１つ有している、請求項２に記載の弁装置。
【請求項4】
前記第２弁体は、複数の前記切欠きと、複数の前記スリットとを、有し、
前記複数のスリットの各々は、前記第２弁体の軸方向に見て前記複数の切欠きの各々と互いに位相をずらして配置されている、請求項３に記載の弁装置。
前記複数のスリットの各々は、前記第２弁体の軸方向に見て前記複数の切欠きの各々と互いに位相をずらして配置されている、請求項３に記載の弁装置。
【請求項5】
前記ハウジングは、前記第２弁室に開口する流入出通路を更に含み、
前記第２弁体は、前記流入出通路の開口に対向する捕捉孔を有している、請求項１乃至４の何れか１つに記載の弁装置。
前記第２弁体は、前記流入出通路の開口に対向する捕捉孔を有している、請求項１乃至４の何れか１つに記載の弁装置。
【請求項6】
前記ハウジングは、弁挿通孔を有するハウジング本体と、前記弁挿通孔に収容されているシート体と、を含み、
前記第１弁室は、前記ハウジング本体及び前記シート体のうち少なくとも一方にあり、
前記第２弁室は、前記ハウジング本体及び前記シート体の少なくとも一方にあり、
前記シート体は、前記弁通路を有している、請求項１乃至５の何れか１つに記載の弁装置。
前記第１弁室は、前記ハウジング本体及び前記シート体のうち少なくとも一方にあり、
前記第２弁室は、前記ハウジング本体及び前記シート体の少なくとも一方にあり、
前記シート体は、前記弁通路を有している、請求項１乃至５の何れか１つに記載の弁装置。
【請求項7】
前記逆流絞り弁及び前記電磁弁は、前記シート体を挟んで互いに対向している、請求項６に記載の弁装置。
【請求項8】
前記シート体は、外周面に周方向全周にわたって延在するシール溝と前記弁通路を有するシート体本体と、前記シール溝に配置されるシール部材と、前記シート体本体に外装される絞り部材とを含み、
前記シート体本体は、軸方向一方側に前記電磁弁が配置され、且つ軸方向他方側に前記逆流絞り弁が配置され、
前記シール部材は、前記シート体本体と前記ハウジング本体との間を封止し、
前記絞り部材は、前記シール溝の軸方向他方側であって前記シート体本体と前記ハウジング本体との間に配置され、且つ通過するガスの流量を絞る、請求項６又は７に記載の弁装置。
前記シート体本体は、軸方向一方側に前記電磁弁が配置され、且つ軸方向他方側に前記逆流絞り弁が配置され、
前記シール部材は、前記シート体本体と前記ハウジング本体との間を封止し、
前記絞り部材は、前記シール溝の軸方向他方側であって前記シート体本体と前記ハウジング本体との間に配置され、且つ通過するガスの流量を絞る、請求項６又は７に記載の弁装置。
【請求項9】
前記逆流絞り弁は、前記弁通路のガス圧と前記第２弁室のガス圧とが互いに抗する方向に前記第２弁体に作用し、前記２つのガス圧の差圧に応じて前記第２弁体が前記第２弁口を開閉するばねレス弁である、請求項１乃至８の何れか１つに記載の弁装置。
【請求項10】
弁挿通孔を有するハウジング本体と、第１弁口及び第２弁口を繋ぐ弁通路を有し且つ前記弁挿通孔に収容されているシート体と、を含むハウジングと、
前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第１弁口を開閉する第１弁と、
前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第２弁口を開閉する第２弁とを備え、
前記第１弁は、電磁弁であり、
前記第２弁は、逆流絞り弁、逆止弁、又は過流防止弁である、弁装置。
前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第１弁口を開閉する第１弁と、
前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第２弁口を開閉する第２弁とを備え、
前記第１弁は、電磁弁であり、
前記第２弁は、逆流絞り弁、逆止弁、又は過流防止弁である、弁装置。
【請求項11】
第１弁口を有する第１弁室と、第２弁口を有する第２弁室と、前記第１弁口と前記第２弁口とを繋ぐ弁通路とを含むハウジングと、
前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、
前記第２弁室に移動可能に収容され且つ前記第２弁口を開閉する第２弁体を含むばねレス弁とを備え、
前記第２弁体は、前記弁通路のガス圧と前記第２弁室のガス圧とを互いに抗する方向に受圧し、前記２つのガス圧の差圧に応じて前記第２弁口を開閉する、弁装置。
前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、
前記第２弁室に移動可能に収容され且つ前記第２弁口を開閉する第２弁体を含むばねレス弁とを備え、
前記第２弁体は、前記弁通路のガス圧と前記第２弁室のガス圧とを互いに抗する方向に受圧し、前記２つのガス圧の差圧に応じて前記第２弁口を開閉する、弁装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガスの流れを制御する弁装置に関する。
【背景技術】
【0002】
弁装置として、例えば特許文献１のような電磁弁が知られている。特許文献１の電磁弁は、ガスの流れを制御することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１５－４８９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１の電磁弁が使用される環境下では、流れるガスに、例えば水分などの異物が含まれていることがある。このような異物は、電磁弁の開閉動作や制御性に影響を与える。
【0005】
そこで本発明の目的は、電磁弁に異物が流れ込むことを抑制できる弁装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
第１の発明の弁装置は、第１弁口を有する第１弁室と、第２弁口を有する第２弁室と、前記第１弁口と前記第２弁口とを繋ぐ弁通路と、前記第２弁口の周囲の弁座と、を含むハウジングと、前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、前記第２弁室に収容され且つ前記弁座に対して着座及び離反する第２弁体を含む逆流絞り弁とを備え、前記逆流絞り弁は、前記弁通路のガスに押されることによって前記第２弁体が前記弁座から離反し、且つ前記第２弁室のガスに押されて前記第２弁体が前記弁座に着座して前記第２弁室から前記弁通路へのガスの流れを絞るものである。
【0007】
第１の発明に従えば、第２弁口に逆流絞り弁を配置することによって、弁通路を介して電磁弁から逆流絞り弁に流されるガスの流量を確保することができる。他方、弁通路を介して逆流絞り弁から電磁弁に導かれるガスの流量を絞ることができる。これにより、弁通路を介して電磁弁に導かれるガスに異物が含まれる場合において、多量の異物が電磁弁に導かれることを抑制できる。
【0008】
第２の発明の弁装置は、弁挿通孔を有するハウジング本体と、第１弁口及び第２弁口を繋ぐ弁通路を有し且つ前記弁挿通孔に収容されているシート体と、を含むハウジングと、前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第１弁口を開閉する第１弁と、前記弁挿通孔に収容され且つ前記シート体に対して着座及び離反することによって前記第２弁口を開閉する第２弁とを備え、前記第１弁は、電磁弁であり、前記第２弁は、逆流絞り弁、逆止弁、又は過流防止弁であるものである。
【0009】
第２の発明に従えば、第２弁口に逆流絞り弁を配置することによって、弁通路を介して電磁弁から逆流絞り弁に流されるガスの流量を確保することができる。他方、弁通路を介して逆流絞り弁から電磁弁に導かれるガスの流量を絞ることができる。これにより、弁通路を介して電磁弁に導かれるガスに異物が含まれる場合において、多量の異物が電磁弁に導かれることを抑制できる。
【0010】
第３の発明の弁装置は、第１弁口を有する第１弁室と、第２弁口を有する第２弁室と、前記第１弁口と前記第２弁口とを繋ぐ弁通路とを含むハウジングと、前記第１弁室に収容され且つ前記第１弁口を開閉する第１弁体と、電磁力により前記第１弁体を移動させるソレノイドとを含む電磁弁と、前記第２弁室に移動可能に収容され且つ前記第２弁口を開閉する第２弁体を含むばねレス弁とを備え、前記第２弁体は、前記弁通路のガス圧と前記第２弁室のガス圧とを互いに抗する方向に受圧し、前記２つのガス圧の差圧に応じて前記第２弁口を開閉するものである。
【0011】
第３の発明に従えば、弁通路のガス圧及び第２弁室のガス圧の差圧によって第２弁体を移動させることができる。それ故、電磁弁によって第１弁口を開いて弁通路から流入出通路にガスを流した後、第２弁口を開いたままにすることができる。これにより、ばねレス弁においてチャタリングが発生することを抑制できる。他方、第２弁室から第２弁口を介して弁通路にガスが流れようとすると、第２弁口を閉じることができる。それ故、ガスと共に第２弁室から第２弁口を介して弁通路に流れてくる異物が電磁弁に導かれることを抑制することができる。
【発明の効果】
【0012】
第１乃至第３の発明によれば、電磁弁に異物が流れ込むことを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明に係る実施形態の弁装置１について前述する図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明で用いる方向の概念は、説明する上で便宜上使用するものであって、発明の構成の向き等をその方向に限定するものではない。また、以下に説明する弁装置１は、本発明の一実施形態に過ぎない。従って、本発明は実施形態に限定されず、発明の趣旨を逸脱しない範囲で追加、削除、変更が可能である。なお、本発明は、実施形態に限定されず、発明の趣旨を逸脱しない範囲で追加、削除、変更が可能である。
【0015】
＜弁装置＞
図１に示す第１実施形態の弁装置１は、ガスの流れを制御する。制御対象のガスは、本実施形態において水素ガスである。但し、ガスは、水素に限定されず、ヘリウム、窒素、及び天然ガス等の他のガスであってもよい。弁装置１は、ガスが流れる流路に介在する。弁装置１は、例えばガスが充填される圧力容器に設けられるタンクバルブに備わっている。弁装置１は、高圧タンク内に貯留されるガスの充填及び排出を制御する。弁装置１は、逆流絞り弁付き電磁弁装置であって、ハウジング２と、電磁弁３と、逆流絞り弁４とを備えている。
図１に示す第１実施形態の弁装置１は、ガスの流れを制御する。制御対象のガスは、本実施形態において水素ガスである。但し、ガスは、水素に限定されず、ヘリウム、窒素、及び天然ガス等の他のガスであってもよい。弁装置１は、ガスが流れる流路に介在する。弁装置１は、例えばガスが充填される圧力容器に設けられるタンクバルブに備わっている。弁装置１は、高圧タンク内に貯留されるガスの充填及び排出を制御する。弁装置１は、逆流絞り弁付き電磁弁装置であって、ハウジング２と、電磁弁３と、逆流絞り弁４とを備えている。
【0016】
＜ハウジング＞
ハウジング２は、第１弁室１１と、第２弁室１２と、弁通路１３と、第１弁座１４と、第２弁座１５と、を含んでいる。また、ハウジング２は、ハウジング本体２１と、シート体２２とを含む。ハウジング２は、前述する流路を構成する第１流路部２ａ及び第２流路部２ｂを含んでいる。第１流路部２ａは、例えば高圧タンク（図示せず）に繋がっている。第２流路部２ｂは、例えばタンクバルブの入出口に繋がっている。
ハウジング２は、第１弁室１１と、第２弁室１２と、弁通路１３と、第１弁座１４と、第２弁座１５と、を含んでいる。また、ハウジング２は、ハウジング本体２１と、シート体２２とを含む。ハウジング２は、前述する流路を構成する第１流路部２ａ及び第２流路部２ｂを含んでいる。第１流路部２ａは、例えば高圧タンク（図示せず）に繋がっている。第２流路部２ｂは、例えばタンクバルブの入出口に繋がっている。
【0017】
第１弁室１１は、第１弁口１１ａを有する。第１弁室１１は、第１流路部２ａに接続されている。第２弁室１２は、第２弁口１２ａを有している。第２弁室１２は、第２流路部２ｂに接続されている。弁通路１３は、第１弁口１１ａと第２弁口１２ａとを繋いでいる。第１弁座１４は、第１弁口１１ａの周囲に形成されている。第２弁座１５は、第２弁口１２ａの周囲に形成されている。第２弁座１５は、第２弁口１２ａに向かって縮径している。即ち、第２弁座１５は、テーパ状に形成されている。
【0018】
＜ハウジング本体＞
ハウジング本体２１は、弁挿通孔２１ａと、前述する第１流路部２ａ及び第２流路部２ｂとを有している。弁挿通孔２１ａは、所定の軸線Ｌ１に沿って延在する有底の孔である。弁挿通孔２１ａは、軸線Ｌ１が延びる軸方向の一方側から順に大径部２１ｅ、中径部２１ｄ、小径部２１ｃを有している。第１流路部２ａは、中径部２１ｄに繋がっている。なお、弁挿通孔２１ａは、必ずしも有底の孔である必要はない。第２流路部２ｂは、小径部２１ｃに繋がっている。
ハウジング本体２１は、弁挿通孔２１ａと、前述する第１流路部２ａ及び第２流路部２ｂとを有している。弁挿通孔２１ａは、所定の軸線Ｌ１に沿って延在する有底の孔である。弁挿通孔２１ａは、軸線Ｌ１が延びる軸方向の一方側から順に大径部２１ｅ、中径部２１ｄ、小径部２１ｃを有している。第１流路部２ａは、中径部２１ｄに繋がっている。なお、弁挿通孔２１ａは、必ずしも有底の孔である必要はない。第２流路部２ｂは、小径部２１ｃに繋がっている。
【0019】
＜シート体＞
図２に示すようにシート体２２は、弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、シート体２２は、軸線が軸線Ｌ１と一致するように弁挿通孔２１ａに挿入されている。シート体２２の軸方向他方側の端部は、弁挿通孔２１ａの底部に当接している。シート体２２は、小径部２１ｃから中径部２１ｄにかけて配置されている。また、シート体２２は、弁挿通孔２１ａにシールされた状態で挿入されている。これにより、シート体２２は、中径部２１ｄ及び小径部２１ｃの各々においてハウジング本体２１との間に第１及び第２環状空間２３，２４を形成している。
図２に示すようにシート体２２は、弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、シート体２２は、軸線が軸線Ｌ１と一致するように弁挿通孔２１ａに挿入されている。シート体２２の軸方向他方側の端部は、弁挿通孔２１ａの底部に当接している。シート体２２は、小径部２１ｃから中径部２１ｄにかけて配置されている。また、シート体２２は、弁挿通孔２１ａにシールされた状態で挿入されている。これにより、シート体２２は、中径部２１ｄ及び小径部２１ｃの各々においてハウジング本体２１との間に第１及び第２環状空間２３，２４を形成している。
【0020】
また、シート体２２は、第１弁室１１と、第２弁室１２と、弁通路１３と、第１弁座１４と、第２弁座１５とを有している。シート体２２は、軸方向に延びる内孔２２ａを有しており、本実施形態において有底円筒状になっている。内孔２２ａは、第１弁室１１と、第２弁室１２と、弁通路１３とを有している。第１弁室１１は、内孔２２ａにおいて軸方向一方側に位置している。そして、第１弁室１１は、軸方向一方側において外方に開口している。また、第１弁室１１は、軸方向他方側において第１弁口１１ａを有している。第２弁室１２は、内孔２２ａにおいて軸方向他方側に位置している。第２弁室１２は、軸方向一方側に第２弁口１２ａを有している。弁通路１３は、内孔２２ａにおいて第１弁室１１と第２弁室１２との間に位置している。そして、弁通路１３は、第１弁口１１ａと第２弁口１２ａとを繋いでいる。また、第１弁室１１及び第２弁室１２は、弁通路１３より大径に形成されている。第１弁座１４は、第１弁口１１ａの周囲に形成され、第２弁座１５は、第２弁口１２ａの周囲に形成されている。
【0021】
更に、シート体２２は、連通路２２ｂと、流入出通路２２ｃとを含んでいる。連通路２２ｂは、シート体２２において第１弁室１１に対応する位置に形成されている。本実施形態では、シート体２２において４つ連通路２２ｂが形成されている。連通路２２ｂは、第１環状空間２３を介して第１弁室１１と第１流路部２ａとを繋いでいる。流入出通路２２ｃは、シート体２２において第２弁室１２より更に軸方向他方側に位置している。本実施形態において、流入出通路２２ｃは、シート体２２の底部に形成されている。また、流入出通路２２ｃは、複数の出入口２２ｄと、入出口２２ｅを有している。複数の出入口２２ｄは、第２環状空間２４に開口している。入出口２２ｅは、第２弁室１２に開口し、入出口２２ｅの中心が軸線Ｌ１上に位置するように配置されている。流入出通路２２ｃは、第２環状空間２４を介して第２弁室１２と第２流路部２ｂとを繋いでいる。
【0022】
更に、シート体２２は、シート体本体２５と、シール部材２６と、絞り部材２７とを含んでいる。シート体本体２５は、前述する第１弁室１１、第２弁室１２、弁通路１３、第１弁座１４、及び第２弁座１５を有している。また、シート体本体２５は、シール溝２５ａと、収容溝２５ｂとを有している。シール溝２５ａは、シート体本体２５の外周面において周方向全周にわたって延在している。収容溝２５ｂもまた、シート体本体２５の外周面において全周にわたって延在している。そして、収容溝２５ｂは、シール溝２５ａより軸方向他方側に位置している。
【0023】
シール部材２６は、シール溝２５ａに配置されている。シール部材２６は、シール溝２５ａに配置された状態で弁挿通孔２１ａの内周面に当接している。そして、シール部材２６は、シート体本体２５とハウジング本体２１との間を封止している。これにより、第１環状空間２３と第２環状空間２４との間が封止される。シール部材２６は、本実施形態においてＯリングである。シール溝２５ａには、バックアップリング２８が配置されている。バックアップリング２８は、シール溝２５ａにおいてシール部材２６より軸方向他方側に位置している。バックアップリング２８は、シール部材２６の軸方向他方側への移動を阻止している。
【0024】
絞り部材２７は、シート体本体２５に外装されている。絞り部材２７は、シール溝２５ａの軸方向他方側に位置し、且つシート体本体２５とハウジング本体２１との間に配置されている。より詳細に説明すると、絞り部材２７は、収容溝２５ｂに収容されている。そして、絞り部材２７は、シート体本体２５とハウジング本体２１との間を通過するガスの流量を絞る。絞り部材２７は、本実施形態においてバックアップリングである。但し、絞り部材２７は、バックアップリングに限定されない。絞り部材２７は、シート体本体２５とハウジング本体２１との間を通過するガスの流量を絞ることができればよい。
【0025】
＜電磁弁＞
第１弁の一例である電磁弁３は、第１弁体３１と、第１ばね部材３２と、パイロット弁体３３と、プランジャ３４と、案内部材３５と、ソレノイド３６と、固定磁極３７と、第２ばね部材３８とを備えている。図１に示すように、電磁弁３は弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、電磁弁３は、弁挿通孔２１ａにおいて弁通路１３より軸方向一方側に配置されている。電磁弁３は、電磁力により、シート体２２に対して着座及び離反する。これにより、電磁弁３は第１弁口１１ａを開閉する。電磁弁３は、パイロット式の電磁弁である。電磁弁３では、弁通路１３において第２弁口１２ａから第１弁口１１ａにガスが流れると第１弁口１１ａが開き、その逆方向への流れを阻止する。
第１弁の一例である電磁弁３は、第１弁体３１と、第１ばね部材３２と、パイロット弁体３３と、プランジャ３４と、案内部材３５と、ソレノイド３６と、固定磁極３７と、第２ばね部材３８とを備えている。図１に示すように、電磁弁３は弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、電磁弁３は、弁挿通孔２１ａにおいて弁通路１３より軸方向一方側に配置されている。電磁弁３は、電磁力により、シート体２２に対して着座及び離反する。これにより、電磁弁３は第１弁口１１ａを開閉する。電磁弁３は、パイロット式の電磁弁である。電磁弁３では、弁通路１３において第２弁口１２ａから第１弁口１１ａにガスが流れると第１弁口１１ａが開き、その逆方向への流れを阻止する。
【0026】
＜第１弁体＞
図２に示すように第１弁体３１は、第１弁室１１に収容されている。そして、第１弁体３１は、第１弁室１１を移動する。第１弁体３１は、移動することによってシート体２２に対して着座及び離反する。より詳細に説明すると、第１弁体３１は、第１弁座１４に着座する。第１弁座１４に着座することによって、第１弁口１１ａが閉じられる。また、第１弁体３１には、第１ばね部材３２が外装されている。第１弁体３１は、第１ばね部材３２によって付勢されて第１弁座１４から離反する。第１弁座１４から離反することによって、第１弁口１１ａが開く。
図２に示すように第１弁体３１は、第１弁室１１に収容されている。そして、第１弁体３１は、第１弁室１１を移動する。第１弁体３１は、移動することによってシート体２２に対して着座及び離反する。より詳細に説明すると、第１弁体３１は、第１弁座１４に着座する。第１弁座１４に着座することによって、第１弁口１１ａが閉じられる。また、第１弁体３１には、第１ばね部材３２が外装されている。第１弁体３１は、第１ばね部材３２によって付勢されて第１弁座１４から離反する。第１弁座１４から離反することによって、第１弁口１１ａが開く。
【0027】
また、第１弁体３１は、内通路３１ａを有している。内通路３１ａは、第１弁体３１を貫通している。内通路３１ａは、軸方向一方側において第１弁口１１ａの開閉状態に関わらず弁通路１３と繋がっている。内通路３１ａの軸方向中間部分には、パイロット弁体用弁座３１ｂが形成されている。
【0028】
＜パイロット弁体＞
パイロット弁体３３は、第１弁体３１の内通路３１ａを開閉する。更に詳細に説明すると、パイロット弁体３３は、第１弁体３１の内通路３１ａに摺動可能に挿入されている。また、パイロット弁体３３は、第２ばね部材３８によって付勢されている。パイロット弁体３３は、付勢されることによって第１弁体３１のパイロット弁体用弁座３１ｂに着座する。これにより、内通路３１ａが閉じられる。また、第２ばね部材３８は、パイロット弁体３３を介して第１弁体３１を付勢することによって第１弁座１４に押し付ける。これにより、第１弁口１１ａが閉じられる。
パイロット弁体３３は、第１弁体３１の内通路３１ａを開閉する。更に詳細に説明すると、パイロット弁体３３は、第１弁体３１の内通路３１ａに摺動可能に挿入されている。また、パイロット弁体３３は、第２ばね部材３８によって付勢されている。パイロット弁体３３は、付勢されることによって第１弁体３１のパイロット弁体用弁座３１ｂに着座する。これにより、内通路３１ａが閉じられる。また、第２ばね部材３８は、パイロット弁体３３を介して第１弁体３１を付勢することによって第１弁座１４に押し付ける。これにより、第１弁口１１ａが閉じられる。
【0029】
＜プランジャ＞
プランジャ３４は、磁性材料から成る筒状部材である。プランジャ３４は、軸方向に移動可能に弁挿通孔２１ａに挿入されている。更に、プランジャ３４には、パイロット弁体３３が挿通され、且つパイロット弁体３３が係合している。それ故、プランジャ３４が軸方向一方に移動すると、パイロット弁体３３が持ち上がる。これにより、パイロット弁体３３をパイロット弁体用弁座３１ｂから離すことができる。
プランジャ３４は、磁性材料から成る筒状部材である。プランジャ３４は、軸方向に移動可能に弁挿通孔２１ａに挿入されている。更に、プランジャ３４には、パイロット弁体３３が挿通され、且つパイロット弁体３３が係合している。それ故、プランジャ３４が軸方向一方に移動すると、パイロット弁体３３が持ち上がる。これにより、パイロット弁体３３をパイロット弁体用弁座３１ｂから離すことができる。
【0030】
＜案内部材＞
案内部材３５は、金属製の筒状部材である。案内部材３５は、弁挿通孔２１ａに挿入されている。案内部材３５には、パイロット弁体３３及びプランジャ３４が挿通されている。案内部材３５は、プランジャ３４を軸方向に摺動案内する。また、案内部材３５は、シート体２２の軸方向一方側の端部に当接している。案内部材３５は、弁挿通孔２１ａの底部と共にシート体２２を挟持している。
案内部材３５は、金属製の筒状部材である。案内部材３５は、弁挿通孔２１ａに挿入されている。案内部材３５には、パイロット弁体３３及びプランジャ３４が挿通されている。案内部材３５は、プランジャ３４を軸方向に摺動案内する。また、案内部材３５は、シート体２２の軸方向一方側の端部に当接している。案内部材３５は、弁挿通孔２１ａの底部と共にシート体２２を挟持している。
【0031】
＜ソレノイド及び固定磁極＞
ソレノイド３６は、電磁力によって第１弁体３１を移動させる。ソレノイド３６は、ハウジング２に収容されている。より詳細に説明すると、ソレノイド３６は、弁挿通孔２１ａに挿入され、且つ案内部材３５に外装されている。ソレノイド３６は、通電されると磁界を発生する。固定磁極３７は、弁挿通孔２１ａの開口を塞ぐようにハウジング本体２１に設けられている。そして、固定磁極３７は、ハウジング本体２１と共にソレノイド３６を挟持している。固定磁極３７は、先端部分を案内部材３５に挿入させている。固定磁極３７は、ソレノイド３６と協働して励磁力を発生させる。これにより、プランジャ３４が軸方向一方側に移動し、それに連動するようにパイロット弁体３３が軸方向一方に移動する。それ故、内通路３１ａが開かれる。そうすると、弁通路１３の圧力と第１弁室１１との差圧が小さくなるので、第１弁体３１が第１ばね部材３２によって第１弁座１４から離される。これにより、第１弁口１１ａが開く。
ソレノイド３６は、電磁力によって第１弁体３１を移動させる。ソレノイド３６は、ハウジング２に収容されている。より詳細に説明すると、ソレノイド３６は、弁挿通孔２１ａに挿入され、且つ案内部材３５に外装されている。ソレノイド３６は、通電されると磁界を発生する。固定磁極３７は、弁挿通孔２１ａの開口を塞ぐようにハウジング本体２１に設けられている。そして、固定磁極３７は、ハウジング本体２１と共にソレノイド３６を挟持している。固定磁極３７は、先端部分を案内部材３５に挿入させている。固定磁極３７は、ソレノイド３６と協働して励磁力を発生させる。これにより、プランジャ３４が軸方向一方側に移動し、それに連動するようにパイロット弁体３３が軸方向一方に移動する。それ故、内通路３１ａが開かれる。そうすると、弁通路１３の圧力と第１弁室１１との差圧が小さくなるので、第１弁体３１が第１ばね部材３２によって第１弁座１４から離される。これにより、第１弁口１１ａが開く。
【0032】
＜逆流絞り弁＞
第２弁の一例である逆流絞り弁４は、第２弁体４１を有している。逆流絞り弁４は、図２に示すように弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、逆流絞り弁４は、弁挿通孔２１ａにおいて弁通路１３より軸方向他方側に配置されている。逆流絞り弁４は、シート体２２に対して着座及び離反する。これにより、逆流絞り弁４は、第２弁口１２ａを開閉する。逆流絞り弁４は、弁通路１３から第２弁室１２への流れを許容し、第２弁室１２から弁通路１３に流れるガスの流量を絞る。更に、逆流絞り弁４は、本実施形態においてばねレス弁である。即ち、逆流絞り弁４は、ばねを含んでおらず、互いに対抗する弁通路１３のガス圧と第２弁室１２のガス圧との差圧に応じて作動する。なお、逆流絞り弁４は、必ずしもばねレス弁に限定されない。
第２弁の一例である逆流絞り弁４は、第２弁体４１を有している。逆流絞り弁４は、図２に示すように弁挿通孔２１ａに収容されている。より詳細に説明すると、逆流絞り弁４は、弁挿通孔２１ａにおいて弁通路１３より軸方向他方側に配置されている。逆流絞り弁４は、シート体２２に対して着座及び離反する。これにより、逆流絞り弁４は、第２弁口１２ａを開閉する。逆流絞り弁４は、弁通路１３から第２弁室１２への流れを許容し、第２弁室１２から弁通路１３に流れるガスの流量を絞る。更に、逆流絞り弁４は、本実施形態においてばねレス弁である。即ち、逆流絞り弁４は、ばねを含んでおらず、互いに対抗する弁通路１３のガス圧と第２弁室１２のガス圧との差圧に応じて作動する。なお、逆流絞り弁４は、必ずしもばねレス弁に限定されない。
【0033】
＜第２弁体＞
第２弁体４１は、ハウジング２に摺動可能に収容されている。より詳細に説明すると、第２弁体４１は、シート体２２の第２弁室１２に摺動可能に収容されている。第２弁体４１は、移動することによって第２弁座１５に対して着座及び離反する。これにより、第２弁体４１によって第２弁口１２ａが開閉される。
第２弁体４１は、ハウジング２に摺動可能に収容されている。より詳細に説明すると、第２弁体４１は、シート体２２の第２弁室１２に摺動可能に収容されている。第２弁体４１は、移動することによって第２弁座１５に対して着座及び離反する。これにより、第２弁体４１によって第２弁口１２ａが開閉される。
【0034】
また、第２弁体４１は、互いに抗する弁通路１３のガス圧及び第２弁室１２のガス圧を受けている。本実施形態において、第２弁体４１は、ばねによって付勢されておらず、互いに抗する弁通路１３のガス圧及び第２弁室１２のガス圧の差圧に応じて移動する。第２弁体４１は、弁通路１３のガスに押されることによって第２弁座１５から離反する。これにより、第２弁口１２ａが開かれるので、弁通路１３から第２弁室１２にガスが流れる。他方、第２弁体４１は、第２弁室１２のガスに押されることによって第２弁座１５に着座する。これにより、第２弁口１２ａが開じれられる。本実施形態において、第２弁体４１は、着座時において第２弁口１２ａを閉じつつ、絞られた流量のガスを第２弁室１２から弁通路１３に流す。第２弁体４１は、例えば有底筒状に形成されている。第２弁体４１は、図３乃至５に示すように複数の切欠き４２と、シート部４３と、捕捉孔４４とを有している。
【0035】
複数の切欠き４２は、第２弁体４１の外周面にある。本実施形態において、第２弁体４１は、外周面に４つの切欠き４２を有している。そして、４つの切欠き４２は、第２弁体４１の外周面において等間隔に配置されている。即ち、４つの切欠き４２は、第２弁体４１の外周面において９０度の間隔をあけて配置されている。また、切欠き４２は、第２弁体４１の外周面とハウジング２との間に流路４６を成している。更に詳細に説明すると、切欠き４２の各々は、第２弁体４１の外周面において径方向に直交する平坦な面を形成する。これにより、第２弁体４１において、第２弁体４１の軸線（本実施形態において軸線Ｌ１に一致）に直交する断面が角丸正方形に形成される。それ故、切欠き４２によって第２弁体４１の外周面とハウジング２との間に４つの流路４６が形成されると共に、第２弁体４１が丸角４１ａでハウジング２（より詳細に説明すると第２弁室１２）に軸方向に摺動可能に支持される。
【0036】
シート部４３は、図２に示すように第２弁座１５に着座する。シート部４３は、図３乃至５に示すように例えば第２弁体４１の先端部に配置されている。シート部４３は、第２弁座１５に対向配置されている（図２参照）。それ故、シート部４３は、第２弁室１２のガスに押されることによって第２弁座１５に着座する。本実施形態において、シート部４３は、部分球面状に形成されている。また、シート部４３は、図３乃至５に示すように複数のスリット４３ａを有している。
【0037】
複数のスリット４３ａは、図２に示すように流路４６と第２弁口１２ａとを繋いでいる。より詳細に説明すると、複数のスリット４３ａは、シート部４３において第２弁座１５に着座する部分４３ｂに配置されている（図４及び５の二点鎖線で挟まれた領域）。それ故、複数のスリット４３ａは、着座時において流路４６と第２弁口１２ａとを繋ぐ。複数のスリット４３ａを介して流路４６と第２弁口１２ａとが繋がることによって、第２弁室１２から弁通路１３に流れるガスの流量が絞られる。本実施形態において、複数のスリット４３ａは、楕円形状に形成されている。複数のスリット４３ａは、シート部４３において着座する部分４３ｂを跨いでいる。
【0038】
また、複数のスリット４３ａは、第２弁体４１の軸方向（本実施形態において、弁装置１の軸方向と同じであり、以下単に「軸方向」という）他方に見て複数の切欠き４２の各々と互いに位相をずらして配置されている。より詳細に説明すると、複数のスリット４３ａの各々は、複数の切欠き４２の各々に対して、軸方向他方に見て軸線Ｌ１を中心とする周方向に所定角度ずらして配置されている。本実施形態において、４つのスリット４３ａの各々は、各切欠き４２に対して軸方向他方に見て軸線Ｌ１を中心とする周方向に４５度ずらして配置されている。
【0039】
捕捉孔４４は、流入出通路２２ｃの開口である入出口２２ｅに対向している。捕捉孔４４は、第２弁体４１の軸線に平行に延在している。本実施形態において、捕捉孔４４は、第２弁体４１の内孔である。捕捉孔４４は、開口を入出口２２ｅに臨ませている。それ故、ガスと共に流入出通路２２ｃの入出口２２ｅから第２弁室１２に異物が流入する場合、異物が捕捉孔４４に流れ込むので、捕捉孔４４は異物を捕捉することができる。なお、捕捉される異物は、例えば水である。但し、異物は水分以外の液体、並びに前記液体が固化したもの及びコンタミ等の固形物であってもよい。
【0040】
＜弁装置の動作＞
弁装置１では、無通電状態において電磁弁３の第１弁体３１が第１弁座１４に着座している。これにより、第１弁口１１ａが閉じられているので、弁装置１におけるガスの流れが止まっている。第２流路部２ｂに第１弁室１１のガス圧より高圧のガスが導かれると、以下のように動作する。即ち、ガスは、第２流路部２ｂから流入出通路２２ｃを介して第２弁室１２に導かれる。第２弁室１２に導かれるガスは、入出口２２ｅが捕捉孔４４に臨んでいるので、捕捉孔４４に向かって噴き出される。それ故、ガスと共に流れる異物が捕捉孔４４に流れ込むので、異物が捕捉孔４４に捕捉される。
弁装置１では、無通電状態において電磁弁３の第１弁体３１が第１弁座１４に着座している。これにより、第１弁口１１ａが閉じられているので、弁装置１におけるガスの流れが止まっている。第２流路部２ｂに第１弁室１１のガス圧より高圧のガスが導かれると、以下のように動作する。即ち、ガスは、第２流路部２ｂから流入出通路２２ｃを介して第２弁室１２に導かれる。第２弁室１２に導かれるガスは、入出口２２ｅが捕捉孔４４に臨んでいるので、捕捉孔４４に向かって噴き出される。それ故、ガスと共に流れる異物が捕捉孔４４に流れ込むので、異物が捕捉孔４４に捕捉される。
【0041】
また、第２弁室１２に流れ込むガスは、第２弁体４１を押すことによって第２弁体４１を第２弁座１５に着座させる。より詳細に説明すると、第２弁室１２に流れ込むガスのガス圧が弁通路１３のガス圧より高くなる。それ故、第２弁体４１が第２弁座１５に着座する。そうすると、第２弁室１２のガスは、第２弁体４１の周りの流路４６を通った後、スリット４３ａによって流量を絞られて弁通路１３に流れる。弁通路１３に流れたガスは、第２ばね部材３８の付勢力に抗して第１弁体３１を持ち上げる。これにより、第１弁口１１ａが開く。そうすると、ガスが、弁通路１３から第１弁室１１、連通路２２ｂ、及び第１環状空間２３を介して第１流路部２ａに導かれる。その後、第１流路部２ａのガス圧と弁通路１３のガス圧との差圧（即ち、第１流路部２ａと第２流路部２ｂとの差圧）が所定値になると、第１弁体３１が第１弁座１４に着座する。これにより、第１弁口１１ａが閉じられるので、第２流路部２ｂから第１流路部２ａへのガスの流れが止まる。
【0042】
次に、ソレノイド３６に通電されると、励磁力が発生することによって第１弁体３１が移動する。これにより、第１弁体３１が第１弁座１４から離反する。より詳細に説明すると、ソレノイド３６に通電されると、プランジャ３４が励磁力によって固定磁極３７に吸着される。これにより、パイロット弁体３３が第２ばね部材３８の付勢力に抗して持ち上げられるので、内通路３１ａが開く。そうすると、第１弁室１１のガス圧と弁通路１３のガス圧の差が小さくなるので、第１弁体３１が第１ばね部材３２によって持ち上げられる。それ故、第１弁体３１が第１弁座１４から離れることによって第１弁口１１ａが開く。そして、第１環状空間２３、連通路２２ｂ、及び第１弁室１１を介して第１流路部２ａと弁通路１３とが繋がる。
【0043】
また、第１流路部２ａと弁通路１３とが繋がった際に弁通路１３のガス圧が第２弁室１２のガス圧より高くなると、弁通路１３のガスによって第２弁体４１が押される。押されることによって第２弁体４１が第２弁座１５から離反する。これにより、第２弁口１２ａが開くので、弁通路１３から第２弁室１２、流入出通路２２ｃ、及び第２環状空間２４を介して第２流路部２ｂにガスが流れる。そうすると、第１流路部２ａを流れるガスを第２流路部２ｂに導くことができる。その後、無通電状態になると、吸着されていたプランジャ３４が固定磁極３７から離れる。そうすると、第１弁体３１がパイロット弁体３３を介して第２ばね部材３８に押されることによって第１弁座１４に着座する。これにより、第１弁口１１ａが閉じられるので、第１流路部２ａから第２流路部２ｂへのガスの流れが止まる。なお、この際、ばねレス弁である逆流絞り弁４では、第２弁体４１が第２弁座１５から離反した状態のままとなる。そして、第２流路部２ｂから第２弁室１２にガスが再び導かれると、第２弁体４１は、前述の通り第２弁座１５に着座する。
【0044】
第１実施形態の弁装置１に従えば、第２弁口１２ａに逆流絞り弁４を配置することによって、弁通路１３を介して電磁弁３から逆流絞り弁４に流されるガスの流量を確保することができる。他方、弁通路１３を介して逆流絞り弁４から電磁弁３に導かれるガスの流量を絞ることができる。これにより、弁通路１３を介して逆流絞り弁４から電磁弁３に導かれるガスに異物が含まれる場合において、多量の異物が電磁弁３に導かれることを抑制できる。水分などの液体は低温で固化するが、例えば、第１実施形態の弁装置１では、電磁弁３内部の水分の固化を抑制できる。
【0045】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、第２弁体４１の外周面に切欠き４２を形成することによって、ハウジング２に対して第２弁体４１が摺動する部分（即ち、第２弁体４１の摺動部分）を少なくすることができる。これにより、ガスと共に流れる異物が第２弁体４１の摺動部分とハウジング２との間に入り込むことを抑制することができる。なお、本実施形態において、第２弁体４１は、ハウジング２に対して丸角４１ａが当接している。そして、丸角４１ａが第２弁体４１の摺動部分となっている。それ故、第２弁体４１の摺動部分が少ない。これにより、異物が第２弁体４１の摺動部分とハウジング２との間に入り込むことが抑制されている。
【0046】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、流路４６と第２弁口１２ａとを繋ぐスリット４３ａをシート部４３が有している。それ故、第２弁体４１が着座した際、スリット４３ａを介して流路４６から第２弁口１２ａにガスを流すことができる。即ち、逆流絞り弁４から電磁弁３にガスを流すことができ、また流れるガスの流量を絞ることができる。
【0047】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、複数のスリット４３ａの各々は、軸方向他方に見て複数の切欠き４２の各々と互いに位相をずらして配置されている。それ故、ガスと共に流れてくる異物が流路４６から直接スリット４３ａに流れ込むことを抑制することができる。これにより、逆流絞り弁４から電磁弁３に異物が流れることを抑制することができる。
【0048】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、第２弁体４１が流入出通路２２ｃの入出口２２ｅに対向する捕捉孔４４を有している。それ故、流入出通路２２ｃから第２弁室１２に流入するガスと共に流れる異物を捕捉孔４４にて捕捉することができる。これにより、逆流絞り弁４から電磁弁３に異物が流れることを更に抑制することができる。
【0049】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、ハウジング２は、シート体２２を含んでいる。弁装置１においてシート体２２を用いることによって、弁挿通孔２１ａに電磁弁３及び逆流絞り弁４の各々を容易に配置することができる。
【0050】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、逆流絞り弁４及び電磁弁３は、シート体２２を挟んで互いに対向している。それ故、逆流絞り弁４及び電磁弁３は、シート体２２を共用することができる。これにより、弁装置１の部品点数を削減することができる。
【0051】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、絞り部材２７によって、シート体本体２５とハウジング本体２１との間を通って逆流絞り弁４からシール溝２５ａに流れ込むガスの流量を抑制することができる。また、絞り部材２７は、シール溝２５ａから逆流絞り弁４にガスを抜くことができる。それ故、シール溝２５ａの内であってシール部材２６より軸方向他方側にガスが貯まることを抑制できる。これにより、シール溝２５ａの内であってシール部材２６より軸方向他方側に生じる内圧が上昇することを抑制できる。それ故、シール部材２６が軸方向一方側に移動することを抑制できるので、シール部材２６が破損等することを抑制できる。
【0052】
更に、第１実施形態の弁装置１では、逆流絞り弁４から電磁弁３に導かれるガスの流量を絞ることができるので、ガスが過剰に電磁弁３に逆流することが抑制される。これにより、電磁弁３のシート部４３からガスが漏れることが抑制される。
【0053】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、逆流絞り弁４がばねレス弁である。それ故、電磁弁３によって第１弁口１１ａが開かれて弁通路１３から第２弁室１２にガスを流した後、第２弁口１２ａを開いたままにすることができる。これにより、逆流絞り弁４においてチャタリングが発生することを抑制できる。他方、第２弁室１２から第２弁口１２ａを介して弁通路１３にガスが流れる際には、第２弁口１２ａが閉じられる。それ故、ガスと共に第２弁室１２から第２弁口１２ａを介して弁通路１３に流れる異物が電磁弁３に導かれることを抑制することができる。
【0054】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、第２弁口１２ａに逆流絞り弁４を配置することによって、電磁弁３から弁通路１３に流されるガスの流量を確保することができる。他方、弁通路１３を介して逆流絞り弁４から電磁弁３に導かれるガスの流量を絞ることができる。これにより、弁通路１３を介して逆流絞り弁４から電磁弁３に導かれるガスに異物が含まれる場合において、多量の異物が電磁弁３に導かれることを抑制できる。また、ハウジング２は、シート体２２を含んでいる。弁装置１においてシート体２２を用いることによって、弁挿通孔２１ａに電磁弁３及び逆流絞り弁４の各々を配置することができる。これより、弁装置１をコンパクト化することができる。
【0055】
また、第１実施形態の弁装置１に従えば、ばねレス弁である逆流絞り弁４は、弁通路１３のガス圧及び第２弁室１２のガス圧の差圧によって第２弁体４１を移動させることができる。それ故、電磁弁３によって第１弁口１１ａを開いて弁通路１３から第２弁室１２にガスを流した後、第２弁口１２ａを開いたままにすることができる。これにより、逆流絞り弁４においてチャタリングが発生することを抑制できる。他方、第２弁室１２から第２弁口１２ａを介して弁通路１３にガスが流れようとすると、第２弁口１２ａを閉じることができる。それ故、ガスと共に第２弁室１２から第２弁口１２ａを介して弁通路１３に流れてくる異物が電磁弁３に導かれることを抑制することができる。
【0056】
＜その他の実施形態について＞
本実施形態の弁装置１において、電磁弁３はパイロット式の電磁弁であるが、必ずしも電磁弁３は前述するように構成されている必要はない。即ち、電磁弁３において、第１弁体３１が固定磁極３７に吸着される構成であってもよい。また、第２ばね部材３８が第１弁体３１を閉位置の方に付勢してもよい。更に、弁装置１の第１弁は、必ずしも電磁弁３に限定されず、リリーフ弁及び逆止弁等、他の弁であってもよい。
本実施形態の弁装置１において、電磁弁３はパイロット式の電磁弁であるが、必ずしも電磁弁３は前述するように構成されている必要はない。即ち、電磁弁３において、第１弁体３１が固定磁極３７に吸着される構成であってもよい。また、第２ばね部材３８が第１弁体３１を閉位置の方に付勢してもよい。更に、弁装置１の第１弁は、必ずしも電磁弁３に限定されず、リリーフ弁及び逆止弁等、他の弁であってもよい。
【0057】
また、第１実施形態の弁装置１において第２弁もまた、必ずしも逆流絞り弁４である必要はなく、逆止弁及び過流防止弁であってもよい。第２弁が逆止弁である場合、第２弁体４１にスリット４３ａが形成されない。これにより、第２弁体４１が第２弁座１５に着座した際、第２弁室１２から弁通路１３への流れが阻止される。また、第２弁が過流防止弁の場合、第２弁体４１がばね部材によって第２弁座１５から離反する方向に付勢される。過流防止弁では、第２弁室１２から弁通路１３に所定の流量以上のガスが流れると、第２弁室１２のガスがばね部材に抗して第２弁体４１を押す。これにより、第２弁座１５に着座し、第２弁口１２ａが閉じられる。それ故、弁通路１３に流れるガスの流量を制限することができる。
【0058】
本実施形態の弁装置１において、第１弁室１１及び第２弁室１２は、シート体２２に形成されているが、図６に示す別形態の弁装置１Ａのようにハウジング本体２１Ａに形成されてもよい。より詳細に説明すると、シート体２２Ａは、弁通路１３を有している。そして、シート体２２は、弁挿通孔２１ａを第１弁室１１及び第２弁室１２に区画するようにハウジング本体２１Ａに設けられる。また、第２流路部２ｂ（流入出通路に相当）の入出口２２ｅが捕捉孔４４に対向している。これにより、弁装置１Ａでは、ハウジング本体２１Ａに第１弁室１１及び第２弁室１２が形成され、且つ弁装置１と同様の作用効果を奏する。
【0059】
また、本実施形態の弁装置１において、電磁弁３と逆流絞り弁４は、必ずしもシート体２２を挟んで互いに対抗するように配置されている必要はない。例えば、電磁弁３と逆流絞り弁４は、平面視でＬ字状に配置されてもよく、また互いに軸がずれて配されてもよい。
【0060】
更に、本実施形態の弁装置１において、逆流絞り弁４は、必ずしもばねレス弁である必要はなく、第２弁体４１が第２弁座１５に向かってばねによって付勢されていてもよい。
【0061】
本実施形態の弁装置１において、切欠き４２は、第２弁体４１においてフラット面を形成しているが、必ずしもフラット面である必要はない。例えば、第２弁体４１の外周面において、溝状の切欠き４２が形成されていてもよい。切欠き４２は、第２弁体４１の外周面とハウジング２との間に流路を成すものであればよい。また、切欠き４２の数も３つ以下又は５つ以上であってよい。更に、スリット４３ａの数も３つ以下又は４つ以下であってよい。そして、切欠き４２とスリット４３ａの位置も必ずしも位相がずれている必要はなく、同位相であってもよい。
【符号の説明】
【0062】
１，１Ａ 弁装置
２ ハウジング
２ｃ 第２流路部（流入出通路）
２ｄ 入出口（開口）
３ 電磁弁
４ 逆流絞り弁
１１ 第１弁室
１１ａ 第１弁口
１２ 第２弁室
１２ａ 第２弁口
１３ 弁通路
１５ 第２弁座（弁座）
２１，２１Ａ ハウジング本体
２１ａ 弁挿通孔
２２，２２Ａ シート体
２２ｃ 流入出通路
２２ｅ 入出口（開口）
２５ シート体本体
２５ａ シール溝
２６ シール部材
２７ 絞り部材
３１ 第１弁体
３６ ソレノイド
４１ 第２弁体
４２ 切欠き
４３ シート部
４３ａ スリット
４３ｂ 部分
４４ 捕捉孔
４６ 流路
２ ハウジング
２ｃ 第２流路部（流入出通路）
２ｄ 入出口（開口）
３ 電磁弁
４ 逆流絞り弁
１１ 第１弁室
１１ａ 第１弁口
１２ 第２弁室
１２ａ 第２弁口
１３ 弁通路
１５ 第２弁座（弁座）
２１，２１Ａ ハウジング本体
２１ａ 弁挿通孔
２２，２２Ａ シート体
２２ｃ 流入出通路
２２ｅ 入出口（開口）
２５ シート体本体
２５ａ シール溝
２６ シール部材
２７ 絞り部材
３１ 第１弁体
３６ ソレノイド
４１ 第２弁体
４２ 切欠き
４３ シート部
４３ａ スリット
４３ｂ 部分
４４ 捕捉孔
４６ 流路
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】