(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024146092
(43)【公開日】2024-10-15
(54)【発明の名称】高分子薄膜及び電池
(51)【国際特許分類】
C08G 64/02 20060101AFI20241004BHJP
C08F 299/02 20060101ALI20241004BHJP
H01M 50/414 20210101ALI20241004BHJP
H01M 50/489 20210101ALI20241004BHJP
【ＦＩ】
C08G64/02
C08F299/02
H01M50/414
H01M50/489
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023058807
(22)【出願日】2023-03-31
(71)【出願人】
【識別番号】000102980
【氏名又は名称】リンテック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000637
【氏名又は名称】弁理士法人樹之下知的財産事務所
(72)【発明者】
【氏名】橋本 紗英
(72)【発明者】
【氏名】森岡 孝至
(72)【発明者】
【氏名】渡邉 康貴
(72)【発明者】
【氏名】合田 英生
【テーマコード（参考）】
4J029
4J127
5H021
【Ｆターム（参考）】
4J029AA09
4J029AB07
4J029AE18
4J029GA02
4J029GA04
4J029HC07
4J029JB252
4J029JB262
4J029JB302
4J029KH01
4J127AA01
4J127BA031
4J127BB041
4J127BB081
4J127BB221
4J127BC021
4J127BC151
4J127BD111
4J127BE311
4J127BE31Y
4J127BF271
4J127BF27Y
4J127BG091
4J127BG09Y
4J127BG121
4J127BG12X
4J127CA01
4J127EA12
4J127FA00
5H021EE15
5H021HH01
5H021HH04
(57)【要約】 （修正有）
【課題】電解液等への高い膨潤性を有する高分子薄膜を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上１０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む、高分子薄膜。
（前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ１は反応性基である。）
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上１０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む、高分子薄膜。
（前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ１は反応性基である。）
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上１０．０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む、
高分子薄膜。
（前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ１は、下記構造式（２－１）、下記構造式（２－２）及び下記構造式（２－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
高分子薄膜。
【化1】
（前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ１は、下記構造式（２－１）、下記構造式（２－２）及び下記構造式（２－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
【化2】
【請求項2】
請求項１に記載の高分子薄膜において、
前記一般式（２）における－Ｌ３－Ｘ１が、下記構造式（２－４）、下記構造式（２－５）及び下記構造式（２－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基である、
高分子薄膜。
前記一般式（２）における－Ｌ３－Ｘ１が、下記構造式（２－４）、下記構造式（２－５）及び下記構造式（２－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基である、
高分子薄膜。
【化3】
【請求項3】
請求項１又は請求項２に記載の高分子薄膜において、
前記共重合体が、０．１モル％以上３０．０モル％以下の下記一般式（３）で表される構成単位及び下記一般式（４）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１つの構成単位をさらに含む、
高分子薄膜。
（前記一般式（３）及び前記一般式（４）において、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ４及びＬ５は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ６は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ２は、下記構造式（４－１）、下記構造式（４－２）及び下記構造式（４－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
前記共重合体が、０．１モル％以上３０．０モル％以下の下記一般式（３）で表される構成単位及び下記一般式（４）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１つの構成単位をさらに含む、
高分子薄膜。
【化4】
（前記一般式（３）及び前記一般式（４）において、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ４及びＬ５は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ６は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ２は、下記構造式（４－１）、下記構造式（４－２）及び下記構造式（４－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
【化5】
【請求項4】
請求項１又は請求項２に記載の高分子薄膜において、
酢酸エチルに対する前記共重合体の溶出量が１０％以下であり、
エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する前記共重合体の膨潤度が１００％以上である、
高分子薄膜。
酢酸エチルに対する前記共重合体の溶出量が１０％以下であり、
エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する前記共重合体の膨潤度が１００％以上である、
高分子薄膜。
【請求項5】
請求項１又は請求項２に記載の高分子薄膜を含む、
電池。
電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高分子薄膜及び電池に関する。
【背景技術】
【0002】
高分子薄膜は、様々な用途に使用されており、例えば、電池分野の材料にも使用されている。高分子薄膜は、例えば、電池用セパレータに用いられている。
例えば、特許文献１には、ポリオレフィン微多孔膜と、ポリオレフィン微多孔膜の少なくとも一方の面に積層された多孔層と、を備える電池用セパレータが開示されている。この多孔層は、フッ化ビニリデン単独重合体及びフッ化ビニリデン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体からなる群から選ばれるフッ化ビニリデン系ポリマーと、ポリアクリル酸と、無機粒子を含む。
例えば、特許文献１には、ポリオレフィン微多孔膜と、ポリオレフィン微多孔膜の少なくとも一方の面に積層された多孔層と、を備える電池用セパレータが開示されている。この多孔層は、フッ化ビニリデン単独重合体及びフッ化ビニリデン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体からなる群から選ばれるフッ化ビニリデン系ポリマーと、ポリアクリル酸と、無機粒子を含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２２－０５３７２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１に記載の電池用セパレータでは、負極活物質表面のデンドライト析出は止めることができないという問題がある。なお、活物質表面に生じたデンドライトは充放電サイクルの中で活物質表面から剥がれ、不可逆容量となる。さらにデンドライトが成長し、正極へ到達すると短絡するため、デンドライト発生を抑制する必要がある。
一方で、負極活物質表面のデンドライト析出は、負極表面とセパレータの間に細かい凹凸に起因する隙間があることが原因であると、本発明者らは考えている。そして、例えば、セパレータが電解液等への高い膨潤性を有するものであれば、セパレータを膨潤させて、負極表面とセパレータの隙間を埋めることができる。
一方で、負極活物質表面のデンドライト析出は、負極表面とセパレータの間に細かい凹凸に起因する隙間があることが原因であると、本発明者らは考えている。そして、例えば、セパレータが電解液等への高い膨潤性を有するものであれば、セパレータを膨潤させて、負極表面とセパレータの隙間を埋めることができる。
【0005】
本発明の目的は、電解液等への高い膨潤性を有する高分子薄膜、並びに、電池を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
［１］ 下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上１０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む、
高分子薄膜。
高分子薄膜。
【0007】
【化1】
【0008】
（前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ１は、下記構造式（２－１）、下記構造式（２－２）及び下記構造式（２－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
【0009】
【化2】
【0010】
［２］ ［１］に記載の高分子薄膜において、
前記一般式（２）における－Ｌ３－Ｘ１が、下記構造式（２－４）、下記構造式（２－５）及び下記構造式（２－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基である、
高分子薄膜。
前記一般式（２）における－Ｌ３－Ｘ１が、下記構造式（２－４）、下記構造式（２－５）及び下記構造式（２－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基である、
高分子薄膜。
【0011】
【化3】
【0012】
［３］ ［１］又は［２］に記載の高分子薄膜において、
前記共重合体が、０．１モル％以上３０モル％以下の下記一般式（３）で表される構成単位及び下記一般式（４）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１つの構成単位をさらに含む、
高分子薄膜。
前記共重合体が、０．１モル％以上３０モル％以下の下記一般式（３）で表される構成単位及び下記一般式（４）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１つの構成単位をさらに含む、
高分子薄膜。
【0013】
【化4】
【0014】
（前記一般式（３）及び前記一般式（４）において、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、Ｌ４及びＬ５は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、Ｌ６は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、Ｘ２は、下記構造式（４－１）、下記構造式（４－２）及び下記構造式（４－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。）
【0015】
【化5】
【0016】
［４］ ［１］から［３］のいずれかに記載の高分子薄膜において、
酢酸エチルに対する前記共重合体の溶出量が１０％以下であり、
エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する前記共重合体の膨潤度が１００％以上である、
高分子薄膜。
酢酸エチルに対する前記共重合体の溶出量が１０％以下であり、
エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する前記共重合体の膨潤度が１００％以上である、
高分子薄膜。
【0017】
［５］ ［１］から［４］のいずれかに記載の高分子薄膜を含む、
電池。
電池。
【発明の効果】
【0018】
本発明の一態様によれば、電解液等への高い膨潤性を有する高分子薄膜、並びに、電池を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本実施形態に係る電池の要部の一例を模式的に表す断面図である。
【図2】本実施形態に係る高分子薄膜を電池用セパレータに使用した場合における作用効果を説明するための図である。
【図3】実施例１で製造した共重合体の１Ｈ－ＮＭＲの測定結果を示すチャートである。
【図4】実施例２で製造した共重合体の１Ｈ－ＮＭＲの測定結果を示すチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、本発明について実施形態を例に挙げて説明する。本発明は実施形態の内容に限定されない。
【0021】
［高分子薄膜］
本実施形態に係る高分子薄膜の好ましい一例について説明する。
本実施形態に係る高分子薄膜の好ましい一例について説明する。
【0022】
本実施形態に係る高分子薄膜は、一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上、１０．０モル％以下の一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む。
【0023】
本実施形態に係る高分子薄膜によれば、上記構成を有することにより、電解液等への高い膨潤性を有する高分子薄膜が得られる。この理由は定かではないが、以下のように考えられる。本実施形態に係る高分子薄膜に用いる共重合体は、主ポリマー骨格をカーボネート骨格とすることで、電解液との相溶性が向上する。このため、電池を組み立てるときにおいて、電解液を注入した後に、セパレータとしての高分子薄膜を膨潤させることができる。そして、架橋性官能基（反応性基）を有する一般式（２）で表される構成単位を０．３モル％以上、１０．０モル％以下含有することで、架橋反応が適度に進行するため、高膨潤度と低溶出量との両立が可能となる。
【0024】
本実施形態に係る高分子薄膜は、上記構成を有する特定の共重合体を含んでいれば、本発明の目的を損なわない限りにおいて、これら以外の成分を含んでいてもよい。
【0025】
本実施形態に係る高分子薄膜の形態は、特に限定されないが、自立膜であることが好ましい。本実施形態に係る高分子薄膜の自立膜は、当該薄膜単体で自立保持可能な膜を表す。
【0026】
（共重合体）
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体は、下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上、１０．０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む。
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体は、下記一般式（１）で表される構成単位、及び、０．３モル％以上、１０．０モル％以下の下記一般式（２）で表される構成単位を含む共重合体を含む。
【0027】
【化6】
【0028】
一般式（１）及び一般式（２）において、
Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、単結合、炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であることが好ましく、単結合、又は炭素数２以上４以下のオキシアルキレン基であることが特に好ましい。
Ｘ１は、下記構造式（２－１）、下記構造式（２－２）及び下記構造式（２－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
Ｌ３は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、単結合、炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であることが好ましく、単結合、又は炭素数２以上４以下のオキシアルキレン基であることが特に好ましい。
Ｘ１は、下記構造式（２－１）、下記構造式（２－２）及び下記構造式（２－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
【0029】
【化7】
【0030】
また、合成の容易性の観点から、一般式（２）における－Ｌ３－Ｘ１は、下記構造式（２－４）、下記構造式（２－５）及び下記構造式（２－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基であることが好ましい。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
【0031】
【化8】
【0032】
このような共重合体は、ランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。合成の容易性の観点から、前記共重合体は、ランダム共重合体であることが好ましい。
【0033】
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体は、例えば、一般式（１）で表される構成単位と、一般式（２）で表される構成単位とからなる共重合体の場合には、以下のような構成比率となる。
一般式（２）で表される構成単位の比率は、全ての構成単位に対して、０．３モル％以上、１０．０モル％以下であることが必要である。この比率が０．３モル％未満であると、溶出量が高くなってしまう。他方、この比率が１０．０モル％を超えると、共重合体の架橋密度が高くなり、膨潤性が低下するという問題がある。
同様の観点から、一般式（２）で表される構成単位の比率は、１．０モル％以上であることが好ましく、１．５モル％以上であることがより好ましい。一方で、一般式（２）で表される構成単位の比率は、８．０モル％以下であることが好ましく、７．０モル％以下であることがより好ましく、６．０モル％以下であることがさらに好ましく、５．０モル％以下であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される構成単位の比率は、全ての構成単位に対して、０．３モル％以上、１０．０モル％以下であることが必要である。この比率が０．３モル％未満であると、溶出量が高くなってしまう。他方、この比率が１０．０モル％を超えると、共重合体の架橋密度が高くなり、膨潤性が低下するという問題がある。
同様の観点から、一般式（２）で表される構成単位の比率は、１．０モル％以上であることが好ましく、１．５モル％以上であることがより好ましい。一方で、一般式（２）で表される構成単位の比率は、８．０モル％以下であることが好ましく、７．０モル％以下であることがより好ましく、６．０モル％以下であることがさらに好ましく、５．０モル％以下であることが特に好ましい。
【0034】
一般式（１）で表される構成単位の比率は、全ての構成単位に対して、９０．０モル％以上、９９.７モル％以下であることが必要である。また、一般式（１）で表される構成単位の比率は、９２．０モル％以上であることが好ましく、９３．０モル％以上であることがより好ましく、９４．０モル％以上であることがさらに好ましく、９５．０モル％以上であることが特に好ましい。一方で、一般式（１）で表される構成単位の比率は、９９．０モル％以下であることが好ましく、９８．５モル％以下であることがより好ましい。
【0035】
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体は、０．１モル％以上３０．０モル％以下の下記一般式（３）で表される構成単位及び下記一般式（４）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１つの構成単位をさらに含むことが好ましい。
一般式（３）又は一般式（４）で表される構成単位のようなエーテル骨格を含む共重合体とすることで、共重合体のガラス転移温度が低下し、薄膜が柔軟化するため、高イオン伝導度化が期待できる。
一般式（３）又は一般式（４）で表される構成単位のようなエーテル骨格を含む共重合体とすることで、共重合体のガラス転移温度が低下し、薄膜が柔軟化するため、高イオン伝導度化が期待できる。
【0036】
【化9】
【0037】
一般式（３）及び一般式（４）において、
Ｒ２は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｌ４及びＬ５は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
Ｌ６は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、単結合、炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であることが好ましく、単結合、又は炭素数２以上４以下のオキシアルキレン基であることが特に好ましい。
Ｘ２は、下記構造式（４－１）、下記構造式（４－２）及び下記構造式（４－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
Ｒ２は、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であり、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｌ４及びＬ５は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上３以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
Ｌ６は、単結合、炭素数１以上５以下のアルキレン基、又は炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であり、単結合、炭素数１以上５以下のオキシアルキレン基であることが好ましく、単結合、又は炭素数２以上４以下のオキシアルキレン基であることが特に好ましい。
Ｘ２は、下記構造式（４－１）、下記構造式（４－２）及び下記構造式（４－３）で表される基のうちのいずれかの反応性基である。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
【0038】
【化10】
【0039】
また、合成の容易性の観点から、一般式（４）における－Ｌ６－Ｘ２は、下記構造式（４－４）、下記構造式（４－５）及び下記構造式（４－６）で表される基のうちのいずれかの反応性基であることが好ましい。なお、構造式中の波線は、結合位置を表す。
【0040】
【化11】
【0041】
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体は、例えば、一般式（１）で表される構成単位と、一般式（２）で表される構成単位と、一般式（３）で表される構成単位と、一般式（４）で表される構成単位とからなる共重合体の場合には、以下のような構成比率となる。
一般式（２）で表される構成単位の比率は、前述のとおりである。
一般式（３）で表される構成単位と、一般式（４）で表される構成単位との合計の比率は、全ての構成単位に対して、０．１モル％以上、３０．０モル％以下であることが好ましい。これらの合計の比率が０．１モル％未満であると、エーテル骨格による作用効果が十分に発揮できない傾向にある。他方、これらの合計の比率が３０．０モル％を超えると、電解液との相溶性が悪くなり、膨潤度の低下を招く傾向にある。
同様の観点から、これらの合計の比率は、０．２モル％以上であることが好ましく、０．６モル％以上であることがより好ましい。一方で、これらの合計の比率は、２５．０モル％以下であることが好ましく、２０．０モル％以下であることがより好ましく、１０．０モル％以下であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される構成単位の比率は、前述のとおりである。
一般式（３）で表される構成単位と、一般式（４）で表される構成単位との合計の比率は、全ての構成単位に対して、０．１モル％以上、３０．０モル％以下であることが好ましい。これらの合計の比率が０．１モル％未満であると、エーテル骨格による作用効果が十分に発揮できない傾向にある。他方、これらの合計の比率が３０．０モル％を超えると、電解液との相溶性が悪くなり、膨潤度の低下を招く傾向にある。
同様の観点から、これらの合計の比率は、０．２モル％以上であることが好ましく、０．６モル％以上であることがより好ましい。一方で、これらの合計の比率は、２５．０モル％以下であることが好ましく、２０．０モル％以下であることがより好ましく、１０．０モル％以下であることが特に好ましい。
【0042】
一般式（１）で表される構成単位の比率は、全ての構成単位に対して、６０．０モル％以上、９９．６モル％以下であることが好ましい。また、一般式（１）で表される構成単位の比率は、６５．０モル％以上であることが好ましく、７０．０モル％以上であることがより好ましい。一方で、一般式（１）で表される構成単位の比率は、９８．０モル％以下であることが好ましく、９４．０モル％以下であることがより好ましい。
【0043】
本実施形態に係る共重合体の測定例に示す方法で測定した分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）で表す場合、５，０００以上５，０００，０００以下であることが好ましく、１０，０００以上１，０００，０００以下であることがより好ましい。
また、本実施形態に係る共重合体の測定例に示す方法で測定した分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で表す場合、３，０００以上３，０００,０００以下であることが好ましく、５,０００以上５００，０００以下であることがより好ましい。
また、重量平均分子量（Ｍｗ）の数平均分子量（Ｍｎ）に対する比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１以上１０以下であることが好ましく、１．１以上５以下であることがより好ましい。前記共重合体の分子量及び分子量分布が上記範囲であることで、膜形態に成形とした際に十分なハンドリング性を有することができる。
また、本実施形態に係る共重合体の測定例に示す方法で測定した分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で表す場合、３，０００以上３，０００,０００以下であることが好ましく、５,０００以上５００，０００以下であることがより好ましい。
また、重量平均分子量（Ｍｗ）の数平均分子量（Ｍｎ）に対する比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１以上１０以下であることが好ましく、１．１以上５以下であることがより好ましい。前記共重合体の分子量及び分子量分布が上記範囲であることで、膜形態に成形とした際に十分なハンドリング性を有することができる。
【0044】
（共重合体の製造方法）
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により得られるが、例えば、次のような方法で作製できる。
後述の実施例に記載のように、重合触媒の存在下、プロピレンオキシド等のエポキシドモノマーと、二酸化炭素とを、共重合させることにより、製造することができる。具体的には、プロピレンオキシドは開環することにより、一般式（３）で表される構成単位となるが、プロピレンオキシドの一部が、開環しながら二酸化炭素と重合することにより、一般式（１）で表される構成単位となる。
本実施形態に係る高分子薄膜に含まれる共重合体の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により得られるが、例えば、次のような方法で作製できる。
後述の実施例に記載のように、重合触媒の存在下、プロピレンオキシド等のエポキシドモノマーと、二酸化炭素とを、共重合させることにより、製造することができる。具体的には、プロピレンオキシドは開環することにより、一般式（３）で表される構成単位となるが、プロピレンオキシドの一部が、開環しながら二酸化炭素と重合することにより、一般式（１）で表される構成単位となる。
【0045】
共重合体を製造する際に使用する重合触媒としては、特に限定されず、コバルトサレン触媒等の金属サレン錯体触媒及び有機亜鉛系触媒などが例示できる。
【0046】
エポキシドモノマーと二酸化炭素との共重合反応に使用する重合触媒の使用量は、例えば、金属サレン錯体触媒の場合には、エポキシドモノマー１モルに対して、０．０５モル以下であることが好ましく、０．０１モル以下であることがより好ましく、０．００１モル以下であることが特に好ましい。
さらに、金属サレン錯体触媒を使用する場合には助触媒を使用することができる。助触媒としては、例えばオニウム塩化合物が好ましい。前記オニウム塩化合物の具体例として、特に限定されないが、高い反応活性を有する観点から、ビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムクロリド、ピペリジン、ビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムフルオリド、アンモニウムペンタフルオロベンゾエート、及びテトラ－ｎ－ブチルアンモニウムクロリドなどが好ましい。
さらに、金属サレン錯体触媒を使用する場合には助触媒を使用することができる。助触媒としては、例えばオニウム塩化合物が好ましい。前記オニウム塩化合物の具体例として、特に限定されないが、高い反応活性を有する観点から、ビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムクロリド、ピペリジン、ビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムフルオリド、アンモニウムペンタフルオロベンゾエート、及びテトラ－ｎ－ブチルアンモニウムクロリドなどが好ましい。
【0047】
なお、重合条件は、触媒の種類によっても最適条件が異なるが、例えば、反応容器内の二酸化炭素の圧力は、０．１ＭＰａ以上、１０ＭＰａ以下、好ましくは、０．５ＭＰａ以上、５ＭＰａ以下である。
また、重合温度は、例えば、コバルトサレン錯体触媒の場合には、触媒作用が良好に働き、反応速度が促進されるという観点から、室温（２５℃）程度が好ましい。
また、重合温度は、例えば、コバルトサレン錯体触媒の場合には、触媒作用が良好に働き、反応速度が促進されるという観点から、室温（２５℃）程度が好ましい。
【0048】
エポキシドモノマーと二酸化炭素とを共重合させる方法において、出発原料として用いられるエポキシドモノマーとしては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２－ブチレンオキシド、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、及び４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルなどが挙げられる。なお、共重合体における一般式（１）で表される構成単位と、一般式（２）で表される構成単位とのモル比は、反応性の違いにより、一般式（１）で表される構成単位の出発原料となるエポキシドモノマーと、一般式（２）で表される構成単位の出発原料となるエポキシドモノマーとのモル基準の混合比と一致しない場合がある。
【0049】
（高分子薄膜の特性）
本実施形態に係る高分子薄膜において、酢酸エチルに対する共重合体の溶出量が、４０％以下であることが好ましく、質量％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましく、１０％以下であることが特に好ましく、７％以下であることが非常に好ましい。溶出した共重合体の低分子成分は不可逆容量となるため、当該溶出量はなるべく低いことがよい。共重合体の溶出量の下限値は、特に限定されず、例えば、１％以上でもよく、０．１％以上でもよく、０％でもよい。
本実施形態に係る高分子薄膜において、酢酸エチルに対する共重合体の溶出量が、４０％以下であることが好ましく、質量％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましく、１０％以下であることが特に好ましく、７％以下であることが非常に好ましい。溶出した共重合体の低分子成分は不可逆容量となるため、当該溶出量はなるべく低いことがよい。共重合体の溶出量の下限値は、特に限定されず、例えば、１％以上でもよく、０．１％以上でもよく、０％でもよい。
【0050】
本実施形態に係る高分子薄膜において、酢酸エチルに対する共重合体の溶出量が上記範囲であり、かつ、エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する共重合体の膨潤度が、１００％以上であることが好ましい。
【0051】
本実施形態に係る高分子薄膜は、上述のとおり、電解液及び電解液の溶媒として使用されるカーボネート系溶媒等への高い膨潤性を有することが好ましい。このような観点から、上記のエチレンカーボネートとジメチルカーボネートとの体積比が１：１の混合溶剤に対する共重合体の膨潤度は、１００％以上であることが好ましく、２００％以上であることがより好ましく、３００％以上であることがさらに好ましく、５００％以上であることが特に好ましく、７００％以上であることが非常に好ましく、９００％以上であることが最も好ましい。この膨潤度の上限値は、特に限定されず、例えば、２０００％以下であってもよい。
【0052】
本実施形態に係る高分子薄膜の膜厚は、膜強度の観点から、１μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましく、５μｍ以上であることがさらに好ましい。本実施形態に係る高分子薄膜の膜厚は、膜の抵抗を小さくするという観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１６μｍ以下であることがより好ましく、１２μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0053】
（高分子薄膜の製造方法）
本実施形態に係る高分子薄膜は、共重合体を含む高分子薄膜が得られやすくなる観点で、光重合開始剤を用いることが好ましい。本実施形態に係る高分子薄膜において、光重合開始剤を用いた場合、共重合体を含む薄膜は、当該薄膜中の共重合体の側鎖にある反応性基（アリル基、及び（メタ）アクリロイル基）が反応して架橋する。
本実施形態に係る高分子薄膜は、共重合体を含む高分子薄膜が得られやすくなる観点で、光重合開始剤を用いることが好ましい。本実施形態に係る高分子薄膜において、光重合開始剤を用いた場合、共重合体を含む薄膜は、当該薄膜中の共重合体の側鎖にある反応性基（アリル基、及び（メタ）アクリロイル基）が反応して架橋する。
【0054】
本実施形態に係る高分子薄膜の好ましい製造方法の一例について説明する。
【0055】
本実施形態に係る高分子薄膜の製造方法は、下記の工程を備える。
前述の共重合体及び光重合開始剤を混合して、混合物を調製する工程（工程１）。
混合物を成形して、成形物を得る工程（工程２）。
成形物に対し、エネルギー線を照射して、共重合体を含む高分子薄膜を得る工程（工程３）。「エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味する。エネルギー線の例としては、紫外線、放射線、電子線等が挙げられる。紫外線は、無電極ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ブラックライト、ＬＥＤランプ等を用いて照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
前述の共重合体及び光重合開始剤を混合して、混合物を調製する工程（工程１）。
混合物を成形して、成形物を得る工程（工程２）。
成形物に対し、エネルギー線を照射して、共重合体を含む高分子薄膜を得る工程（工程３）。「エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味する。エネルギー線の例としては、紫外線、放射線、電子線等が挙げられる。紫外線は、無電極ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ブラックライト、ＬＥＤランプ等を用いて照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
【0056】
本実施形態に係る高分子薄膜の製造方法の一態様によれば、高分子薄膜としての共重合体を含む薄膜が得られ、当該薄膜の自立膜が得られやすくなる。
【0057】
（工程１）
工程１は、高分子薄膜を得るための原材料を混合して、混合物を得る工程である。工程１では、まず、高分子薄膜を得るための原材料として、前述の共重合体と、光重合開始剤とをそれぞれ準備する。共重合体は、例えば、前述の製造方法によって得られる。次に、これらの準備した原材料について、目的とする量を秤量する。その後、秤量した各原材料を混合し、さらに、必要に応じて、希釈溶媒を加えることによって、混合物が調製される。当該混合物は、公知の撹拌装置等によって各原材料を撹拌することにより調製してもよい。工程１で調整された混合物は、高分子薄膜形成用の混合物である。
工程１は、高分子薄膜を得るための原材料を混合して、混合物を得る工程である。工程１では、まず、高分子薄膜を得るための原材料として、前述の共重合体と、光重合開始剤とをそれぞれ準備する。共重合体は、例えば、前述の製造方法によって得られる。次に、これらの準備した原材料について、目的とする量を秤量する。その後、秤量した各原材料を混合し、さらに、必要に応じて、希釈溶媒を加えることによって、混合物が調製される。当該混合物は、公知の撹拌装置等によって各原材料を撹拌することにより調製してもよい。工程１で調整された混合物は、高分子薄膜形成用の混合物である。
【0058】
光重合開始剤は、特に限定されず、公知の化合物が挙げられる。光重合開始剤は、紫外線に感応する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0059】
光重合開始剤は、例えば、具体的には、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、α－ヒドロキシ－α，α’－ジメチルアセトフェノン、２－メチル－２－ヒドロキシプロピオフェノン、及び１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα－ケトール系化合物；メトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、及び２－メチル－１－［４－（メチルチオ）－フェニル］－２－モルホリノプロパン－１等のアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、及びアニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物；２－ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物；１－フェノン－１，１－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム等の光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン等）チオキサンソン系化合物（チオキサンソン、２－クロロチオキサンソン、２－メチルチオキサンソン等のベンゾフェノン系化合物；カンファーキノン、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド、アシルホスフォナート、及びオリゴ［２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－（１－メチルビニル）フェニル）プロパノン］等が挙げられる。
【0060】
光重合開始剤の含有量は、例えば、共重合体１００質量部に対して、０．１質量部以上、１０質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以上、７．５質量部以下であることがより好ましく、１質量部以上５質量部以下であることがさらに好ましい。
【0061】
（工程２）
工程２は、工程１で調製した混合物から成形物を得る工程である。工程２では、工程１で調製した混合物を成形することにより、成形物が得られる。混合物の成形は、特に限定されず、例えば、混合物を支持体の表面に塗布して塗膜を形成することで成形してもよい。支持体として、例えば、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する剥離フィルムを用いてもよい。剥離フィルムの剥離処理面の上に、工程１で調製した混合物を塗布して塗膜を形成することで成形物を得ることができる。また、剥離フィルムを用いる場合、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する第一剥離フィルムを用い、当該剥離処理面の上に、工程１で調製した混合物を塗布して塗膜を形成して成形物を得た後、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する第二剥離フィルムの剥離処理面を成形物に重ねてもよい。成形物を、前記第一剥離フィルムと前記第二の剥離フィルムとの間に挟み込んで、工程３に供してもよい。
工程２は、工程１で調製した混合物から成形物を得る工程である。工程２では、工程１で調製した混合物を成形することにより、成形物が得られる。混合物の成形は、特に限定されず、例えば、混合物を支持体の表面に塗布して塗膜を形成することで成形してもよい。支持体として、例えば、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する剥離フィルムを用いてもよい。剥離フィルムの剥離処理面の上に、工程１で調製した混合物を塗布して塗膜を形成することで成形物を得ることができる。また、剥離フィルムを用いる場合、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する第一剥離フィルムを用い、当該剥離処理面の上に、工程１で調製した混合物を塗布して塗膜を形成して成形物を得た後、基材の少なくとも一方の面に剥離処理面を有する第二剥離フィルムの剥離処理面を成形物に重ねてもよい。成形物を、前記第一剥離フィルムと前記第二の剥離フィルムとの間に挟み込んで、工程３に供してもよい。
【0062】
（工程３）
工程３は、工程２で得た成形物から共重合体を含む高分子薄膜を得る工程である。工程３では、工程２で成形した成形物に対し、エネルギー線を照射することにより、共重合体が架橋して、共重合体の架橋物である薄膜が得られる。エネルギー線の種類は特に限定されないが、反応性や作業性の点から紫外線が好ましい。成形物に対して紫外線を照射する装置は、特に限定されず、例えば、紫外線ＬＥＤランプを備えた装置でもよく、高圧水銀ランプを備えた装置でもよく、メタルハライドランプを備えた装置でもよい。
工程３は、工程２で得た成形物から共重合体を含む高分子薄膜を得る工程である。工程３では、工程２で成形した成形物に対し、エネルギー線を照射することにより、共重合体が架橋して、共重合体の架橋物である薄膜が得られる。エネルギー線の種類は特に限定されないが、反応性や作業性の点から紫外線が好ましい。成形物に対して紫外線を照射する装置は、特に限定されず、例えば、紫外線ＬＥＤランプを備えた装置でもよく、高圧水銀ランプを備えた装置でもよく、メタルハライドランプを備えた装置でもよい。
【0063】
成形物に対して紫外線を照射する条件は、特に限定されない。紫外線を照射するときの最大照度及び積算光量は、例えば、以下の条件が挙げられる。最大照度は、５～１０００ｍＷ／ｃｍ２であることが好ましい。積算光量は、５０～５０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【0064】
以上の工程１、工程２、及び工程３を経ることによって、本実施形態に係る高分子薄膜が得られる。工程２で使用された剥離フィルムは、工程３で、紫外線を照射した後、薄膜から剥離フィルムを剥離して、本実施形態に係る高分子薄膜が使用される。
【0065】
［高分子薄膜の使用方法］
本実施形態に係る高分子薄膜は、電解液等への高い膨潤性を有するため、このような特性が求められる用途に適用できる。本実施形態に係る高分子薄膜は、例えば、電池の用途に適用されることが好ましい。この場合、本実施形態に係る高分子薄膜は、例えば、電池用セパレータであることが好ましく、リチウムイオン等の二次電池の電池用セパレータであることも好ましい。
本実施形態に係る高分子薄膜は、電解液等への高い膨潤性を有するため、このような特性が求められる用途に適用できる。本実施形態に係る高分子薄膜は、例えば、電池の用途に適用されることが好ましい。この場合、本実施形態に係る高分子薄膜は、例えば、電池用セパレータであることが好ましく、リチウムイオン等の二次電池の電池用セパレータであることも好ましい。
【0066】
［電池］
次に、本実施形態に係る電池の好ましい一例について説明する。
次に、本実施形態に係る電池の好ましい一例について説明する。
【0067】
本実施形態に係る電池は、本実施形態に係る高分子薄膜が適用された電池である。本実施形態に係る電池は、例えば、電池用セパレータとして、本実施形態に係る高分子薄膜を含む。電池は、正極と、負極と、正極及び負極の間に配置される電解質層とにより構成される。このような構成とすることで、各特性に優れた電池を得ることができる。また、電池としては、二次電池であることが好ましく、リチウムイオン等の二次電池であることがより好ましい。本実施形態に係る電池の構造は、特に限定されず、積層型の構造であっても、巻回型の構造であってもよい。
【0068】
ここで、本実施形態に係る高分子薄膜を用いた電池の一例について、図面を参照して説明する。図面においては、説明を容易にするために拡大又は縮小をして図示した部分がある。
【0069】
図１には、本実施形態に係る高分子薄膜が用いられた例としての電池の一例が示されている。図１に示される電池１００は、リチウムイオン二次電池である。図１に示されるように、電池１００は、正極１０と、負極２０と、正極１０と負極２０との間に、電解質層３０とを備えている。正極１０は、正極集電体１３と、正極集電体１３の上に積層された正極合材層１１とから構成されており、負極２０は、負極集電体２３と、負極集電体２３の上に積層された負極合材層２１とから構成されている。電解質層３０は、電解液３３と、電解液３３が含浸されたセパレータ３１とにより構成されており、セパレータ３１により、正極１０側と負極２０側とを互いに隔てている。電池１００は、正極集電体１３、正極合材層１１、電解質層３０、負極合材層２１、及び負極集電体２３が、正極集電体１３から負極集電体２３に向かって、この順で積層された積層構造を備えており、当該積層構造が図示しない容器の内部に収容されている。電池１００において、セパレータ３１として、本実施形態に係る高分子薄膜が用いられている。
【0070】
本実施形態に係る高分子薄膜を用いた電池によれば、上記構成を有することにより、デンドライトの発生を抑制できる。この理由は定かではないが、次のように考えられる。本実施形態に係る高分子薄膜をセパレータ３１として用いた場合、電池を組み立てるときにおいて、電解液を注入した後には、図２（Ａ）に示すように、セパレータ３１と電解液３３とは分離している。このような状態では、負極合材層２１とセパレータ３１の間に細かい凹凸に起因する隙間が存在することになる。そして、この部分に、デンドライトが析出する。一方で、本実施形態に係る高分子薄膜を用いたセパレータ３１は、電解液３３への高い膨潤性を有するため、電解液を注入後にしばらく時間が経過すると、図２（Ｂ）に示すように、セパレータ３１が膨潤する。そして、このようなセパレータ３１の膨潤により、図２（Ｃ）に示すように、負極合材層２１とセパレータ３１との隙間がなくなる。そのため、本実施形態に係る高分子薄膜をセパレータ３１として用いた場合には、デンドライトの発生を抑制できる。
【0071】
以上、図１及び図２を参照して、本実施形態に係る電池の一例を説明したが、本実施形態に係る電池の例は、これに限定されるものではない。本実施形態に係る電池は、本実施形態に係る高分子薄膜が用いられていれば、種々の形態を採用し得る。
【0072】
正極集電体及び負極集電体に用いられる材質は、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、チタン、及びステンレス鋼等の金属箔又は金属板、並びに、カーボンシート、及びカーボンナノチューブシート等が挙げられる。
【0073】
正極合材層は、例えば、リチウム含有複合酸化物等の正極活物質、炭素系材料等の導電助剤、及び結着剤等により構成される。
【0074】
負極合材層は、例えば、アセチレンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、及びグラフェン等の負極活物質、炭素系材料等の導電助剤、及び結着剤等により構成される。
【0075】
電解質層は、例えば、電解液及びセパレータにより構成される。セパレータは、前述のとおりである。
【0076】
本実施形態に係る電池において、電解液は、リチウム塩と、カーボネート系溶媒とを含むことが好ましい。
【0077】
リチウム塩は、例えば、具体的には、ヘキサフルオロリン酸リチウム、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、リチウム２－トリフルオロメチル－４，５－ジシアノイミダゾレート、リチウム４，５－ジシアノ－１，２，３－トリアゾレート、リチウムビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、ホウフッ化リチウム、リチウムビス（オキサラト）ボレート、硝酸リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、及びフッ化リチウム等が挙げられる。リチウム塩は、これら例示したリチウム塩のうちの１種、又は２種以上を用いることができる。
【0078】
カーボネート系溶媒は、例えば、具体的には、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、メチルプロピルカーボネート、エチルプロピルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、及びブチレンカーボネート等が挙げられる。カーボネート系溶媒は、これら例示したリチウム塩のうちの１種、又は２種以上を用いることができる。ここで、本実施形態におけるカーボネート系溶媒は、分子構造中にカーボネート骨格を有する化合物を表す。
【0079】
なお、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
【実施例0080】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されない。
【0081】
以下の実施例及び比較例における測定又は評価は、以下に示す方法により行った。
【0082】
［重量平均分子量（Ｍｗ）及び、数平均分子量（Ｍｎ）の測定］
ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー株式会社製、製品名「ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ」）を用いて、下記の条件で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
（測定条件）
・カラム：「ＴＳＫｇｅｌ ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨ－Ｈ」「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ」「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ」及び「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００」（いずれも東ソー株式会社製）を順次連結したカラム
・カラム温度：４０℃
・展開溶媒：テトラヒドロフラン（共重合体濃度１質量％）
・標準物質：ポリスチレン
・注入量：２０μＬ
・流量：０．６０ｍＬ／ｍｉｎ
・検出器：示差屈折計
ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー株式会社製、製品名「ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ」）を用いて、下記の条件で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
（測定条件）
・カラム：「ＴＳＫｇｅｌ ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨ－Ｈ」「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ」「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ」及び「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００」（いずれも東ソー株式会社製）を順次連結したカラム
・カラム温度：４０℃
・展開溶媒：テトラヒドロフラン（共重合体濃度１質量％）
・標準物質：ポリスチレン
・注入量：２０μＬ
・流量：０．６０ｍＬ／ｍｉｎ
・検出器：示差屈折計
【0083】
［溶出量測定］
後述の各実施例及び各比較例で得られた薄膜を、約３００ｍｇになるように秤量した。このときの薄膜の質量をＭ０とする。この薄膜をポリエステル製メッシュ（メッシュサイズ２００）に包んだ。ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜の質量を秤量し、薄膜の質量を差し引くことで、ポリエステル製メッシュ単独の質量を算出した。次に、上記ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜を、２３℃で酢酸エチルに４８時間浸漬させた。その後、ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜を、酢酸エチルから取り出して、１２０℃のオーブン中にて２時間乾燥させ、さらに温度２３℃、相対湿度５０％の環境下で２時間風乾させた。当該風乾後の質量を秤量し、上記ポリエステル製メッシュ単独の質量を差し引くことにより、浸漬後の薄膜のみの質量を算出した。このときの質量をＭ１とする。そして、以下の数式（Ｆ１）を用いて溶出量を算出した。
溶出量（％）＝｛（Ｍ０－Ｍ１）／Ｍ０｝×１００ ・・・（Ｆ１）
数式（Ｆ１）中、Ｍ０はポリエステル製メッシュに包む前に秤量した薄膜の質量、Ｍ１は酢酸エチルに浸漬後の薄膜のみの質量を示す。
後述の各実施例及び各比較例で得られた薄膜を、約３００ｍｇになるように秤量した。このときの薄膜の質量をＭ０とする。この薄膜をポリエステル製メッシュ（メッシュサイズ２００）に包んだ。ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜の質量を秤量し、薄膜の質量を差し引くことで、ポリエステル製メッシュ単独の質量を算出した。次に、上記ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜を、２３℃で酢酸エチルに４８時間浸漬させた。その後、ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜を、酢酸エチルから取り出して、１２０℃のオーブン中にて２時間乾燥させ、さらに温度２３℃、相対湿度５０％の環境下で２時間風乾させた。当該風乾後の質量を秤量し、上記ポリエステル製メッシュ単独の質量を差し引くことにより、浸漬後の薄膜のみの質量を算出した。このときの質量をＭ１とする。そして、以下の数式（Ｆ１）を用いて溶出量を算出した。
溶出量（％）＝｛（Ｍ０－Ｍ１）／Ｍ０｝×１００ ・・・（Ｆ１）
数式（Ｆ１）中、Ｍ０はポリエステル製メッシュに包む前に秤量した薄膜の質量、Ｍ１は酢酸エチルに浸漬後の薄膜のみの質量を示す。
【0084】
［膨潤度測定］
後述の各実施例及び各比較例で得られた薄膜を、約３ｃｍ（縦）×約３ｃｍ（横）に裁断し、得られた薄膜片を約１ｇになるように秤量した。このときの質量をＷ０とする。この薄膜片をポリエステル製メッシュ（メッシュサイズ２００）で包み、ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜片の質量を秤量し、薄膜片の質量を差し引くことで、ポリエステル製メッシュ単独の質量を算出した。カーボネート系溶媒［組成：エチレンカーボネート／ジメチルカーボネート＝１／１（体積比）の混合溶媒］に２４時間浸漬し、膨潤させた。その後、上記ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜片を引き上げ、表面の溶媒を紙ワイパーで拭いた後、質量を測定し、上記ポリエステル製メッシュ単独の質量を差し引くことで、膨潤後の薄膜片の質量を算出した。このときの質量をＷ１とする。そして、以下の数式（Ｆ２）を用いて膨潤度を算出した。
膨潤度（％）＝｛（Ｗ１－Ｗ０）／Ｗ０｝×１００ ・・・（Ｆ２）
数式（Ｆ２）中、Ｗ０はポリエステル製メッシュに包む前に秤量した薄膜片の質量、Ｗ１は膨潤後の薄膜片のみの質量を示す。
後述の各実施例及び各比較例で得られた薄膜を、約３ｃｍ（縦）×約３ｃｍ（横）に裁断し、得られた薄膜片を約１ｇになるように秤量した。このときの質量をＷ０とする。この薄膜片をポリエステル製メッシュ（メッシュサイズ２００）で包み、ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜片の質量を秤量し、薄膜片の質量を差し引くことで、ポリエステル製メッシュ単独の質量を算出した。カーボネート系溶媒［組成：エチレンカーボネート／ジメチルカーボネート＝１／１（体積比）の混合溶媒］に２４時間浸漬し、膨潤させた。その後、上記ポリエステル製メッシュに包んだ薄膜片を引き上げ、表面の溶媒を紙ワイパーで拭いた後、質量を測定し、上記ポリエステル製メッシュ単独の質量を差し引くことで、膨潤後の薄膜片の質量を算出した。このときの質量をＷ１とする。そして、以下の数式（Ｆ２）を用いて膨潤度を算出した。
膨潤度（％）＝｛（Ｗ１－Ｗ０）／Ｗ０｝×１００ ・・・（Ｆ２）
数式（Ｆ２）中、Ｗ０はポリエステル製メッシュに包む前に秤量した薄膜片の質量、Ｗ１は膨潤後の薄膜片のみの質量を示す。
【0085】
［イオン伝導度測定］
後述の各実施例及び各比較例で得られたフルセルに対して、電極間に交流（印加電圧は１０ｍＶ）を印加して抵抗成分を測定する交流インピーダンス法を用いて測定を行った。得られたコール・コールプロットの実数インピーダンス切片よりイオン伝導度を算出した。なお、測定にはポテンショスタット／ガルバノスタット（ＶＭＰ－３００、ｂｉｏｌｏｇｉｃ社製）を用いた。
イオン伝導度（σＡ）は、下記数式（Ｆ３）により求めた。
σＡ＝ＬＡ／（ＲＡ×ＳＡ） ・・・（Ｆ３）
数式（Ｆ３）中、σＡはイオン伝導度（単位：Ｓ・ｃｍ－１）、ＲＡは抵抗（単位：Ω）、ＳＡは固体電解質膜の測定時の断面積（単位：ｃｍ２）、ＬＡは電極間距離（単位：ｃｍ）を示す。
なお、実施例（膨潤するセパレータ）の電極間距離は、セパレータが電解液に膨潤した後の値を用いた。
測定温度は、２５℃である。また、複素インピーダンスの測定結果からイオン伝導度（σＡ）を算出した。
後述の各実施例及び各比較例で得られたフルセルに対して、電極間に交流（印加電圧は１０ｍＶ）を印加して抵抗成分を測定する交流インピーダンス法を用いて測定を行った。得られたコール・コールプロットの実数インピーダンス切片よりイオン伝導度を算出した。なお、測定にはポテンショスタット／ガルバノスタット（ＶＭＰ－３００、ｂｉｏｌｏｇｉｃ社製）を用いた。
イオン伝導度（σＡ）は、下記数式（Ｆ３）により求めた。
σＡ＝ＬＡ／（ＲＡ×ＳＡ） ・・・（Ｆ３）
数式（Ｆ３）中、σＡはイオン伝導度（単位：Ｓ・ｃｍ－１）、ＲＡは抵抗（単位：Ω）、ＳＡは固体電解質膜の測定時の断面積（単位：ｃｍ２）、ＬＡは電極間距離（単位：ｃｍ）を示す。
なお、実施例（膨潤するセパレータ）の電極間距離は、セパレータが電解液に膨潤した後の値を用いた。
測定温度は、２５℃である。また、複素インピーダンスの測定結果からイオン伝導度（σＡ）を算出した。
【0086】
［実施例１］
（重合触媒の合成）
（Ｒ，Ｒ）－Ｎ，Ｎ’－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルサリチリデン）－１．２－ジアミノシクロヘキサンコバルト（ＩＩ）と、ペンタフルオロ安息香酸とをモル比で１:１．１になるように秤量し、フラスコに入れ、そこに脱水トルエンを加えた。フラスコをアルミホイルで遮光し、室温で２０時間反応させた。化学反応式は、以下のとおりである。反応終了後、減圧下で溶媒を除去し、過剰量のヘキサンで数回洗浄した。その後、室温で真空乾燥を行い、コバルトサレン錯体を得た。
（重合触媒の合成）
（Ｒ，Ｒ）－Ｎ，Ｎ’－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルサリチリデン）－１．２－ジアミノシクロヘキサンコバルト（ＩＩ）と、ペンタフルオロ安息香酸とをモル比で１:１．１になるように秤量し、フラスコに入れ、そこに脱水トルエンを加えた。フラスコをアルミホイルで遮光し、室温で２０時間反応させた。化学反応式は、以下のとおりである。反応終了後、減圧下で溶媒を除去し、過剰量のヘキサンで数回洗浄した。その後、室温で真空乾燥を行い、コバルトサレン錯体を得た。
【0087】
【化12】
【0088】
（共重合体Ａの合成）
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９６：４になるよう混合した物を用い、重合触媒として合成したコバルトサレン錯体と助触媒としてビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムクロリドを、モル比で、エポキシドモノマー：触媒：助触媒＝２０００：１：１になるよう秤量し、耐圧容器に入れた。さらに、フェノチアジンを２００ｐｐｍ添加した後、モノマー：酢酸エチル＝５０：５０（質量比）になるよう酢酸エチルを加えた。これらの作業はすべて、圧力容器内をアルゴンで置換して行った。続いて、圧力容器内をパージした後、送液ポンプにより二酸化炭素を圧力容器内に導入し、圧力容器内の圧力を２．０ＭＰａにし、２５℃で２０時間、重合反応を行った。
反応終了後、圧力容器の内容物にクロロホルムを加えてクロロホルム溶液を調製し、１Ｍ塩酸を加えた。次に、クロロホルム溶液を撹拌しているメタノール中に滴下し、生成物を沈殿させた。その後、生成物は、デシケーター中でダイアフラムポンプを用いて減圧乾燥を行い、次いで、６０℃で真空乾燥を行って、共重合体Ａを得た。
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９６：４になるよう混合した物を用い、重合触媒として合成したコバルトサレン錯体と助触媒としてビス（トリフェニルホスホラニリデン）アンモニウムクロリドを、モル比で、エポキシドモノマー：触媒：助触媒＝２０００：１：１になるよう秤量し、耐圧容器に入れた。さらに、フェノチアジンを２００ｐｐｍ添加した後、モノマー：酢酸エチル＝５０：５０（質量比）になるよう酢酸エチルを加えた。これらの作業はすべて、圧力容器内をアルゴンで置換して行った。続いて、圧力容器内をパージした後、送液ポンプにより二酸化炭素を圧力容器内に導入し、圧力容器内の圧力を２．０ＭＰａにし、２５℃で２０時間、重合反応を行った。
反応終了後、圧力容器の内容物にクロロホルムを加えてクロロホルム溶液を調製し、１Ｍ塩酸を加えた。次に、クロロホルム溶液を撹拌しているメタノール中に滴下し、生成物を沈殿させた。その後、生成物は、デシケーター中でダイアフラムポンプを用いて減圧乾燥を行い、次いで、６０℃で真空乾燥を行って、共重合体Ａを得た。
【0089】
得られた共重合体Ａの構造を、核磁気共鳴分光法（１Ｈ－ＮＭＲ、Ｂｉｏｓｐｉｎ Ａｖａｎｃｅ ５００、Ｂｒｕｋｅｒ社製）により、溶媒として、（ＣＤＣｌ３、０．０３体積％テトラメチルシラン含有）を用いて確認したところ、共重合体Ａ中における一般式（１）で表される構成単位（以下、構成単位（１）とも称する）と、一般式（２）で表される構成単位（以下、構成単位（２）とも称する）と、一般式（３）で表される構成単位（以下、構成単位（３）とも称する）と、一般式（４）で表される構成単位（以下、構成単位（４）とも称する）とのモル比は、構成単位（１）：構成単位（２）：構成単位（３）：構成単位（４）＝９５．４：４．３：０．３：０であった（図３参照）。
また、得られた共重合体Ａの数平均分子量Ｍｎは３５，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。
また、得られた共重合体Ａの数平均分子量Ｍｎは３５，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。
【0090】
（薄膜の作製）
得られた共重合体Ａに対して、光重合開始剤として１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを共重合体：開始剤＝９７：３質量％となるように添加し、さらに酢酸エチルで希釈した後に撹拌して、固形分濃度３０質量％の薄膜形成用の溶液を調整した。第一の剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８１０３１」）を用意し、この剥離フィルムの剥離処理面に、調整した薄膜形成用の溶液を塗布し、１２０℃で、１分間乾燥させ、厚さ１０μｍの薄膜層を形成した。さらに、第二の剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８２１５０」）を用意し、この剥離フィルムの剥離処理面を薄膜層の表面に貼合した。その後、第一の剥離フィルムと第二の剥離フィルムとの間に挟み込んだ薄膜の積層物を、ステンレス板に載置して、５０℃加温下で紫外線照射［照度：２００ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２、アイグラフィックス株式会社製照度光量計（制御部：ＥＹＥ ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ－Ａ２、受光部：ＥＹＥ ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＰＤ－３６５Ａ２）を用いて測定］を行うことで、厚さ６μｍの薄膜を得た。得られた薄膜は、セパレータである。得られた薄膜を、前述の方法で、溶出量及び膨潤度の測定を行った。
得られた共重合体Ａに対して、光重合開始剤として１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを共重合体：開始剤＝９７：３質量％となるように添加し、さらに酢酸エチルで希釈した後に撹拌して、固形分濃度３０質量％の薄膜形成用の溶液を調整した。第一の剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８１０３１」）を用意し、この剥離フィルムの剥離処理面に、調整した薄膜形成用の溶液を塗布し、１２０℃で、１分間乾燥させ、厚さ１０μｍの薄膜層を形成した。さらに、第二の剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８２１５０」）を用意し、この剥離フィルムの剥離処理面を薄膜層の表面に貼合した。その後、第一の剥離フィルムと第二の剥離フィルムとの間に挟み込んだ薄膜の積層物を、ステンレス板に載置して、５０℃加温下で紫外線照射［照度：２００ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２、アイグラフィックス株式会社製照度光量計（制御部：ＥＹＥ ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ－Ａ２、受光部：ＥＹＥ ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＰＤ－３６５Ａ２）を用いて測定］を行うことで、厚さ６μｍの薄膜を得た。得られた薄膜は、セパレータである。得られた薄膜を、前述の方法で、溶出量及び膨潤度の測定を行った。
【0091】
（正極の作製）
正極活物質（Ｌｉ１＋ｘＮｉ１／２Ｃｏ３／５Ｍｎ２／５Ｏ２）と、導電材（アセチレンブラック：ＡＢ）と、バインダ（ポリフッ化ビニリデン：ＰＶｄＦ）とを、質量比で９６：２：２の割合で混合し、分散媒（Ｎ－メチルピロリドン：ＮＭＰ）に分散させて正極合材用ペーストを調製した。そして、当該正極合材用ペーストを正極集電体（アルミニウム箔、厚さ１５μｍ）に塗布した後に、乾燥、圧延することによってシート状の正極を作製した。
正極活物質（Ｌｉ１＋ｘＮｉ１／２Ｃｏ３／５Ｍｎ２／５Ｏ２）と、導電材（アセチレンブラック：ＡＢ）と、バインダ（ポリフッ化ビニリデン：ＰＶｄＦ）とを、質量比で９６：２：２の割合で混合し、分散媒（Ｎ－メチルピロリドン：ＮＭＰ）に分散させて正極合材用ペーストを調製した。そして、当該正極合材用ペーストを正極集電体（アルミニウム箔、厚さ１５μｍ）に塗布した後に、乾燥、圧延することによってシート状の正極を作製した。
【0092】
（負極の作製）
非晶質カーボンで表面を被覆した粒状の天然黒鉛（非晶質コート球形天然黒鉛）を負極活物質として用い、当該負極活物質と導電助剤（アセチレンブラック：ＡＢ）と増粘剤（カルボキシメチルセルロース：ＣＭＣ）とバインダ（スチレンブタジエンゴム：ＳＢＲ）とを、質量比で９６：２：１：１の割合で混合し、分散媒（水）に分散させて負極合材用ペーストを調製した。そして、当該負極合材用ペーストを負極集電体（銅箔、厚さ１１μｍ）に塗布した後に、乾燥、圧延することによってシート状の負極を作製した。
非晶質カーボンで表面を被覆した粒状の天然黒鉛（非晶質コート球形天然黒鉛）を負極活物質として用い、当該負極活物質と導電助剤（アセチレンブラック：ＡＢ）と増粘剤（カルボキシメチルセルロース：ＣＭＣ）とバインダ（スチレンブタジエンゴム：ＳＢＲ）とを、質量比で９６：２：１：１の割合で混合し、分散媒（水）に分散させて負極合材用ペーストを調製した。そして、当該負極合材用ペーストを負極集電体（銅箔、厚さ１１μｍ）に塗布した後に、乾燥、圧延することによってシート状の負極を作製した。
【0093】
（電解液の調製）
ＥＣ（エチレンカーボネート）とＤＭＣ（ジメチルカーボネート）を体積比で１：１の割合で混合した。ＥＣとＤＭＣの混合溶媒に対し１Ｍになるように、ＬｉＴＦＳＬを混合し、電解液を調製した。
ＥＣ（エチレンカーボネート）とＤＭＣ（ジメチルカーボネート）を体積比で１：１の割合で混合した。ＥＣとＤＭＣの混合溶媒に対し１Ｍになるように、ＬｉＴＦＳＬを混合し、電解液を調製した。
【0094】
（フルセルの作製）
上記で作製した薄膜を直径１９ｍｍに打ち抜くことで、セパレータを作製した。上記で作製した正極と負極でセパレータを挟むことで、フルセルを作製した。作製したセルに、上記で作製した電解液を注入して、３時間静置した後、前述の方法でイオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、１２μｍであった。
上記で作製した薄膜を直径１９ｍｍに打ち抜くことで、セパレータを作製した。上記で作製した正極と負極でセパレータを挟むことで、フルセルを作製した。作製したセルに、上記で作製した電解液を注入して、３時間静置した後、前述の方法でイオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、１２μｍであった。
【0095】
［実施例２］
（共重合体Ｂの重合）
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９８．５：１．５になるよう混合した物を用いた以外は、実施例１と同様にして重合し、共重合体Ｂを得た。
得られた共重合体Ｂの構造を、核磁気共鳴分光法を用いて確認したところ、共重合体Ｂ中におけるモル比は、構成単位（１）：構成単位（２）：構成単位（３）：構成単位（４）＝９７．５：１．６：０．９：０であった（図４参照）。
また、得られた共重合体Ｂの数平均分子量Ｍｎは２３，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。
（共重合体Ｂの重合）
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９８．５：１．５になるよう混合した物を用いた以外は、実施例１と同様にして重合し、共重合体Ｂを得た。
得られた共重合体Ｂの構造を、核磁気共鳴分光法を用いて確認したところ、共重合体Ｂ中におけるモル比は、構成単位（１）：構成単位（２）：構成単位（３）：構成単位（４）＝９７．５：１．６：０．９：０であった（図４参照）。
また、得られた共重合体Ｂの数平均分子量Ｍｎは２３，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。
【0096】
（薄膜の作製）
共重合体Ｂを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で薄膜を作製し、厚さ７μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
共重合体Ｂを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で薄膜を作製し、厚さ７μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
【0097】
（フルセルの作製）
実施例１と同様の方法で、共重合体Ｂにより作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、３時間静置した後、イオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、５２μｍであった。
実施例１と同様の方法で、共重合体Ｂにより作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、３時間静置した後、イオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、５２μｍであった。
【0098】
［比較例１］
（フルセルの作製）
ＳＥＭＣＯＲＰ社製のポリオレフィンセパレータ（厚さ７μｍ）を直径１９ｍｍに打ち抜いた。上記で作製した正極と負極でセパレータを挟むことで、フルセルを作製した。作製したセルに、上記で作製した電解液を注入して、３時間静置した後、前述の方法でイオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、７μｍであった。
（フルセルの作製）
ＳＥＭＣＯＲＰ社製のポリオレフィンセパレータ（厚さ７μｍ）を直径１９ｍｍに打ち抜いた。上記で作製した正極と負極でセパレータを挟むことで、フルセルを作製した。作製したセルに、上記で作製した電解液を注入して、３時間静置した後、前述の方法でイオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、７μｍであった。
【0099】
［比較例２］
（薄膜の作製）
ポリプロピレンカーボネート（商品名「ＱＰＡＣ４０」、ＥＭＰＯＷＥＲ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ社製）をクロロホルムで希釈し、固形分濃度３０質量％の薄膜形成用の溶液を調製した。剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８１０３１」）の剥離処理面に調整した溶液を塗布し、温度９０℃、１分乾燥させ、厚さ１０μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
（薄膜の作製）
ポリプロピレンカーボネート（商品名「ＱＰＡＣ４０」、ＥＭＰＯＷＥＲ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ社製）をクロロホルムで希釈し、固形分濃度３０質量％の薄膜形成用の溶液を調製した。剥離フィルム（リンテック株式会社製、製品名「ＳＰ－ＰＥＴ３８１０３１」）の剥離処理面に調整した溶液を塗布し、温度９０℃、１分乾燥させ、厚さ１０μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
【0100】
（フルセルの作製）
実施例１と同様の方法で、ＱＰＡＣ４０により作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、３時間静置した後、イオン伝導度測定を行ったが、短絡したため測定ができなかった。
また、測定後にセルを解体したところ、薄膜は溶解し、なくなっていた。
実施例１と同様の方法で、ＱＰＡＣ４０により作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、３時間静置した後、イオン伝導度測定を行ったが、短絡したため測定ができなかった。
また、測定後にセルを解体したところ、薄膜は溶解し、なくなっていた。
【0101】
［比較例３］
（共重合体Ｃの重合）
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９０：１０になるよう混合した物を用いた以外は、実施例１と同様にして重合し、共重合体Ｃを得た。
得られた共重合体Ｃの構造を、核磁気共鳴分光法を用いて確認したところ、共重合体Ｂ中におけるモル比は、構成単位（１）：構成単位（２）：構成単位（３）：構成単位（４）＝８３．７：１５．０：１．１：０．２であった。
また、得られた共重合体Ｃの数平均分子量Ｍｎは２０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．２であった。
（共重合体Ｃの重合）
エポキシドモノマーとして、プロピレンオキシドとグリシジルメタクリレートをモル比で９０：１０になるよう混合した物を用いた以外は、実施例１と同様にして重合し、共重合体Ｃを得た。
得られた共重合体Ｃの構造を、核磁気共鳴分光法を用いて確認したところ、共重合体Ｂ中におけるモル比は、構成単位（１）：構成単位（２）：構成単位（３）：構成単位（４）＝８３．７：１５．０：１．１：０．２であった。
また、得られた共重合体Ｃの数平均分子量Ｍｎは２０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．２であった。
【0102】
（薄膜の作製）
共重合体Ｃを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で薄膜を作製し、厚さ１３μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
共重合体Ｃを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で薄膜を作製し、厚さ１３μｍの薄膜を得た。得られた薄膜の溶出量及び膨潤度の測定を行った。
【0103】
（フルセルの作製）
実施例１と同様の方法で、共重合体Ｃにより作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、１８時間静置した後、イオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、１５μｍであった。
実施例１と同様の方法で、共重合体Ｃにより作製した薄膜を用いて、フルセルを作製した。作製したセルに、電解液を注入して、１８時間静置した後、イオン伝導度測定を行った。
また、測定後にセルを解体して、セパレータの厚さを測定したところ、１５μｍであった。
【0104】
【表1】
【0105】
【表2】
【0106】
表２に示す結果から、実施例１～２で得られた高分子薄膜は、電解液への高い膨潤性を有することが分かった。
【符号の説明】
【0107】
１０…正極、１１…正極合材層、１３…正極集電体、２０…負極、２１…負極合材層、２３…負極集電体、３０…電解質層、３１…セパレータ、３３…電解液、１００…電池。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
