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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024148026
(43)【公開日】2024-10-17
(54)【発明の名称】ビームスプリッタ、及び、ビームスプリッタ製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/04 20060101AFI20241009BHJP
G02B 5/08 20060101ALI20241009BHJP
G02B 1/11 20150101ALI20241009BHJP
【ＦＩ】
G02B5/04 B
G02B5/08 D
G02B1/11
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023060902
(22)【出願日】2023-04-04
(71)【出願人】
【識別番号】000236436
【氏名又は名称】浜松ホトニクス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100088155
【弁理士】
【氏名又は名称】長谷川 芳樹
(74)【代理人】
【識別番号】100113435
【弁理士】
【氏名又は名称】黒木 義樹
(74)【代理人】
【識別番号】100140442
【弁理士】
【氏名又は名称】柴山 健一
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 智史
(72)【発明者】
【氏名】杉本 達哉
(72)【発明者】
【氏名】大崎 拓真
(72)【発明者】
【氏名】瀬古 貴文
【テーマコード（参考）】
2H042
2K009
【Ｆターム（参考）】
2H042CA06
2H042CA14
2H042CA16
2H042DA02
2H042DA04
2H042DA08
2H042DA16
2H042DA19
2K009AA02
(57)【要約】
【課題】光学特性の劣化を抑制可能なビームスプリッタ、及びビームスプリッタ製造方法を提供する。
【解決手段】ビームスプリッタ３は、第１面３４ａを有する光学ブロック３４と、第２面３５ａを有する光学ブロック３５と、光学分岐膜５０と、光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着するための接着部材４０と、を備える。光学ブロック３４と光学ブロック３５とは、第１面３４ａと第２面３５ａとが光学分岐膜５０を挟んで対向するように配置されている。光学分岐膜５０は、第１層５１と第１層５１上に積層された第２層５２と、を有する。第２層５２は、第１層５１の上面を覆うように延在する第１部分５２ａと、第１部分５２ａの端部から第１層５１の側面を覆うように延在する第２部分５２ｂと、第２部分５２ｂの端部に接続されて第１層５１と反対側に向けて延在する第３部分５２ｃと、を含む。
【選択図】図４
【解決手段】ビームスプリッタ３は、第１面３４ａを有する光学ブロック３４と、第２面３５ａを有する光学ブロック３５と、光学分岐膜５０と、光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着するための接着部材４０と、を備える。光学ブロック３４と光学ブロック３５とは、第１面３４ａと第２面３５ａとが光学分岐膜５０を挟んで対向するように配置されている。光学分岐膜５０は、第１層５１と第１層５１上に積層された第２層５２と、を有する。第２層５２は、第１層５１の上面を覆うように延在する第１部分５２ａと、第１部分５２ａの端部から第１層５１の側面を覆うように延在する第２部分５２ｂと、第２部分５２ｂの端部に接続されて第１層５１と反対側に向けて延在する第３部分５２ｃと、を含む。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
入射光を異なる複数の成分に分岐して出射するためのビームスプリッタであって、
第１面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第１光透過部材と、
第２面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第２光透過部材と、
前記入射光を前記複数の成分に分岐する機能を有する光学分岐膜と、
前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とを接着するための接着部材と、
を備え、
前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とは、前記第１面と前記第２面とが前記光学分岐膜を挟んで対向するように配置されており、
前記光学分岐膜は、
前記第１面上に形成された第１層と、
前記第１面に交差する第１方向に沿って、前記第１面及び前記第１層上に積層された第２層と、
を有し、
前記第２層は、
前記第１層の前記第１面と反対側の上面を覆うように延在する第１部分と、
前記第１方向に交差する第２方向における前記第１部分の端部に接続され、当該第１部分の端部から前記第１層の側面を覆うように前記第１方向に沿って延在する第２部分と、
前記第２部分における前記第１部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第３部分と、
を含み、
前記接着部材は、
前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第１部分に対向する領域に配置された第１接着部と、
前記第１接着部と一体に形成され、前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第２部分と前記第３部分とに対向する領域に配置された第２接着部と、
を有する、
ビームスプリッタ。
第１面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第１光透過部材と、
第２面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第２光透過部材と、
前記入射光を前記複数の成分に分岐する機能を有する光学分岐膜と、
前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とを接着するための接着部材と、
を備え、
前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とは、前記第１面と前記第２面とが前記光学分岐膜を挟んで対向するように配置されており、
前記光学分岐膜は、
前記第１面上に形成された第１層と、
前記第１面に交差する第１方向に沿って、前記第１面及び前記第１層上に積層された第２層と、
を有し、
前記第２層は、
前記第１層の前記第１面と反対側の上面を覆うように延在する第１部分と、
前記第１方向に交差する第２方向における前記第１部分の端部に接続され、当該第１部分の端部から前記第１層の側面を覆うように前記第１方向に沿って延在する第２部分と、
前記第２部分における前記第１部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第３部分と、
を含み、
前記接着部材は、
前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第１部分に対向する領域に配置された第１接着部と、
前記第１接着部と一体に形成され、前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第２部分と前記第３部分とに対向する領域に配置された第２接着部と、
を有する、
ビームスプリッタ。
【請求項2】
前記光学分岐膜は、前記第１方向に沿って、前記第１面、前記第１層、及び前記第２層上に積層された第３層を有し、
前記第３層は、
前記第２層の前記第１部分を覆うように延在する第４部分と、
前記第２方向における前記第４部分の端部に接続され、当該第４部分の端部から前記第２層の前記第２部分を覆うように前記第１方向に沿って延在する第５部分と、
前記第５部分における前記第４部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第６部分と、
を含み、
前記第６部分は、前記第３部分に対向するように配置されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第３層は、
前記第２層の前記第１部分を覆うように延在する第４部分と、
前記第２方向における前記第４部分の端部に接続され、当該第４部分の端部から前記第２層の前記第２部分を覆うように前記第１方向に沿って延在する第５部分と、
前記第５部分における前記第４部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第６部分と、
を含み、
前記第６部分は、前記第３部分に対向するように配置されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項3】
前記第３層は、酸化層であり、
前記第３層は、前記光学分岐膜の前記第１面と反対側に臨む表面を形成し、前記接着部材に接触している、
請求項２に記載のビームスプリッタ。
前記第３層は、前記光学分岐膜の前記第１面と反対側に臨む表面を形成し、前記接着部材に接触している、
請求項２に記載のビームスプリッタ。
【請求項4】
前記光学分岐膜は、
前記第１方向に沿って前記第１層を挟むように配置された一対の第４層と、
前記第１方向に沿って前記第１層及び前記一対の第４層を挟むように配置された一対の第５層と、
を含み、
前記第２層の前記第１部分は、前記第５層上に形成されて前記第５層に接している、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第１方向に沿って前記第１層を挟むように配置された一対の第４層と、
前記第１方向に沿って前記第１層及び前記一対の第４層を挟むように配置された一対の第５層と、
を含み、
前記第２層の前記第１部分は、前記第５層上に形成されて前記第５層に接している、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項5】
前記第４層は、第１材料から構成されており、
前記第５層は、前記第１材料を酸化処理した材料から構成される酸化層である、
請求項４に記載のビームスプリッタ。
前記第５層は、前記第１材料を酸化処理した材料から構成される酸化層である、
請求項４に記載のビームスプリッタ。
【請求項6】
前記第４層は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＮ、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成され、
前記第５層は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、及び、Ｔａ２Ｏ５のうちの１つから構成されている、
請求項４に記載のビームスプリッタ。
前記第５層は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、及び、Ｔａ２Ｏ５のうちの１つから構成されている、
請求項４に記載のビームスプリッタ。
【請求項7】
前記第４層は、前記第２層と同一の材料から構成されている、
請求項４に記載のビームスプリッタ。
請求項４に記載のビームスプリッタ。
【請求項8】
前記第１方向からみたときの前記第１層の外縁は、短辺と前記短辺に交差する方向に延びる長辺とを含み、
前記第１方向からみて、前記短辺と前記第１面の外縁との距離は、前記長辺と前記第１面の外縁との距離よりも大きい、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第１方向からみて、前記短辺と前記第１面の外縁との距離は、前記長辺と前記第１面の外縁との距離よりも大きい、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項9】
前記第１面の外縁は、当該ビームスプリッタを外部部材に搭載したときに当該外部部材側に臨む第１辺を含み、
前記第１層は、前記第１方向からみて当該第１層の外縁の一部が前記第１辺に重なるように延在している、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第１層は、前記第１方向からみて当該第１層の外縁の一部が前記第１辺に重なるように延在している、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項10】
前記第１方向からみたときの前記第１層の角部は、円弧状に形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項11】
前記入射光の入射面と、
前記第１面、前記光学分岐膜、及び前記第２面を介して前記入射面の反対側に位置する第３面と、
を備え、
前記第３面には、前記光学分岐膜を透過した光を反射する反射膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第１面、前記光学分岐膜、及び前記第２面を介して前記入射面の反対側に位置する第３面と、
を備え、
前記第３面には、前記光学分岐膜を透過した光を反射する反射膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項12】
前記光学分岐膜で反射された光を外部に出射する出射面を備え、
前記出射面には、反射防止膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記出射面には、反射防止膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項13】
前記入射光の入射面を備え、
前記入射面には、反射防止膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記入射面には、反射防止膜が形成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項14】
前記第１層は、金属材料から構成されており、
前記第２層は、半導体材料又は誘電体材料から構成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第２層は、半導体材料又は誘電体材料から構成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項15】
前記第１層は、Ａｇ又はＡｌから構成されており、
前記第２層は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
前記第２層は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成されている、
請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項16】
請求項１に記載のビームスプリッタを製造するためのビームスプリッタ製造方法であって、
前記第１光透過部材となる部分を複数含む第１部材と、前記第２光透過部材となる部分を複数含む第２部材と、を用意する第１工程と、
前記第１工程の後に、前記第１部材に含まれる複数の前記第１光透過部材となる前記部分のそれぞれの前記第１面に前記光学分岐膜を形成する第２工程と、
前記第２工程の後に、前記光学分岐膜を介して前記接着部材により前記第１部材と前記第２部材とを接着することにより、連続する複数の前記ビームスプリッタを含む構造体を形成する第３工程と、
前記第３工程の後に、前記構造体を個片化することにより、前記構造体から複数の前記ビームスプリッタを得る第４工程と、
を備える、
ビームスプリッタ製造方法。
前記第１光透過部材となる部分を複数含む第１部材と、前記第２光透過部材となる部分を複数含む第２部材と、を用意する第１工程と、
前記第１工程の後に、前記第１部材に含まれる複数の前記第１光透過部材となる前記部分のそれぞれの前記第１面に前記光学分岐膜を形成する第２工程と、
前記第２工程の後に、前記光学分岐膜を介して前記接着部材により前記第１部材と前記第２部材とを接着することにより、連続する複数の前記ビームスプリッタを含む構造体を形成する第３工程と、
前記第３工程の後に、前記構造体を個片化することにより、前記構造体から複数の前記ビームスプリッタを得る第４工程と、
を備える、
ビームスプリッタ製造方法。
【請求項17】
前記第３工程と前記第４工程との間において、前記構造体の表面を研磨する第５工程を備え、
前記ビームスプリッタは、当該ビームスプリッタを外部部材に搭載するときに前記外部部材に接触する接触面を含み、
前記第５工程では、少なくとも、前記構造体における複数の前記接触面を含む表面を研磨する、
請求項１６に記載のビームスプリッタ製造方法。
前記ビームスプリッタは、当該ビームスプリッタを外部部材に搭載するときに前記外部部材に接触する接触面を含み、
前記第５工程では、少なくとも、前記構造体における複数の前記接触面を含む表面を研磨する、
請求項１６に記載のビームスプリッタ製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ビームスプリッタ、及び、ビームスプリッタ製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、キューブ型の非偏光ビームスプリッタが記載されている。この非偏光ビームスプリッタでは、入射媒質としての直角二等辺三角形プリズムの斜面に誘電体層と金属層とが順にコートされている。また、当該直角二等辺三角形プリズムの斜面には、これらの２層膜を挟んで、別の直角二等辺三角形プリズムが貼り合わせられている。誘電体層及び金属層の材料としては、それぞれ、ＴｉＯ２及びＡｇが例示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開平０１－０９２７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献１の非偏光ビームスプリッタでは、誘電体層及び金属層のいずれも、プリズムの斜面の外縁に至るように設けられ、それらの端部がビームスプリッタの外表面に露出している。このため、金属層が大気との接触によって腐食しやく、ビームスプリッタの光学特性が劣化するおそれがある。
【0005】
本開示は、光学特性の劣化を抑制可能なビームスプリッタ、及びビームスプリッタ製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係るビームスプリッタは、［１］「入射光を異なる複数の成分に分岐して出射するためのビームスプリッタであって、第１面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第１光透過部材と、第２面を有し、前記入射光に対して透過性を有する第２光透過部材と、前記入射光を前記複数の成分に分岐する機能を有する光学分岐膜と、前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とを接着するための接着部材と、を備え、前記第１光透過部材と前記第２光透過部材とは、前記第１面と前記第２面とが前記光学分岐膜を挟んで対向するように配置されており、前記光学分岐膜は、前記第１面上に形成された第１層と、前記第１面に交差する第１方向に沿って、前記第１面及び前記第１層上に積層された第２層と、を有し、前記第２層は、前記第１層の前記第１面と反対側の上面を覆うように延在する第１部分と、前記第１方向に交差する第２方向における前記第１部分の端部に接続され、当該第１部分の端部から前記第１層の側面を覆うように前記第１方向に沿って延在する第２部分と、前記第２部分における前記第１部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第３部分と、を含み、前記接着部材は、前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第１部分に対向する領域に配置された第１接着部と、前記第１接着部と一体に形成され、前記第１面と前記第２面とに挟まれる領域のうちの前記第２層の前記第２部分と前記第３部分とに対向する領域に配置された第２接着部と、を有する、ビームスプリッタ」である。
【0007】
このビームスプリッタでは、第１光透過部材と第２光透過部材とが、光学分岐膜を介在させた状態で接着部材により互いに接着されている。光学分岐膜は、第１光透過部材における第２光透過部材に対向する第１面上に形成された第１層と、当該第１面及び第１層上に積層された第２層と、を含む。そして、第２層は、第１層の上面を覆うように延在する第１部分と、第１部分から第１層の側面を覆うように延在する第２部分と、第２部分から第１層と反対側に向けて延在する第３部分とを含む。このように、第１層の側面は、少なくとも第２部分が存在する領域において第２層に覆われる。この結果、第１層の側面が外部に露出することが避けられ、第１層の腐食といった劣化が抑制される。また、第１層の上面についても、第２層の第１部分に覆われている。このため、第１光透過部材と第２光透過部材とを接着するまでの間（製造時）にも、第１層の腐食といった劣化が抑制される。よって、このビームスプリッタによれば、光学特性の劣化が抑制される。
【0008】
なお、このビームスプリッタでは、第１層の劣化の抑制に寄与する第２層が、光学分岐膜を構成する層である。よって、光学分岐膜とは別に保護膜を形成する場合と比較して、製造工程の簡略化、及び低コスト化等を図ることができる。さらに、このビームスプリッタでは、接着部材が、第１面と第２面とに挟まれる領域のうちの第２層の第１部分に対向する領域に配置された第１接着部と、第１面と第２面とに挟まれる領域のうちの第２層の第２部分と第３部分とに対向する領域に配置された第２接着部とを含む。このため、第１光透過部材と第２光透過部材との接着が強固となる。
【0009】
本開示に係るビームスプリッタは、［２］「前記光学分岐膜は、前記第１方向に沿って、前記第１面、前記第１層、及び前記第２層上に積層された第３層を有し、前記第３層は、前記第２層の前記第１部分を覆うように延在する第４部分と、前記第２方向における前記第４部分の端部に接続され、当該第４部分の端部から前記第２層の前記第２部分を覆うように前記第１方向に沿って延在する第５部分と、前記第５部分における前記第４部分との接続部分と反対側の端部に接続され、前記第２方向について前記第１層と反対側に向けて延在する第６部分と、を含み、前記第６部分は、前記第３部分に対向するように配置されている、上記［１］に記載のビームスプリッタであってもよい。この場合、第１層の側面は、少なくとも第２部分が存在する領域において、さらに第３層に覆われることとなる。また、第１層の上面についても、第３層によってさらに覆われる。この結果、第１層の腐食といった劣化が確実に抑制され、光学特性の劣化が確実に抑制される。
【0010】
本開示に係るビームスプリッタは、［３］「前記第３層は、酸化層であり、前記第３層は、前記光学分岐膜の前記第１面と反対側に臨む表面を形成し、前記接着部材に接触している、上記［２］に記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、第１光透過部材と第２光透過部材とを接着するまでの間（製造時）に、第２層の酸化が抑制される。
【0011】
本開示に係るビームスプリッタは、［４］「前記光学分岐膜は、前記第１方向に沿って前記第１層を挟むように配置された一対の第４層と、前記第１方向に沿って前記第１層及び前記一対の第４層を挟むように配置された一対の第５層と、を含み、前記第２層の前記第１部分は、前記第５層上に形成されて前記第５層に接している、上記［１］～［３］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。光学分岐膜は、このような多層構造により構成されてもよい。
【0012】
本開示に係るビームスプリッタは、［５］「前記第４層は、第１材料から構成されており、前記第５層は、前記第１材料を酸化処理した材料から構成される酸化層である、上記［４］に記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、第１層が酸化することによる吸収係数の増大（反射率、透過率の低下）を抑制することができる。また、第２層を形成するまでの間（製造時）、第４層の酸化を抑制することができる。
【0013】
本開示に係るビームスプリッタは、［６］「前記第４層は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＮ、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成され、前記第５層は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、及び、Ｔａ２Ｏ５のうちの１つから構成されている、上記［４］又は［５］に記載のビームスプリッタ」であってもよい。これらの材料から第４層及び第５層の材料を選択してもよい。
【0014】
本開示に係るビームスプリッタは、［７］「前記第４層は、前記第２層と同一の材料から構成されている、上記［４］～［６］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、光学分岐膜を製造するに際して成膜源の数を削減することができ、光学分岐膜の製造が容易となる。
【0015】
本開示に係るビームスプリッタは、［８］「前記第１方向からみたときの前記第１層の外縁は、短辺と前記短辺に交差する方向に延びる長辺とを含み、前記第１方向からみて、前記短辺と前記第１面の外縁との距離は、前記長辺と前記第１面の外縁との距離よりも大きい、上記［１］～［７］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、第１光透過部材と第２光透過部材とを接着する際に（製造時に）、第１層の短辺に交差する方向に位置ずれが生じても、第１層が第２面の外縁に達して露出すること抑制される。
【0016】
本開示に係るビームスプリッタは、［９］「前記第１面の外縁は、当該ビームスプリッタを外部部材に搭載したときに当該外部部材側に臨む第１辺を含み、前記第１層は、前記第１方向からみて当該第１層の外縁の一部が前記第１辺に重なるように延在している、上記［１］～［８］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、第１層がより広く形成され、より広い有効エリアの形成を図ることが可能となる。一方で、第１層の外縁の一部が、第１面の外縁の第１辺に至ることとなるが、当該第１辺は、ビームスプリッタを外部部材に搭載する際に外部部材に臨む辺である。したがって、第１層の外縁の一部が外部に露出することが避けられる。
【0017】
本開示に係るビームスプリッタは、［１０］「前記第１方向からみたときの前記第１層の角部は、円弧状に形成されている、上記［１］～［９］のいずれかに記載のビームスプリッタ。」であってもよい。この場合、第１光透過部材や第２光透過部材の角部に欠けが生じても、第１層が露出しにくくなる。
【0018】
本開示に係るビームスプリッタは、［１１］「前記入射光の入射面と、前記第１面、前記光学分岐膜、及び前記第２面を介して前記入射面の反対側に位置する第３面と、を備え、前記第３面には、前記光学分岐膜を透過した光を反射する反射膜が形成されている、上記［１］～［１０］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、光学分岐膜を透過した光を所定の方向に反射することが可能となる。
【0019】
本開示に係るビームスプリッタは、［１２］「前記光学分岐膜で反射された光を外部に出射する出射面を備え、前記出射面には、反射防止膜が形成されている、上記［１］～［１１］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、光学分岐膜で反射された光を出射させる際に、出射面での反射が抑制される。
【0020】
本開示に係るビームスプリッタは、［１３］「前記入射光の入射面を備え、前記入射面には、反射防止膜が形成されている、上記［１］～［１２］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、入射光の入射面での反射が抑制される。
【0021】
本開示に係るビームスプリッタは、［１４］「前記第１層は、金属材料から構成されており、前記第２層は、半導体材料又は誘電体材料から構成されている、上記［１］～［１３］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、金属材料から構成される第１層の腐食といった劣化が抑制される。
【0022】
本開示に係るビームスプリッタは、［１５］「前記第１層は、Ａｇ又はＡｌから構成されており、前記第２層は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成されている、上記［１］～［１４］のいずれかに記載のビームスプリッタ」であってもよい。この場合、Ａｇ又はＡｌから構成される第１層の腐食といった劣化が抑制される。
【0023】
本開示に係るビームスプリッタ製造方法は、［１６］「上記［１］～［１５］のいずれかに記載のビームスプリッタを製造するためのビームスプリッタ製造方法であって、前記第１光透過部材となる部分を複数含む第１部材と、前記第２光透過部材となる部分を複数含む第２部材と、を用意する第１工程と、前記第１工程の後に、前記第１部材に含まれる複数の前記第１光透過部材となる前記部分のそれぞれの前記第１面に前記光学分岐膜を形成する第２工程と、前記第２工程の後に、前記光学分岐膜を介して前記接着部材により前記第１部材と前記第２部材とを接着することにより、連続する複数の前記ビームスプリッタを含む構造体を形成する第３工程と、前記第３工程の後に、前記構造体を個片化することにより、前記構造体から複数の前記ビームスプリッタを得る第４工程と、を備える、ビームスプリッタ製造方法」である。
【0024】
この方法によれば、光学特性の劣化を抑制可能なビームスプリッタを効率よく製造することが可能となる。
【0025】
本開示に係るビームスプリッタ製造方法は、［１７］「前記第３工程と前記第４工程との間において、前記構造体の表面を研磨する第５工程を備え、前記ビームスプリッタは、当該ビームスプリッタを外部部材に搭載するときに前記外部部材に接触する接触面を含み、前記第５工程では、少なくとも、前記構造体における複数の前記接触面を含む表面を研磨する、上記［１６］に記載のビームスプリッタ製造方法」であってもよい。この場合、ビームスプリッタにおける外部部材との接触面が平坦化されることで、ビームスプリッタを外部部材に搭載しやすくなる。また、当該接触面がビームスプリッタにおける光の出射面とする場合、当該出射面である接触面の研磨により、入射面から出射面に至る光路長のばらつきを低減することができる。
【発明の効果】
【0026】
本開示によれば、光学特性の劣化を抑制可能なビームスプリッタ、及びビームスプリッタ製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0027】
【発明を実施するための形態】
【0028】
以下、一実施形態について、図面を参照して説明を行う。なお、各図面の説明においては、同一又は相当する要素に同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。また、各図には、Ｘ方向、Ｘ方向に交差するＹ方向、及び、Ｘ方向及びＹ方向に交差するＺ方向を規定する直交座標系を示す場合がある。或いは、各図には、第１方向Ｄ１、第１方向Ｄ１に交差する第２方向Ｄ２、及び、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に交差する第３方向Ｄ３を規定する別の直交座標系を示す場合がある。
【0029】
図１は、一実施形態に係る光モジュールを示す断面図である。図１に示されるように、光モジュール１は、ミラーユニット２と、ビームスプリッタ３と、光入射部４と、第１光検出器６と、第２光源７と、第２光検出器８と、支持体９と、第１支持構造１１と、第２支持構造１２と、を備えている。ミラーユニット２は、Ｚ方向における支持体９の一方の側に配置されており、例えば接着剤によって、支持体９に取り付けられている。支持体９は、例えば銅タングステンによって形成されており、例えば矩形板状を呈している。ミラーユニット２は、Ｚ方向に沿って移動する可動ミラー２２と、位置が固定された固定ミラー１６と、を含んでいる。なお、Ｚ方向は、例えば鉛直方向であり、Ｚ方向における一方の側は、例えば上側である。
【0030】
ビームスプリッタ３は、Ｚ方向におけるミラーユニット２の一方の側に配置されており、第１支持構造１１によって支持されている。第１支持構造１１は、例えば接着剤によって、支持体９に取り付けられている。光入射部４は、Ｘ方向におけるビームスプリッタ３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第１光検出器６、第２光源７、及び第２光検出器８は、Ｚ方向におけるビームスプリッタ３の一方の側に配置されており、第２支持構造１２によって支持されている。第２支持構造１２は、例えばボルトによって、支持体９に取り付けられている。
【0031】
光モジュール１では、ビームスプリッタ３、可動ミラー２２、及び固定ミラー１６によって、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０のそれぞれについて干渉光学系が構成される。測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０のそれぞれについて構成される干渉光学系は、例えばマイケルソン干渉光学系である。
【0032】
測定光Ｌ０については、次のように、測定光の干渉光Ｌ１が検出される。すなわち、第１光源（図示省略）から測定対象（図示省略）を介して入射した測定光Ｌ０又は測定対象から発せられた測定光Ｌ０（例えば、測定対象自体の発光等）が、光入射部４からビームスプリッタ３に入射すると、当該測定光Ｌ０は、ビームスプリッタ３において一部及び残部に分割される。そして、測定光Ｌ０の一部は、Ｚ方向に沿って往復移動する可動ミラー２２で反射されてビームスプリッタ３に戻る。一方、測定光Ｌ０の残部は、固定ミラー１６で反射されてビームスプリッタ３に戻る。ビームスプリッタ３に戻った測定光Ｌ０の一部及び残部は、干渉光Ｌ１としてビームスプリッタ３から出射され、当該測定光の干渉光Ｌ１が第１光検出器６によって検出される。
【0033】
レーザ光Ｌ１０については、次のように、レーザ光の干渉光Ｌ１１が検出される。すなわち、第２光源７から出射されたレーザ光Ｌ１０がビームスプリッタ３に入射すると、当該レーザ光Ｌ１０は、ビームスプリッタ３において一部及び残部に分割される。そして、レーザ光Ｌ１０の一部は、Ｚ方向に沿って往復移動する可動ミラー２２で反射されてビームスプリッタ３に戻る。一方、レーザ光Ｌ１０の残部は、固定ミラー１６で反射されてビームスプリッタ３に戻る。ビームスプリッタ３に戻ったレーザ光Ｌ１０の一部及び残部は、干渉光Ｌ１１としてビームスプリッタ３から出射され、当該レーザ光の干渉光Ｌ１１が第２光検出器８によって検出される。
【0034】
光モジュール１によれば、レーザ光の干渉光Ｌ１１の検出結果に基づいて、Ｚ方向における可動ミラー２２の位置の計測が可能となり、その位置の計測結果、及び測定光の干渉光Ｌ１の検出結果に基づいて、測定対象についての分光分析が可能となる。
【0035】
図２は、図１に示されたミラーユニット及びビームスプリッタを示す断面図である。図１，２に示されるように、ビームスプリッタ３は、例えば屈折率整合剤を兼ねた光学接着剤によって、第１支持構造１１の光透過部材１１２におけるミラーデバイス２０とは反対側の表面１１２ａに取り付けられている。
【0036】
ミラーデバイス２０は、ミラーユニット２の一部である。すなわち、ミラーユニット２は、光学機能部材１３と、固定ミラー１６と、ミラーデバイス２０と、を有している。ミラーデバイス２０は、ベース２１と、可動ミラー２２と、駆動部２３と、を含んでいる。ベース２１は、第１表面２１ａ（Ｚ方向における一方の側の表面）、及び第１表面２１ａとは反対側の第２表面２１ｂを有している。第１表面２１ａ及び第２表面２１ｂの各々は、ベース２１の主面である。ベース２１は、例えば矩形板状を呈している。可動ミラー２２は、ミラー面２２ａと、ミラー面２２ａが配置された可動部２２ｂと、を有している。可動ミラー２２は、第１表面２１ａに垂直なＺ方向に沿って移動可能となるようにベース２１において支持されている。駆動部２３は、Ｚ方向に沿って可動ミラー２２を移動させる。
【0037】
ミラーデバイス２０には、一対の光通過部２４，２５が設けられている。一対の光通過部２４，２５は、Ｘ方向における可動ミラー２２の両側に配置されている。光通過部２４は、ビームスプリッタ３と固定ミラー１６との間の光路の第１部分を構成している。
【0038】
ベース２１、可動ミラー２２の可動部２２ｂ、及び駆動部２３は、例えばＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板によって構成されている。つまり、ミラーデバイス２０は、ＳＯＩ基板によって構成されている。ミラーデバイス２０は、例えば、矩形板状に形成されている。ＳＯＩ基板は、支持層１０１、デバイス層１０２及び中間層１０３を有している。支持層１０１は、第１シリコン層である。デバイス層１０２は、第２シリコン層である。中間層１０３は、支持層１０１とデバイス層１０２との間に配置された絶縁層である。ＳＯＩ基板は、支持層１０１、中間層１０３及びデバイス層１０２を、Ｚ方向における一方の側からこの順に有している。
【0039】
ベース２１は、支持層１０１、デバイス層１０２及び中間層１０３の一部によって構成されている。ベース２１の第１表面２１ａは、支持層１０１における中間層１０３とは反対側の表面である。ベース２１の第２表面２１ｂは、デバイス層１０２における中間層１０３とは反対側の表面である。ベース２１を構成する支持層１０１は、ベース２１を構成するデバイス層１０２よりも厚い。ベース２１を構成する支持層１０１の厚さは、例えば、ベース２１を構成するデバイス層１０２の厚さの４倍程度である。ミラーユニット２では、後述するように、ベース２１の第２表面２１ｂと光学機能部材１３の第３表面１３ａとが互いに接合されている。
【0040】
ミラーデバイス２０では、リードピン及びワイヤ（図示省略）を介して、Ｚ方向に沿って可動ミラー２２を移動させるための電気信号が駆動部２３に入力される。これにより、Ｚ方向に沿って可動ミラー２２をその共振周波数レベルで往復動させることができる。このように、駆動部２３は、静電アクチュエータとして機能する。
【0041】
光学機能部材１３は、ベース２１の第２表面２１ｂと対向する第３表面１３ａ（Ｚ方向における一方の側の表面）、及び第３表面１３ａとは反対側の第４表面１３ｂを有している。光学機能部材１３は、測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０に対して透過性を有する材料によって一体的に形成されている。光学機能部材１３は、例えばガラスによって矩形板状に形成されており、例えば１５ｍｍ×２０ｍｍ×４ｍｍ（厚さ）程度のサイズを有している。なお、光学機能部材１３の材料は、例えば、光モジュール１の感度波長が近赤外領域である場合にはガラス、光モジュール１の感度波長が中赤外領域である場合にはシリコンというように、光モジュール１の感度波長によって選択される。
【0042】
光学機能部材１３には、光透過部１４が設けられている。光透過部１４は、光学機能部材１３のうち、Ｚ方向においてミラーデバイス２０の光通過部２４と対向する部分である。光透過部１４におけるミラーデバイス２０側の表面は、第３表面１３ａと同一平面上に位置している。光透過部１４は、ビームスプリッタ３と固定ミラー１６との間の光路の第２部分（一部分）を構成している。光透過部１４は、ビームスプリッタ３と可動ミラー２２との間の光路と、ビームスプリッタ３と固定ミラー１６との間の光路と、の間に生じる光路差を補正する部分である。
【0043】
光学機能部材１３は、ミラーデバイス２０の可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する第５表面１３ｄを有している。第５表面１３ｄは、第３表面１３ａよりも第４表面１３ｂ側に位置している。このため、第５表面１３ｄは、可動ミラー２２及び駆動部２３と対向する領域においてミラーデバイス２０から離れることになる。また、光透過部１４の表面は、ミラーデバイス２０の光通過部２４と対向している。これにより、ミラーユニット２では、可動ミラー２２がＺ方向に沿って往復移動した際に、可動ミラー２２及び駆動部２３が光学機能部材１３に接触することが防止されている。
【0044】
固定ミラー１６は、光学機能部材１３に対してミラーデバイス２０とは反対側に配置されており、ミラーデバイス２０のベース２１に対する位置が固定されている。固定ミラー１６は、例えば蒸着によって、光学機能部材１３の第４表面１３ｂに形成されている。固定ミラー１６は、Ｚ方向に垂直なミラー面１６ａを有している。本実施形態では、可動ミラー２２のミラー面２２ａ及び固定ミラー１６のミラー面１６ａが、Ｚ方向における一方の側（ビームスプリッタ３側）に向いている。なお、固定ミラー１６は、光学機能部材１３の各光透過部１４を透過する光を反射するように、光学機能部材１３の第４表面１３ｂに連続的に形成されている。
【0045】
ビームスプリッタ３は、例えば屈折率整合剤を兼ねた光学接着剤によって、光透過部材１１２におけるミラーデバイス２０とは反対側の表面１１２ａに取り付けられている。ビームスプリッタ３は、第１ミラー面３１、第２ミラー面３２及び複数の光学面３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを有している。ビームスプリッタ３は、複数の光学ブロック３４，３５が接合されることで構成されている。各光学ブロック３４，３５は、光学機能部材１３と屈折率が同一又は類似の材料によって形成されている。
【0046】
第１ミラー面３１は、Ｚ方向に対して傾斜したミラー面（例えば、ハーフミラー面）であり、光学ブロック３４と光学ブロック３５との間に形成されている。本実施形態では、第１ミラー面３１は、Ｙ方向に平行な面であり、且つＺ方向と４５°の角度を成す面であって、ミラーデバイス２０に近付くほど光入射部４から離れるように傾斜した面である。第１ミラー面３１は、測定光Ｌ０の一部を反射し且つ測定光Ｌ０の残部を透過させる機能、及びレーザ光Ｌ１０の一部を反射し且つレーザ光Ｌ１０の残部を透過させる機能を有している。第１ミラー面３１は、例えば誘電体多層膜によって形成されている。第１ミラー面３１は、Ｚ方向から見た場合に、ミラーデバイス２０の光通過部２４、光学機能部材１３の光透過部１４、及び固定ミラー１６のミラー面１６ａと重なっており、且つＸ方向から見た場合に光入射部４と重なっている（図１参照）。つまり、第１ミラー面３１は、Ｚ方向において固定ミラー１６と対向しており、且つＸ方向において光入射部４と対向している。
【0047】
第２ミラー面３２は、第１ミラー面３１に平行なミラー面（例えば、全反射ミラー面）であり、第１ミラー面３１に対して光入射部４とは反対側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。第２ミラー面３２は、測定光Ｌ０を反射する機能、及びレーザ光Ｌ１０を反射する機能を有している。第２ミラー面３２は、例えば金属膜によって形成されている。第２ミラー面３２は、Ｚ方向から見た場合にミラーデバイス２０の可動ミラー２２のミラー面２２ａと重なっており、且つＸ方向から見た場合に第１ミラー面３１と重なっている。つまり、第２ミラー面３２は、Ｚ方向において可動ミラー２２と対向しており、且つＸ方向において第１ミラー面３１と対向している。
【0048】
光学面３３ａは、Ｚ方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対してミラーデバイス２０とは反対側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。光学面３３ｂは、Ｚ方向に垂直な面であり、第２ミラー面３２に対してミラーデバイス２０側に位置するように光学ブロック３５に形成されている。光学面３３ｃは、Ｚ方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対してミラーデバイス２０側に位置するように光学ブロック３４に形成されている。
【0049】
光学面３３ｂ及び光学面３３ｃは、同一平面上に位置している。光学面３３ｄは、Ｘ方向に垂直な面であり、第１ミラー面３１に対して光入射部４側に位置するように光学ブロック３４に形成されている。各光学面３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄは、測定光Ｌ０を透過させる機能、及びレーザ光Ｌ１０を透過させる機能を有している。以上のように構成されたビームスプリッタ３は、同一平面上に位置する光学面３３ｂ及び光学面３３ｃが例えば光学接着剤によって光透過部材１１２の表面１１２ａに固定されることで、光透過部材１１２に取り付けられている。
【0050】
ここで、ミラーユニット２及びビームスプリッタ３における測定光Ｌ０の光路及びレーザ光Ｌ１０の光路について説明する。光学面３３ｄを介してビームスプリッタ３にＸ方向に沿って測定光Ｌ０が入射すると、測定光Ｌ０の一部は、第１ミラー面３１を透過して第２ミラー面３２で反射され、光学面３３ｂ及び光透過部材１１２を介して可動ミラー２２のミラー面２２ａに至る。当該測定光Ｌ０の一部は、可動ミラー２２のミラー面２２ａで反射され、同一の光路Ｐ１上を逆方向に進行して第１ミラー面３１で反射される。
【0051】
測定光Ｌ０の残部は、第１ミラー面３１で反射され、光学面３３ｃ、光透過部材１１２、ミラーデバイス２０の光通過部２４、及び光学機能部材１３の光透過部１４を介して、固定ミラー１６のミラー面１６ａに至る。当該測定光Ｌ０の残部は、固定ミラー１６のミラー面１６ａで反射され、同一の光路Ｐ２上を逆方向に進行して第１ミラー面３１を透過する。第１ミラー面３１で反射された測定光Ｌ０の一部と、第１ミラー面３１を透過した測定光Ｌ０の残部とは、干渉光Ｌ１となり、当該測定光の干渉光Ｌ１は、光学面３３ａを介してビームスプリッタ３からＺ軸方向に沿って出射される。
【0052】
一方、光学面３３ａを介してビームスプリッタ３にＺ方向に沿ってレーザ光Ｌ１０が入射すると、レーザ光Ｌ１０の一部は、第１ミラー面３１及び第２ミラー面３２で反射され、光学面３３ｂ及び光透過部材１１２を介して可動ミラー２２のミラー面２２ａに至る。当該レーザ光Ｌ１０の一部は、可動ミラー２２のミラー面２２ａで反射され、同一の光路Ｐ３上を逆方向に進行して第１ミラー面３１で反射される。
【0053】
レーザ光Ｌ１０の残部は、第１ミラー面３１を透過し、光学面３３ｃ、光透過部材１１２、ミラーデバイス２０の光通過部２４、及び光学機能部材１３の光透過部１４を介して、固定ミラー１６のミラー面１６ａに至る。当該レーザ光Ｌ１０の残部は、固定ミラー１６のミラー面１６ａで反射され、同一の光路Ｐ４上を逆方向に進行して第１ミラー面３１を透過する。第１ミラー面３１で反射されたレーザ光Ｌ１０の一部と、第１ミラー面３１を透過したレーザ光Ｌ１０の残部とは、干渉光Ｌ１１となり、当該レーザ光の干渉光Ｌ１１は、光学面３３ａを介してビームスプリッタ３からＺ方向に沿って出射される。
【0054】
以上のように、ミラーデバイス２０の光通過部２４は、ビームスプリッタ３と固定ミラー１６との間の光路のうち、測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第１部分Ｐ２ａ、及びレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第１部分Ｐ４ａを構成している。また、光学機能部材１３の光透過部１４は、ビームスプリッタ３と固定ミラー１６との間の光路のうち、測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第２部分Ｐ２ｂ、及びレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第２部分Ｐ４ｂを構成している。
【0055】
測定光Ｌ０の光路Ｐ２の第２部分Ｐ２ｂが光透過部１４によって構成されることで、測定光Ｌ０の光路Ｐ１の光路長（当該光路が通る各媒質の屈折率を考慮した光路長）と測定光Ｌ０の光路Ｐ２の光路長との差が小さくなるように、光路Ｐ１，Ｐ２間の光路差が補正される。同様に、レーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の第２部分Ｐ４ｂが光透過部１４によって構成されることで、レーザ光Ｌ１０の光路Ｐ３の光路長とレーザ光Ｌ１０の光路Ｐ４の光路長との差が小さくなるように、光路Ｐ３，Ｐ４間の光路差が補正される。本実施形態では、光透過部１４の屈折率が、ビームスプリッタ３を構成する各光学ブロックの屈折率と等しく、Ｘ方向に沿った第１ミラー面３１と第２ミラー面３２との距離が、Ｚ方向に沿った光透過部１４の厚さ（すなわち、Ｚ方向に沿った光透過部１４の表面と光学機能部材１３の第４表面１３ｂとの距離）に等しい。
【0056】
引き続いて、ビームスプリッタ３の詳細について説明する。図３は、図１，２に示されたビームスプリッタの斜視図である。図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿った模式的な断面図である。図３，４に示されるビームスプリッタ３は、上述したように、入射光（測定光Ｌ０及びレーザ光Ｌ１０）を異なる複数の成分（測定光Ｌ０の一部及び残部、並びに、レーザ光Ｌ１０の一部及び残部）に分岐して出射する。そのために、ビームスプリッタ３は、光学ブロック３４（第１光透過部材）、光学ブロック３５（第２光透過部材）、接着部材４０、及び、光学分岐膜５０を備えている。なお、ビームスプリッタ３は、入射光を透過側と反射側とで等分するハーフミラーとして機能してもよい。
【0057】
光学ブロック３４は、第１面３４ａを有しており、入射光に対して透過性有している。本実施形態では、光学ブロック３４は、互いに平行な一対の直角三角形状の端面を有する三角柱状に形成されており、第１面３４ａは、光学ブロック３４における互いに略直交する光学面３３ｄと光学面３３ｃとを接続する側面（斜面）である。光学ブロック３５は、第２面３５ａを有しており、入射光に対して透過性を有している。本実施形態では、光学ブロック３５は、互いに平行な一対の平行四辺形状の端面を有する四角柱状に形成されており、第２面３５ａは、光学ブロック３５における互いに平行な光学面３３ａと光学面３３ｂとを接続する側面（斜面）である。
【0058】
光学ブロック３４と光学ブロック３５とは、第１面３４ａと第２面３５ａとが対向するように配置されている。接着部材４０は、入射光に対して透過性を有しており、第１面３４ａと第２面３５ａとの間に配置されている。光学分岐膜５０は、第１面３４ａと第２面３５ａとの間に配置されており、入射光を複数の成分に分岐する機能を有する。なお、ビームスプリッタ３がハーフミラーとして機能する場合には、光学分岐膜５０は、入射光を透過側と反射側で等分する機能を有する。
【0059】
したがって、光学ブロック３４と光学ブロック３５とは、第１面３４ａと第２面３５ａとが接着部材４０及び光学分岐膜５０を挟んで対向するように配置されており、接着部材４０により互いに接着されている。これにより、本実施形態では、ビームスプリッタ３は、全体として、互いに平行な一対の台形状の端面を有する四角柱状に形成される。接着部材４０及び光学分岐膜５０は、上述した第１ミラー面３１を構成する。すなわち、第１面３４ａは、光学ブロック３４における第１ミラー面３１に臨む面であり、第２面３５ａは、光学ブロック３５における第１ミラー面３１に臨む面である。第１面３４ａと第２面３５ａとは、互いに略平行とされている。
【0060】
第１方向Ｄ１は、第１面３４ａ及び第２面３５ａに交差（直交）する方向である。第１方向Ｄ１は、Ｚ方向に対して、例えば４５°傾斜している。したがって、第１面３４ａ及び第２面３５ａも、Ｚ方向に対して、例えば４５°傾斜している。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に交差（直交）すると共に第１面３４ａ及び第２面３５ａに沿った方向である。第２方向Ｄ２は、ここではＹ方向と一致している。第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に交差（直交）すると共に第１面３４ａ及び第２面３５ａに沿った方向である。第３方向Ｄ３は、Ｘ方向に対して例えば４５°傾斜している。
【0061】
光学分岐膜５０は、一例として第１面３４ａに形成されており（第２面３５ａに形成されていてもよい）、第１方向Ｄ１に沿って積層された複数の層から構成されている（多層膜構造を有している）。より具体的には、光学分岐膜５０は、第１面３４ａ上に形成された第１層５１と、第１方向Ｄ１に沿って、第１面３４ａ及び第１層５１上に積層された第２層５２と、を有している。さらに、本実施形態では、光学分岐膜５０は、第１方向Ｄ１に沿って、第１面３４ａ、第１層５１、及び、第２層５２上に積層された第３層５３と、第１方向Ｄ１に沿って第１層５１を挟むように配置された一対の第４層５４ａ，５４ｂと、第１方向Ｄ１に沿って第１層５１及び第４層５４ａ，５４ｂを挟むように配置された一対の第５層５５ａ，５５ｂと、を備えている。
【0062】
これにより、光学分岐膜５０の中心を含む主な部分（有効エリア５０ｐ）においては、第１面３４ａ側から順に、第５層５５ａ、第４層５４ａ、第１層５１、第４層５４ｂ、第５層５５ｂ、第２層５２、第３層５３が積層されている。第２層５２の第１部分５２ａは、第５層５５ｂ上に形成されて第５層５５ｂに接している。これらの層のうちの互いに隣り合う層同士は、互いに接触している。なお、光学分岐膜５０は、第１面３４ａに接触するベース層５６を備えており、上記の各層は、当該ベース層５６上に積層されている。
【0063】
第１層５１は、第１方向Ｄ１からみて矩形状を有している。第１層５１は、平坦な層であり、第１方向Ｄ１からみてベース層５６の全面を覆っている。第１層５１は、例えばＡｇ又はＡｌといった金属材料から構成されている。
【0064】
第２層５２は、第１方向Ｄ１からみて矩形状を有している。第２層５２は、第１方向Ｄ１からみて、第１層５１を覆うと共に、第１層５１の外縁５１ｅを越えて第１面３４ａ上に延在している。第２層５２は、第１層５１の外縁５１ｅを越えた部分において、第１面３４ａに接触している。より具体的には、第２層５２は、第１部分５２ａと第２部分５２ｂと第３部分５２ｃとからなる。第１部分５２ａは、第１層５１の第１面３４ａと反対側の上面を覆うように延在する部分である。第１部分５２ａは、第１方向Ｄ１からみて第１層５１を覆っている。
【0065】
第２部分５２ｂは、第２方向Ｄ２における第１部分５２ａの端部に接続され、当該第１部分５２ａの端部から第１層５１の側面（ここでは第２方向Ｄ２に交差する面）を覆うように第１方向Ｄ１に沿って延在している。本実施形態では、第２部分５２ｂは、第１層５１の側面に加えて、第４層５４ａ，５４ｂ、第５層５５ａ，５５ｂ、及びベース層５６の側面を覆うように延在して第１面３４ａに至っている。第３部分５２ｃは、第２部分５２ｂにおける第１部分５２ａとの接続部分と反対側の端部に接続され、第２方向Ｄ２（及び第３方向Ｄ３）について第１層５１と反対側（外側）に向けて延在している。第３部分５２ｃは、第１面３４ａに接触している。これにより、第２層５２では、第１部分５２ａと第３部分５２ｃとの間に段差が形成されている。なお、第２部分５２ｂは、当該第２部分５２ｂの第１方向Ｄ１の端部において、第１部分５２ａ及び第３部分５２ｃとそれぞれ接続されている。
【0066】
第２層５２は、半導体材料、又は誘電体材料から構成されている。第２層５２を構成する半導体材料の一例としては、ＳｉやＧｅが挙げられる。第２層５２を構成する誘電体材料の一例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及び、ＺｎＳが挙げられる。第２層５２は、第１層５１よりも耐湿性の高い材料によって構成され得る。一例として、本実施形態では、第２層５２は、Ｓｉからなる。なお、ベース層５６の材料は、例えば、第２層５２の材料と同様の材料から選択され得る。
【0067】
第３層５３は、第１方向Ｄ１からみて矩形状を有している。第３層５３は、第１方向Ｄ１からみて、第２層５２を覆っている。より具体的には、第３層５３は、第４部分５３ａと第５部分５３ｂと第６部分５３ｃとからなる。第４部分５３ａは、第２層５２の第１部分５２ａを覆うように延在している。第５部分５３ｂは、第２方向Ｄ２における第４部分５３ａの端部に接続され、当該第４部分５３ａの端部から第２層５２の第２部分５２ｂを覆うように第１方向Ｄ１に沿って延在している。第６部分５３ｃは、第５部分５３ｂにおける第４部分５３ａとの接続部分と反対側の端部に接続され、第２方向Ｄ２（及び第３方向Ｄ３）について第１層５１と反対側（外側）に向けて延在している。これにより、第３層５３では、第４部分５３ａと第６部分５３ｃとの間に段差が形成されている。
【0068】
第６部分５３ｃは、第２層５２の第３部分５２ｃに対向するように配置されている。本実施形態では、第６部分５３ｃは第３部分５２ｃに接触している。また、本実施形態では、第３層５３は、光学分岐膜５０の最外層であり、光学分岐膜５０の表面５０ｓを有している。すなわち、第３層５３は、光学分岐膜５０の第１面３４ａと反対側に臨む表面５０ｓを形成し、接着部材４０に接触している。第３層５３は、例えば酸化層であり、一例としてＳｉＯ２から構成される。
【0069】
第４層５４ａ，５４ｂは、第１方向Ｄ１からみて矩形状を有している。第４層５４ａ，５４ｂは、第１方向Ｄ１からみて第１層５１を覆っている。第４層５４ａ，５４ｂは、平坦な層である。第４層５４ａ，５４ｂは、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＮ、及びＺｎＳのうちの１つから構成され得る。また、第４層５４ａ，５４ｂは、第２層５２と同一の材料から構成され得る。本実施形態では、第４層５４ａ，５４ｂは、一例としてＳｉから構成される。
【0070】
第５層５５ａ，５５ｂは、第１方向Ｄ１からみて矩形状を有している。第５層５５ａ，５５ｂは、第１方向Ｄ１からみて第１層５１及び第４層５４ａ，５４ｂを覆っている。第５層５５ａ，５５ｂは、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、及び、Ｔａ２Ｏ５のうちの１つから構成され得る。本実施形態では、第５層５５ａ，５５ｂは、例えばＳｉＯ２から構成される。一例として、第４層５４ａ，５４ｂは、酸化処理がされていない第１材料（例えばＳｉ）から構成され、第５層５５ａ，５５ｂは、当該第１材料を酸化処理した材料（例えばＳｉＯ２）から構成される酸化層であり得る。
【0071】
接着部材４０は、第１接着部４１と第２接着部４２とから構成される。第１接着部４１は、光学分岐膜５０の第１面３４ａと第２面３５ａとに挟まれる領域のうち、第２層５２の第１部分５２ａ（すなわち第３層５３の第４部分５３ａ）に対向する領域に配置（充填）され、当該領域において第２面３５ａと表面５０ｓとに接着されている。第２接着部４２は、光学分岐膜５０の第１面３４ａと第２面３５ａとに挟まれる領域のうち、第２層５２の第２部分５２ｂ（すなわち第３層５３の第５部分５３ｂ）と、第２層５２の第３部分５２ｃ（すなわち第３層５３の第６部分５３ｃ）とに対向する領域に配置（充填）され、当該領域において第２面３５ａと表面５０ｓとに接着されている。第１接着部４１と第２接着部４２とは、互いに一体に形成されている。これにより、接着部材４０は、光学分岐膜５０の段差部を埋めるように形成されており、光学分岐膜５０を介して第１面３４ａと第２面３５ａとを接着している。
【0072】
以上のように、光学分岐膜５０は、第１層５１、第２層５２、第３層５３、第４層５４ａ，５４ｂ、及び、第５層５５ａ，５５ｂが積層されて構成された相対的に厚い有効エリア５０ｐと、有効エリア５０ｐを囲うように有効エリア５０ｐの外側に形成され、第２層５２と第３層５３とが積層されて構成された相対的に薄い環状の非有効エリア５０ｒとからなる。
【0073】
なお、光学ブロック３４の光学面３３ｃ、及び、光学ブロック３５の光学面３３ｂは、ビームスプリッタ３の底面３ｓを構成している。底面３ｓは、ビームスプリッタ３を外部部材（ここでは光透過部材１１２）に搭載するときに外部部材に接触する接触面である。
【0074】
図５は、図４に示された第１面及び第１層を第１方向からみた場合を示す模式図である。図４，５に示されるように、光学ブロック３４の第１面３４ａは、第１方向Ｄ１からみて、第２方向Ｄ２よりも第３方向Ｄ３に長尺な矩形状を呈している。したがって、第１面３４ａの外縁３４ｅ（すなわち、第１方向Ｄ１からみたときの光学ブロック３４の外縁）は、互いに平行な一対の短辺Ｅ１と、短辺Ｅ１に交差する方向に延びると共に、互いに平行な一対の長辺Ｅ２と、から構成される。一方の短辺Ｅ１は、ビームスプリッタ３を外部部材に搭載したときに外部部材に臨む（接触する）底面３ｓ（光学面３３ｃ）に相当する第１辺である。他方の短辺Ｅ１は、ビームスプリッタ３におけるレーザ光Ｌ１０の入射面、干渉光Ｌ１，Ｌ１１の出射面となる光学面３３ａに相当する。
【0075】
同様に、光学分岐膜５０の第１層５１は、第１方向Ｄ１からみて、第２方向Ｄ２よりも第３方向Ｄ３に長尺な矩形状を呈している。したがって、第１層５１の外縁５１ｅは、互いに平行な一対の短辺Ｆ１と、短辺Ｆ１に交差する方向に延びると共に、互いに平行な一対の長辺Ｆ２と、を含む。短辺Ｆ１は、それぞれ、第１面３４ａの短辺Ｅ１のそれぞれに対向すると共に、当該短辺Ｅ１に平行に延在している。長辺Ｆ２は、それぞれ、第１面３４ａの長辺Ｅ２のそれぞれに対向すると共に、当該長辺Ｅ２に平行に延在している。第１層５１における短辺Ｆ１と長辺Ｆ２とが交わる角部５１ｒは、面取りされており、ここでは第１層５１の外側に凸となる円弧状に形成されている。
【0076】
第１方向Ｄ１からみたとき、第１層５１の短辺Ｆ１と第１面３４ａの外縁３４ｅとの距離Ｔ１は、第１層５１の長辺Ｆ２と第１面３４ａの外縁３４ｅとの距離Ｔ２よりも大きくされている。距離Ｔ１は、短辺Ｆ１のそれぞれと、当該短辺Ｆ１のそれぞれに対向する第１面３４ａの短辺Ｅ１のそれぞれとの距離である。また、距離Ｔ２は、長辺Ｆ２のそれぞれと、当該長辺Ｆ２のそれぞれに対向する第１面３４ａの長辺Ｅ２のそれぞれとの距離である。
【0077】
なお、第２層５２の第１部分５２ａ、第３層５３の第４部分５３ａ、第４層５４ａ，５４ｂ、及び、第５層５５ａ，５５ｂ、すなわち、光学分岐膜５０の有効エリア５０ｐも、第１方向Ｄ１からみたときの第１層５１と同様の形状を有している。また、図５では図示を省略しているが、第２層５２及び第３層５３は、本実施形態では、第１面３４ａの外縁３４ｅに至っている（ただし至っていなくてもよい）。したがって、本実施形態では、第１面３４ａの全体に光学分岐膜５０が形成される。
【0078】
また、ビームスプリッタ３では、各面に対して、反射膜や反射防止膜等の光学的な機能を有する膜を形成され得る。例えば、ビームスプリッタ３では、一の入射光（測定光Ｌ０）の入射面となる光学面３３ｄ、及び、別の入射光（レーザ光Ｌ１０）の入射面となる光学面３３ａには、反射防止膜が形成され得る。また、ビームスプリッタ３では、第１ミラー面３１（光学分岐膜５０）を介して光学面３３ｄの反対側に位置する第２ミラー面３２（第３面）には、光学分岐膜５０を透過した光を反射する反射膜が形成され得る。さらに、ビームスプリッタ３では、光学分岐膜５０で反射された光を外部に出射する出射面である光学面３３ｂ，３３ｃには、反射防止膜が形成され得る。
【0079】
引き続いて、以上のビームスプリッタ３を製造するためのビームスプリッタ製造方法の一実施形態について説明する。図６～８は、ビームスプリッタ製造方法の一工程を示す図ある。図６に示されるように、ここでは、まず、第１部材３４Ｐと第２部材３５Ｐとを用意する（工程Ｓ１０１、第１工程）。第１部材３４Ｐは、一方向に連続的に配列された複数の光学ブロック３４を含む部材であり、第２部材３５Ｐは、一方向に連続的に配列された複数の光学ブロック３５を含む部材である。換言すれば、第１部材３４Ｐは、後述する工程Ｓ１０４での切断により光学ブロック３４となる部分を複数含み、第２部材３５Ｐは、後述する工程Ｓ１０４での切断により光学ブロック３５となる部分を複数含む。
【0080】
続いて、第１部材３４Ｐに含まれる複数の光学ブロック３４のそれぞれの第１面３４ａに光学分岐膜５０を形成する（工程Ｓ１０２、第２工程）。ここでは、一方向に連続する複数の第１面３４ａに対して、一括して、光学分岐膜５０を形成する。このとき、互いに隣り合う光学分岐膜５０同士は、非有効エリア５０ｒにおいて繋がっていてもよいし、離間していてもよい。
【0081】
続いて、図７に示されるように、接着部材４０により第１部材３４Ｐと第２部材３５Ｐとを接着する（工程Ｓ１０３、第３工程）。このとき、第１部材３４Ｐの複数の第１面３４ａからなる面３４ｍと、第２部材３５Ｐの複数の第２面３５ａからなる面３５ｍとが対向するように、第１部材３４Ｐと第２部材３５Ｐとを配置して接着する。これにより、第１面３４ａのそれぞれと第２面３５ａのそれぞれとの間に光学分岐膜５０が介在され、複数のビームスプリッタ３を含む構造体ＭＰが形成される。
【0082】
続いて、図８に示されるように、例えば切断によって構造体ＭＰを個片化することにより、構造体ＭＰから複数のビームスプリッタ３を得る（工程Ｓ１０４、第４工程）。なお、工程Ｓ１０３と工程Ｓ１０４との間において、構造体ＭＰの表面を研磨する工程（工程Ｓ１０５、第５工程）を実施してもよい。工程Ｓ１０５では、少なくとも、ビームスプリッタ３を外部部材に搭載するときに外部部材に接触する底面３ｓ（光学面３３ｂ，３３ｃ）を研磨することができる。また、工程Ｓ１０４の後に工程Ｓ１０５を実施してもよい。すなわち、工程Ｓ１０４の後に、構造体ＭＰの個片化により得られたビームスプリッタ３に対して、少なくとも底面３ｓ（光学面３３ｂ，３３ｃ）等の表面を研磨してもよい。
【0083】
以上説明したように、ビームスプリッタ３では、光学ブロック３４と光学ブロック３５とが、光学分岐膜５０を介在させた状態で接着部材４０により互いに接着されている。光学分岐膜５０は、光学ブロック３４における光学ブロック３５に対向する第１面３４ａ上に形成された第１層５１と、当該第１面３４ａ及び第１層５１上に積層された第２層５２と、を含む。そして、第２層５２は、第１層５１の上面を覆うように延在する第１部分５２ａと、第１部分５２ａから第１層５１の側面を覆うように延在する第２部分５２ｂと、第２部分５２ｂから第１層５１と反対側に向けて延在する第３部分５２ｃとを含む。
【0084】
このように、第１層５１の側面は、少なくとも第２部分５２ｂが存在する領域において第２層５２に覆われる（本実施形態では、第１層５１の側面の全周が第２層５２に覆われる）。この結果、第１層５１の側面が外部に露出することが避けられ、第１層５１の腐食といった劣化が抑制される。また、第１層５１の上面についても、第２層５２の第１部分５２ａに覆われている。このため、光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着するまでの間（製造時）にも、第１層５１の腐食といった劣化が抑制される。よって、ビームスプリッタ３によれば、光学特性の劣化が抑制される。
【0085】
なお、ビームスプリッタ３では、第１層５１の劣化の抑制に寄与する第２層５２が、光学分岐膜５０を構成する層である。よって、光学分岐膜５０とは別に保護膜を形成する場合と比較して、製造工程の簡略化、及び低コスト化等を図ることができる。さらに、ビームスプリッタ３では、接着部材４０が、第１面３４ａと第２面３５ａとに挟まれる領域のうちの第２層５２の第１部分５２ａに対向する領域に配置された第１接着部４１と、当該領域のうちの第２層５２の第２部分５２ｂと第３部分５２ｃとに対向する領域に配置された第２接着部４２とを含む。このため、光学ブロック３４と光学ブロック３５との接着が強固となる。
【0086】
また、ビームスプリッタ３では、光学分岐膜５０は、第１方向Ｄ１に沿って、第１面３４ａ、第１層５１、及び第２層５２上に積層された第３層５３を有している。第３層５３は、第２層５２の第１部分５２ａを覆うように延在する第４部分５３ａと、第２方向Ｄ２における第４部分５３ａの端部に接続され、当該第４部分５３ａの端部から第２層５２の第２部分５２ｂを覆うように第１方向Ｄ１に沿って延在する第５部分５３ｂと、第５部分５３ｂにおける第４部分５３ａとの接続部分と反対側の端部に接続され、第２方向Ｄ２について第１層５１と反対側に向けて延在する第６部分５３ｃと、を含む。第６部分５３ｃは、第３部分５２ｃに対向するように配置されている。このため、第１層５１の側面は、少なくとも第２部分５２ｂが存在する領域において（本実施形態では、全周において）、さらに第３層５３に覆われることとなる。また、第１層５１の上面についても、第３層５３によってさらに覆われる。この結果、第１層５１の腐食といった劣化が確実に抑制され、光学特性の劣化が確実に抑制される。
【0087】
また、ビームスプリッタ３では、第３層５３は、酸化層であってもよく、光学分岐膜５０の第１面３４ａと反対側に臨む表面５０ｓを形成し、接着部材４０に接触している。この場合、光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着するまでの間（製造時）に、第２層５２の酸化が抑制される。
【0088】
また、ビームスプリッタ３では、光学分岐膜５０は、第１方向Ｄ１に沿って第１層５１を挟むように配置された一対の第４層５４ａ，５４ｂと、第１方向Ｄ１に沿って第１層５１及び一対の第４層５４ａ，５４ｂを挟むように配置された一対の第５層５５ａ，５５ｂと、を含む。そして、第２層５２の第１部分５２ａは、第５層５５ｂ上に形成されて第５層５５ｂに接している。光学分岐膜５０は、このような多層構造により構成されてもよい。
【0089】
また、ビームスプリッタ３では、第４層５４ａ，５４ｂは、第１材料から構成されており、第５層５５ａ，５５ｂは、当該第１材料を酸化処理した材料から構成される酸化層であってもよい。この場合、第１層５１が酸化することによる吸収係数の増大（反射率、透過率の低下）を抑制することができる。また、第２層５２を形成するまでの間（製造時）、第４層５４ａ，５４ｂの酸化を抑制することができる。
【0090】
また、ビームスプリッタ３では、第４層５４ａ，５４ｂは、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＮ、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成され、第５層５５ａ，５５ｂは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、及び、Ｔａ２Ｏ５のうちの１つから構成されていてもよい。このように、これらの材料から第４層及び第５層の材料を選択してもよい。
【0091】
また、ビームスプリッタ３では、第４層５４ａ，５４ｂは、第２層５２と同一の材料から構成されていてもよい。この場合、光学分岐膜５０を製造するに際して成膜源の数を削減することができ、光学分岐膜５０の製造が容易となる。
【0092】
また、ビームスプリッタ３では、第１方向Ｄ１からみたときの第１層５１の外縁５１ｅは、短辺Ｆ１と短辺Ｆ１に交差する方向に延びる長辺Ｆ２とを含む。そして、第１方向Ｄ１からみて、短辺Ｆ１と第１面３４ａの外縁３４ｅとの距離Ｔ１は、長辺Ｆ２と第１面３４ａの外縁３４ｅとの距離Ｔ２よりも大きい。このため、光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着する際に（製造時に）、第１層５１の短辺Ｆ１に交差する方向に位置ずれが生じても、第１層５１が第２面３５ａの外縁に達して露出すること抑制される。
【0093】
また、ビームスプリッタ３では、第１方向Ｄ１からみたときの第１層５１の角部５１ｒは、円弧状に形成されていてもよい。この場合、光学ブロック３４や光学ブロック３５の角部に欠けが生じても、第１層５１が露出しにくくなる。
【0094】
また、ビームスプリッタ３は、第１面３４ａ、光学分岐膜５０、及び第２面３５ａを介して入射面（光学面３３ｄ）の反対側に位置する第３面（第２ミラー面３２）を備えている。そして、当該第３面には、光学分岐膜５０を透過した光を反射する反射膜が形成されていてもよい。この場合、光学分岐膜５０を透過した光を所定の方向に反射することが可能となる。
【0095】
また、ビームスプリッタ３では、光学分岐膜５０で反射された光を外部に出射する出射面には、反射防止膜が形成されていてもよい。この場合、光学分岐膜５０で反射された光を出射させる際に、出射面での反射が抑制される。
【0096】
また、ビームスプリッタ３では、入射面には反射防止膜が形成されていてもよい。この場合、入射光の入射面での反射が抑制される。
【0097】
また、ビームスプリッタ３では、第１層５１は、金属材料から構成されており、第２層５２は、半導体材料又は誘電体材料から構成されていてもよい。この場合、金属材料から構成される第１層５１の腐食といった劣化が抑制される。
【0098】
さらに、ビームスプリッタ３では、第１層５１は、Ａｇ又はＡｌから構成されており、第２層５２は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及び、ＺｎＳのうちの１つから構成されていてもよい。この場合、Ａｇ又はＡｌから構成される第１層５１の腐食といった劣化が抑制される。
【0099】
ここで、ビームスプリッタ製造方法は、光学ブロック３４となる部分を複数含む第１部材３４Ｐと、光学ブロック３５となる部分を複数含む第２部材３５Ｐと、を用意する工程Ｓ１０１と、第１部材３４Ｐに含まれる複数の光学ブロック３４のそれぞれの第１面３４ａに光学分岐膜５０を形成する工程Ｓ１０２と、光学分岐膜５０を介して接着部材４０により光学ブロック３４と光学ブロック３５とを接着することにより、連続する複数のビームスプリッタ３を含む構造体ＭＰを形成する工程Ｓ１０３と、構造体ＭＰを個片化することにより、構造体ＭＰから複数のビームスプリッタ３を得る工程Ｓ１０４と、を備える。この方法によれば、光学特性の劣化を抑制可能なビームスプリッタを効率よく製造することが可能となる。
【0100】
また、ビームスプリッタ製造方法は、工程Ｓ１０３と工程Ｓ１０４との間において、構造体ＭＰの表面を研磨する工程Ｓ１０５を備えてもよい。そして、工程Ｓ１０５では、少なくとも、構造体ＭＰにおける複数の底面３ｓを含む表面を研磨してもよい。この場合、ビームスプリッタ３における外部部材との接触面（底面３ｓ）が平坦化されることで、ビームスプリッタ３を外部部材に搭載しやすくなる。また、当該接触面がビームスプリッタ３における光の出射面とする場合、当該出射面である接触面の研磨により、入射面から出射面に至る光路長のばらつきを低減することができる。
【0101】
以上の実施形態は、本発明の一態様を説明したものである。したがって、本発明は、上記実施形態に限定されることなく、任意に変形され得る。
【0102】
例えば、図９に示されるように、ビームスプリッタ３では、第１面３４ａの外縁３４ｅは、当該ビームスプリッタ３を外部部材に搭載したときに当該外部部材側に臨む第１辺（一対の短辺Ｅ１のうちの底面３ｓに相当する一方）を含む。そして、第１層５１は、第１方向Ｄ１からみて当該第１層５１の外縁５１ｅの一部（短辺Ｆ１のうちの底面３ｓ側の一方）が、この第１辺に重なるように延在していてもよい。すなわち、第１層５１が、底面３ｓ側において、光学ブロック３４の外縁まで延在していてもよい。この場合、第１層５１がより広く形成され、より広い有効エリア５０ｐの形成を図ることが可能となる。一方で、第１層５１の外縁５１ｅの一部が、第１面３４ａの外縁３４ｅの第１辺に至ることとなるが、当該第１辺は、ビームスプリッタ３を外部部材に搭載する際に外部部材に臨む（接触する）辺である。したがって、第１層５１の外縁５１ｅの当該一部が外部に露出することが避けられる。
【0103】
また、上記実施形態における光学分岐膜５０の積層構造についても、第１層５１及び第２層５２が維持される範囲において、任意に変形され得る。例えば、第１層５１及び第２層５２以外の少なくとも１つの層が省略されてもよいし、他の層が追加されてもよい。
【0104】
また、第１層５１の角部５１ｒは、面取りされていなくてもよいし、面取りされている場合であっても円弧状でなくてもよい。また、第１方向Ｄ１からみたときの第１層５１の形状は、一方向に長尺の矩形状に限定されず、正方形状であってもよいし、他の形状であってもよい。光学分岐膜５０の他の層や第１面３４ａの形状についても同様である。
【符号の説明】
【0105】
３…ビームスプリッタ、３４…光学ブロック（第１光透過部材）、３４ａ…第１面、３５…光学ブロック（第２光透過部材）、３５ａ…第２面、４０…接着部材、４１…第１接着部、４２…第２接着部、５０…光学分岐膜、５１…第１層、５２…第２層、５２ａ…第１部分、５２ｂ…第２部分、５２ｃ…第３部分、５３…第３層、５３ａ…第４部分、５３ｂ…第５部分、５３ｃ…第６部分、５４ａ，５４ｂ…第４層、５５ａ，５５ｂ…第５層、Ｅ１，Ｆ１…短辺、Ｅ２，Ｆ２…長辺。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】