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公報発行日 2024年10月17
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-148148 ログイン済みの方はこのURLへ
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【解決手段】基板と、多層反射膜と、ルテニウムを含有する材料で形成された保護膜と、保護膜に接する吸収体膜と、吸収体膜に接し、クロムを含有する材料で形成されたハードマスク膜とを有し、吸収体膜が、タンタルを含有する材料で形成され、基板側から第1の層及び第2の層、又は第1の層、第2の層及び第3の層からなり、第1の層が、タンタルを含有し、窒素を含有しない組成を有し、かつ厚さが0.5nm以上2nm以下であり、第2の層が、タンタル及び窒素を含有し、窒素の含有率が10原子%以上、酸素の含有率が5原子%以下である組成を有し、第3の層が、タンタル、窒素及び酸素を含有し、酸素の含有率が30原子%以上70原子%以下である組成を有し、かつ厚さが20nm以下である反射型マスクブランク。
【効果】吸収体膜の反射防止膜側に形成されている、ルテニウム(Ru)を含有する材料で形成された保護膜のダメージが軽減される。
【選択図】図1
本発明によれば、タンタル(Ta)を含有する材料で形成された吸収体膜の、塩素を含み酸素を含まないガスを用いたドライエッチングにおけるオーバーエッチングによる保護膜のダメージを軽減できる。また、本発明の反射型マスクブランクは、塩素と酸素を含むガスを用いたドライエッチングや、硫酸過水(SPM)を用いた洗浄による保護膜の厚さの減少が抑制される。
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