(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024150156
(43)【公開日】2024-10-23
(54)【発明の名称】Ｘ線回析測定装置及びプログラム
(51)【国際特許分類】
G01N 23/205 20180101AFI20241016BHJP
G01N 23/2055 20180101ALI20241016BHJP
【ＦＩ】
G01N23/205
G01N23/2055 310
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023063422
(22)【出願日】2023-04-10
(71)【出願人】
【識別番号】000005197
【氏名又は名称】株式会社不二越
(74)【代理人】
【識別番号】100176072
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 功
(74)【代理人】
【識別番号】100169225
【弁理士】
【氏名又は名称】山野 明
(72)【発明者】
【氏名】乾 典規
【テーマコード（参考）】
2G001
【Ｆターム（参考）】
2G001AA01
2G001BA18
2G001BA25
2G001CA01
2G001DA09
2G001EA06
2G001EA09
2G001KA01
2G001KA07
2G001LA02
(57)【要約】
【課題】試料のパラメータを測定する場合において、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折を用いることで、コストを抑制する。
【解決手段】Ｘ線回析測定装置１は、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
【選択図】図１
【解決手段】Ｘ線回析測定装置１は、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部と、
前記検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部と、
前記解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、前記試料のパラメータを測定する測定部と、
を備えるＸ線回析測定装置。
前記検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部と、
前記解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、前記試料のパラメータを測定する測定部と、
を備えるＸ線回析測定装置。
【請求項2】
前記解析部は、前記回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度を補正することにより、α相Ｋα成分を解析する、
請求項１に記載のＸ線回析測定装置。
請求項１に記載のＸ線回析測定装置。
【請求項3】
前記解析部は、前記解析したα相Ｋα成分と、前記回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する、
請求項２に記載のＸ線回析測定装置。
請求項２に記載のＸ線回析測定装置。
【請求項4】
前記検出部は、ＳＯＩセンサによって回折環を検出する、
請求項１に記載のＸ線回析測定装置。
請求項１に記載のＸ線回析測定装置。
【請求項5】
前記パラメータは、残留応力又は残留オーステナイト体積率を含む、
請求項１乃至４の何れか１項に記載のＸ線回析測定装置。
請求項１乃至４の何れか１項に記載のＸ線回析測定装置。
【請求項6】
Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部と、通信可能なコンピュータを、
前記検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部、
前記解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、前記試料のパラメータを測定する測定部、
として機能させるプログラム。
前記検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部、
前記解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、前記試料のパラメータを測定する測定部、
として機能させるプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｘ線回析測定装置及びプログラムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、試料に向けてＸ線を照射する照射部と、当該試料にて回折したＸ線の回折環を検出する検出部と、を備え、検出された回折環から得られる回折プロフィル等に基づき、試料の半価幅（鉄鋼材料では硬さに相当）や残留応力、残留オーステナイト体積率等のパラメータを測定するＸ線回折測定装置が知られている。
【0003】
これに関し、特許文献１には、α相（フェライト相又はマルテンサイト相）とγ相（オーステナイト相）との理論回折Ｘ線ピーク強度比から、γ相の体積率を求める技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平７－１４００９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
このような技術では、回折強度の高いＫα回折（α相Ｋα回折とγ相Ｋα回折）を用いて、α相とγ相からの回折Ｘ線積分強度比により、試料のパラメータを評価している。
【0006】
図１４は、従来におけるＸ線回折測定装置の一例を示す概略図である。従来技術では、測角機構などを搭載した大型の装置によって回折角±数～数十度の範囲で０・一次元検出器を円弧上に移動させて回折線を得る方法や、直径５０ｍｍほどの二次元検出器において両回折線を同時に取得する方法が用いられていた。
【0007】
図１５は、従来におけるＸ線回折測定装置によって得られるデータの一例を示す図である。ここで、α相Ｋα回析の回折角とγ相Ｋα回析の回折角は離れているため、従来技術では、Ｘ線検出可能領域を大きくする必要があり、これに伴ってコストが増大する（例えば、センサチップの増設等が必要になる）という問題があった。
また、Ｘ線でα相とγ相が混合する試料からの回折Ｘ線を計測する場合、上述のＫα回折に加えて、γ相Ｋβ回折が現れる。しかしながら、このγ相Ｋβ回折は、γ相Ｋα回折に対して回折強度が低く、一部がα相Ｋα回折に重なるため、無視されたり、Ｖ（バナジウム）フィルタによって減衰（強度低下）させて利用しなかったりすることが一般的であった。
また、Ｘ線でα相とγ相が混合する試料からの回折Ｘ線を計測する場合、上述のＫα回折に加えて、γ相Ｋβ回折が現れる。しかしながら、このγ相Ｋβ回折は、γ相Ｋα回折に対して回折強度が低く、一部がα相Ｋα回折に重なるため、無視されたり、Ｖ（バナジウム）フィルタによって減衰（強度低下）させて利用しなかったりすることが一般的であった。
【0008】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、試料のパラメータを測定する場合において、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折を用いることで、コストを抑制することができるＸ線回折測定装置及びプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するために、本発明の第一態様に係るＸ線回析測定装置は、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部と、前記検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部と、前記解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、前記試料のパラメータを測定する測定部と、を備える。
【0010】
また、本発明の第二態様では、前記解析部は、前記回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度を補正することにより、α相Ｋα成分を解析する。
【0011】
また、本発明の第三態様では、前記解析部は、前記解析したα相Ｋα成分と、前記回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。
【0012】
また、本発明の第四態様では、前記検出部は、ＳＯＩセンサによって回折環を検出する。
【0013】
また、本発明の第五態様では、前記パラメータは、残留応力又は残留オーステナイト体積率を含む。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、試料のパラメータを測定する場合において、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折を用いることで、コストを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【0016】
【図1】第一実施形態に係るＸ線回折測定装置の全体構成の一例を示す図である。
【図4】検出部によって検出された回折環を示す回折環画像の一例を示す図である。
【図6】コンピュータの機能的構成の一例を示すブロック図である。
【図7】第一実施形態に係るコンピュータによる処理の流れについて説明する。
【図8】（Ａ）は、第一回折プロフィルの一例を示す図である。（Ｂ）は、第二回折プロフィルの一例を示す図である。
【図9】（Ａ）は、第一回折プロフィル（破線）と第二回折プロフィル（実線）とを比較する一例を示す図である。（Ｂ）は、第二回折プロフィルを補正して解析したα相Ｋα成分の一例を示す図である。
【図10】（Ａ）は、第一回折プロフィル（実線）と解析したα相Ｋα成分（破線）とを比較する一例を示す図である。（Ｂ）は、第一回折プロフィルとα相Ｋα成分の差分によって解析したγ相Ｋβ成分の一例を示す図である。
【図11】第二実施形態に係るコンピュータによる処理の流れについて説明する。
【図12】回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角を特定する一例を示す図である。
【図13】（Ａ）は、回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形（破線部分）を除去した一例を示す図である。（Ｂ）は、残りの波形によって除去した部分の波形を補正し、解析したα相Ｋα成分の一例を示す図である。
【図14】従来におけるＸ線回折測定装置の一例を示す概略図である。
【図15】従来におけるＸ線回折測定装置によって得られるデータの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、添付図面を参照しながら本発明の複数の実施形態について説明する。説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素及びステップに対しては可能な限り同一の符号を付して、重複する説明は省略する。
【0018】
－－－第一実施形態－－－
まず、第一実施形態について説明する。例えば、第一実施形態では、Ｋβフィルタを利用する測定的手法によって試料のパラメータを測定する。
まず、第一実施形態について説明する。例えば、第一実施形態では、Ｋβフィルタを利用する測定的手法によって試料のパラメータを測定する。
【0019】
＜全体構成＞
図１は、第一実施形態に係るＸ線回折測定装置１の全体構成の一例を示す図である。図１に示すように、Ｘ線回折測定装置１は、例えば、測定装置１０と、コンピュータ１２と、を備える。なお、図１では、測定装置１０の図示を簡略化している。
図１は、第一実施形態に係るＸ線回折測定装置１の全体構成の一例を示す図である。図１に示すように、Ｘ線回折測定装置１は、例えば、測定装置１０と、コンピュータ１２と、を備える。なお、図１では、測定装置１０の図示を簡略化している。
【0020】
図２は、図１の測定装置１０の一部構成の一例を示す斜視図である。
図３は、図２に示す測定装置１０の底面図である。図２及び図３に示すように、測定装置１０は、例えば、管球２０と、コリメータ２２と、基板２４と、フィルタ切替機構２６と、検出部２８と、を有する。なお、図示は省略するが、測定装置１０は、Ｘ線照射位置を明示するためのレーザポインタ等を含むその他の様々な構成を備えてもよい。
図３は、図２に示す測定装置１０の底面図である。図２及び図３に示すように、測定装置１０は、例えば、管球２０と、コリメータ２２と、基板２４と、フィルタ切替機構２６と、検出部２８と、を有する。なお、図示は省略するが、測定装置１０は、Ｘ線照射位置を明示するためのレーザポインタ等を含むその他の様々な構成を備えてもよい。
【0021】
管球２０は、Ｘ線を生成し、生成したＸ線を試料に向けて照射する照射部としての機能を有する。試料には、試料のパラメータを測定する測定対象（例えば、歯車やクランク軸、シャフト等）としての測定試料等が含まれる。試料のパラメータとしては、例えば、試料の硬さ(鉄鋼材料では回折Ｘ線プロフィルの半価幅と相関)や、残留応力（回折角あるいは回折環半径のひずみから算出）、残留オーステナイト体積率（α相とγ相の各回折Ｘ線プロフィルの積分強度被）等が挙げられる。
【0022】
コリメータ２２は、管球２０によるＸ線の照射範囲を調整する機能を有する。コリメータ２２は、管球２０の下方（基板２４側）に設けられ、基板２４側に延伸している。
【0023】
フィルタ切替機構２６は、駆動部の動作によって、検出部２８がＫβフィルタＦを通過（透過）していない回折環と当該ＫβフィルタＦを通過した回折環を検出可能とする機能を有する。例えば、フィルタ切替機構２６は、ソレノイドを備える駆動部と、二つのＫβフィルタＦと、を有している。このフィルタ切替機構２６は、基板２４の一方側の面（管球２０とは反対側の面）において、測定装置１０の長手方向（矢印方向）に駆動可能に設けられている。第一実施形態では、フィルタ切替機構２６は、回析Ｘ線側に設置される。
【0024】
例えば、フィルタ切替機構２６は、駆動部のソレノイドがオフからオンになった場合、二つのＫβフィルタＦが回析Ｘ線側（外側）から後述するチップ２８Ａ，２８Ｂを覆う位置に移動する。これにより、検出部２８は、ＫβフィルタＦを通過した回折環（回折Ｘ線）を検出することができる。一方、フィルタ切替機構２６は、駆動部のソレノイドがオンからオフになった場合、二つのＫβフィルタＦが回析Ｘ線側（外側）からチップ２８Ａ，２８Ｂを覆わない位置に移動する。これにより、検出部２８は、ＫβフィルタＦを通過していない回折環（回折Ｘ線）を検出することができる。
例えば、試料がＣｒ（クロム）である場合、このＫβフィルタＦには、一般的に薄膜のＶ（バナジウム）フィルタが用いられる。
例えば、試料がＣｒ（クロム）である場合、このＫβフィルタＦには、一般的に薄膜のＶ（バナジウム）フィルタが用いられる。
【0025】
検出部２８は、基板２４の一方側の面（管球２０とは反対側の面）に設けられている。第一実施形態では、検出部２８は、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する機能を有する。例えば、検出部２８は、試料にて回折した回折Ｘ線から形成される回折環を検出するセンサ部と、検出された回折環を電気信号（画素信号）に変換する回路部と、を含む。回折環は、デバイ環又はデバイ・シェラー環とも呼ばれる。検出部２８は、回折環を撮像するための撮像素子であって、例えばセンサ部と回路部とが一体化されたＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）センサによって回折環を検出する。このＳＯＩセンサは、高感度であるため、Ｋβ回折（γ相Ｋβ成分）を検出することができる。また、ＳＯＩセンサは、高分解能であるため、後述するＫα回折（α相Ｋα成分）とＫβ回折（γ相Ｋβ成分）の波形分離解析を容易に行うことができる。ここで、ＳＯＩセンサは、チップ（２８Ａ，２８Ｂ）が小型であるため、Ｘ線検出可能領域が小さい。
【0026】
基板２４の一方側の面において、検出部２８は、コリメータ２２を間に介して並ぶように配置された二つのチップ２８Ａ，２８Ｂを有している。二つのチップ２８Ａ，２８Ｂの間には、コリメータ２２が突出している。また、基板２４の一方側の面には、検出部２８が変換した電気信号をコンピュータ１２に送信するためのコネクタ３０等が設けられている。
【0027】
また、図３において、各チップ２８Ａ，２８Ｂの中央部に位置する所定範囲（例えば、１００ピクセル×２００ピクセル等）で指定された矩形状の中央範囲３６Ａ，３６Ｂを、仮想的に破線で示している。当該中央範囲３６Ａ，３６Ｂに回折環の回折プロフィルのピークが位置する場合には、当該ピークの両側に十分な範囲のバッググラウンドを取って解析を行うことができる。なお、各チップ２８Ａ，２８Ｂの中央部は、各チップ２８Ａ，２８Ｂの検出面に沿った平面上における中心そのものであってもよく、当該中心を含む所定の領域又は当該領域中の任意の点であってもよい。
【0028】
ここで、回折プロフィルは、回折環の中心座標を基準として半径方向における回折Ｘ線の強度分布を示す。この回折プロフィルに関しては、追って詳述する。また、以下では、回折プロフィルにおいて、回折強度が最大値となる回折角を「ピーク回折角」といい、回折強度の最大値を「ピーク回折強度」という。
【0029】
図４は、検出部２８によって検出された回折環を示す回折環画像の一例を示す図である。
図４に示す画像３２Ａ，３２Ｂは、検出部２８による検出値の二次元分布図である。
画像３２Ａは、チップ２８Ａによって検出された回折環の第一部分である回折環部分Ｃ１を示す。画像３２Ｂは、チップ２８Ｂによって検出された回折環の第二部分である回折環部分Ｃ２を示す。このように、各チップ２８Ａ，２８Ｂは、回折Ｘ線が形成する回折環の互いに異なる部分を検出する。なお、図４に示す画像３２Ａ，３２Ｂでは、回折環部分Ｃ１，Ｃ２のみを帯状のドットで示しているが、実際に得られる画像は、回折環部分Ｃ１，Ｃ２以外の部分も所定の検出値に対応する所定の濃度や色が付されている。
図４に示す画像３２Ａ，３２Ｂは、検出部２８による検出値の二次元分布図である。
画像３２Ａは、チップ２８Ａによって検出された回折環の第一部分である回折環部分Ｃ１を示す。画像３２Ｂは、チップ２８Ｂによって検出された回折環の第二部分である回折環部分Ｃ２を示す。このように、各チップ２８Ａ，２８Ｂは、回折Ｘ線が形成する回折環の互いに異なる部分を検出する。なお、図４に示す画像３２Ａ，３２Ｂでは、回折環部分Ｃ１，Ｃ２のみを帯状のドットで示しているが、実際に得られる画像は、回折環部分Ｃ１，Ｃ２以外の部分も所定の検出値に対応する所定の濃度や色が付されている。
【0030】
コンピュータ１２は、測定装置１０における管球２０やフィルタ切替機構２６、検出部２８とそれぞれ通信可能に接続され、接続された各装置を制御する。なお、通信可能に接続とは、有線であるか無線であるかを問わない。
第一実施形態では、コンピュータ１２は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出部２８によって検出された回折環から得られる第一回折プロフィルと、当該ＫβフィルタＦを通過して検出部２８によって検出された回折環から得られる第二回折プロフィルとを解析し、試料のパラメータを測定する。
第一実施形態では、コンピュータ１２は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出部２８によって検出された回折環から得られる第一回折プロフィルと、当該ＫβフィルタＦを通過して検出部２８によって検出された回折環から得られる第二回折プロフィルとを解析し、試料のパラメータを測定する。
【0031】
【0032】
図５に示すように、コンピュータ１２は、制御装置４０と、通信装置４６と、記憶装置４８と、を備える。
【0033】
制御装置４０は、ＣＰＵ４２及びメモリ４４を主に備えて構成される。ＣＰＵ４２は、コンピュータ１２の各種構成を制御する。メモリ４４は、例えばコンピュータ１２における処理の実行に必要な各種プログラムや変数、回折環画像等を記憶する。
【0034】
通信装置４６は、外部の装置と通信するための通信インターフェース等で構成される。通信装置４６は、例えば、測定装置１０やフィルタ切替機構２６等との間で各種の情報を送受信する。
【0035】
記憶装置４８は、ハードディスク等で構成される。記憶装置４８は、制御装置４０における処理の実行に必要な各種プログラムや各種の情報、及び処理結果の情報を記憶する。
【0036】
なお、コンピュータ１２は、専用又は汎用のサーバ・コンピュータ等の情報処理装置を用いて実現することができる。また、コンピュータ１２は、単一の情報処理装置により構成されても、通信ネットワーク上に分散した複数の情報処理装置により構成されてもよい。また、図５は、コンピュータ１２が有する主要なハードウェア構成の一部を示しているに過ぎず、コンピュータ１２は、一般的なサーバが備える他の構成を備えてもよい。
【0037】
＜コンピュータ１２の機能的構成＞
図６は、コンピュータ１２の機能的構成の一例を示すブロック図である。
図６は、コンピュータ１２の機能的構成の一例を示すブロック図である。
【0038】
図６に示すように、コンピュータ１２は、機能的構成として、測定装置１０の動作を制御する制御部５０と、検出部２８により検出された回折環の情報を解析して試料のパラメータを測定するデータ処理部６０と、を備える。これらの各機能的構成は、ＣＰＵ４２の制御のもとで、メモリ４４又は記憶装置４８に記憶されたプログラムを実行し、コンピュータ１２が備える上記各種のハードウェア構成を動作させることで実現される。
【0039】
制御部５０は、例えば、照射制御部５２と、検出制御部５４と、フィルタ制御部５６と、を有する。
【0040】
照射制御部５２は、Ｘ線を出力するように管球２０を制御する。
【0041】
検出制御部５４は、回折環を検出するように検出部２８を制御する。
【0042】
フィルタ制御部５６は、フィルタ切替機構２６の駆動部を制御する。第一実施形態では、フィルタ制御部５６は、検出部２８がＫβフィルタＦを通過した回折環と当該ＫβフィルタＦを通過していない回折環を検出可能とするように、フィルタ切替機構２６の駆動部を制御する。例えば、フィルタ制御部５６は、変数ｎの値に応じて、駆動部を制御する。
【0043】
データ処理部６０は、例えば、画像処理部６２と、解析部６４と、測定部６６と、を有する。
【0044】
画像処理部６２は、検出部２８により検出された回折環の画像（３２Ａ，３２Ｂ）を生成する。以下、この画像を「回折環画像」という。なお、画像処理部６２は、これらの画像３２Ａ，３２Ｂを１枚の回折環画像に合成する処理を行ってもよい。
第一実施形態では、画像処理部６２は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環の第一回折環画像と、ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環の第二回折環画像と、を生成する。
第一実施形態では、画像処理部６２は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環の第一回折環画像と、ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環の第二回折環画像と、を生成する。
【0045】
解析部６４は、検出部２８によって検出された回折環から得られる回折プロフィルを生成し、試料のα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析（波形分離解析）する機能を有する。例えば、解析部６４は、画像処理部６２によって生成された回折環画像に基づいて、回折プロフィルを生成する。この回折プロフィルは、ｘ軸が回折角（画素）に対応し、ｙ軸が回折強度に対応するグラフにおいて、波形によって表される。
【0046】
第一実施形態では、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環（第一回折環画像）から得られる第一回折プロフィルと、ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環（第二回折環画像）から得られる第二回折プロフィルとに応じて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する。例えば、解析部６４は、画像処理部６２によって生成された第一回折環画像から、第一回折プロフィルを生成する。また、例えば、解析部６４は、画像処理部６２によって生成された第二回折環画像から、第二回折プロフィルを生成する。
【0047】
＜α相Ｋα成分の解析＞
第一実施形態では、解析部６４は、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、第二回折プロフィルを補正することによって、α相Ｋα成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過したことによって回折強度が減衰（強度低下）した第二回折プロフィルに含まれるα相Ｋα成分を、回折強度が減衰していない第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分によって補正する。
第一実施形態では、解析部６４は、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、第二回折プロフィルを補正することによって、α相Ｋα成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過したことによって回折強度が減衰（強度低下）した第二回折プロフィルに含まれるα相Ｋα成分を、回折強度が減衰していない第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分によって補正する。
【0048】
＜γ相Ｋβ成分の解析＞
また、第一実施形態では、解析部６４は、解析したα相Ｋα成分と、第一回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過していない第一回折プロフィル（α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の混合プロファイル）から、解析したα相Ｋα成分を差し引くことで、γ相Ｋβ成分を解析（波形分離解析）する。
また、第一実施形態では、解析部６４は、解析したα相Ｋα成分と、第一回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過していない第一回折プロフィル（α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の混合プロファイル）から、解析したα相Ｋα成分を差し引くことで、γ相Ｋβ成分を解析（波形分離解析）する。
【0049】
測定部６６は、試料のパラメータを測定する機能を有する。第一実施形態では、測定部６６は、解析部６４によって解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に基づいて、試料のパラメータを測定する。例えば、測定部６６は、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の回折Ｘ線積分強度比（回折プロフィルにおける各成分の面積比）により、試料のパラメータを測定する。
【0050】
＜コンピュータ１２による処理の流れ＞
図７は、第一実施形態に係るコンピュータ１２による処理の流れについて説明する。また、以下のステップの処理は、例えば、フィルタ切替機構２６の二つのＫβフィルタＦがチップ２８Ａ，２８Ｂを覆わない状態で開始される。また、変数ｎには、初期値として１が代入されている。なお、以下のステップの順番は、適宜、変更することができる。
図７は、第一実施形態に係るコンピュータ１２による処理の流れについて説明する。また、以下のステップの処理は、例えば、フィルタ切替機構２６の二つのＫβフィルタＦがチップ２８Ａ，２８Ｂを覆わない状態で開始される。また、変数ｎには、初期値として１が代入されている。なお、以下のステップの順番は、適宜、変更することができる。
【0051】
（ステップＳＰ１０）
照射制御部５２は、Ｘ線を出力するように管球２０を制御する。そして、処理は、ステップＳＰ１２の処理に移行する。
照射制御部５２は、Ｘ線を出力するように管球２０を制御する。そして、処理は、ステップＳＰ１２の処理に移行する。
【0052】
（ステップＳＰ１２）
検出制御部５４は、試料から回折した回折環を検出するように検出部２８を制御する。そして、処理は、ステップＳＰ１４の処理に移行する。
検出制御部５４は、試料から回折した回折環を検出するように検出部２８を制御する。そして、処理は、ステップＳＰ１４の処理に移行する。
【0053】
（ステップＳＰ１４）
画像処理部６２は、ステップＳＰ１２において検出部２８によって検出された回折環画像を生成する。第一実施形態では、画像処理部６２は、変数ｎが１の場合は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環から、第一回折環画像を生成する。また、例えば、画像処理部６２は、変数ｎが２の場合は、ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環から、第二回折環画像を生成する。そして、処理は、ステップＳＰ１６の処理に移行する。
画像処理部６２は、ステップＳＰ１２において検出部２８によって検出された回折環画像を生成する。第一実施形態では、画像処理部６２は、変数ｎが１の場合は、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環から、第一回折環画像を生成する。また、例えば、画像処理部６２は、変数ｎが２の場合は、ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環から、第二回折環画像を生成する。そして、処理は、ステップＳＰ１６の処理に移行する。
【0054】
（ステップＳＰ１６）
フィルタ制御部５６は、変数ｎが２であるか否かを判定する。そして、当該判定が肯定判定された場合には、処理は、ステップＳＰ２２の処理に移行する。一方、当該判定が否定判定された場合、すなわち変数ｎが１である場合には、処理は、ステップＳＰ１８の処理に移行する。
フィルタ制御部５６は、変数ｎが２であるか否かを判定する。そして、当該判定が肯定判定された場合には、処理は、ステップＳＰ２２の処理に移行する。一方、当該判定が否定判定された場合、すなわち変数ｎが１である場合には、処理は、ステップＳＰ１８の処理に移行する。
【0055】
（ステップＳＰ１８）
フィルタ制御部５６は、フィルタ切替機構２６の駆動部を制御する。例えば、フィルタ制御部５６は、フィルタ切替機構２６の二つのＫβフィルタＦがチップ２８Ａ，２８Ｂを覆う位置に移動させる。そして、処理は、ステップＳＰ２０の処理に移行する。
フィルタ制御部５６は、フィルタ切替機構２６の駆動部を制御する。例えば、フィルタ制御部５６は、フィルタ切替機構２６の二つのＫβフィルタＦがチップ２８Ａ，２８Ｂを覆う位置に移動させる。そして、処理は、ステップＳＰ２０の処理に移行する。
【0056】
（ステップＳＰ２０）
フィルタ制御部５６は、変数ｎをインクリメント（＋１）する。そして、処理は、ステップＳＰ１０の処理に移行する。
フィルタ制御部５６は、変数ｎをインクリメント（＋１）する。そして、処理は、ステップＳＰ１０の処理に移行する。
【0057】
（ステップＳＰ２２）
解析部６４は、ステップＳＰ１４において画像処理部６２によって生成された第一回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す第一回折プロフィルを生成する。同様に、解析部６４は、ステップＳＰ１４において画像処理部６２によって生成された第二回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す第二回折プロフィルを生成する。
解析部６４は、ステップＳＰ１４において画像処理部６２によって生成された第一回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す第一回折プロフィルを生成する。同様に、解析部６４は、ステップＳＰ１４において画像処理部６２によって生成された第二回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す第二回折プロフィルを生成する。
【0058】
【0059】
図８（Ａ）に示すように、第一回折プロフィルＰ１は、Ｋβフィルタを通過していない回折環（第一回折環画像）から得られるため、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を含む混合プロファイルである。また、図８（Ｂ）に示すように、第二回折プロフィルＰ２の回折強度は、ＫβフィルタＦを通過した回折環（第二回折環画像）から得られるため、γ相Ｋβ成分は十分吸収され、当該ＫβフィルタＦによって減衰したα相Ｋα成分を含む。
【0060】
図７に戻って、処理は、ステップＳＰ２４の処理に移行する。
【0061】
（ステップＳＰ２４）
解析部６４は、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、第二回折プロフィルを補正することによって、α相Ｋα成分を解析する。この第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分は、例えば、第一回折プロフィルのピーク回折強度である。
解析部６４は、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、第二回折プロフィルを補正することによって、α相Ｋα成分を解析する。この第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分は、例えば、第一回折プロフィルのピーク回折強度である。
【0062】
【0063】
図９（Ａ）に示すように、第一回折プロフィルＰ１のピーク回折角Ｘ１は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折角Ｘ２と同一である。一方、第二回折プロフィルＰ２に含まれるα相Ｋα成分はＫβフィルタＦによって減衰しているため、第一回折プロフィルＰ１のピーク回折強度Ｙ１は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折強度Ｙ２よりも高い。
このため、図９（Ｂ）に示すように、解析部６４は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折強度Ｙ２が、第一回折プロフィルＰ１のピーク回折強度Ｙ１（α相Ｋα成分のピーク回折強度）と一致するように、第二回折プロフィルＰ２を補正してα相Ｋα成分を解析する。例えば、解析部６４は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折強度Ｙ２の補正率（ＫβフィルタＦの吸収係数）をＹ１／Ｙ２として最も高くし、ピーク回折角から（ｘ軸方向に）離れるほど回折強度の補正率を減少させる。
このため、図９（Ｂ）に示すように、解析部６４は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折強度Ｙ２が、第一回折プロフィルＰ１のピーク回折強度Ｙ１（α相Ｋα成分のピーク回折強度）と一致するように、第二回折プロフィルＰ２を補正してα相Ｋα成分を解析する。例えば、解析部６４は、第二回折プロフィルＰ２のピーク回折強度Ｙ２の補正率（ＫβフィルタＦの吸収係数）をＹ１／Ｙ２として最も高くし、ピーク回折角から（ｘ軸方向に）離れるほど回折強度の補正率を減少させる。
【0064】
図７に戻って、処理は、ステップＳＰ２６の処理に移行する。
【0065】
（ステップＳＰ２６）
解析部６４は、ステップＳＰ２４において解析したα相Ｋα成分と、第一回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過していない第一回折プロフィル（α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の混合プロファイル）から、ステップＳＰ２４において解析したα相Ｋα成分を差し引くことに応じて、γ相Ｋβ成分を解析する。
解析部６４は、ステップＳＰ２４において解析したα相Ｋα成分と、第一回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。例えば、解析部６４は、ＫβフィルタＦを通過していない第一回折プロフィル（α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の混合プロファイル）から、ステップＳＰ２４において解析したα相Ｋα成分を差し引くことに応じて、γ相Ｋβ成分を解析する。
【0066】
図１０（Ａ）は、第一回折プロフィルＰ１（実線）と解析したα相Ｋα成分（破線）とを比較する一例を示す図である。図１０（Ｂ）は、第一回折プロフィルＰ１とα相Ｋα成分の差分によって解析したγ相Ｋβ成分の一例を示す図である。
【0067】
図１０に示すように、解析部６４は、第一回折プロフィル（α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の混合プロファイル）から、解析したα相Ｋα成分Ａを差し引くことにより、γ相Ｋβ成分の一部Ｂ１（図１０（Ｂ）の実線部分）を抽出する。続いて、解析部６４は、抽出したγ相Ｋβ成分の一部Ｂ１から、γ相Ｋβ成分の残部Ｂ２（図１０（Ｂ）の破線部分）を補正（補間）する。例えば、解析部６４は、抽出したγ相Ｋβ成分の一部Ｂ１から当該γ相Ｋβ成分のピーク回折強度Ｙ３を特定し、当該γ相Ｋβ成分のピーク回折角Ｘ３を通るｙ軸方向の軸（ｙ＝Ｘ３）を中心軸として、γ相Ｋβ成分の回折強度が略左右対称となるように補正（補間）する。
【0068】
図７に戻って、処理は、ステップＳＰ２８の処理に移行する。
【0069】
（ステップＳＰ２８）
測定部６６は、ステップＳＰ２４及びステップＳＰ２６において解析部６４によって解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に基づいて、試料のパラメータを測定する。例えば、測定部６６は、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の回折Ｘ線積分強度比により、試料のパラメータを測定する。そして、処理は、図７に示す一連の処理を終了する。
測定部６６は、ステップＳＰ２４及びステップＳＰ２６において解析部６４によって解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に基づいて、試料のパラメータを測定する。例えば、測定部６６は、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分の回折Ｘ線積分強度比により、試料のパラメータを測定する。そして、処理は、図７に示す一連の処理を終了する。
【0070】
＜効果＞
以上、第一実施形態では、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環から得られる第一回折プロフィルと、当該ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環から得られる第二回折プロフィルとに応じて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に基づいて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
以上、第一実施形態では、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、ＫβフィルタＦを通過せずに検出された回折環から得られる第一回折プロフィルと、当該ＫβフィルタＦを通過して検出された回折環から得られる第二回折プロフィルとに応じて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に基づいて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
【0071】
この構成によれば、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折によって試料のパラメータを測定することができるため、Ｘ線検出可能領域を大きくする必要がなくなり、コストを抑制することができる。
【0072】
また、第一実施形態では、解析部６４は、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、第二回折プロフィルを補正することによって、α相Ｋα成分を解析する。
【0073】
この構成によれば、第一回折プロフィルに含まれる一部のα相Ｋα成分に基づいて、ＫβフィルタＦを通過したことによって減衰した第二回折プロフィル（α相Ｋα成分）を補正するため、高い精度でα相Ｋα成分を解析することができる。
【0074】
また、第一実施形態では、解析部６４は、解析したα相Ｋα成分と、第一回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。
【0075】
この構成によれば、解析したα相Ｋα成分と、ＫβフィルタＦを通過していない第一回折プロフィルとの差分を用いるため、高い精度でγ相Ｋβ成分を解析することができる。
【0076】
また、第一実施形態では、検出部２８は、ＳＯＩセンサによって回折環を検出する。
【0077】
この構成によれば、高感度かつ高分解能であるＳＯＩセンサによって回折環を検出するため、Ｋα回折（α相Ｋα成分）とＫβ回折（γ相Ｋβ成分）の波形分離解析を容易に行うことができる。
【0078】
また、第一実施形態では、駆動部とＫβフィルタＦを有しており、当該駆動部の動作によって、検出部２８が当該ＫβフィルタＦを通過していない回折環と当該ＫβフィルタＦを通過した回折環を検出可能とするフィルタ切替機構２６と、を備える。
【0079】
この構成によれば、ＫβフィルタＦを通過していない回折環と通過した回折環とを容易に検出することができるため、試料のパラメータ測定を効率的に行うことができる。
【0080】
また、第一実施形態では、パラメータは、残留応力又は残留オーステナイト体積率を含む。
【0081】
この構成によれば、試料の残留応力又は残留オーステナイト体積率について、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折を用いて測定することができるため、コストを抑制することができる。
【0082】
－－－第二実施形態－－－
次に、第二実施形態について説明する。
次に、第二実施形態について説明する。
【0083】
第二実施形態では、フィルタ切替機構２６やＫβフィルタを利用せず、解析的手法によって試料のパラメータを測定する点で第一実施形態と異なる。また、第二実施形態における回折プロフィルは、第一実施形態における第一回折プロフィルに該当する。なお、以下で説明しない第二実施形態に係るＸ線回折測定装置１の構成及び機能は、第一実施形態に係るＸ線回折測定装置１の構成及び機能と同様である。
【0084】
第二実施形態では、解析部６４は、検出部２８によって検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する。
【0085】
＜α相Ｋα成分の解析＞
第二実施形態では、解析部６４は、回折環から得られる回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角（回折角の範囲）に対応する回折強度を補正（補間）することにより、α相Ｋα成分を解析する。この回折プロフィルのγ相Ｋβ成分が現れる回折角は、回折プロフィル（例えば波形の傾き等）から特定してもよいし、予めメモリ４４や記憶装置４８等に記憶されていてもよい。続いて、解析部６４は、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形を除去して、当該除去した波形を残りの波形（γ相Ｋβ成分が現れていないα相Ｋα成分の波形）で補正して、α相Ｋα成分を解析する。この補正（補間）には、例えば、ガウスフィッティングやリニアフィッティングが用いられる。
第二実施形態では、解析部６４は、回折環から得られる回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角（回折角の範囲）に対応する回折強度を補正（補間）することにより、α相Ｋα成分を解析する。この回折プロフィルのγ相Ｋβ成分が現れる回折角は、回折プロフィル（例えば波形の傾き等）から特定してもよいし、予めメモリ４４や記憶装置４８等に記憶されていてもよい。続いて、解析部６４は、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形を除去して、当該除去した波形を残りの波形（γ相Ｋβ成分が現れていないα相Ｋα成分の波形）で補正して、α相Ｋα成分を解析する。この補正（補間）には、例えば、ガウスフィッティングやリニアフィッティングが用いられる。
【0086】
＜γ相Ｋβ成分の解析＞
また、第二実施形態では、解析部６４は、第一実施形態と同様に、解析したα相Ｋα成分と、検出部２８によって検出された回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。
また、第二実施形態では、解析部６４は、第一実施形態と同様に、解析したα相Ｋα成分と、検出部２８によって検出された回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。
【0087】
＜コンピュータ１２による処理の流れ＞
図１１は、第二実施形態に係るコンピュータ１２による処理の流れについて説明する。なお、以下のステップの順番は、適宜、変更することができる。
図１１は、第二実施形態に係るコンピュータ１２による処理の流れについて説明する。なお、以下のステップの順番は、適宜、変更することができる。
【0088】
（ステップＳＰ３０～ステップＳＰ３４）
ステップＳＰ３０～ステップＳＰ３４の処理は、上述したステップＳＰ１０～ステップＳＰ１４の処理と同様であるため、説明を省略する。そして、処理は、ステップＳＰ３６の処理に移行する。
ステップＳＰ３０～ステップＳＰ３４の処理は、上述したステップＳＰ１０～ステップＳＰ１４の処理と同様であるため、説明を省略する。そして、処理は、ステップＳＰ３６の処理に移行する。
【0089】
（ステップＳＰ３６）
解析部６４は、ステップＳＰ３４において画像処理部６２によって生成された回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す回折プロフィルを生成する。そして、処理は、ステップＳＰ３８の処理に移行する。
解析部６４は、ステップＳＰ３４において画像処理部６２によって生成された回折環画像に基づいて、各画素に対応する回折角と当該回折角に対応する回折強度を示す回折プロフィルを生成する。そして、処理は、ステップＳＰ３８の処理に移行する。
【0090】
（ステップＳＰ３８）
解析部６４は、回折プロフィルのγ相Ｋβ成分が現れる回折角（回折角の範囲）を特定できるか否かを判定する。
解析部６４は、回折プロフィルのγ相Ｋβ成分が現れる回折角（回折角の範囲）を特定できるか否かを判定する。
【0091】
図１２は、回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角を特定する一例を示す図である。
【0092】
図１２に示すように、解析部６４は、回折プロフィルＰのピーク回折角Ｘ1よりも大きい回折角（ピークよりも右側の波形）において、回折強度の傾きが０又は正の数（プラス）になる回折角Ｘｋから、当該回折角Ｘｋに所定角度を足した回折角Ｘｋ＋1までとして特定する。
【0093】
図１１に戻って、ステップＳＰ３８の判定が肯定判定された場合には、処理は、ステップＳＰ４０の処理に移行する。一方、当該判定が否定判定された場合には、処理は、ステップＳＰ３０の処理に移行する。
【0094】
（ステップＳＰ４０）
解析部６４は、ステップＳＰ３８において特定されたγ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形を除去して、当該除去した波形を残りの波形（γ相Ｋβ成分が現れない波形）で補正して、α相Ｋα成分を解析する。
解析部６４は、ステップＳＰ３８において特定されたγ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形を除去して、当該除去した波形を残りの波形（γ相Ｋβ成分が現れない波形）で補正して、α相Ｋα成分を解析する。
【0095】
図１３（Ａ）は、回折プロフィルＰにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形Ｐｋ（破線部分）を除去した一例を示す図である。図１３（Ｂ）は、残りの波形Ａ１によって除去した部分の波形Ａ２を補正し、解析したα相Ｋα成分の一例を示す図である。
【0096】
図１３（Ａ）に示すように、解析部６４は、回折プロフィルＰにおいて、ステップＳＰ３８において特定されたγ相Ｋβ成分が現れる回折角Ｘｋから、当該回折角Ｘｋに所定角度を足した回折角Ｘｋ＋1までに対応する回折強度の波形Ｐｋ（破線部分）を除去する。続いて、図１３（Ｂ）に示すように、解析部６４は、残りの波形Ａ１（γ相Ｋβ成分が現れていないα相Ｋα成分の波形）によって、除去した部分の波形Ａ２（破線部分）を補正（補間）して、α相Ｋα成分を解析する。
【0097】
図１１に戻って、処理は、ステップＳＰ４２の処理に移行する。
【0098】
（ステップＳＰ４２～ステップＳＰ４４）
ステップＳＰ４２～ステップＳＰ４４の処理は、上述したステップＳＰ２６～ステップＳＰ２８の処理と同様であるため、説明を省略する。そして、処理は、図１１に示す一連の処理を終了する。
ステップＳＰ４２～ステップＳＰ４４の処理は、上述したステップＳＰ２６～ステップＳＰ２８の処理と同様であるため、説明を省略する。そして、処理は、図１１に示す一連の処理を終了する。
【0099】
＜効果＞
以上、第二実施形態では、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
以上、第二実施形態では、Ｘ線が照射された試料から回折した回折環を検出する検出部２８と、検出された回折環から得られる回折プロフィルに基づいて、α相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分を解析する解析部６４と、解析されたα相Ｋα成分とγ相Ｋβ成分に応じて、試料のパラメータを測定する測定部６６と、を備える。
【0100】
この構成によれば、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折によって試料のパラメータを測定することができるため、Ｘ線検出可能領域を大きくする必要がなくなり、コストを抑制することができる。
【0101】
また、第二実施形態では、解析部６４は、回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度を補正することにより、α相Ｋα成分を解析する。
【0102】
この構成によれば、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度を補正することで、α相Ｋα成分を解析することができるため、コストを抑制することができる。
【0103】
また、第二実施形態では、解析部６４は、解析したα相Ｋα成分と、回折プロフィルとの差分に基づき、γ相Ｋβ成分を解析する。
【0104】
この構成によれば、解析したα相Ｋα成分と、回折プロフィルとの差分を用いるため、高い精度でγ相Ｋβ成分を解析することができる。
【0105】
また、第二実施形態では、検出部２８は、ＳＯＩセンサによって回折環を検出する。
【0106】
この構成によれば、高感度かつ高分解能であるＳＯＩセンサによって回折環を検出するため、Ｋα回折（α相Ｋα成分）とＫβ回折（γ相Ｋβ成分）の波形分離解析を容易に行うことができる。
【0107】
また、第二実施形態では、パラメータは、残留応力又は残留オーステナイト体積率を含む。
【0108】
この構成によれば、試料の残留応力又は残留オーステナイト体積率について、α相Ｋα回折とγ相Ｋβ回折を用いて測定することができるため、コストを抑制することができる。
【0109】
＜変形例＞
本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。すなわち、上記の実施形態に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。また、上記の実施形態及び後述する変形例が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。すなわち、上記の実施形態に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。また、上記の実施形態及び後述する変形例が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
【0110】
例えば、第一実施形態では、フィルタ切替機構２６は、回析Ｘ線側に設置される場合を説明したが、フィルタ切替機構２６（ＫβフィルタＦ）は、入射するＸ線側に設けられてもよい。この場合、フィルタ切替機構２６は、管球２０とコリメータ２２との間に設けられてもよいし、コリメータ２２と試料との間に設けられてもよい。なお、フィルタ切替機構２６は、ソレノイドでなく、ピストン機構によってＫβフィルタを移動させてもよい。
【0111】
また、第二実施形態では、解析部６４は、回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角（回折角の範囲）に対応する回折強度を補正する場合を説明したが、γ相Ｋβ成分が現れる画素（画素の範囲）に対応する回折強度を補正してもよい。このγ相Ｋβ成分が現れる画素は、回折プロフィル（例えば波形の傾き等）から特定してもよいし、予めメモリ４４や記憶装置４８等に記憶されていてもよい。なお、第一実施形態及び第二実施形態において、回折角は、回折環画像の画素（ピクセル）に置き換えることができる。
【0112】
また、第二実施形態では、解析部６４は、検出された回折プロフィル（第一回折プロフィル）からＫβフィルタを通過した第二回折プロフィルを予測してもよい。例えば、解析部６４は、Ｋβフィルタの吸収係数に基づき、第二回折プロフィルを予測する。続いて、解析部６４は、第一実施形態のステップＳＰ２４と同様に、予測した第二回折プロフィルを補正することよってα相Ｋα成分を解析する。
【0113】
また、第二実施形態では、ステップＳＰ４０において、解析部６４は、回折プロフィルにおいて、γ相Ｋβ成分が現れる回折角に対応する回折強度の波形を除去及び補正する場合を説明したが、当該γ相Ｋβ成分が現れる回折角それぞれの回折強度（波形）に適用する係数（重み）を変更することによって、α相Ｋα成分を解析してもよい。
【0114】
また、第二実施形態において、解析部６４は、回折プロフィルのピーク回折角よりも低い回折角の回折強度（ピーク回折角よりも左側の波形）に基づいて、ピーク回折角よりも高い回折角の回折強度（ピーク回折角よりも右側の波形）を補正（補間）して、α相Ｋα成分を解析してもよい。例えば、解析部６４は、回折プロフィルのピーク回折角よりも高い回折角の回折強度（ピーク回折角よりも右側の波形）を除去する。続いて、解析部６４は、回折プロフィルのピーク回折角よりも低い回折角の回折強度に基づいて、回折プロフィルのピーク回折角を通るｙ軸方向の軸を中心軸として、回折プロフィルの波形が略左右対称となるように補正（補間）して、α相Ｋα成分を解析する。なお、解析部６４は、予めメモリ４４や記憶装置４８等に記憶しているα相Ｋα成分の波形形状（サンプル波形）と、ピーク回折角よりも低い回折角の回折強度（ピーク回折角よりも左側の波形）を比較して、γ相Ｋβ成分の残部を補正（補間）してもよい。
【0115】
また、第一実施形態及び第二実施形態では、解析部６４は、抽出したγ相Ｋβ成分の一部Ｂ１から当該γ相Ｋβ成分のピーク回折強度Ｙ３を特定し、γ相Ｋβ成分の回折強度が略左右対称となるように補正（補間）する場合を説明したが、予めメモリ４４や記憶装置４８等に記憶しているγ相Ｋβ成分の波形形状（サンプル形状）と、抽出したγ相Ｋβ成分の一部Ｂ１とを比較して、γ相Ｋβ成分の残部Ｂ２を補正（補間）してもよい。
【0116】
また、第一実施形態及び第二実施形態では、検出部２８は、ＳＯＩセンサによって回折環を検出する場合について説明したが、他のセンサであってもよい。また、検出部２８は、回折環部分Ｃ１，Ｃ２としてではなく一つの回折環として検出してもよい。
【0117】
また、本発明は、コンピュータ１２等の情報処理装置を、図６に示す各機能構成として機能させるためのプログラムであってもよい。当該プログラムは、コンピュータ１２の内部に配置された記憶手段に記憶されてもよく、ネットワークでＸ線回折測定装置１に接続された外部の記憶手段に記憶されてもよい。また、当該プログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録して提供してもよく、インターネット等のネットワーク経由でインストールする形式で提供してもよい。
【符号の説明】
【0118】
１…Ｘ線回折測定装置
２８…検出部
６４…解析部
６６…測定部
２８…検出部
６４…解析部
６６…測定部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】