ホーム > 特許ランキング > 住友電気工業株式会社
知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024151962
(43)【公開日】2024-10-25
(54)【発明の名称】光モジュール
(51)【国際特許分類】
H01S 5/02255 20210101AFI20241018BHJP
H01S 5/02253 20210101ALI20241018BHJP
H01S 5/02325 20210101ALI20241018BHJP
H01S 5/02208 20210101ALI20241018BHJP
H01S 5/40 20060101ALI20241018BHJP
【ＦＩ】
H01S5/02255
H01S5/02253
H01S5/02325
H01S5/02208
H01S5/40
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023065815
(22)【出願日】2023-04-13
(71)【出願人】
【識別番号】000002130
【氏名又は名称】住友電気工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100088155
【弁理士】
【氏名又は名称】長谷川 芳樹
(74)【代理人】
【識別番号】100113435
【弁理士】
【氏名又は名称】黒木 義樹
(74)【代理人】
【識別番号】100136722
【弁理士】
【氏名又は名称】▲高▼木 邦夫
(74)【代理人】
【識別番号】100176658
【弁理士】
【氏名又は名称】和田 謙一郎
(72)【発明者】
【氏名】中村 勇貴
(72)【発明者】
【氏名】京野 孝史
【テーマコード（参考）】
5F173
【Ｆターム（参考）】
5F173MA10
5F173MB03
5F173MC01
5F173MC12
5F173MC30
5F173MD07
5F173MD35
5F173MD64
5F173ME22
5F173ME33
5F173ME44
5F173MF28
5F173MF39
5F173MF40
(57)【要約】
【課題】大型化を防ぎつつ広い範囲を光走査可能な光モジュールを提供する。
【解決手段】一実施形態に係る光モジュールは、第１レーザ光を出力する第１発光素子と、第２レーザ光を出力する第２発光素子と、第１発光素子から出力された第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、第２発光素子から出力された第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、光を走査する走査部と、第１発光素子、第２発光素子、第１コリメート部、第２コリメート部および走査部を収容する収容部と、を備え、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、走査部は、第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、収容部は、走査部によって走査された第１レーザ光および第２レーザ光を通す窓部を有する。
【選択図】図４
【解決手段】一実施形態に係る光モジュールは、第１レーザ光を出力する第１発光素子と、第２レーザ光を出力する第２発光素子と、第１発光素子から出力された第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、第２発光素子から出力された第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、光を走査する走査部と、第１発光素子、第２発光素子、第１コリメート部、第２コリメート部および走査部を収容する収容部と、を備え、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、走査部は、第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、収容部は、走査部によって走査された第１レーザ光および第２レーザ光を通す窓部を有する。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１レーザ光を出力する第１発光素子と、
第２レーザ光を出力する第２発光素子と、
前記第１発光素子から出力された前記第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、
前記第２発光素子から出力された前記第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、
光を走査する走査部と、
前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部および前記走査部を収容する収容部と、
を備え、
前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、
前記走査部は、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、
前記収容部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を通す窓部を有する、
光モジュール。
第２レーザ光を出力する第２発光素子と、
前記第１発光素子から出力された前記第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、
前記第２発光素子から出力された前記第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、
光を走査する走査部と、
前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部および前記走査部を収容する収容部と、
を備え、
前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、
前記走査部は、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、
前記収容部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を通す窓部を有する、
光モジュール。
【請求項2】
前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が前記走査部に異なる方向から入射するように、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記走査部に導く導光部を更に備える、
請求項１に記載の光モジュール。
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項3】
前記導光部は、第１反射部および第２反射部を有し、
前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
【請求項4】
前記導光部は、第１反射部、第２反射部および第３反射部を有し、
前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、
前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、
前記第３反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２反射部で反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、
前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、
前記第３反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２反射部で反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
【請求項5】
前記走査部が搭載されるとともに、主面を有する第１支持体と、
前記主面に設けられるともに、前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部、前記第１反射部および前記第２反射部が搭載される第２支持体と、
前記主面に設けられるともに、前記第３反射部を支持する第３支持体と、
を更に備え、
前記走査部は、前記走査部の走査が停止された状態において、前記走査部における前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が入射される面が前記主面と平行になるように配置されている、
請求項４に記載の光モジュール。
前記主面に設けられるともに、前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部、前記第１反射部および前記第２反射部が搭載される第２支持体と、
前記主面に設けられるともに、前記第３反射部を支持する第３支持体と、
を更に備え、
前記走査部は、前記走査部の走査が停止された状態において、前記走査部における前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が入射される面が前記主面と平行になるように配置されている、
請求項４に記載の光モジュール。
【請求項6】
前記第２発光素子は、前記主面に直交する仮想平面であって、前記走査部における前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が入射される面の中心を通る前記仮想平面に対して前記第１発光素子と対称に配置されており、
前記第２コリメート部は、前記仮想平面に対して前記第１コリメート部と対称に配置されており、
前記第２反射部は、前記仮想平面に対して前記第１反射部と対称に配置されている、
請求項５に記載の光モジュール。
前記第２コリメート部は、前記仮想平面に対して前記第１コリメート部と対称に配置されており、
前記第２反射部は、前記仮想平面に対して前記第１反射部と対称に配置されている、
請求項５に記載の光モジュール。
【請求項7】
前記第１レーザ光の戻り光と、前記第２レーザ光の戻り光とを区別できるように、前記第１発光素子、前記第２発光素子および前記走査部を制御する制御回路を更に備える、
請求項１に記載の光モジュール。
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項8】
前記第１レーザ光および前記第２レーザ光の波長は異なっている、
請求項１に記載の光モジュール。
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項9】
前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を合波する合波部を更に備え、
前記導光部は、前記合波部の近い方から順に、前記合波部から出力される合波光の光路に配置される第１反射部および第２反射部を有し、
前記第１反射部は、前記合波部に含まれる前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２レーザ光を透過し、
前記第２反射部は、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
前記導光部は、前記合波部の近い方から順に、前記合波部から出力される合波光の光路に配置される第１反射部および第２反射部を有し、
前記第１反射部は、前記合波部に含まれる前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２レーザ光を透過し、
前記第２反射部は、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する、
請求項２に記載の光モジュール。
【請求項10】
第３レーザ光を出力する第３発光素子と、
第４レーザ光を出力する第４発光素子と、
前記第３発光素子から出力された前記第３レーザ光を平行光に変換する第３コリメート部と、
前記第４発光素子から出力された前記第４レーザ光を平行光に変換する第４コリメート部と、
を備え、
前記第３発光素子、前記第４発光素子、前記第３コリメート部および前記第４コリメート部は、前記収容部に収容されており、
前記導光部は、前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光が前記走査部に異なる方向から入射するように、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光、前記第２コリメート部にから出力された前記第２レーザ光、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光および前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記走査部に導き、
前記導光部は、第１反射部、第２反射部、第３反射部、第４反射部、第５反射部および第６反射部を有し、
前記第１反射部は、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光を前記第２反射部に向けて反射するとともに、前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記第２反射部に向けて透過し、
前記第２反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、
前記第５反射部は、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光を前記第６反射部に向けて反射するとともに、前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記第６反射部に向けて透過し、
前記第６反射部は、前記第５反射部で反射された前記第３レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第５反射部を透過した前記第４レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、
前記第３反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第３レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記第４反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第４レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記窓部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光を透過する、
請求項２に記載の光モジュール。
第４レーザ光を出力する第４発光素子と、
前記第３発光素子から出力された前記第３レーザ光を平行光に変換する第３コリメート部と、
前記第４発光素子から出力された前記第４レーザ光を平行光に変換する第４コリメート部と、
を備え、
前記第３発光素子、前記第４発光素子、前記第３コリメート部および前記第４コリメート部は、前記収容部に収容されており、
前記導光部は、前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光が前記走査部に異なる方向から入射するように、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光、前記第２コリメート部にから出力された前記第２レーザ光、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光および前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記走査部に導き、
前記導光部は、第１反射部、第２反射部、第３反射部、第４反射部、第５反射部および第６反射部を有し、
前記第１反射部は、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光を前記第２反射部に向けて反射するとともに、前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記第２反射部に向けて透過し、
前記第２反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、
前記第５反射部は、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光を前記第６反射部に向けて反射するとともに、前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記第６反射部に向けて透過し、
前記第６反射部は、前記第５反射部で反射された前記第３レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第５反射部を透過した前記第４レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、
前記第３反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第３レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記第４反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第４レーザ光を前記走査部に向けて反射し、
前記窓部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光を透過する、
請求項２に記載の光モジュール。
【請求項11】
前記第３レーザ光は前記第１レーザ光と波長が同じレーザ光であり、
前記第４レーザ光は前記第２レーザ光と波長が同じレーザ光である、
請求項１０に記載の光モジュール。
前記第４レーザ光は前記第２レーザ光と波長が同じレーザ光である、
請求項１０に記載の光モジュール。
【請求項12】
前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する反射部を備え、
前記第１発光素子および前記第２発光素子からの前記第１レーザ光および前記第２レーザ光の出力方向に沿って伝播した前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が前記反射部で反射された場合に、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように、前記第１発光素子および前記第２発光素子は配置されている、
請求項１に記載の光モジュール。
前記第１発光素子および前記第２発光素子からの前記第１レーザ光および前記第２レーザ光の出力方向に沿って伝播した前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が前記反射部で反射された場合に、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように、前記第１発光素子および前記第２発光素子は配置されている、
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項13】
前記収容部は、湾曲した天部を有するドーム型のカバーを備え、
前記窓部は、前記天部の湾曲形状に沿って前記天部に設けられている、
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の光モジュール。
前記窓部は、前記天部の湾曲形状に沿って前記天部に設けられている、
請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の光モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光モジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１から特許文献４には、レーザ光を用いた検知装置が開示されている。特許文献５から特許文献８では、レーザ光を用いた描画装置が開示されている。このような検知装置および描画装置は、発光素子から出力されたレーザ光を、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）のような走査部で走査しながら出力する光モジュールを有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００４－１７０９６５号公報
【特許文献2】国際公開第２０１８／１０１２２６号
【特許文献3】特開２０１８－７２０９７号公報
【特許文献4】特開２０１８－９１６３０号公報
【特許文献5】特開２０２０－１９４１１６号公報
【特許文献6】特開２０１４－５６１９号公報
【特許文献7】特開２０１４－８６４２６号公報
【特許文献8】特開２０１４－１８６６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
収容部内に備えた走査部によってレーザ光を走査して出力する光モジュールにおいて、レーザ光を走査する範囲（以下、走査範囲と称する）を広げるためには、一般的には走査部におけるレーザ光の反射面の振れ角を大きくする手段が考えられる。しかし、この場合、反射面に接続される部分が大きく捩れるため、走査部が破損し易くなる。このような破損を防止しながら上記走査範囲を広げるためには、例えば接続部長さあたりの捩れ量を減らすために接続部を長くとることが考えられる。しかしながら、大きな走査部を採用した場合、光モジュールのサイズも大きくなる。
【0005】
本開示は、大型化を防ぎつつ広い範囲を光走査可能な光モジュールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
一実施形態に係る光モジュールは、第１レーザ光を出力する第１発光素子と、第２レーザ光を出力する第２発光素子と、前記第１発光素子から出力された前記第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、前記第２発光素子から出力された前記第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、光を走査する走査部と、前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部および前記走査部を収容する収容部と、を備え、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、前記走査部は、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、前記収容部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を通す窓部を有する。
【発明の効果】
【0007】
本開示によれば、大型化を防ぎつつ広い走査範囲を確保可能な光モジュールを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
［本開示の実施形態の説明］
最初に、本開示の実施形態の内容を列記して説明する。
最初に、本開示の実施形態の内容を列記して説明する。
【0010】
［１］一実施形態に係る光モジュールは、第１レーザ光を出力する第１発光素子と、第２レーザ光を出力する第２発光素子と、前記第１発光素子から出力された前記第１レーザ光を平行光に変換する第１コリメート部と、前記第２発光素子から出力された前記第２レーザ光を平行光に変換する第２コリメート部と、光を走査する走査部と、前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部および前記走査部を収容する収容部と、を備え、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように構成されており、前記走査部は、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を走査し、前記収容部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光および前記第２レーザ光を通す窓部を有する。
【0011】
上記［１］に記載の光モジュールでは、走査部によって走査された第１レーザ光および第２レーザ光が上記窓部から出力される。第１レーザ光および第２レーザ光は、異なる方向から走査部に入射する。この場合、窓部から出力された第１レーザ光の走査範囲および第２レーザ光の走査範囲はズレることから、光モジュールの走査範囲は光モジュールから出力されるレーザ光が１本の場合より広がっている。光モジュールでは、走査部に異なる方向から２本のレーザ光を入射させることによって広い走査範囲を実現するため、大きな走査部を使用する必要がない。その結果、光モジュールの大型化を防げる。
【0012】
［２］上記［１］に記載の光モジュールは、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が前記走査部に異なる方向から入射するように、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記走査部に導く導光部を更に備えてもよい。この場合、導光部によって、第１レーザ光および第２レーザ光を異なる方向から確実に走査部に入射できる。導光部によって第１レーザ光および第２レーザ光の光路を調整できるので、光モジュールにおける光部品の配置位置の自由度が向上する。
【0013】
［３］上記［２］に記載の光モジュールにおいて、前記導光部は、第１反射部および第２反射部を有し、前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射し、前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射してもよい。
【0014】
［４］上記［２］に記載の光モジュールにおいて、前記導光部は、第１反射部、第２反射部および第３反射部を有し、前記第１反射部は、前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、前記第２反射部は、前記第２レーザ光を前記第３反射部に向けて反射し、 前記第３反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２反射部で反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射してもよい。
【0015】
［５］上記［４］に記載の光モジュールは、前記走査部が搭載されるとともに、主面を有する第１支持体と、前記主面に設けられるともに、前記第１発光素子、前記第２発光素子、前記第１コリメート部、前記第２コリメート部、前記第１反射部および前記第２反射部が搭載される第２支持体と、前記主面に設けられるともに、前記第３反射部を支持する第３支持体と、を更に備え、前記走査部は、前記走査部の走査が停止された状態において、前記走査部における前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が入射される面が前記主面と平行になるように配置されていてもよい。
【0016】
［６］上記［５］に記載の光モジュールにおいて、前記第２発光素子は、前記主面に直交する仮想平面であって、前記走査部における前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が入射される面の中心を通る前記仮想平面に対して前記第１発光素子と対称に配置されており、前記第２コリメート部は、前記仮想平面に対して前記第１コリメート部と対称に配置されており、前記第２反射部は、前記仮想平面に対して前記第１反射部と対称に配置されていてもよい。この場合、第１レーザ光および第２レーザ光を異なる方向から走査部に入射し易い。
【0017】
［７］上記［１］から［６］のいずれか１つに記載の光モジュールは、前記第１レーザ光の戻り光と、前記第２レーザ光の戻り光とを区別できるように、前記第１発光素子、前記第２発光素子および前記走査部を制御する制御回路を更に備えてもよい。こうすることで光モジュールをＬｉＤＡＲ（Ｌｉｇｈｔ Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ａｎｄ Ｒａｎｇｉｎｇ、あるいはＬａｓｅｒ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ａｎｄ Ｒａｎｇｉｎｇ）のような検知装置の光源として用いた場合、戻り光が第１レーザ光によるものであるか第２レーザ光によるものであるかを区別して、さらに走査部における反射面の振れ角と紐づけることで、走査範囲内のどこからの戻り光であるかを特定できる。
【0018】
［８］上記［１］から［７］のいずれか１つに記載の光モジュールにおいて、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光の波長は異なっていてもよい。こうすることで光モジュールをＬｉＤＡＲのような検知装置の光源として用いた場合、戻り光が第１レーザ光によるものであるか第２レーザ光によるものであるかを区別し、さらに走査部における反射面の振れ角と紐づけることで、走査範囲内のどこからの戻り光であるかを特定できる。
【0019】
［９］上記［２］に記載の光モジュールは、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を合波する合波部を更に備え、前記導光部は、前記合波部の近い方から順に、前記合波部から出力される合波光の光路に配置される第１反射部および第２反射部を有し、前記第１反射部は、前記合波部に含まれる前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第２レーザ光を透過し、前記第２反射部は、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射してもよい。この構成により、走査範囲を垂直方向に広げることができる。
【0020】
［１０］上記［２］に記載の光モジュールは、第３レーザ光を出力する第３発光素子と、 第４レーザ光を出力する第４発光素子と、前記第３発光素子から出力された前記第３レーザ光を平行光に変換する第３コリメート部と、前記第４発光素子から出力された前記第４レーザ光を平行光に変換する第４コリメート部と、を備え、前記第３発光素子、前記第４発光素子、前記第３コリメート部および前記第４コリメート部は、前記収容部に収容されており、前記導光部は、前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光が前記走査部に異なる方向から入射するように、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光、前記第２コリメート部にから出力された前記第２レーザ光、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光および前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記走査部に導き、前記導光部は、第１反射部、第２反射部、第３反射部、第４反射部、第５反射部および第６反射部を有し、前記第１反射部は、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光を前記第２反射部に向けて反射するとともに、前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記第２反射部に向けて透過し、前記第２反射部は、前記第１反射部で反射された前記第１レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第１反射部を透過した前記第２レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、前記第５反射部は、前記第３コリメート部から出力された前記第３レーザ光を前記第６反射部に向けて反射するとともに、前記第４コリメート部から出力された前記第４レーザ光を前記第６反射部に向けて透過し、前記第６反射部は、前記第５反射部で反射された前記第３レーザ光を前記第３反射部に向けて反射するとともに、前記第５反射部を透過した前記第４レーザ光を前記第４反射部に向けて反射し、 前記第３反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第１レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第３レーザ光を前記走査部に向けて反射し、前記第４反射部は、前記第２反射部によって反射された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射するとともに、前記第６反射部によって反射された前記第４レーザ光を前記走査部に向けて反射し、前記窓部は、前記走査部によって走査された前記第１レーザ光、前記第２レーザ光、前記第３レーザ光および前記第４レーザ光を透過してもよい。
【0021】
上記構成では、走査部によって走査された第１レーザ光、第２レーザ光、第３レーザ光および第４レーザ光が上記窓部から異なる方向に出力される。窓部から出力される第１レーザ光、第２レーザ光、第３レーザ光および第４レーザ光それぞれは走査部によって走査されている。したがって、第１レーザ光、第２レーザ光、第３レーザ光および第４レーザ光それぞれの走査範囲は異なる。したがって、走査範囲を更に広げることが可能である。
【0022】
［１１］上記［１０］に記載の光モジュールにおいて、前記第３レーザ光は前記第１レーザ光と波長が同じレーザ光であり、前記第４レーザ光は前記第２レーザ光と波長が同じレーザ光であってもよい。このように第１レーザ光および第３レーザ光の波長が同じ場合、第１発光素子および第３発光素子として同じ特性の発光素子を使用できる。第２レーザ光および第４レーザ光の波長が同じ場合、第２発光素子および第４発光素子として同じ特性の発光素子を使用できる。
【0023】
［１２］上記［１］に記載の光モジュールは、前記第１コリメート部から出力された前記第１レーザ光および前記第２コリメート部から出力された前記第２レーザ光を前記走査部に向けて反射する反射部を備え、前記第１発光素子および前記第２発光素子からの前記第１レーザ光および前記第２レーザ光の出力方向に沿って伝播した前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が前記反射部で反射された場合に、前記第１レーザ光および前記第２レーザ光が異なる方向から前記走査部に入射するように、前記第１発光素子および前記第２発光素子は配置されていてもよい。この場合、第１発光素子および第２発光素子の配置を調整することで、異なる方向から第１レーザ光および第２レーザ光を走査部に入射できる。そのため、第１コリメート部および第２コリメート部と、反射部との間に第１レーザ光および第２レーザ光の光路を更に調整する部品を省略できる。
【0024】
［１３］上記［１］から［１２］のいずれか１つに記載の光モジュールにおいて、前記収容部は、湾曲した天部を有するドーム型のカバーを備え、前記窓部は、前記天部の湾曲形状に沿って前記天部に設けられていてもよい。材料の透過率には入射角依存性があり、レーザ光の窓部に対する入射角が変化すると、窓部を透過する光の強度が変化する。光モジュール１が上記［１５］に記載の構成を有することによって、入射角の変化を抑え、窓部を透過する光の強度が光出射方向に依存して変化することを抑制できる。
【0025】
［本開示の実施形態の詳細］
本開示の実施形態の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。図面の説明においては同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
本開示の実施形態の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。図面の説明においては同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【0026】
図１は、第１実施形態に係る光モジュールの模式図である。第１実施形態に係る光モジュール１は、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を出力するモジュール本体２と、モジュール本体２を制御する制御回路（制御装置）３を有する。
【0027】
光モジュール１は、検知対象範囲内の任意の物体を検知するリモートセンサの光源として使用される。たとえば、光モジュール１は、ＬｉＤＡＲの光源である。検知すべき物体の例は、人、自動車、標識などである。光モジュール１は、例えば、自動車、ドローンなどに搭載される。
【0028】
【0029】
モジュール本体２は、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０Ｂ、ＭＥＭＳ２０を備える。第１光出力部１０Ａは、コリメートされた第１レーザ光Ｌ１をＭＥＭＳ２０に向けて出力する。第２光出力部１０Ｂは、コリメートされた第２レーザ光Ｌ２をＭＥＭＳ２０に向けて出力する。ＭＥＭＳ２０は、第１レーザ光Ｌ１を走査するとともに、第２レーザ光Ｌ２を走査する。ＭＥＭＳ２０で走査された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれが、物体を検知するための検知光として機能する。
【0030】
モジュール本体２は、温度調整器の一例であるペルチェ素子（熱電冷却素子）３０を備えてもよい。ペルチェ素子（第１支持体）３０はＴＥＣ（ＴｈｅｒｍｏＥｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｏｌｅｒ）とも称される。モジュール本体２は、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を収容する収容部４０（図２参照）を備えてもよい。以下では、断らない限り、モジュール本体２がペルチェ素子３０および収容部４０を備える形態を説明する。
【0031】
図３および図４に示したように、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０は、ペルチェ素子３０に搭載されている。ペルチェ素子３０は、吸熱板（温度調整板）３１と、放熱板３２と、複数の半導体柱３３を有する。複数の半導体柱３３は、吸熱板３１と放熱板３２を連結している。複数の半導体柱３３は、互いに離間して配置されている。第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０は、上記吸熱板３１に搭載されている。
【0032】
第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂは、吸熱板３１に固定された台座（第２支持体）５１に搭載されている。ＭＥＭＳ２０は、吸熱板３１に固定された台座５２に固定されている。台座５１および台座５２は吸熱板３１に固定されている。
【0033】
台座５１は、吸熱板３１の表面（主面）３１ａに平行な表面５１ａを有する。台座５１の形状の例は、直方体または立方体である。台座５２は、ＭＥＭＳ２０が搭載されるとともに、表面３１ａに対して傾斜している傾斜面５２ａを有する。
【0034】
以下では、図３に示したように互いに直交するｘ軸、ｙ軸およびｚ軸を有する３次元直交座標系を利用してモジュール本体２を説明する場合もある。上記３次元直交座標系における原点は、走査ミラー２１が有する反射面２１ａの中心Ｏである。ｚ軸は、表面３１ａに垂直な軸である。図３以外の他の図では、図面の見やすさの観点から、断らない限り、上記３次元直交座標系を中心Ｏからズラして図示しているが、前述したように、上記３次元直交座標系の原点は、反射面２１ａの中心Ｏである。
【0035】
第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０Ｂ及びＭＥＭＳ２０の一例を具体的に説明する。第１実施形態において、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂは、反射面２１ａの中心Ｏを含み且つ表面３１ａに垂直な仮想平面ＶＰ（図４参照）に対して対称に配置されている。仮想平面ＶＰは、中心Ｏが原点である３次元直交座標系におけるｙｚ平面に相当する。
【0036】
［第１光出力部］
第１光出力部１０Ａは、第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部（第１反射部）１３ａを有する。第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部１３ａは、第１発光素子１１ａの光軸に沿って、第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部１３ａの順に配置されている。第１光出力部１０Ａは、ｘ軸方向において仮想平面ＶＰと離間している。
第１光出力部１０Ａは、第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部（第１反射部）１３ａを有する。第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部１３ａは、第１発光素子１１ａの光軸に沿って、第１発光素子１１ａ、第１コリメート部１２ａおよび反射部１３ａの順に配置されている。第１光出力部１０Ａは、ｘ軸方向において仮想平面ＶＰと離間している。
【0037】
第１発光素子１１ａは第１レーザ光Ｌ１（図４参照）を出力する。第１発光素子１１ａの例は半導体発光素子である。断らない限り、第１発光素子１１ａはレーザダイオード（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ）である。第１発光素子１１ａはＬＤチップでよい。第１レーザ光Ｌ１は赤外光でよい。第１レーザ光Ｌ１の波長の範囲は、例えば、８００ｎｍ以上且つ２５００ｎｍ以下である。第１レーザ光Ｌ１の波長は、８３０ｎｍ、８５０ｎｍ、９０５ｎｍ、９４０ｎｍ、１３１０ｎｍまたは１５５０ｎｍでよい。第１発光素子１１ａから出力される第１レーザ光Ｌ１は第１偏光の光である。第１偏光は、ＴＥモードまたはＴＭモードである。
【0038】
第１発光素子１１ａは、光軸方向がｙ軸方向であるように配置されている。第１発光素子１１ａは、第１素子搭載部５３ａの表面に搭載されている。第１素子搭載部５３ａの表面は、表面３１ａに平行な面である。第１素子搭載部５３ａの形状の例は、直方体または立方体である。第１素子搭載部５３ａは、台座５１に固定されている。
【0039】
第１発光素子１１ａは、第１素子搭載部５３ａに固定されている。第１発光素子１１ａの光軸の高さは、台座５１の厚さおよび第１素子搭載部５３ａの厚さによって調整されている。第１発光素子１１ａの光軸の高さは、吸熱板３１の表面３１ａに対する高さでよい。
【0040】
第１コリメート部１２ａは台座５１に搭載されている。第１コリメート部１２ａは、第１発光素子１１ａから出力される第１レーザ光Ｌ１の光路に配置されている。第１コリメート部１２ａはレンズでよい。第１コリメート部１２ａは第１レーザ光Ｌ１をコリメート光（平行光）に変換する。
【0041】
反射部１３ａは、台座５１に搭載されている。反射部１３ａは、第１コリメート部１２ａから出力された第１レーザ光Ｌ１の光路上に配置されている。反射部１３ａは、第１レーザ光Ｌ１を反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射するように配置されている。この配置形態では、反射部１３ａが有する反射面は、第１発光素子１１ａの光軸に対して傾いている。反射部１３ａは、紫外線硬化樹脂によって台座５１に固定されてよい。
【0042】
上記第１光出力部１０Ａの構成では、第１発光素子１１ａから出力された第１レーザ光Ｌ１は、第１コリメート部１２ａによってコリメート光に変換される。第１コリメート部１２ａから出力された第１レーザ光Ｌ１は、反射部１３ａによって反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射される。
【0043】
［第２光出力部］
第２光出力部１０Ｂは、第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部（第２反射部）１３ｂを有する。第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部１３ｂは、第２発光素子１１ｂの光軸に沿って、第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部１３ｂの順に配置されている。
第２光出力部１０Ｂは、第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部（第２反射部）１３ｂを有する。第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部１３ｂは、第２発光素子１１ｂの光軸に沿って、第２発光素子１１ｂ、第２コリメート部１２ｂおよび反射部１３ｂの順に配置されている。
【0044】
第２発光素子１１ｂは第２レーザ光Ｌ２（図４参照）を出力する。第２発光素子１１ｂの例は半導体発光素子である。断らない限り、第２発光素子１１ｂはＬＤである。第２発光素子１１ｂはＬＤチップでよい。第２レーザ光Ｌ２は赤外光でよい。第２レーザ光Ｌ２の波長の範囲例は、第１レーザ光Ｌ１の場合と同じである。第２レーザ光Ｌ２の波長は、第１レーザ光Ｌ１の波長と同じでよい。
【0045】
第２発光素子１１ｂは、第２素子搭載部５３ｂに搭載されている。第２素子搭載部５３ｂの構成は、第１素子搭載部５３ａの構成と同じでよい。第２発光素子１１ｂは、第２素子搭載部５３ｂに固定されている。
【0046】
第２発光素子１１ｂは、仮想平面ＶＰに対して第１発光素子１１ａと対称に配置されている。したがって、第２発光素子１１ｂからの第２レーザ光Ｌ２の出力方向は、第１発光素子１１ａからの第１レーザ光Ｌ１の出力方向と平行である。第２発光素子１１ｂの光軸の高さは、台座５１の厚さおよび第２素子搭載部５３ｂの厚さによって調整されている。上記第２発光素子１１ｂの光軸の高さは、吸熱板３１の表面に対する高さでよい。第２発光素子１１ｂの光軸の高さは、第１発光素子１１ａの光軸の高さに一致している。
【0047】
第２コリメート部１２ｂは、台座５１に搭載されている。第２コリメート部１２ｂは、第２発光素子１１ｂから出力される第２レーザ光Ｌ２の光路に配置されている。第２コリメート部１２ｂは、仮想平面ＶＰに対して第１コリメート部１２ａと対称に配置されている。上記第２コリメート部１２ｂはレンズでよい。第２コリメート部１２ｂは、第２レーザ光Ｌ２をコリメート光（平行光）として出力する。
【0048】
反射部１３ｂは、台座５１に搭載されている。反射部１３ｂは、第２コリメート部１２ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２の光路上に配置されている。反射部１３ｂの例はミラーである。反射部１３ｂは、仮想平面ＶＰに対して反射部１３ａと対称に配置されている。反射部１３ｂは、第２レーザ光Ｌ２を走査ミラー２１に向けて反射するように配置されている。したがって、反射部１３ａの反射面は、第１発光素子１１ａの光軸に対して傾いている。反射部１３ｂは、紫外線硬化樹脂によって台座５１に固定されてよい。
【0049】
上記第２光出力部１０Ｂの構成では、第２発光素子１１ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２は、第２コリメート部１２ｂによってコリメート光に変換される。第２コリメート部１２ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２は、反射部１３ｂによって走査ミラー２１に向けて反射される。
【0050】
［ＭＥＭＳ］
ＭＥＭＳ２０は、走査ミラー２１と、走査ミラー２１を駆動する駆動部２２と、枠部２３を有する。駆動部２２は、枠部２３に支持されている。ＭＥＭＳ２０はＭＥＭＳ２０チップでよい。この場合、光モジュール１をより小型化できる。反射面２１ａは、表面３１ａに対して第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２と同じ高さに配置されている。ＭＥＭＳ２０は、台座５２が有する傾斜面５２ａに固定されている。
ＭＥＭＳ２０は、走査ミラー２１と、走査ミラー２１を駆動する駆動部２２と、枠部２３を有する。駆動部２２は、枠部２３に支持されている。ＭＥＭＳ２０はＭＥＭＳ２０チップでよい。この場合、光モジュール１をより小型化できる。反射面２１ａは、表面３１ａに対して第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２と同じ高さに配置されている。ＭＥＭＳ２０は、台座５２が有する傾斜面５２ａに固定されている。
【0051】
図５は、走査ミラー２１の平面図である。図５は、走査ミラー２１を、反射面２１ａに垂直な方向からみた図面である。走査ミラー２１の形状の一例は、図５に示したように円形である。しかしながら、走査ミラー２１の形状は円形に限定されない。走査ミラー２１は、駆動部２２によって、図５に示したα軸の周りに振られる（揺動する）とともに、β軸の周りに振られる（揺動する）。α軸およびβ軸は、直交している。
【0052】
［収容部］
図２から図４を利用して収容部４０を説明する。収容部４０は、支持基板４１およびカバー４２を有する。収容部４０は、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を収容するパッケージである。カバー４２は、支持基板４１に固定されている。これにより、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を収容する収容空間が形成されている。上記収容空間は、支持基板４１およびカバー４２によって気密封止（ハーメチックシール）されてよい。
図２から図４を利用して収容部４０を説明する。収容部４０は、支持基板４１およびカバー４２を有する。収容部４０は、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を収容するパッケージである。カバー４２は、支持基板４１に固定されている。これにより、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を収容する収容空間が形成されている。上記収容空間は、支持基板４１およびカバー４２によって気密封止（ハーメチックシール）されてよい。
【0053】
支持基板４１は、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０が搭載される板状部材である。支持基板４１は、例えばステムである。図３に示されたように、ペルチェ素子３０が支持基板４１に固定されることによって、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０が支持基板４１に搭載されている。
【0054】
支持基板４１の平面視形状（Ｚ軸方向からみた形状）は矩形である。この場合、長辺の長さの例は、１０ｍｍ以上且つ３０ｍｍ以下であり、短辺の長さの例は、８ｍｍ以上且つ２５ｍｍ以下である。支持基板４１の平面視形状は、正方形でもよいし、四角形以外の多角形、または、円形でもよい。
【0055】
支持基板４１には複数の導電部材４６が設けられている。導電部材４６は、例えば棒状部材である。導電部材４６の一例はリードピンである。各導電部材４６の第１端部は、収容部４０内に突出している。各導電部材４６の第２端部は、収容部４０の外部に突出している。第２端部は、導電部材４６が有する第１端部と反対の端部である。複数の導電部材４６は、収容部４０内の電子部品（例えば、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、ＭＥＭＳ２０、ペルチェ素子３０など）を、制御回路３に電気的に接続するための端子として機能する。第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂなどと、複数の導電部材４６との配線の図示を省略している。
【0056】
【0057】
図２に示したように、カバー４２は、胴部４３および天部４４を有する。カバー４２の例はキャップである。胴部４３は中空体である。胴部４３は、例えば溶接によって支持基板４１に固定されている。天部４４は、胴部４３において支持基板４１と反対に位置する開口を塞いでいる。天部４４は、支持基板４１と対向している壁部である。胴部４３と天部４４は一体化している。カバー４２が支持基板４１に固定された状態において、天部４４の表面（収容空間と反対の面）と、支持基板４１の裏面（収容空間と反対の面）との間の長さの例は６ｍｍ以上且つ１２ｍｍ以下である。
【0058】
図２に示したように、収容部４０は窓部４５を有する。窓部４５は、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を収容部４０の外部に出力するための部分である。窓部４５は、天部４４に形成された開口４４ａに嵌められている。
【0059】
上記モジュール本体２には、モジュール本体２が駆動された場合に生じる熱を放熱するためのヒートシンク（放熱部）が取り付けられてよい。モジュール本体２は、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ等の周囲の温度を測定するための温度計測器（たとえばサーミスタ）を少なくとも１つ備えてもよい。このような温度計測器は、収容部４０内に配置される。
【0060】
［制御回路］
図６は、制御回路３の機能ブロック図である。制御回路３は、第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂおよび走査制御回路３ｃを有する。
図６は、制御回路３の機能ブロック図である。制御回路３は、第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂおよび走査制御回路３ｃを有する。
【0061】
第１駆動回路３ａは、第１発光素子１１ａを駆動する。第１駆動回路３ａは、第１発光素子１１ａの発光タイミング、第１レーザ光Ｌ１の強度、第１レーザ光Ｌ１のパルス幅などを制御する。第２駆動回路３ｂは、第２発光素子１１ｂを駆動する。第２駆動回路３ｂは、第２発光素子１１ｂの発光タイミング、第２レーザ光Ｌ２の強度、第２レーザ光Ｌ２のパルス幅などを制御する。第１駆動回路３ａおよび第２駆動回路３ｂは、ＬＤドライバでよい。
【0062】
第１駆動回路３ａおよび第２駆動回路３ｂは、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の発光タイミングが異なるように第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂを駆動してもよい。発光タイミングが異なることの意味を説明する。第１発光素子１１ａから第１レーザ光Ｌ１が出射され、物体から反射して戻ってきた第１戻り光（第１レーザ光）が受光素子に到達するまでの期間を「期間Ｔ１」と称す。第２発光素子１１ｂから第２レーザ光Ｌ２が出射され、物体から反射して戻ってきた第２戻り光（第２レーザ光）が受光素子に到達するまでの期間を「期間Ｔ２」と称す。期間Ｔ１と期間Ｔ２が重ならないことを、「第１発光素子１１ａと第２発光素子１１ｂの発光タイミングが異なる」と称す。
【0063】
第１駆動回路３ａおよび第２駆動回路３ｂは、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の変調波形が異なるように第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂを駆動してもよい。たとえば、第１駆動回路３ａおよび第２駆動回路３ｂは、第１レーザ光Ｌ１のパルス幅と第２レーザ光Ｌ２のパルス幅が異なるように、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂを駆動してもよい。第１駆動回路３ａおよび第２駆動回路３ｂは、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の時間的な強度を変調することによって、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の変調波形が異なるように、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂを駆動してもよい。
【0064】
走査制御回路３ｃは、ＭＥＭＳ２０を制御する。具体的には、図５に示したα軸およびβ軸それぞれの周りに走査ミラー２１を所定の振れ角幅で振るように（揺動するように）ＭＥＭＳ２０を制御する。
【0065】
温度調整回路３ｄでは、収容部４０内の温度（特に、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂの周囲温度）が所定範囲になるように、ペルチェ素子３０を制御する。収容部４０内に前述したサーミスタなどの温度計測器が設置されている形態では、温度調整回路３ｄは、温度計測器の測定結果に基づいて、ペルチェ素子３０を制御すればよい。
【0066】
光モジュール１は、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂを有する。第１光出力部１０Ａは、第１発光素子１１ａから出力された第１レーザ光Ｌ１を反射部１３ａによって走査ミラー２１に向けて反射している。第２光出力部１０Ｂは、第２発光素子１１ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２を反射部１３ｂによって走査ミラー２１に向けて反射している。
【0067】
モジュール本体２では、反射部１３ａおよび反射部１３ｂは、第１レーザ光Ｌ１の反射面２１ａへの入射方向と、第２レーザ光Ｌ２の反射面２１ａへの入射方向が異なるように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を反射する。すなわち、反射部１３ａおよび反射部１３ｂは、異なる方向から反射面２１ａに入射するように第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａに導く導光部として機能する。
【0068】
図３及び図４に示した形態では、反射部１３ａおよび反射部１３ｂは、仮想平面ＶＰに対して対称に配置されているとともに、反射部１３ａおよび反射部１３ｂは、反射面２１ａの中心Ｏに向けて第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を反射する。これによって、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、ｚ軸方向からみた場合、異なる方向から反射面２１ａに入射する。
【0069】
反射面２１ａに入射した第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射面２１ａによって反射された後、窓部４５から出力される。走査ミラー２１は、駆動部２２によって、図５に示したα軸およびβ軸周りに振られている。そのため、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれは２次元的に走査される。
【0070】
図７に示したように、光モジュール１（具体的には、モジュール本体２）から出力された第１レーザ光Ｌ１の走査範囲が、第１レーザ光Ｌ１に基づく第１検知範囲４ａであり、光モジュール１（具体的には、モジュール本体２）から出力された第２レーザ光Ｌ２の走査範囲が、第２レーザ光Ｌ２に基づく第２検知範囲４ｂである。
【0071】
図７は、光モジュール１で実現可能な検知範囲を模式的に示す図面である。図７中のｓ軸方向は、図５に示したα軸周りに走査ミラー２１が振られることで走査される第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の走査方向である。以下では断らない限り、ｓ軸方向は水平方向である。ｓ軸方向に沿った第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の走査は、ｘ軸方向に沿った走査に対応する。図７中のｔ軸方向は、図５に示したβ軸周りに走査ミラー２１が振られることで走査される第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の走査方向である。ｔ軸方向はｓ軸方向と直交している。なお、図７に示すように、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２とも、ｓ軸方向の走査範囲はｔ軸方向の走査範囲よりも大きい。これは、ＭＥＭＳ２０のα軸周りの振れ角がβ軸周りの振れ角よりも大きいことに対応する。
【0072】
図７において、破線で示した領域は、走査ミラー２１にｙ軸に沿って一本のレーザ光を入射した場合の検知範囲を示している。したがって、図７の破線で示す領域は、光モジュールから検知光が１つのレーザ光である場合に対する光モジュールの検知範囲である。
【0073】
モジュール本体２では、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の反射面２１ａへの入射方向が異なる。そのため、反射面２１ａによる第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の反射方向も異なる。その結果、図７に模式的に示したように、第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂも異なる。走査ミラー２１の振れ角によっては、第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂの一部は重なってもよい。したがって、「第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂも異なる」ことは、第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂが完全に一致していないことを意味する。
【0074】
第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂはそれぞれ物体を検知可能は範囲であることから、第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂによって検知可能な全範囲が光モジュール１の検知範囲４として機能する。
【0075】
【0076】
モジュール本体２では、ｚ軸方向からみて第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の反射面２１ａへの入射方向が異なる。そのため、図７に示したように、第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂは主にｓ軸方向にズレている。その結果、図７において破線で示した検知範囲よりｓ軸方向の幅が広い検知範囲４を実現できる。すなわち、光モジュール１の構成では、ＭＥＭＳ２０に入射するレーザ光が１本の場合より、水平方向（図７におけるｓ軸方向に相当）に広い走査範囲を実現できる。
【0077】
仮に、１本のレーザ光を用いて広い走査範囲を確保するためには、走査ミラー２１の最大振れ角を大きくすることが考えられる。この場合、走査ミラー２１をより大きく捩る必要があるため、ＭＥＭＳ２０が破損し易い。このような破損を防止するには、大きなＭＥＭＳ２０を利用することが考えられるが、その場合、光モジュールのサイズが大きくなる。
【0078】
これに対して、光モジュール１では、反射面２１ａに異なる方向から２本のレーザ光（第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２）を入射することによって広い走査範囲を確保している。したがって、小型のＭＥＭＳ２０を採用してもＭＥＭＳ２０は破損し難い。その結果、光モジュール１では、光モジュール１の大型化を防ぎながら、広い走査範囲を実現できる。
【0079】
第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂが仮想平面ＶＰに対して対称に配置されている形態では、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂのうちの一方の光学系を設計することによって、結果的に、モジュール本体２の設計が可能である。そのため、光モジュール１を製造し易い。
【0080】
モジュール本体２が反射部１３ａおよび反射部１３ｂを有する形態では、反射部１３ａおよび反射部１３ｂは、異なる方向から反射面２１ａに入射するように第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を導く導光部として機能する。モジュール本体２が、異なる方向から反射面２１ａに入射するように第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を導く導光部を有する形態では、導光部によって第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路を調整できるので、反射面２１ａに第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を異なる方向から入射し易い。上記導光部を有する形態では、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂ等の配置位置の自由度が向上することから、収容部４０内の収容空間を有効に活用し易い。その結果、光モジュール１（具体的にはモジュール本体２）の大型化を抑制できる。
【0081】
光モジュール１が制御回路３を備える場合、光モジュール１をＬｉＤＡＲのような検知装置の光源として用いた場合、戻り光が第１レーザ光Ｌ１によるものであるか第２レーザ光Ｌ２によるものであるかを区別し、さらに走査ミラー２１の反射面２１ａの振れ角と紐づけることで、走査範囲内のどこからの戻り光であるかを特定できる。
【0082】
第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の発光タイミングが異なる形態では、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の波長が同じ場合でも、物体から戻ってきた光が、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２のうちのどちらであるかを区別可能である。すなわち、光モジュール１から同じ波長の第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を出力しても、物体が第１検知範囲４ａ内に存在するか、第２検知範囲４ｂ内に存在するかを区別可能である。したがって、モジュール本体２およびそれを備えた光モジュール１は検知装置に適用できる。
【0083】
第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の変調波形が異なる場合も、物体から戻ってきた光が、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２のうちのどちらであるかを区別可能である。すなわち、光モジュール１から同じ波長の第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を出力しても、物体が第１検知範囲４ａ内に存在するか、第２検知範囲４ｂ内に存在するかを区別可能である。したがって、モジュール本体２およびそれを備えた光モジュール１は検知装置に適用できる。
【0084】
次に、計算結果を示して、モジュール本体２（およびそれを含む光モジュール１）が広い走査範囲を確保可能な点を説明する。第１実施形態に対する計算をケースＡと称す。
【0085】
【0086】
図８は、計算モデルを説明するための図面である。図８は、図４における左から走査ミラー２１をみた場合の台座５２および走査ミラー２１を模式的に示している。図８では、ＭＥＭＳ２０のうち走査ミラー２１を図示している。走査ミラー２１は揺動するため、図８では、走査ミラー２１と傾斜面５２ａの間には隙間を設けている。
【0087】
ケースＡにおいて設定した３次元直交座標系は、図３に示した３次元直交座標系と同じである。図８では、３次元直交座標系を走査ミラー２１からずらして図示しているが、前述したように、３次元直交座標系の原点は、反射面２１ａの中心Ｏであった。図８中の破線ａ１は、ｚ軸に対応し、破線ａ２は、走査ミラー２１において傾斜面５２ａと対向する面を含む平面を示している。走査ミラー２１が停止している状態では、走査ミラー２１において傾斜面５２ａと対向する面は、傾斜面５２ａと平行である。つまり、φ＝θＭである。
【0088】
図９は反射面２１ａへの入射ベクトルｉとｙ軸方向との間の角度θｙを説明するための模式図である。図９に示した入射ベクトルｉは、図４に示した第１レーザ光Ｌ１に対応する。角度θｙは、ｙ軸のうち正の領域と入射ベクトルｉとの間の角度で定義し、図９に示したように、右回りの角度を正の角度に設定した。
【0089】
図５におけるα軸周りの右回りの回転角をθｈ、β軸周りの右回りの回転角をθｖとする。ただし走査ミラー２１が駆動していないときをθｈ＝０、θｖ＝０とする。
【0090】
反射面２１ａへのレーザ光の入射ベクトルｉ、反射面２１ａの反射面２１ａの法線ベクトルｃおよび、反射面２１ａに入射したレーザ光の反射ベクトルｒは式（１）、式（２）および式（３）で表される。以下の説明において、各ベクトルは単位ベクトルである。
入射ベクトルｉ＝（ｓｉｎθｙ、ｃｏｓθｙ、０）・・・（１）
法線ベクトルｃ＝（ｓｉｎθｈ、－ｃｏｓθｈ・ｓｉｎφ，ｃｏｓθｈ・ｃｏｓφ）・・・（２）
反射ベクトルｒ＝ｉ＋２（－ｉ・ｃ）ｃ・・・（３）
入射ベクトルｉ＝（ｓｉｎθｙ、ｃｏｓθｙ、０）・・・（１）
法線ベクトルｃ＝（ｓｉｎθｈ、－ｃｏｓθｈ・ｓｉｎφ，ｃｏｓθｈ・ｃｏｓφ）・・・（２）
反射ベクトルｒ＝ｉ＋２（－ｉ・ｃ）ｃ・・・（３）
【0091】
式（２）における角度φは、図８に示したように、図８においてｚ軸に対応する破線ａ１と法線ベクトルｃとの間のなす角度である。角度φは、反射面２１ａのβ軸周りの振れ角θｖと、傾斜面５２ａの傾斜角θＭとの和（φ＝θＭ＋θｖ）である。
【0092】
ケースＡでは、以下の条件で計算した。
・反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲：θｈ＝±２０°
・反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲：θｖ＝±１０°
・台座角度：θＭ＝７０°
・第１レーザ光Ｌ１に対する入射ベクトルｉとｙ軸との間の角度：θｙ＝３０°
・第２レーザ光Ｌ２に対する入射ベクトルｉとｙ軸との間の角度：θｙ＝－３０°
・反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲：θｈ＝±２０°
・反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲：θｖ＝±１０°
・台座角度：θＭ＝７０°
・第１レーザ光Ｌ１に対する入射ベクトルｉとｙ軸との間の角度：θｙ＝３０°
・第２レーザ光Ｌ２に対する入射ベクトルｉとｙ軸との間の角度：θｙ＝－３０°
【0093】
第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれを表す入射ベクトルｉに対して反射面２１ａを上記α軸周りの振れ角およびβ軸周りの振れ角の範囲で２軸に振りながら、反射ベクトルｒを計算した。第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれを表す入射ベクトルｉに対して計算された反射ベクトルｒがモジュール本体２から出力される第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２に対応する。したがって、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれを表す入射ベクトルｉに対して計算された反射ベクトルｒの走査範囲が第１検知範囲４ａおよび第２検知範囲４ｂに対応する。
【0094】
図１０は、ケースＡの結果を示した図面である。図１０では、計算によって得られた反射ベクトルｒをｘｚ平面とｙｚ平面からみた場合において、反射ベクトルｒとｚ軸との間の角度をプロットしている。図１０の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。図１０の横軸における正方向が、走査ミラー２１のα軸周りの振り角における正方向に対応し、図１０の縦軸における正方向が、走査ミラー２１のβ軸周りの振り角における正方向に対応する。この点は、後述する計算結果を示す図面において同じである。
【0095】
図１０中の実線は、第１レーザ光Ｌ１に対する結果であり、破線は第２レーザ光Ｌ２に対する結果である。
【0096】
図１０では、参考のために、発光素子が１つの場合に対する計算結果を、レーザ光Ｌ０の結果として示している。レーザ光Ｌ０に対する計算では、レーザ光Ｌ０をｙ軸に沿って反射面２１ａに入射した。すなわち、θｙ＝０として計算した。
【0097】
第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａに入射しながら走査ミラー２１を駆動した場合、図１０に示した第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域が光モジュールの最大走査範囲である。一方、図１０においてレーザ光Ｌ０の結果は、発光素子の数が１つ、すなわち、反射面２１ａに入射されるレーザ光の数が１つである光モジュールの走査範囲を示している。
【0098】
図１０より、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。特に、ｘ軸方向において、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。したがって、２本のレーザ光を異なる方向異なる方向から反射面２１ａに入射することによって、走査範囲を広げられることが図１０から理解され得る。
【0099】
光モジュール１が有するモジュール本体２の構成は、図３および図４に示した構成に限定されない。以下に、モジュール本体の種々の実施形態を説明する。各実施形態で説明するモジュール本体は、モジュール本体２の代わりに光モジュール１を構成する。各実施形態で説明するモジュール本体の作用効果は、モジュール本体２の代わりに各実施形態のモジュール本体を備えた光モジュール１の作用効果に対応する。各実施形態で説明するモジュール本体は、モジュール本体２が有する収容部４０を有する。
【0100】
（第２実施形態）
図１１は、第２実施形態に係るモジュール本体２Ａの斜視図である。図１１では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ａを図示している。図１２は、図１１に示したモジュール本体２Ａの平面図である。モジュール本体２Ａは、ＭＥＭＳ２０が表面３１ａに平行に配置されている点で主にモジュール本体２と相違する。この相違点を中心としてモジュール本体２Ａを説明する。
図１１は、第２実施形態に係るモジュール本体２Ａの斜視図である。図１１では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ａを図示している。図１２は、図１１に示したモジュール本体２Ａの平面図である。モジュール本体２Ａは、ＭＥＭＳ２０が表面３１ａに平行に配置されている点で主にモジュール本体２と相違する。この相違点を中心としてモジュール本体２Ａを説明する。
【0101】
モジュール本体２Ａは、第１光出力部１０Ａ、第２光出力部１０ＢおよびＭＥＭＳ２０を備える。モジュール本体２Ａは、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を、ペルチェ素子３０の近くに且つ表面３１ａと平行に配置されたＭＥＭＳ２０に向けて導くための反射部（第３反射部）６１を更に備える。
【0102】
第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂは、台座５１に搭載されている。第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂの構成および配置関係は、反射部１３ａおよび反射部１３ｂが、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を反射部６１に向けて反射する点以外は、モジュール本体２が備える第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂと同じである。
【0103】
反射部６１は、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査ミラー２１に向けて反射する。第２実施形態においても、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射面２１ａの中心Ｏに異なる方向から入射する。第２実施形態において、反射部１３ａおよび反射部６１並びに反射部１３ｂおよび反射部６１は、走査ミラー２１に異なる方向から第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２が入射するように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査ミラ－２１に向けて導く導光部として機能する。反射部６１は、支持板（第３支持体）５４に取り付けられている。反射部６１は、支持板５４に接着剤で固定されてよい。
【0104】
ＭＥＭＳ２０は、ペルチェ素子３０の近くにおいて、表面３１ａに平行に配置されている。具体的には、ＭＥＭＳ２０は、走査ミラー２１が停止している場合（図５に示したα軸およびβ軸それぞれに対する振れ角が０の場合）において、反射面２１ａが表面３１ａと平行であるように配置されている。ＭＥＭＳ２０は、図示しない支持板を介して表面３１ａに設置されていてもよい。ＭＥＭＳ２０の構成は、モジュール本体２が備えるＭＥＭＳ２０と同じである。
【0105】
図１３は、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路を模式的に示す図面である。図１３に示したように、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射部６１で反射して反射面２１ａに入射する。反射面２１ａに入射した第１レーザ光Ｌ１は、反射面２１ａで反射され、窓部４５（図１参照）から出力される。走査ミラー２１が２次元的に駆動されることから、第１レーザ光Ｌ１も２次元的に走査されて窓部４５から出力される。
【0106】
図１３は、反射部６１および走査ミラー２１を含む光学系をｘ軸方向からみた図面に対応する。そのため、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路として同じ光路を図示している。しかしながら、ｚ軸方向からみた場合は、図１２に示したように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路は異なっているとともに、異なる方向から反射面２１ａに入射する。
【0107】
モジュール本体２Ａにおいても、上記のように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれは、ＭＥＭＳ２０によって２次元的に走査されながら、モジュール本体２Ａから出力される。第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射面２１ａに対して異なる方向から入射する。そのため、第２実施形態に係るモジュール本体２Ａでも、走査範囲の拡大が図れている。
【0108】
モジュール本体２Ａにおいて、反射部１３ａ、反射部１３ｂおよび反射部６１は、異なる方向から第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２が反射面２１ａに入射するように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査ミラー２１に向けて導く導光部として機能する。このような導光部をモジュール本体２Ａが有する点に関する作用効果は、第１実施形態の場合と同じである。
【0109】
モジュール本体２Ａは、モジュール本体２の場合と同じ制御回路３によって制御される。制御回路３による制御方法もモジュール本体２の場合と同じでよい。
【0110】
次に、第２実施形態に対する計算結果を説明する。第２実施形態に対する計算をケースＢと称す。ケースＢにおいても、走査ミラー２１の反射面２１ａの中心Ｏを原点とした３次元直交座標系を設定した。ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の方向は第１実施形態の場合と同じであった。ケースＢの説明においても、図５に示したα軸およびβ軸を使用する。
【0111】
ケースＢでは、図１４に示した計算モデルを使用した。図１４に示した計算モデルは、反射部Ｍで反射したレーザ光を反射面２１ａに入射する形態に対応する計算モデルである。ケースＢにおいて、反射部Ｍは、図１１および図１２に示した反射部６１に対応する。
【0112】
反射部Ｍへのレーザ光の入射ベクトルｊ、反射部Ｍの法線ベクトルｎおよび反射部Ｍに入射したレーザ光の反射ベクトルｋは、式（４）、式（５）および式（６）で表される。
入射ベクトルｊ＝（ｓｉｎθｙ、ｃｏｓθｙ，０）・・・（４）
法線ベクトルｎ＝（０，－ｃｏｓθｚ，－ｓｉｎθｚ）・・・（５）
反射ベクトルｋ＝ｊ＋２（－j・ｎ）ｎ・・・（６）
入射ベクトルｊ＝（ｓｉｎθｙ、ｃｏｓθｙ，０）・・・（４）
法線ベクトルｎ＝（０，－ｃｏｓθｚ，－ｓｉｎθｚ）・・・（５）
反射ベクトルｋ＝ｊ＋２（－j・ｎ）ｎ・・・（６）
【0113】
反射面２１ａへのレーザ光の入射ベクトルｉ、反射面２１ａの反射面２１ａの法線ベクトルｃおよび、反射面２１ａに入射したレーザ光の反射ベクトルｒは式（７）、式（８）および式（９）で表される。
入射ベクトルｉ＝反射ベクトルｋ・・・（７）
法線ベクトルｃ＝（ｓｉｎθｈ，－ｃｏｓθｈ・ｓｉｎθｖ，ｃｏｓθｈ・ｃｏｓθv）・・・（８）
反射ベクトルｒ＝ｉ＋２（－ｉ・ｃ）ｃ・・・（９）
式（４）から式（９）において、θｙ、θｚ、θｈおよびθｖは次のとおりである。
θｙは、反射部Ｍに入射するレーザ光に対応する入射ベクトルｊとｙ軸の間の角度であり、図９に示した入射ベクトルｉを入射ベクトルｊとした場合の角度である。
θｚは、反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角である。
θｈは、第２実施形態の場合と同様に、反射面２１ａのα軸周りの振れ角である。
θｖは、第２実施形態の場合と同様に、反射面２１ａのβ軸周りの振れ角である。
入射ベクトルｉ＝反射ベクトルｋ・・・（７）
法線ベクトルｃ＝（ｓｉｎθｈ，－ｃｏｓθｈ・ｓｉｎθｖ，ｃｏｓθｈ・ｃｏｓθv）・・・（８）
反射ベクトルｒ＝ｉ＋２（－ｉ・ｃ）ｃ・・・（９）
式（４）から式（９）において、θｙ、θｚ、θｈおよびθｖは次のとおりである。
θｙは、反射部Ｍに入射するレーザ光に対応する入射ベクトルｊとｙ軸の間の角度であり、図９に示した入射ベクトルｉを入射ベクトルｊとした場合の角度である。
θｚは、反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角である。
θｈは、第２実施形態の場合と同様に、反射面２１ａのα軸周りの振れ角である。
θｖは、第２実施形態の場合と同様に、反射面２１ａのβ軸周りの振れ角である。
【0114】
ケースＢでは、以下の条件で計算を実施した。
・反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲：θｈ＝±２０°
・反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲：θｖ＝±１０°
・第１レーザ光Ｌ１に対する入射ベクトルｊとｙ軸との間の角度：θｙ＝３０°
・第２レーザ光Ｌ２に対する入射ベクトルｊとｙ軸との間の角度：θｙ＝－３０°
・反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角：θｚ＝３５°
・反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲：θｈ＝±２０°
・反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲：θｖ＝±１０°
・第１レーザ光Ｌ１に対する入射ベクトルｊとｙ軸との間の角度：θｙ＝３０°
・第２レーザ光Ｌ２に対する入射ベクトルｊとｙ軸との間の角度：θｙ＝－３０°
・反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角：θｚ＝３５°
【0115】
ケースＢでは、第１レーザ光Ｌ１を反射面２１ａに入射するとともに、反射面２１ａを上記α軸周りの振れ角およびβ軸周りの振れ角の範囲で２軸に振りながら、反射ベクトルｒを計算した。同様にして、第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａに入射したケースについて、反射ベクトルｒを計算した。
【0116】
図１５は、第２実施形態に対する計算結果を示した図面である。図１５では、計算によって得られた反射ベクトルｒをｘｚ平面とｙｚ平面からみた場合に、反射ベクトルｒとｚ軸との間の角度をプロットしている。図１５の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。
【0117】
図１５中の実線は、第１レーザ光Ｌ１に対する結果であり、一点鎖線は第２レーザ光Ｌ２に対する結果である。図１５においても、参考のために、発光素子が１つの場合に対する計算結果を、レーザ光Ｌ０の結果として示している。レーザ光Ｌ０に対する計算では、レーザ光Ｌ０をｙ軸に沿って反射部６１に入射した場合を想定した。すなわち、θｙ＝０として計算を実施した。θｙ＝０とした点以外は、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する計算と同じ条件でレーザ光Ｌ０に対する計算を実施した。
【0118】
第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａに入射しながら走査ミラー２１を駆動した場合、図１５に示した第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域が、モジュール本体２Ａを備えた光モジュール１の最大走査範囲である。一方、図１５においてレーザ光Ｌ０の結果は、発光素子の数が１つ、すなわち、反射面２１ａに入射されるレーザ光の数が１つである光モジュールの走査範囲を示している。
【0119】
図１５より、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。特に、ｘ軸方向において、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。したがって、２本のレーザ光を異なる方向から反射面２１ａに入射することによって、走査範囲を広げられることが図１５から理解され得る。
【0120】
（第３実施形態）
図１６は、第３実施形態に係るモジュール本体２Ｂの斜視図である。図１６では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ｂを図示している。図１７は、図１６に示したモジュール本体２Ｂの平面図である。
図１６は、第３実施形態に係るモジュール本体２Ｂの斜視図である。図１６では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ｂを図示している。図１７は、図１６に示したモジュール本体２Ｂの平面図である。
【0121】
図１６に示したモジュール本体２Ｂは、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂの代わりに一つの第３光出力部１０Ｃを備える点、反射部６１の代わりに反射部６２および反射部６３を備える点で第２実施形態に係るモジュール本体２Ａと主に相違する。
【0122】
第３実施形態においても、反射面２１ａの中心Ｏを原点とするｘ軸、ｙ軸およびｚ軸によって規定される３次元直交座標系を用いてモジュール本体２Ｂを説明する。ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の方向は、第１実施形態および２実施形態の場合と同じである。
【0123】
第３光出力部１０Ｃは、台座５１に搭載されている。第３光出力部１０Ｃは、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂ、偏光調整部１４ａおよび合波部１５ａを有する。
【0124】
第１発光素子１１ａは、第１レーザ光Ｌ１を出力する。第１発光素子１１ａの例および第１レーザ光Ｌ１の例は、第１実施形態における第１発光素子１１ａの例および第１レーザ光Ｌ１の例と同じである。第１発光素子１１ａは、第１素子搭載部５３ａに搭載されている。
【0125】
第２発光素子１１ｂは、第２レーザ光Ｌ２を出力する。第２発光素子１１ｂの例および第２レーザ光Ｌ２の例は、第１実施形態における第２発光素子１１ｂの例および第２レーザ光Ｌ２の例と同じである。第２発光素子１１ｂは、第２素子搭載部５３ｂに搭載されている。
【0126】
第３実施形態においても、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、第１偏光である。
【0127】
第１発光素子１１ａは、ｘ軸方向に沿って第１レーザ光Ｌ１を出力するように台座５１に配置されている。第２発光素子１１ｂは、第２発光素子１１ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２が、第１発光素子１１ａからの第１レーザ光Ｌ１の出力方向と交差するように台座５１上に配置されている。第３実施形態では、第２発光素子１１ｂからの第２レーザ光Ｌ２の出力方向は、ｙ軸方向である。
【0128】
第１コリメート部１２ａおよび第２コリメート部１２ｂは台座５１に搭載されている。第１コリメート部１２ａは、第１発光素子１１ａから出力される第１レーザ光Ｌ１の光路に配置されている。第２コリメート部１２ｂは、第２発光素子１１ｂから出力される第２レーザ光Ｌ２の光路に配置されている。
【0129】
偏光調整部１４ａは、第１発光素子１１ａと合波部１５ａの間に配置されている。図１６および図１７では、偏光調整部１４ａは、第１発光素子１１ａと第１コリメート部１２ａとの間に配置されている形態を例示している。偏光調整部１４ａは入射された第１レーザ光Ｌ１の偏光を第１偏光から第２偏光に変更する。第３実施形態において、偏光調整部１４ａはλ／２板である。この場合、第２偏光は第１偏光の偏光方向が９０°回転された直線偏光である。偏光調整部１４ａは、台座５１に固定される。
【0130】
合波部１５ａは、台座５１に搭載されている。合波部１５ａは、第１レーザ光Ｌ１の光路と第２レーザ光Ｌ２の光路の交点に配置されている。合波部１５ａは、第1偏光の光を透過し、第２偏光の光を反射する反射部でもある。合波部１５ａは、第１偏光の光を透過し、第２偏光の光を反射する偏光合波素子である。たとえば、偏光ビームスプリッタを偏光合波素子として使用できる。合波部１５ａは、たとえば紫外線硬化樹脂によって台座５１に固定される。
【0131】
第３実施形態において、合波部１５ａは、合波部１５ａから出力される第１偏光の光と合波部１５ａによって反射される第２偏光の光が同軸であるように配置されている。以下、合波部１５ａからの出力光を、合波部１５ａに入射された２つの光の合波光と称す。
【0132】
合波部１５ａに入射する第１レーザ光Ｌ１は、偏光調整部１４ａを通過していることから、第２偏光の光である。合波部１５ａに入射する第２レーザ光Ｌ２は、第１偏光の光である。したがって、合波部１５ａは、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の合波光Ｌ１２を出力する。
【0133】
合波部１５ａから出力される合波光Ｌ１２の光路に、合波部１５ａの近い方から順に、反射部（第１反射部）６２および反射部（第２反射部）６３が配置されている。
【0134】
反射部６２は、第２レーザ光Ｌ２を透過するとともに、第１レーザ光Ｌ１を走査ミラー２１に向けて反射する。第１レーザ光Ｌ１は第２偏光の光であり、第２レーザ光Ｌ２は第１偏光の光である。よって、反射部６２は、第１偏光の光を透過し、第２偏光の光を反射する偏光分離素子（たとえば偏光ビームスプリッタ）でよい。反射部６２は、たとえば、図１６に示したように、支持板５５に支持されている。
【0135】
反射部６３は、反射部６２を透過した第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射する。反射部６３は光をその偏光状態に関わらず反射するミラーでよい。反射部６３は、たとえば、図１６に示したように、支持板５６に支持されている。
【0136】
図１６に示したように、反射部６２が支持板５５によって支持されている形態では、支持板５５には、反射部６３で反射された第１レーザ光Ｌ１を通すように構成されている。たとえば、支持板５５には、反射部６３で反射された第１レーザ光Ｌ１を通すための開口部５５ａが形成されていてもよい。
【0137】
ＭＥＭＳ２０の構成および配置形態は、第２実施形態の場合と同じである。すなわち、ＭＥＭＳ２０は、ペルチェ素子３０の近くにおいて、表面３１ａに平行に配置されている。ＭＥＭＳ２０は、図示しない支持板を介して表面３１ａに取り付けられていてもよい。
【0138】
図１８は、第３光出力部１０Ｃから出力された合波光（第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２）の光路を模式的に示す図面である。図１８では、走査ミラー２１が駆動されていな状態として走査ミラー２１を図示している。
【0139】
図１８に示したように、第３光出力部１０Ｃから出力された合波光Ｌ１２は反射部６２に入射する。反射部６２に入射した合波光Ｌ１２のうち第１レーザ光Ｌ１は反射部６２によって走査ミラー２１に向けて反射される一方、第２レーザ光Ｌ２は反射部６２を透過する。図１８では、反射部６２を透過した第２レーザ光Ｌ２を破線で示している。反射部６２を透過した第２レーザ光Ｌ２は反射部６３に入射する。反射部６３に入射した第２レーザ光Ｌ２は反射部６３によって走査ミラー２１に向けて反射される。
【0140】
反射面２１ａに入射した第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射面２１ａで反射され、窓部４５から出力される。走査ミラー２１が２次元的に駆動されることから、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２も２次元的に走査されて窓部４５から出力される。そのため、図１９に示したように、第１レーザ光Ｌ１の第１検知範囲４ａおよび第２レーザ光Ｌ２の第２検知範囲４ｂは異なる。図１９は、第３実施形態に係るモジュール本体２Ｂ（光モジュール１）の検知範囲の模式図である。図１９におけるｓ軸方向およびｔ軸方向は、図７の場合と同じである。
【0141】
反射部６２および反射部６３のｙ軸方向の位置は異なる。反射部６２および反射部６３は、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査ミラー２１の同じ位置（第３実施形では、反射面２１ａの中心Ｏ）に向けて反射する。この場合、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の反射面２１ａへの入射方向は異なる。具体的には、図１８に示したように、ｘ軸方向からみた場合において、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の反射面２１ａへの入射方向が異なる。その結果、図１９に示したように、第３実施形態では、第１検知範囲４ａと第２検知範囲４ｂとは、ｔ軸方向にズレている。よって、第３実施形態では、主にｔ軸方向の走査範囲を広げることができる。
【0142】
モジュール本体２Ｂにおいて、反射部６２および反射部６３は、異なる方向から第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２が反射面２１ａに入射するように、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査ミラー２１に向けて導く導光部として機能する。このような導光部をモジュール本体２Ｂが有する点に関する作用効果は、第１実施形態の場合と同じである。
【0143】
モジュール本体２Ｂは、モジュール本体２の場合と同じ制御回路３によって制御される。制御回路３による制御方法もモジュール本体２の場合と同じでよい。
【0144】
次に、第３実施形態に対する計算結果を説明する。第３実施形態に対する計算をケースＣと称す。ケースＣにおいても、反射面２１ａの中心Ｏを原点とした３次元直交座標系を設定した。ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の方向は第１実施形態の場合と同じであった。ケースＣの説明においても、図５に示したα軸およびβ軸を使用する。
【0145】
反射部６２および反射部６３それぞれと走査ミラー２１との関係は、反射部６１と走査ミラー２１の関係と同じである。そのため、ケースＣの計算モデルには、図１４に示した計算モデルを使用した。
【0146】
反射部６２で反射された第１レーザ光Ｌ１に対する計算において、図１４に示した反射部Ｍは、反射部６２に対応する。反射部６３で反射された第２レーザ光Ｌ２に対する計算において、図１４に示した反射部Ｍは、反射部６３に対応する。以下、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれに対する計算を区別する場合には、反射部Ｍを反射部６２および反射部６３と称す。
【0147】
反射部６２および反射部６３に対する入射ベクトルｊ、法線ベクトルｎおよび反射ベクトルｋには、式（４）から式（６）を使用した。反射面２１ａに対する入射ベクトルｉ、法線ベクトルｃおよび反射ベクトルｒには、式（７）から式（９）を使用した。
【0148】
モジュール本体２Ｂでは、合波部１５ａから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、ｙ軸方向に沿って伝播する。したがって、ケースＣにおいて、反射部６２および反射部６３に対するθｙをいずれも０に設定した。
【0149】
反射部６２からの反射ベクトルｋにおけるθｚ（第１レーザ光Ｌ１に対するθｚ）を２０°に設定し、反射部６３からの反射ベクトルｋにおけるθｚ（第２レーザ光Ｌ２に対するθｚ）を５０°に設定した。
【0150】
ケースＣでは反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲および反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲をケースＢの場合と同じ条件（すなわち、θｈ＝±２０°、θｖ＝±１０°）で計算を実施した。
【0151】
図２０は、第３実施形態に対するケースＣの結果を示す図面である。図２０においても、計算によって得られた反射ベクトルｒをｘｚ平面とyｚ平面からみた場合に、反射ベクトルｒとｚ軸との間の角度をプロットしている。図２０の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。
【0152】
図２０中の実線は、第１レーザ光Ｌ１に対する結果であり、破線は第２レーザ光Ｌ２に対する結果である。
【0153】
第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２を反射面２１ａに入射しながら走査ミラー２１を駆動した場合、図２０に示した第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域が光モジュール１の最大走査範囲である。一方、モジュール本体２Ｂの構成では、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する結果が、発光素子の数が１つ、すなわち、反射面２１ａに入射されるレーザ光の数が１つである光モジュールの走査範囲に対応する。
【0154】
したがって、図２０より、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する走査範囲より広い。特に、ｙ軸方向において、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する走査範囲より広い。したがって、モジュール本体２Ｂの構成により、垂直方向（図１９におけるｔ軸方向に相当）に走査範囲を広げられることが図２０から理解され得る。
【0155】
（変形例１）
図２１は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１による第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路の変形例を説明するための図面である。
図２１は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１による第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路の変形例を説明するための図面である。
【0156】
変形例１において、反射部６２は、第１レーザ光Ｌ１を反射するとともに、第２レーザ光Ｌ２を透過する偏光分離素子であり、反射部６３は、第２レーザ光Ｌ２を反射するとともに、第１レーザ光Ｌ１を透過する偏光分離素子である。変形例１の反射部６２および反射部６３の例は、偏光ビームスプリッタである。
【0157】
図２１に示したように、反射部６２に入射された合波光Ｌ１２のうち第１レーザ光Ｌ１は反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射される一方、第２レーザ光Ｌ２は反射部６２を透過して反射部６３に入射する。反射部６３に入射した第２レーザ光Ｌ２は、反射部６３によって反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射される。図２１では、反射部６２で反射された後の第１レーザ光Ｌ１の光路を破線で示している。
【0158】
変形例１においては、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１は、反射部６２で走査ミラー２１に向けて反射された第１レーザ光Ｌ１が、反射面２１ａで反射された後に、反射部６３を透過するとともに、反射部６３で走査ミラー２１に向けて反射された第２レーザ光Ｌ２が、反射面２１ａで反射された後に、反射部６２を透過するように配置されている。
【0159】
変形例１では、走査ミラー２１の駆動を停止している状態において、反射部６２によって反射された後、反射部６３から出力される第１レーザ光Ｌ１の光路と、反射部６３によって反射された後、反射部６２から出力される第２レーザ光Ｌ２の光路とが対称であるように、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１は配置されている。たとえば、走査ミラー２１は、ｙ軸方向において、反射部６２および反射部６３の中央に配置され得る。
【0160】
変形例１では、反射面２１ａで反射された後に、反射部６２および反射部６３それぞれを透過した第２レーザ光Ｌ２および第１レーザ光Ｌ１が、変形例１の光路が適用されたモジュール本体２Ｂの出力光である。反射部６２および反射部６３は、走査ミラー２１で２次元的に走査された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２が通過可能なサイズを有する。
【0161】
変形例１で説明した反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１による第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路を採用した場合のケースＤを説明する。
【0162】
第１レーザ光Ｌ１に対するθｚを５４°に設定し、第２レーザ光Ｌ２に対するθｚを３６°に設定した点以外は、ケースＣと同じ条件でケースＤを実施した。
【0163】
図２２は、変形例１に対するケースＤの結果を示す図面である。図２２における計算結果のプロットの方法は、図２０の場合と同じである。図２２の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。図２２では、実線が第２レーザ光Ｌ２に対する結果であり、一点鎖線が第１レーザ光Ｌ１に対する結果である。
【0164】
図２２より、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する走査範囲より広い。特に、ｙ軸方向において、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２の結果を合わせた領域の走査範囲は、第１レーザ光Ｌ１（または第２レーザ光Ｌ２）に対する走査範囲より広い。したがって、モジュール本体２Ｂにおいて、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１によって実現される第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路として図２１に示した光路を採用した場合でも、走査範囲を広げられることが図２２から理解され得る。
【0165】
変形例１では、走査ミラー２１の駆動を停止している状態において、反射部６２によって反射された後、反射部６３から出力される第１レーザ光Ｌ１の光路と、反射部６３によって反射された後、反射部６２から出力される第２レーザ光Ｌ２の光路とが対称である。そのため、第１レーザ光Ｌ１の走査範囲および第２レーザ光Ｌ２の走査範囲は、ｘ軸に対応する軸に対して対称に形成されやすい。したがって、変形例１を採用したモジュール本体２Ｂにおける全走査範囲（第１レーザ光Ｌ１の走査範囲および第２レーザ光Ｌ２の走査範囲を合わせた範囲）に生じる歪みを抑制できる。上記歪みは、レーザ光を走査しながら伝播することに伴う歪みである。このような歪みを抑制できることから、歪み解消のために、モジュール本体２Ｂから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれの光路を更に修正する必要が低減する。そのため、効率的に所望の検知範囲４をレーザ光によって走査できる。
【0166】
（第４実施形態）
図２３は、第４実施形態に係るモジュール本体２Ｃの斜視図である。図２３では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ｃを示している。図２４は、図２３に示したモジュール本体２Ｃの平面図である。
図２３は、第４実施形態に係るモジュール本体２Ｃの斜視図である。図２３では、カバー４２が取り外された状態のモジュール本体２Ｃを示している。図２４は、図２３に示したモジュール本体２Ｃの平面図である。
【0167】
モジュール本体２Ｃは、第３光出力部１０Ｃの代わりに、第４光出力部１０Ｄおよび第５光出力部１０Ｅを備える点で主に第３実施形態に係るモジュール本体２Ｂと相違する。第４実施形態においても、反射面２１ａの中心Ｏを原点とするｘ軸、ｙ軸およびｚ軸によって規定される３次元直交座標系を用いてモジュール本体２Ｃを説明する。ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の方向は、第２実施形態および３実施形態の場合と同じである。
【0168】
第４光出力部１０Ｄおよび第５光出力部１０Ｅは、台座５１に搭載されている。第４光出力部１０Ｄおよび第５光出力部１０Ｅは、仮想平面ＶＰに対して対称に配置されている。第４実施形態において、仮想平面ＶＰは、ｙｚ平面に対応する。
【0169】
［第４光出力部］
第４光出力部１０Ｄは、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂ、偏光調整部１４ａ、反射部（第１反射部）１６ａおよび反射部（第２反射部）１７ａを有する。
第４光出力部１０Ｄは、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂ、偏光調整部１４ａ、反射部（第１反射部）１６ａおよび反射部（第２反射部）１７ａを有する。
【0170】
第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂおよび偏光調整部１４ａの構成および配置形態は、第２発光素子１１ｂが、ｘ軸方向においてｙ軸から離れている点で第３光出力部１０Ｃの場合と異なる点以外は、第３光出力部１０Ｃと同じである。
【0171】
すなわち、第１発光素子１１ａは、ｘ軸方向に沿って第１レーザ光Ｌ１を出力するように台座５１に配置されている。第２発光素子１１ｂは、第２発光素子１１ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２が、第１発光素子１１ａからの第１レーザ光Ｌ１の出力方向と交差するように配置されている。第４実施形態では、第２発光素子１１ｂからの第２レーザ光Ｌ２の出力方向はｙ軸方向である。第１コリメート部１２ａは第１レーザ光Ｌ１の光路に配置されている。第２コリメート部１２ｂは、第２レーザ光Ｌ２の光路に配置されている。
【0172】
偏光調整部１４ａは、第１発光素子１１ａと反射部１６ａの間に配置されている。図２３では、偏光調整部１４ａは、第１発光素子１１ａと第１コリメート部１２ａの間に配置されている形態を例示している。偏光調整部１４ａは入射される第１レーザ光Ｌ１の偏光を第１偏光から第２偏光に変更する。第４実施形態において、偏光調整部１４ａはλ／２板である。この場合、第２偏光は第１偏光の偏光方向が９０°回転された直線偏光である。
【0173】
反射部１６ａおよび反射部１７ａは台座５１に搭載されている。反射部１６ａおよび反射部１７ａは、紫外線硬化樹脂によって台座５１に固定されてよい。
【0174】
反射部１６ａは、第１レーザ光Ｌ１の光路と第２レーザ光Ｌ２の光路の交点に配置されている。反射部１６ａは、第２偏光の光を反射するとともに、第１偏光の光を透過する。反射部１６ａは、たとえば偏光ビームスプリッタである。反射部１６ａに入射される第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、第２偏光の光および第１偏光の光である。よって、反射部１６ａは、第１レーザ光Ｌ１を反射し、第２レーザ光Ｌ２を透過する。反射部１６ａは、反射部１６ａで反射された第１レーザ光Ｌ１の光路と反射部１６ａを透過した第２レーザ光Ｌ２の光路とが異なるように配置されている。
【0175】
反射部１７ａは、反射部１６ａで反射された第１レーザ光Ｌ１を反射部６２に向けて反射するとともに、反射部１６ａを透過した第２レーザ光Ｌ２を反射部６３に向けて反射する。反射部１７ａは偏光無依存ミラーでよい。
【0176】
［第５光出力部］
第５光出力部１０Ｅは、第３発光素子１１ｃ、第４発光素子１１ｄ、第３コリメート部１２ｃ、第４コリメート部１２ｄ、偏光調整部１４ｂ、反射部（第５反射部）１６ｂおよび反射部（第６反射部）１７ｂを有する。第４実施形態において、第３発光素子１１ｃ、第４発光素子１１ｄ、第３コリメート部１２ｃ、第４コリメート部１２ｄ、偏光調整部１４ｂ、反射部１６ｂおよび反射部１７ｂは、仮想平面ＶＰに対して、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂ、偏光調整部１４ａ、反射部１６ａおよび反射部１７ａと対称に配置されている。
第５光出力部１０Ｅは、第３発光素子１１ｃ、第４発光素子１１ｄ、第３コリメート部１２ｃ、第４コリメート部１２ｄ、偏光調整部１４ｂ、反射部（第５反射部）１６ｂおよび反射部（第６反射部）１７ｂを有する。第４実施形態において、第３発光素子１１ｃ、第４発光素子１１ｄ、第３コリメート部１２ｃ、第４コリメート部１２ｄ、偏光調整部１４ｂ、反射部１６ｂおよび反射部１７ｂは、仮想平面ＶＰに対して、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第１コリメート部１２ａ、第２コリメート部１２ｂ、偏光調整部１４ａ、反射部１６ａおよび反射部１７ａと対称に配置されている。
【0177】
第３発光素子１１ｃは、ｘ軸方向に沿って第３レーザ光Ｌ３を出力するように台座５１に配置されている。第３発光素子１１ｃの例は第１発光素子１１ａの例と同じである。第３発光素子１１ｃは、第１発光素子１１ａと仮想平面ＶＰに対して対称に配置されている。したがって、第３レーザ光Ｌ３は、第３発光素子１１ｃから、第１発光素子１１ａに向けて出力される。第３レーザ光Ｌ３の例は、第１レーザ光Ｌ１の例と同じでよい。第３発光素子１１ｃは、台座５１に固定された第３素子搭載部５３ｃに搭載されている。第３素子搭載部５３ｃは、第１素子搭載部５３ａと同じ構成を有してよい。第４実施形態において、第３レーザ光Ｌ３は、第１レーザ光Ｌ１と同じレーザ光である。このように第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３が同じ場合、第１発光素子１１ａおよび第３発光素子１１ｃとして同じ特性の発光素子を使用できる。
【0178】
第４発光素子１１ｄは、第４発光素子１１ｄから出力された第４レーザ光Ｌ４が、第３発光素子１１ｃからの第３レーザ光Ｌ３の出力方向と交差するように台座５１に配置されている。第４発光素子１１ｄの例は第２発光素子１１ｂと同じである。第４発光素子１１ｄは、第２発光素子１１ｂと仮想平面ＶＰに対して対称に配置されている。したがって、第４発光素子１１ｄからの第４レーザ光Ｌ４の出力方向は、ｙ軸方向である。第４レーザ光Ｌ４の例は、第２レーザ光Ｌ２の例と同じでよい。第４発光素子１１ｄは、台座５１に固定された第４素子搭載部５３ｄに搭載されている。第４素子搭載部５３ｄは、第２素子搭載部５３ｂと同じ構成を有してよい。第４実施形態において、第４レーザ光Ｌ４は、第２レーザ光Ｌ２と同じレーザ光である。このように第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４が同じ場合、第２発光素子１１ｂおよび第４発光素子１１ｄとして同じ特性の発光素子を使用できる。
【0179】
第３コリメート部１２ｃおよび第４コリメート部１２ｄは台座５１に搭載されている。第３コリメート部１２ｃは、第３発光素子１１ｃから出力される第３レーザ光Ｌ３の光路に配置されている。第４コリメート部１２ｄは、第４発光素子１１ｄから出力される第４レーザ光Ｌ４の光路に配置されている。第３コリメート部１２ｃおよび第４コリメート部１２ｄはレンズでよい。第３コリメート部１２ｃおよび第４コリメート部１２ｄは、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光をコリメート光（平行光）として出力する。
【0180】
偏光調整部１４ｂは、第３発光素子１１ｃと反射部１６ｂの間に配置されている。図２３では、偏光調整部１４ｂは、第３発光素子１１ｃと第３コリメート部１２ｃとの間に配置されている形態を例示している。偏光調整部１４ｂは入射される第３レーザ光Ｌ３の偏光を第１偏光から第２偏光に変更する。第４実施形態において、偏光調整部１４ｂはλ／２板である。
【0181】
反射部１６ｂおよび反射部１７ｂは、台座５１に搭載されている。反射部１６ｂおよび反射部１７ｂは、紫外線硬化樹脂によって台座５１に固定されてよい。
【0182】
反射部１６ｂは、第３レーザ光Ｌ３の光路と第４レーザ光Ｌ４の光路の交点に配置されている。反射部１６ｂは、第２偏光の光を反射するとともに、第１偏光の光を透過する。反射部１６ｂは、たとえば偏光ビームスプリッタである。反射部１６ｂに入射される第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４は、それぞれ、第２偏光の光および第１偏光の光である。よって、反射部１６ｂは、第３レーザ光Ｌ３を反射し、第４レーザ光Ｌ４を透過する。反射部１６ｂは、反射部１６ｂで反射された第３レーザ光Ｌ３の光路と反射部１６ｂを透過した第４レーザ光Ｌ４の光路とが異なるように配置されている。
【0183】
反射部１７ｂは、反射部１６ｂで反射された第３レーザ光Ｌ３を反射部６２に向けて反射するとともに、反射部１６ｂを透過した第４レーザ光Ｌ４を反射部６３に向けて反射する。反射部１７ｂは偏光無依存のミラーでよい。
【0184】
反射部（第３反射部）６２および反射部（第４反射部）６３は、ｙ軸方向に沿って反射部６２および反射部６３の順に配置されている。
【0185】
反射部６２は、第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３を反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射する。図２４に示したように、反射部６３に向かう第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４が反射部６２にも入射する場合、反射部６２は、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４を透過する機能を有する。第１レーザ光Ｌ１は第２偏光の光であり、第２レーザ光Ｌ２は第１偏光の光である。よって、反射部６３に向かう第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４が反射部６２にも入射する場合、反射部６２は、第２偏光の光を反射し、第１偏光の光を透過する偏光分離素子（たとえば偏光ビームスプリッタ）でよい。反射部６２は、たとえば、図２３に示したように、支持板５５に支持されている。
【0186】
反射部６３は、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４を反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射する。反射部６３はミラーでもよい。反射部６３は、たとえば、図２３に示したように、支持板５６に支持されている。
【0187】
反射部６２が支持板５５によって支持されている形態では、支持板５５には、反射部６３で反射された第１レーザ光Ｌ１を通すように構成されている。たとえば、支持板５５には、反射部６３で反射された第１レーザ光Ｌ１を通すための開口部５５ａが形成されていてもよい。
【0188】
反射部１６ａ、反射部１６ｂ、反射部１７ａ、反射部１７ｂ、反射部６２および反射部６３は、次の（ａ）から（ｄ）を満たすように配置されている。
（ａ）反射部６２によって反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３は異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｂ）反射部６３によって反射された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｃ）反射部６２によって反射された第１レーザ光Ｌ１および反射部６３によって反射された第２レーザ光Ｌ２も異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｄ）反射部６２によって反射された第３レーザ光Ｌ３および反射部６３によって反射された第４レーザ光Ｌ４も異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ａ）反射部６２によって反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３は異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｂ）反射部６３によって反射された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｃ）反射部６２によって反射された第１レーザ光Ｌ１および反射部６３によって反射された第２レーザ光Ｌ２も異なる方向から反射面２１ａに入射する。
（ｄ）反射部６２によって反射された第３レーザ光Ｌ３および反射部６３によって反射された第４レーザ光Ｌ４も異なる方向から反射面２１ａに入射する。
【0189】
したがって、反射部１６ａ、反射部１６ｂ、反射部１７ａ、反射部１７ｂ、反射部６２および反射部６３は、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４が異なる方向で反射面２１ａに入射するように、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４を導く導光部として機能している。
【0190】
ＭＥＭＳ２０の構成および配置形態は、第２実施形態の場合と同じである。すなわち、ＭＥＭＳ２０は、ペルチェ素子３０の近くにおいて、表面３１ａに平行に配置されている。ＭＥＭＳ２０は、図示しない台座を介して表面３１ａに取り付けられていてもよい。
【0191】
図２５は、第４光出力部１０Ｄから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２並びに第５光出力部１０Ｅから出力された第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の光路を模式的に示す図面である。図２５では、走査ミラー２１が駆動されていない状態の走査ミラー２１を図示している。
【0192】
図２５は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１で構成される光学系を、ｘ軸方向からみた場合を示している。よって、反射部６２に入射する第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の光路は、図２５では同じである。図２５では、反射部６２で反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３の光路も同じである。図２５では、反射部６３で反射された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４の光路も同じである。
【0193】
図２５に示したように、第４光出力部１０Ｄから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光および第５光出力部１０Ｅから出力された第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４は、反射部６２に入射する。反射部６２に入射した第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３は反射部６２で走査ミラー２１に向けて反射される一方、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は反射部６２を透過する。図２５では、反射部６２によって反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３の光路を実線で示している。反射部６２を透過した第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４の光路を破線で示している。反射部６２を透過した第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は反射部６３に入射する。反射部６３に入射した第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は反射部６３によって走査ミラー２１に向けて反射される。
【0194】
反射面２１ａに入射した第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４は、反射面２１ａで反射され、窓部４５から出力される。
【0195】
［制御回路］
図２６は、モジュール本体２Ｃを制御するための制御回路３Ａの機能ブロック図である。制御回路３Ａは、第３発光素子１１ｃを制御するための第３駆動回路３ｅと、第４発光素子１１ｄを制御するための第４駆動回路３ｆを更に備える点以外は、制御回路３と同じである。第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、ＬＤドライバでよい。
図２６は、モジュール本体２Ｃを制御するための制御回路３Ａの機能ブロック図である。制御回路３Ａは、第３発光素子１１ｃを制御するための第３駆動回路３ｅと、第４発光素子１１ｄを制御するための第４駆動回路３ｆを更に備える点以外は、制御回路３と同じである。第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、ＬＤドライバでよい。
【0196】
第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂ、第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の発光タイミングが異なるように第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第３発光素子１１ｃおよび第４発光素子１１ｄを駆動してもよい。
【0197】
第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂ、第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の変調波形が異なるように第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第３発光素子１１ｃおよび第４発光素子１１ｄを駆動してもよい。たとえば、第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂ、第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４のパルス幅が互いに異なるように、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第３発光素子１１ｃおよび第４発光素子１１ｄを駆動してもよい。第１駆動回路３ａ、第２駆動回路３ｂ、第３駆動回路３ｅおよび第４駆動回路３ｆは、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の時間的な強度を変調することによって、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の変調波形が互いに異なるように、第１発光素子１１ａ、第２発光素子１１ｂ、第３発光素子１１ｃおよび第４発光素子１１ｄを駆動してもよい。
【0198】
モジュール本体２Ｃの構成では、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４（以下、「４本のレーザ光」とも称す）を反射面２１ａに異なる方向から入射できる。具体的には、たとえば、走査ミラー２１を駆動していない状態において反射面２１ａの中心Ｏに向け、ｚ軸方向（垂直方向）およびｙ軸方向に対する角度の異なる４本のレーザ光を反射面２１ａに入射できる。反射面２１ａに入射した上記４本のレーザ光は、走査ミラー２１に２次元的に走査されながら、モジュール本体２Ｃから出力される。そのため、図２７に示したように、モジュール本体２Ｃから出力された第１レーザ光Ｌ１が、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の走査範囲が第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄとして機能する。
【0199】
図２７は、モジュール本体２Ｃ（光モジュール１）の検知範囲の模式図である。図２７におけるｓ軸方向およびｔ軸方向は、図７の場合と同じである。
図２７において、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第１レーザ光Ｌ１によって形成される第１検知範囲４ａである。
図２７において、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第２レーザ光Ｌ２によって形成される第２検知範囲４ｂである。
図２７において、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第３レーザ光Ｌ３によって形成される第３検知範囲４ｃである。
図２７において、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第４レーザ光Ｌ４によって形成される第４検知範囲４ｄである。
図２７において、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第１レーザ光Ｌ１によって形成される第１検知範囲４ａである。
図２７において、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第２レーザ光Ｌ２によって形成される第２検知範囲４ｂである。
図２７において、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第３レーザ光Ｌ３によって形成される第３検知範囲４ｃである。
図２７において、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第４レーザ光Ｌ４によって形成される第４検知範囲４ｄである。
【0200】
上記４本のレーザ光は、反射面２１ａに異なる角度で入射することから、反射面２１ａによる第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の反射方向も異なる。その結果、図２７に模式的に示したように、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄも異なる。走査ミラー２１の振れ角によっては、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄの一部は重なってもよい。したがって、「第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄが異なる」ことは、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄが完全に一致していないことを意味する。
【0201】
第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄはそれぞれ物体を検知可能な範囲であることから、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄによって検知可能な全範囲が光モジュール１の検知範囲４として機能する。したがって、モジュール本体２Ｃと制御回路３Ａとを含む光モジュール１の構成では、ＭＥＭＳ２０に入射するレーザ光が１本の場合より、図におけるｓ軸方向およびｔ軸方向の両方において広い走査範囲を確保可能である。
【0202】
モジュール本体２Ｃにおいて、反射部１６ａ、反射部１６ｂ、反射部１７ａ、反射部１７ｂ、反射部６２および反射部６３は、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４が異なる方向で反射面２１ａに入射するように、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４を導く導光部として機能する。このような導光部をモジュール本体２Ｃが有する点に関する作用効果は、第１実施形態の場合と同じである。
【0203】
第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の発光タイミングが異なる形態では、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の波長が同じ場合でも、物体から戻ってきた光が、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４のうちのどのレーザ光であるかを区別可能である。すなわち、モジュール本体２Ｃ（光モジュール１）から同じ波長の第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４を出力しても、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄのうち物体が存在する検知範囲を区別可能である。
【0204】
第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の変調波形が異なる場合も、物体から戻ってきた光が、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４のうちのどのレーザ光であるかを区別可能である。すなわち、すなわち、モジュール本体２Ｃ（光モジュール１）から同じ波長の第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４を出力しても、第１検知範囲４ａ、第２検知範囲４ｂ、第３検知範囲４ｃおよび第４検知範囲４ｄのうち物体が存在する検知範囲を区別可能である。
【0205】
次に、第４実施形態に対する計算結果を説明する。第４実施形態に対する計算をケースＥと称す。ケースＥにおいても、反射面２１ａの中心Ｏを原点とした３次元直交座標系を設定した。ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の方向は第１実施形態の場合と同じであった。ケースＥの説明においても、図５に示したα軸およびβ軸を使用する。
【0206】
反射部６２および反射部６３それぞれと走査ミラー２１との関係は、反射部６１と走査ミラー２１の関係と同じである。そのため、ケースＥの計算モデルには、図１４に示した計算モデルを使用した。
【0207】
反射部６２で反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３に対する計算において、図１４に示した反射部Ｍは、反射部６２に対応する。反射部６３で反射された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４に対する計算において、図１４に示した反射部Ｍは、反射部６３に対応する。以下、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４それぞれに対する計算を区別する場合には、反射部Ｍを反射部６２および反射部６３と称す。
【0208】
反射部６２および反射部６３に対する入射ベクトルｊ、法線ベクトルｎおよび反射ベクトルｋには、式（４）から式（６）を使用した。反射面２１ａに対する入射ベクトルｉ、法線ベクトルｃおよび反射ベクトルｒには、式（７）から式（９）を使用した。
【0209】
（角度θｙの設定値）
第１レーザ光Ｌ１に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを３０°に設定した。
第３レーザ光Ｌ３に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを－３０°に設定した。
第２レーザ光Ｌ２に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを１８°に設定した。
第４レーザ光Ｌ４に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを－１８°に設定した。
第１レーザ光Ｌ１に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを３０°に設定した。
第３レーザ光Ｌ３に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを－３０°に設定した。
第２レーザ光Ｌ２に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを１８°に設定した。
第４レーザ光Ｌ４に対応する入射ベクトルｊとｙ軸方向との間の角度θｙを－１８°に設定した。
【0210】
（角度θｚの設定値）
第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３に対応する反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角θｚを３６°に設定した。
第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４に対応する反射部Ｍの反射面とz軸とのなす角θｚを２５°に設定した。
第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３に対応する反射部Ｍの反射面とｚ軸とのなす角θｚを３６°に設定した。
第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４に対応する反射部Ｍの反射面とz軸とのなす角θｚを２５°に設定した。
【0211】
ケースＥでは反射面２１ａのα軸周りの振れ角範囲および反射面２１ａのβ軸周りの振れ角範囲をケースＢの場合と同じ条件（すなわち、θｈ＝±２０°、θｖ＝±１０°）で計算を実施した。
【0212】
図２８は、第４実施形態に対する計算結果を示した図面である。図２８では、計算によって得られた反射ベクトルｒをｘｚ平面とyｚ平面からみた場合に、反射ベクトルｒとｚ軸との間の角度をプロットしている。図２８の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。
【0213】
図２８中の実線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第１レーザ光Ｌ１に対する結果であり、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第２レーザ光Ｌ２に対する結果であり、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第３レーザ光Ｌ３に対する結果であり、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第４レーザ光Ｌ４に対する結果である。
【0214】
図２８においても、参考のために、発光素子が１つの場合に対する計算結果を、レーザ光Ｌ０の結果として示している。レーザ光Ｌ０に対する計算では、レーザ光Ｌ０がｙ軸に沿って反射部６２に入射し、反射部６２によって走査ミラー２１に向けて反射される場合を想定した。レーザ光Ｌ０に対する計算では、角度θｙを０°に設定するとともに、角度θｚを２０°に設定した。
【0215】
第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４を反射面２１ａに入射しながら走査ミラー２１を駆動した場合、図２８に示した第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３の結果を合わせた領域で表される角度範囲がモジュール本体２Ｃ（光モジュール１）の最大走査範囲である。
【0216】
したがって、図２８に示した結果より、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の結果を合わせた結果を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。したがって、モジュール本体２Ｃの構成でも、走査範囲を広げられることが図２８から理解され得る。更に、図２８に示した結果では、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の結果を合わせた結果を合わせた領域の走査範囲は、ｘ軸方向およびｙ軸方向の両方において、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。したがって、モジュール本体２Ｃの構成では、直交する２方向それぞれに対する走査範囲を広げられることが可能である。
【0217】
（変形例２）
第４実施形態に係るモジュール本体２Ｃに対しても、第３実施形態に対する変形例１に対応する変形例を適用できる。図２９は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１による第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の光路の変形例を説明するための図面である。
第４実施形態に係るモジュール本体２Ｃに対しても、第３実施形態に対する変形例１に対応する変形例を適用できる。図２９は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１による第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の光路の変形例を説明するための図面である。
【0218】
図２９は、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１によって構成される光学系をｘ軸方向からみた場合の図面である。変形例２における光路の説明は、ｘ軸方向からみた場合に基づいている。図２９に示したように、反射部６２に入射する第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の光路は、ｘ軸方向からみた場合は同じであるが、図２４に示したように、ｚ軸方向からみた場合は異なっている。
【0219】
変形例２において、反射部６２は、第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３を反射するとともに、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４を透過する偏光分離素子である。反射部６３は、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４を反射するとともに、第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３を透過する偏光分離素子である。変形例２の反射部６２および反射部６３の例は、偏光ビームスプリッタである。
【0220】
図２９に示したように、反射部６２に入射された第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４のうち第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３は走査ミラー２１に向けて反射される一方、第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は反射部６２を透過して反射部６３に入射する。反射部６３に入射した第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４は、反射部６３によって走査ミラー２１に向けて反射される。
【0221】
変形例２においては、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１は、反射部６２で反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３が、反射面２１ａで反射された後に、反射部６３を透過するとともに、反射部６３で反射面２１ａの中心Ｏに向けて反射された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４が、反射面２１ａで反射された後に、反射部６２を透過するように配置されている。
【0222】
変形例２では、走査ミラー２１の駆動を停止している状態において、反射部６２によって反射された後、反射部６３から出力される第１レーザ光Ｌ１（および第３レーザ光Ｌ３）の光路と、反射部６３によって反射された後、反射部６２から出力される第２レーザ光Ｌ２（および第４レーザ光Ｌ４）の光路とが対称であるように、反射部６２、反射部６３および走査ミラー２１は配置されている。たとえば、走査ミラー２１は、ｙ軸方向において、反射部６２および反射部６３の中央に配置され得る。
【0223】
変形例２では、反射面２１ａで反射された後に、反射部６２および反射部６３を透過した第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４並びに反射部６３を透過した第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３が、変形例２が適用されたモジュール本体２Ｃからの出力光である。反射部６２は、走査ミラー２１で２次元的に走査された第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４が通過可能なサイズを有する。反射部６３は、走査ミラー２１で２次元的に走査された第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３が通過可能なサイズを有する。
【0224】
変形例２に対する計算をケースＦと称す。ケースＦを説明する。
【0225】
反射部６２からの反射ベクトルｋにおけるθｚ（変形例２では第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３に対するθｚ）を５４°に設定し、反射部６３からの反射ベクトルｋにおけるθｚ（変形例２では第２レーザ光Ｌ２および第３レーザ光Ｌ３に対するθｚ）を３６°に設定した点以外、ケースＥと同じ条件でケースＦを実施した。
【0226】
図３０は、変形例２に対する計算結果を示した図面である。図３０では、計算によって得られた反射ベクトルｒをｘｚ平面とｙｚ平面からみた場合に、反射ベクトルｒとｚ軸との間の角度をプロットしている。図３０の横軸は、ｘ軸方向に沿った角度であり、縦軸はｙ軸方向に沿った角度である。
【0227】
図３０中の実線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第１レーザ光Ｌ１に対する結果であり、実線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第２レーザ光Ｌ２に対する結果であり、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されている領域が第３レーザ光Ｌ３に対する結果であり、一点鎖線で囲まれる領域であってハッチングが付されていない領域が第４レーザ光Ｌ４に対する結果である。
【0228】
【0229】
図３０に示した第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の結果を合わせた領域で表される角度範囲が、変形例２を採用したモジュール本体２Ｃ（光モジュール１）の最大走査範囲である。したがって、図３０より、第１レーザ光Ｌ１、第２レーザ光Ｌ２、第３レーザ光Ｌ３および第４レーザ光Ｌ４の走査範囲を合わせた領域の走査範囲は、レーザ光Ｌ０に対する走査範囲より広い。よって、変形例２を適用したモジュール本体２Ｃの構成でも、走査範囲を広げられることが図３０から理解され得る。更に、図３０より、変形例２を適用したモジュール本体２Ｃの構成でも、直交する２方向それぞれに対する走査範囲を広げられることが可能であることが理解される。
【0230】
変形例２では、走査ミラー２１の駆動を停止している状態において、ｘ軸方向からみた場合、反射部６２によって反射された後、反射部６３から出力される第２レーザ光Ｌ２および第４レーザ光Ｌ４の光路と、反射部６３によって反射された後、反射部６２から出力される第１レーザ光Ｌ１および第３レーザ光Ｌ３の光路とが対称である。そのため、上記光路が対称な点に関して、変形例２を採用したモジュール本体２Ｃは、変形例１を採用したモジュール本体２Ｂと同じ作用効果を有する。
【0231】
【0232】
モジュール本体２Ｄは、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂの代わりに、第１光出力部１０Ａ１および第２光出力部１０Ｂ１を備える点で、主に第２実施形態に係るモジュール本体２Ａと相違する。
【0233】
第１光出力部１０Ａ１および第２光出力部１０Ｂ１は、反射部１３ａおよび反射部１３ｂ（図１１参照）を有しない点で、第１光出力部１０Ａおよび第２光出力部１０Ｂと相違する。
【0234】
第１光出力部１０Ａ１は、第１発光素子１１ａと第１コリメート部１２ａを有する一方、前述したように反射部１３ａを有しない。したがって、第１コリメート部１２ａから出力された第１レーザ光Ｌ１が、第１光出力部１０Ａ１からの出力光である。第１光出力部１０Ａ１は、第１発光素子１１ａの光軸が、第１光出力部１０Ａにおいて反射部１３ａによって反射された第１レーザ光Ｌ１の光路に沿うように配置されている。この場合、第１発光素子１１ａは、光軸がｙ軸方向に対して傾いた状態で配置されている。
【0235】
第２光出力部１０Ｂ１は、第２発光素子１１ｂと第２コリメート部１２ｂを有する一方、前述したように反射部１３ｂを有しない。したがって、第２コリメート部１２ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２が、第２光出力部１０Ｂ１からの出力光である。第２光出力部１０Ｂ１は、第２発光素子１１ｂの光軸が、第２光出力部１０Ｂにおいて反射部１３ｂによって反射された第２レーザ光Ｌ２の光路に沿うように配置されている。この場合、第２発光素子１１ｂは、光軸がｙ軸方向に対して傾いた状態で配置されている。
【0236】
第１光出力部１０Ａ１および第２光出力部１０Ｂ１は、図３１に示したように一つの素子搭載部５３に搭載されてよい。素子搭載部５３は、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂが固定される第１面５３１と、第１コリメート部１２ａおよび第２コリメート部１２ｂが固定される第２面５３２とを有する。第１コリメート部１２ａおよび第２コリメート部１２ｂの光軸が、第１発光素子１１ａおよび第２発光素子１１ｂの光軸と実質的に一致するように、第２面５３２は、第１面５３１より表面３１ａに近い位置に設けられている。
【0237】
上記第１光出力部１０Ａ１の配置では、第１光出力部１０Ａ１が有する第１発光素子１１ａから出力された第１レーザ光Ｌ１は第１コリメート部１２ａによってコリメート光に変換された後、第１光出力部１０Ａから第１レーザ光Ｌ１が出力された場合と同じ光路を通って反射面２１ａに入射される。上記第２光出力部１０Ｂ１の配置では、第２光出力部１０Ｂ１が有する第２発光素子１１ｂから出力された第２レーザ光Ｌ２は第２コリメート部１２ｂによってコリメート光に変換された後、第２光出力部１０Ｂから第２レーザ光Ｌ２が出力された場合と同じ光路を通って反射面２１ａに入射される。
【0238】
すなわち、第１コリメート部１２ａから出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射部６１に入射する。反射部６１に入射された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２は、反射部６１によって反射され、反射面２１ａに異なる方向から入射される。
【0239】
モジュール本体２Ｄでは、第１光出力部１０Ａ１および第２光出力部１０Ｂ１から出力された第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の光路は、第２実施形態の場合と同じである。したがって、モジュール本体２Ｄおよびそれを備えた光モジュール１は、モジュール本体２Ａおよびそれを備えた光モジュール１の場合と同じ作用効果を有する。
【0240】
モジュール本体２Ｄでは、反射部１３ａおよび反射部１３ｂを有しない。したがって、モジュール本体２Ｄおよびそれを含む光モジュールの大型化をより防ぎやすい。
【0241】
（第６実施形態）
図３２は、第６実施形態に係るモジュール本体２Ｅの斜視図である。モジュール本体２Ｅは、カバー４２の代わりにカバー４２Ａを備える点で、第２実施形態に係るモジュール本体２Ａと相違する。
図３２は、第６実施形態に係るモジュール本体２Ｅの斜視図である。モジュール本体２Ｅは、カバー４２の代わりにカバー４２Ａを備える点で、第２実施形態に係るモジュール本体２Ａと相違する。
【0242】
カバー４２Ａは、湾曲したドーム型の天部４４Ａを有する。天部４４Ａには、天部４４Ａの湾曲形状に沿った窓部４５Ａが形成されている。図３２に示した形態では、窓部４５Ａは、ｚ軸方向からみてｘ軸方向に沿っている。
【0243】
材料の透過率には入射角依存性があり、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２の窓部４５Ａに対する入射角が変化すると、窓部４５Ａを透過する光の強度が変化する。モジュール本体２Ｅが、天部４４Ａの湾曲形状に沿った窓部４５Ａ入射角の変化を抑え、窓部４５Ａを透過する光の強度が光出射方向に依存して変化することを抑制できる。
【0244】
走査ミラー２１によって走査されることによって、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２それぞれの軌跡は、反射面２１ａ（具体的には中心Ｏ）に対して弧を描く。よって、窓部４５Ａが上記のように湾曲していることで、効率的に第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を出力可能である。第２実施形態のモジュール本体２Ａの構成では、図７に示した計算結果のように、ｘ軸方向の走査範囲が大きい。したがって、窓部４５Ａが上記のように設けられているカバー４２Ａを採用することによって走査ミラー２１が実現可能な最大の振れ角で、第１レーザ光Ｌ１および第２レーザ光Ｌ２を走査し易い。
【0245】
カバー４２Ａは、ｘ軸方向においてより大きな走査範囲を実現可能な、第１実施形態および第５実施形態にも適用可能である。窓部のｙ軸方向の幅を調整することによって、カバー４２Ａは、第４実施形態にも適用可能である。
【0246】
第３実施形態のモジュール本体２Ｂにように、ｙ軸方向に対する走査範囲がより大きい場合には、ｘ軸方向からみた場合に湾曲しているカバーであって、ｚ軸方向からみてｙ軸方向に沿った窓部を有するカバーを採用すれば良い。
【0247】
以上、本開示による光モジュールの種々の実施形態を説明したが、本開示による光モジュールは、例示した実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。
【0248】
光モジュールから２本のレーザ光（第１レーザ光および第２レーザ光）が出力される形態と、４本のレーザ光（第１レーザ光、第２レーザ光、第３レーザ光および第４レーザ光）が出力される形態を例示した。しかしながら、光モジュールからは３本のレーザ光が異なる方向に出力されてもよいし、５本以上のレーザ光が異なる方向に出力されてもよい。
【0249】
光モジュールから出力される２本以上のレーザ光の波長は異なってもよい。たとえば、第１レーザ光の波長と第２レーザ光の波長は異なってもよいし、第１レーザ光、第２レーザ光、第３レーザ光および第４レーザ光の波長は異なってもよい。ここで、２本のレーザ光の波長が異なることは、２本のレーザ光の中心波長の差が少なくとも３０ｎｍ以上であることを意味する。光モジュールから出力される２本以上のレーザ光の波長が異なる場合、戻り光が、どのレーザ光によるものであるか区別し、さらに走査部における反射面の振れ角と紐づけることで、走査範囲内のどこからの戻り光であるかを特定できる。
【0250】
上記のように２本以上のレーザ光の波長が異なる場合、上記実施形態において、偏光の違いを利用した光部品は、波長の違いを利用した光部品でよい。たとえば、第３実施形態の合波部１５ａ、反射部６２、反射部６３および第４実施形態の反射部１６ａ、反射部１６ｂ、反射部６２および反射部６３には、偏光の違いを利用した実現していた機能を波長の違いを利用して実現可能に構成された波長選択フィルタ、ダイクロイックミラー等を使用できる。
【0251】
上記のように２本以上のレーザ光の波長が異なる場合、光モジュールを検知装置の光源に利用した場合、波長の違いによって、戻り光を区別可能である。
【0252】
光モジュールは、２本以上のレーザ光が異なる方向から走査部に入射されるように構成されていれば限定されない。たとえば、第２実施形態において、第１光出力部と第２光出力部とは仮想平面ＶＰに対称でなくでもよいし、第４実施形態において、第４光出力部と第５光出力部も仮想平面ＶＰに対して対称でなくでもよい。
【0253】
第１レーザ光および第２レーザ光は、パルス光でもよいし、連続光でもよい。第３レーザ光および第４レーザ光もパルス光でもよいし、連続光でもよい。
【0254】
ＭＥＭＳ２０は揺動軸が、図５に示したα軸またはβ軸のどちらか一方のみである１軸ＭＥＭＳでもよい。
【0255】
光モジュールは、レーザ光によって映像を描画する描画装置の光源として利用することも可能である。走査部は、ＭＥＭＳに限定されない。
【0256】
カバー４２の天部４４または天部４４Ａに光を出射するための窓部４５または窓部４５Ａが設けられている場合を主に説明したが、胴部４３に窓部４５または窓部４５Ａが渡っている場合や胴部４３のみに窓部４５または窓部４５Ａが設けられてもよい。
【0257】
モジュール本体を制御する制御回路は、光モジュールの外部に配置されていてもよい。すなわち、光モジュールは、制御回路を備えなくてもよい。
【0258】
以上説明した種々の実施形態および変形例は、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で適宜組み合わされてもよい。
【符号の説明】
【0259】
１…光モジュール
２，２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ，２Ｅ…モジュール本体
３，３Ａ…制御回路
３ａ…第１駆動回路
３ｂ…第２駆動回路
３ｃ…走査制御回路
３ｄ…温度調整回路
３ｅ…第３駆動回路
３ｆ…第４駆動回路
４ａ…第１検知範囲
４ｂ…第２検知範囲
４ｃ…第３検知範囲
４ｄ…第４検知範囲
４…検知範囲
１０Ａ，１０Ａ１…第１光出力部
１０Ｂ，１０Ｂ１…第２光出力部
１０Ｃ…第３光出力部
１０Ｄ…第４光出力部
１０Ｅ…第５光出力部
１１ａ…第１発光素子
１１ｂ…第２発光素子
１１ｃ…第３発光素子
１１ｄ…第４発光素子
１２ａ…第１コリメート部
１２ｂ…第２コリメート部
１２ｃ…第３コリメート部
１２ｄ…第４コリメート部
１３ａ…反射部（第１反射部、導光部）
１３ｂ…反射部（第２反射部、導光部）
１４ａ…偏光調整部
１４ｂ…偏光調整部
１５ａ…合波部
１６ａ…反射部（第１反射部、導光部）
１６ｂ…反射部（第５反射部、導光部）
１７ａ…反射部（第２反射部、導光部）
１７ｂ…反射部（第６反射部、導光部）
２０…ＭＥＭＳ（走査部）
２１…走査ミラー
２１ａ…反射面
２２…駆動部
２３…枠部
３０…ペルチェ素子（第１支持体）
３１…吸熱板
３１ａ…表面（主面）
３２…放熱板
３３…半導体柱
４０…収容部
４１…支持基板
４２，４２Ａ…カバー
４３…胴部
４４，４４Ａ…天部
４４ａ…開口
４５，４５Ａ…窓部
４６…導電部材
５１…台座（第２支持体）
５１ａ…表面
５２…台座
５２ａ…傾斜面
５３…素子搭載部
５３１…第１面
５３２…第２面
５３ａ…第１素子搭載部
５３ｂ…第２素子搭載部
５３ｃ…第３素子搭載部
５３ｄ…第４素子搭載部
５４…支持板（第３支持体）
５５…支持板
５５ａ…開口部
５６…支持板
６１…反射部（第３反射部、導光部）
６２…反射部（第１反射部（第３実施形態）、第３反射部（第４実施形態）、導光部）
６３…反射部（第２反射部（第３実施形態）、第４反射部（第４実施形態）、導光部）
Ｌ１…第１レーザ光
Ｌ２…第２レーザ光
Ｌ３…第３レーザ光
Ｌ４…第４レーザ光
Ｌ１２…合波光
Ｏ…中心
ＶＰ…仮想平面
θＭ…傾斜角
Ｍ…反射部
ｃ…法線ベクトル
ｒ…反射ベクトル
ｉ…入射ベクトル
ｊ…入射ベクトル
ｎ…法線ベクトル
ｋ…反射ベクトル（入射ベクトル）
２，２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ，２Ｅ…モジュール本体
３，３Ａ…制御回路
３ａ…第１駆動回路
３ｂ…第２駆動回路
３ｃ…走査制御回路
３ｄ…温度調整回路
３ｅ…第３駆動回路
３ｆ…第４駆動回路
４ａ…第１検知範囲
４ｂ…第２検知範囲
４ｃ…第３検知範囲
４ｄ…第４検知範囲
４…検知範囲
１０Ａ，１０Ａ１…第１光出力部
１０Ｂ，１０Ｂ１…第２光出力部
１０Ｃ…第３光出力部
１０Ｄ…第４光出力部
１０Ｅ…第５光出力部
１１ａ…第１発光素子
１１ｂ…第２発光素子
１１ｃ…第３発光素子
１１ｄ…第４発光素子
１２ａ…第１コリメート部
１２ｂ…第２コリメート部
１２ｃ…第３コリメート部
１２ｄ…第４コリメート部
１３ａ…反射部（第１反射部、導光部）
１３ｂ…反射部（第２反射部、導光部）
１４ａ…偏光調整部
１４ｂ…偏光調整部
１５ａ…合波部
１６ａ…反射部（第１反射部、導光部）
１６ｂ…反射部（第５反射部、導光部）
１７ａ…反射部（第２反射部、導光部）
１７ｂ…反射部（第６反射部、導光部）
２０…ＭＥＭＳ（走査部）
２１…走査ミラー
２１ａ…反射面
２２…駆動部
２３…枠部
３０…ペルチェ素子（第１支持体）
３１…吸熱板
３１ａ…表面（主面）
３２…放熱板
３３…半導体柱
４０…収容部
４１…支持基板
４２，４２Ａ…カバー
４３…胴部
４４，４４Ａ…天部
４４ａ…開口
４５，４５Ａ…窓部
４６…導電部材
５１…台座（第２支持体）
５１ａ…表面
５２…台座
５２ａ…傾斜面
５３…素子搭載部
５３１…第１面
５３２…第２面
５３ａ…第１素子搭載部
５３ｂ…第２素子搭載部
５３ｃ…第３素子搭載部
５３ｄ…第４素子搭載部
５４…支持板（第３支持体）
５５…支持板
５５ａ…開口部
５６…支持板
６１…反射部（第３反射部、導光部）
６２…反射部（第１反射部（第３実施形態）、第３反射部（第４実施形態）、導光部）
６３…反射部（第２反射部（第３実施形態）、第４反射部（第４実施形態）、導光部）
Ｌ１…第１レーザ光
Ｌ２…第２レーザ光
Ｌ３…第３レーザ光
Ｌ４…第４レーザ光
Ｌ１２…合波光
Ｏ…中心
ＶＰ…仮想平面
θＭ…傾斜角
Ｍ…反射部
ｃ…法線ベクトル
ｒ…反射ベクトル
ｉ…入射ベクトル
ｊ…入射ベクトル
ｎ…法線ベクトル
ｋ…反射ベクトル（入射ベクトル）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】