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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024152361
(43)【公開日】2024-10-25
(54)【発明の名称】液晶パネル及び３次元表示装置
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1339 20060101AFI20241018BHJP
G02F 1/1347 20060101ALI20241018BHJP
G02F 1/13 20060101ALI20241018BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1339 500
G02F1/1347
G02F1/13 505
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023066508
(22)【出願日】2023-04-14
(71)【出願人】
【識別番号】520487808
【氏名又は名称】シャープディスプレイテクノロジー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000914
【氏名又は名称】弁理士法人ＷｉｓｅＰｌｕｓ
(72)【発明者】
【氏名】松本 博美
(72)【発明者】
【氏名】佐々木 貴啓
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 孝
(72)【発明者】
【氏名】坂井 彰
【テーマコード（参考）】
2H088
2H189
【Ｆターム（参考）】
2H088EA07
2H088EA33
2H088JA09
2H088KA26
2H088KA27
2H088MA04
2H088MA17
2H189AA22
2H189AA32
2H189AA35
2H189DA04
2H189DA06
2H189DA07
2H189DA12
2H189DA31
2H189DA34
2H189DA38
2H189FA81
2H189HA04
2H189HA14
2H189JA07
2H189LA05
2H189LA20
2H189NA13
(57)【要約】 （修正有）
【課題】額縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制することができる液晶パネル、及び、上記液晶パネルを備える３次元表示装置を提供する。
【解決手段】表示領域と、額縁領域と、を備え、第１の基板と、上記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、を有し、上記表示領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間には液晶層が配置され、上記額縁領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間にはシール部が配置され、上記第１の基板は、第１の支持基板と、第１の基板側絶縁層と、を上記液晶層側に向かって順に有し、上記第２の基板は、上記液晶層側に突出した突出部を有し、上記第１の基板側絶縁層は、上記液晶層側の表面が平坦である第１の厚み部分と、上記第１の厚み部分よりも上記液晶層側に突出し、かつ、上記突出部に対向して配置された第２の厚み部分と、を有する液晶パネル。
【選択図】図１
【解決手段】表示領域と、額縁領域と、を備え、第１の基板と、上記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、を有し、上記表示領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間には液晶層が配置され、上記額縁領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間にはシール部が配置され、上記第１の基板は、第１の支持基板と、第１の基板側絶縁層と、を上記液晶層側に向かって順に有し、上記第２の基板は、上記液晶層側に突出した突出部を有し、上記第１の基板側絶縁層は、上記液晶層側の表面が平坦である第１の厚み部分と、上記第１の厚み部分よりも上記液晶層側に突出し、かつ、上記突出部に対向して配置された第２の厚み部分と、を有する液晶パネル。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
表示領域と、前記表示領域の周囲に配置された額縁領域と、を備え、
第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、を有し、
前記表示領域において、前記第１の基板と前記第２の基板との間には液晶層が配置され、
前記額縁領域において、前記第１の基板と前記第２の基板との間にはシール部が配置され、
前記第１の基板は、第１の支持基板と、第１の基板側絶縁層と、を前記液晶層側に向かって順に有し、
前記第２の基板は、前記液晶層側に突出した突出部を有し、
前記第１の基板側絶縁層は、前記液晶層側の表面が平坦である第１の厚み部分と、前記第１の厚み部分よりも前記液晶層側に突出し、かつ、前記突出部に対向して配置された第２の厚み部分と、を有することを特徴とする液晶パネル。
第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、を有し、
前記表示領域において、前記第１の基板と前記第２の基板との間には液晶層が配置され、
前記額縁領域において、前記第１の基板と前記第２の基板との間にはシール部が配置され、
前記第１の基板は、第１の支持基板と、第１の基板側絶縁層と、を前記液晶層側に向かって順に有し、
前記第２の基板は、前記液晶層側に突出した突出部を有し、
前記第１の基板側絶縁層は、前記液晶層側の表面が平坦である第１の厚み部分と、前記第１の厚み部分よりも前記液晶層側に突出し、かつ、前記突出部に対向して配置された第２の厚み部分と、を有することを特徴とする液晶パネル。
【請求項2】
前記第２の厚み部分は、円錐台状であることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項3】
前記第２の厚み部分の、前記第１の厚み部分よりも前記液晶層側に突出した部分の高さ、及び、前記突出部の高さの合計は、前記液晶層の厚さと等しいことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項4】
平面視において、前記突出部の前記第１の基板に対向する面全体は、前記第２の厚み部分の前記第２の基板に対向する面の内側に含まれることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項5】
前記第２の基板は、第２の支持基板と、第２の基板側絶縁層と、を前記液晶層側に向かって順に有することを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項6】
前記第２の基板側絶縁層は、前記液晶層側の表面が平坦である第３の厚み部分と、前記第３の厚み部分よりも前記液晶層側に突出した第４の厚み部分と、を有し、
前記第４の厚み部分は、前記突出部であることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル。
前記第４の厚み部分は、前記突出部であることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル。
【請求項7】
前記第１の基板は、更に、前記第１の基板側絶縁層の前記液晶層側に配置された第１の透明導電膜と、前記第１の透明導電膜の前記液晶層側に配置された第１の絶縁層と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項8】
前記第２の基板は、第２の支持基板と、前記第２の支持基板の前記液晶層側に配置された第２の透明導電膜と、前記第２の透明導電膜の前記液晶層側に配置された第２の絶縁層と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項9】
観察者側に向かって順に、
表示パネルと、
透過軸を有する偏光板と、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルと、
偏光メガネと、を備えることを特徴とする３次元表示装置。
表示パネルと、
透過軸を有する偏光板と、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルと、
偏光メガネと、を備えることを特徴とする３次元表示装置。
【請求項10】
更に、前記偏光板と前記液晶パネルとの間に、λ／４位相差板を備え、
前記液晶パネルは、位相差をλ／２と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、
前記液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交することを特徴とする請求項９に記載の３次元表示装置。
前記液晶パネルは、位相差をλ／２と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、
前記液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交することを特徴とする請求項９に記載の３次元表示装置。
【請求項11】
観察者側に向かって順に、
表示パネルと、
透過軸を有する偏光板と、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルからなる第１の液晶パネルと、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルからなる第２の液晶パネルと、
偏光メガネと、を備えることを特徴とする３次元表示装置。
表示パネルと、
透過軸を有する偏光板と、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルからなる第１の液晶パネルと、
請求項１～８のいずれかに記載の液晶パネルからなる第２の液晶パネルと、
偏光メガネと、を備えることを特徴とする３次元表示装置。
【請求項12】
更に、前記偏光板と前記液晶パネルとの間に、λ／４位相差板を備え、
前記第１の液晶パネル及び前記第２の液晶パネルは、それぞれ、位相差をλ／４と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、
前記第１の液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交し、
前記第２の液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交することを特徴とする請求項１１に記載の３次元表示装置。
前記第１の液晶パネル及び前記第２の液晶パネルは、それぞれ、位相差をλ／４と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、
前記第１の液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交し、
前記第２の液晶パネルの遅相軸は、前記λ／４位相差板の遅相軸と直交することを特徴とする請求項１１に記載の３次元表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
以下の開示は、液晶パネル及び上記液晶パネルを備える３次元表示装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
液晶パネル等の光学素子は、画像を表示するために用いられる他、視野角の補償等を目的として用いられることもある。光学素子に関する技術として、例えば、特許文献１には、帯状シールを介して組み合わされる一対の電極基板と、これら電極基板間にて前記シールにより密封される液晶とを備えた液晶セルにおいて、前記一対の電極基板の各内表面の少なくとも一方に、前記シールに対向する位置にて溝が形成され、前記一対の電極基板が、前記シールを前記溝内に位置させて組み合わされている液晶セルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開平８－２１１３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年、液晶パネルを用いた３次元表示装置の開発が進められている。３次元表示方法の一つに、液晶パネルを２枚積層した表示装置において、背面側の液晶パネルに左目及び右目用画像を交互に表示し、観察面側の液晶パネルでそれぞれの画像の偏光状態を制御し、偏光メガネを使用して左目及び右目用画像を分離して視認させる方式が提案されている。観察面側の液晶パネルは、いわゆるアクティブリターダーとして機能する。このように、左目及び右目にそれぞれ別の画像を時分割で届けることで奥行きを感じさせる表示装置を、アクティブリターダー方式の３次元表示装置ともいう。
【0005】
図１８は、比較形態に係る表示装置の表示ムラを示す写真である。比較形態の表示装置は、表示用液晶パネルと、当該表示用液晶パネルの観察面側に配置された液晶パネルと、を備える。観察面側に配置された液晶パネルは、一対の基板間にＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｅ）モードの液晶層が挟持された液晶パネルであり、アクティブリターダーとして機能する。
【0006】
比較形態の表示装置では、図１８に示すように、額縁領域近傍の表示領域（より具体的には、シール部近傍の表示領域）に白ムラが発生する。また、比較形態の表示装置では、図１８に示すように、表示領域において２０～３０ｍｍのピッチで縦のスジムラが発生する。
【0007】
上記特許文献１では、額縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制する技術については検討されていない。
【0008】
本発明は上記現状に鑑みてなされたものであり、額縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制することができる液晶パネル、及び、上記液晶パネルを備える３次元表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
（１）本発明の一実施形態は、表示領域と、上記表示領域の周囲に配置された額縁領域と、を備え、第１の基板と、上記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、を有し、上記表示領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間には液晶層が配置され、上記額縁領域において、上記第１の基板と上記第２の基板との間にはシール部が配置され、上記第１の基板は、第１の支持基板と、第１の基板側絶縁層と、を上記液晶層側に向かって順に有し、上記第２の基板は、上記液晶層側に突出した突出部を有し、上記第１の基板側絶縁層は、上記液晶層側の表面が平坦である第１の厚み部分と、上記第１の厚み部分よりも上記液晶層側に突出し、かつ、上記突出部に対向して配置された第２の厚み部分と、を有する液晶パネル。
【0010】
（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記第２の厚み部分は、円錐台状である、液晶パネル。
【0011】
（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）又は上記（２）の構成に加え、上記第２の厚み部分の、上記第１の厚み部分よりも上記液晶層側に突出した部分の高さ、及び、上記突出部の高さの合計は、上記液晶層の厚さと等しい、液晶パネル。
【0012】
（４）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）又は上記（３）の構成に加え、平面視において、上記突出部の上記第１の基板に対向する面全体は、上記第２の厚み部分の上記第２の基板に対向する面の内側に含まれる、液晶パネル。
【0013】
（５）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）又は上記（４）の構成に加え、上記第２の基板は、第２の支持基板と、第２の基板側絶縁層と、を上記液晶層側に向かって順に有する、液晶パネル。
【0014】
（６）また、本発明のある実施形態は、上記（５）の構成に加え、上記第２の基板側絶縁層は、上記液晶層側の表面が平坦である第３の厚み部分と、上記第３の厚み部分よりも上記液晶層側に突出した第４の厚み部分と、を有し、上記第４の厚み部分は、上記突出部である、液晶パネル。
【0015】
（７）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）又は上記（６）の構成に加え、上記第１の基板は、更に、上記第１の基板側絶縁層の上記液晶層側に配置された第１の透明導電膜と、上記第１の透明導電膜の上記液晶層側に配置された第１の絶縁層と、を備える、液晶パネル。
【0016】
（８）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）又は上記（７）の構成に加え、上記第２の基板は、第２の支持基板と、上記第２の支持基板の上記液晶層側に配置された第２の透明導電膜と、上記第２の透明導電膜の上記液晶層側に配置された第２の絶縁層と、を備える、液晶パネル。
【0017】
（９）また、本発明の他の一実施形態は、観察者側に向かって順に、表示パネルと、透過軸を有する偏光板と、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）、上記（７）又は上記（８）のいずれかに記載の液晶パネルと、偏光メガネと、を備える、３次元表示装置。
【0018】
（１０）また、本発明のある実施形態は、上記（９）の構成に加え、更に、上記偏光板と上記液晶パネルとの間に、λ／４位相差板を備え、上記液晶パネルは、位相差をλ／２と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、上記液晶パネルの遅相軸は、上記λ／４位相差板の遅相軸と直交する、３次元表示装置。
【0019】
（１１）また、本発明の他の一実施形態は、観察者側に向かって順に、表示パネルと、透過軸を有する偏光板と、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）、上記（７）又は上記（８）のいずれかに記載の液晶パネルからなる第１の液晶パネルと、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）、上記（７）又は上記（８）のいずれかに記載の液晶パネルからなる第２の液晶パネルと、偏光メガネと、を備える、３次元表示装置。
【0020】
（１２）また、本発明のある実施形態は、上記（１１）の構成に加え、更に、上記偏光板と上記液晶パネルとの間に、λ／４位相差板を備え、上記第１の液晶パネル及び上記第２の液晶パネルは、それぞれ、位相差をλ／４と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、上記第１の液晶パネルの遅相軸は、上記λ／４位相差板の遅相軸と直交し、上記第２の液晶パネルの遅相軸は、上記λ／４位相差板の遅相軸と直交する、３次元表示装置。
【発明の効果】
【0021】
本発明によれば、額縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制することができる液晶パネル、及び、上記液晶パネルを備える３次元表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】実施形態１に係る液晶パネルの断面模式図である。
【図2】比較形態のアクティブリターダーの断面模式図である。
【図3】実施形態１の変形例１に係る液晶パネルの断面模式図である。
【図4】実施形態１の変形例２に係る液晶パネルの断面模式図である。
【図5】実施形態２に係る３次元表示装置の偏光状態について説明する分解模式図である。
【図6】実施形態２に係る３次元表示装置の軸方位について説明する分解模式図である。
【図7】実施形態２に係る３次元表示装置の一例を示す模式図である。
【図8】実施形態２の変形例１に係る３次元表示装置の一例を示す模式図である。
【図9】実施例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。
【図10】比較例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。
【図12】実施例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。
【図13】比較例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。
【図14】実施例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。
【図15】比較例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。
【図16】比較例１に係る液晶パネルの縦のスジムラを示す写真である。
【図17】比較例１に係る液晶パネルが押圧された場合を示す断面模式図である。
【図18】比較形態に係る表示装置の表示ムラを示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。なお、以下の説明において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して適宜用い、その繰り返しの説明は適宜省略する。本発明の各態様は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【0024】
［用語の定義］
本明細書中、ある部材の観察面側とは、当該部材に対して観察者により近い側を意味し、ある部材の背面側とは、当該部材に対して観察者からより遠い側を意味する。
本明細書中、ある部材の観察面側とは、当該部材に対して観察者により近い側を意味し、ある部材の背面側とは、当該部材に対して観察者からより遠い側を意味する。
【0025】
本明細書中、方位とは、対象となる方向を液晶パネルの画面上に射影したときの方向を意味し、基準となる方位との間のなす角度（方位角）で表現される。角度（方位角）は、液晶パネルの画面を観察面側（正面）から見たときに、反時計回りを正の角度、時計回りを負の角度とする。また、角度（方位角）は、表示パネルを平面視した状態で測定された値を表す。
【0026】
本明細書中、２つの直線（軸及び方向を含む）が互いに直交するとは、特に断りのない限り、平面視した状態で直交することを意味する。２つの直線（軸及び方向を含む）が平行であるとは、特に断りのない限り、平面視した状態で平行であることを意味する。
【0027】
本明細書中、２つの軸（方向）が互いに直交するとは、両者のなす角度（絶対値）が９０±３°の範囲内であることを指し、好ましくは９０±１°の範囲内であり、より好ましくは９０±０．５°の範囲内であり、特に好ましくは９０°（完全に直交）である。また、２つの軸（方向）が平行であるとは、両者のなす角度（絶対値）が０±３°の範囲内であることを指し、好ましくは０±１°の範囲内であり、より好ましくは０±０．５°の範囲内であり、特に好ましくは０°（完全に平行）である。
【0028】
本明細書中、軸方位とは、特に断りのない限り偏光板の透過軸、位相差板の遅相軸の方位、又は、液晶層の遅相軸の方位を意味する。
【0029】
本明細書では、液晶パネルの遅相軸と平行な方向をｘ軸、それと直交する方向をｙ軸と定義する。「ｎｘ」は、ｘ軸方向の屈折率であり、「ｎｙ」は、ｙ軸方向の屈折率であり、「ｎｚ」は、厚み方向の屈折率である。屈折率は、特に断りのない限り、２３℃、波長５５０ｎｍの光に対する値を指す。ちなみに、波長５５０ｎｍの光は、人間の視感度が最も高い波長の光である。
【0030】
本明細書中、面内位相差（Ｒｅ）は、２３℃、特に明記しなければ波長５５０ｎｍにおける層（フィルム）の面内位相差をいう。Ｒｅは、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。本明細書中、特に断りのない限り、「位相差」は面内位相差を指す。
【0031】
本明細書において、＋λ／４の位相差とは、遅相軸がｘ軸方向に平行であり、かつ、位相差の絶対値がλ／４であることをいう。－λ／４の位相差とは、遅相軸がｙ軸方向に平行であり、かつ、位相差の絶対値がλ／４であることをいう。位相差の絶対値がλ／４であるとは、位相差の絶対値が１００ｎｍ以上、１７６ｎｍ以下であればよく、特に好ましくは１３７．５ｎｍである。λ／２の位相差とは、２４０ｎｍ以上、３１０ｎｍ以下の位相差であればよく、特に好ましくは２７５ｎｍの位相差である。
【0032】
本明細書中、λ／４位相差板は、位相差の絶対値がλ／４である位相差板をいう。本明細書中、λ／２位相差板は、位相差の絶対値がλ／２である位相差板をいう。
【0033】
以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。
【0034】
（実施形態１）
図１は、実施形態１に係る液晶パネルの断面模式図である。図１に示すように、本実施形態の液晶パネル１０は、表示領域１０ＡＡと、表示領域１０ＡＡの周囲に配置された額縁領域１０ＮＡと、を備え、第１の基板１１０と、第１の基板１１０に対向して配置された第２の基板１２０と、を有する。表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間には液晶層１３０が配置される。額縁領域１０ＮＡにおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間にはシール部１４０が配置される。第１の基板１１０は、第１の支持基板１１１と、第１の基板側絶縁層１１０Ｘと、を液晶層１３０側に向かって順に有する。第２の基板１２０は、液晶層１３０側に突出した上記突出部としてのスペーサ１２０Ａを有する。第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第１の厚み部分１１０ＸＡと、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出し、かつ、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａに対向して配置された第２の厚み部分１１０ＸＢと、を有する。
図１は、実施形態１に係る液晶パネルの断面模式図である。図１に示すように、本実施形態の液晶パネル１０は、表示領域１０ＡＡと、表示領域１０ＡＡの周囲に配置された額縁領域１０ＮＡと、を備え、第１の基板１１０と、第１の基板１１０に対向して配置された第２の基板１２０と、を有する。表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間には液晶層１３０が配置される。額縁領域１０ＮＡにおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間にはシール部１４０が配置される。第１の基板１１０は、第１の支持基板１１１と、第１の基板側絶縁層１１０Ｘと、を液晶層１３０側に向かって順に有する。第２の基板１２０は、液晶層１３０側に突出した上記突出部としてのスペーサ１２０Ａを有する。第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第１の厚み部分１１０ＸＡと、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出し、かつ、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａに対向して配置された第２の厚み部分１１０ＸＢと、を有する。
【0035】
このように、第２の厚み部分１１０ＸＢがスペーサ１２０Ａに対向して配置されることにより、第２の厚み部分１１０ＸＢでスペーサ１２０Ａを支えることが可能となるため、額縁領域１０ＮＡ（具体的にはシール部１４０）近傍の表示領域１０ＡＡにおける基板内側の総厚が、額縁領域１０ＮＡから離れた箇所の表示領域１０ＡＡにおける基板内側の総厚よりも大きくなるのを抑え、液晶層１３０の厚み（セル厚ともいう）のムラを抑制することができる。その結果、例えば、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制することができる。ここで、「基板内側」とは、第１の基板１１０が有する支持基板（例えば、ガラス基板）と、第２の基板１２０が有する支持基板（例えば、ガラス基板）との間の領域をいう。支持基板がガラス基板であるとき、「基板内側」を特に「ガラス基板内側」という。
【0036】
また、液晶層１３０側の表面が平坦な第１の厚み部分１１０ＸＡを第１の支持基板１１１上に備えることにより、第１の支持基板１１１の製造時に発生する基板表面のうねりが液晶層１３０へ与える影響を低減することができる。その結果、液晶層１３０の厚みのムラを抑制することができ、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、縦のスジムラを抑制することができる。
【0037】
ここで、比較形態のアクティブリターダーについて説明する。図２は、比較形態のアクティブリターダーの断面模式図である。図２に示すように、比較形態の液晶パネル１０Ｒは、表示領域１０ＡＡと、表示領域１０ＡＡの周囲に配置された額縁領域１０ＮＡと、を備え、第１の基板１１０Ｒと、第１の基板１１０Ｒに対向して配置された第２の基板１２０と、を有する。表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０Ｒと第２の基板１２０との間には液晶層１３０が配置され、額縁領域１０ＮＡおいて、第１の基板１１０Ｒと第２の基板１２０との間にはシール部１４０が配置されている。
【0038】
より具体的には、表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０Ｒは、第１の支持基板１１１と、第１の透明導電膜１１２と、第１の絶縁層１１３と、を液晶層１３０側に向かって順に備える。表示領域１０ＡＡにおいて、第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の透明導電膜１２２と、第２の絶縁層１２３と、スペーサ１２０ＡＲと、を液晶層１３０側に向かって順に備える。
【0039】
額縁領域１０ＮＡにおいて、第１の基板１１０Ｒは、第１の支持基板１１１と、第１の金属層１１４と、第１の透明導電膜１１２と、第１の絶縁層１１３と、をシール部１４０側に向かって順に備える。額縁領域１０ＮＡにおいて、第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の金属層１２４と、第２の透明導電膜１２２と、第２の絶縁層１２３と、をシール部１４０側に向かって順に備える。
【0040】
第１の基板１１０と液晶層１３０との間には第１の配向膜１５１が配置され、第２の基板１２０と液晶層１３０との間には第２の配向膜１５２が配置されている。
【0041】
第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１はガラス基板であり、第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１の厚みは、それぞれ、０．５ｍｍである。第１の透明導電膜１１２の厚みは、７０ｎｍである。第１の絶縁層１１３の厚みは、５３０ｎｍである。第２の透明導電膜１２２の厚みは、１４０ｎｍである。第２の絶縁層１２３の厚みは、６８０ｎｍである。第１の配向膜１５１及び第２の配向膜１５２の厚みは、それぞれ、９０ｎｍである。第１の金属層１１４及び第２の金属層１２４の厚みは、それぞれ、３６０ｎｍである。液晶パネル１０Ｒの最適なセル厚（液晶層１３０の厚み）は、約１．６２μｍである。
【0042】
表示領域１０ＡＡにおいて、第１の支持基板１１１と第２の支持基板１２１との間には、第１の透明導電膜１１２、第１の絶縁層１１３、第１の配向膜１５１、液晶層１３０、第２の配向膜１５２、第２の絶縁層１２３及び第２の絶縁層１２３が配置されている。したがって、表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚、すなわち、表示領域１０ＡＡにおいて第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１で挟持されたガラス基板内側の総厚は、３２２０ｎｍである。
【0043】
額縁領域１０ＮＡにおいて、第１の支持基板１１１と第２の支持基板１２１との間には、第１の金属層１１４、第１の透明導電膜１１２、第１の絶縁層１１３、シール部１４０、第２の絶縁層１２３、第２の透明導電膜１２２及び第２の金属層１２４が配置されている。
【0044】
表示品位を考慮した場合、額縁領域１０ＮＡにおけるガラス基板内側の総厚は、表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚と等しくなるべきである。コモン転移方式の電圧入力の場合、額縁領域１０ＮＡにおけるガラス基板内側の総厚の調整は、通常、シール用導電性ビーズとシール用スペーサで行う。
【0045】
比較形態の液晶パネル１０Ｒの場合、本来であればシール部１４０の高さが１０８０ｎｍになるような径のシール用導電性ビーズ（直径：１．５１μｍ）とシール用スペーサ（直径１．０８μｍ）とを使うべきである。しかしながら、市販品および材料メーカー開発品でのシール用導電性ビーズの最小径は３．０μｍであり、その場合シール用スペーサ径は２．０μｍとなる。シール部１４０の高さはシール用スペーサ径とほぼ等しくなることから、額縁領域１０ＮＡにおけるガラス基板内側の総厚は４１４０ｎｍとなり、表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚よりも９２０ｎｍ大きくなる。
【0046】
この総厚の差により、比較形態の液晶パネル１０Ｒではシール部１４０が柱となり、シール部１４０近傍の表示領域１０ＡＡの高さが抑えられずセル厚が大きくなる。すなわち、シール部１４０近傍の表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚が、額縁領域１０ＮＡから離れた箇所の表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚よりも大きくなり、シール部１４０近傍の表示領域１０ＡＡでは所望のリタデーションが得られない。その結果、比較形態の液晶パネル１０Ｒをアクティブリターダーとして用いる場合、シール部１４０近傍（額縁領域１０ＮＡ近傍）の表示領域１０ＡＡにおいて表示ムラが視認される。アクティブリターダーとして用いられる比較形態の液晶パネル１０Ｒの最適なセル厚は２．０μｍ以下（例えば、約１．６２μｍ）と狭いため、セル厚の均一性が重要課題である。
【0047】
ここで、シール用スペーサ径の算出方法について説明する。最適なシール用スペーサの直径は、シール用導電性ビーズの直径に、シール用導電性ビーズの圧縮率を乗じた長さである。例えば、直径３．０μｍ、圧縮率が０．７１４であるシール用導電性ビーズを用いる場合、最適なシール用スペーサの直径は、下記（式Ｓ１）より２．１４μｍである。
最適なシール用スペーサの直径＝３．０μｍ×０．７１４＝２．１４μｍ （式Ｓ１）
最適なシール用スペーサの直径＝３．０μｍ×０．７１４＝２．１４μｍ （式Ｓ１）
【0048】
市販のシール用スペーサのラインナップより、比較形態の液晶パネルでは直径２．０μｍのシール用スペーサを用いている。
【0049】
また、比較形態の液晶パネル１０Ｒを３Ｄアクティブリターダーとして用いた表示装置では、表示領域１０ＡＡにおいて縦のスジムラが発生する。ガラス基板製造時に発生するガラス基板のうねりが干渉することにより、セル厚が不均一になり、縦のスジムラが発生すると考えられる。
【0050】
上記特許文献１における絶縁層は、セル厚調整のための嵩上げ層である。当該絶縁層の厚みは均一であり、本実施形態の第１の基板側絶縁層１１０Ｘのような２つの厚みを有する絶縁層については開示されていない。また、特許文献１には、絶縁層のエッジ形状や、表面構造までは言及されていない。
【0051】
一方、本実施形態の液晶パネル１０では、スペーサ１２０Ａと対向する領域に、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも厚い第２の厚み部分１１０ＸＢが配置されることにより、セル厚ムラを抑制することが可能となる。その結果、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制することができる。また、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、縦のスジムラを抑制することができる。以下、本実施形態の液晶パネル１０について詳細に説明する。
【0052】
図１に示すように、実施形態の液晶パネル１０は、表示領域１０ＡＡと、表示領域１０ＡＡの周囲に配置された額縁領域１０ＮＡと、を備え、第１の基板１１０と、第１の基板１１０に対向して配置された第２の基板１２０と、を有する。表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間には液晶層１３０が配置され、額縁領域１０ＮＡおいて、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間にはシール部１４０が配置されている。ここで、ある部材が他の部材に対向して配置されるとは、例えば、平面視において、ある部材が他の部材と重畳することをいい、平面視において、ある部材の面積の９０％以上、１００％以下が、他の部材と重なることが好ましく、ある部材の面積の９５％以上、１００％以下が、他の部材と重なることがより好ましい。
【0053】
表示領域１０ＡＡにおいて、第１の基板１１０は、第１の支持基板１１１と、第１の基板側絶縁層１１０Ｘと、第１の透明導電膜１１２と、第１の絶縁層１１３と、を液晶層１３０側に向かって順に備える。表示領域１０ＡＡにおいて、第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の透明導電膜１２２と、第２の絶縁層１２３と、スペーサ１２０Ａと、を液晶層１３０側に向かって順に備える。表示領域１０ＡＡは、位相差が変化し得る領域である。
【0054】
額縁領域１０ＮＡにおいて、第１の基板１１０は、第１の支持基板１１１と、第１の金属層１１４と、第１の透明導電膜１１２と、第１の絶縁層１１３と、をシール部１４０側に向かって順に備える。額縁領域１０ＮＡにおいて、第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の金属層１２４と、第２の透明導電膜１２２と、第２の絶縁層１２３と、をシール部１４０側に向かって順に備える。
【0055】
第１の基板１１０と液晶層１３０との間には第１の配向膜１５１が配置され、第２の基板１２０と液晶層１３０との間には第２の配向膜１５２が配置されている。
【0056】
第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第１の厚み部分１１０ＸＡと、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出し、かつ、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａに対向して配置された第２の厚み部分１１０ＸＢと、を有する。
【0057】
第２の厚み部分１１０ＸＢの形状は特に限定されないが、第２の厚み部分１１０ＸＢは、例えば、円錐台状、円柱状、角錐台状、角柱状等である。第２の厚み部分１１０ＸＢは、円錐台状であることが好ましい。ここで、第２の厚み部分１１０ＸＢの形状とは、第２の厚み部分１１０ＸＢの第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の形状をいう。
【0058】
第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、単層であっても、複数の層の積層体であってもよいが、単層であることが好ましい。例えば、第１の基板側絶縁層１１０Ｘが２層で構成される場合として、次のような構成が挙げられる。すなわち、第１の厚み部分１１０ＸＡ、及び、第２の厚み部分１１０ＸＢのうち第１の厚み部分１１０ＸＡの延長線上に配置される部分が単一の層で構成され、第２の厚み部分１１０ＸＢのうち第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分が上記単一の層とは異なる層で構成されてもよい。
【0059】
第１の基板側絶縁層１１０Ｘとしては、例えば、有機絶縁層を用いることができる。有機絶縁層としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。
【0060】
第１の厚み部分１１０ＸＡは、液晶層１３０側の表面が平坦である。このような態様とすることにより、第１の支持基板１１１の製造時に発生する基板表面のうねりが液晶層１３０へ与える影響を低減することができる。その結果、液晶層１３０の厚みのムラを抑制することができ、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、縦のスジムラを抑制することができる。本明細書において、平坦であるとは、例えば、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠した十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）が０μｍ以上、０．２μｍ以下であることをいう。
【0061】
第１の厚み部分１１０ＸＡは、表示領域１０ＡＡの面積の９９．００％以上、９９．９９％以下を占めることが好ましく、９９．５０％以上、９９．９９％以下を占めることがより好ましく、９９．９４％以上、９９．９８％以下を占めることが更に好ましい。
【0062】
第１の厚み部分１１０ＸＡは、表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚と、額縁領域１０ＮＡにおけるガラス基板内側の総厚とが等しくなるよう設けられる。このような態様とすることにより、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおけるセル厚と、額縁領域１０ＮＡから離れた箇所の表示領域１０ＡＡにおけるセル厚との差を抑えることが可能となる。その結果、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制することができ、アクティブリターダーの性能を高められる。
【0063】
第２の厚み部分１１０ＸＢは、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出している。第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨ（厚み）は、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨの１．０倍を超え、２．５倍以下であることが好ましく、１．１倍以上、２．０倍以下であることがより好ましく、１．２倍以上、１．６倍以下であることが更に好ましい。
【0064】
例えば、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは、７５０ｎｍ以上、１０５０ｎｍ以下であり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは、１１００ｎｍ以上、１４００ｎｍ以下であることが好ましく、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは、８００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは、１１５０ｎｍ以上、１３５０ｎｍ以下であることがより好ましく、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは、８５０ｎｍ以上、９５０ｎｍ以下であり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは、１２００ｎｍ以上、１３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0065】
第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨとは、第１の厚み部分１１０ＸＡの第１の支持基板１１１側の面から第２の基板１２０側の面までの距離をいう。第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨとは、第２の厚み部分１１０ＸＢの第１の支持基板１１１側の面から第２の基板１２０側の面までの距離をいう。ここで、第１の基板１１０側の面とは、第１の基板１１０に最も近い面をいい、第２の基板１２０側の面とは、第２の基板１２０に最も近い面をいう。
【0066】
第２の厚み部分１１０ＸＢは、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａに対向して配置される。平面視において、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａの第１の基板１１０に対向する面１２０ＡＴ全体は、第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴの内側に含まれることが好ましい。このような態様とすることにより、スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０に対向する面１２０ＡＴに対して、第２の厚み部分１１０ＸＢの面１１０ＸＢＴを網羅的に配置することが可能となり、更に効果的に、セル厚を規定することができる。ここで、面全体とは、実質的に面全体であればよく、例えば、面全体の９０％以上、１００％以下の面積であればよい。また、内側に含まれるとは、完全に一致する場合も含むものとする。
【0067】
第２の厚み部分１１０ＸＢは、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａに当接することが好ましい。より具体的には、液晶パネル１０に荷重が加わっていない通常の状態において、第２の厚み部分１１０ＸＢの頂部（第２の基板１２０側の面１１０ＸＢＴ）は、スペーサ１２０Ａの頂部（第１の基板１１０側の面１２０ＡＴ）に当接することが好ましい。このような態様とすることにより、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間の距離（セル厚）を規定することができる。このようなスペーサ１２０Ａは、メインスペーサともいう。なお、本明細書において当接するとは、直接接している場合だけでなく、他の部材を介して接している場合も含む。
【0068】
第２の厚み部分１１０ＸＢの、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１、及び、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａの高さ１２０ＡＨの合計は、液晶層１３０の厚さ（セル厚（例えば、１．６２μｍ））と等しいことが好ましい。このような態様とすることにより、より効果的に、セル厚を規定することができる。ここで、突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１とは、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨと第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨとの差である。また、高さが等しいとは、実質的に等しいことを意味し、例えば、高さの差が０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であることをいう。
【0069】
上述の通り、第２の基板１２０が有するスペーサ１２０Ａは、メインスペーサである。スペーサ１２０Ａは、第２の支持基板１２１上に設けられ、液晶層１３０側に突出している。スペーサ１２０Ａは、液晶パネル１０に荷重が加わっていない通常の状態において、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間隔（液晶層１３０の厚み）を保持する機能を有する。液晶パネル１０に荷重が加わっていない通常の状態において、スペーサ１２０Ａは、第１の基板１１０（より具体的には、第２の厚み部分１１０ＸＢ）に当接する。
【0070】
上記突出部としてのスペーサ１２０Ａは、液晶層１３０側に突出していればよい。スペーサ１２０Ａの高さ１２０ＡＨは特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上、３．０μｍ以下である。
【0071】
第２の基板１２０は、更に、液晶層１３０側に突出し、かつ、第２の厚み部分１１０ＸＢに対向しない第２の突出部としてのサブスペーサ１２０Ｂを備えていてもよい。液晶パネル１０に荷重が加わっていない通常の状態において、サブスペーサ１２０Ｂは、第１の基板１１０に当接しない。しかしながら、液晶パネル１０に荷重が加わると、サブスペーサ１２０Ｂは第１の基板１１０に当接する。その結果、スペーサ１２０Ａ及びサブスペーサ１２０Ｂの両方で第１の基板１１０及び第２の基板１２０を支持することができるため、耐荷重性を高めることができる。
【0072】
スペーサ１２０Ａとサブスペーサ１２０Ｂとは、同じ形状及び大きさを有するものであっても、異なる形状及び大きさを有するものであってもよいが、同じ形状及び大きさを有するものであることが好ましい。このような態様とすることにより、容易にサブスペーサ１２０Ｂを設けることができる。具体的には、サブスペーサ１２０Ｂの高さは、スペーサ１２０Ａと同じであることが好ましい。
【0073】
スペーサ１２０Ａ及びサブスペーサ１２０Ｂは、感光性樹脂の硬化物を含むことが好ましい。感光性樹脂としては、例えば、紫外線反応性官能基を有する樹脂等が挙げられる。スペーサ１２０Ａ及びサブスペーサ１２０Ｂは、感光性樹脂を含む組成物を第２の支持基板１２１上に塗布し、塗布された組成物を既知のフォトリソグラフィ法によってパターン化することで得られる。
【0074】
第１の基板１１０は、第１の基板側絶縁層１１０Ｘの液晶層１３０側に配置された第１の透明導電膜１１２と、第１の透明導電膜１１２の液晶層１３０側に配置された第１の絶縁層１１３と、を備える。このような態様とすることにより、第１の基板１１０と第２の基板１２０とのリークを抑えることができる。
【0075】
第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の支持基板１２１の液晶層１３０側に配置された第２の透明導電膜１２２と、第２の透明導電膜１２２の液晶層１３０側に配置された第２の絶縁層１２３と、を備える。このような態様とすることにより、第１の基板１１０と第２の基板１２０とのリークを抑えることができる。
【0076】
第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等の絶縁基板が挙げられる。ガラス基板の材料としては、例えば、フロートガラス、ソーダガラス等のガラスが挙げられる。ブラスチック基板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン等のプラスチックが挙げられる。
【0077】
第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１の厚さは、それぞれ、特に限定されないが、例えば、０．１ｍｍ以上、１．０ｍｍ以下であることが好ましい。
【0078】
第１の透明導電膜１１２及び第２の透明導電膜１２２は、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透明導電材料、又は、それらの合金を含む。第１の透明導電膜１１２及び第２の透明導電膜１２２は、スパッタリング法等により単層又は複数層で成膜して形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行うことで形成することができる。
【0079】
第１の透明導電膜１１２の厚さは特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。第２の透明導電膜１２２の厚さは特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0080】
第１の絶縁層１１３及び第２の絶縁層１２３としては、例えば、無機絶縁層、有機絶縁層、又は、上記有機絶縁層と無機絶縁層との積層体を用いることができる。無機絶縁層としては、例えば、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化珪素（ＳｉＯ２）等の無機膜）や、それらの積層膜を用いることができる。有機絶縁層としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。
【0081】
第１の絶縁層１１３の厚さは特に限定されないが、例えば、７０ｎｍ以上、７５０ｎｍ以下であることが好ましい。第２の絶縁層１２３の厚さは特に限定されないが、例えば、７０ｎｍ以上、９００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0082】
第１の絶縁層１１３及び第２の絶縁層１２３は、第１の基板１１０及び第２の基板１２０のリーク防止用絶縁層である。セル厚が比較的高い場合（例えば、２．０μｍ以上である場合）、第１の絶縁層１１３及び第２の絶縁層１２３の少なくとも一方は、配置されなくてもよい。
【0083】
第１の金属層１１４及び第２の金属層１２４（以下、単に金属層ともいう）は、金属を含む層である。金属層としては、Ｍｏ／Ａｌ、Ａｌ、Ｃｕ等が挙げられる。金属層は、例えば、スパッタ法を用いて金属薄膜を設けた後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより形成される。
【0084】
第１の金属層１１４及び第２の金属層１２４の厚さは特に限定されないが、それぞれ、例えば、１５０ｎｍ以上、５５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0085】
液晶層１３０は、液晶材料を含んでおり、液晶層１３０に対して電圧を印加し、印加した電圧に応じて液晶材料中の液晶分子の配向状態を変化させることにより、光の透過量を制御するものである。液晶分子は、下記式で定義される誘電率異方性（Δε）が正の値を有するものであってもよく、負の値を有するものであってもよい。なお、正の誘電率異方性を有する液晶分子はポジ型液晶ともいい、負の誘電率異方性を有する液晶分子はネガ型液晶ともいう。なお、液晶分子の長軸方向が遅相軸の方向となる。また、液晶分子は、電圧が印加されていない状態（電圧無印加状態）で、ホモジニアス配向するものであり、電圧無印加状態における液晶分子の長軸の方向は、液晶分子の初期配向の方向ともいう。
Δε＝（液晶分子の長軸方向の誘電率）－（液晶分子の短軸方向の誘電率） （Ｌ）
Δε＝（液晶分子の長軸方向の誘電率）－（液晶分子の短軸方向の誘電率） （Ｌ）
【0086】
アクティブリターダーは超高速の画像切り替えに追従したスイッチングを行う必要があるため、液晶層１３０のセル厚は薄いことが好ましい。液晶層１３０の厚みは、例えば、１．０μｍ以上、２．０μｍ以下であることが好ましい。
【0087】
このような薄いセル厚の液晶パネルの製造では、製造ばらつきを含めたセル厚のコントロールが困難となる場合がある。しかしながら、本実施形態では、スペーサ１２０Ａの高さ１２０ＡＨと、第２の厚み部分１１０ＸＢの突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１と、をあらかじめ測定しておくことにより、最適なセル厚が得られる第１の基板１１０と第２の基板１２０との組み合わせを選別して両者を貼り合わせることが可能となり、セル厚を容易にコントロールすることができる。
【0088】
シール部１４０は、例えば、硬化性樹脂の硬化物を含むことが好ましい。硬化性樹脂としては、例えば、紫外線反応性官能基及び熱反応性官能基の少なくとも一方の官能基を有する樹脂等が挙げられる。速やかに硬化反応が進行し、接着性が良好であることから、硬化性樹脂は、（メタ）アクリロイル基及び／又はエポキシ基を有することが好ましい。このような硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。なお、本明細書において（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタクリルのことをいう。
【0089】
第１の配向膜１５１及び第２の配向膜１５２（以下、単に配向膜ともいう）は、液晶層１３０に含まれる液晶分子の配向を制御する機能を有し、液晶層１３０への印加電圧が閾値電圧未満（電圧無印加を含む）のときには、主に配向膜の働きによって液晶層１３０中の液晶分子の配向が制御される。
【0090】
配向膜の材料としては、ポリイミドを主鎖に有するポリマー、ポリアミック酸を主鎖に有するポリマー、ポリシロキサンを主鎖に有するポリマー等の液晶表示パネルの分野で一般的な材料を用いることができる。配向膜は配向膜材料を塗布することによって形成することができ、上記塗布方法は特に限定されず、例えば、フレキソ印刷、インクジェット塗布等を用いることができる。
【0091】
配向膜は、液晶化合物を膜面に対して略水平に配向させる水平配向膜であってもよいし、液晶分子を膜面に対して略垂直に配向させる垂直配向膜であってもよい。また、配向膜は、光官能基を有し、かつ配向処理として光配向処理が施された光配向膜であってもよいし、配向処理としてラビング処理が施されたラビング配向膜であってもよいし、配向処理が施されていない配向膜であってもよい。
【0092】
なお、配向膜に施される配向処理の方法としては、配向膜表面をローラー等で擦るラビング法が従来広く用いられてきた。これに対して、近年では、ラビング法に代わる配向処理の方法として、配向膜表面に光を照射する光配向法が広く展開されつつある。光配向法によれば、配向膜の表面に接触することなく配向処理を実施できるので、ラビング処理と異なり、配向処理中における汚れ、ごみ等の発生を抑制することができるという利点がある。
【0093】
第１の配向膜１５１及び第２の配向膜１５２の厚さは、それぞれ、特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0094】
（実施形態１の変形例１）
図３は、実施形態１の変形例１に係る液晶パネルの断面模式図である。図３に示すように、本変形例の液晶パネル１０が備える第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の基板側絶縁層１２０Ｘと、を液晶層１３０側に向かって順に有していてもよい。このような態様とすることによっても、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制し、かつ、縦のスジムラを抑制することができる。
図３は、実施形態１の変形例１に係る液晶パネルの断面模式図である。図３に示すように、本変形例の液晶パネル１０が備える第２の基板１２０は、第２の支持基板１２１と、第２の基板側絶縁層１２０Ｘと、を液晶層１３０側に向かって順に有していてもよい。このような態様とすることによっても、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制し、かつ、縦のスジムラを抑制することができる。
【0095】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、単層であっても、複数の層の積層体であってもよいが、単層であることが好ましい。第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦であることが好ましい。
【0096】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘとしては、例えば、有機絶縁層を用いることができる。有機絶縁層としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。
【0097】
（実施形態１の変形例２）
図４は、実施形態１の変形例２に係る液晶パネルの断面模式図である。図４に示すように、本変形例の第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第３の厚み部分１２０ＸＡと、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した第４の厚み部分１２０ＸＢと、を有し、第４の厚み部分１２０ＸＢは、上記突出部である。このような態様とすることによっても、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制し、かつ、縦のスジムラを抑制することができる。
図４は、実施形態１の変形例２に係る液晶パネルの断面模式図である。図４に示すように、本変形例の第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第３の厚み部分１２０ＸＡと、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した第４の厚み部分１２０ＸＢと、を有し、第４の厚み部分１２０ＸＢは、上記突出部である。このような態様とすることによっても、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制し、かつ、縦のスジムラを抑制することができる。
【0098】
本変形例の第４の厚み部分１２０ＸＢは、上記突出部である。すなわち、第２の厚み部分１１０ＸＢは、第４の厚み部分１２０ＸＢに対向して配置される。また、第４の厚み部分１２０ＸＢが、実施形態１におけるスペーサ１２０Ａの役割を果たす。
【0099】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、液晶層１３０側の表面が平坦である第３の厚み部分１２０ＸＡと、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出する第４の厚み部分１２０ＸＢと、を有する。
【0100】
第４の厚み部分１２０ＸＢの形状は特に限定されないが、第４の厚み部分１２０ＸＢは、例えば、円錐台状、円柱状、角錐台状、角柱状等である。第４の厚み部分１２０ＸＢは、円錐台状であることが好ましい。ここで、第４の厚み部分１２０ＸＢの形状とは、第４の厚み部分１２０ＸＢの第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の形状をいう。
【0101】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘは、単層であっても、複数の層の積層体であってもよいが、単層であることが好ましい。例えば、第２の基板側絶縁層１２０Ｘが２層で構成される場合として、次のような構成が挙げられる。すなわち、第３の厚み部分１２０ＸＡ、及び、第４の厚み部分１２０ＸＢのうち第３の厚み部分１２０ＸＡの延長線上に配置される部分が単一の層で構成され、第４の厚み部分１２０ＸＢのうち第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分が上記単一の層とは異なる層で構成されてもよい。
【0102】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘとしては、例えば、有機絶縁層を用いることができる。有機絶縁層としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。
【0103】
第２の基板側絶縁層１２０Ｘとしては、第１の基板側絶縁層１１０Ｘと同様のものを用いることができる。
【0104】
第３の厚み部分１２０ＸＡは、液晶層１３０側の表面が平坦である。このような態様とすることにより、第２の支持基板１２１の製造時に発生する基板表面のうねりが液晶層１３０へ与える影響を低減することができる。その結果、液晶層１３０の厚みのムラを抑制することができ、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、縦のスジムラを抑制することができる。第３の厚み部分１２０ＸＡは、第１の厚み部分１１０ＸＡと同様である。
【0105】
第３の厚み部分１２０ＸＡは、表示領域１０ＡＡにおけるガラス基板内側の総厚と、額縁領域１０ＮＡにおけるガラス基板内側の総厚とが等しくなるよう設けられる。このような態様とすることにより、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおけるセル厚と、額縁領域１０ＮＡから離れた箇所の表示領域１０ＡＡにおけるセル厚との差を抑えることが可能となる。その結果、本実施形態の液晶パネル１０をアクティブリターダーとして用いる場合に、額縁領域１０ＮＡ近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラを抑制することができ、アクティブリターダーの性能を高められる。第４の厚み部分１２０ＸＢは、第２の厚み部分１１０ＸＢと同様である。
【0106】
第４の厚み部分１２０ＸＢは、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出している。第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨ（厚み）は、第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨの１．０倍を超え、３．５倍以下であることが好ましく、１．１倍以上、３．２倍以下であることがより好ましく、１．２倍以上、２．８倍以下であることが更に好ましい。
【0107】
例えば、第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨは、３６０ｎｍ以上、５６０ｎｍ以下であり、第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨは、１１００ｎｍ以上、１４００ｎｍ以下であることが好ましく、第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨは、４１０ｎｍ以上、５１０ｎｍ以下であり、第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨは、１１５０ｎｍ以上、１３５０ｎｍ以下であることがより好ましく、第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨは、４５０ｎｍ以上、４７０ｎｍ以下であり、第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨは、１２００ｎｍ以上、１３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0108】
第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨとは、第３の厚み部分１２０ＸＡの第２の支持基板１２１側の面から第１の基板１１０側の面までの距離をいう。第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨとは、第４の厚み部分１２０ＸＢの第２の支持基板１２１側の面から第１の基板１１０側の面までの距離をいう。
【0109】
第２の厚み部分１１０ＸＢは、上記突出部としての第４の厚み部分１２０ＸＢに対向して配置される。平面視において、第４の厚み部分１２０ＸＢの第１の基板１１０に対向する面１２０ＸＢＴ全体は、第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴ全体と重なることが好ましい。このような態様とすることにより、スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０に対向する面１２０ＡＴに対して、第２の厚み部分１１０ＸＢの面１１０ＸＢＴを網羅的に配置することが可能となり、更に効果的に、セル厚を規定することができる。
【0110】
第２の厚み部分１１０ＸＢは、上記突出部としての第４の厚み部分１２０ＸＢに当接することが好ましい。より具体的には、液晶パネル１０に荷重が加わっていない通常の状態において、第２の厚み部分１１０ＸＢの頂部（第２の基板１２０側の面１１０ＸＢＴ）は、第４の厚み部分１２０ＸＢの頂部（第１の基板１１０側の面１２０ＸＢＴ）に当接することが好ましい。このような態様とすることにより、第１の基板１１０と第２の基板１２０との間の距離（セル厚）を規定することができる。このような第４の厚み部分１２０ＸＢは、メインスペーサとして機能する。
【0111】
第２の厚み部分１１０ＸＢの、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１、及び、第４の厚み部分１２０ＸＢの、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１２０ＸＢＨ１の合計は、液晶層１３０の厚さ（セル厚（例えば、１．６２μｍ））と等しいことが好ましい。このような態様とすることにより、より効果的に、セル厚を規定することができる。ここで、突出した部分の高さ１２０ＸＢＨ１とは、第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨと第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨとの差である。
【0112】
本変形例の第１の基板１１０と第２の基板１２０とは同じ構造とすることが可能であるため、製造工程やマスク枚数を削減することができる。本変形例の液晶パネル１０はサブスペーサを有さないため、液晶パネルの表面に圧力がかかりにくい用途において好ましく用いられる。
【0113】
（実施形態２）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態１と重複する内容については説明を省略する。本実施形態では、上記実施形態１の液晶パネルを備える３次元表示装置について説明する。
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態１と重複する内容については説明を省略する。本実施形態では、上記実施形態１の液晶パネルを備える３次元表示装置について説明する。
【0114】
図５は、実施形態２に係る３次元表示装置の偏光状態について説明する分解模式図である。図５に示すように、本実施形態の３次元表示装置１は、観察者Ｕ側に向かって順に、表示パネル２０と、液晶パネル１０と、偏光メガネ２と、を有する。液晶パネル１０は、アクティブリターダーとして機能する。表示パネル２０は、メインパネルともいう。偏光メガネ２は、３Ｄメガネともいう。
【0115】
表示パネル２０は、画像２０Ａを表示する。画像２０Ａは、右目用画像２０ＡＲ及び左目用画像２０ＡＬを含む。表示パネル２０は、右目用画像２０ＡＲ及び左目用画像２０ＡＬを所定の時間で切り替えて順次表示する機能を有する。
【0116】
液晶パネル１０は、表示パネル２０の画像切り替えと同期した光学スイッチング素子であり、右目用画像２０ＡＲ及び左目用画像２０ＡＬの偏光状態を異ならせる機能を有する。例えば、右目用画像２０ＡＲが液晶パネル１０へ入射する場合、右目用画像２０ＡＲを右円偏光及び左円偏光の一方に変換し、左目用画像２０ＡＬが液晶パネル１０へ入射する場合、左目用画像２０ＡＬを右円偏光及び左円偏光の他方に変換する機能を有する。
【0117】
偏光メガネ２は、右目用画像２０ＡＲの偏光光が右目側を透過し、左目用画像２０ＡＬの偏光光が左目側を透過するように設計されている。このような態様とすることにより、観察者は３Ｄ表示を得ることができる。
【0118】
図６は、実施形態２に係る３次元表示装置の軸方位について説明する分解模式図である。図６を用いて本実施形態の３次元表示装置１についてより詳細に説明する。本実施形態の３次元表示装置１は、観察者Ｕ側に向かって順に、表示パネル２０と、透過軸１ＰＡを有する偏光板１Ｐと、液晶パネル１０と、偏光メガネ２と、を備える。このような態様とすることにより、縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制しつつ、３次元表示を実現することができる。
【0119】
偏光メガネ２は、観察者Ｕの右目ＵＲに対応する右目用のレンズ２Ｒと左目ＵＬに対応する左目用のレンズ２Ｌと、を備える。右目用のレンズ２Ｒは、右目用の位相差板２ＲＸと、右目用の透過軸２ＲＰＡを有する右目用の偏光板２ＲＰと、を備える。左目用のレンズ２Ｌは、左目用の位相差板２ＬＸと、左目用の透過軸２ＬＰＡを有する左目用の偏光板２ＬＰと、を備える。なお、本明細書における偏光板は、特に断りの無い限り、直線偏光板を意味する。
【0120】
右目用の透過軸２ＲＰＡ及び左目用の透過軸２ＬＰＡは互いに平行である。透過軸１ＰＡは、右目用の透過軸２ＲＰＡ及び左目用の透過軸２ＬＰＡと直交する。右目用の位相差板２ＲＸ及び左目用の位相差板２ＬＸの一方は－λ／４位相差板であり、他方は＋λ／４位相差板である。具体的には、透過軸１ＰＡは表示パネル２０の上下方向に配置され、右目用の透過軸２ＲＰＡ及び左目用の透過軸２ＬＰＡは表示パネル２０の左右方向に配置され、右目用の位相差板２ＲＸは＋λ／４位相差板であり、左目用の位相差板２ＬＸは－λ／４位相差板である。
【0121】
液晶パネル１０の遅相軸１０Ａと透過軸１ＰＡとのなす角は、４０°以上、５０°以下であることが好ましく、４３°以上、４７°以下であることがより好ましく、４５°であることが特に好ましい。
【0122】
表示パネル２０は、右目用画像２０ＡＲ及び左目用画像２０ＡＬを含む画像２０Ａを表示する。表示パネル２０からの画像２０Ａは、偏光板１Ｐを通過することにより、上下方向の直線偏光となり液晶パネル１０へと出射される。表示パネル２０は、右目用画像２０ＡＲ及び左目用画像２０ＡＬを所定の時間で切り替えて順次表示する。
【0123】
液晶パネル１０は、当該液晶パネル１０へ入射する光に対して、表示パネル２０に表示される画像２０Ａが右目用画像２０ＡＲである場合は右目用の位相差板２ＲＸと同じ位相差（例えば、＋λ／４）を付与し、表示パネル２０に表示される画像２０Ａが左目用画像２０ＡＬである場合は左目用の位相差板２ＬＸと同じ位相差（例えば、－λ／４）を付与する。このように、液晶パネル１０の位相差は、＋λ／４と－λ／４とで切り替わる。
【0124】
液晶パネル１０の位相差が＋λ／４である場合、観察者Ｕの左目ＵＬには、表示パネル２０から出射された画像２０Ａ（具体的には、右目用画像２０ＡＲ）に対して、液晶パネル１０により＋λ／４の位相差が付与され、かつ、左目用の位相差板２ＬＸにより－λ／４の位相差が付与された光が入射する。すなわち、位相差の変化の合計は、（＋λ／４）＋（－λ／４）＝０となる。透過軸１ＰＡと左目用の透過軸２ＬＰＡとは直交しているので、表示パネル２０からの光（右目用画像２０ＡＲ）は左目用の偏光板２ＬＰを透過することができず、左目用のレンズ２Ｌは非透過となる。一方、観察者Ｕの右目ＵＲには、表示パネル２０から出射された画像２０Ａ（具体的には、右目用画像２０ＡＲ）に対して、液晶パネル１０により＋λ／４の位相差が付与され、かつ、右目用の位相差板２ＲＸにより＋λ／４の位相差が付与された光が入射する。すなわち、位相差の変化の合計は、（＋λ／４）＋（＋λ／４）＝＋λ／２となる。透過軸１ＰＡと右目用の透過軸２ＲＰＡとは直交しているので、表示パネル２０からの光（右目用画像２０ＡＲ）は右目用の偏光板２ＲＰを透過することができ、右目用のレンズ２Ｒは透過となる。
【0125】
同様に、液晶パネル１０の位相差が－λ／４である場合、観察者Ｕの左目ＵＬには、表示パネル２０から出射された画像２０Ａ（具体的には、左目用画像２０ＡＬ）に対して、液晶パネル１０により－λ／４の位相差が付与され、かつ、左目用の位相差板２ＬＸにより－λ／４の位相差が付与された光が入射する。すなわち、位相差の変化の合計は、（－λ／４）＋（－λ／４）＝－λ／２となる。透過軸１ＰＡと左目用の透過軸２ＬＰＡとは直交しているので、表示パネル２０からの光（左目用画像２０ＡＬ）は左目用の偏光板２ＬＰを透過することができ、左目用のレンズ２Ｌは透過となる。一方、観察者Ｕの右目ＵＲには、表示パネル２０から出射された画像２０Ａ（具体的には、左目用画像２０ＡＬ）に対して、液晶パネル１０により－λ／４の位相差が付与され、かつ、右目用の位相差板２ＲＸにより＋λ／４の位相差が付与された光が入射する。すなわち、位相差の変化の合計は、（－λ／４）＋（＋λ／４）＝０となる。透過軸１ＰＡと右目用の透過軸２ＲＰＡとは直交しているので、表示パネル２０からの光（左目用画像２０ＡＬ）は右目用の偏光板２ＲＰを透過することができず、右目用のレンズ２Ｒは非透過となる。
【0126】
表示パネル２０は、液晶層及びカラーフィルタ層を有する液晶表示パネルであってもよい。この場合、３次元表示装置１は、表示パネル２０の液晶パネル１０と反対側にバックライト３０を備える。バックライト３０は、表示パネル２０に向かってバックライト光３０Ａを出射する機能を有する。表示パネル２０の観察者Ｕと反対側にバックライト３０を備える。
【0127】
図７は、実施形態２に係る３次元表示装置の一例を示す模式図である。図７に示すように、本実施形態の３次元表示装置１は、偏光板１Ｐと液晶パネル１０との間に、λ／４位相差板１６０を備えてもよい。液晶パネル１０は、位相差をλ／２と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、液晶パネル１０の遅相軸１０Ａは、λ／４位相差板１６０の遅相軸１６０Ａと直交する。すなわち、λ／４位相差板１６０は－λ／４の位相差を付与する。なお、液晶パネルの遅相軸とは、液晶パネルが備える液晶層の遅相軸である。
【0128】
例えば、電圧無印加状態の液晶パネル１０の位相差がλ／２である場合、表示パネル２０から出射した光は、λ／４位相差板１６０及び液晶パネル１０を透過してλ／４の位相差が付与される。その結果、左目用のレンズ２Ｌは非透過となり、右目用のレンズ２Ｒは透過となる。一方、電圧印加状態の液晶パネル１０の位相差が０ｎｍである場合、表示パネル２０から出射した光は、λ／４位相差板１６０及び液晶パネル１０を透過して－λ／４の位相差が付与される。その結果、左目用のレンズ２Ｌは透過となり、右目用のレンズ２Ｒは非透過となる。
【0129】
より具体的には、印加電圧がＬｏｗの状態（電圧無印加状態）でλ／２の位相差を持つように設計された液晶パネル１０はｘ軸方向に遅相軸を有する。したがって、液晶パネル１０ではｎｘ＞ｎｙの関係が成り立つことから、液晶パネル１０の位相差は（ｎｘ－ｎｙ）×厚み＝＋λ／２となる。
【0130】
一方、ｙ軸方向に遅相軸を有するλ／４位相差板１６０は、ｘ軸方向に進相軸を有するλ／４位相差板であるともいえる。したがって、λ／４位相差板１６０ではｎｘ＜ｎｙの関係が成り立つことから、λ／４位相差板１６０の位相差は（ｎｘ－ｎｙ）×厚み＝－λ／４となる。
【0131】
以上より、電圧無印加状態における液晶パネル１０及びλ／４位相差板１６０の位相差の合計値は、
（＋λ／２）＋（－λ／４）＝＋λ／４となる。符号が＋であるため、遅相軸はｘ軸方向に平行で、位相差の絶対値はλ／４である。
（＋λ／２）＋（－λ／４）＝＋λ／４となる。符号が＋であるため、遅相軸はｘ軸方向に平行で、位相差の絶対値はλ／４である。
【0132】
ここまでは液晶パネル１０への印加電圧がＬｏｗの状態を説明したが、印加電圧がＨｉｇｈの状態（電圧印加状態）では、液晶パネル１０の位相差は０になる（完全に０になることは無いが、説明を簡単にするため、ここでは０とする）。したがって、電圧印加状態における液晶パネル１０及びλ／４位相差板１６０の位相差の合計値は、
（０）＋（－λ／４）＝－λ／４となる。符号が－であるため、遅相軸はｙ軸方向に平行で、位相差の絶対値はλ／４である。
（０）＋（－λ／４）＝－λ／４となる。符号が－であるため、遅相軸はｙ軸方向に平行で、位相差の絶対値はλ／４である。
【0133】
（実施形態２の変形例１）
図８は、実施形態２の変形例１に係る３次元表示装置の一例を示す模式図である。図８に示すように、本実施形態の３次元表示装置１は、観察者Ｕ側に向かって順に、表示パネル２０と、透過軸１ＰＡを有する偏光板１Ｐと、第１の液晶パネル１１と、第２の液晶パネル１２と、偏光メガネ２と、を備える。このような態様とすることによっても、縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制しつつ、３次元表示を実現することができる。
図８は、実施形態２の変形例１に係る３次元表示装置の一例を示す模式図である。図８に示すように、本実施形態の３次元表示装置１は、観察者Ｕ側に向かって順に、表示パネル２０と、透過軸１ＰＡを有する偏光板１Ｐと、第１の液晶パネル１１と、第２の液晶パネル１２と、偏光メガネ２と、を備える。このような態様とすることによっても、縁領域近傍の表示領域における白ムラ、及び、表示領域における縦のスジムラを抑制しつつ、３次元表示を実現することができる。
【0134】
本変形例の３次元表示装置１は、液晶パネルの枚数が異なること以外は、実施形態２の３次元表示装置１と同様である。すなわち、実施形態２の３次元表示装置１は、１つの液晶パネル１０を備え、当該液晶パネル１０は、位相差をλ／２と０ｎｍとの間で切り替え可能である。一方、本変形例の３次元表示装置１は、２つの液晶パネル１１及び１２を備え、液晶パネル１１及び１２は、それぞれ、位相差をλ／４と０ｎｍとの間で切り替え可能である。このように、本変形例では、上記実施形態２における液晶パネル１０の位相差が、２つの液晶パネル１１及び１２に分けられている。
【0135】
本変形例の３次元表示装置１は、偏光板１Ｐと液晶パネル１０との間に、λ／４位相差板１６０を備えてもよい。第１の液晶パネル１１及び第２の液晶パネル１２は、それぞれ、位相差をλ／４と０ｎｍとの間で切り替え可能であり、第１の液晶パネル１１の遅相軸１１Ａは、λ／４位相差板１６０の遅相軸１６０Ａと直交し、第２の液晶パネル１２の遅相軸１２Ａは、λ／４位相差板１６０の遅相軸１６０Ａと直交する。すなわち、λ／４位相差板１６０は－λ／４の位相差を付与する。なお、液晶パネル１０の遅相軸１０Ａとは、液晶パネル１０が備える液晶層１３０の遅相軸である。
【0136】
例えば、電圧無印加状態の第１の液晶パネル１１の位相差がλ／４であり、電圧無印加状態の第２の液晶パネル１２の位相差がλ／４である場合、表示パネル２０から出射した光は、λ／４位相差板１６０、第１の液晶パネル１１及び第２の液晶パネル１２を透過してλ／４の位相差が付与される。その結果、左目用のレンズ２Ｌは非透過となり、右目用のレンズ２Ｒは透過となる。一方、電圧印加状態の第１の液晶パネル１１の位相差が０ｎｍであり、電圧印加状態の第２の液晶パネル１２の位相差が０ｎｍである場合、表示パネル２０から出射した光は、λ／４位相差板１６０、第１の液晶パネル１１及び第２の液晶パネル１２を透過して－λ／４の位相差が付与される。その結果、左目用のレンズ２Ｌは透過となり、右目用のレンズ２Ｒは非透過となる。
【0137】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明の効果を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【0138】
（実施例１）
上記実施形態１に対応する液晶パネル１０を作製した。まず、第１の基板１１０を次のように作製した。０．５ｍｍ厚のガラス基板（第１の支持基板１１１）上に、二つの厚みを持つセル厚調整用絶縁層（第１の基板側絶縁層１１０Ｘ）、第１の透明導電膜１１２、上下リーク防止用絶縁層（第１の絶縁層１１３）を形成した。
上記実施形態１に対応する液晶パネル１０を作製した。まず、第１の基板１１０を次のように作製した。０．５ｍｍ厚のガラス基板（第１の支持基板１１１）上に、二つの厚みを持つセル厚調整用絶縁層（第１の基板側絶縁層１１０Ｘ）、第１の透明導電膜１１２、上下リーク防止用絶縁層（第１の絶縁層１１３）を形成した。
【0139】
セル厚調整用絶縁層（第１の基板側絶縁層１１０Ｘ）の材料は透明有機膜であり、２つの厚み（第１の厚み部分１１０ＸＡ及び第２の厚み部分１１０ＸＢ）を有していた。具体的には、第１の支持基板１１１と第１の透明導電膜１１２との間に、セル厚調整用絶縁層として、９２０ｎｍの平坦な有機絶縁層を設けて第１の厚み部分１１０ＸＡを形成した。更に、厚み９２０ｎｍの第１の厚み部分１１０ＸＡ上であって、かつ、基板主面を平面視したときにメインスペーサ（スペーサ１２０Ａ）と同一箇所になる位置に、高さ３００ｎｍの円錐台を設けることにより、第２の厚み部分１１０ＸＢを形成した。すなわち、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは９２０ｎｍであり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは１２２０ｎｍであり、突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１は３００ｎｍであった。円錐台上面（第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴ）の直径は、第２の基板１２０が備えるメインスペーサの頂部（スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０側の面１２０ＡＴ）の直径より大きい２０μｍであった。
【0140】
第１の透明導電膜１１２の材料はＩＺＯとし、厚みは７０ｎｍとした。上下リーク防止用絶縁層（第１の絶縁層１１３）の材料はＳｉＮとし、厚みは５３０ｎｍとした。
【0141】
画面サイズは２７型、有効表示領域は横５８１．８１７６ｍｍ、縦３３３．７９９２ｍｍであり、上下中央で透明電極膜（第１の透明導電膜１１２）が分割された２セグメントの電極構造とした。
【0142】
第２の基板１２０は、次のようにして作製した。０．５ｍｍ厚のガラス基板（第２の支持基板１２１）上に、第２の透明導電膜１２２、上下リーク防止用絶縁層（第２の絶縁層１２３）、スペーサ（メインスペーサである１２０Ａ、及び、サブスペーサ１２０Ｂ）を形成した。
【0143】
第２の透明導電膜１２２の材料はＩＺＯとし、厚みは１４０ｎｍとした。上下リーク防止用絶縁層（第２の絶縁層１２３）の材料はＳｉＮとし、厚みは６８０ｎｍとした。
【0144】
メインスペーサであるスペーサ１２０Ａは円柱状であり、スペーサ１２０Ａの底面（スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０側の面１２０ＡＴ及び第２の支持基板１２１側の面）の直径は１５．３μｍであり、高さ１２０ＡＨは１．３２μｍであった。サブスペーサ１２０Ｂは四角柱状であり、底面の縦の長さは１５μｍであり、横の長さは４０μｍであり、高さ１．３２μｍであった。スペーサ１２０Ａ及びサブスペーサ１２０Ｂは、いずれも、透明有機膜で形成した。
【0145】
以上のようにして作製した第１の基板１１０の第１の絶縁層１１３側の表面に配向膜材料を塗布して第１の配向膜１５１を形成し、第２の基板１２０のスペーサ１２０Ａ側の表面に配向膜材料を塗布して第２の配向膜１５２を形成した。その後、第２の基板１２０の額縁領域１０ＮＡにシール樹脂を描画した。更に、第１の配向膜１５１上に液晶材料を滴下して、第１の配向膜１５１と第２の配向膜１５２とが対向するように第１の基板１１０と第２の基板１２０とを貼り合わせた。その後、ＵＶ露光及び加熱を行うことによりシール樹脂を硬化し、シール部１４０を形成した。液晶層の厚さ（セル厚）は１．６２μｍであった。
【0146】
配向膜材料は水平配向用のポリイミドを含んでいた。第１の配向膜１５１及び第２の配向膜１５２の厚みは、それぞれ、９０ｎｍであった。第１の配向膜１５１及び第２の配向膜１５２には、アンチパラレルのラビング処理を行った。液晶材料の誘電異方性は正であり、Δｎは０．１６であった。
【0147】
第１の基板１１０が有する上側基板用入力用端子（第１の金属層１１４）からシール部１４０に含まれるシール用導電性ビーズを伝導して第２の基板１２０の信号を入力する。そのため、シール樹脂には、第１の基板１１０及び第２の基板１２０を導通するためのシール用導電性ビーズ（直径３μｍ）とシール部１４０の柱の役目となるシール用スペーサ（直径２μｍ）が含まれており、それらが均一に混ぜられていた。シール樹脂の仕上がりの高さ、すなわち、シール部１４０の高さは、２０００ｎｍであった。第１の金属層１１４及び第２の金属層１２４の厚さは、それぞれ、３６０ｎｍであった。
【0148】
実施例１では、第２の厚み部分１１０ＸＢの、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１（３００ｎｍ）、及び、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａの高さ１２０ＡＨ（１．３２μｍ）の合計は、液晶層１３０の厚さ（１．６２μｍ）と等しかった。
【0149】
平面視において、スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０に対向する面１２０ＡＴ全体は、第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴの内側に含まれていた。
【0150】
（比較例１）
上記比較形態に係る液晶パネル１０Ｒを作製した。具体的には、第１の基板１１０に第１の基板側絶縁層１１０Ｘを設けず、メインスペーサであるスペーサ１２０ＡＲの高さを１．６２μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の液晶パネル１０Ｒを作製した。
上記比較形態に係る液晶パネル１０Ｒを作製した。具体的には、第１の基板１１０に第１の基板側絶縁層１１０Ｘを設けず、メインスペーサであるスペーサ１２０ＡＲの高さを１．６２μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の液晶パネル１０Ｒを作製した。
【0151】
（実施例１及び比較例１に係る液晶パネルの白ムラ評価）
実施例１の液晶パネル１０及び比較例１の液晶パネル１０Ｒについて、非点灯黒表示状態を比較した。図９は、実施例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。図１０は、比較例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。図１１は、図１０において破線で囲まれた領域の拡大写真である。
実施例１の液晶パネル１０及び比較例１の液晶パネル１０Ｒについて、非点灯黒表示状態を比較した。図９は、実施例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。図１０は、比較例１に係る液晶パネルの、非点灯黒表示状態を示す写真である。図１１は、図１０において破線で囲まれた領域の拡大写真である。
【0152】
図９に示すように、実施例１の液晶パネル１０では、額縁領域１０ＮＡ（シール部１４０）近傍の表示領域１０ＡＡにおける白ムラが抑制されていた。実施例１の液晶パネル１０では、シール部１４０近傍、セル中央のどちらにおいても、最適なセル厚（１．６２μｍ）がとなっているため、均一な黒表示を実現することができたと考えられる。なお、図９に示す破線の内側は、額縁領域１０ＮＡであり、金属層が配置されているため光が透過せず黒くなった。
【0153】
一方、比較例１の液晶パネル１０Ｒでは、図１１において一点鎖線で示すように、額縁領域１０ＮＡ（シール部１４０）近傍の表示領域１０ＡＡにおいて白ムラが発生していた。比較例１の液晶パネル１０Ｒでは、セル中央の最適なセル厚が１．６２μｍであるのに対して、シール部１４０近傍のセル厚が約２．０μｍであったため、シール部１４０近傍のリタデーションは所望のリタデーションより高くなり、白ムラが発生したと考えられる。このように、比較例１の額縁領域１０ＮＡ近傍では、３Ｄアクティブリターダーの表示性能に必要なリタデーションが得られず、当該部分は表示に使用することができない。なお、図１１に示す破線の内側は、額縁領域１０ＮＡであり、金属層が配置されているため光が透過せず黒くなった。
【0154】
（実施例１及び比較例１に係る液晶パネルの製造工程の評価）
図１２は、実施例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。図１３は、比較例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。図１２に示すように、実施例１の液晶パネル１０は、メインスペーサであるスペーサ１２０Ａとサブスペーサ１２０Ｂの高さが同じであるため、メインスペーサとサブスペーサとを一括で形成することが可能であった。一方、比較例１の液晶パネル１０Ｒは、図１３に示すように、メインスペーサであるスペーサ１２０ＡＲとサブスペーサ１２０Ｂの高さが異なるため、スペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂを形成するためには、スペーサ１２０ＡＲを形成する工程及びサブスペーサ１２０Ｂを形成する工程の２段階の工程に分ける、もしくは、ハーフ露光を利用してスペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂを一括で形成する必要がある。
図１２は、実施例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。図１３は、比較例１に係る液晶パネルのメインスペーサ及びサブスペーサを示す断面模式図である。図１２に示すように、実施例１の液晶パネル１０は、メインスペーサであるスペーサ１２０Ａとサブスペーサ１２０Ｂの高さが同じであるため、メインスペーサとサブスペーサとを一括で形成することが可能であった。一方、比較例１の液晶パネル１０Ｒは、図１３に示すように、メインスペーサであるスペーサ１２０ＡＲとサブスペーサ１２０Ｂの高さが異なるため、スペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂを形成するためには、スペーサ１２０ＡＲを形成する工程及びサブスペーサ１２０Ｂを形成する工程の２段階の工程に分ける、もしくは、ハーフ露光を利用してスペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂを一括で形成する必要がある。
【0155】
通常の液晶パネル用途においてスペーサの高さは２．０～３．０μｍに設定される。一方、アクティブリターダーとして用いられる比較例１の液晶パネル１０Ｒではスペーサ１２０ＡＲの高さは１．６２μｍ、サブスペーサ１２０Ｂの高さは１．３２μｍに設定される。スペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂの高さは通常の液晶パネルのスペーサより低い。そのため、比較例１のスペーサ１２０ＡＲ及びサブスペーサ１２０Ｂを形成する工程には高い精度が求められ、当該工程の難易度は高いと考えられる。
【0156】
（実施例１及び比較例１に係る液晶パネルの縦のスジムラの評価）
図１４は、実施例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。図１５は、比較例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。図１６は、比較例１に係る液晶パネルの縦のスジムラを示す写真である。
図１４は、実施例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。図１５は、比較例１に係る液晶パネルの断面模式図の一例である。図１６は、比較例１に係る液晶パネルの縦のスジムラを示す写真である。
【0157】
実施例１の液晶パネル１０では縦のスジムラは確認されなかった。一方、比較例１の液晶パネル１０Ｒでは、図１６に示すように、表示領域１０ＡＡ内に、約２０～３０ｍｍピッチの縦のスジムラが発生した。
【0158】
図１４及び図１５に示すように、ガラス基板である第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１は、ガラス製造のプロセスの中で高精度に平坦化されてはいるものの、第１の支持基板１１１及び第２の支持基板１２１には高さ０．１μｍ以下で５～３０ｍｍピッチのうねりが生じる。
【0159】
比較例１の液晶パネル１０Ｒでは、図１５に示すように、第１の支持基板１１１と第２の支持基板１２１を構成するガラス基板のうねりが干渉し、液晶層１３０のセル厚の大小が生じてリタデーションの差が発生してスジ状のムラが視認されたと考えられる。すなわち、ガラス基板のうねりの干渉により、面内のセル厚が不均一になり、約２０～３０ｍｍ程度のスジムラとして視認されたと考えられる。
【0160】
一方、実施例１の液晶パネル１０では、第１の支持基板１１１上に第１の基板側絶縁層１１０Ｘを備えるため、図１４に示すように、第１の基板１１０の表面が平坦化されてガラス基板のうねりが干渉することが抑制され、スジ状のムラが抑制されたと考えられる。
【0161】
（実施例１及び比較例１に係る液晶パネルの押圧に対する評価）
実施例１の液晶パネル１０の表面を指で押しても、光漏れは生じにくかった。実施例１の液晶パネル１０は第１の基板側絶縁層１１０Ｘを備え、第１の基板側絶縁層１１０Ｘは第２の厚み部分１１０ＸＢを有する。そのため、液晶パネル１０の表面を指で押しても、表示領域１０ＡＡに対応して配置されている第１の厚み部分１１０ＸＡの領域にまでスペーサ１２０Ａの先端が接触しにくい。その結果、第１の配向膜１５１に傷が付きにくく、配向膜の傷に起因する光漏れが発生しにくかったと考えられる。
実施例１の液晶パネル１０の表面を指で押しても、光漏れは生じにくかった。実施例１の液晶パネル１０は第１の基板側絶縁層１１０Ｘを備え、第１の基板側絶縁層１１０Ｘは第２の厚み部分１１０ＸＢを有する。そのため、液晶パネル１０の表面を指で押しても、表示領域１０ＡＡに対応して配置されている第１の厚み部分１１０ＸＡの領域にまでスペーサ１２０Ａの先端が接触しにくい。その結果、第１の配向膜１５１に傷が付きにくく、配向膜の傷に起因する光漏れが発生しにくかったと考えられる。
【0162】
図１７は、比較例１に係る液晶パネルが押圧された場合を示す断面模式図である。比較例１の液晶パネル１０Ｒの表面を指で押すと、表示不良（具体的には光漏れ）が生じた。比較例１の液晶パネル１０Ｒの表面を指で押すことにより、スペーサ１２０ＡＲが表示領域１０ＡＡにはみ出したり、スペーサ１２０ＡＲの先端が表示領域１０ＡＡに位置する第１の配向膜１５１を削ったりして、液晶分子が狙い通りに配向せずに表示不良が発生したと考えられる。なお、図１７では、比較形態に係る液晶パネル１０Ｒでは図示されていないセル厚調整用絶縁層１１０Ｚが図示されている。セル厚調整用絶縁層１１０Ｚは、凹凸のない平坦な形状を有する層であった。
【0163】
（実施例２）
実施形態１の変形例１に対応する実施例２の液晶パネル１０を作製した。具体的には、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さを４６０ｎｍとし、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さを７６０ｎｍとし、かつ、第２の支持基板１２１と第２の透明導電膜１２２との間に厚さ４６０ｎｍの第２の基板側絶縁層１２０Ｘを設けたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶パネル１０を作製した。
実施形態１の変形例１に対応する実施例２の液晶パネル１０を作製した。具体的には、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さを４６０ｎｍとし、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さを７６０ｎｍとし、かつ、第２の支持基板１２１と第２の透明導電膜１２２との間に厚さ４６０ｎｍの第２の基板側絶縁層１２０Ｘを設けたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶パネル１０を作製した。
【0164】
第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、次のように作製した。第１の支持基板１１１と第１の透明導電膜１１２との間に、セル厚調整用絶縁層として、４６０ｎｍの平坦な有機絶縁層を設けて第１の厚み部分１１０ＸＡを形成した。更に、厚み４６０ｎｍの第１の厚み部分１１０ＸＡ上であって、かつ、基板主面を平面視したときにメインスペーサ（スペーサ１２０Ａ）と同一箇所になる位置に、高さ３００ｎｍの円錐台を設けることにより、第２の厚み部分１１０ＸＢを形成した。すなわち、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは４６０ｎｍであり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは７６０ｎｍであり、突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１は３００ｎｍであった。また、第２の支持基板１２１と第２の透明導電膜１２２との間に、セル厚調整用絶縁層として、４６０ｎｍの平坦な有機絶縁層を設けて第２の基板側絶縁層１２０Ｘとした。
【0165】
実施例２では、第２の厚み部分１１０ＸＢの、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１（３００ｎｍ）、及び、上記突出部としてのスペーサ１２０Ａの高さ１２０ＡＨ（１．３２μｍ）の合計は、液晶層１３０の厚さ（１．６２μｍ）と等しかった。
【0166】
平面視において、スペーサ１２０Ａの第１の基板１１０に対向する面１２０ＡＴ全体は、第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴの内側に含まれていた。
【0167】
実施例２の液晶パネル１０では、縦のスジムラが実施例１よりも抑制されていた。実施例２では、第２の基板１２０側にもセル厚調整用絶縁層を設けることにより、第１の基板１１０及び第２の基板１２０の両方について、ガラス基板のうねりを平坦化することが可能となり、ガラス基板のうねりに起因する縦のスジムラを実施例１より抑制することができたと考えられる。
【0168】
（実施例３）
実施形態１の変形例２に対応する実施例３の液晶パネル１０を作製した。具体的には、第１の基板側絶縁層１１０Ｘ及び第２の基板側絶縁層１２０Ｘの構成を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶パネル１０を作製した。
実施形態１の変形例２に対応する実施例３の液晶パネル１０を作製した。具体的には、第１の基板側絶縁層１１０Ｘ及び第２の基板側絶縁層１２０Ｘの構成を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶パネル１０を作製した。
【0169】
第１の基板側絶縁層１１０Ｘは、次のように作製した。第１の支持基板１１１と第１の透明導電膜１１２との間に、セル厚調整用絶縁層として、４６０ｎｍの平坦な有機絶縁層を設けて第１の厚み部分１１０ＸＡを形成した。更に、厚み４６０ｎｍの第１の厚み部分１１０ＸＡ上に、高さ８１０ｎｍの円錐台を設けることにより、第２の厚み部分１１０ＸＢを形成した。すなわち、第１の厚み部分１１０ＸＡの高さ１１０ＸＡＨは４６０ｎｍであり、第２の厚み部分１１０ＸＢの高さ１１０ＸＢＨは１２７０ｎｍであり、突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１は８１０ｎｍであった。
【0170】
また、第２の支持基板１２１と第２の透明導電膜１２２との間に、第１の基板側絶縁層１１０Ｘと同様にして第２の基板側絶縁層１２０Ｘを設けた。すなわち、第３の厚み部分１２０ＸＡの高さ１２０ＸＡＨは４６０ｎｍであり、第４の厚み部分１２０ＸＢの高さ１２０ＸＢＨは１２７０ｎｍであり、突出した部分の高さ１２０ＸＢＨ１は８１０ｎｍであった。
【0171】
第１の基板１１０及び第２の基板１２０を平面視したときに、第２の基板１２０のセル厚調整用絶縁層である第２の基板側絶縁層１２０Ｘが有する第４の厚み部分１２０ＸＢと、第１の基板１１０のセル厚調整用絶縁層である第１の基板側絶縁層１１０Ｘが有する第２の厚み部分１１０ＸＢと、が重なり合うよう、第１の基板１１０及び第２の基板１２０を貼り合わせた。本実施形態では、第４の厚み部分１２０ＸＢ（より具体的には、第２の凸部１２０ＸＢ２）が、実施例１におけるスペーサ１２０Ａの役割を果たしていた。
【0172】
実施例３では、第２の厚み部分１１０ＸＢの、第１の厚み部分１１０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１１０ＸＢＨ１（８１０ｎｍ）、及び、第４の厚み部分１２０ＸＢの、第３の厚み部分１２０ＸＡよりも液晶層１３０側に突出した部分の高さ１２０ＸＢＨ１（８１０ｎｍ）の合計は、液晶層１３０の厚さ（１．６２μｍ）と等しかった。
【0173】
平面視において、第４の厚み部分１２０ＸＢの第１の基板１１０に対向する面１２０ＸＢＴ全体は、第２の厚み部分１１０ＸＢの第２の基板１２０に対向する面１１０ＸＢＴ全体と重なっていた。
【0174】
実施例２と同様に、実施例３の液晶パネル１０では、縦のスジムラが実施例１よりも抑制されていた。実施例３では、第２の基板１２０側にもセル厚調整用絶縁層を設けることにより、第１の基板１１０及び第２の基板１２０の両方について、ガラス基板のうねりを平坦化することが可能となり、ガラス基板のうねりに起因する縦のスジムラを実施例１より抑制することができたと考えられる。
【0175】
また、実施例３の液晶パネル１０は、第１の基板１１０と第２の基板１２０とが同じ構造を有するため、実施例２によりも製造工程やマスク枚数を削減することができた。
【符号の説明】
【0176】
１：３次元表示装置
１Ｐ、２ＬＰ、２ＲＰ：偏光板
１ＰＡ、２ＬＰＡ、２ＲＰＡ：透過軸
２：偏光メガネ
２Ｌ、２Ｒ：レンズ
２ＬＸ、２ＲＸ：位相差板
１０、１０Ｒ、１１、１２：液晶パネル
１０Ａ、１１Ａ、１２Ａ、１６０Ａ：遅相軸
１０ＡＡ：表示領域
１０ＮＡ：額縁領域
２０：表示パネル
２０Ａ：画像
２０ＡＬ：左目用画像
２０ＡＲ：右目用画像
３０：バックライト
３０Ａ：バックライト光
１１０、１１０Ｒ、１２０：基板
１１０Ｘ：第１の基板側絶縁層
１１０ＸＡ：第１の厚み部分
１１０ＸＡＨ、１１０ＸＢＨ、１１０ＸＢＨ１、１２０ＡＨ、１２０ＸＡＨ、１２０ＸＢＨ、１２０ＸＢＨ１：高さ
１１０ＸＢ：第２の厚み部分
１１０ＸＢＴ、１２０ＡＴ、１２０ＸＢＴ：面
１１０Ｚ：セル厚調整用絶縁層
１２０ＸＡ：第３の厚み部分
１２０ＸＢ：第４の厚み部分
１１１、１２１：支持基板
１１２、１２２：透明導電膜
１１３、１２３：絶縁層
１１４、１２４：金属層
１２０Ａ、１２０ＡＲ：スペーサ
１２０Ｂ：サブスペーサ
１２０Ｘ：第２の基板側絶縁層
１３０：液晶層
１４０：シール部
１５１、１５２：配向膜
１６０：λ／４位相差板
Ｕ：観察者
ＵＬ：左目
ＵＲ：右目
１Ｐ、２ＬＰ、２ＲＰ：偏光板
１ＰＡ、２ＬＰＡ、２ＲＰＡ：透過軸
２：偏光メガネ
２Ｌ、２Ｒ：レンズ
２ＬＸ、２ＲＸ：位相差板
１０、１０Ｒ、１１、１２：液晶パネル
１０Ａ、１１Ａ、１２Ａ、１６０Ａ：遅相軸
１０ＡＡ：表示領域
１０ＮＡ：額縁領域
２０：表示パネル
２０Ａ：画像
２０ＡＬ：左目用画像
２０ＡＲ：右目用画像
３０：バックライト
３０Ａ：バックライト光
１１０、１１０Ｒ、１２０：基板
１１０Ｘ：第１の基板側絶縁層
１１０ＸＡ：第１の厚み部分
１１０ＸＡＨ、１１０ＸＢＨ、１１０ＸＢＨ１、１２０ＡＨ、１２０ＸＡＨ、１２０ＸＢＨ、１２０ＸＢＨ１：高さ
１１０ＸＢ：第２の厚み部分
１１０ＸＢＴ、１２０ＡＴ、１２０ＸＢＴ：面
１１０Ｚ：セル厚調整用絶縁層
１２０ＸＡ：第３の厚み部分
１２０ＸＢ：第４の厚み部分
１１１、１２１：支持基板
１１２、１２２：透明導電膜
１１３、１２３：絶縁層
１１４、１２４：金属層
１２０Ａ、１２０ＡＲ：スペーサ
１２０Ｂ：サブスペーサ
１２０Ｘ：第２の基板側絶縁層
１３０：液晶層
１４０：シール部
１５１、１５２：配向膜
１６０：λ／４位相差板
Ｕ：観察者
ＵＬ：左目
ＵＲ：右目
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
