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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024153304
(43)【公開日】2024-10-29
(54)【発明の名称】表示装置
(51)【国際特許分類】
   G09F 9/30 20060101AFI20241022BHJP
   H10K 50/10 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 50/828 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 59/121 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 59/122 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 50/824 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 50/842 20230101ALI20241022BHJP
   H10K 102/10 20230101ALN20241022BHJP
【FI】
G09F9/30 348Z
H10K50/10
H10K50/828
H10K59/121
H10K59/122
H10K50/824
G09F9/30 365
G09F9/30 338
H10K50/842
H10K102:10
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023067107
(22)【出願日】2023-04-17
(71)【出願人】
【識別番号】502356528
【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ
(74)【代理人】
【識別番号】110001737
【氏名又は名称】弁理士法人スズエ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】高橋 英幸
(72)【発明者】
【氏名】木村 裕之
(72)【発明者】
【氏名】田畠 弘志
【テーマコード(参考)】
3K107
5C094
【Fターム(参考)】
3K107AA01
3K107BB01
3K107BB08
3K107CC33
3K107DD23
3K107DD27
3K107DD37
3K107DD89
3K107EE06
3K107EE07
3K107FF04
3K107FF15
3K107HH05
5C094AA21
5C094AA60
5C094BA03
5C094BA27
5C094CA19
5C094CA20
5C094DA13
5C094DB04
5C094EA07
5C094FA10
5C094FB12
5C094HA03
5C094HA05
5C094HA08
(57)【要約】
【課題】 改善された配線構造を有する表示装置を提供すること。
【解決手段】 一実施形態に係る表示装置は、第1方向および前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の副画素と、導電性の下部と前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記複数の副画素を囲う隔壁と、を備えている。前記隔壁は、前記第1方向に間隔を空けて並び、前記第2方向にそれぞれ延びる第1隔壁および第2隔壁と、前記第1隔壁から前記第2隔壁に向けて延び、前記第2隔壁と離間した複数の突出部と、を含む。
【選択図】 図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1方向および前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の副画素と、
導電性の下部と、前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記複数の副画素を囲う隔壁と、
を備え、
前記隔壁は、
前記第1方向に間隔を空けて並び、前記第2方向にそれぞれ延びる第1隔壁および第2隔壁と、
前記第1隔壁から前記第2隔壁に向けて延び、前記第2隔壁と離間した複数の突出部と、
を含む、
表示装置。
【請求項2】
前記複数の突出部は、丸められた平面形状の先端部を有している、
請求項1に記載の表示装置。
【請求項3】
前記複数の副画素は、前記第1隔壁と前記第2隔壁の間で前記第2方向に並ぶ複数の第1副画素を含み、
前記複数の突出部は、前記第2方向に隣り合う前記第1副画素の間に配置されている、
請求項1に記載の表示装置。
【請求項4】
前記第2方向に隣り合う2つの前記突出部の間に複数の前記第1副画素が配置されている、
請求項3に記載の表示装置。
【請求項5】
前記複数の副画素の各々は、
下電極と、
前記下電極を覆い、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記下部に接触し、前記有機層を覆う上電極と、
を含み、
前記複数の第1副画素の各々の前記上電極は、前記第1隔壁の前記下部に接触し、前記第2隔壁の前記下部に接触していない、
請求項3に記載の表示装置。
【請求項6】
前記隔壁および前記複数の副画素の前記上電極により、前記複数の副画素が配置された表示領域と重なる共通電極が構成され、
前記共通電極は、前記第1隔壁を含む第1セグメントと前記第2隔壁を含む第2セグメントとにスリットによって分断されている、
請求項5に記載の表示装置。
【請求項7】
前記スリットの少なくとも一端が前記共通電極の外縁に達している、
請求項6に記載の表示装置。
【請求項8】
前記隔壁は、前記表示領域の周囲の周辺領域において前記第1セグメントと前記第2セグメントを接続し、前記第1セグメントおよび前記第2セグメントよりも高い抵抗を有した高抵抗部をさらに備えている、
請求項7に記載の表示装置。
【請求項9】
前記高抵抗部は、前記下部および前記上部を含み、平面視において蛇行した形状を有している、
請求項8に記載の表示装置。
【請求項10】
前記複数の副画素にそれぞれ配置された複数の画素回路と、
前記複数の画素回路に走査信号を供給する複数の走査線と、
前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の信号線と、
をさらに備え、
前記第1方向は、前記複数の走査線の延出方向に相当し、
前記第2方向は、前記複数の信号線の延出方向に相当する、
請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の表示装置。
【請求項11】
前記複数の副画素にそれぞれ配置された複数の画素回路と、
前記複数の画素回路に走査信号を供給する複数の走査線と、
前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の信号線と、
をさらに備え、
前記第1方向は、前記複数の信号線の延出方向に相当し、
前記第2方向は、前記複数の走査線の延出方向に相当する、
請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の表示装置。
【請求項12】
第1方向および前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の副画素と、
導電性の下部と、前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記複数の副画素を囲う隔壁と、
を備え、
前記隔壁は、前記第1方向に間隔を空けて並び、前記第2方向にそれぞれ延びる第1隔壁および第2隔壁を含み、
前記複数の副画素は、前記第1隔壁と前記第2隔壁の間で前記第2方向に並ぶ複数の第1副画素を含み、
隣り合う前記第1副画素の間に前記隔壁が配置されていない、
表示装置。
【請求項13】
前記複数の副画素の各々は、
下電極と、
前記下電極を覆い、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記下部に接触し、前記有機層を覆う上電極と、
を含み、
前記複数の第1副画素の各々の前記上電極は、前記第1隔壁の前記下部に接触し、前記第2隔壁の前記下部に接触していない、
請求項12に記載の表示装置。
【請求項14】
前記複数の副画素は、前記第1副画素と異なる色をそれぞれ表示する第2副画素および第3副画素をさらに含み、
前記第1副画素の開口率は、前記第2副画素の開口率および前記第3副画素の開口率よりも大きい、
請求項13に記載の表示装置。
【請求項15】
前記隔壁および前記複数の副画素の前記上電極により、前記複数の副画素が配置された表示領域と重なる共通電極が構成され、
前記共通電極は、前記第1隔壁を含む第1セグメントと前記第2隔壁を含む第2セグメントとにスリットによって分断されている、
請求項13に記載の表示装置。
【請求項16】
前記スリットの少なくとも一端が前記共通電極の外縁に達している、
請求項15に記載の表示装置。
【請求項17】
前記隔壁は、前記表示領域の周囲の周辺領域において前記第1セグメントと前記第2セグメントを接続し、前記第1セグメントおよび前記第2セグメントよりも高い抵抗を有した高抵抗部をさらに備えている、
請求項16に記載の表示装置。
【請求項18】
前記高抵抗部は、前記下部および前記上部を含み、平面視において蛇行した形状を有している、
請求項17に記載の表示装置。
【請求項19】
前記複数の副画素にそれぞれ配置された複数の画素回路と、
前記複数の画素回路に走査信号を供給する複数の走査線と、
前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の信号線と、
をさらに備え、
前記第1方向は、前記複数の走査線の延出方向に相当し、
前記第2方向は、前記複数の信号線の延出方向に相当する、
請求項12乃至18のうちいずれか1項に記載の表示装置。
【請求項20】
前記複数の副画素にそれぞれ配置された複数の画素回路と、
前記複数の画素回路に走査信号を供給する複数の走査線と、
前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の信号線と、
をさらに備え、
前記第1方向は、前記複数の信号線の延出方向に相当し、
前記第2方向は、前記複数の走査線の延出方向に相当する、
請求項12乃至18のうちいずれか1項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、表示素子として有機発光ダイオード(OLED)を適用した表示装置が実用化されている。この表示素子は、下電極と、下電極を覆う有機層と、有機層を覆う上電極とを備えている。各表示素子の上電極には、表示領域に配置された配線を通じて共通電圧が印加される。これら上電極および配線は、表示領域と全体的に重なる共通電極を構成する。
【0003】
表示装置を備える電子機器に対し、近距離無線通信(NFC)のための電波を送受信するアンテナが表示装置に重ねた状態で組み込まれることがある。この場合においては、アンテナが発する磁界に起因した渦電流が共通電極に発生し得る。共通電極が低抵抗であると、渦電流により生じる磁界が強まり、アンテナによる通信を阻害する一因となる。
【0004】
また、表示装置に透光性が求められることがある。しかしながら、上記配線が金属などの遮光性を有する材料で形成されていると、表示装置の透光性が大幅に低下し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2000-195677号公報
【特許文献2】特開2004-207217号公報
【特許文献3】特開2008-135325号公報
【特許文献4】特開2009-32673号公報
【特許文献5】特開2010-118191号公報
【特許文献6】国際公開第2018/179308号
【特許文献7】米国特許出願公開第2022/0077251号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、改善された配線構造を有する表示装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
一実施形態に係る表示装置は、第1方向および前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の副画素と、導電性の下部と前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記複数の副画素を囲う隔壁と、を備えている。前記隔壁は、前記第1方向に間隔を空けて並び、前記第2方向にそれぞれ延びる第1隔壁および第2隔壁と、前記第1隔壁から前記第2隔壁に向けて延び、前記第2隔壁と離間した複数の突出部と、を含む。
【0008】
他の実施形態に係る表示装置は、第1方向および前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の副画素と、導電性の下部と前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記複数の副画素を囲う隔壁と、を備えている。前記隔壁は、前記第1方向に間隔を空けて並び、前記第2方向にそれぞれ延びる第1隔壁および第2隔壁を含む。前記複数の副画素は、前記第1隔壁と前記第2隔壁の間で前記第2方向に並ぶ複数の第1副画素を含み、隣り合う前記第1副画素の間に前記隔壁が配置されていない。
【図面の簡単な説明】
【0009】
図1図1は、第1実施形態に係る表示装置の構成例を示す図である。
図2図2は、副画素のレイアウトの一例を示す概略的な平面図である。
図3図3は、図2中のIII-III線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
図4図4は、表示装置の一部の要素を示す概略的な平面図である。
図5図5は、スリットを介して隣り合う2つのセグメントを拡大して示す概略的な平面図である。
図6図6は、突出部付近を拡大した概略的な平面図である。
図7図7は、図6におけるVII-VII線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
図8図8は、図6におけるVIII-VIII線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
図9図9は、図6におけるIX-IX線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
図10図10は、上電極を蒸着する工程を示す概略的な断面図である。
図11図11は、図4に示した高抵抗部に適用し得る構成の概略的な平面図である。
図12図12は、第1実施形態に係る表示装置の効果を説明するための図である。
図13図13は、第1実施形態に係る表示装置の効果を説明するための図である。
図14図14は、第2実施形態に係る表示装置においてスリットを介して隣り合うセグメントを拡大して示す概略的な平面図である。
図15図15は、第3実施形態に係る表示装置においてスリットを介して隣り合うセグメントを拡大して示す概略的な平面図である。
図16図16は、第4実施形態に係る表示装置においてスリットを介して隣り合うセグメントを拡大して示す概略的な平面図である。
図17図17は、第5実施形態に係る表示装置の一部の要素を示す概略的な平面図である。
図18図18は、第6実施形態に係る表示装置の一部の要素を示す概略的な平面図である。
図19図19は、第6実施形態に係る表示装置においてスリットを介して隣り合うセグメントを拡大して示す概略的な平面図である。
図20図20は、第6実施形態に係る表示装置に適用し得る他の例を示す概略的な平面図である。
図21図21は、第6実施形態に係る表示装置に適用し得るさらに他の例を示す概略的な平面図である。
図22図22は、第6実施形態に係る表示装置に適用し得るさらに他の例を示す概略的な平面図である。
図23図23は、第7実施形態に係る表示装置の一部の要素を示す概略的な平面図である。
図24図24は、第7実施形態に係る表示装置に適用し得る構成の他の例を示す概略的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
いくつかの実施形態について図面を参照しながら説明する。
開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【0011】
なお、図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を記載する。X軸に沿った方向をX方向と称し、Y軸に沿った方向をY方向と称し、Z軸に沿った方向をZ方向と称する。Z方向は、X方向XとY方向を含む平面に対して法線方向である。また、Z方向と平行に各種要素を見ることを平面視という。
【0012】
各実施形態に係る表示装置は、表示素子として有機発光ダイオード(OLED)を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置であり、テレビ、パーソナルコンピュータ、車載機器、タブレット端末、スマートフォン、携帯電話端末、ウェアラブル端末等の各種の電子機器に搭載され得る。
【0013】
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係る表示装置DSPの構成例を示す図である。表示装置DSPは、絶縁性の基板10を備えている。基板10は、画像を表示する表示領域DAと、表示領域DAの周辺の周辺領域SAとを有している。基板10は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。
【0014】
本実施形態においては、平面視における基板10の形状が長方形である。ただし、基板10の平面視における形状は長方形に限られず、正方形、円形あるいは楕円形などの他の形状であってもよい。
【0015】
表示領域DAは、X方向およびY方向にマトリクス状に配列された複数の画素PXを備えている。画素PXは、異なる色を表示する複数の副画素SPを含む。本実施形態においては、画素PXが青色の副画素SP1と、緑色の副画素SP2と、赤色の副画素SP3とを含む場合を想定する。ただし、画素PXは、副画素SP1,SP2,SP3とともに、あるいは副画素SP1,SP2,SP3のいずれかに代えて、白色などの他の色の副画素SPを含んでもよい。
【0016】
副画素SPは、画素回路1と、画素回路1によって駆動される表示素子DEとを備えている。画素回路1は、画素スイッチ2と、駆動トランジスタ3と、キャパシタ4とを備えている。画素スイッチ2および駆動トランジスタ3は、例えば薄膜トランジスタにより構成されたスイッチング素子である。
【0017】
表示領域DAには、各副画素SPの画素回路1に走査信号を供給する複数の走査線Gと、各副画素SPの画素回路1に映像信号を供給する複数の信号線Sと、複数の電源線PLとが配置されている。図1の例においては、走査線Gおよび電源線PLがX方向に延び、信号線SがY方向に延びている。
【0018】
画素スイッチ2のゲート電極は、走査線Gに接続されている。画素スイッチ2のソース電極およびドレイン電極の一方は信号線Sに接続され、他方は駆動トランジスタ3のゲート電極およびキャパシタ4に接続されている。駆動トランジスタ3において、ソース電極およびドレイン電極の一方は電源線PLおよびキャパシタ4に接続され、他方は表示素子DEに接続されている。
【0019】
なお、画素回路1の構成は図示した例に限られない。例えば、画素回路1は、より多くの薄膜トランジスタおよびキャパシタを備えてもよい。
【0020】
図2は、副画素SP1,SP2,SP3のレイアウトの一例を示す概略的な平面図である。図2の例においては、副画素SP2,SP3がそれぞれ副画素SP1とX方向に並んでいる。さらに、副画素SP2と副画素SP3がY方向に並んでいる。
【0021】
副画素SP1,SP2,SP3がこのようなレイアウトである場合、表示領域DAには、副画素SP2,SP3がY方向に交互に配置された列と、複数の副画素SP1がY方向に繰り返し配置された列とが形成される。これらの列は、X方向に交互に並ぶ。なお、副画素SP1,SP2,SP3のレイアウトは図2の例に限られない。
【0022】
表示領域DAには、リブ5が配置されている。リブ5は、副画素SP1,SP2,SP3においてそれぞれ画素開口AP1,AP2,AP3を有している。図2の例においては、画素開口AP1が画素開口AP2よりも大きく、画素開口AP2が画素開口AP3よりも大きい。すなわち、副画素SP1,SP2,SP3のうちで副画素SP1の開口率が最も大きく、副画素SP3の開口率が最も小さい。
【0023】
副画素SP1は、画素開口AP1とそれぞれ重なる下電極LE1、上電極UE1および有機層OR1を備えている。副画素SP2は、画素開口AP2とそれぞれ重なる下電極LE2、上電極UE2および有機層OR2を備えている。副画素SP3は、画素開口AP3とそれぞれ重なる下電極LE3、上電極UE3および有機層OR3を備えている。
【0024】
下電極LE1、上電極UE1および有機層OR1のうち画素開口AP1と重なる部分は、副画素SP1の表示素子DE1を構成する。下電極LE2、上電極UE2および有機層OR2のうち画素開口AP2と重なる部分は、副画素SP2の表示素子DE2を構成する。下電極LE3、上電極UE3および有機層OR3のうち画素開口AP3と重なる部分は、副画素SP3の表示素子DE3を構成する。表示素子DE1,DE2,DE3は、後述するキャップ層をさらに含んでもよい。リブ5は、これら表示素子DE1,DE2,DE3の各々を囲っている。
【0025】
リブ5の上には、導電性の隔壁6が配置されている。隔壁6は、全体的にリブ5と重なっており、リブ5と同様の平面形状を有している。すなわち、隔壁6は、副画素SP1,SP2,SP3においてそれぞれ開口を有している。他の観点からいうと、リブ5および隔壁6は、平面視において格子状であり、副画素SP1,SP2,SP3のそれぞれを囲っている。
【0026】
図3は、図2中のIII-III線に沿う表示装置DSPの概略的な断面図である。上述の基板10の上に回路層11が配置されている。回路層11は、図1に示した画素回路1、走査線G、信号線Sおよび電源線PLなどの各種回路や配線を含む。回路層11は、有機絶縁層12により覆われている。有機絶縁層12は、回路層11により生じる凹凸を平坦化する平坦化膜として機能する。
【0027】
下電極LE1,LE2,LE3は、有機絶縁層12の上に配置されている。リブ5は、有機絶縁層12および下電極LE1,LE2,LE3の上に配置されている。下電極LE1,LE2,LE3の端部は、リブ5により覆われている。図3の断面には表れていないが、下電極LE1,LE2,LE3は、それぞれ有機絶縁層12に設けられたコンタクトホールを通じて回路層11の画素回路1に接続されている。
【0028】
隔壁6は、リブ5の上に配置された導電性を有する下部61と、下部61の上に配置された上部62とを含む。上部62は、下部61よりも大きい幅を有している。これにより、上部62の両端部が下部61の側面よりも突出している。このような隔壁6の形状は、オーバーハング状と呼ばれる。
【0029】
図3の例において、下部61は、リブ5の上に配置されたボトム部63と、ボトム部63の上に配置された軸部64とを有している。例えば、ボトム部63は軸部64よりも薄く形成されているが、この例に限られない。また、図3の例においてはボトム部63と軸部64の側面が揃っているが、ボトム部63の両端部が軸部64の側面から突出してもよい。
【0030】
有機層OR1は、画素開口AP1を通じて下電極LE1を覆っている。上電極UE1は、有機層OR1を覆い、下電極LE1と対向している。有機層OR2は、画素開口AP2を通じて下電極LE2を覆っている。上電極UE2は、有機層OR2を覆い、下電極LE2と対向している。有機層OR3は、画素開口AP3を通じて下電極LE3を覆っている。上電極UE3は、有機層OR3を覆い、下電極LE3と対向している。上電極UE1,UE2,UE3は、隔壁6の下部61の側面に接触している。
【0031】
表示素子DE1は、上電極UE1の上に配置されたキャップ層CP1を含む。表示素子DE2は、上電極UE2の上に配置されたキャップ層CP2を含む。表示素子DE3は、上電極UE3の上に配置されたキャップ層CP3を含む。キャップ層CP1,CP2,CP3は、それぞれ有機層OR1,OR2,OR3が発する光の取り出し効率を向上させる光学調整層としての役割を有している。
【0032】
以下の説明においては、有機層OR1、上電極UE1およびキャップ層CP1を含む多層体を積層膜FL1と呼び、有機層OR2、上電極UE2およびキャップ層CP2を含む多層体を積層膜FL2と呼び、有機層OR3、上電極UE3およびキャップ層CP3を含む多層体を積層膜FL3と呼ぶ。
【0033】
積層膜FL1の一部は、上部62の上に位置している。当該一部は、積層膜FL1のうち隔壁6の下に位置する部分(表示素子DE1を構成する部分)と離間している。同様に、積層膜FL2の一部は上部62の上に位置し、当該一部は積層膜FL2のうち隔壁6の下に位置する部分(表示素子DE2を構成する部分)と離間している。さらに、積層膜FL3の一部は上部62の上に位置し、当該一部は積層膜FL3のうち隔壁6の下に位置する部分(表示素子DE3を構成する部分)と離間している。
【0034】
副画素SP1,SP2,SP3には、それぞれ封止層SE1,SE2,SE3が配置されている。封止層SE1は、積層膜FL1や副画素SP1の周囲の隔壁6を連続的に覆っている。封止層SE2は、積層膜FL2や副画素SP2の周囲の隔壁6を連続的に覆っている。封止層SE3は、積層膜FL3や副画素SP3の周囲の隔壁6を連続的に覆っている。
【0035】
図3の例においては、副画素SP1,SP2の間の隔壁6上の積層膜FL1および封止層SE1が、当該隔壁6上の積層膜FL2および封止層SE2と離間している。また、副画素SP1,SP3の間の隔壁6上の積層膜FL1および封止層SE1が、当該隔壁6上の積層膜FL3および封止層SE3と離間している。
【0036】
封止層SE1,SE2,SE3は、樹脂層13により覆われている。樹脂層13は、封止層14により覆われている。封止層14は、樹脂層15により覆われている。樹脂層13,15および封止層14は、少なくとも表示領域DAの全体に連続的に設けられ、その一部が周辺領域SAにも及んでいる。
【0037】
偏光板、タッチパネル、保護フィルムまたはカバーガラスなどのカバー部材が樹脂層15の上方にさらに配置されてもよい。このようなカバー部材は、例えばOCA(Optical Clear Adhesive)などの接着層を介して樹脂層15に接着されてもよい。
【0038】
有機絶縁層12は、ポリイミドなどの有機絶縁材料で形成されている。リブ5および封止層14,SE1,SE2,SE3は、シリコン窒化物(SiNx)、シリコン酸化物(SiOx)、シリコン酸窒化物(SiON)または酸化アルミニウム(Al)などの無機絶縁材料で形成されている。一例では、リブ5がシリコン酸窒化物で形成され、封止層14,SE1,SE2,SE3がシリコン窒化物で形成されている。樹脂層13,15は、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの樹脂材料(有機絶縁材料)で形成されている。
【0039】
下電極LE1,LE2,LE3は、例えば銀(Ag)で形成された反射層と、この反射層の上面および下面をそれぞれ覆う一対の導電性酸化物層とを有している。各導電性酸化物層は、例えばITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)またはIGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)などの透明な導電性酸化物で形成することができる。
【0040】
上電極UE1,UE2,UE3は、例えばマグネシウムと銀の合金(MgAg)などの金属材料で形成されている。例えば、下電極LE1,LE2,LE3はアノードに相当し、上電極UE1,UE2,UE3はカソードに相当する。
【0041】
有機層OR1,OR2,OR3は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロッキング層、発光層、正孔ブロッキング層、電子輸送層および電子注入層の積層構造を有している。有機層OR1,OR2,OR3は、複数の発光層を含むいわゆるタンデム構造を有してもよい。
【0042】
キャップ層CP1,CP2,CP3は、例えば透明な複数の薄膜が重ねられた積層構造を有している。当該複数の薄膜は、無機材料によって形成された薄膜および有機材料によって形成された薄膜を含んでもよい。また、当該複数の薄膜は、互いに異なる屈折率を有している。例えば、これら薄膜の屈折率は、上電極UE1,UE2,UE3の屈折率および封止層SE1,SE2,SE3の屈折率と異なる。なお、キャップ層CP1,CP2,CP3の少なくとも1つが省略されてもよい。
【0043】
隔壁6のボトム部63および軸部64は、金属材料によって形成されている。ボトム部63の金属材料としては、例えばモリブデン(Mo)、窒化チタン(TiN)、モリブデン-タングステン合金(MoW)またはモリブデン-ニオブ合金(MoNb)を用いることができる。軸部64の金属材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム-ネオジム合金(AlNd)、アルミニウム-イットリウム合金(AlY)またはアルミニウム-シリコン合金(AlSi)を用いることができる。なお、軸部64が絶縁性の材料で形成されてもよい。
【0044】
例えば、隔壁6の上部62は、金属材料で形成された下層と、導電性酸化物で形成された上層との積層構造を有している。下層を形成する金属材料としては、例えばチタン、窒化チタン、モリブデン、タングステン、モリブデン-タングステン合金またはモリブデン-ニオブ合金を用いることができる。上層を形成する導電性酸化物としては、例えばITOまたはIZOを用いることができる。なお、上部62は、金属材料の単層構造を有してもよい。さらに、上部62は、絶縁材料で形成された層を含んでもよい。
【0045】
隔壁6には、共通電圧が供給されている。この共通電圧は、下部61の側面に接触した上電極UE1,UE2,UE3にそれぞれ供給される。下電極LE1,LE2,LE3には、それぞれ副画素SP1,SP2,SP3の画素回路1を通じて信号線Sの映像信号に応じた画素電圧が供給される。
【0046】
有機層OR1,OR2,OR3は、電圧の印加に応じて発光する。具体的には、下電極LE1と上電極UE1の間に電位差が形成されると、有機層OR1の発光層が青色の波長域の光を放つ。下電極LE2と上電極UE2の間に電位差が形成されると、有機層OR2の発光層が緑色の波長域の光を放つ。下電極LE3と上電極UE3の間に電位差が形成されると、有機層OR3の発光層が赤色の波長域の光を放つ。
【0047】
他の例として、有機層OR1,OR2,OR3の発光層が同一色(例えば白色)の光を放ってもよい。この場合において、表示装置DSPは、発光層が放つ光を副画素SP1,SP2,SP3に対応する色の光に変換するカラーフィルタを備えてもよい。また、表示装置DSPは、発光層が放つ光により励起して副画素SP1,SP2,SP3に応じた色の光を生成する量子ドットを含んだ層を備えてもよい。
【0048】
図4は、表示装置DSPの一部の要素を示す概略的な平面図である。隔壁6および上電極UE1,UE2,UE3は、表示素子DE1,DE2,DE3に共通電圧を印加する共通電極CEを構成する。図4中に拡大して示すように、表示領域DAに含まれる副画素SP1,SP2,SP3には上電極UE1,UE2,UE3が配置され、さらに上電極UE1,UE2,UE3の隙間には隔壁6が配置されている。したがって、共通電極CEは、表示領域DAと全体的に重なっている。
【0049】
周辺領域SAには、複数のパッドを含む端子部Tが配置されている。端子部Tには、例えば導電性の接着材によってフレキシブル回路基板(FPC)が接続される。これらフレキシブル回路基板および端子部Tを通じて画像表示に必要な電圧や信号が供給される。
【0050】
さらに、周辺領域SAには、給電線PWが配置されている。給電線PWには、端子部Tから共通電圧が印加されている。図4の例において、給電線PWは、端子部Tと表示領域DAの間でX方向に延びている。
【0051】
共通電極CEは、複数のスリットSLを有している。図4の例においては、共通電極CEが5本のスリットSLを有しているが、スリットSLの数はこの例に限られない。共通電極CEは、これらスリットSLによって複数のセグメントSGに分割されている。
【0052】
本実施形態においては、各スリットSLがY方向に延びている。他の観点からいうと、各スリットSLは、図1に示した信号線Sと平行に延びている。X方向におけるスリットSLの間隔は、例えば一定である。この場合においては、各セグメントSGのX方向における幅が同等である。
【0053】
各セグメントSGは、Y方向(スリットSLの延出方向)における第1端部E1および第2端部E2を有している。各セグメントSGの第1端部E1は、端子部T側に位置し、給電線PWに接続されている。
【0054】
図4の例において、共通電極CEは、隣り合うセグメントSGの第1端部E1を接続する複数の接続部CNを有している。接続部CNは、隔壁6によって形成されている。一方、隣り合うセグメントSGの第2端部E2は、スリットSLを介して離間している。すなわち、第2端部E2側のスリットSLの端部は、共通電極CEの外縁(平面視における輪郭)に達している。
【0055】
図4の例においては、隣り合うセグメントSGの第2端部E2が高抵抗部HRによって接続されている。高抵抗部HRは、セグメントSGよりも高い抵抗を有している。高抵抗部HRは、周辺領域SAに配置されている。
【0056】
図5は、スリットSLを介して隣り合う2つのセグメントSGを拡大して示す概略的な平面図である。以下の説明においては、図5中のスリットSLの左方に位置するセグメントSGを第1セグメントSG1と呼び、右方に位置するセグメントSGを第2セグメントSG2と呼ぶ。第1セグメントSG1の隔壁6と第2セグメントSG2の隔壁6は、スリットSLにより分断されている。
【0057】
上述のとおり、表示領域DAには副画素SP2,SP3がY方向に交互に配置された列と、複数の副画素SP1がY方向に繰り返し配置された列とが形成される。スリットSLは、複数の副画素SP1がY方向に繰り返し配置された列に沿って設けられている。以下の説明においては、スリットSLに沿う複数の副画素SP1の列を、副画素列CMと呼ぶ。
【0058】
副画素列CMを除く副画素SP1や副画素SP2,SP3は、隔壁6により全周を囲われている。一方、副画素列CMの副画素SP1は、完全には隔壁6により囲われていない。
【0059】
第1セグメントSG1は、スリットSLに隣接する第1隔壁6y1を有している。第2セグメントSG2は、スリットSLに隣接する第2隔壁6y2を有している。これら隔壁6y1,6y2は、いずれもY方向に延びるとともに、副画素列CMを挟んでX方向に並んでいる。
【0060】
第1セグメントSG1は、複数の突出部PTを有している。突出部PTは、第1隔壁6y1から第2隔壁6y2に向けて延びるとともに、第2隔壁6y2と離間している。本実施形態においては、副画素列CMを構成する複数の副画素SP1同士の境界のそれぞれに対して突出部PTが配置されている。他の観点から言えば、Y方向に隣り合う2つの突出部PTの間に1つの副画素SP1が配置されている。
【0061】
図6は、突出部PT付近を拡大した概略的な平面図である。この図においては、リブ5および下電極LE1の概略的な平面形状も示している。ドット模様を付した部分が隔壁6に相当し、斜線模様を付した部分が下電極LE1に相当する。
【0062】
突出部PTは、隔壁6の他の部分と同じく下部61および上部62を有している。突出部PTは、隣り合う副画素SP1の間においてリブ5の上に配置されている。
【0063】
突出部PTの近傍には、透過領域TAが形成されている。透過領域TAは、Y方向に並ぶ2つの下電極LE1、突出部PTの先端部Eaおよび第2隔壁6y2によって囲われている。
【0064】
突出部PTは、X方向において幅W1を有している。幅W1は、突出部PTの根本における上部62の端部から、突出部PTの先端部Eaにおける上部62の端部までのX方向における距離に相当する。透過領域TAは、X方向において幅W2を有している。幅W2は、先端部Eaにおける上部62の端部と、突出部PTに対向する隔壁6の上部62の端部との間のX方向における距離に相当する。図6の例においては、幅W1が幅W2よりも大きい。この例に限られず、幅W1が幅W2以下であってもよい。
【0065】
突出部PTの先端部Eaは、丸められた平面形状を有している。具体的には、先端部Eaの両端に位置する角部において、上部62が曲率半径Rの円弧状である。下部61も上部62に沿った円弧状である。曲率半径Rは、例えば2~4μmである。先端部Eaは、全体が半円状に丸められていてもよい。
【0066】
図7は、図6におけるVII-VII線に沿う表示装置DSPの概略的な断面図である。図8は、図6におけるVIII-VIII線に沿う表示装置DSPの概略的な断面図である。図9は、図6におけるIX-IX線に沿う表示装置DSPの概略的な断面図である。これらの図においては、基板10、回路層11、封止層14および樹脂層15の図示を省略している。
【0067】
図7に示す副画素SP1(表示素子DE1)の構成は、図3に示したものと概ね同様である。ただし、図7の断面においては、上電極UE1が第1隔壁6y1の下部61の側面に接触しているが、第2隔壁6y2の下部61の側面には接触していない。これにより、上電極UE1による隔壁6y1,6y2の電気的な接続が抑制され、スリットSLの実効性が確保される。
【0068】
図8の例においては、突出部PTを介して隣り合う副画素SP1(表示素子DE1)の上電極UE1が、いずれも突出部PTの下部61の側面に接触している。ただし、これら上電極UE1の少なくとも一方が下部61の側面に接触していなくてもよい。
【0069】
突出部PTの上部62は、全体的に積層膜FL1(有機層OR1、上電極UE1およびキャップ層CP1)により覆われている。さらに、突出部PTを介して隣り合う副画素SP1の各積層膜FL1および上部62の上に位置する積層膜FL1が、封止層SE1によって連続的に覆われている。
【0070】
図9に示すように、透過領域TAにおいては、積層膜FL1が分断されることなくリブ5の上を横切っている。透過領域TAには下電極LE1および隔壁6が配置されていない。したがって、透過領域TAに入射する外光Lは、下電極LE1および隔壁6によって遮られることなく表示装置DSPの下方へと透過することが可能である。
【0071】
図10は、上電極UE1を蒸着する工程を示す概略的な断面図である。この図においては、図7と同様に隔壁6y1,6y2を含む断面を示している。上電極UE1は、蒸着によって形成される。具体的には、有機層OR1が形成された後の基板は、上電極UE1を形成するためのチャンバに搬送される。このチャンバには、蒸着源100が配置されている。蒸着源100のノズル110からは、蒸着材料Mが放たれる。
【0072】
蒸着材料Mは、ノズル110から拡がりをもって放射される。基板に付着した蒸着材料Mにより形成される上電極UE1は、オーバーハング状の隔壁6y1,6y2によって分断される。
【0073】
図10の断面において、蒸着材料Mの放射方向RDは、第1隔壁6y1に向かうようにZ方向に対して傾いている。これにより、第1隔壁6y1の下部61の側面に蒸着材料Mが良好に付着する。一方で、第2隔壁6y2の下部61の側面に向かう蒸着材料Mは、第2隔壁6y2の上部62により遮られる。そのため、第2隔壁6y2の下部61への蒸着材料Mの付着が抑制される。
【0074】
このように蒸着材料Mの放射方向RDを傾けることで、図7乃至図9に示したように、第1隔壁6y1および突出部PTの下部61の側面に接触するとともに、第2隔壁6y2の下部61の側面に接触していない上電極UE1を形成することができる。なお、図5においては、隔壁6の輪郭のうち、上電極UE1が下部61の側面に接触するコンタクト辺CSに相当する部分を太線にて示している。
【0075】
図11は、図4に示した高抵抗部HRに適用し得る構成の概略的な平面図である。この図においては、図5に示したセグメントSG1,SG2の第2端部E2付近を示している。
【0076】
周辺領域SAには、ダミー画素DPXが配置されている。ダミー画素DPXは、画素PXと同じく副画素SP1,SP2,SP3を含む。ただし、ダミー画素DPXの副画素SP1,SP2,SP3は、発光しないように構成されている。一例では、ダミー画素DPXの副画素SP1,SP2,SP3においては、リブ5に画素開口AP1,AP2,AP3が設けられていない。そのため、下電極LE1,LE2,LE3と上電極UE1,UE2,UE3の間に電位差が形成されたとしても、これらの間の有機層OR1,OR2,OR3が発光しない。
【0077】
図11の例では、周辺領域SAにおいてY方向に2つのダミー画素DPXが並んでいるが、ダミー画素DPXの配置態様はこの例に限られない。なお、表示領域DAの他の辺においても同様のダミー画素DPXが配置されている。
【0078】
高抵抗部HRは、隔壁6によって形成されている。すなわち、高抵抗部HRは、下部61と、下部61の側面から突出した上部62とを含む。高抵抗部HRは、複数回にわたり蛇行した形状を有し、セグメントSG1,SG2の第2端部E2を接続している。このような蛇行した形状においては、高抵抗部HRを介してセグメントSG1,SG2を接続する経路が長くなり、当該経路を含む回路の抵抗を上げることができる。
【0079】
ここで、本実施形態が奏する効果の一例について説明する。
図12および図13は、本実施形態に係る表示装置DSPの効果を説明するための図である。表示装置DSPが搭載される電子機器は、近距離無線通信(NFC)のためのアンテナAT1を備えることがある。アンテナAT1は、例えば表示装置DSPの裏面(図3に示す基板10の下面)に対向するように配置され、表示装置DSPを通じて他の電子機器のアンテナAT2と無線通信する。
【0080】
アンテナAT1,AT2間の無線通信時には、アンテナAT1が形成する磁界M1により共通電極CEに渦電流Iが発生する。渦電流Iにより、磁界M1を打ち消す磁界M2が形成され、信号強度が減衰する。そのため、表示装置DSPを介して無線通信を行う場合には、通信感度が低下し得る。特に、主に金属材料で形成された格子状の隔壁6が表示領域DAの全体に形成されている場合には、共通電極CEが低抵抗となる。これにより、大きい渦電流Iとそれに伴う強い磁界M2が生じ、通信感度が低下しやすい。
【0081】
これに対し、本実施形態においては、共通電極CEがスリットSLによって複数のセグメントSGに分割されている。この場合には、共通電極CEに大きい渦電流が生じにくくなるので、通信感度の低下を抑制することができる。なお、各セグメントSGには渦電流が生じ得るが、これら渦電流による通信感度への影響は、分割されていない共通電極CEの全体に生じる渦電流Iに比べれば軽微である。
【0082】
また、表示装置DSPが搭載される電子機器は、外光を検知する照度センサなどの光学センサを備えることがある。このような光学センサが表示装置DSPの裏面側に配置される場合には、表示装置DSPに透光性が必要となる。
【0083】
しかしながら、下電極LE1,LE2,LE3は、いずれも上述の反射層を含む。また、少なくとも一部が金属材料で形成された隔壁6は、遮光性を有している。そのため、仮に表示領域DAの全体に下電極LE1,LE2,LE3および隔壁6が形成されていると、表示装置DSPの表示面に入射する殆どの光が裏面側に透過することなく反射または遮光され得る。
【0084】
これに対し、本実施形態においては、図6および図9に示した透過領域TAが表示領域DAに形成されている。そのため、図9を用いて説明したように、表示面に入射する外光の一部がスリットSLを通じて表示装置DSPの裏面側に透過する。これにより、表示装置DSPの透光性を高めることができる。
【0085】
なお、隔壁6は、上電極UE1,UE2,UE3に給電するための配線としての役割を有するとともに、表示装置DSPの製造時に蒸着で形成される積層膜FL1,FL2,FL3を分断する役割も有している。このように積層膜FL1,FL2,FL3を分断することで、封止層SE1,SE2,SE3により個別に封止された表示素子DE1,DE2,DE3を得ることができる。
【0086】
ただし、スリットSLにおいては、隔壁6が分断されている。したがって、図5に示した副画素列CMを構成する複数の副画素SP1については、個別に封止することが困難である。仮に、スリットSLの両端が完全にオープンであると、これら副画素SP1の積層膜FL1の端部が封止層SE1から露出し得る。この場合において封止層SE1から露出した積層膜FL1から水分が浸入すれば、副画素列CMを構成する副画素SP1が全体的に劣化し、ライン状の表示不良を生じる可能性がある。
【0087】
これに対し、本実施形態においては、セグメントSG1,SG2の第1端部E1が隔壁6により形成された接続部CN(図4参照)で接続されるとともに、セグメントSG1,SG2の第2端部E2が隔壁6により形成された高抵抗部HR(図11参照)で接続されている。すなわち、副画素列CMを構成する複数の副画素SP1は、隔壁6によって囲われている。そのため、これら副画素SP1の積層膜FL1の端部を封止層SE1によって良好に被覆し、当該積層膜FL1への水分浸入を抑制することが可能となる。
【0088】
また、本実施形態においては、副画素列CMを構成する複数の副画素SP1の間に突出部PTが設けられている。これにより、スリットSLと表示領域DAの他の箇所とで隔壁6の反射による見栄えの変化を抑制し、表示品位を高めることができる。
【0089】
仮に、突出部PTの先端部Eaが角張った平面形状であると、上部62が破損したり、封止層SE1による積層膜FL1の被覆が不十分な箇所が生じたりする可能性がある。これに対し、図6に示したように突出部PTの先端部Eaが丸められていれば、上部62の破損を抑制するとともに、封止層SE1により積層膜FL1を良好に被覆することができる。
【0090】
本実施形態にて開示した構成は、種々の態様に変形し得る。以下の第2乃至第7実施形態においては、隔壁6および共通電極CEに適用し得る構成の他の例を開示する。これらの実施形態において、特に言及しない構成および効果は第1実施形態と同様である。
【0091】
[第2実施形態]
図14は、第2実施形態に係る表示装置DSPにおいてスリットSLを介して隣り合うセグメントSG1,SG2を拡大して示す概略的な平面図である。
【0092】
本実施形態においては、第1セグメントSG1が突出部PTを有していない。他の観点から言えば、副画素列CMにおいて隣り合う副画素SP1の間に隔壁6が配置されていない。このような構成であれば、透過領域TA(図6参照)が大きくなるため、表示装置DSPの透過率を一層高めることができる。
【0093】
[第3実施形態]
図15は、第3実施形態に係る表示装置DSPにおいてスリットSLを介して隣り合うセグメントSG1,SG2を拡大して示す概略的な平面図である。本実施形態においては、第1実施形態と同じく第1セグメントSG1が突出部PTを有している。ただし、図5の例に比べて突出部PTの数が減らされている。
【0094】
図15の例においては、Y方向に並ぶ2つの突出部PTの間に2つの副画素SP1が配置されている。これに限らず、2つの突出部PTの間に3つ以上の副画素SP1が配置されてもよい。
【0095】
本実施形態によれば、第2実施形態と同様に表示装置DSPの透過率を高めることができる。また、仮に第2実施形態のように突出部PTが全く設けられていない場合、スリットSLに沿う副画素列CMの見栄えが他の副画素列と異なってしまう可能性がある。これに対し、本実施形態の構成であれば、副画素列CMの見栄え改善の効果が期待できる。
【0096】
[第4実施形態]
図16は、第4実施形態に係る表示装置DSPにおいてスリットSLを介して隣り合うセグメントSG1,SG2を拡大して示す概略的な平面図である。
【0097】
本実施形態において、表示領域DAは、Y方向に並ぶ複数の副画素SP1で構成された副画素列CM1と、Y方向に並ぶ複数の副画素SP2で構成された副画素列CM2と、Y方向に並ぶ複数の副画素SP3で構成された副画素列CM3とを有している。これら副画素列CM1,CM2,CM3は、X方向に交互に並んでいる。
【0098】
例えば、副画素SP1,SP2,SP3のY方向における幅(画素開口AP1,AP2,AP3のY方向における幅)は同じである。一方、図16の例においては、副画素SP1のX方向における幅(画素開口AP1のX方向における幅)が副画素SP2,SP3のX方向における幅(画素開口AP2,AP3のX方向における幅)よりも大きい。これにより、副画素SP1の開口率は、副画素SP2,SP3の開口率よりも大きい。なお、この例に限られず、副画素SP1,SP2,SP3のX方向における幅が同じであってもよい。また、副画素SP2,SP3のいずれかのX方向における幅が副画素SP1のX方向における幅より大きくてもよい。
【0099】
副画素列CM1,CM2,CM3は、それぞれ隔壁6によって囲われている。スリットSLは、副画素列CM1に沿って設けられている。セグメントSG1,SG2の第1端部E1は、隔壁6の一部である接続部CNによって接続されている。セグメントSG1,SG2の第2端部E2は、第1実施形態と同様の高抵抗部HRによって接続されている。
【0100】
図16の例においては、Y方向に並ぶ副画素SP1の間、Y方向に並ぶ副画素SP2の間、および、Y方向に並ぶ副画素SP3の間に隔壁6が設けられていない。これにより、スリットSL以外の箇所にも上述の透過領域TAが形成されるので、表示装置DSPの透過率を一層高めることができる。
【0101】
[第5実施形態]
図17は、第5実施形態に係る表示装置DSPの一部の要素を示す概略的な平面図である。この図の例においては、第1実施形態と同じくY方向に延びる複数のスリットSLが共通電極CEに設けられ、これにより共通電極CEがX方向に並ぶ複数のセグメントSGに分割されている。スリットSLの近傍には、図5図11図14図15または図16と同様の構成を適用し得る。
【0102】
図17の例においては、各スリットSLの給電線PW側の端部Esが表示領域DAに位置している。これにより、各セグメントSGと給電線PWの間に、各セグメントSGよりもX方向における幅が大きいセグメントSG0が形成されている。
【0103】
セグメントSG0のY方向における一端は、各セグメントSGの第1端部E1に接続されている。セグメントSG0のY方向における他端は、給電線PWに接続されている。
【0104】
図17の例においては、各スリットSLの端部EsのY方向における位置が揃っている。さらに、これら端部Esは、共通電極CEのY方向における中心CLyよりも給電線PW側に位置している。この例に限られず、各端部EsのY方向における位置がずれていてもよい。また、端部Esは、中心CLyよりも第2端部E2側に位置してもよい。
【0105】
本実施形態のように、スリットSLが表示領域DAにおいて共通電極CEを完全には分断しない場合であっても、上述した渦電流を抑制する効果や、表示装置DSPの透過率を高める効果が得られる。
【0106】
[第6実施形態]
上述の各実施形態においては、スリットSLがY方向に延びる構成を開示した。本実施形態においては、スリットSLがX方向に延びる構成を開示する。
【0107】
図18は、第6実施形態に係る表示装置DSPの一部の要素を示す概略的な平面図である。この図の例においては、X方向に延びる複数のスリットSLが共通電極CEに設けられ、これにより共通電極CEがY方向に並ぶ複数のセグメントSGに分割されている。他の観点からいうと、本実施形態におけるスリットSLは、図1に示した走査線Gと平行に延びている。
【0108】
各セグメントSGは、X方向に長尺な形状を有し、Y方向に並んでいる。図18の例においては、隣り合うセグメントSGの第1端部E1が接続部CNによって接続され、第2端部E2が高抵抗部HRによって接続されている。
【0109】
給電線PWは、X方向に延びる第1部分P1と、Y方向に延びる第2部分P2とを有している。第1部分P1は、表示領域DAと端子部Tの間に位置している。第2部分P2は、表示領域DAの図中左辺に沿って配置されている。各セグメントSGの第1端部E1は、第2部分P2に接続されている。
【0110】
図19は、本実施形態に係る表示装置DSPにおいてスリットSLを介して隣り合う2つのセグメントSGを拡大して示す概略的な平面図である。本実施形態においては、図19中のスリットSLの下方に位置するセグメントSGを第1セグメントSG1と呼び、上方に位置するセグメントSGを第2セグメントSG2と呼ぶ。
【0111】
画素PXは、第1実施形態と同じく副画素SP1,SP2,SP3を含む。図19の例においては、副画素SP2,SP3がX方向に並んでいる。また、副画素SP1,SP2がY方向に並ぶとともに、副画素SP1,SP3もY方向に並んでいる。第1実施形態と同じく、副画素SP1,SP2,SP3のうちで副画素SP1の開口率が最も大きく、副画素SP3の開口率が最も小さい。
【0112】
第1セグメントSG1は、スリットSLに隣接する第1隔壁6x1を有している。第2セグメントSG2は、スリットSLに隣接する第2隔壁6x2を有している。これら隔壁6x1,6x2は、いずれもX方向に延びている。隔壁6x1,6x2の間に位置する副画素列CMは、X方向に並ぶ複数の副画素SP1により構成されている。
【0113】
第1セグメントSG1は、複数の突出部PTを有している。突出部PTは、第1隔壁6x1から第2隔壁6x2に向けて延びるとともに、第2隔壁6x2と離間している。図19の例においては、副画素列CMを構成する複数の副画素SP1のうち、隣り合う2つの間に突出部PTが位置している。他の観点から言えば、Y方向に隣り合う2つの突出部PTの間に1つの副画素SP1が配置されている。
【0114】
上電極UE1が下部61の側面に接触するコンタクト辺CSは、例えば図19において太線で示したとおりである。すなわち、副画素列CMの上電極UE1は、第1隔壁6x1の下部61に接触し、第2隔壁6x2の下部61と離間している。
【0115】
図20は、本実施形態に係る表示装置DSPに適用し得る他の例を示す概略的な平面図である。この図の例においては、第1セグメントSG1が突出部PTを有していない。これにより、第2実施形態と同じく表示装置DSPの透過率を高めることができる。
【0116】
図21は、本実施形態に係る表示装置DSPに適用し得るさらに他の例を示す概略的な平面図である。この図の例においては、第1セグメントSG1が突出部PTを有しているが、図19の例に比べてその数が減らされている。これにより、第3実施形態と同じく透過率の向上と副画素列CMの見栄えの改善を両立させることができる。
【0117】
図21の例においては、X方向に並ぶ2つの突出部PTの間に2つの副画素SP1が配置されている。これに限らず、2つの突出部PTの間に3つ以上の副画素SP1が配置されてもよい。
【0118】
図22は、本実施形態に係る表示装置DSPに適用し得るさらに他の例を示す概略的な平面図である。この図の例においては、第4実施形態と同じく、複数の副画素SP1で構成された副画素列CM1と、複数の副画素SP2で構成された副画素列CM2と、複数の副画素SP3で構成された副画素列CM3とが表示領域DAに形成されている。ただし、これら副画素列CM1,CM2,CM3は、X方向に延びている。
【0119】
例えば、副画素SP1,SP2,SP3のX方向における幅(画素開口AP1,AP2,AP3のX方向における幅)は同じである。一方、図22の例においては、副画素SP1のY方向における幅(画素開口AP1のY方向における幅)が副画素SP2,SP3のY方向における幅(画素開口AP2,AP3のY方向における幅)よりも大きい。これにより、副画素SP1の開口率は、副画素SP2,SP3の開口率よりも大きい。なお、この例に限られず、副画素SP1,SP2,SP3のY方向における幅が同じであってもよい。また、副画素SP2,SP3のいずれかのY方向における幅が副画素SP1のY方向における幅より大きくてもよい。
【0120】
副画素列CM1,CM2,CM3は、それぞれ隔壁6によって囲われている。スリットSLは、副画素列CM1に沿って設けられている。セグメントSG1,SG2の第1端部E1は、隔壁6の一部である接続部CNによって接続されている。セグメントSG1,SG2の第2端部E2は、第1実施形態と同様の高抵抗部HRによって接続されている。
【0121】
図22の例においては、X方向に並ぶ副画素SP1の間、X方向に並ぶ副画素SP2の間、および、X方向に並ぶ副画素SP3の間に隔壁6が設けられていない。これにより、表示装置DSPの透過率を一層高めることができる。
【0122】
[第7実施形態]
図23は、第7実施形態に係る表示装置DSPの一部の要素を示す概略的な平面図である。本実施形態においては、表示領域DAおよび共通電極CEが円形である。
【0123】
図23の例において、共通電極CEは、上述の各実施形態と同じく複数のスリットSLによって複数のセグメントSGに分割されている。各スリットSLは、Y方向と平行に延びている。隣り合うセグメントSGの第1端部E1は、接続部CNにより接続されている。一方、隣り合うセグメントSGの第2端部E2は、高抵抗部HRによって接続されている。
【0124】
図24は、本実施形態に係る表示装置DSPに適用し得る構成の他の例を示す概略的な平面図である。この図の例においては、各スリットSLがX方向と平行に延びている。
【0125】
図23および図24のいずれの例においても、給電線PWは、表示領域DAに沿う円弧状の平面形状を有している。各セグメントSGの第1端部E1は、給電線PWに接続されている。
【0126】
図23の例において、スリットSLの近傍には、図5図11図14図15または図16と同様の構成を適用し得る。また、図24の例において、スリットSLの近傍には、図19図20図21または図22と同様の構成を適用し得る。
【0127】
以上、本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に属する。
【0128】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【0129】
また、上述の各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【0130】
DSP…表示装置、DA…表示領域、SA…周辺領域、PX…画素、SP1,SP2,SP3…副画素、LE1,LE2,LE3…下電極、OR1,OR2,OR3…有機層、UE1,UE2,UE3…上電極、SE1,SE2,SE3…封止層、CE…共通電極、SL…スリット、SG…セグメント、PW…給電線、T…端子部、1…画素回路、5…リブ、6…隔壁、61…下部、62…上部。
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