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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024153305
(43)【公開日】2024-10-29
(54)【発明の名称】表示装置
(51)【国際特許分類】
G09F 9/30 20060101AFI20241022BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20241022BHJP
H10K 50/828 20230101ALI20241022BHJP
H10K 59/121 20230101ALI20241022BHJP
H10K 59/122 20230101ALI20241022BHJP
H10K 50/824 20230101ALI20241022BHJP
【ＦＩ】
G09F9/30 349Z
H10K50/10
H10K50/828
H10K59/121
H10K59/122
H10K50/824
G09F9/30 365
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023067108
(22)【出願日】2023-04-17
(71)【出願人】
【識別番号】502356528
【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ
(74)【代理人】
【識別番号】110001737
【氏名又は名称】弁理士法人スズエ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】高橋 英幸
(72)【発明者】
【氏名】木村 裕之
(72)【発明者】
【氏名】田畠 弘志
【テーマコード（参考）】
3K107
5C094
【Ｆターム（参考）】
3K107AA01
3K107BB01
3K107BB08
3K107CC33
3K107CC41
3K107DD37
3K107DD89
3K107EE06
3K107EE07
3K107FF15
5C094AA60
5C094BA03
5C094BA27
5C094CA19
5C094CA20
5C094DA13
5C094FA02
5C094FA10
5C094HA03
5C094HA05
5C094HA08
(57)【要約】
【課題】 透光性に優れた表示装置を提供する。
【解決手段】 実施形態に係る表示装置は、画像を表示する表示領域と、導電性の下部および前記下部の側面から突出する上部とを含み前記表示領域に配置された隔壁と、を備えている。前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第１領域を有している。さらに、前記第１領域には、前記隔壁を介さずに並ぶ複数の第１副画素が配置されている。
【選択図】 図３
【解決手段】 実施形態に係る表示装置は、画像を表示する表示領域と、導電性の下部および前記下部の側面から突出する上部とを含み前記表示領域に配置された隔壁と、を備えている。前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第１領域を有している。さらに、前記第１領域には、前記隔壁を介さずに並ぶ複数の第１副画素が配置されている。
【選択図】 図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
画像を表示する表示領域と、
導電性の下部と、前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記表示領域に配置された隔壁と、
を備え、
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第１領域を有し、
前記第１領域には、前記隔壁を介さずに並ぶ複数の第１副画素が配置されている、
表示装置。
導電性の下部と、前記下部の側面から突出する上部とを含み、前記表示領域に配置された隔壁と、
を備え、
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第１領域を有し、
前記第１領域には、前記隔壁を介さずに並ぶ複数の第１副画素が配置されている、
表示装置。
【請求項2】
前記複数の第１副画素の各々は、
下電極と、
前記下電極を覆い、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記有機層を覆い、前記隔壁の前記下部に接触した上電極と、
を含む、
請求項１に記載の表示装置。
下電極と、
前記下電極を覆い、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記有機層を覆い、前記隔壁の前記下部に接触した上電極と、
を含む、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項3】
前記第１領域は、前記複数の第１副画素の前記下電極の間に位置する透過領域を含む、
請求項２に記載の表示装置。
請求項２に記載の表示装置。
【請求項4】
前記複数の第１副画素の各々において前記下電極と重なる画素開口を有するリブをさらに有し、
前記隔壁は、前記リブの上に配置されている、
請求項２に記載の表示装置。
前記隔壁は、前記リブの上に配置されている、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項5】
前記第１領域に配置された前記複数の第１副画素の各々の前記有機層が互いに接続されるとともに、前記第１領域に配置された前記複数の第１副画素の各々の前記上電極が互いに接続されている、
請求項２に記載の表示装置。
請求項２に記載の表示装置。
【請求項6】
前記表示領域は、複数の前記第１領域をそれぞれ含む第１列および第２列を有し、
前記第１列および前記第２列は、第１方向に並び、
前記第１列および前記第２列の各々において、前記複数の第１領域は、前記第１方向と交差する第２方向に並び、
前記第１列の前記第１領域の位置と、前記第２列の前記第１領域の位置とが、前記第２方向においてずれている、
請求項１に記載の表示装置。
前記第１列および前記第２列は、第１方向に並び、
前記第１列および前記第２列の各々において、前記複数の第１領域は、前記第１方向と交差する第２方向に並び、
前記第１列の前記第１領域の位置と、前記第２列の前記第１領域の位置とが、前記第２方向においてずれている、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項7】
前記複数の第１副画素は、第１色を表示する、
請求項１に記載の表示装置。
請求項１に記載の表示装置。
【請求項8】
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第２領域をさらに有し、
前記第２領域には、前記第１色と異なる第２色を表示する１つの第２副画素が配置されている、
請求項７に記載の表示装置。
前記第２領域には、前記第１色と異なる第２色を表示する１つの第２副画素が配置されている、
請求項７に記載の表示装置。
【請求項9】
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第３領域をさらに有し、
前記第３領域には、前記第１色および前記第２色と異なる第３色を表示する１つの第３副画素が配置されている、
請求項８に記載の表示装置。
前記第３領域には、前記第１色および前記第２色と異なる第３色を表示する１つの第３副画素が配置されている、
請求項８に記載の表示装置。
【請求項10】
前記第１副画素の開口率は、前記第２副画素の開口率および前記第３副画素の開口率よりも大きい、
請求項９に記載の表示装置。
請求項９に記載の表示装置。
【請求項11】
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第２領域をさらに有し、
前記第２領域には、前記隔壁を介さずに並ぶとともに前記第１色と異なる第２色を表示する複数の第２副画素が配置されている、
請求項７に記載の表示装置。
前記第２領域には、前記隔壁を介さずに並ぶとともに前記第１色と異なる第２色を表示する複数の第２副画素が配置されている、
請求項７に記載の表示装置。
【請求項12】
前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第３領域をさらに有し、
前記第３領域には、前記隔壁を介さずに並ぶとともに前記第１色および前記第２色と異なる第３色を表示する複数の第３副画素が配置されている、
請求項１１に記載の表示装置。
前記第３領域には、前記隔壁を介さずに並ぶとともに前記第１色および前記第２色と異なる第３色を表示する複数の第３副画素が配置されている、
請求項１１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した表示装置が実用化されている。この表示素子は、下電極と、下電極を覆う有機層と、有機層を覆う上電極とを備えている。各表示素子の上電極には、表示領域に配置された配線を通じて共通電圧が印加される。
【0003】
表示装置に透光性が求められることがある。しかしながら、上記配線が金属などの遮光性を有する材料で形成されていると、表示装置の透光性が大幅に低下し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０００－１９５６７７号公報
【特許文献2】特開２００４－２０７２１７号公報
【特許文献3】特開２００８－１３５３２５号公報
【特許文献4】特開２００９－３２６７３号公報
【特許文献5】特開２０１０－１１８１９１号公報
【特許文献6】国際公開第２０１８／１７９３０８号
【特許文献7】米国特許出願公開第２０２２／００７７２５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、透光性に優れた表示装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
概して、実施形態に係る表示装置は、画像を表示する表示領域と、導電性の下部および前記下部の側面から突出する上部とを含み前記表示領域に配置された隔壁と、を備えている。前記表示領域は、前記隔壁により囲われた第１領域を有している。さらに、前記第１領域には、前記隔壁を介さずに並ぶ複数の第１副画素が配置されている。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
いくつかの実施形態について図面を参照しながら説明する。
開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【0009】
なお、図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を記載する。Ｘ軸に沿った方向をＸ方向と称し、Ｙ軸に沿った方向をＹ方向と称し、Ｚ軸に沿った方向をＺ方向と称する。Ｚ方向は、Ｘ方向ＸとＹ方向を含む平面に対して法線方向である。また、Ｚ方向と平行に各種要素を見ることを平面視という。
【0010】
各実施形態に係る表示装置は、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置であり、テレビ、パーソナルコンピュータ、車載機器、タブレット端末、スマートフォン、携帯電話端末、ウェアラブル端末等の各種の電子機器に搭載され得る。
【0011】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成例を示す図である。表示装置ＤＳＰは、絶縁性の基板１０を備えている。基板１０は、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周辺の周辺領域ＳＡとを有している。基板１０は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。
図１は、第１実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成例を示す図である。表示装置ＤＳＰは、絶縁性の基板１０を備えている。基板１０は、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周辺の周辺領域ＳＡとを有している。基板１０は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。
【0012】
本実施形態においては、平面視における基板１０の形状が長方形である。ただし、基板１０の平面視における形状は長方形に限られず、正方形、円形あるいは楕円形などの他の形状であってもよい。
【0013】
表示領域ＤＡは、Ｘ方向およびＹ方向にマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。画素ＰＸは、異なる色を表示する複数の副画素ＳＰを含む。本実施形態においては、画素ＰＸが青色の副画素ＳＰ１と、緑色の副画素ＳＰ２と、赤色の副画素ＳＰ３とを含む場合を想定する。ここで、副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３は第１副画素、第２副画素および第３副画素の一例であり、青色、緑色および赤色は第１色、第２色および第３色の一例である。画素ＰＸは、副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３とともに、あるいは副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３のいずれかに代えて、白色などの他の色の副画素ＳＰを含んでもよい。
【0014】
副画素ＳＰは、画素回路１と、画素回路１によって駆動される表示素子ＤＥとを備えている。画素回路１は、画素スイッチ２と、駆動トランジスタ３と、キャパシタ４とを備えている。画素スイッチ２および駆動トランジスタ３は、例えば薄膜トランジスタにより構成されたスイッチング素子である。
【0015】
表示領域ＤＡには、各副画素ＳＰの画素回路１に走査信号を供給する複数の走査線Ｇと、各副画素ＳＰの画素回路１に映像信号を供給する複数の信号線Ｓと、複数の電源線ＰＬとが配置されている。図１の例においては、走査線Ｇおよび電源線ＰＬがＸ方向に延び、信号線ＳがＹ方向に延びている。
【0016】
画素スイッチ２のゲート電極は、走査線Ｇに接続されている。画素スイッチ２のソース電極およびドレイン電極の一方は信号線Ｓに接続され、他方は駆動トランジスタ３のゲート電極およびキャパシタ４に接続されている。駆動トランジスタ３において、ソース電極およびドレイン電極の一方は電源線ＰＬおよびキャパシタ４に接続され、他方は表示素子ＤＥに接続されている。
【0017】
なお、画素回路１の構成は図示した例に限られない。例えば、画素回路１は、より多くの薄膜トランジスタおよびキャパシタを備えてもよい。
【0018】
図２は、本実施形態に係る表示領域ＤＡの概略的な平面図である。表示領域ＤＡには、導電性の隔壁６が配置されている。隔壁６は、表示素子ＤＥに共通電圧を供給する配線として機能する。
【0019】
隔壁６は、Ｘ方向に延びる部分と、Ｙ方向に延びる部分とを有しており、全体として格子状である。表示領域ＤＡは、それぞれ隔壁６により囲われた第１領域Ａ１、第２領域Ａ２および第３領域Ａ３を有している。
【0020】
図２の例においては、複数の第１領域Ａ１を含む列Ｃ１と、複数の第２領域Ａ２および第３領域Ａ３を含む列Ｃｍとが表示領域ＤＡに形成されている。列Ｃ１と列Ｃｍは、Ｘ方向に交互に並んでいる。列Ｃ１においては、複数の第１領域Ａ１がＹ方向に並んでいる。列Ｃｍにおいては、第２領域Ａ２と第３領域Ａ３がＹ方向に交互に並んでいる。
【0021】
図２の例においては、第１領域Ａ１が第２領域Ａ２よりも大きく、第２領域Ａ２が第３領域Ａ３よりも大きい。例えば、領域Ａ１，Ａ２，Ａ３のＸ方向における幅は同じである。第１領域Ａ１は、Ｙ方向に並ぶ２つの第２領域Ａ２と２つの第３領域Ａ３に相当する幅を有している。
【0022】
隔壁６は、Ｙ方向に隣り合う第１領域Ａ１の間に位置する隔壁６ｘを含む。図２の例においては、ある列Ｃ１（第１列）の第１領域Ａ１の位置と、この列Ｃ１の隣の列Ｃ１（第２列）の第１領域Ａ１の位置とが、Ｙ方向においてずれている。他の観点から言うと、これら第１列および第２列の隔壁６ｘの位置がＹ方向においてずれている。
【0023】
図３は、図２において鎖線枠ＩＩＩで囲った領域を拡大した概略的な平面図である。本実施形態においては、第１領域Ａ１に２つの副画素ＳＰ１が配置され、第２領域Ａ２に１つの副画素ＳＰ２が配置され、第３領域Ａ３に１つの副画素ＳＰ３が配置されている。第１領域Ａ１の２つの副画素ＳＰ１は、Ｙ方向に並んでいる。
【0024】
表示領域ＤＡには、リブ５が配置されている。リブ５は、副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３においてそれぞれ画素開口ＡＰ１，ＡＰ２，ＡＰ３を有している。図３の例においては、画素開口ＡＰ１が画素開口ＡＰ２よりも大きく、画素開口ＡＰ２が画素開口ＡＰ３よりも大きい。すなわち、副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３のうちで副画素ＳＰ１の開口率が最も大きく、副画素ＳＰ３の開口率が最も小さい。
【0025】
副画素ＳＰ１は、画素開口ＡＰ１とそれぞれ重なる下電極ＬＥ１、上電極ＵＥ１および有機層ＯＲ１を備えている。副画素ＳＰ２は、画素開口ＡＰ２とそれぞれ重なる下電極ＬＥ２、上電極ＵＥ２および有機層ＯＲ２を備えている。副画素ＳＰ３は、画素開口ＡＰ３とそれぞれ重なる下電極ＬＥ３、上電極ＵＥ３および有機層ＯＲ３を備えている。
【0026】
下電極ＬＥ１、上電極ＵＥ１および有機層ＯＲ１のうち画素開口ＡＰ１と重なる部分は、副画素ＳＰ１の表示素子ＤＥ１を構成する。下電極ＬＥ２、上電極ＵＥ２および有機層ＯＲ２のうち画素開口ＡＰ２と重なる部分は、副画素ＳＰ２の表示素子ＤＥ２を構成する。下電極ＬＥ３、上電極ＵＥ３および有機層ＯＲ３のうち画素開口ＡＰ３と重なる部分は、副画素ＳＰ３の表示素子ＤＥ３を構成する。表示素子ＤＥ１，ＤＥ２，ＤＥ３は、後述するキャップ層をさらに含んでもよい。リブ５は、これら表示素子ＤＥ１，ＤＥ２，ＤＥ３の各々を囲っている。
【0027】
下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３の端部は、全体的にリブ５と重なっている。また、第１領域Ａ１においてＹ方向に向かい合う２つの下電極ＬＥ１の端部を除き、下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３の端部は、隔壁６と重なっている。
【0028】
隔壁６は、全体的にリブ５と重なっており、概ねリブ５と同様の平面形状を有している。ただし、第１領域Ａ１において隣り合う２つの副画素ＳＰ１の間に位置するリブ５の上には隔壁６が配置されていない。本実施形態においては、これら副画素ＳＰ１の下電極ＬＥ１の間に透過領域ＴＡ１が形成されている。透過領域ＴＡ１は、第１領域Ａ１のうち下電極ＬＥ１と重ならない領域に相当する。
【0029】
図４は、図３中のＩＶ－ＩＶ線に沿う表示装置ＤＳＰの概略的な断面図である。上述の基板１０の上に回路層１１が配置されている。回路層１１は、図１に示した画素回路１、走査線Ｇ、信号線Ｓおよび電源線ＰＬなどの各種回路や配線を含む。回路層１１は、有機絶縁層１２により覆われている。有機絶縁層１２は、回路層１１により生じる凹凸を平坦化する平坦化膜として機能する。
【0030】
下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３は、有機絶縁層１２の上に配置されている。リブ５は、有機絶縁層１２および下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３の上に配置されている。下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３の端部は、リブ５により覆われている。図４の断面には表れていないが、下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３は、それぞれ有機絶縁層１２に設けられたコンタクトホールを通じて回路層１１の画素回路１に接続されている。
【0031】
隔壁６は、リブ５の上に配置された導電性を有する下部６１と、下部６１の上に配置された上部６２とを含む。上部６２は、下部６１よりも大きい幅を有している。これにより、上部６２の両端部が下部６１の側面よりも突出している。このような隔壁６の形状は、オーバーハング状と呼ばれる。
【0032】
図４の例において、下部６１は、リブ５の上に配置されたボトム部６３と、ボトム部６３の上に配置された軸部６４とを有している。例えば、ボトム部６３は軸部６４よりも薄く形成されているが、この例に限られない。また、図４の例においてはボトム部６３と軸部６４の側面が揃っているが、ボトム部６３の両端部が軸部６４の側面から突出してもよい。
【0033】
有機層ＯＲ１は、画素開口ＡＰ１を通じて下電極ＬＥ１を覆っている。上電極ＵＥ１は、有機層ＯＲ１を覆い、下電極ＬＥ１と対向している。有機層ＯＲ２は、画素開口ＡＰ２を通じて下電極ＬＥ２を覆っている。上電極ＵＥ２は、有機層ＯＲ２を覆い、下電極ＬＥ２と対向している。有機層ＯＲ３は、画素開口ＡＰ３を通じて下電極ＬＥ３を覆っている。上電極ＵＥ３は、有機層ＯＲ３を覆い、下電極ＬＥ３と対向している。上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３は、隔壁６の下部６１の側面に接触している。
【0034】
表示素子ＤＥ１は、上電極ＵＥ１の上に配置されたキャップ層ＣＰ１を含む。表示素子ＤＥ２は、上電極ＵＥ２の上に配置されたキャップ層ＣＰ２を含む。表示素子ＤＥ３は、上電極ＵＥ３の上に配置されたキャップ層ＣＰ３を含む。キャップ層ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３は、それぞれ有機層ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３が発する光の取り出し効率を向上させる光学調整層としての役割を有している。
【0035】
以下の説明においては、有機層ＯＲ１、上電極ＵＥ１およびキャップ層ＣＰ１を含む多層体を積層膜ＦＬ１と呼び、有機層ＯＲ２、上電極ＵＥ２およびキャップ層ＣＰ２を含む多層体を積層膜ＦＬ２と呼び、有機層ＯＲ３、上電極ＵＥ３およびキャップ層ＣＰ３を含む多層体を積層膜ＦＬ３と呼ぶ。
【0036】
積層膜ＦＬ１の一部は、上部６２の上に位置している。当該一部は、積層膜ＦＬ１のうち隔壁６の下に位置する部分（表示素子ＤＥ１を構成する部分）と離間している。同様に、積層膜ＦＬ２の一部は上部６２の上に位置し、当該一部は積層膜ＦＬ２のうち隔壁６の下に位置する部分（表示素子ＤＥ２を構成する部分）と離間している。さらに、積層膜ＦＬ３の一部は上部６２の上に位置し、当該一部は積層膜ＦＬ３のうち隔壁６の下に位置する部分（表示素子ＤＥ３を構成する部分）と離間している。
【0037】
副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３には、それぞれ封止層ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３が配置されている。封止層ＳＥ１は、積層膜ＦＬ１や副画素ＳＰ１の周囲の隔壁６を連続的に覆っている。封止層ＳＥ２は、積層膜ＦＬ２や副画素ＳＰ２の周囲の隔壁６を連続的に覆っている。封止層ＳＥ３は、積層膜ＦＬ３や副画素ＳＰ３の周囲の隔壁６を連続的に覆っている。
【0038】
図４の例においては、副画素ＳＰ１，ＳＰ２の間の隔壁６上の積層膜ＦＬ１および封止層ＳＥ１が、当該隔壁６上の積層膜ＦＬ２および封止層ＳＥ２と離間している。また、副画素ＳＰ１，ＳＰ３の間の隔壁６上の積層膜ＦＬ１および封止層ＳＥ１が、当該隔壁６上の積層膜ＦＬ３および封止層ＳＥ３と離間している。
【0039】
封止層ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３は、樹脂層１３により覆われている。樹脂層１３は、封止層１４により覆われている。封止層１４は、樹脂層１５により覆われている。樹脂層１３，１５および封止層１４は、少なくとも表示領域ＤＡの全体に連続的に設けられ、その一部が周辺領域ＳＡにも及んでいる。
【0040】
偏光板、タッチパネル、保護フィルムまたはカバーガラスなどのカバー部材が樹脂層１５の上方にさらに配置されてもよい。このようなカバー部材は、例えばＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）などの接着層を介して樹脂層１５に接着されてもよい。
【0041】
有機絶縁層１２は、ポリイミドなどの有機絶縁材料で形成されている。リブ５および封止層１４，ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）または酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などの無機絶縁材料で形成されている。一例では、リブ５がシリコン酸窒化物で形成され、封止層１４，ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３がシリコン窒化物で形成されている。樹脂層１３，１５は、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの樹脂材料（有機絶縁材料）で形成されている。
【0042】
下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３は、例えば銀（Ａｇ）で形成された反射層と、この反射層の上面および下面をそれぞれ覆う一対の導電性酸化物層とを有している。各導電性酸化物層は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）またはＩＧＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｇａｌｌｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電性酸化物で形成することができる。
【0043】
上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３は、例えばマグネシウムと銀の合金（ＭｇＡｇ）などの金属材料で形成されている。例えば、下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３はアノードに相当し、上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３はカソードに相当する。
【0044】
有機層ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロッキング層、発光層、正孔ブロッキング層、電子輸送層および電子注入層の積層構造を有している。有機層ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３は、複数の発光層を含むいわゆるタンデム構造を有してもよい。
【0045】
キャップ層ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３は、例えば透明な複数の薄膜が重ねられた積層構造を有している。当該複数の薄膜は、無機材料によって形成された薄膜および有機材料によって形成された薄膜を含んでもよい。また、当該複数の薄膜は、互いに異なる屈折率を有している。例えば、これら薄膜の屈折率は、上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３の屈折率および封止層ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３の屈折率と異なる。なお、キャップ層ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３の少なくとも１つが省略されてもよい。
【0046】
隔壁６のボトム部６３および軸部６４は、金属材料によって形成されている。ボトム部６３の金属材料としては、例えばモリブデン（Ｍｏ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、モリブデン－タングステン合金（ＭｏＷ）またはモリブデン－ニオブ合金（ＭｏＮｂ）を用いることができる。軸部６４の金属材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム－ネオジム合金（ＡｌＮｄ）、アルミニウム－イットリウム合金（ＡｌＹ）またはアルミニウム－シリコン合金（ＡｌＳｉ）を用いることができる。なお、軸部６４が絶縁性の材料で形成されてもよい。
【0047】
例えば、隔壁６の上部６２は、金属材料で形成された下層と、導電性酸化物で形成された上層との積層構造を有している。下層を形成する金属材料としては、例えばチタン、窒化チタン、モリブデン、タングステン、モリブデン－タングステン合金またはモリブデン－ニオブ合金を用いることができる。上層を形成する導電性酸化物としては、例えばＩＴＯまたはＩＺＯを用いることができる。なお、上部６２は、金属材料の単層構造を有してもよい。さらに、上部６２は、絶縁材料で形成された層を含んでもよい。
【0048】
隔壁６には、共通電圧が供給されている。この共通電圧は、下部６１の側面に接触した上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３にそれぞれ供給される。下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３には、それぞれ副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３の画素回路１を通じて信号線Ｓの映像信号に応じた画素電圧が供給される。
【0049】
有機層ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３は、電圧の印加に応じて発光する。具体的には、下電極ＬＥ１と上電極ＵＥ１の間に電位差が形成されると、有機層ＯＲ１の発光層が青色の波長域の光を放つ。下電極ＬＥ２と上電極ＵＥ２の間に電位差が形成されると、有機層ＯＲ２の発光層が緑色の波長域の光を放つ。下電極ＬＥ３と上電極ＵＥ３の間に電位差が形成されると、有機層ＯＲ３の発光層が赤色の波長域の光を放つ。
【0050】
他の例として、有機層ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３の発光層が同一色（例えば白色）の光を放ってもよい。この場合において、表示装置ＤＳＰは、発光層が放つ光を副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３に対応する色の光に変換するカラーフィルタを備えてもよい。また、表示装置ＤＳＰは、発光層が放つ光により励起して副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３に応じた色の光を生成する量子ドットを含んだ層を備えてもよい。
【0051】
図５は、図３におけるＶ－Ｖ線に沿う表示装置ＤＳＰの概略的な断面図である。図６は、図３におけるＶＩ－ＶＩ線に沿う表示装置ＤＳＰの概略的な断面図である。これらの図においては、基板１０、回路層１１、封止層１４および樹脂層１５の図示を省略している。
【0052】
図５に示すように、隔壁６ｘを介して隣り合う２つの副画素ＳＰ１の積層膜ＦＬ１は、隔壁６ｘによって分断されている。積層膜ＦＬ１は、隔壁６ｘの上にも形成されている。封止層ＳＥ１は、これら副画素ＳＰ１の積層膜ＦＬ１および隔壁６上の積層膜ＦＬ１を連続的に覆っている。
【0053】
図６に示すように、透過領域ＴＡ１においては、積層膜ＦＬ１が分断されることなくリブ５の上を横切っている。すなわち、第１領域Ａ１に配置された２つの副画素ＳＰ１の有機層ＯＲ１同士、上電極ＵＥ１同士、キャップ層ＣＰ１同士が接続されている。
【0054】
ここで、本実施形態が奏する効果の一例について説明する。
表示装置ＤＳＰが搭載される電子機器は、外光を検知する照度センサなどの光学センサを備えることがある。このような光学センサが表示装置ＤＳＰの裏面側に配置される場合には、表示装置ＤＳＰに透光性が必要となる。
表示装置ＤＳＰが搭載される電子機器は、外光を検知する照度センサなどの光学センサを備えることがある。このような光学センサが表示装置ＤＳＰの裏面側に配置される場合には、表示装置ＤＳＰに透光性が必要となる。
【0055】
しかしながら、下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３は、いずれも上述の反射層を含む。また、少なくとも一部が金属材料で形成された隔壁６は、遮光性を有している。そのため、仮に表示領域ＤＡの全体に下電極ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３および隔壁６が形成されていると、表示装置ＤＳＰの表示面に入射する殆どの光が裏面側に透過することなく反射または遮光され得る。
【0056】
これに対し、本実施形態においては、図３および図６に示した透過領域ＴＡ１が表示領域ＤＡに形成されている。透過領域ＴＡ１には下電極ＬＥ１および隔壁６が配置されていない。したがって、図６に示すように透過領域ＴＡ１に入射する外光Ｌは、下電極ＬＥ１および隔壁６によって遮られることなく表示装置ＤＳＰの下方へと透過することが可能である。これにより、表示装置ＤＳＰの透光性を高めることができる。
【0057】
隔壁６は、上電極ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３に給電するための配線としての役割を有するとともに、表示装置ＤＳＰの製造時に蒸着で形成される積層膜ＦＬ１，ＦＬ２，ＦＬ３を分断する役割も有している。このように積層膜ＦＬ１，ＦＬ２，ＦＬ３を分断することで、封止層ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３により個別に封止された表示素子ＤＥ１，ＤＥ２，ＤＥ３を得ることができる。
【0058】
第１領域Ａ１には、同じ色の２つの副画素ＳＰ１が配置されている。この場合には、これら副画素ＳＰ１の積層膜ＦＬ１および封止層ＳＥ１を同じプロセスで成膜するとともに、同じフォトリソグラフィ工程にてパターニングすることができる。そのため、これら副画素ＳＰ１の境界において積層膜ＦＬ１の露出を抑制することが可能である。
【0059】
また、図２の例においては、隣り合う列Ｃ１の隔壁６ｘの位置がＹ方向においてずれている。このような構成により、表示領域ＤＡにおける隔壁６ｘの位置が分散される。したがって、隔壁６ｘの反射による見栄えを均一化し、表示品位を高めることができる。
【0060】
本実施形態にて開示した構成は、種々の態様に変形し得る。以下の第２乃至第４実施形態においては、隔壁６に適用し得る構成の他の例を開示する。これらの実施形態において、特に言及しない構成および効果は第１実施形態と同様である。
【0061】
［第２実施形態］
図７は、第２実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。図７の例においては、第１領域Ａ１が図２に示したものよりもＹ方向に長い。第１領域Ａ１は、Ｙ方向に並ぶ３つの第２領域Ａ２と３つの第３領域Ａ３に相当する幅を有している。
図７は、第２実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。図７の例においては、第１領域Ａ１が図２に示したものよりもＹ方向に長い。第１領域Ａ１は、Ｙ方向に並ぶ３つの第２領域Ａ２と３つの第３領域Ａ３に相当する幅を有している。
【0062】
【0063】
第１実施形態と同じく、第１領域Ａ１において隣り合う副画素ＳＰ１の間に位置するリブ５の上には隔壁６が配置されていない。これにより、本実施形態においては、第１領域Ａ１に２つの透過領域ＴＡ１が形成されている。
【0064】
このように、第１領域Ａ１に含まれる副画素ＳＰ１の数を増やすことで、表示領域ＤＡにおける透過領域ＴＡ１の数を増やすことができる。これにより、表示装置ＤＳＰの透光性をより高めることが可能となる。なお、第１領域Ａ１に含まれる副画素ＳＰ１の数は２つや３つに限られず、４つ以上であってもよい。
【0065】
［第３実施形態］
図９は、第３実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。上述の各実施形態と同じく、表示領域ＤＡは、第１領域Ａ１、第２領域Ａ２および第３領域Ａ３を有している。ただし、図９の例においては、これら領域Ａ１，Ａ２，Ａ３のＹ方向における幅が同じである。
図９は、第３実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。上述の各実施形態と同じく、表示領域ＤＡは、第１領域Ａ１、第２領域Ａ２および第３領域Ａ３を有している。ただし、図９の例においては、これら領域Ａ１，Ａ２，Ａ３のＹ方向における幅が同じである。
【0066】
表示領域ＤＡには、複数の列Ｃ１と、複数の列Ｃ２と、複数の列Ｃ３とが形成されている。列Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３は、Ｘ方向において交互に並んでいる。列Ｃ１は、Ｙ方向に並ぶ複数の第１領域Ａ１を含む。列Ｃ２は、Ｙ方向に並ぶ複数の第２領域Ａ２を含む。列Ｃ３は、Ｙ方向に並ぶ複数の第３領域Ａ３を含む。Ｙ方向に隣り合う２つの第１領域Ａ１の間、Ｙ方向に隣り合う２つの第２領域Ａ２の間、Ｙ方向に隣り合う２つの第３領域Ａ３の間には、それぞれ隔壁６ｘが配置されている。
【0067】
例えば、図中の左側に位置する列Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３で構成されるグループＧ１に着目すると、領域Ａ１，Ａ２，Ａ３がＹ方向にずれることなく並んでいる。グループＧ１の右方の列Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３で構成されるグループＧ２や、さらにその右方の列Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３で構成されるグループＧ３においても同様である。
【0068】
一方、グループＧ１の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とグループＧ２の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とは、Ｙ方向においてずれている。他の観点から言うと、グループＧ１，Ｇ２それぞれにおける隔壁６ｘの位置がＹ方向においてずれている。グループＧ２の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とグループＧ３の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３も同様に、Ｙ方向においてずれている。グループＧ１の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とグループＧ３の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３は、Ｙ方向においてずれていない。これにより、グループＧ１における隔壁６ｘとグループＧ３における隔壁６ｘとがＸ方向に並んでいる。
【0069】
図１０は、図９において鎖線枠Ｘで囲った領域を拡大した概略的な平面図である。本実施形態においては、Ｙ方向に並ぶ２つの副画素ＳＰ１が第１領域Ａ１に配置され、Ｙ方向に並ぶ２つの副画素ＳＰ２が第２領域Ａ２に配置され、Ｙ方向に並ぶ２つの副画素ＳＰ３が第３領域Ａ３に配置されている。
【0070】
図１０の例においては、画素開口ＡＰ１，ＡＰ２，ＡＰ３のＹ方向における幅が同じである。一方、画素開口ＡＰ１のＸ方向における幅は、画素開口ＡＰ２のＸ方向における幅および画素開口ＡＰ３のＸ方向における幅のいずれよりも大きい。これにより、副画素ＳＰ１の開口率は、副画素ＳＰ２，ＳＰ３の開口率よりも大きい。また、第１領域Ａ１のＸ方向における幅は、第２領域Ａ２のＸ方向における幅および第３領域Ａ３のＸ方向における幅のいずれよりも大きい。
【0071】
なお、この例に限られず、画素開口ＡＰ１，ＡＰ２，ＡＰ３のＸ方向における幅が同じであってもよい。また、画素開口ＡＰ２，ＡＰ３のいずれかのＸ方向における幅が画素開口ＡＰ１のＸ方向における幅より大きくてもよい。
【0072】
第１実施形態と同じく、第１領域Ａ１において隣り合う２つの副画素ＳＰ１の間に位置するリブ５の上には隔壁６が配置されていない。これにより、第１領域Ａ１に透過領域ＴＡ１が形成されている。
【0073】
さらに、図１０の例においては、第２領域Ａ２において隣り合う２つの副画素ＳＰ２の間に位置するリブ５の上にも隔壁６が配置されていない。また、第３領域Ａ３において隣り合う２つの副画素ＳＰ３の間に位置するリブ５の上にも隔壁６が配置されていない。これにより、第２領域Ａ２に透過領域ＴＡ２が形成され、第３領域Ａ３に透過領域ＴＡ３が形成されている。
【0074】
透過領域ＴＡ２は、第２領域Ａ２において下電極ＬＥ２と重ならない領域に相当する。透過領域ＴＡ３は、第３領域Ａ３において下電極ＬＥ３と重ならない領域に相当する。これら透過領域ＴＡ２，ＴＡ３は、図６に示した透過領域ＴＡ１と同じく外光を良好に透過する。
【0075】
透過領域ＴＡ２付近の断面構造や、透過領域ＴＡ３付近の断面構造は、図６に示した透過領域ＴＡ１付近の断面構造と同様である。すなわち、透過領域ＴＡ２，ＴＡ３においては、それぞれ積層膜ＦＬ２，ＦＬ３が分断されることなくリブ５の上を横切っている。他の観点から言うと、第２領域Ａ２に配置された２つの副画素ＳＰ２の有機層ＯＲ２同士、上電極ＵＥ２同士、キャップ層ＣＰ２同士が接続されている。また、第３領域Ａ３に配置された２つの副画素ＳＰ３の有機層ＯＲ３同士、上電極ＵＥ３同士、キャップ層ＣＰ３同士が接続されている。
【0076】
このように、本実施形態においては、透過領域ＴＡ１に加えて透過領域ＴＡ２，ＴＡ３が表示領域ＤＡに形成されている。これにより、表示領域ＤＡの透光性を一層高めることができる。
【0077】
また、図９の例においては、第１実施形態と同じく表示領域ＤＡにおける隔壁６ｘの位置が分散されている。これにより、隔壁６ｘの反射による見栄えを均一化し、表示品位を高めることができる。
【0078】
［第４実施形態］
図１１は、第４実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。本実施形態においては、表示領域ＤＡに第３実施形態と概ね同様の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３が形成されている。
図１１は、第４実施形態に係る表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの概略的な平面図である。本実施形態においては、表示領域ＤＡに第３実施形態と概ね同様の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３が形成されている。
【0079】
ただし、図１１の例においては、領域Ａ１，Ａ２，Ａ３が図９に示したものよりもＹ方向に長い。また、グループＧ１の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３、グループＧ２の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３およびグループＧ３の領域Ａ１，Ａ２，Ａ３がいずれもＹ方向においてずれている。他の観点から言うと、グループＧ１，Ｇ２，Ｇ３それぞれにおける隔壁６ｘの位置がＹ方向においてずれている。
【0080】
図１２は、図１１において鎖線枠ＸＩＩで囲った領域を拡大した概略的な平面図である。本実施形態においては、Ｙ方向に並ぶ３つの副画素ＳＰ１が第１領域Ａ１に配置され、Ｙ方向に並ぶ３つの副画素ＳＰ２が第２領域Ａ２に配置され、Ｙ方向に並ぶ３つの副画素ＳＰ３が第３領域Ａ３に配置されている。
【0081】
第３実施形態と同じく、第１領域Ａ１において隣り合う副画素ＳＰ１の間のリブ５上、第２領域Ａ２において隣り合う副画素ＳＰ２の間のリブ５上、第３領域Ａ３において隣り合う副画素ＳＰ３の間のリブ５上に隔壁６が配置されていない。これにより、本実施形態においては、第１領域Ａ１に２つの透過領域ＴＡ１が形成され、第２領域Ａ２に２つの透過領域ＴＡ２が形成され、第３領域Ａ３に２つの透過領域ＴＡ３が形成されている。
【0082】
このように、領域Ａ１，Ａ２，Ａ３にそれぞれ含まれる透過領域ＴＡ１，ＴＡ２，ＴＡ３の数を増やすことで、表示装置ＤＳＰの透光性をより高めることが可能となる。なお、領域Ａ１，Ａ２，Ａ３にそれぞれ含まれる副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３の数は２つや３つに限られず、４つ以上であってもよい。
【0083】
表示領域ＤＡにおける隔壁６の形状と副画素ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３の配置は、以上の第１乃至第４実施形態の他にも種々の態様に変形し得る。例えば、Ｘ方向に並ぶ複数の副画素が隔壁によって囲われた１つの領域に配置されてもよい。
【0084】
以上、本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に属する。
【0085】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【0086】
また、上述の各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【0087】
ＤＳＰ…表示装置、ＤＡ…表示領域、ＳＡ…周辺領域、ＰＸ…画素、ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３…副画素、ＬＥ１，ＬＥ２，ＬＥ３…下電極、ＯＲ１，ＯＲ２，ＯＲ３…有機層、ＵＥ１，ＵＥ２，ＵＥ３…上電極、ＳＥ１，ＳＥ２，ＳＥ３…封止層、Ａ１，Ａ２，Ａ３…第１乃至第３領域、ＴＡ１，ＴＡ２，ＴＡ３…透過領域、１…画素回路、５…リブ、６…隔壁、６１…下部、６２…上部。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】