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特開2024-153959遮光膜、多層反射防止膜、それらの製造方法及び光学部材
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024153959
(43)【公開日】2024-10-30
(54)【発明の名称】遮光膜、多層反射防止膜、それらの製造方法及び光学部材
(51)【国際特許分類】
G02B 5/00 20060101AFI20241023BHJP
C23C 14/06 20060101ALI20241023BHJP
G02B 1/115 20150101ALI20241023BHJP
【ＦＩ】
G02B5/00 B
C23C14/06 P
G02B1/115
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021149619
(22)【出願日】2021-09-14
(71)【出願人】
【識別番号】000001270
【氏名又は名称】コニカミノルタ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001254
【氏名又は名称】弁理士法人光陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】能勢 正章
(72)【発明者】
【氏名】青木 洋輔
【テーマコード（参考）】
2H042
2K009
4K029
【Ｆターム（参考）】
2H042AA03
2H042AA15
2H042AA22
2K009AA02
2K009AA09
2K009BB02
2K009BB12
2K009BB24
2K009CC03
2K009CC06
2K009DD04
4K029AA09
4K029BA42
4K029BA64
4K029BB02
4K029BC07
4K029CA01
4K029CA09
4K029DB14
4K029DB18
4K029DB21
4K029JA02
(57)【要約】
【課題】本発明の課題は、遮光性及び光反射防止性並びに化学的安定性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜、それらの設計値と実測値との乖離が少ない製造方法及び光学部材を提供することである。
【解決手段】少なくとも、遮光層と遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする遮光膜。
【選択図】図１
【解決手段】少なくとも、遮光層と遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする遮光膜。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、遮光層と前記遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、
前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有する
ことを特徴とする遮光膜。
前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有する
ことを特徴とする遮光膜。
【請求項2】
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、ＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４及びＣｅＦ３から選ばれるいずれかのフッ化物を含有する
ことを特徴とする請求項１に記載の遮光膜。
ことを特徴とする請求項１に記載の遮光膜。
【請求項3】
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、硫化物を含有する
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遮光膜。
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遮光膜。
【請求項4】
前記硫化物が、ＺｎＳである
ことを特徴とする請求項３に記載の遮光膜。
ことを特徴とする請求項３に記載の遮光膜。
【請求項5】
４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光透過率が、２％以下である
ことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の遮光膜。
ことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の遮光膜。
【請求項6】
遮光膜を備えた多層反射防止膜であって、
前記遮光膜として、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を備え、かつ、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有する
ことを特徴とする多層反射防止膜。
前記遮光膜として、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を備え、かつ、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有する
ことを特徴とする多層反射防止膜。
【請求項7】
前記遮光層に接する層と前記光干渉層の間に分光特性の調整層を有する
ことを特徴とする請求項６に記載の多層反射防止膜。
ことを特徴とする請求項６に記載の多層反射防止膜。
【請求項8】
４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光反射率が、２％以下である
ことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の多層反射防止膜。
ことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の多層反射防止膜。
【請求項9】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を製造する遮光膜の製造方法であって、
前記遮光層を、アルゴンガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を製膜して形成する
ことを特徴とする遮光膜の製造方法。
前記遮光層を、アルゴンガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を製膜して形成する
ことを特徴とする遮光膜の製造方法。
【請求項10】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を製造する遮光膜の製造方法であって、
前記遮光層を、窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を製膜して形成する
ことを特徴とする遮光膜の製造方法。
前記遮光層を、窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を製膜して形成する
ことを特徴とする遮光膜の製造方法。
【請求項11】
請求項６から請求項８までのいずれか一項に記載の多層反射防止膜を製造する多層反射防止膜の製造方法であって、
前記遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有する
ことを特徴とする多層反射防止膜の製造方法。
前記遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有する
ことを特徴とする多層反射防止膜の製造方法。
【請求項12】
基材上に、少なくとも遮光膜を備えた光学部材であって、
前記遮光膜として、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を備えている
ことを特徴とする光学部材。
前記遮光膜として、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の遮光膜を備えている
ことを特徴とする光学部材。
【請求項13】
前記遮光膜上に、光干渉層が形成されている
ことを特徴とする請求項１２に記載の光学部材。
ことを特徴とする請求項１２に記載の光学部材。
【請求項14】
前記基材と前記遮光膜との間に、光干渉層が形成されている
ことを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の光学部材。
ことを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、遮光膜、多層反射防止膜、それらの製造方法及び光学部材に関する。より詳しくは、遮光性及び光反射防止性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜、それらの製造方法及び光学部材に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、携帯カメラやガラスプリズム等の光学部材においては、いわゆるゴーストやフレアなどの発生の問題を解決するため、光学部材の内壁面に、光反射防止対策や遮光対策を施すことが求められている。
例えば特許文献１では、光学部材の内壁面に複数の種類の形状からなる複数の微粒子を含む皮膜形成用樹脂からなる黒色塗装膜が被膜された発明が開示されている。
例えば特許文献１では、光学部材の内壁面に複数の種類の形状からなる複数の微粒子を含む皮膜形成用樹脂からなる黒色塗装膜が被膜された発明が開示されている。
【0003】
これは、光学部材に有機物を用いた墨ぬりを施すことにより分光反射率を低下させ、ゴースト、フレアを防止しようとするものであるが、墨ぬり範囲の寸法精度の確保が難しく、墨は有機物であるため耐久性の確保も難しいという問題があった。
また、分光反射率を低下させたまま光学的性質を安定化させることが難しいという課題も残されていた。
また、分光反射率を低下させたまま光学的性質を安定化させることが難しいという課題も残されていた。
【0004】
これに対して、特許文献２では光学部材に備えられた遮光膜に無機物を用いており、複数の光吸収層と、屈折率が１．７以下の低屈折率層とを組み合わせた遮光膜を用いることにより、遮光膜に入射する光を遮光するだけでなく、その表面（基体側及び基体と反対側の表面）からの反射光を低減している。
しかしながら、前記特許文献２に開示されている遮光膜も、安定性の観点から改善の余地が残されていることが、本発明者の検討によりわかった。
しかしながら、前記特許文献２に開示されている遮光膜も、安定性の観点から改善の余地が残されていることが、本発明者の検討によりわかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１１－０６４７３７号公報
【特許文献2】特開２０１３－１４８８４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、遮光性及び光反射防止性並びに化学的安定性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜、それらの設計値と実測値との乖離が少ない製造方法及び光学部材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、クロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光膜は酸素の影響で不安定になることを見出し、かつ、遮光層に接する層が安定性に影響すること及びその安定性の改善策を見出すことによって本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【0008】
１．少なくとも、遮光層と前記遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする遮光膜。
【0009】
２．前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、ＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４及びＣｅＦ３から選ばれるいずれかのフッ化物を含有することを特徴とする第１項に記載の遮光膜。
【0010】
３．前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、硫化物を含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の遮光膜。
【0011】
４．前記硫化物が、ＺｎＳであることを特徴とする第３項に記載の遮光膜。
【0012】
５．４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光透過率が、２％以下であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の遮光膜。
【0013】
６．遮光膜を備えた多層反射防止膜であって、前記遮光膜として、第１項から第５項までのいずれか一項に記載の遮光膜を備え、かつ、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することを特徴とする多層反射防止膜
【0014】
７．前記遮光層に接する層と前記光干渉層の間に分光特性の調整層を有することを特徴とする第６項に記載の多層反射防止膜。
【0015】
８．４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光反射率が、２％以下であることを特徴とする第６項又は第７項に記載の多層反射防止膜。
【0016】
９．第１項から第５項までのいずれか一項に記載の遮光膜を製造する遮光膜の製造方法であって、前記遮光層を、アルゴンガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物成膜して形成することを特徴とする遮光膜の製造方法。
【0017】
１０．第１項から第５項までのいずれか一項に記載の遮光膜を製造する遮光膜の製造方法であって、前記遮光層を、窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することを特徴とする遮光膜の製造方法。
【0018】
１１．第６項から第８項までのいずれか一項に記載の多層反射防止膜を製造する多層反射防止膜の製造方法であって、前記遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することを特徴とする多層反射防止膜の製造方法。
【0019】
１２．基材上に、少なくとも遮光膜を備えた光学部材であって、前記遮光膜として、第１項から第５項までのいずれか一項に記載の遮光膜を備えていることを特徴とする光学部材。
【0020】
１３．前記遮光膜上に、光干渉層が形成されていることを特徴とする第１２項に記載の光学部材。
【0021】
１４．前記基材と前記遮光膜との間に、光干渉層が形成されていることを特徴とする第１２項又は第１３項に記載の光学部材。
【発明の効果】
【0022】
本発明の上記手段により、遮光性及び光反射防止性並びに化学的安定性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜、それらの設計値と実測値との乖離が少ない製造方法及び光学部材を提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【0023】
本発明の遮光膜が有する遮光層は、クロム及び二酸化ケイ素を含有している。
遮光層がクロム及び二酸化ケイ素を含有することは、遮光膜の遮光性及び光反射防止性を上げるためには有用である。
しかし、前記遮光層が酸化物に接すると前記遮光層と酸化物との間で酸素の移動が起こるため、前記遮光層のクロム及び二酸化ケイ素の混合物の化学的性質に変化が生じてしまい、前記遮光層を有する遮光膜の屈折率や光吸収係数等の光学的性質に変化が起き、遮光性及び光反射防止性が低下してしまうことが、本発明者の検討で明らかになった。
また、上記遮光性及び光反射防止性が低下するため、これらの光学特性の当初の設計値と製造後の実測値とに乖離が生ずるということも明らかになった。
本発明では、クロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層に接する層を、酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより、遮光層の外部からの酸素の移動を防ぎ、遮光層の成分が化学的に変化せず光学的に安定化し、遮光性及び光反射性に優れた遮光膜が形成される。したがって、設計値と実測値との乖離が少ない遮光膜等を製造できる。
遮光層がクロム及び二酸化ケイ素を含有することは、遮光膜の遮光性及び光反射防止性を上げるためには有用である。
しかし、前記遮光層が酸化物に接すると前記遮光層と酸化物との間で酸素の移動が起こるため、前記遮光層のクロム及び二酸化ケイ素の混合物の化学的性質に変化が生じてしまい、前記遮光層を有する遮光膜の屈折率や光吸収係数等の光学的性質に変化が起き、遮光性及び光反射防止性が低下してしまうことが、本発明者の検討で明らかになった。
また、上記遮光性及び光反射防止性が低下するため、これらの光学特性の当初の設計値と製造後の実測値とに乖離が生ずるということも明らかになった。
本発明では、クロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層に接する層を、酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより、遮光層の外部からの酸素の移動を防ぎ、遮光層の成分が化学的に変化せず光学的に安定化し、遮光性及び光反射性に優れた遮光膜が形成される。したがって、設計値と実測値との乖離が少ない遮光膜等を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【0024】
【図1】本発明の遮光膜の最も簡単な構成を表した概念図
【図2】表面反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図
【図3】裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図
【図4】（ａ）表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図（ｂ）表面反射防止効果を有する多層反射防止膜と分光特性を調整した裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図
【図5】各光学部材の分光反射率の概念図
【図6】各光学部材の分光透過率の概念図
【図7】遮光膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャート
【図8】表面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャート
【図9】裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャート
【図10】表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャート
【図11】真空蒸着装置の一例を示す模式図
【図12】（ａ）サンプル用光学部材Ａ１の分光反射率（ｂ）サンプル用光学部材Ａ２の分光反射率（ｃ）サンプル用光学部材Ａ３の分光反射率
【発明を実施するための形態】
【0025】
本発明の遮光膜は、少なくとも、遮光層と前記遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態（態様）に共通する又は対応する技術的特徴である。
この特徴は、下記各実施形態（態様）に共通する又は対応する技術的特徴である。
【0026】
本発明の実施態様としては、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、ＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４及びＣｅＦ３から選ばれるいずれかのフッ化物を含有することが遮光膜の化学的性質の安定化の観点から好ましい。
【0027】
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、硫化物を含有することが、遮光膜の化学的性質の安定化の観点から好ましい。
【0028】
前記硫化物が、ＺｎＳであることが遮光膜の化学的性質の安定化の観点からより好ましい。
【0029】
４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光透過率が、２％以下であることが遮光性の観点から好ましい。
【0030】
本発明の遮光膜を備えた多層反射防止膜が、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することが光反射防止性の観点から好ましい。
【0031】
前記多層反射防止膜が、前記遮光層に接する層と前記光干渉層の間に分光特性の調整層を有することが遮光性及び光反射防止性の観点から好ましい。
【0032】
前記多層反射防止膜の４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光反射率が、２％以下であることが光反射防止性の観点から好ましい。
【0033】
前記遮光膜は、前記遮光層を、アルゴンガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することにより好適に製造される。
【0034】
前記遮光膜は、前記遮光層を、窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することにより好適に製造される。
【0035】
前記多層反射防止膜の製造工程が、遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することにより、前記多層反射防止膜が好適に製造される。
【0036】
基材上に、少なくとも遮光膜を備えた光学部材は、前記遮光膜として、本発明の遮光膜を備えることが好適である。
【0037】
前記光学部材は、前記遮光膜上に、光干渉層が形成されていることが光反射防止性の観点から好ましい。
【0038】
前記光学部材が、前記基材と前記遮光膜との間に、光干渉層が形成されていることが光反射防止性の観点から好ましい。
【0039】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【0040】
１．遮光膜
本発明の遮光膜は、少なくとも、遮光層と前記遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする。
本発明の遮光膜は、少なくとも、遮光層と前記遮光層に接する層とを有する遮光膜であって、前記遮光層が、クロム及び二酸化ケイ素を含有し、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、酸化物以外の化合物を含有することを特徴とする。
【0041】
図１は、本発明の遮光膜の最も簡単な構成を表した概念図である。
図１のように、本発明の遮光膜は、基材上に遮光性及び光反射防止性に優れた遮光層を有しており、かつ、当該遮光層の化学的性質を安定化させるため、当該遮光層に接する層を酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより本発明の効果が発現する。
図１のように、本発明の遮光膜は、基材上に遮光性及び光反射防止性に優れた遮光層を有しており、かつ、当該遮光層の化学的性質を安定化させるため、当該遮光層に接する層を酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより本発明の効果が発現する。
【0042】
（１．１）基材
本発明に係る基材としては、特に制限はないが、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びポリエステル樹脂等の樹脂が挙げられる。
本発明に係る基材としては、特に制限はないが、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びポリエステル樹脂等の樹脂が挙げられる。
【0043】
（１．２）遮光層
本発明の遮光膜を構成する遮光層は、クロム及び二酸化ケイ素を含有している。
遮光層を形成する際に用いられる成膜材料としては、クロム及び二酸化ケイ素を含有していれば特に制限はないが、例えばＢｌａｃｋＡ（Ｃｒ、ＳｉＯ２）（Ｍｅｒｃｋ社製のＢｌａｃｋＡ ｐｏｗｄｅｒ ｌｅｓｓ ｔｈａｎ ０．３ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｃｒ（４５％）＋ＳｉＯ２（５０～６０％）の混合物、以下製品名を「ＢｌａｃｋＡ」と表記する。）が挙げられる。
本発明の遮光膜を構成する遮光層は、クロム及び二酸化ケイ素を含有している。
遮光層を形成する際に用いられる成膜材料としては、クロム及び二酸化ケイ素を含有していれば特に制限はないが、例えばＢｌａｃｋＡ（Ｃｒ、ＳｉＯ２）（Ｍｅｒｃｋ社製のＢｌａｃｋＡ ｐｏｗｄｅｒ ｌｅｓｓ ｔｈａｎ ０．３ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｃｒ（４５％）＋ＳｉＯ２（５０～６０％）の混合物、以下製品名を「ＢｌａｃｋＡ」と表記する。）が挙げられる。
【0044】
（１．３）遮光層に接する層
遮光層がクロム及び二酸化ケイ素を含有することは、遮光膜の遮光性及び光反射防止性を上げるためには有用である。
しかし、前記遮光層が酸化物に接すると前記遮光層と酸化物との間で酸素の移動が起こるため、前記遮光層のクロム及び二酸化ケイ素の混合物の化学的性質に変化が生じてしまい、前記遮光層を有する遮光膜の屈折率や光吸収係数等の光学的性質に変化が起き、遮光性及び光反射防止性が低下してしまう。
そこで、前記遮光層に接する層すなわち隣接層の少なくとも一つを、酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより酸素の移動による前記遮光層の光学的性質の変化を抑制することができる。
遮光層がクロム及び二酸化ケイ素を含有することは、遮光膜の遮光性及び光反射防止性を上げるためには有用である。
しかし、前記遮光層が酸化物に接すると前記遮光層と酸化物との間で酸素の移動が起こるため、前記遮光層のクロム及び二酸化ケイ素の混合物の化学的性質に変化が生じてしまい、前記遮光層を有する遮光膜の屈折率や光吸収係数等の光学的性質に変化が起き、遮光性及び光反射防止性が低下してしまう。
そこで、前記遮光層に接する層すなわち隣接層の少なくとも一つを、酸化物以外の化合物を含有する層とすることにより酸素の移動による前記遮光層の光学的性質の変化を抑制することができる。
【0045】
前記遮光層に接する層のうち少なくとも一つの層は、酸化物以外の化合物の成膜材料によって形成される必要があるが、他の一つの層は酸化物を成膜材料として用いることもできる。
酸化物以外の化合物である成膜材料としては、例えばＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ等が挙げられる。
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、ＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３から選ばれるいずれかのフッ化物を含有することが遮光膜の化学的性質の安定化の観点から好ましい。
酸化物以外の化合物である成膜材料としては、例えばＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ等が挙げられる。
前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、ＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３から選ばれるいずれかのフッ化物を含有することが遮光膜の化学的性質の安定化の観点から好ましい。
【0046】
また、前記遮光層に接する層の少なくとも一つが、硫化物を含有することも、遮光膜の化学的性質の安定化の観点から好ましい。
【0047】
また、前記硫化物が、ＺｎＳであることも遮光膜の化学的性質の安定化の観点からより好ましい。
【0048】
（１．４）平均分光透過率
前記遮光膜の４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光透過率が、２％以下であることが遮光性の観点から好ましい。
ここで、「透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）」とは、与えられた条件において、入射した放射束又は光束に対する、透過した放射束又は光束の比率のことをいい（新編色彩化学ハンドブック第２版 日本色彩学会編 ２２２頁）、単位は「１」である。
ただし、本発明における「分光透過率」とは、上記「透過率」の定義において、特定波長の光に対する透過率（％）をいう。
また、本発明に係る「平均分光透過率」とは、分光波長４００～７００ｎｍの範囲内において測定した各波長における分光透過率の平均値をいう。
前記遮光膜の４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光透過率が、２％以下であることが遮光性の観点から好ましい。
ここで、「透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）」とは、与えられた条件において、入射した放射束又は光束に対する、透過した放射束又は光束の比率のことをいい（新編色彩化学ハンドブック第２版 日本色彩学会編 ２２２頁）、単位は「１」である。
ただし、本発明における「分光透過率」とは、上記「透過率」の定義において、特定波長の光に対する透過率（％）をいう。
また、本発明に係る「平均分光透過率」とは、分光波長４００～７００ｎｍの範囲内において測定した各波長における分光透過率の平均値をいう。
【0049】
具体的には、日立社製分光光度計Ｕ－４１００にて遮光膜の分光透過率を測定し、分光波長４００～７００ｎｍの波長領域における１０ｎｍおきで３１点の分光透過率の平均値とする。
平均分光透過率の値は下記式（１）のようにして求める。
平均分光透過率の値は下記式（１）のようにして求める。
【0050】
式（１）：
平均分光透過率（％）＝（Ｔ４００＋Ｔ４１０＋・・・・＋Ｔ６９０＋Ｔ７００）／３１
ここで、例えばＴ４００は光波長４００ｎｍにおける分光透過率の値（％）、Ｔ４１０は光波長４１０ｎｍにおける分光透過率の値（％）等々、をそれぞれ示す。
平均分光透過率（％）＝（Ｔ４００＋Ｔ４１０＋・・・・＋Ｔ６９０＋Ｔ７００）／３１
ここで、例えばＴ４００は光波長４００ｎｍにおける分光透過率の値（％）、Ｔ４１０は光波長４１０ｎｍにおける分光透過率の値（％）等々、をそれぞれ示す。
【0051】
（１．５）屈折率
「屈折率」とは、物質中の光の速度に対する真空中の光の速度の比の値すなわち（真空中の光の速度）／（物質中の光の速度）の値であり、物質中での光の進み方を記述する上での指標である。
物質中の光の速度は、当該光の波長により変化することから、屈折率も光の波長により変化する。
本明細書に記載する屈折は、特に断りがない限り、ヘリウムのｄ線（波長５８７．５６ｎｍ）に対する屈折率である。
なお、本発明に係る屈折率は、室温（２５℃）における測定値である。
なお、物質の屈折率は、光が入射したとき、光の反射、吸収、及び透過に影響及ぼす重要な支配因子である。
したがって、遮光膜や多層反射防止膜を構成する各層の成膜材料の屈折率は、光反射防止性に大きく関わってくる。
「屈折率」とは、物質中の光の速度に対する真空中の光の速度の比の値すなわち（真空中の光の速度）／（物質中の光の速度）の値であり、物質中での光の進み方を記述する上での指標である。
物質中の光の速度は、当該光の波長により変化することから、屈折率も光の波長により変化する。
本明細書に記載する屈折は、特に断りがない限り、ヘリウムのｄ線（波長５８７．５６ｎｍ）に対する屈折率である。
なお、本発明に係る屈折率は、室温（２５℃）における測定値である。
なお、物質の屈折率は、光が入射したとき、光の反射、吸収、及び透過に影響及ぼす重要な支配因子である。
したがって、遮光膜や多層反射防止膜を構成する各層の成膜材料の屈折率は、光反射防止性に大きく関わってくる。
【0052】
本発明に係る遮光膜又は反射防止膜に用いる材料の屈折率は、１．３３～２．５の範囲であることが好ましい。
上記範囲内の屈折率を有する成膜材料としては、例えば前記遮光層及び隣接層等において用いられるＢｌａｃｋＡ、ＭｇＦ２、ＹＦ３、ＳｉＯ２、ＡｌＦ２、Ｈ４（ＬａＴｉＯ３）、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＴｉＯ４等が挙げられる。
上記範囲内の屈折率を有する成膜材料としては、例えば前記遮光層及び隣接層等において用いられるＢｌａｃｋＡ、ＭｇＦ２、ＹＦ３、ＳｉＯ２、ＡｌＦ２、Ｈ４（ＬａＴｉＯ３）、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＴｉＯ４等が挙げられる。
【0053】
２．多層反射防止膜
本発明の多層反射防止膜は、遮光膜を備えた多層反射防止膜であって、前記遮光膜として、前述の本発明の遮光膜を備え、かつ、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することを特徴とする。
本発明の多層反射防止膜は、１層以上であることが好ましく、基板上に形成されていることが好ましい。
具体的には、２層以上で構成される遮光膜を備え、少なくとも光干渉層を有し、その構成として、少なくとも１層の低屈折率層と、少なくとも１層の高屈折率層とを有し、前記基板から最も遠い最上層が前記低屈折率層であることが好ましい。
本発明の多層反射防止膜は、遮光膜を備えた多層反射防止膜であって、前記遮光膜として、前述の本発明の遮光膜を備え、かつ、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することを特徴とする。
本発明の多層反射防止膜は、１層以上であることが好ましく、基板上に形成されていることが好ましい。
具体的には、２層以上で構成される遮光膜を備え、少なくとも光干渉層を有し、その構成として、少なくとも１層の低屈折率層と、少なくとも１層の高屈折率層とを有し、前記基板から最も遠い最上層が前記低屈折率層であることが好ましい。
【0054】
ここで、本発明においては、「低屈折率層」とは屈折率が１．６より小さい成膜材料を用いることにより形成された層をいい、高屈折率層とは屈折率が１．９以上の成膜材料を用いることにより形成された層をいう。
【0055】
層数に関しては特に制限されるものではないが、３０層以内であることが、高い生産性を維持して光干渉層を得る観点から好ましい。
すなわち、積層数は、要求される光学性能によるが、おおむね２～２６層程度の積層をすることで、可視光域全体の反射率を低下させることができ、上限数としては３０層以下であることが、膜の応力が大きくなって膜が剥がれたりすることを防止できる点で好ましい。
すなわち、積層数は、要求される光学性能によるが、おおむね２～２６層程度の積層をすることで、可視光域全体の反射率を低下させることができ、上限数としては３０層以下であることが、膜の応力が大きくなって膜が剥がれたりすることを防止できる点で好ましい。
【0056】
本発明に係る多層反射防止膜は種々の形態があり、そのうちの一つである表面反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図を図２に示す。
【0057】
なお、本発明において「表面」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面」のことであり、「表面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
【0058】
図２に示す多層反射防止膜の構成においては、光干渉層は遮光膜上に形成され、表面から入射する光の反射を防止する役割を果たすための層であり、この層を有することで本発明の多層反射防止膜の性能がより高まる。
【0059】
（２．１）光干渉層
本発明の多層反射防止膜は、遮光膜を備えており、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することが光反射防止性の観点から好ましい。
本発明に係る「光干渉層」とは、積層された各層の界面からの反射光同士の干渉作用（各層からの反射波が干渉によって、互いに打消し合う作用）を利用して、反射光すなわち各層で反射した反射光の合成光を低減させる機能を有する層をいう。
当該光干渉層の構成としては、種々の態様の構成を採り得るが、屈折率が異なる層、例えば低屈折率層と高屈折率層を交互に積層した構成であることが好ましい。
本発明の多層反射防止膜は、遮光膜を備えており、少なくとも一つの前記遮光層に接する層上に少なくとも光干渉層を有することが光反射防止性の観点から好ましい。
本発明に係る「光干渉層」とは、積層された各層の界面からの反射光同士の干渉作用（各層からの反射波が干渉によって、互いに打消し合う作用）を利用して、反射光すなわち各層で反射した反射光の合成光を低減させる機能を有する層をいう。
当該光干渉層の構成としては、種々の態様の構成を採り得るが、屈折率が異なる層、例えば低屈折率層と高屈折率層を交互に積層した構成であることが好ましい。
【0060】
本発明に係る光干渉層に用いられる成膜材料としては、酸化物も用いることができ、例えばＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｌａ、Ａｌ、Ｓｉ、及びＨｆなどの酸化物、又はこれらを組み合わせた酸化化合物が挙げられる。
また、酸化物以外の化合物である成膜材料も用いることができ、例えばＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ等が挙げられる。
本発明に係る光干渉層は、上記のような異なる成膜材料を複数層積み重ねることで、可視光域全体の反射率を低下させた機能を付加することができる。
また、酸化物以外の化合物である成膜材料も用いることができ、例えばＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＣｅＦ３、ＺｎＳ等が挙げられる。
本発明に係る光干渉層は、上記のような異なる成膜材料を複数層積み重ねることで、可視光域全体の反射率を低下させた機能を付加することができる。
【0061】
本発明に係る光干渉層の厚さ（複数層積層した場合の全体の厚さ）は、好ましくは、５０～３０００ｎｍの範囲内である。厚さが５０ｎｍ以上であれば、反射防止の光学特性を発揮させることができ、厚さが３０００ｎｍ以下であれば、多層膜自体の膜応力による面変形が発生するのを防止することができる。
好ましくは、６０～２０００ｎｍの範囲内である。
好ましくは、６０～２０００ｎｍの範囲内である。
【0062】
（２．２）分光特性の調整層
前記多層反射防止膜が、前記遮光層に接する層と前記光干渉層の間に遮光性及び光反射防止性の観点から分光特性の調整層を設けてもよい。
前記多層反射防止膜が、前記遮光層に接する層と前記光干渉層の間に遮光性及び光反射防止性の観点から分光特性の調整層を設けてもよい。
【0063】
本発明に係る多層反射防止膜の種々の形態の中の、裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の構成を表した一例の概念図を図３に示す。
【0064】
なお、本発明において「裏面」とは、「遮光膜から見て基材側の面」のことであり、「裏面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
【0065】
図３に示す多層反射防止膜の構成においては、分光特性の調整層は光干渉層と遮光膜との間に形成され、光干渉層の機能を維持し、遮光膜の裏面反射防止のための調整層である。
【0066】
本発明に係る多層反射防止膜の効果をより高めるためには、遮光膜の両面にて光反射防止効果をもつ層が形成されていることが好ましい。
基材の両側に多層反射防止膜を有した光学部材の一例の概念図を図４（ａ）に示す。
基材の両側に多層反射防止膜を有した光学部材の一例の概念図を図４（ａ）に示す。
【0067】
本発明の多層反射防止膜においては、図４（ａ）のような層構成をとることにより、遮光性と光反射防止性がより高まるが、図４（ｂ）のように、遮光層に接する層と前記光干渉層の間に遮光性及び光反射防止性の観点から分光特性の調整層を設けてもよい。
【0068】
図４（ｂ）のような構成とすることにより、表面から入射する光の反射を防止する役割と光干渉層の機能を維持し、より高める役割を同時に満たす多層反射防止膜となり、より発明の効果を高めることができる。
【0069】
（２．３）平均分光反射率
前記多層反射防止膜の４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光反射率が、２％以下であることが光反射防止性の観点から好ましい。
ここで、「反射率（ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）」とは、与えられた条件において、入射した放射束又は光束に対する、反射した放射束又は光束の比率のことをいい（新編色彩化学ハンドブック第２版 日本色彩学会編 ２２２頁）、単位は「１」である。
ただし、本発明における「分光反射率」とは、上記「反射率」の定義において、特定波長の光に対する反射率（％）をいう。
また、本発明に係る「平均分光反射率」とは、分光波長４００～７００ｎｍの範囲内において測定した各波長における分光反射率の平均値をいう。
前記多層反射防止膜の４００～７００ｎｍの波長領域内における平均分光反射率が、２％以下であることが光反射防止性の観点から好ましい。
ここで、「反射率（ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）」とは、与えられた条件において、入射した放射束又は光束に対する、反射した放射束又は光束の比率のことをいい（新編色彩化学ハンドブック第２版 日本色彩学会編 ２２２頁）、単位は「１」である。
ただし、本発明における「分光反射率」とは、上記「反射率」の定義において、特定波長の光に対する反射率（％）をいう。
また、本発明に係る「平均分光反射率」とは、分光波長４００～７００ｎｍの範囲内において測定した各波長における分光反射率の平均値をいう。
【0070】
本発明に係る多層反射防止膜においては、光が表面から入射する場合と裏面から入射する場合があり得ることから、実施例においては、分光反射率は、表面分光反射率と裏面分光反射率との両方の測定値について必要に応じて算出した。
具体的には、オリンパス社製顕微分光測定機ＵＳＰＭ－ＲＵ ＩＩＩにて分光反射率を測定し、分光波長４００～７００ｎｍの波長領域における１０ｎｍおきで３１点の分光反射率の平均値とする。
平均分光反射率の値は下記式（１）のようにして求める。
具体的には、オリンパス社製顕微分光測定機ＵＳＰＭ－ＲＵ ＩＩＩにて分光反射率を測定し、分光波長４００～７００ｎｍの波長領域における１０ｎｍおきで３１点の分光反射率の平均値とする。
平均分光反射率の値は下記式（１）のようにして求める。
【0071】
式（１） 平均分光反射率（％）＝（Ｒ４００＋Ｒ４１０＋・・・・＋Ｒ６９０＋Ｒ７００）／３１
【0072】
ここで、例えばＲ４００は光波長４００ｎｍにおける分光反射率の値（％）、Ｒ４１０は光波長４１０ｎｍにおける分光反射率の値（％）等々、をそれぞれ示す。
【0073】
３．設計値と実測値との乖離
本発明では、前述のように外部から遮光層への酸素の移動を防ぐことにより、遮光層の成分を光学的に安定化させることから、遮光膜及び多層反射防止膜の理想的な光学的特性の設計値と製造後に実際に使用した際の実測値との乖離幅を小さく抑えることができる。
本発明では、前述のように外部から遮光層への酸素の移動を防ぐことにより、遮光層の成分を光学的に安定化させることから、遮光膜及び多層反射防止膜の理想的な光学的特性の設計値と製造後に実際に使用した際の実測値との乖離幅を小さく抑えることができる。
【0074】
（３．１）分光反射率の値の乖離
分光反射率において、あらかじめ設定しておいた設計値と実際に測定した実測値との乖離幅が小さければ、酸素の影響が減少し化学的に安定であることがわかり、その結果として光反射防止効果に優れていることがわかる。
分光反射率において、あらかじめ設定しておいた設計値と実際に測定した実測値との乖離幅が小さければ、酸素の影響が減少し化学的に安定であることがわかり、その結果として光反射防止効果に優れていることがわかる。
【0075】
設計値と実測値との乖離幅が大きいかどうかの判断は、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光反射率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占めるかどうかにより行った。
【0076】
分光反射率の設計値は、薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出し、反射率Ｔａｒｇｅｔ（４００～７００ｎｍ ０．５％に設定）を入力し、ニードル法に基づき膜構成と膜厚を最適化することにより算出される。
【0077】
また、分光反射率の実測値は、オリンパス社製顕微分光測定機ＵＳＰＭ－ＲＵ ＩＩＩを用いて、法線方向からの光入射に対する分光反射率を測定することにより算出される。
【0078】
図５は、成膜材料にＢｌａｃｋＡを用いたとき、従来の遮光膜に必要とされる分光反射率の値Ｒｒｅｆと、本発明の遮光膜の分光反射率の実測値Ｄｒｅｆとの関係を表す概念図である。
【0079】
すなわち、本発明の遮光膜における分光反射率の実測値Ｄｒｅｆは、４００～７００ｎｍの範囲内の光波長においては、図５に示すグラフ形状によって従来の遮光膜に必要とされる分光反射率の値Ｒｒｅｆを下回る。
【0080】
（３．２）分光透過率の値の乖離
分光透過率において、あらかじめ設定しておいた設計値との乖離幅が小さければ、酸素の影響が減少し化学的に安定であることがわかり、その結果として光反射防止効果に優れていることがわかる。
分光透過率において、あらかじめ設定しておいた設計値との乖離幅が小さければ、酸素の影響が減少し化学的に安定であることがわかり、その結果として光反射防止効果に優れていることがわかる。
【0081】
設計値と実測値との乖離幅が大きいかどうかの判断は、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光透過率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占めるかどうかにより行った。
【0082】
分光透過率の設計値は、薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出し、透過率Ｔａｒｇｅｔ（４００～７００ｎｍ ０．５％に設定）を入力し、ニードル法に基づき膜構成と膜厚を最適化することにより算出される。
【0083】
また、分光透過率の実測値は、分光光度計Ｕ４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定することにより算出される。
【0084】
図６は、成膜材料にＢｌａｃｋＡを用いたとき、従来の遮光膜に必要とされる分光透過率の値Ｒｔｒａと、本発明の遮光膜の分光透過率の実測値Ｄｔｒａとの関係を表す概念図である。
【0085】
すなわち、本発明の遮光膜における分光透過率の実測値Ｄｔｒａは、４００～７００ｎｍの範囲内の光波長においては、図５に示すグラフ形状によって従来の遮光膜に必要とされる分光透過率の値Ｒｔｒａを下回る。
【0086】
４．光学部材
本発明の光学部材は、基材上に、少なくとも遮光膜を備えた光学部材であって、前記遮光膜として、前述の本発明の遮光膜を備えていることを特徴とする。
本発明の光学部材は、基材上に、少なくとも遮光膜を備えた光学部材であって、前記遮光膜として、前述の本発明の遮光膜を備えていることを特徴とする。
【0087】
前記光学部材は、前記遮光膜上に、光干渉層が形成されていることが光反射防止性の観点から好ましい。
前記光学部材が、前記基材と前記遮光膜との間に、光干渉層が形成されていることが光反射防止性の観点から好ましい。
本発明の光学部材は、携帯カメラ、カメラ光学系の遮光部材用途に用いることが好ましい。
本発明の光学部材としては、例えば前述した図１～図４のような層構成を有する光学部材が挙げられる。
本発明に係る基材としては、制限はないが、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びポリエステル樹脂等の樹脂が挙げられる。
前記光学部材が、前記基材と前記遮光膜との間に、光干渉層が形成されていることが光反射防止性の観点から好ましい。
本発明の光学部材は、携帯カメラ、カメラ光学系の遮光部材用途に用いることが好ましい。
本発明の光学部材としては、例えば前述した図１～図４のような層構成を有する光学部材が挙げられる。
本発明に係る基材としては、制限はないが、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びポリエステル樹脂等の樹脂が挙げられる。
【0088】
５．遮光膜及び多層反射防止膜の製造方法
本発明の遮光膜の製造方法は、前述の遮光膜を製造する製造方法であって、前記遮光層を、アルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することが好ましい。
また、本発明の多層反射防止膜の製造方法は、前述の本発明の多層反射防止膜を製造する多層反射防止膜の製造方法であって、前記遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することが好ましい。
本発明の遮光膜の製造方法は、前述の遮光膜を製造する製造方法であって、前記遮光層を、アルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することが好ましい。
また、本発明の多層反射防止膜の製造方法は、前述の本発明の多層反射防止膜を製造する多層反射防止膜の製造方法であって、前記遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することが好ましい。
【0089】
（５．１）遮光膜及び多層反射防止膜の製造における各構成層の形成方法
本発明の遮光膜は、不活性ガスとしてアルゴンガス又は窒素ガスを用いて、遮光層をアルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することにより好適に製造される。
前記多層反射防止膜の製造工程が、遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することにより、前記多層反射防止膜が好適に製造される。
本発明の遮光膜は、不活性ガスとしてアルゴンガス又は窒素ガスを用いて、遮光層をアルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下にて、クロム及び二酸化ケイ素の混合物を成膜して形成することにより好適に製造される。
前記多層反射防止膜の製造工程が、遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜上に少なくとも光干渉層を積層する工程を有することにより、前記多層反射防止膜が好適に製造される。
【0090】
前述した遮光層、遮光層に接する層、光干渉層及び分光特性の調整層の各層を基材上に形成する方法としては、公知の各種の方法を用いることができるが、スパッタリング法（例えば、マグネトロンカソードスパッタリング、平板マグネトロンスパッタリング、２極ＡＣ平板マグネトロンスパッタリング、２極ＡＣ回転マグネトロンスパッタリングなど、反応性スパッタ法を含む。）、蒸着法（例えば、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、イオンビーム蒸着、プラズマ支援蒸着、及びＩＡＤ法を用いる真空蒸着など）、熱ＣＶＤ法、触媒化学気相成長法（Ｃａｔ－ＣＶＤ）、容量結合プラズマＣＶＤ法（ＣＣＰ－ＣＶＤ）、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法（ＰＥ－ＣＶＤ）、エピタキシャル成長法、原子層成長法等の化学蒸着法等によって層形成することが好ましい。
【0091】
本発明の遮光膜及び多層反射防止膜の製造時に用いられる成膜材料は、前述のとおりであるが、成膜材料として金属フッ化物（例えばＭｇＦ２、ＡｌＦ２、ＮｄＦ３、ＬａＦ３、ＹＦ３、ＧｄＦ３、ＹｂＦ３、ＰｂＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４及びＣｅＦ３等）を用いる場合、成膜時に、イオン照射により金属フッ化物が分解するため、ＩＡＤ法等を用いないことが好ましい。
【0092】
各層の形成条件として真空蒸着法を採用する場合は、チャンバー内の減圧度が、通常１×１０－４～１×１０－１Ｐａ、好ましくは１×１０－３～３×１０－２Ｐａの範囲にし、成膜速度が１～１０Å／ｓｅｃの範囲内、具体的には、例えばシンクロン社製ＢＥＳ－１３００ＤＮを用いて、加熱温度：３４０℃、開始真空度１．３３×１０－３Ｐａ及び各成膜材料にあわせた成膜速度で各層を形成することが好ましい。
【0093】
基材上に形成される遮光膜及び多層反射防止膜の形態としては、例えば図１～図４に示す形態が挙げられ、前述の「（５．１）遮光膜及び多層反射防止膜の製造における各構成層の形成方法」に従って基材側から順に遮光膜及び多層反射防止膜の各層が形成される。
【0094】
遮光膜及び多層反射防止膜の各層の形成時には、使用する蒸着装置の蒸着源に適宜成膜材料を装填するが、遮光層の形成時には、使用する蒸着装置の蒸着源にクロム及び二酸化ケイ素を含有する成膜材料を装填し、遮光層に接する層の形成時には、使用する蒸着装置の蒸着源に酸化物以外の化合物を含有する成膜材料を装填する。
【0095】
（５．２）製造工程の流れ
図７は、遮光膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図８は、表面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図９は、裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図１０は、表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートである。
図７は、遮光膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図８は、表面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図９は、裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートであり、図１０は、表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜の製造工程の流れの一例を表すフローチャートである。
【0096】
すなわち、図１の遮光膜を作製する製造工程の流れを図７は表しており、図２の多層反射防止膜を作製する製造工程の流れを図８は表しており、図３の多層反射防止膜を作製する製造工程の流れを図９は表している。
なお、図１０においては、表面反射防止用の光干渉層の形成をするＤ１から裏面反射防止用の分光特性の調整層を形成するＤ２までの工程は一括工程ではなく、Ｄ１とＤ２との間には、一旦成膜装置から形成中の多層反射防止膜を取り出し、大気下にて遮光膜成膜用のマスク治具に光学部材をセットする工程があり、Ｄ３からは光学部材を成膜装置に戻して再び成膜を始める。
なお、図１０においては、表面反射防止用の光干渉層の形成をするＤ１から裏面反射防止用の分光特性の調整層を形成するＤ２までの工程は一括工程ではなく、Ｄ１とＤ２との間には、一旦成膜装置から形成中の多層反射防止膜を取り出し、大気下にて遮光膜成膜用のマスク治具に光学部材をセットする工程があり、Ｄ３からは光学部材を成膜装置に戻して再び成膜を始める。
【0097】
（５．３）蒸着装置
図１１は、真空蒸着装置の一例を示す模式図である。
真空蒸着装置１は、チャンバー２内にドーム３を具備し、ドーム３に沿って基板４が配置される。
蒸着源５は蒸着物質を蒸発させる電子銃、又は抵抗加熱装置を具備し、蒸着源５から蒸着物質６が、基板４に向けて飛散し、基板４上で凝結、固化する。
ＩＡＤ法を用いる場合は、その際、ＩＡＤイオンソース７より基板に向けてイオンビーム８を照射し、成膜中にイオンの持つ高い運動エネルギーを作用させて緻密な膜としたり、膜の密着力を高めたりする。
ここで基板４は、一例としてガラスが挙げられる。
図１１は、真空蒸着装置の一例を示す模式図である。
真空蒸着装置１は、チャンバー２内にドーム３を具備し、ドーム３に沿って基板４が配置される。
蒸着源５は蒸着物質を蒸発させる電子銃、又は抵抗加熱装置を具備し、蒸着源５から蒸着物質６が、基板４に向けて飛散し、基板４上で凝結、固化する。
ＩＡＤ法を用いる場合は、その際、ＩＡＤイオンソース７より基板に向けてイオンビーム８を照射し、成膜中にイオンの持つ高い運動エネルギーを作用させて緻密な膜としたり、膜の密着力を高めたりする。
ここで基板４は、一例としてガラスが挙げられる。
【0098】
チャンバー２の底部には、複数の蒸着源５が配置されうる。
ここでは、蒸着源５として１個の蒸着源を示しているが、蒸着源５の個数は複数あってもよい。
蒸着源５の成膜材料（蒸着材料）を電子銃によって蒸着物質６を発生させ、チャンバー２内に設置される基板４（例えばガラス板）に成膜材料を飛散、付着させることにより、成膜材料からなる層が基板４上に成膜される。
ここでは、蒸着源５として１個の蒸着源を示しているが、蒸着源５の個数は複数あってもよい。
蒸着源５の成膜材料（蒸着材料）を電子銃によって蒸着物質６を発生させ、チャンバー２内に設置される基板４（例えばガラス板）に成膜材料を飛散、付着させることにより、成膜材料からなる層が基板４上に成膜される。
【0099】
また、チャンバー２には、図示しない真空排気系が設けられており、これによってチャンバー２内が真空引きされる。
チャンバー内の減圧度は、通常１×１０－４～１×１０－１Ｐａ、好ましくは１×１０－３～３×１０－２Ｐａの範囲である。
チャンバー内の減圧度は、通常１×１０－４～１×１０－１Ｐａ、好ましくは１×１０－３～３×１０－２Ｐａの範囲である。
【0100】
ドーム３は、基板４を保持するホルダー（不図示）を、少なくとも１個保持するものであり、蒸着傘とも呼ばれる。
このドーム３は、断面円弧状であり、円弧の両端を結ぶ弦の中心を通り、その弦に垂直な軸を回転対称軸として回転する回転対称形状となっている。
ドーム３が軸を中心に例えば一定速度で回転することにより、ホルダーを介してドーム３に保持された基板４は、軸の周りに一定速度で公転する。
このドーム３は、断面円弧状であり、円弧の両端を結ぶ弦の中心を通り、その弦に垂直な軸を回転対称軸として回転する回転対称形状となっている。
ドーム３が軸を中心に例えば一定速度で回転することにより、ホルダーを介してドーム３に保持された基板４は、軸の周りに一定速度で公転する。
【0101】
このドーム３は、複数のホルダーを回転半径方向（公転半径方向）及び回転方向（公転方向）に並べて保持することが可能である。
これにより、複数のホルダーによって保持された複数の基板４上に同時に成膜することが可能となり、素子の製造効率を向上させることができる。
これにより、複数のホルダーによって保持された複数の基板４上に同時に成膜することが可能となり、素子の製造効率を向上させることができる。
【0102】
ＩＡＤイオンソース７は、本体内部にアルゴンガスや酸素ガスを導入してこれらをイオン化させ、イオン化されたガス分子（イオンビーム８）を基板４に向けて照射する機器である。
イオン源としては、カウフマン型（フィラメント）、ホローカソード型、ＲＦ型、バケット型、デュオプラズマトロン型等を適用することができる。
ＩＡＤイオンソース７から上記のガス分子を基板４に照射することにより、例えば複数の蒸発源から蒸発する成膜材料の分子を基板４に押し付けることができ、密着性及び緻密性の高い膜を基板４上に成膜することができる。
ＩＡＤイオンソース７は、チャンバー２の底部において基板４に対向するように設置されているが、対向軸からずれた位置に設置されていても構わない。
イオン源としては、カウフマン型（フィラメント）、ホローカソード型、ＲＦ型、バケット型、デュオプラズマトロン型等を適用することができる。
ＩＡＤイオンソース７から上記のガス分子を基板４に照射することにより、例えば複数の蒸発源から蒸発する成膜材料の分子を基板４に押し付けることができ、密着性及び緻密性の高い膜を基板４上に成膜することができる。
ＩＡＤイオンソース７は、チャンバー２の底部において基板４に対向するように設置されているが、対向軸からずれた位置に設置されていても構わない。
【0103】
ＩＡＤ法で用いるイオンビームは、イオンビームスパッタリング法で用いられるイオンビームよりは、低真空度で用いられ、加速電圧も低い傾向にある。
例えば加速電圧が１００～２０００Ｖのイオンビーム、電流密度が１～１２０μＡ／ｃｍ２のイオンビーム、を用いることができる。
成膜工程に用いられるイオンビームは、酸素のイオンビーム、アルゴンのイオンビーム、又は酸素とアルゴンの混合ガスのイオンビームとすることができる。
例えば、酸素ガス導入量３０～６０ｓｃｃｍ、アルゴンガス導入量０～１０ｓｃｃｍの範囲内とすることが好ましい。
例えば加速電圧が１００～２０００Ｖのイオンビーム、電流密度が１～１２０μＡ／ｃｍ２のイオンビーム、を用いることができる。
成膜工程に用いられるイオンビームは、酸素のイオンビーム、アルゴンのイオンビーム、又は酸素とアルゴンの混合ガスのイオンビームとすることができる。
例えば、酸素ガス導入量３０～６０ｓｃｃｍ、アルゴンガス導入量０～１０ｓｃｃｍの範囲内とすることが好ましい。
【0104】
モニターシステム（不図示）は、真空成膜中に各蒸着源５から蒸発して自身に付着する層を監視することにより、基板４上に成膜される層の波長特性を監視するシステムである。
このモニターシステムにより、基板４上に成膜される層の光学特性（例えば分光透過率、分光反射率、光学層厚など）を把握することができる。
また、モニターシステムは、水晶層厚モニターも含んでおり、基板４上に成膜される層の物理層厚を監視することもできる。
このモニターシステムは、層の監視結果に応じて、複数の蒸発源５のＯＮ／ＯＦＦの切り替えやＩＡＤイオンソース７のＯＮ／ＯＦＦの切り替え等を制御する制御部としても機能する。
このモニターシステムにより、基板４上に成膜される層の光学特性（例えば分光透過率、分光反射率、光学層厚など）を把握することができる。
また、モニターシステムは、水晶層厚モニターも含んでおり、基板４上に成膜される層の物理層厚を監視することもできる。
このモニターシステムは、層の監視結果に応じて、複数の蒸発源５のＯＮ／ＯＦＦの切り替えやＩＡＤイオンソース７のＯＮ／ＯＦＦの切り替え等を制御する制御部としても機能する。
【実施例0105】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。
【0106】
（光学部材形成の概要と成膜材料及び成膜条件）
蒸着装置ＢＥＳ－１３００ＤＮ（シンクロン社製）を用いて、ガラス基材としてＨ－ＺＦ５２ＧＴ（ｎｄ＝１．８４６７、成都光明社製）を用いて、基材の一方の面上に、各層を基材側から順に形成することにより各種の光学部材を形成した。
蒸着装置ＢＥＳ－１３００ＤＮ（シンクロン社製）を用いて、ガラス基材としてＨ－ＺＦ５２ＧＴ（ｎｄ＝１．８４６７、成都光明社製）を用いて、基材の一方の面上に、各層を基材側から順に形成することにより各種の光学部材を形成した。
【0107】
（層厚の測定）
上記各層の層厚は以下の方法によって測定した。
上記各層の層厚は以下の方法によって測定した。
【0108】
（１）あらかじめ基材上に、測定する層を１／４λ（λ＝５５０ｎｍ）の層厚で成膜し、分光反射率を測定しておく。
【0109】
（２）前記（１）で形成した層に下記表Iに示す成膜条件で各層を成膜し、分光反射率を測定して、その変化量から当該層の屈折率と層厚を計算する。
実施例で用いた成膜材料は以下のとおりである。
実施例で用いた成膜材料は以下のとおりである。
【0110】
（成膜材料）
（１）ＢｌａｃｋＡ ｐｏｗｄｅｒ ｌｅｓｓ ｔｈａｎ ０．３ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、Ｃｒ〔４５％〕＋ＳｉＯ２〔５０～６０％〕の混合物、以下製品名を「ＢｌａｃｋＡ」と表記する。）
（２）Ｍａｇｎｅｓｉｕｍ ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ １－２．５ｍｍ（ＭｇＦ２）Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、以下製品名を「ＭｇＦ２」と表記する。）
（３）Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ Ｈ４ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ ０．１－２ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、ＬａＴｉＯ３〔９９％〕、以下製品名を「Ｈ４」と表記する。）
（４）ＹＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（５）Ｓｉｌｉｃｏｎ ｄｉｏｘｉｄｅ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ １－４ｍｍ（ＳｉＯ２）Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、以下製品名を「ＳｉＯ２」と表記する。）
（６）ＡｌＦ２（Ｍｅｒｃｋ社製）
（７）ＮｄＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（８）ＬａＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（９）ＧｄＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１０）ＹｂＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１１）ＰｂＦ２（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１２）Ｎａ３ＡｌＦ６（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１３）Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１４）ＣｅＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１５）ＺｎＳ（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１６）Ａｌ２Ｏ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１７）ＺｒＴｉＯ４（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１）ＢｌａｃｋＡ ｐｏｗｄｅｒ ｌｅｓｓ ｔｈａｎ ０．３ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、Ｃｒ〔４５％〕＋ＳｉＯ２〔５０～６０％〕の混合物、以下製品名を「ＢｌａｃｋＡ」と表記する。）
（２）Ｍａｇｎｅｓｉｕｍ ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ １－２．５ｍｍ（ＭｇＦ２）Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、以下製品名を「ＭｇＦ２」と表記する。）
（３）Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ Ｈ４ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ ０．１－２ｍｍ Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、ＬａＴｉＯ３〔９９％〕、以下製品名を「Ｈ４」と表記する。）
（４）ＹＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（５）Ｓｉｌｉｃｏｎ ｄｉｏｘｉｄｅ ｇｒａｎｕｌｅｓ ａｂｏｕｔ １－４ｍｍ（ＳｉＯ２）Ｐａｔｉｎａｌ（Ｍｅｒｃｋ社製、以下製品名を「ＳｉＯ２」と表記する。）
（６）ＡｌＦ２（Ｍｅｒｃｋ社製）
（７）ＮｄＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（８）ＬａＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（９）ＧｄＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１０）ＹｂＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１１）ＰｂＦ２（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１２）Ｎａ３ＡｌＦ６（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１３）Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１４）ＣｅＦ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１５）ＺｎＳ（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１６）Ａｌ２Ｏ３（Ｍｅｒｃｋ社製）
（１７）ＺｒＴｉＯ４（Ｍｅｒｃｋ社製）
【0111】
まず、表Iに各成膜材料を用いて各層を形成したときの成膜条件を示す。
表Iにおいては、例えば成膜材料として各層の形成時にＡｌＦ２を用いた場合には、表Ｉに示す＜条件（ＡｌＦ２）＞にて各層を形成し、ＹｂＦ３を用いた場合には、表Ｉに示す＜条件（ＹｂＦ３）＞にて各層を形成する。
以下、実施例の記載において、「基材から数えて～層目の層」の記載を「第～層」と表記するものとする。
例えば「基材から数えて３層目の層」の記載は「第３層」とする。
表Iにおいては、例えば成膜材料として各層の形成時にＡｌＦ２を用いた場合には、表Ｉに示す＜条件（ＡｌＦ２）＞にて各層を形成し、ＹｂＦ３を用いた場合には、表Ｉに示す＜条件（ＹｂＦ３）＞にて各層を形成する。
以下、実施例の記載において、「基材から数えて～層目の層」の記載を「第～層」と表記するものとする。
例えば「基材から数えて３層目の層」の記載は「第３層」とする。
【0112】
【表1】
【0113】
（遮光膜の分光反射率及び分光透過率の設計値と実測値の乖離幅の確認）
実施例における光学部材の作製の前に、まず、遮光膜の形成時に、遮光層に接する層が酸化物を含有する場合と酸化物以外を含有する場合とで、分光反射率及び分光透過率の設計値と実測値に与える影響を確かめるため、以下の手順によりサンプル用光学部材Ａ１、Ａ２及びＡ３を作製した。
上記のサンプル用光学部材としては、図１の層構成によるものを作製した。
実施例における光学部材の作製の前に、まず、遮光膜の形成時に、遮光層に接する層が酸化物を含有する場合と酸化物以外を含有する場合とで、分光反射率及び分光透過率の設計値と実測値に与える影響を確かめるため、以下の手順によりサンプル用光学部材Ａ１、Ａ２及びＡ３を作製した。
上記のサンプル用光学部材としては、図１の層構成によるものを作製した。
【0114】
（１）各サンプル用光学部材の作製
前記表Iに示した成膜条件に従って下記各種光学部材を作製した。
［サンプル用光学部材Ａ１の作製］
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層上に厚さが１１４ｎｍの酸化物以外の化合物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ１を作製した。
前記表Iに示した成膜条件に従って下記各種光学部材を作製した。
［サンプル用光学部材Ａ１の作製］
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層上に厚さが１１４ｎｍの酸化物以外の化合物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ１を作製した。
【0115】
［サンプル用光学部材Ａ２の作製］
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（ＳｉＯ２）＞にて、遮光層上に厚さが１８８ｎｍの酸化物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ２を作製した。
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（ＳｉＯ２）＞にて、遮光層上に厚さが１８８ｎｍの酸化物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ２を作製した。
【0116】
［サンプル用光学部材Ａ３の作製］
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞にて、遮光層上に厚さが１１４ｎｍの酸化物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ３を作製した。
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍのクロム及び二酸化ケイ素を含有する遮光層を形成した。
次に、前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞にて、遮光層上に厚さが１１４ｎｍの酸化物を含有する層（遮光層に接する層）を形成することによりサンプル用光学部材Ａ３を作製した。
【0117】
（２）設計値と実測値の乖離幅
上記により得られたサンプル用光学部材Ａ１～Ａ３について、光波長４００～７００ｎｍの範囲内における分光反射率と分光透過率の設計値及び実測値を算出した。
サンプル用光学部材Ａ１～Ａ３の分光反射率をグラフ化したものを図１２に示す。
上記により得られたサンプル用光学部材Ａ１～Ａ３について、光波長４００～７００ｎｍの範囲内における分光反射率と分光透過率の設計値及び実測値を算出した。
サンプル用光学部材Ａ１～Ａ３の分光反射率をグラフ化したものを図１２に示す。
【0118】
なお、分光透過率に関しては、各光学部材で設計値と実測値との乖離幅がほぼ見られなかったことからグラフについては省略する。
【0119】
図１２を見てわかるように、分光反射率に関しては、サンプル用光学部材Ａ１の方がサンプル用光学部材Ａ２及びＡ３よりも設計値と実測値との乖離幅が小さく、このことにより酸化物以外の化合物を遮光層に接する層に含有している光学部材が、酸化物を遮光層に接する層に含有している光学部材よりも酸素の影響が減少し化学的に安定で、その結果として光反射防止効果に優れていることがわかる。
【0120】
Ａ.遮光膜を備えた光学部材の作製
［光学部材Ｎｏ．１の作製］
（Ａ．１）遮光膜の形成
（Ａ．１．１）遮光層（第１層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
［光学部材Ｎｏ．１の作製］
（Ａ．１）遮光膜の形成
（Ａ．１．１）遮光層（第１層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0121】
（Ａ．１．２）遮光層に接する層（第２層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１層）上に厚さが８１．２ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１層）上に厚さが８１．２ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0122】
（Ａ．２）光学部材の作製
上記の工程により表IIに示す層構成にて形成された遮光膜を備えた光学部材Ｎｏ．１を作製した。
上記の工程により表IIに示す層構成にて形成された遮光膜を備えた光学部材Ｎｏ．１を作製した。
【0123】
［光学部材Ｎｏ．２及び３の作製］
第１層と第２層の成膜材料及び層厚を表IIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Iの条件を適用して光学部材Ｎｏ．２及び３を作製した。
第１層と第２層の成膜材料及び層厚を表IIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Iの条件を適用して光学部材Ｎｏ．２及び３を作製した。
【0124】
【表2】
【0125】
Ｂ．表面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材の作製
前述のように、本発明において「表面」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面」のことであり、「表面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
前述のように、本発明において「表面」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面」のことであり、「表面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側と逆側の面から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
【0126】
［光学部材Ｎｏ．４の作製］
（Ｂ．１）遮光膜の形成
（Ｂ．１．１）遮光層（第１層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
（Ｂ．１）遮光膜の形成
（Ｂ．１．１）遮光層（第１層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、基材上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0127】
（Ｂ．１．２）遮光層に接する層（第２層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0128】
（Ｂ．２）多層反射防止膜の形成
（Ｂ．２．１）光干渉層（第３層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表IIIの層順に従って適用し、遮光層に接する層（第２層）上に各層を形成することにより、光干渉層を形成した。
（Ｂ．２．１）光干渉層（第３層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表IIIの層順に従って適用し、遮光層に接する層（第２層）上に各層を形成することにより、光干渉層を形成した。
【0129】
（Ｂ．３）光学部材の作製
上記の工程により表IIIに示す層構成にて形成された表面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．４を作製した。
上記の工程により表IIIに示す層構成にて形成された表面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．４を作製した。
【0130】
［光学部材Ｎｏ．５の作製］
［光学部材Ｎｏ．４の作製］における（Ｂ．１．１）遮光層（第１層）の形成において、前記表Ｉに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞を＜条件（ＢｌａｃｋＡ：Ａｒ）＞とし、遮光層の形成時に不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを導入したこと以外は、第１層～第８層（遮光層、遮光層に接する層及び光干渉層）の成膜材料及び層厚を表IIIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Ｉの条件を適用して光学部材Ｎｏ．５を作製した。
上記のように遮光層の形成時に不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを導入することで、遮光膜ＢｌａｃｋＡの酸化が抑制され、遮光層の屈折率と光吸収係数が増大する。
遮光膜の吸収係数が大きくなることより遮光層の膜厚が薄くても同等の透過率が確保でき、光学部材Ｎｏ．４と同等の結果を得ることが可能となった。
なお、上記の作製方法では不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスｒを導入したが、アルゴン（Ａｒ）ガスのかわりに窒素（Ｎ２）ガスを用いたとしても同様の効果を得ることができる。
［光学部材Ｎｏ．４の作製］における（Ｂ．１．１）遮光層（第１層）の形成において、前記表Ｉに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞を＜条件（ＢｌａｃｋＡ：Ａｒ）＞とし、遮光層の形成時に不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを導入したこと以外は、第１層～第８層（遮光層、遮光層に接する層及び光干渉層）の成膜材料及び層厚を表IIIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Ｉの条件を適用して光学部材Ｎｏ．５を作製した。
上記のように遮光層の形成時に不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを導入することで、遮光膜ＢｌａｃｋＡの酸化が抑制され、遮光層の屈折率と光吸収係数が増大する。
遮光膜の吸収係数が大きくなることより遮光層の膜厚が薄くても同等の透過率が確保でき、光学部材Ｎｏ．４と同等の結果を得ることが可能となった。
なお、上記の作製方法では不活性ガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスｒを導入したが、アルゴン（Ａｒ）ガスのかわりに窒素（Ｎ２）ガスを用いたとしても同様の効果を得ることができる。
【0131】
［光学部材Ｎｏ．６～２５の作製］
第１層～第８層（遮光層、遮光層に接する層及び光干渉層）の成膜材料及び層厚を表III～表VIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Iの条件を適用して光学部材Ｎｏ．６～２５を作製した。
第１層～第８層（遮光層、遮光層に接する層及び光干渉層）の成膜材料及び層厚を表III～表VIのように変更し、各成膜材料にあわせて表Iの条件を適用して光学部材Ｎｏ．６～２５を作製した。
【0132】
【表3】
【0133】
【表4】
【0134】
【表5】
【0135】
【表6】
【0136】
Ｃ．裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材の作製
前述のように、本発明において「裏面」とは、「遮光膜から見て基材側の面」のことであり、「裏面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
前述のように、本発明において「裏面」とは、「遮光膜から見て基材側の面」のことであり、「裏面反射防止効果」とは、「遮光膜から見て基材側から入射する光の反射を防止する効果」のことである。
【0137】
［光学部材Ｎｏ．２６の作製］
（Ｃ．１）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．１．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
（Ｃ．１）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．１．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
【0138】
（Ｃ．２）光学部材の作製
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２６を作製した。
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２６を作製した。
【0139】
［光学部材Ｎｏ．２７の作製］
（Ｃ．３）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．３．１）光干渉層（第１層～第７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第７層）を形成した。
（Ｃ．３）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．３．１）光干渉層（第１層～第７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第７層）を形成した。
【0140】
（Ｃ．４）遮光膜の形成
（Ｃ．４．１）遮光層に接する層（第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、第７層上に厚さが９４．１ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
（Ｃ．４．１）遮光層に接する層（第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、第７層上に厚さが９４．１ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0141】
（Ｃ．４．２）遮光層の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0142】
（Ｃ．５）光学部材の作製
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２７を作製した。
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２７を作製した。
【0143】
［光学部材Ｎｏ．２８の作製］
（Ｃ．６）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．６．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
（Ｃ．６）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．６．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
【0144】
（Ｃ．６．２）分光特性の調整層（第９層～第１７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）上に分光特性の調整層（第９層～第１７層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）上に分光特性の調整層（第９層～第１７層）を形成した。
【0145】
（Ｃ．７）遮光膜の形成
（Ｃ．７．１）遮光層に接する層（第１８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１７層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
（Ｃ．７．１）遮光層に接する層（第１８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１７層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0146】
（Ｃ．７．２）遮光層（第１９層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0147】
（Ｃ．８）光学部材の作製
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２８を作製した。
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２８を作製した。
【0148】
［光学部材Ｎｏ．２９の作製］
（Ｃ．９）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．９．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
（Ｃ．９）多層反射防止膜の形成
（Ｃ．９．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
【0149】
（Ｃ．９．２）分光特性の調整層（第９層～第１６層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、第８層上に分光特性の調整層（第９層～第１６層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIの層順に従って適用し、第８層上に分光特性の調整層（第９層～第１６層）を形成した。
【0150】
（Ｃ．１０）遮光膜の形成
（Ｃ．１０．１）遮光層に接する層（第１７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１６層）上に厚さが４０．７ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
（Ｃ．１０．１）遮光層に接する層（第１７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１６層）上に厚さが４０．７ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0151】
（Ｃ．１０．２）遮光層（第１８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１７層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１７層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0152】
（Ｃ．１１）光学部材の作製
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２９を作製した。
上記の工程により表VIIに示す層構成にて形成された裏面反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．２９を作製した。
【0153】
【表7】
【0154】
Ｄ．表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜
［光学部材Ｎｏ．３０の作製］
（Ｄ．１）多層反射防止膜の裏面反射防止効果を有する層の形成
（Ｄ．１．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
その後一旦成膜装置から取り出し、大気下にて遮光膜成膜用のマスク治具に作製途中の光学部材をセットした。
［光学部材Ｎｏ．３０の作製］
（Ｄ．１）多層反射防止膜の裏面反射防止効果を有する層の形成
（Ｄ．１．１）光干渉層（第１層～第８層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）を形成した。
その後一旦成膜装置から取り出し、大気下にて遮光膜成膜用のマスク治具に作製途中の光学部材をセットした。
【0155】
（Ｄ．１．２）分光特性の調整層（第９層～第１７層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）上に分光特性の調整層（第９層～第１７層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、光干渉層（第１層～第８層）上に分光特性の調整層（第９層～第１７層）を形成した。
【0156】
（Ｄ．１．３）分光特性の調整層の形成と一括の工程にて形成される遮光層に接する層（第１８層）の形成
なお、調整層の形成と一括の工程にて、前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１７層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
なお、調整層の形成と一括の工程にて、前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、分光特性の調整層（第９層～第１７層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0157】
（Ｄ．２）遮光膜の形成
（Ｄ．２．１）遮光層に接する層（第１８層）の形成
上記の工程により遮光層に接する層（第１８層）は形成されていることから、次工程として遮光層の形成を始めた。
（Ｄ．２．１）遮光層に接する層（第１８層）の形成
上記の工程により遮光層に接する層（第１８層）は形成されていることから、次工程として遮光層の形成を始めた。
【0158】
（Ｄ．２．２）遮光層（第１９層）の形成
再び成膜装置に上記の層が形成された光学部材を戻した上で、前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
再び成膜装置に上記の層が形成された光学部材を戻した上で、前記表Iに示した＜条件（ＢｌａｃｋＡ）＞にて、遮光層に接する層（第１８層）上に厚さが１５００ｎｍの遮光層を形成した。
【0159】
（Ｄ．２．３）遮光層に接する層（第２０層）の形成
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１９層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
前記表Iに示した＜条件（ＭｇＦ２）＞にて、遮光層（第１９層）上に厚さが８．０ｎｍの層（遮光層に接する層）を形成した。
【0160】
（Ｄ．３）多層反射防止膜の表面反射防止効果を有する層の形成
（Ｄ．３．１）光干渉層（第２１層～第２６層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、遮光層に接する層（第２０層）上に各層を形成することにより、光干渉層を形成した。
（Ｄ．３．１）光干渉層（第２１層～第２６層）の形成
前記表Iに示した＜条件（Ｈ４）＞又は＜条件（ＭｇＦ２）＞を表VIIIの層順に従って適用し、遮光層に接する層（第２０層）上に各層を形成することにより、光干渉層を形成した。
【0161】
（Ｄ．４）光学部材の作製
上記の工程により表VIIIに示す層構成にて形成された表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．３０を作製した。
上記の工程により表VIIIに示す層構成にて形成された表面と裏面の両方の反射防止効果を有する多層反射防止膜を備えた光学部材Ｎｏ．３０を作製した。
【0162】
【表8】
【0163】
≪分光反射率及び分光透過率≫
（１）分光反射率
＜設計値＞
得られた光学部材サンプルＮｏ．１～Ｎｏ．２９の分光反射率の設計値を薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出した。
薄膜設計は、反射率Ｔａｒｇｅｔ（４００～７００ｎｍ ０．５％に設定）を入力し、ニードル法に基づき膜構成と膜厚を最適化した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光反射率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光反射率の設計値を算出した。
（１）分光反射率
＜設計値＞
得られた光学部材サンプルＮｏ．１～Ｎｏ．２９の分光反射率の設計値を薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出した。
薄膜設計は、反射率Ｔａｒｇｅｔ（４００～７００ｎｍ ０．５％に設定）を入力し、ニードル法に基づき膜構成と膜厚を最適化した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光反射率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光反射率の設計値を算出した。
【0164】
＜実測値＞
オリンパス社製顕微分光測定機ＵＳＰＭ－ＲＵ ＩＩＩを用いて、法線方向からの光入射に対する分光反射率を測定した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光反射率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光反射率の実測値を算出した。
オリンパス社製顕微分光測定機ＵＳＰＭ－ＲＵ ＩＩＩを用いて、法線方向からの光入射に対する分光反射率を測定した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光反射率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光反射率の実測値を算出した。
【0165】
＜評価方法＞
上記の各光学部材の設計値と実測値との乖離幅の評価を下記基準にて評価した。
なお、下記基準において、「設計値と実測値との乖離幅が大きい」とは、例えば図１０における光学部材Ａ２及びＡ３のように、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光反射率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占める場合とし、光学部材Ａ１のように、そうではない場合を「設計値と実測値との乖離幅が小さい」と定義する。
上記の各光学部材の設計値と実測値との乖離幅の評価を下記基準にて評価した。
なお、下記基準において、「設計値と実測値との乖離幅が大きい」とは、例えば図１０における光学部材Ａ２及びＡ３のように、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光反射率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占める場合とし、光学部材Ａ１のように、そうではない場合を「設計値と実測値との乖離幅が小さい」と定義する。
【0166】
（評価基準）
○：分光反射率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が小さく、実用上問題ないレベル。
×：分光反射率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が大きく、実用上問題が生じるレベル。
○：分光反射率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が小さく、実用上問題ないレベル。
×：分光反射率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が大きく、実用上問題が生じるレベル。
【0167】
（２）分光透過率
＜設計値＞
得られた光学部材サンプルＮｏ．１～Ｎｏ．２９の分光反射率の設計値を薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光透過率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光透過率の設計値を算出した。
各光学部材の分光透過率値の設計値をグラフ化した。
＜設計値＞
得られた光学部材サンプルＮｏ．１～Ｎｏ．２９の分光反射率の設計値を薄膜計算ソフトＴＦ－ＣＡＬＣ（Ｓｏｔｆｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ）にて算出した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光透過率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光透過率の設計値を算出した。
各光学部材の分光透過率値の設計値をグラフ化した。
【0168】
＜実測値＞
分光光度計Ｕ４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、分光透過率を測定した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光透過率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光透過率の設計値を算出した。
分光光度計Ｕ４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、分光透過率を測定した。
その際、４００～７００ｎｍにおける１０ｎｍ毎の分光透過率値を抽出してグラフ化し、各光学部材の設計値と実測値の乖離幅を評価することにより各光学部材の性能を評価した。
また、同時に前述の計算方法にしたがって、平均分光透過率の設計値を算出した。
【0169】
＜評価方法＞
上記の各光学部材の設計値と実測値との乖離幅の評価を下記基準にて評価した。
なお、下記基準において、「設計値と実測値との乖離幅が大きい」とは、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光透過率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占める場合とし、そうではない場合を「設計値と実測値との乖離幅が小さい」と定義する。
上記の各光学部材の設計値と実測値との乖離幅の評価を下記基準にて評価した。
なお、下記基準において、「設計値と実測値との乖離幅が大きい」とは、光波長４００～７００ｎｍの範囲内において、設計値と実測値をグラフ化したときに両値が分光透過率で１％以上離れている領域がグラフ上の線の５０％以上を占める場合とし、そうではない場合を「設計値と実測値との乖離幅が小さい」と定義する。
【0170】
（評価基準）
○：分光透過率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が小さく、実用上問題ないレベル。
×：分光透過率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が大きく、実用上問題がでるレベル。
○：分光透過率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が小さく、実用上問題ないレベル。
×：分光透過率の設計値と実測値をグラフ化したとき、両値の乖離幅が大きく、実用上問題がでるレベル。
【0171】
（３）各光学部材の評価
実施例及び比較例にて作製した各光学部材について、上記の評価基準にて評価した。
評価結果は表II～表VIIIのとおりである。
実施例及び比較例にて作製した各光学部材について、上記の評価基準にて評価した。
評価結果は表II～表VIIIのとおりである。
【0172】
（４）まとめ
以上のことから実施例の各光学部材においては、比較例の各光学部材とは異なり、分光反射率及び分光透過率において、あらかじめ設定しておいた設計値との乖離幅が小さく、遮光性及び光反射防止性並びに化学的安定性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜が得られることがわかった。
以上のことから実施例の各光学部材においては、比較例の各光学部材とは異なり、分光反射率及び分光透過率において、あらかじめ設定しておいた設計値との乖離幅が小さく、遮光性及び光反射防止性並びに化学的安定性に優れた遮光膜及び多層反射防止膜が得られることがわかった。
【符号の説明】
【0173】
１ 真空蒸着装置
２ チャンバー
３ ドーム
４ 基板
５ 蒸着源
６ 蒸着物質
７ ＩＡＤイオンソース
８ イオンビーム
Ｌ（１） 遮光層
Ｌ（２） 遮光層に接する層
ＬＲ 光干渉層
Ｌａ 分光特性の調製層
Ｒｒｅｆ 従来の遮光膜に必要とされる分光反射率の値
Ｄｒｅｆ 分光反射率の実測値
Ｒｔｒａ 従来の遮光膜に必要とされる分光透過率の値
Ｄｔｒａ 分光透過率の実測値
２ チャンバー
３ ドーム
４ 基板
５ 蒸着源
６ 蒸着物質
７ ＩＡＤイオンソース
８ イオンビーム
Ｌ（１） 遮光層
Ｌ（２） 遮光層に接する層
ＬＲ 光干渉層
Ｌａ 分光特性の調製層
Ｒｒｅｆ 従来の遮光膜に必要とされる分光反射率の値
Ｄｒｅｆ 分光反射率の実測値
Ｒｔｒａ 従来の遮光膜に必要とされる分光透過率の値
Ｄｔｒａ 分光透過率の実測値
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】