特開 2024-154049 Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024154049

(43)【公開日】2024-10-30

(54)【発明の名称】Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システム

(51)【国際特許分類】

   G21K 1/00 20060101AFI20241023BHJP

   G21K 5/02 20060101ALI20241023BHJP

   G21K 1/02 20060101ALI20241023BHJP

   H05G 1/00 20060101ALI20241023BHJP

   G01N 23/20008 20180101ALI20241023BHJP

【ＦＩ】

G21K1/00 X

G21K5/02 X

G21K1/02 Z

H05G1/00 G

G01N23/20008

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023067650

(22)【出願日】2023-04-18

(71)【出願人】

【識別番号】000250339

【氏名又は名称】株式会社リガク

(74)【代理人】

【識別番号】110002789

【氏名又は名称】弁理士法人ＩＰＸ

(72)【発明者】

【氏名】呉 彦霖

(72)【発明者】

【氏名】野口 学

(72)【発明者】

【氏名】野々口 雅弘

(72)【発明者】

【氏名】味戸 聡志

(72)【発明者】

【氏名】栗林 勝

【テーマコード（参考）】

2G001

4C092

【Ｆターム（参考）】

2G001AA01

2G001BA14

2G001BA18

2G001CA01

2G001JA01

4C092AA01

4C092AB12

4C092AB27

4C092AC08

4C092BD12

(57)【要約】

【課題】真空領域内にＸ線観察部を設ける必要がなく、かつ、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を使用する必要がない、窓保持部、Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システムに関する技術を提供する。
【解決手段】本発明の一態様によれば、Ｘ線発生装置が提供される。このＸ線発生装置は、Ｘ線発生部と、Ｘ線透過窓とを備える。Ｘ線発生部は、外部から電子線を受けることでＸ線を発生させるように構成される。Ｘ線透過窓は、第１のＸ線透過窓と、第２のＸ線透過窓とを含む。第１のＸ線透過窓は、Ｘ線のうち第１の方向に指向する第１のＸ線を透過させるように構成される。第１のＸ線は、その光軸上に設けられ且つＸ線のＸ線焦点を観察可能なＸ線観察部に入射する。第２のＸ線透過窓は、Ｘ線のうち第１の方向とは異なる第２の方向に指向する第２のＸ線を透過させるように構成される。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

Ｘ線発生装置であって、
Ｘ線発生部と、Ｘ線透過窓とを備え、
前記Ｘ線発生部は、外部から電子線を受けることでＸ線を発生させるように構成され、
前記Ｘ線透過窓は、第１のＸ線透過窓と、第２のＸ線透過窓とを含み、
前記第１のＸ線透過窓は、前記Ｘ線のうち第１の方向に指向する第１のＸ線を透過させるように構成され、ここで前記第１のＸ線は、その光軸上に設けられ且つ前記Ｘ線のＸ線焦点を観察可能なＸ線観察部に入射し、
前記第２のＸ線透過窓は、前記Ｘ線のうち前記第１の方向とは異なる第２の方向に指向する第２のＸ線を透過させるように構成される、
Ｘ線発生装置。

【請求項2】

請求項１に記載のＸ線発生装置において、
Ｘ線結像部を更に備え、
前記Ｘ線結像部は、
前記第１のＸ線の入射を受け付け、
前記Ｘ線観察部において前記第１のＸ線の像を結像させるように構成される、
Ｘ線発生装置。

【請求項3】

請求項２に記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線結像部には、ピンホールが形成される、
Ｘ線発生装置。

【請求項4】

請求項３に記載のＸ線発生装置において、
前記ピンホールの直径は、２０μｍ以下である、
Ｘ線発生装置。

【請求項5】

請求項２に記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線結像部は、前記Ｘ線透過窓と、前記Ｘ線発生部との間に設けられる、
Ｘ線発生装置。

【請求項6】

請求項２に記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線結像部と前記Ｘ線透過窓とは、同一のユニットに設けられる、
Ｘ線発生装置。

【請求項7】

Ｘ線分析装置であって、
Ｘ線発生装置と、試料台と、Ｘ線検出器とを備え、
前記Ｘ線発生装置は、請求項１～６の何れか１つに記載のＸ線発生装置であり、
前記試料台は、前記第２のＸ線が入射する試料を設置可能に構成され、
前記Ｘ線検出器は、前記試料にて回折、反射又は散乱された前記第２のＸ線を検出可能に構成される、
Ｘ線分析装置。

【請求項8】

請求項１～６の何れか１つに記載のＸ線発生装置の制御方法であって、
次の各ステップを備え、
受付ステップでは、前記Ｘ線観察部における前記第１のＸ線の観察の結果を受け付け、
制御ステップでは、前記観察の結果に基づいて、前記電子線を発生させる電子銃の位置又は姿勢を制御する、
Ｘ線発生装置の制御方法。

【請求項9】

Ｘ線発生装置の制御システムであって、
請求項８に記載の制御方法の各ステップを実行する、少なくとも１つのプロセッサを備える、
Ｘ線発生装置の制御システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システムに関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、Ｘ線標的を作り出すように動作可能なＸ線源と一緒に実施されたとき、電子ビームが標的と交差するポイントで電子ビームの幅を決定し、制御するための技法が開示される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特表２０１４－５０３９６０号公報

【非特許文献】

【0004】

【非特許文献1】Benedikt Gunther et al. "Device for source position stabilization and beam parameter monitoring at inverse Compton Ｘ-ray sources" Journal of Synchrotron Radiation, September 2019

【非特許文献2】jae Yeon Park et al. "Ｘ-ray beam-position feedback system with easy-to-use beam-position monitor" Journal of Synchrotron Radiation, May 2019

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１では、電子ビームスポットの存在を検知するためのセンサが、真空領域であるハウジングの内側に設置されており、電子ビームの検知のためのシステムの構築が容易ではない。加えて、特許文献１では、液体金属ジェットといった液体のターゲットが想定されるものであり、静止ターゲットやローターターゲット等といった固体のターゲットに適用の範囲を拡大することも容易ではない。

【0006】

本発明では上記事情を鑑み、真空領域内にＸ線観察部を設ける必要がなく、かつ、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を使用する必要がない、窓保持部、Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システムに関する技術を提供することとした。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一態様によれば、Ｘ線発生装置が提供される。このＸ線発生装置は、Ｘ線発生部と、Ｘ線透過窓とを備える。Ｘ線発生部は、外部から電子線を受けることでＸ線を発生させるように構成される。Ｘ線透過窓は、第１のＸ線透過窓と、第２のＸ線透過窓とを含む。第１のＸ線透過窓は、Ｘ線のうち第１の方向に指向する第１のＸ線を透過させるように構成される。第１のＸ線は、その光軸上に設けられ且つＸ線のＸ線焦点を観察可能なＸ線観察部に入射する。第２のＸ線透過窓は、Ｘ線のうち第１の方向とは異なる第２の方向に指向する第２のＸ線を透過させるように構成される。

【0008】

本開示によれば、真空領域内にＸ線観察部を設ける必要がなく、かつ、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を使用する必要がない技術を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】実施形態におけるＸ線分析システム１のシステム構成の一例を示す図である。

【図2】実施形態におけるＸ線分析装置２の一例を説明する図である。

【図3】実施形態における第１の窓保持部２０４の断面図の一例である。

【図4】実施形態における第２の窓保持部２０５の断面図の一例である。

【図5】Ｘ線発生部２０３ａとＸ線結像部２０４ｂとＸ線観察部２１との位置関係を説明する図である。

【図6】実施形態における情報処理装置３のハードウェア構成の一例を示す図である。

【図7】実施形態における情報処理の一例を説明する図である。

【図8】Ｘ線観察部２１により取得されるＸ線焦点の一例を示す図であり、Ｘ線の形状に関するデータの一例を示す図である。

【図9】変形例における第１の窓保持部４０４の断面図の一例である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

［実施形態］
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。

【0011】

１．Ｘ線分析システム１のシステム構成
まず、図１を参照しながら本実施形態のＸ線分析システム１のシステム構成について説明する。図１は、実施形態におけるＸ線分析システム１のシステム構成の一例を示す図である。図１が示すように、Ｘ線分析システム１は、Ｘ線分析装置２と、情報処理装置３と、を含む。Ｘ線分析システム１は、Ｘ線による試料の分析を可能にするシステムである。Ｘ線分析装置２及び情報処理装置３は、通信ケーブル又はネットワークを介して、相互に通信可能に構成される。これにより、Ｘ線分析装置２及び情報処理装置３は、相互に様々な情報を送信又は受信することができる。なお、本実施形態において、情報処理装置３は、ＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）である。情報処理装置３は、ＰＣの代わりにタブレット型コンピュータ、スマートフォン等であってもよい。ここで、Ｘ線分析システム１に例示されるシステムとは、１つ又はそれ以上の装置又は構成要素からなるものである。したがって、Ｘ線分析装置２単体又は情報処理装置３単体であってもＸ線分析システム１に例示されるシステムに含まれる。Ｘ線分析装置２及び情報処理装置３は、測定者であるユーザにより操作される。

【0012】

２．Ｘ線分析装置２の構成
次に、図２を参照しながら本実施形態のＸ線分析装置２の構成を説明する。図２は、実施形態におけるＸ線分析装置２の一例を説明する図である。なお、図２を含む本明細書に添付した図面では特徴的な部分を分かり易く示すために実際のものとは異なった比率で構成要素を示す場合がある。

【0013】

本実施形態のＸ線分析装置２は、Ｘ線分析測定を行うための装置である。Ｘ線分析装置２は、Ｘ線発生装置２０と、Ｘ線観察部２１と、試料台２２と、Ｘ線検出器２３とを備える。Ｘ線分析装置２は、Ｘ線発生装置２０から発生したＸ線をＸ線観察部２１にて直接観察するために使用される。また、本実施形態のＸ線分析装置２は、Ｘ線発生装置２０から発生したＸ線を試料台２２上の試料に照射し、試料にて、反射、回折又は散乱されたＸ線をＸ線検出器２３により検出するために使用される。

【0014】

Ｘ線発生装置２０は、真空状態の空間を含み、当該空間内のターゲットからＸ線を発生させ、当該Ｘ線を真空の外部に取り出すことが可能な装置である。Ｘ線発生装置２０は、収容部２００と、絶縁部２０１と、カソード部２０２と、アノード部２０３と、第１の窓保持部２０４と、第２の窓保持部２０５と、筐体部２０６と、ベローズ２０７とを備える。

【0015】

収容部２００は、その中に真空状態の空間を形成する。収容部２００は、Ｘ線発生装置２０を構成する要素のうち、絶縁部２０１と、カソード部２０２と、アノード部２０３と、第１の窓保持部２０４と、第２の窓保持部２０５とを収容する。なお、真空状態とは、完全な真空状態に限られず、電子線等の粒子ビームが伝搬可能な程度に減圧された状態、例えば低真空の状態、も含み得る。

【0016】

絶縁部２０１は、碍子等の電気を絶縁する性質を有する材料により形成される。絶縁部２０１は、カソード部２０２の支持台として機能する。

【0017】

カソード部２０２は、電子線を放出可能に構成される陰極である。カソード部２０２は、高電圧を印加可能に、電気ケーブルを介してアノード部２０３と電気的に接続される。カソード部２０２は、電子線をアノード部２０３に向けて照射可能な態様で絶縁部２０１上に設置されており、これにより後述されるベローズ２０７と絶縁されている。

【0018】

アノード部２０３は、陰極としてのカソード部２０２と対になる陽極である。アノード部２０３は、カソード部２０２で放出された電子線を加速させる。アノード部２０３は、カソード部２０２と対向する位置にターゲットとしてのＸ線発生部２０３ａを有する。

【0019】

Ｘ線発生部２０３ａは、任意の金属により構成される。例えば、Ｘ線発生部２０３ａは、カーボン、アルミニウム、クロム、鉄、コバルト、銅、モリブデン、ロジウム、銀、金等の金属単体により構成される。また、Ｘ線発生部２０３ａは、上記した金属単体を複数含み、ユーザの選択に応じてＸ線を発生させる金属を切り替え可能に構成されてもよい。このような金属の切り替えは、ローターターゲット等のターゲットが動くことにより行われてもよい。また、このような金属の切り替えは、電子線の軌道の変化により行われてもよいし、カソード部２０２の位置の移動により行われてもよい。更に、Ｘ線発生部２０３ａは、ローターターゲット又は静止ターゲット等の固体のターゲットだけではなく、液体金属ジェット等の液体のターゲットであってもよい。液体金属ジェットは、Ｘ線発生部２０３ａとして固体の金属の代わりに液体の金属が使用される。液体の金属としては、例えば、銅、ガリウム、インジウム、スズ等を含む合金が使用される。

【0020】

Ｘ線発生部２０３ａは、カソード部２０２から発生した電子線を受けることで様々な方向にＸ線を発生させるように構成される。このとき発生するＸ線は、Ｘ線発生部２０３ａの金属に対応する特性Ｘ線を含む。様々な方向に発生するＸ線は、第１のＸ線Ｌ１と第２のＸ線Ｌ２とを含む。

【0021】

第１のＸ線Ｌ１は、Ｘ線発生部２０３ａにおけるＸ線焦点を直接観察するために使用される。すなわち、第１のＸ線Ｌ１は、第１の方向Ｄ１に指向し、第１の窓保持部２０４の第１のＸ線透過窓２０４ａを介してＸ線発生装置２０の外部に取り出され、その光軸上に設けられ且つＸ線のＸ線焦点を観察可能なＸ線観察部２１に入射する。このとき、第１のＸ線Ｌ１は、Ｘ線発生部２０３ａから試料を介すことなくＸ線観察部２１に入射する。すなわち、本実施形態では、Ｘ線発生部２０３ａとＸ線観察部２１との間に試料が設けられる態様は、除かれる。第１の窓保持部２０４については、図３を用いて後述する。これにより、複数あるＸ線透過窓のうちの一つのＸ線透過窓を使用して、Ｘ線を直接観察することが可能となる。また、これにより、Ｘ線発生部２０３ａから発生するＸ線を制御することが可能となる。

【0022】

第２の窓保持部２０５は、第２のＸ線透過窓２０５ａを有する。第２のＸ線透過窓２０５ａは、Ｘ線のうち第１の方向Ｄ１とは異なる第２の方向Ｄ２に指向する第２のＸ線Ｌ２を透過させるように構成される。第２の窓保持部２０５については、図４を用いて後述する。

【0023】

筐体部２０６は、カソード部２０２を平行移動させるための複数のステージを包含する。例えば、複数のステージは、Ｘ軸方向に移動可能なステージと、Ｙ軸方向に移動可能なステージと、Ｚ軸方向に移動可能なステージとを有する。複数のステージのそれぞれは、移動の指示を受け付けることに応じて、それぞれの軸方向に沿って移動する。複数のステージのそれぞれの移動に応じて、筐体部２０６、絶縁部２０１及び絶縁部２０１に支持されるカソード部２０２も、同様に移動する。なお、互いに直交する３つの空間軸をＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸としたとき、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸に沿った方向をそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向とする。なお、筐体部２０６は、真空の外に設けられる。筐体部２０６は、ベローズ２０７を介して、絶縁部２０１と接続されている。また、変形例で後述するように、筐体部２０６は、カソード部２０２の姿勢を変更するように構成されてもよい。更に、変形例で後述するように、筐体部２０６に変えてアクチュエータが使用されてもよい。

【0024】

ベローズ２０７は、筐体部２０６の移動に応じて変形するように構成される。ベローズ２０７を用いることにより、カソード部２０２を支持している絶縁部２０１をＸ線発生装置２０の真空状態を維持した状態で、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向又はＺ軸方向に滑らかに平行移動させることができる。これにより、カソード部２０２から放出される電子線の位置を微調整することができる。

【0025】

Ｘ線観察部２１は、Ｘ線発生部２０３ａから発生するＸ線の様子を観察可能に構成される。Ｘ線観察部２１は、任意の構成を有する。例えば、Ｘ線観察部２１は、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）等のフォトダイオードを用いてＸ線を検出するＸ線カメラにより構成されてもよい。また、Ｘ線観察部２１は、第１のＸ線Ｌ１を受けて発光したシンチレータからの可視光をレンズによって、集光又は倍率変更をし、当該可視光をフォトダイオードで検出するように構成されてもよい。当該シンチレータを形成する物質には、ＬｕＡＧ、ＧＡＧＧ等の結晶の物質、又はＰ４３等の粉末の物質が使用されてもよい。

【0026】

本実施形態では、Ｘ線焦点は、Ｘ線観察部２１にて直接観察される。この「直接観察」とは、Ｘ線観察部２１に、Ｘ線焦点の像を結像させ、その像を観察することを示す概念である。例えば、「直接観察」は、ピンホールカメラを用いて、ＰＳＦ（Ｐｏｉｎｔ Ｓｐｒｅａｄ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）の手法により、Ｘ線焦点のプロファイルを評価するものを含む。また、「直接観察」は、ピンホールカメラを用いる方法の他に、後述する４象限スリットや光学レンズを用いる方法が含まれる。一方で、「直接観察」には、スリット、テストチャート（例えば、スターパターン）等をＸ線の光路上に設けて、その透過像からＬＳＦ（Ｌｉｎｅ Ｓｐｒｅａｄ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）、ＭＴＦ（ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）等の手法により、エッジ像からＸ線焦点サイズを推測することは含まれない。

【0027】

第２のＸ線Ｌ２は、Ｘ線を用いた試料の分析に使用される。すなわち、第２のＸ線Ｌ２は、試料に照射される。より具体的には例えば、第２のＸ線Ｌ２は、第１の方向Ｄ１と異なる第２の方向Ｄ２に指向し、第２のＸ線透過窓２０５ａを介してＸ線発生装置２０の外部に取り出され、試料台２２上の試料に入射する。

【0028】

試料台２２は、第２のＸ線Ｌ２が入射する試料を設置可能に構成される。試料に入射した第２のＸ線Ｌ２は、当該試料にて回折、反射、又は散乱される。試料台２２は、プロセッサ３１によって生成された動作指示に基づいて、試料台２２を任意の方向に、移動可能又は傾斜可能に構成されてもよい。この動作指示は、試料台２２を移動又は傾斜させるための指示である。

【0029】

Ｘ線検出器２３は、試料台２２に設置される試料にて回折、反射又は散乱された第２のＸ線Ｌ２を検出可能に構成される。検出されたＸ線は、情報処理装置３によって解析される。Ｘ線検出器２３は、計数管等を用いる０次元検出器であってもよいし、線状ＣＣＤ等を用いる１次元検出器であってもよいし、ＣＣＤやイメージングプレート等を用いる２次元検出器であってもよい。これにより、Ｘ線発生部から発生するＸ線の観察結果に基づいて、Ｘ線分析測定に使用するＸ線を制御することができるＸ線分析装置を提供することが可能となる。

【0030】

続いて、図３を参照しながら、第１の窓保持部２０４について説明をする。図３は、実施形態における第１の窓保持部２０４の断面図の一例である。この断面図は、第１のＸ線Ｌ１の直進方向に水平な面から第１の窓保持部２０４の断面を観察した図である。第１の窓保持部２０４は、第１のＸ線透過窓２０４ａと、Ｘ線結像部２０４ｂと、空気孔２０４ｃとを含む。本実施形態では、第１の窓保持部２０４は、第１のＸ線透過窓２０４ａ及びＸ線結像部２０４ｂのそれぞれを嵌合可能に構成される。すなわち、第１のＸ線透過窓２０４ａと、Ｘ線結像部２０４ｂとは、同一のユニットに設けられてもよい。これにより、Ｘ線結像部２０４ｂをＸ線透過窓と同一のユニットにして構成することができるため、既存のシステムに組み込むことが容易となる。

【0031】

第１の窓保持部２０４の位置は、Ｘ線発生装置２０内において、第１の窓保持部２０４が第２のＸ線Ｌ２を機械的に干渉しない位置であればよい。第１の窓保持部２０４の位置は、Ｘ線発生部２０３ａの位置を基準として第２の窓保持部２０５と異なる設置の関係となるように設置されてもよいし、同じ設置の関係となるように設置されてもよい。

【0032】

第１のＸ線透過窓２０４ａは、Ｘ線のうち第１の方向Ｄ１に指向する第１のＸ線Ｌ１を透過させるように構成される。第１のＸ線透過窓２０４ａの形状は、任意であり、例えば、平板状に形成される。第１のＸ線透過窓２０４ａを形成する物質は、Ｘ線を透過可能な物質であればよく、例えば、ベリリウム、カーボン、ダイアモンド、ＳＵＳ等によって構成される。

【0033】

Ｘ線結像部２０４ｂは、第１のＸ線Ｌ１の入射を受け付ける。Ｘ線結像部２０４ｂは、Ｘ線観察部２１において第１のＸ線Ｌ１の像を結像可能に構成される。本実施形態において、Ｘ線結像部２０４ｂには、ピンホール２０４ｂ２が形成される。Ｘ線発生部２０３ａから発生するＸ線のうち、Ｘ線結像部２０４ｂのピンホール２０４ｂ２を透過したＸ線は、直進し、Ｘ線観察部２１にて上下左右が反対のＸ線発生部２０３ａの像を結ぶ。ピンホール２０４ｂ２を用いることにより、Ｘ線観察部２１にてＸ線発生部２０３ａの像を結像することが可能となる。また、Ｘ線観察部２１にて、Ｘ線発生部２０３ａの像が結像されるため、Ｘ線発生部２０３ａの様子を観察することが可能となる。

【0034】

Ｘ線結像部２０４ｂの形状は、任意であり、例えば、平板状に形成される。Ｘ線結像部２０４ｂにピンホール２０４ｂ２が形成される場合、ピンホール２０４ｂ２の形状は、任意であり、例えば、円柱状、多角柱（三角柱、四角柱等）状に形成されてもよい。

【0035】

Ｘ線結像部２０４ｂにピンホール２０４ｂ２が形成される場合、Ｘ線結像部２０４ｂを形成する物質は、Ｘ線を遮蔽可能な物質であればよく、例えば、モリブデン、タングステン、白金、金等によって構成される。また、Ｘ線結像部２０４ｂ真空中に設けられる場合、Ｘ線結像部２０４ｂを形成する材質は、収容部２００内の真空中で発生するオゾンに対して耐性がある物質が使用されてもよい。

【0036】

本実施形態におけるＸ線焦点の大きさは４０μｍ以下である。ピンホール２０４ｂ２の直径は、Ｘ線焦点の大きさよりも小さいことが望ましい。好ましくは、ピンホール２０４ｂ２の直径は、２０μｍ以下が望ましい。より好ましくは、ピンホール２０４ｂ２の直径は、５μｍ以下である。また、ピンホール２０４ｂ２の直径は、１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０μｍであり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。なお、ピンホール２０４ｂ２の直径は、Ｘ線結像部２０４ｂを形成する物質、特性Ｘ線の波長等に応じて選択されてもよい。適切な直径のピンホール２０４ｂ２を用いることにより、Ｘ線観察部２１にてより鮮明なＸ線発生部２０３ａの像を結像することが可能となる。

【0037】

Ｘ線結像部２０４ｂにピンホール２０４ｂ２が形成される場合、ピンホール２０４ｂ２の深さは、任意の値をとることができる。ピンホール２０４ｂ２の深さは、深いほどよい。好ましくは、ピンホール２０４ｂ２の深さは、５０μｍ以上である。なお、ピンホール２０４ｂ２の深さは、Ｘ線結像部２０４ｂを形成する物質、特性Ｘ線の波長等に応じて選択されてもよい。適切な深さのピンホール２０４ｂ２を用いることにより、Ｘ線観察部２１にてより鮮明なＸ線発生部２０３ａの像を結像することが可能となる。

【0038】

本実施形態において、Ｘ線結像部２０４ｂは、第１のＸ線透過窓２０４ａと、Ｘ線発生部２０３ａとの間の真空中に設けられてもよい。Ｘ線発生部２０３ａとＸ線結像部２０４ｂとＸ線観察部２１との位置関係については、図５を参照しながら後述する。これにより、Ｘ線結像部２０４ｂを第１のＸ線透過窓２０４ａよりもＸ線発生部２０３ａに近い位置に設けることができるため、大掛かりな装置としなくても、Ｘ線観察部２１にて十分な大きさの像を結像することが可能となる。

【0039】

空気孔２０４ｃは、第１の窓保持部２０４内であって第１のＸ線透過窓２０４ａとＸ線結像部２０４ｂとの間により規定される空間と、第１の窓保持部２０４外の空間と、の間で気体を通過可能にする孔である。

【0040】

第１の方向Ｄ１は、図３における右方向の矢印が示す方向である。第１のＸ線Ｌ１は、第１の方向Ｄ１に沿って、つまり、Ｘ線結像部２０４ｂから第１のＸ線透過窓２０４ａに向かう方向に沿って直進する。

【0041】

続いて、図４を参照しながら、第２の窓保持部２０５について説明をする。図４は、実施形態における第２の窓保持部２０５の断面図の一例である。この断面図は、第２のＸ線Ｌ２の直進方向に水平な面から第２の窓保持部２０５の断面を観察した図である。第２の窓保持部２０５は、第２のＸ線透過窓２０５ａを含む。第２の窓保持部２０５は、第２のＸ線透過窓２０５ａを嵌合可能に構成される。第２のＸ線透過窓２０５ａの形状及び第２のＸ線透過窓２０５ａを形成する物質については、第１のＸ線透過窓２０４ａを参照されたい。第２の方向Ｄ２は、図４における右方向の矢印が示す方向である。第２のＸ線Ｌ２は、第２の方向Ｄ２に沿って、Ｘ線発生部２０３ａから第１のＸ線透過窓２０４ａを透過して試料台２２の試料に向かって直進する。

【0042】

このように、Ｘ線を観察するための第１の窓保持部２０４を用いることにより、非特許文献１や非特許文献２のように、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を、Ｘ線の評価に使用していないため、Ｘ線分析測定による試料の分析に対する影響が発生しにくい。

【0043】

続いて、図５を参照しながら、Ｘ線発生部２０３ａとＸ線結像部２０４ｂとＸ線観察部２１との位置関係について説明をする。図５は、Ｘ線発生部２０３ａとＸ線結像部２０４ｂとＸ線観察部２１との位置関係を説明する図である。Ｘ線観察部２１に結像されるＸ線焦点の像の倍率は、Ｘ線結像部２０４ｂからＸ線観察部２１までの距離Ｂを、Ｘ線発生部２０３ａからＸ線結像部２０４ｂまでの距離Ａで割った大きさである。これを利用して、Ｘ線結像部２０４ｂをＸ線発生部２０３ａにより近い位置に設けることができれば、大掛かりな装置としなくても、Ｘ線観察部２１にて十分な大きさの像を結像することが可能となる。

【0044】

３．情報処理装置３の構成
情報処理装置３は、Ｘ線分析装置２に指示を送信するための装置である。例えば、情報処理装置３は、後述するＸ線発生装置２０の制御指示と、Ｘ線観察部２１への指示と、前述した試料台２２の動作指示と、Ｘ線検出器２３への指示と、ゴニオメータのアームを操作する指示とのうち少なくとも１つを送信可能に構成される。また、情報処理装置３は、Ｘ線検出器２３により検出した結果に基づいてプロファイルを取得し、薄膜、単結晶等の試料を分析することができる装置である。

【0045】

次に、図６を参照しながら、情報処理装置３のハードウェア構成について説明をする。図６は、実施形態における情報処理装置３のハードウェア構成の一例を示す図である。図６に示されるように、情報処理装置３は、プロセッサ３１と、記憶部３２と、通信部３３と、入力部３４と、出力部３５とを備え、これらの構成要素が情報処理装置３の内部において通信バス３０を介して電気的に接続されている。情報処理装置３は、実施形態に係る処理を実行する。

【0046】

プロセッサ３１は、情報処理装置３に関連する全体動作の処理及び制御を行う。プロセッサ３１は、例えば中央処理装置（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ：ＣＰＵ）である。記憶部３２に記憶されているプログラムによる情報処理が、ハードウェアの一例であるプロセッサ３１によって具体的に実現されることで、プロセッサ３１に含まれる各機能部として実行されうる。プロセッサ３１に含まれる各機能部により、例えば、後述する図７に示される処理が実現される。なお、プロセッサ３１は単一であることに限定されず、機能ごとに複数のプロセッサ３１を有するように実施してもよい。また、それらの組合せであってもよい。少なくとも１つのプロセッサ３１は、後述する制御方法の各ステップを実行することができる。プロセッサ３１は、Ｘ線発生装置２０の制御システムに含まれる。

【0047】

記憶部３２は、前述の記載により定義される様々な情報を記憶する。これは、例えば、プロセッサ３１によって実行される情報処理装置３に係る種々のプログラム等を記憶するソリッドステートドライブ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ：ＳＳＤ）等のストレージデバイスとして、プログラムの演算に係る一時的に必要な情報（引数、配列等）を記憶するランダムアクセスメモリ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ：ＲＡＭ）等のメモリとして実施されうる。記憶部３２は、プロセッサ３１によって実行される情報処理装置３に係る種々のプログラム、変数及びプロセッサ３１がプログラムに基づき処理を実行する際に用いるデータ等を記憶している。

【0048】

通信部３３は、ＵＳＢ、ＩＥＥＥ１３９４、Ｔｈｕｎｄｅｒｂｏｌｔ（登録商標）、有線ＬＡＮネットワーク通信等といった有線型の通信手段が好ましいものの、無線ＬＡＮネットワーク通信、ＬＴＥ／３Ｇ／４Ｇ／５Ｇ等のモバイル通信、ＢＬＵＥＴＯＯＴＨ（登録商標）通信等を必要に応じて含めてもよい。すなわち、これら複数の通信手段の集合として実施することがより好ましい。すなわち、情報処理装置３は、通信部３３を介して、外部から種々の情報を通信してもよい。

【0049】

入力部３４は、情報処理装置３の筐体に含まれてもよいし、外付けされてもよい。例えば、入力部３４は、出力部３５と一体となってタッチパネルとして実施されてもよい。タッチパネルであれば、ユーザは、タップ操作、スワイプ操作等を入力することが可能である。もちろん、タッチパネルに代えて、スイッチボタン、マウス、キーボード等を採用してもよい。すなわち、入力部３４がユーザによってなされた操作に基づく入力を受け付ける。当該入力が命令信号として、通信バス３０を介してプロセッサ３１に転送され、プロセッサ３１が必要に応じて所定の制御又は演算を実行しうる。

【0050】

出力部３５は、情報処理装置３の表示デバイスとして機能することが可能である。出力部３５は、例えば、情報処理装置３の筐体に含まれてもよいし、外付けされてもよい。出力部３５は、ユーザが操作可能なグラフィカルユーザインターフェース（Ｇｒａｐｈｉｃａｌ Ｕｓｅｒ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ：ＧＵＩ）の画面を表示する。これは例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ及びプラズマディスプレイ等の表示デバイスを、情報処理装置３の種類に応じて使い分けて実施することが好ましい。

【0051】

本実施形態に登場するソフトウェアを実現するためのプログラムは、コンピュータが読み取り可能な非一時的な記録媒体（Ｎｏｎ－Ｔｒａｎｓｉｔｏｒｙ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ－Ｒｅａｄａｂｌｅ Ｍｅｄｉｕｍ）として提供されてもよいし、外部のサーバからダウンロード可能に提供されてもよいし、外部のコンピュータで当該プログラムを起動させてクライアント装置でその機能を実現（いわゆるクラウドコンピューティング）するように提供されてもよい。

【0052】

また、本実施形態において「部」とは、例えば、広義の回路によって実施されるハードウェア資源と、これらのハードウェア資源によって具体的に実現されうるソフトウェアの情報処理とを合わせたものも含みうる。また、本実施形態においては様々な情報を取り扱うが、これら情報は、例えば電圧・電流を表す信号値の物理的な値、０又は１で構成される２進数のビット集合体としての信号値の高低、又は量子的な重ね合わせ（いわゆる量子ビット）によって表され、広義の回路上で通信・演算が実行されうる。

【0053】

また、広義の回路とは、回路（Ｃｉｒｃｕｉｔ）、回路類（Ｃｉｒｃｕｉｔｒｙ）、プロセッサ（Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）、及びメモリ（Ｍｅｍｏｒｙ）等を少なくとも適当に組み合わせることによって実現される回路である。すなわち、特定用途向け集積回路（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ：ＡＳＩＣ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Ｓｉｍｐｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Ｃｏｍｐｌｅｘ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ：ＦＰＧＡ））等を含むものである。

【0054】

４．情報処理の概要
次に、図７を示しながら、Ｘ線分析測定に適したＸ線をＸ線発生装置２０から安定的に発生させるためのＸ線分析システム１の制御方法について説明する。図７は、実施形態における情報処理の一例を説明する図である。すなわち、制御方法は、次の各ステップＳ１～Ｓ４を備える。プロセッサ３１は、以降の各ステップＳ１～Ｓ４に係る情報処理の様子を、ユーザが視認可能な態様で出力部３５に表示させてもよい。

【0055】

ステップＳ１では、プロセッサ３１は、通信部３３を介してＸ線観察部２１における第１のＸ線Ｌ１の観察の結果をＸ線分析装置２から受け付ける。観察の結果は、Ｘ線の強度又はＸ線の形状に関するデータを含む。ここで、Ｘ線の強度に関するデータとは、Ｘ線観察部２１の検出面において検出された単位時間あたりのＸ線光子の数に関するデータである。Ｘ線の形状に関するデータとは、Ｘ線観察部２１の検出面における位置に関するデータとＸ線の強度に関するデータとの両方を含むデータである。図８は、Ｘ線観察部２１により取得されるＸ線焦点の一例を示す図であり、Ｘ線の形状に関するデータの一例を示す図である。図８では、Ｘ線焦点のイメージが視覚的に表現される。なお、Ｘ線の形状に関するデータには、二値化処理やグレースケール変換等の強度情報を変換したものも含まれる。

【0056】

前述の通り、電子線の軌道の変化又はカソード部２０２の位置の移動により、Ｘ線発生部２０３ａの金属の切り替えが行われる場合がある。その場合、Ｘ線の形状は、切り替え後の金属の箇所に集中するように変化する。

【0057】

ステップＳ２では、プロセッサ３１は、参照データを参照し、観察の結果と対比する。参照データは、Ｘ線を安定的に発生させるための、Ｘ線の強度又はＸ線の形状の条件のデータである。参照データは、記憶部３２に記憶される。プロセッサ３１は、特性Ｘ線の波長ごとに参照データを切り替えてもよい。プロセッサ３１は、観察の結果が参照データの条件を満たす場合、ステップＳ３に情報処理を進め、観察の結果が参照データの条件を満たさない場合、ステップＳ４に情報処理を進める。

【0058】

ステップＳ３では、プロセッサ３１は、観察の結果に基づいて、制御指示を生成し、通信部３３を介して当該制御指示をＸ線分析装置２に送信する。この制御指示は、Ｘ線発生部２０３ａから発生するＸ線を制御するための指示である。また、制御指示は、観察の結果の参照データからのずれに基づいて生成される。制御指示は、電子線を発生させる電子銃としてのカソード部２０２の位置を制御するための指示、カソード部２０２のフィラメントの出力を変化させる指示、カソード部２０２とアノード部２０３との間の電場の出力を変化させる指示等を含む。制御指示を受け付けたＸ線分析装置２は、制御指示に対応する動作を実行する。その後、プロセッサ３１は、ステップＳ１に戻る。プロセッサ３１は、ステップＳ１～Ｓ３の情報処理をループさせる。また、プロセッサ３１は、ステップＳ１～Ｓ３のループを０．１秒未満等の短い間隔で実行することでＸ線焦点の観察をリアルタイムに実行する。

【0059】

なお、この場合の制御指示に基づく制御の手法は、特に限定されないが、例えば、Ｐ制御、ＰＤ制御、ＰＩＤ制御等が適宜採用されうる。制御に係る各係数は、必要に応じて好ましい値を設定すればよい。また制御指示の値は電圧で規定されるとよい。

【0060】

ステップＳ４では、観察の結果が参照データの条件を満たす場合、プロセッサ３１は、情報処理を終了する。なお、プロセッサ３１は、入力部３４を介してユーザからの指示を受け付けることに応じて、ステップＳ１から情報処理を再開してもよい。

【0061】

このような情報処理によれば、観察結果に基づいてＸ線発生部から発生するＸ線を制御することが可能となる。

【0062】

以上、本実施形態によれば、真空領域内にＸ線観察部を設ける必要がなく、かつ、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を使用する必要がない、窓保持部、Ｘ線発生装置、Ｘ線分析装置、Ｘ線発生装置の制御方法及びＸ線発生装置の制御システムに関する技術を提供することができる。

【0063】

［その他］
実施形態では、Ｘ線結像部２０４ｂは、第１のＸ線透過窓２０４ａと、Ｘ線発生部２０３ａとの間に設けられるものとして説明をしたが、変形例では、第１のＸ線透過窓４０４ａが、Ｘ線結像部４０４ｂと、Ｘ線発生部２０３ａとの間に設けられてもよい。この場合、図９に示すような第１の窓保持部４０４が設けられてもよい。図９は、変形例における第１の窓保持部４０４の断面図の一例である。この断面図は、第１のＸ線Ｌ１の直進方向に水平な面から第１の窓保持部２０４の断面を観察した図である。図９の第１の窓保持部４０４は、第１のＸ線透過窓４０４ａと、Ｘ線結像部４０４ｂと、を含む。すなわち、変形例においても、第１のＸ線透過窓４０４ａとＸ線結像部４０４ｂとは、同一のユニットに設けられる。また、変形例のＸ線結像部４０４ｂにも、ピンホール４０４ｂ２が形成される。変形例のＸ線結像部４０４ｂ及びピンホール４０４ｂ２については、実施形態のＸ線結像部２０４ｂ及びピンホール２０４ｂ２を参照されたい。変形例の第１の窓保持部４０４では、Ｘ線結像部が高エネルギーの環境に晒されることがないため、発生するオゾンなどによるＸ線結像部の劣化が発生しにくい。また、Ｘ線結像部が真空内に設置されないため、Ｘ線結像部の調整、交換等を容易に実行することが可能となる。

【0064】

また、実施形態では、第１のＸ線透過窓２０４ａとＸ線結像部２０４ｂとは、同一のユニットに設けられるものとして説明したが、第１のＸ線透過窓２０４ａとＸ線結像部２０４ｂとは、それぞれ別体に設けられていてもよい。

【0065】

実施形態では、Ｘ線結像部２０４ｂは、ピンホール２０４ｂ２であるものとして説明したが、変形例では、Ｘ線観察部２１にてＸ線の像を結像できるものであればよく、種々の形態を採用することができる。例えば、変形例におけるＸ線結像部は、４象限スリットであってもよい。４象限スリットは、ピンホール２０４ｂ２と同様に、Ｘ線が通過可能な空間を絞ることができる。すなわち、Ｘ線発生部２０３ａから発生するＸ線のうち、４象限スリットを透過したＸ線は、Ｘ線観察部２１にて結像する。また、変形例におけるＸ線結像部は、Ｘ線観察部２１にＸ線を集光することができる光学レンズであってもよい。この光学レンズには、湾曲結晶、多層膜結晶等が使用される。

【0066】

実施形態では、Ｘ線観察部２１に結像されるＸ線焦点の像の倍率は、距離Ｂを距離Ａで割った大きさであるものとして説明した。変形例では、Ｘ線観察部２１に結像されるＸ線焦点の像の倍率は、筐体部２０６が特定の方向に平行に移動した距離と、それに応じて移動するＸ線観察部２１に結像されるＸ線焦点の移動の距離と、の比によって決定されてもよい。

【0067】

筐体部２０６は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向又はＺ軸方向に沿って平行移動するものとして説明したが、変形例の筐体部２０６は、任意の構成とすることができる。例えば、筐体部２０６は、複数のステージにより移動するものとして説明したが、磁場を加えることにより移動するステージを使用してカソード部２０２を移動させてもよい。また、例えば、変形例の筐体部２０６は、カソード部２０２を任意の角度に回転させることで、カソード部２０２の姿勢を変更可能に構成されてもよい。この場合、カソード部２０２の姿勢の変更に応じて、カソード部２０２がＸ線発生部２０３ａに電子線を照射する方向が変化する。また、この場合、制御指示は、電子線を発生させるカソード部２０２としての電子銃の姿勢を制御するための指示を含んでもよい。

【0068】

実施形態では、ステージを収容する筐体部２０６を使用するものとして説明したが、他の機構が用いられてもよい。変形例では、アクチュエータにより、カソード部２０２を位置又は姿勢の制御が行われてもよい。このアクチュエータは、圧電アクチュエータ、電磁アクチュエータ、リニアモータ（ボイスコイル）、適切なギア装置を有する回転モータ等を含む。

【0069】

実施形態におけるステップＳ２における参照データは、ニューラルネットワーク等の機械学習のアルゴリズムにより学習させた学習済みモデルを用いて生成されてもよい。学習済みモデルの特徴量には、Ｘ線の強度、Ｘ線の形状、カソード部２０２のフィラメントへの出力、カソード部２０２とアノード部２０３との間に印加される磁場の大きさ、カソード部２０２の位置及び姿勢等のデータが使用される。

【0070】

変形例ではステップＳ４は、実行されなくてもよい。すなわち、変形例ではプロセッサ３１は、ステップＳ１～Ｓ３の情報処理を繰り返し実行する。

【0071】

本実施形態におけるＸ線焦点の大きさは４０μｍ以下であるものとして説明したが、変形例では、Ｘ線焦点の大きさは４０μｍ以上であってもよい。

【0072】

更に、次に記載の各態様で提供されてもよい。

【0073】

（１）Ｘ線発生装置であって、Ｘ線発生部と、Ｘ線透過窓とを備え、前記Ｘ線発生部は、外部から電子線を受けることでＸ線を発生させるように構成され、前記Ｘ線透過窓は、第１のＸ線透過窓と、第２のＸ線透過窓とを含み、前記第１のＸ線透過窓は、前記Ｘ線のうち第１の方向に指向する第１のＸ線を透過させるように構成され、ここで前記第１のＸ線は、その光軸上に設けられ且つ前記Ｘ線のＸ線焦点を観察可能なＸ線観察部に入射し、前記第２のＸ線透過窓は、前記Ｘ線のうち前記第１の方向とは異なる第２の方向に指向する第２のＸ線を透過させるように構成される、Ｘ線発生装置。

【0074】

このような態様によれば、これにより、真空領域内にＸ線観察部を設ける必要がなく、かつ、Ｘ線分析測定に使用されるＸ線の一部を使用する必要がない。

【0075】

（２）上記（１）に記載のＸ線発生装置において、Ｘ線結像部を更に備え、前記Ｘ線結像部は、前記第１のＸ線の入射を受け付け、前記Ｘ線観察部において前記第１のＸ線の像を結像させるように構成される、Ｘ線発生装置。

【0076】

このような態様によれば、Ｘ線観察部にて、Ｘ線発生部の像が結像されるため、Ｘ線発生部の様子を観察することが可能となる。

【0077】

（３）上記（２）に記載のＸ線発生装置において、前記Ｘ線結像部には、ピンホールが形成される、Ｘ線発生装置。

【0078】

このような態様によれば、ピンホールを用いることにより、Ｘ線観察部にてＸ線発生部の像を結像することが可能となる。

【0079】

（４）上記（３）に記載のＸ線発生装置において、前記ピンホールの直径は、２０μｍ以下である、Ｘ線発生装置。

【0080】

このような態様によれば、適切な直径のピンホールを用いることにより、Ｘ線観察部にてより鮮明なＸ線発生部の像を結像することが可能となる。

【0081】

（５）上記（２）～（４）の何れか１つに記載のＸ線発生装置において、前記Ｘ線結像部は、前記Ｘ線透過窓と、前記Ｘ線発生部との間に設けられる、Ｘ線発生装置。

【0082】

このような態様によれば、Ｘ線結像部をＸ線透過窓よりもＸ線発生部に近い位置に設けることができるため、大掛かりな装置としなくても、Ｘ線観察部にて十分な大きさの像を結像することが可能となる。

【0083】

（６）上記（２）～（５）の何れか１つに記載のＸ線発生装置において、前記Ｘ線結像部と前記Ｘ線透過窓とは、同一のユニットに設けられる、Ｘ線発生装置。

【0084】

このような態様によれば、Ｘ線結像部をＸ線透過窓と同一のユニットにして構成することができるため、既存のシステムに組み込むことが容易となる。

【0085】

（７）Ｘ線分析装置であって、Ｘ線発生装置と、試料台と、Ｘ線検出器とを備え、前記Ｘ線発生装置は、上記（１）～（６）の何れか１つに記載のＸ線発生装置であり、前記試料台は、前記第２のＸ線が入射する試料を設置可能に構成され、前記Ｘ線検出器は、前記試料にて回折、反射又は散乱された前記第２のＸ線を検出可能に構成される、Ｘ線分析装置。

【0086】

このような態様によれば、Ｘ線発生部から発生するＸ線の観察結果に基づいて、Ｘ線分析測定に使用するＸ線を制御することができるＸ線分析装置を提供することが可能となる。

【0087】

（８）上記（１）～（６）の何れか１つに記載のＸ線発生装置の制御方法であって、次の各ステップを備え、受付ステップでは、前記Ｘ線観察部における前記第１のＸ線の観察の結果を受け付け、制御ステップでは、前記観察の結果に基づいて、前記電子線を発生させる電子銃の位置又は姿勢を制御する、Ｘ線発生装置の制御方法。

【0088】

このような態様によれば、観察結果に基づいてＸ線発生部から発生するＸ線を制御することが可能となる。

【0089】

（９）Ｘ線発生装置の制御システムであって、上記（８）に記載の制御方法の各ステップを実行する、少なくとも１つのプロセッサを備える、Ｘ線発生装置の制御システム。

【0090】

このような態様によれば、観察結果に基づいてＸ線発生部から発生するＸ線を制御することが可能となる。
もちろん、この限りではない。

【0091】

最後に、本発明に係る種々の実施形態を説明したが、これらは、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。当該新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。当該実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

【符号の説明】

【0092】

１ ：Ｘ線分析システム
２ ：Ｘ線分析装置
２０ ：Ｘ線発生装置
２００ ：収容部
２０１ ：絶縁部
２０２ ：カソード部
２０３ ：アノード部
２０３ａ ：Ｘ線発生部
２０４ ：第１の窓保持部
２０４ａ ：第１のＸ線透過窓
２０４ｂ ：Ｘ線結像部
２０４ｂ２：ピンホール
２０４ｃ ：空気孔
２０５ ：第２の窓保持部
２０５ａ ：第２のＸ線透過窓
２０６ ：筐体部
２０７ ：ベローズ
２１ ：Ｘ線観察部
２２ ：試料台
２３ ：Ｘ線検出器
３ ：情報処理装置
３０ ：通信バス
３１ ：プロセッサ
３２ ：記憶部
３３ ：通信部
３４ ：入力部
３５ ：出力部
４０４ ：第１の窓保持部
４０４ａ ：Ｘ線透過窓
４０４ｂ ：Ｘ線結像部
４０４ｂ２：ピンホール
Ｄ１ ：第１の方向
Ｄ２ ：第２の方向
Ｌ１ ：第１のＸ線
Ｌ２ ：第２のＸ線

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】