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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024154286
(43)【公開日】2024-10-30
(54)【発明の名称】高周波焼入システム
(51)【国際特許分類】
H05B 6/10 20060101AFI20241023BHJP
C21D 1/62 20060101ALI20241023BHJP
C21D 1/42 20060101ALI20241023BHJP
C21D 1/10 20060101ALI20241023BHJP
H05B 6/36 20060101ALI20241023BHJP
H05B 6/42 20060101ALI20241023BHJP
【ＦＩ】
H05B6/10 331
C21D1/62
C21D1/42 J
C21D1/10 G
H05B6/36 D
H05B6/42
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023068034
(22)【出願日】2023-04-18
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用申請有り 令和４年６月１日～令和４年６月３日のサーモテック２０２２第８回国際工業炉・関連機器展にて
(71)【出願人】
【識別番号】390026088
【氏名又は名称】富士電子工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100100480
【弁理士】
【氏名又は名称】藤田 隆
(72)【発明者】
【氏名】増谷 有亮
(72)【発明者】
【氏名】渡邊 弘子
【テーマコード（参考）】
3K059
【Ｆターム（参考）】
3K059AA09
3K059AB09
3K059AB19
3K059CD75
3K059CD79
(57)【要約】
【課題】本開示の高周波焼入システムは、誘導コイルの取り替えを自動的に行うことができる。
【解決手段】本開示の高周波焼入システムは、第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更されるものである。
【選択図】図７
【解決手段】本開示の高周波焼入システムは、第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更されるものである。
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極から突出した第１凸部と、第２基端側電極から突出した第２凸部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部に設けられた第１凹部と、第２リード部に設けられた第２凹部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部に設けられた第３凹部と、第４リード部に設けられた第４凹部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極から突出した第１凸部と、第２基端側電極から突出した第２凸部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部に設けられた第１凹部と、第２リード部に設けられた第２凹部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部に設けられた第３凹部と、第４リード部に設けられた第４凹部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
【請求項2】
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凹部と第１凸部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凹部と第１凸部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
【請求項3】
第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第３凹部、第４凹部、第１誘導コイル、第２誘導コイルのそれぞれは、内部に冷却剤を流す空洞を有し、
第１結合状態の時、第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第１誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れ、
第２結合状態の時、第１凸部、第３凹部、第２凸部、第４凹部、第２誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れる請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
第１結合状態の時、第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第１誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れ、
第２結合状態の時、第１凸部、第３凹部、第２凸部、第４凹部、第２誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れる請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
【請求項4】
第１凹部には第１凹部の内側に突出する第１のＯリングが配置され、第２凹部には第２凹部側の内側に突出する第２のＯリングが配置され、
第３凹部には第３凹部の内側に突出する第３のＯリングが配置され、第４凹部には第４凹部側の内側に突出する第４のＯリングが配置され、
第１結合状態のとき、第１凸部と第１のＯリングとが接触し、第２凸部と第２のＯリングとが接触し、
第２結合状態のとき、第１凸部と第３のＯリングとが接触し、第２凸部と第４のＯリングとが接触する請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
第３凹部には第３凹部の内側に突出する第３のＯリングが配置され、第４凹部には第４凹部側の内側に突出する第４のＯリングが配置され、
第１結合状態のとき、第１凸部と第１のＯリングとが接触し、第２凸部と第２のＯリングとが接触し、
第２結合状態のとき、第１凸部と第３のＯリングとが接触し、第２凸部と第４のＯリングとが接触する請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
【請求項5】
第１結合状態のとき、第１凸部と第１凹部とが嵌合し、第２凸部と第２凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第１リード部、第２基端側電極と第２リード部の位置合わせがなされる請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
【請求項6】
第２結合状態のとき、第１凸部と第３凹部とが嵌合し、第２凸部と第４凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第３リード部、第２基端側電極と第４リード部の位置合わせがなされる請求項１又は２に記載の高周波焼入システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、自動的に誘導コイルを取り替える高周波焼入システムに関するものである。
【背景技術】
【0002】
一般に、高周波焼入は大量生産に適する技術であり、多品種少量生産には不向きであると言われている。
なぜなら、高周波焼入は、誘導コイルをワークに近接させてワークに誘導電流を発生させるものであるため、誘導コイルとワークとの間の距離を一定に保つ必要があり、ワークの形状が変わると、その度に使用する誘導コイルも変えなければならないからである。
なぜなら、高周波焼入は、誘導コイルをワークに近接させてワークに誘導電流を発生させるものであるため、誘導コイルとワークとの間の距離を一定に保つ必要があり、ワークの形状が変わると、その度に使用する誘導コイルも変えなければならないからである。
【0003】
そこで、従来技術である特許文献１では、複数のワークに対応する複数の誘導コイルを準備しておき、自動的に誘導コイルを取り替えて、多品種少量生産に対応している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第６２３８５９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
まず、特許文献１の高周波焼入システム１００の概略の構成について説明する。
図１０に示す様に、特許文献１の高周波焼入システム１００は、産業用ロボット１０２のアーム１０３と、基端側部材１０６と、コイルユニット１０５とを備えている。
産業用ロボット１０２は、移動手段であり、産業用ロボット１０２のアーム１０３でコイルユニット１０５を保持する。
高周波焼入システム１００では、産業用ロボット１０２のアーム１０３に基端側部材１０６が取り付けられており、基端側部材１０６にコイルユニット１０５が接続されている。
図１０に示す様に、特許文献１の高周波焼入システム１００は、産業用ロボット１０２のアーム１０３と、基端側部材１０６と、コイルユニット１０５とを備えている。
産業用ロボット１０２は、移動手段であり、産業用ロボット１０２のアーム１０３でコイルユニット１０５を保持する。
高周波焼入システム１００では、産業用ロボット１０２のアーム１０３に基端側部材１０６が取り付けられており、基端側部材１０６にコイルユニット１０５が接続されている。
【0006】
コイルユニット１０５は、図１０、図１１に示すように、略「コ」の字状の筐体１１０に誘導コイル１１５が取り付けられたものである。
筐体１５０は、図１０に示す様に天面を形成するユニット側フランジ部材１２０と、左右の側壁部１２１，１２２の３面を有し、他の３面が開放された構造をしている。
ユニット側フランジ部材１２０の表面には、２個の位置決め孔１２３ａ，１２３ｂが設けられている。
またユニット側フランジ部材１２０の表面には、冷却液導入口１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと冷却液排出口１２６ａ，１２６ｂ，１２６ｃとの組み合わせを３組備えている。
筐体１５０は、図１０に示す様に天面を形成するユニット側フランジ部材１２０と、左右の側壁部１２１，１２２の３面を有し、他の３面が開放された構造をしている。
ユニット側フランジ部材１２０の表面には、２個の位置決め孔１２３ａ，１２３ｂが設けられている。
またユニット側フランジ部材１２０の表面には、冷却液導入口１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと冷却液排出口１２６ａ，１２６ｂ，１２６ｃとの組み合わせを３組備えている。
【0007】
図１１に示す様に、誘導コイル１１５は、小型の半開放鞍型コイルであり、ワークに対してワークの半径方向に接近及び離間することができる。
また、誘導コイル１１５は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、誘導コイル１１５の内部を冷却液が流通する。
コイルユニット１０５には、誘導コイル１１５と電気的につながるコイル側接点１３０ａ，１３０ｂが設けられている。コイル側接点１３０ａ，１３０ｂは、給電部１３１ａ，１３１ｂを介して誘導コイル１１５と電気的につながっている。
また、誘導コイル１１５は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、誘導コイル１１５の内部を冷却液が流通する。
コイルユニット１０５には、誘導コイル１１５と電気的につながるコイル側接点１３０ａ，１３０ｂが設けられている。コイル側接点１３０ａ，１３０ｂは、給電部１３１ａ，１３１ｂを介して誘導コイル１１５と電気的につながっている。
【0008】
コイル側接点１３０ａ，１３０ｂは、図１１の姿勢を基準として水平に配されたバーである。
誘導コイル１１５のコイル側接点１３０ａ，１３０ｂはユニット側フランジ部材１２０から突出した位置にあり、コイル側接点１３０ａ，１３０ｂの表面は、ユニット側フランジ部材１２０の表面と平行に配置されている。
給電部１３１ａ，１３１ｂ及び誘導コイル１１５の内部は空洞であって、冷却液流路が形成されている。そして図１１の様に、冷却液導入口１２５ａと冷却液排出口１２６ａのコイルユニット１０５の内部側の開口が、チューブ１３６ａ，１３６ｂを介して冷却液流路に接続されている。
冷却液導入口１２５ｂと冷却液排出口１２６ｂ、冷却液導入口１２５ｃと冷却液排出口１２６ｃも、冷却液導入口１２５ａと冷却液排出口１２６ａと同様の構造である。
誘導コイル１１５のコイル側接点１３０ａ，１３０ｂはユニット側フランジ部材１２０から突出した位置にあり、コイル側接点１３０ａ，１３０ｂの表面は、ユニット側フランジ部材１２０の表面と平行に配置されている。
給電部１３１ａ，１３１ｂ及び誘導コイル１１５の内部は空洞であって、冷却液流路が形成されている。そして図１１の様に、冷却液導入口１２５ａと冷却液排出口１２６ａのコイルユニット１０５の内部側の開口が、チューブ１３６ａ，１３６ｂを介して冷却液流路に接続されている。
冷却液導入口１２５ｂと冷却液排出口１２６ｂ、冷却液導入口１２５ｃと冷却液排出口１２６ｃも、冷却液導入口１２５ａと冷却液排出口１２６ａと同様の構造である。
【0009】
次に基端側部材１０６について説明する。基端側部材１０６は、基端側枠１４２と、スライド部材１４０と、基端側接点１４３ａ，１４３ｂとを有している。
基端側枠１４２は、天面と底面を含む４面が囲まれた枠である。
即ち基端側枠１４２は、天面となる取り付け壁１４１と、底面となる基端側フランジ部材１４５とを有し、さらに両者を接続する側面壁１４６ａ，１４６ｂを有している。基端側枠１４２は、４面が囲まれた枠であり、内部は空洞である。
基端側部材１０６の内部において、電極である直方体の基端側接点１４３ａ，１４３ｂが設けられている。
基端側枠１４２は、天面と底面を含む４面が囲まれた枠である。
即ち基端側枠１４２は、天面となる取り付け壁１４１と、底面となる基端側フランジ部材１４５とを有し、さらに両者を接続する側面壁１４６ａ，１４６ｂを有している。基端側枠１４２は、４面が囲まれた枠であり、内部は空洞である。
基端側部材１０６の内部において、電極である直方体の基端側接点１４３ａ，１４３ｂが設けられている。
【0010】
次に、高周波焼入システム１００における基端側部材１０６とユニット側フランジ部材１２０との接合方法について、説明する。
【0011】
図１０に示す様に、基端側部材１０６とユニット側フランジ部材１２０とが接続する際、基端側部材１０６の２個の位置決めピン１４７ａ，１４７ｂと、ユニット側フランジ部材１２０の２個の位置決め孔１２３ａ，１２３ｂとが嵌合して、位置合わせが行われる。
【0012】
基端側部材１０６の基端側接点１４３ａ，１４３ｂの下面と、コイルユニット１０５のコイル側接点１３０ａ，１３０ｂの上面のそれぞれが接触する。
【0013】
基端側フランジ部材１４５の下面に設けられた冷却液供給口１４８ａ，１４８ｂ，１４８ｃと、ユニット側フランジ部材１２０の上面に設けられた冷却液導入口１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃとが合致する。またユニット側フランジ部材１２０の冷却液排出口１２６ａ，１２６ｂ，１２６ｃと、基端側フランジ部材１４５の冷却液回収口１５０ａ，１５０ｂ，１５０ｃとが合致する。
【0014】
特許文献１では、冷却液が漏れないように、基端側フランジ部材１４５の表面には冷却液供給口１４８ａ，１４８ｂ，１４８ｃ及び冷却液回収口１５０ａ，１５０ｂ，１５０ｃにはそれぞれＯリング１４４が設けられている。そのことにより、基端側フランジ部材１４５側の表面の各孔（冷却液供給口１４８ａ～１４８ｃ，冷却液回収口１５０ａ～１５０ｃ）と、ユニット側フランジ部材１２０の各孔（冷却液導入口１２５ａ～１２５ｃ，冷却液排出口１２６ａ～１２６ｃ）とは液密性を保った状態で接合される。
また、Ｏリング１４４は、ユニット側フランジ部材１２０の冷却液導入口１２５ａ～１２５ｃ，冷却液排出口１２６ａ～１２６ｃの上にせ、液密性を保つ場合もある。
また、Ｏリング１４４は、ユニット側フランジ部材１２０の冷却液導入口１２５ａ～１２５ｃ，冷却液排出口１２６ａ～１２６ｃの上にせ、液密性を保つ場合もある。
【0015】
しかしながら、特許文献１では、冷却液が漏れないようにするため、基端側部材１０６とユニット側フランジ部材１２０とに大きな力を加えないと、基端側部材１０６とユニット側フランジ部材１２０とを密着させることができないという課題を有していた。
また、特許文献１では、大きな力を加えるため、Ｏリング１４４、その他の部材の寿命が短くなるという課題を有していた。
本開示の高周波焼入システムは、上記課題を解決するものである。
また、特許文献１では、大きな力を加えるため、Ｏリング１４４、その他の部材の寿命が短くなるという課題を有していた。
本開示の高周波焼入システムは、上記課題を解決するものである。
【課題を解決するための手段】
【0016】
本開示の一態様に係る高周波焼入システムは、第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極から突出した第１凸部と、第２基端側電極から突出した第２凸部とを有し、第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部に設けられた第１凹部と、第２リード部に設けられた第２凹部とを有し、第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部に設けられた第３凹部と、第４リード部に設けられた第４凹部とを有し、交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更されるものである。
本開示の別の態様に係る高周波焼入システムは、第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更されるものである。
本開示の別の態様に係る高周波焼入システムは、第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更されるものである。
【発明の効果】
【0017】
本開示の高周波焼入システムは、小さな力で基端側部材とユニット側フランジ部材と密着させることが可能である。また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本実施形態１における焼入れロボットの概略の斜視図である。
【図2】本実施形態１における基端側部材の内部を捉えた高周波焼入システムの概略の斜視図である。
【図3】本実施形態１における第１コイルユニットの上面を捉えた高周波焼入システムの概略の斜視図である。
【図4】本実施形態１における基端側部材と第１コイルユニットとが装着されている状態の概略の断面図である。
【図6】本実施形態１における第２コイルユニットの上面を捉えた高周波焼入システムの概略の斜視図である。
【図7】本実施形態１における第１コイルユニットと第２コイルユニットとを交換する動作を示す概略の斜視図で、（ａ）は、第１コイルユニットが装着されている状態を示す図であり、（ｂ）は、第１コイルユニットを第１コイルユニット台に設置する状態を示す図であり、（ｃ）は、第２コイルユニットが装着されている状態を示す図であり、（ｄ）は、第２コイルユニットを第２コイルユニット台に設置する状態を示す図である。
【図8】変形例における基端側部材の下面を捉えた高周波焼入システムの概略の斜視図である。
【図9】変形例における第１コイルユニットの上面を捉えた高周波焼入システムの概略の斜視図である。
【図10】従来技術の高周波焼入れシステムの概略の斜視図である。
【図11】従来技術の高周波焼入れシステムのコイルユニットの概略の斜視図である。
【図12】従来技術の高周波焼入れシステムの基端側部材の概略の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下、本開示により具体的な実施形態を説明する。ただし、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。なお、発明者らは、当業者が本開示を十分に理解するために添付図面および以下の説明を提供するのであって、これらによって特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。以下の説明において、同一または類似する構成要素については、同じ参照符号を付している。
【0020】
（実施形態１）
（焼入れロボットについて）
まず、本開示の一態様の焼入れロボット４０の概略について、説明する。
図１は、本実施形態１における焼入れロボット４０の概略の斜視図である。
図１に示す様に、焼入れロボット４０は、搬入エリア４４と、焼入れエリア４５と、交換エリア４６とを有する。
焼入れエリア４５及び交換エリア４６には、ワークに焼入れを行う高周波焼入システム１が配置されている。
搬入エリア４４は、ワークが搬入され、搬入されたワークを搬送装置で焼入れエリア４５に搬送するエリアである。
（焼入れロボットについて）
まず、本開示の一態様の焼入れロボット４０の概略について、説明する。
図１は、本実施形態１における焼入れロボット４０の概略の斜視図である。
図１に示す様に、焼入れロボット４０は、搬入エリア４４と、焼入れエリア４５と、交換エリア４６とを有する。
焼入れエリア４５及び交換エリア４６には、ワークに焼入れを行う高周波焼入システム１が配置されている。
搬入エリア４４は、ワークが搬入され、搬入されたワークを搬送装置で焼入れエリア４５に搬送するエリアである。
【0021】
焼入れエリア４５は、第２ハンド部４７で焼入れエリア４５にあるワークを焼入れエリア４５にある載置台に載置し、後述する第１コイルユニット５または第２コイルユニットで、載置台に載置されたワークに誘導加熱による高周波焼入れを行うエリアである。
交換エリア４６は、第１コイルユニット５と第２コイルユニットとの交換エリアである。具体的には、第１ハンド部４２の基端側部材３に装着されている第１コイルユニット５を、第１コイルユニット台５１に設置する。そして、第１コイルユニット５の替りに、第２コイルユニット台５２に設置されている第２コイルユニットを基端側部材３に装着させる。基端側部材３に装着された第２コイルユニットにより、焼入れエリア４５にあるワークに誘導加熱による高周波焼入れを行う。
交換エリア４６は、第１コイルユニット５と第２コイルユニットとの交換エリアである。具体的には、第１ハンド部４２の基端側部材３に装着されている第１コイルユニット５を、第１コイルユニット台５１に設置する。そして、第１コイルユニット５の替りに、第２コイルユニット台５２に設置されている第２コイルユニットを基端側部材３に装着させる。基端側部材３に装着された第２コイルユニットにより、焼入れエリア４５にあるワークに誘導加熱による高周波焼入れを行う。
【0022】
図１、２、６に示す様に、高周波焼入システム１は、基端側部材３と、第１コイルユニット５と、第２コイルユニット６とを有する。
次に、高周波焼入システム１の詳細について、説明する。
（基端側部材、第１コイルユニット及び第２コイルユニットについて）
次に、高周波焼入システム１の詳細について、説明する。
（基端側部材、第１コイルユニット及び第２コイルユニットについて）
【0023】
図２に示す様に、高周波焼入システム１は、移動手段４１の第１ハンド部４２と、基端側部材３と、第１コイルユニット５とを備えている。
移動手段４１は第１ハンド部４２を移動させるもので、第１コイルユニット５は第１ハンド部４２に保持されている。
高周波焼入システム１では、基端側部材３に第１コイルユニット５が接続されている。
移動手段４１は第１ハンド部４２を移動させるもので、第１コイルユニット５は第１ハンド部４２に保持されている。
高周波焼入システム１では、基端側部材３に第１コイルユニット５が接続されている。
【0024】
基端側部材３について説明する。
基端側部材３は、第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１を有している。第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１は、銅などの導電性の板状である。
第１基端側電極１０には、銅などの導電性の第１凸部１２が配置されている。
第２基端側電極１１には、銅などの導電性の第２凸部１３が配置されている。
基端側部材３は、第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１を有している。第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１は、銅などの導電性の板状である。
第１基端側電極１０には、銅などの導電性の第１凸部１２が配置されている。
第２基端側電極１１には、銅などの導電性の第２凸部１３が配置されている。
【0025】
第１コイルユニット５について説明する。
図３に示す様に、第１コイルユニット５は、第１リード部２１と、第２リード部２２と、後述する第１電極２８ａと、後述する第２電極２８ｂと、第１誘導コイル２７とを有する。
第１リード部２１と、第１電極２８ａと、第１誘導コイル２７と、第２電極２８ｂと、第２リード部２２とは、この順に接続され、電気的に繋がっている。
第１電極２８ａ、第２電極２８ｂ、第１誘導コイル２７の内部は空洞であって、冷却液が流れる冷却液流路が形成されている。
図３に示す様に、第１コイルユニット５は、第１リード部２１と、第２リード部２２と、後述する第１電極２８ａと、後述する第２電極２８ｂと、第１誘導コイル２７とを有する。
第１リード部２１と、第１電極２８ａと、第１誘導コイル２７と、第２電極２８ｂと、第２リード部２２とは、この順に接続され、電気的に繋がっている。
第１電極２８ａ、第２電極２８ｂ、第１誘導コイル２７の内部は空洞であって、冷却液が流れる冷却液流路が形成されている。
【0026】
第１リード部２１の表面には第１凹部２３が配置され、第２リード部２２の表面には第２凹部２４が配置されている。
図３の真ん中の拡大図に示す様に、第２凹部２４の内部の任意の位置には、第２のＯリング２６が配置されている。第２のＯリング２６の上面は、第２凹部２４の上部からは飛び出していない。
また、第２のＯリング２６と同様に、第１凹部２３の内部の任意の位置には、第１のＯリング２５が配置されている。第１のＯリング２５の上面は、第１凹部２３の上部からは飛び出していない。
基端側部材３と第１コイルユニット５とが接合される際、第１凸部１２と第１のＯリング２５とが嵌合し、第２凸部１３と第２のＯリング２６とが嵌合する。
図３の真ん中の拡大図に示す様に、第２凹部２４の内部の任意の位置には、第２のＯリング２６が配置されている。第２のＯリング２６の上面は、第２凹部２４の上部からは飛び出していない。
また、第２のＯリング２６と同様に、第１凹部２３の内部の任意の位置には、第１のＯリング２５が配置されている。第１のＯリング２５の上面は、第１凹部２３の上部からは飛び出していない。
基端側部材３と第１コイルユニット５とが接合される際、第１凸部１２と第１のＯリング２５とが嵌合し、第２凸部１３と第２のＯリング２６とが嵌合する。
【0027】
図２、３に示す様に、第１コイルユニット５は、略「コ」の字状の筐体１５に第１誘導コイル２７が取り付けられたものである。
第１誘導コイル２７は、小型の半開放鞍型コイルであり、ワークに対してワークの半径方向に接近及び離間することができる。
上記したように、第１誘導コイル２７は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が流通する。
第１誘導コイル２７は、小型の半開放鞍型コイルであり、ワークに対してワークの半径方向に接近及び離間することができる。
上記したように、第１誘導コイル２７は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が流通する。
【0028】
第２コイルユニット６について説明する。
第２コイルユニット６は、基本的に、第１コイルユニット５と同じ構成である。
図６に示す様に、第２コイルユニット６は、第３リード部３１と、第２電極３８ａ（図示せず）と、第２電極３８ｂ（図示せず）と、第４リード部３２と、第２誘導コイル３７とを有する。
第３リード部３１と、第２電極３８ａと、第２電極３８ｂと、第４リード部３２とは、この順に接続され、電気的に繋がっている。
第２電極３８ａと、第２電極３８ｂ、第２誘導コイル３７の内部は空洞であって、冷却液が流れる冷却液流路が形成されている。
第２コイルユニット６は、基本的に、第１コイルユニット５と同じ構成である。
図６に示す様に、第２コイルユニット６は、第３リード部３１と、第２電極３８ａ（図示せず）と、第２電極３８ｂ（図示せず）と、第４リード部３２と、第２誘導コイル３７とを有する。
第３リード部３１と、第２電極３８ａと、第２電極３８ｂと、第４リード部３２とは、この順に接続され、電気的に繋がっている。
第２電極３８ａと、第２電極３８ｂ、第２誘導コイル３７の内部は空洞であって、冷却液が流れる冷却液流路が形成されている。
【0029】
第３リード部３１の表面には第３凹部３３が配置され、第４リード部３２の表面には第４凹部３４が配置されている。
第３凹部３３の内部の任意の位置には、第３のＯリング３５が配置されている。第３のＯリング３５の上面は、第３凹部３３の上部からは飛び出していない。
また、第４凹部３４の内部の任意の位置には、第４のＯリング３６が配置されている。第４のＯリング３６の上面は、第４凹部３４の上部からは飛び出していない。
第３凹部３３の内部の任意の位置には、第３のＯリング３５が配置されている。第３のＯリング３５の上面は、第３凹部３３の上部からは飛び出していない。
また、第４凹部３４の内部の任意の位置には、第４のＯリング３６が配置されている。第４のＯリング３６の上面は、第４凹部３４の上部からは飛び出していない。
【0030】
基端側部材３と第２コイルユニット６とが接合される際、第１凸部１２と第３のＯリング３５とが嵌合し、第２凸部１３と第４のＯリング３６とが嵌合する。
【0031】
第２誘導コイル３７は、小型の半開放鞍型コイルであり、ワークに対してワークの半径方向に接近及び離間することができる。
第２誘導コイル３７は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、第２誘導コイル３７の内部を冷却液が流通する。
第２誘導コイル３７は、銅合金等の良導体で構成された中空の導線で構成されており、第２誘導コイル３７の内部を冷却液が流通する。
【0032】
（第１コイルユニット及び第２コイルユニットの交換動作）
図４は、実施形態１における基端側部材３と第１コイルユニット５とが装着されている状態の概略の断面である。
図５は、図４における第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１周辺の概略の断面図である。
図７は、実施形態１における第１コイルユニット５と第２コイルユニット６とを交換する動作を示す概略の斜視図である。
図４、５、７を用いて、第１コイルユニット５と第２コイルユニット６とを交換する動作について説明する。
図４は、実施形態１における基端側部材３と第１コイルユニット５とが装着されている状態の概略の断面である。
図５は、図４における第１基端側電極１０及び第２基端側電極１１周辺の概略の断面図である。
図７は、実施形態１における第１コイルユニット５と第２コイルユニット６とを交換する動作を示す概略の斜視図である。
図４、５、７を用いて、第１コイルユニット５と第２コイルユニット６とを交換する動作について説明する。
【0033】
図４、５、７（ａ）に示す様に、基端側部材３と第１コイルユニット５とが装着されている。
図４に示す様に、第１基端側電極１０と第１リード部２１とが接触し、第１基端側電極１０と第１リード部２１とが電気的に接続され、第２基端側電極１１と第２リード部２２とが接触し、第２基端側電極１１と第２リード部２２とが電気的に接続されている。
図４に示す様に、第１基端側電極１０と第１リード部２１とが接触し、第１基端側電極１０と第１リード部２１とが電気的に接続され、第２基端側電極１１と第２リード部２２とが接触し、第２基端側電極１１と第２リード部２２とが電気的に接続されている。
【0034】
上記により、基端側部材３から高周波の電力が、第１誘導コイル２７の第１コイル部２９に供給される。第１コイル部２９に高周波の電力が供給されることで、第１コイル部２９は近接したワークに誘導加熱が行われる。
また、第１基端側電極１０を介して、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が流通する。
また、第１基端側電極１０を介して、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が流通する。
【0035】
図５に示す様に、第１凸部１２と第１凹部２３とが嵌合し、第２凸部１３と第２凹部２４とが嵌合している。
第１凹部２３の任意の位置に配置された第１のＯリング２５は第１凸部１２の外表面と密着し、第２凹部２４の任意の位置に配置された第２のＯリング２６は第２凸部１３の外表面と密着している。
そのことにより、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
第１のＯリング２５及び第２のＯリング２６は、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができる。
上記態様によれば、高周波焼入システムは、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることが可能である。また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
第１凹部２３の任意の位置に配置された第１のＯリング２５は第１凸部１２の外表面と密着し、第２凹部２４の任意の位置に配置された第２のＯリング２６は第２凸部１３の外表面と密着している。
そのことにより、第１誘導コイル２７の内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
第１のＯリング２５及び第２のＯリング２６は、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができる。
上記態様によれば、高周波焼入システムは、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることが可能である。また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【0036】
（ＳＴＥＰ１）
ＳＴＥＰ１では、図７（ｂ）に示す様に、基端側部材３から第１誘導コイル２７が離脱され、第１コイルユニット台５１に第１誘導コイル２７が設定される。
ＳＴＥＰ１では、図７（ｂ）に示す様に、基端側部材３から第１誘導コイル２７が離脱され、第１コイルユニット台５１に第１誘導コイル２７が設定される。
【0037】
【0038】
（ＳＴＥＰ３）
ＳＴＥＰ３では、図７（ｄ）に示す様に、基端側部材３が降下し、基端側部材３と第２コイルユニット６とが接合する。
ＳＴＥＰ３では、図７（ｄ）に示す様に、基端側部材３が降下し、基端側部材３と第２コイルユニット６とが接合する。
【0039】
（ＳＴＥＰ４）
まず、ＳＴＥＰ４では、図７（ｃ）に示す様に、第２コイルユニット６が装着された基端側部材３を上昇させる。
次に、移動手段４１で、第２コイルユニット６を焼入れエリア４５に移動させる。
次に、第２コイルユニット６を載置台に載置されたワークに近接させる。
最後に、第２コイルユニット６で、載置台に載置されたワークに誘導加熱による高周波焼入れを行う。
（変形例）
まず、ＳＴＥＰ４では、図７（ｃ）に示す様に、第２コイルユニット６が装着された基端側部材３を上昇させる。
次に、移動手段４１で、第２コイルユニット６を焼入れエリア４５に移動させる。
次に、第２コイルユニット６を載置台に載置されたワークに近接させる。
最後に、第２コイルユニット６で、載置台に載置されたワークに誘導加熱による高周波焼入れを行う。
（変形例）
【0040】
変形例について、説明する。
図８は変形例の基端側部材３の下面を捉えた高周波焼入システム１の概略の斜視図で、図９は変形例の第１コイルユニット５の上面を捉えた高周波焼入システム１の概略の斜視図である。
変形例は、基端側部材３における第１凸部１２が第１凹部２３になっており、基端側部材３における第２凸部１３が第２凹部２４になっている点が、実施形態１と異なっている。他の構成は、実施形態１と同じであるので、説明を省略する。
図８は変形例の基端側部材３の下面を捉えた高周波焼入システム１の概略の斜視図で、図９は変形例の第１コイルユニット５の上面を捉えた高周波焼入システム１の概略の斜視図である。
変形例は、基端側部材３における第１凸部１２が第１凹部２３になっており、基端側部材３における第２凸部１３が第２凹部２４になっている点が、実施形態１と異なっている。他の構成は、実施形態１と同じであるので、説明を省略する。
【0041】
図８に示す様に、第１基端側電極１０に第１凹部２３が設けられ、第２基端側電極１１に第２凹部２４が設けられている。
第１凹部２３の内部の任意の位置には、第１のＯリング２５が配置されている。第１のＯリング２５の上面は、第１凹部２３の上部からは飛び出していない。
また、第２凹部２４の内部の任意の位置には、第２のＯリング２６が配置されている。第２のＯリング２６の上面は、第２凹部２４の上部からは飛び出していない。
第１凹部２３の内部の任意の位置には、第１のＯリング２５が配置されている。第１のＯリング２５の上面は、第１凹部２３の上部からは飛び出していない。
また、第２凹部２４の内部の任意の位置には、第２のＯリング２６が配置されている。第２のＯリング２６の上面は、第２凹部２４の上部からは飛び出していない。
【0042】
基端側部材３と第１コイルユニット５とが接合される際、第１凸部１２と第１のＯリング２５とが嵌合し、第２凸部１３と第２のＯリング２６とが嵌合する。
その際、第１凹部２３の任意の位置に配置された第１のＯリング２５は第１凸部１２の外表面と密着し、第２凹部２４の任意の位置に配置された第２のＯリング２６は第２凸部１３の外表面と密着している。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
その際、第１凹部２３の任意の位置に配置された第１のＯリング２５は第１凸部１２の外表面と密着し、第２凹部２４の任意の位置に配置された第２のＯリング２６は第２凸部１３の外表面と密着している。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【0043】
尚、図１では交換エリア４６に第１コイルユニット５と第２コイルユニット６しか記載していないが、３個以上のコイルユニットが配置されていてもよい。
【0044】
尚、実施形態１、変形例に係る発明は、矛盾が生じない限り、置き換えたり、組合せたりすることができる。
【0045】
以上のように、本開示は、以下の項目に記載の高周波焼入システムを含む。
【0046】
〔項目１〕
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極から突出した第１凸部と、第２基端側電極から突出した第２凸部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部に設けられた第１凹部と、第２リード部に設けられた第２凹部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部に設けられた第３凹部と、第４リード部に設けられた第４凹部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極から突出した第１凸部と、第２基端側電極から突出した第２凸部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部に設けられた第１凹部と、第２リード部に設けられた第２凹部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部に設けられた第３凹部と、第４リード部に設けられた第４凹部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凸部と第１凹部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凸部と第３凹部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凸部と第２凹部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凸部と第４凹部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【0047】
〔項目２〕
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凹部と第１凸部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
第１コイルユニットと、第２コイルユニットと、基端側部材と、交換機構とを有する高周波焼入システムであって、
交換機構は、第１コイルユニットと基端側部材とが結合している第１結合状態から第２コイルユニットと基端側部材とが結合している第２結合状態へと結合状態を変更するものであって、
基端側部材は、第１基端側電極と、第２基端側電極と、第１基端側電極に設けられた第１凹部と、第２基端側電極に設けられた第２凹部とを有し、
第１コイルユニットは、第１誘導コイルと、第１誘導コイルに電力を供給する第１リード部及び第２リード部と、第１リード部から突出した第１凸部と、第２リード部から突出した第２凸部とを有し、
第２コイルユニットは、第２誘導コイルと、第２誘導コイルに電力を供給する第３リード部及び第４リード部と、第３リード部から突出した第３凸部と、第４リード部から突出した第４凸部とを有し、
交換機構により、第１結合状態から第２結合状態へと結合状態を変更する場合、第１基端側電極と第１リード部とが接触し第１凹部と第１凸部とが嵌合している状態から、第１基端側電極と第３リード部とが接触し第１凹部と第３凸部とが嵌合する状態へと変更され、
第２基端側電極と第２リード部とが接触し第２凹部と第２凸部とが嵌合している状態から、第２基端側電極と第４リード部とが接触し第２凹部と第４凸部とが嵌合する状態へと変更される高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
また、基端側部材と、第１コイルユニットまたは第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【0048】
〔項目３〕
第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第３凹部、第４凹部、第１誘導コイル、第２誘導コイルのそれぞれは、内部に冷却剤を流す空洞を有し、
第１結合状態の時、第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第１誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れ、
第２結合状態の時、第１凸部、第３凹部、第２凸部、第４凹部、第２誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れる項目１又は２に記載の高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第３凹部、第４凹部、第１誘導コイル、第２誘導コイルのそれぞれは、内部に冷却剤を流す空洞を有し、
第１結合状態の時、第１凸部、第１凹部、第２凸部、第２凹部、第１誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れ、
第２結合状態の時、第１凸部、第３凹部、第２凸部、第４凹部、第２誘導コイルのそれぞれの空洞の内部を冷却剤が流れる項目１又は２に記載の高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
【0049】
〔項目４〕
第１凹部には第１凹部の内側に突出する第１のＯリングが配置され、第２凹部には第２凹部側の内側に突出する第２のＯリングが配置され、
第３凹部には第３凹部の内側に突出する第３のＯリングが配置され、第４凹部には第４凹部側の内側に突出する第４のＯリングが配置され、
第１結合状態のとき、第１凸部と第１のＯリングとが接触し、第２凸部と第２のＯリングとが接触し、
第２結合状態のとき、第１凸部と第３のＯリングとが接触し、第２凸部と第４のＯリングとが接触する項目１乃至３のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
第１凹部には第１凹部の内側に突出する第１のＯリングが配置され、第２凹部には第２凹部側の内側に突出する第２のＯリングが配置され、
第３凹部には第３凹部の内側に突出する第３のＯリングが配置され、第４凹部には第４凹部側の内側に突出する第４のＯリングが配置され、
第１結合状態のとき、第１凸部と第１のＯリングとが接触し、第２凸部と第２のＯリングとが接触し、
第２結合状態のとき、第１凸部と第３のＯリングとが接触し、第２凸部と第４のＯリングとが接触する項目１乃至３のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様によれば、第１のＯリング及び第２のＯリングは、半径方向には容易に変形するので、小さな力で基端側部材とコイルユニットと密着させることができるので、第１誘導コイルの内部を冷却液が通過しても、外部に漏れ出すことはない。
また、Ｏリング、その他の部材の寿命を長くすることができる。
【0050】
〔項目５〕
第１結合状態のとき、第１凸部と第１凹部とが嵌合し、第２凸部と第２凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第１リード部、第２基端側電極と第２リード部の位置合わせがなされる項目１乃至４のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様よれば、基端側部材と第１コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
第１結合状態のとき、第１凸部と第１凹部とが嵌合し、第２凸部と第２凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第１リード部、第２基端側電極と第２リード部の位置合わせがなされる項目１乃至４のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様よれば、基端側部材と第１コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【0051】
〔項目６〕
第２結合状態のとき、第１凸部と第３凹部とが嵌合し、第２凸部と第４凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第３リード部、第２基端側電極と第４リード部の位置合わせがなされる項目１乃至５のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様よれば、基端側部材と第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
第２結合状態のとき、第１凸部と第３凹部とが嵌合し、第２凸部と第４凹部とが嵌合して、第１基端側電極と第３リード部、第２基端側電極と第４リード部の位置合わせがなされる項目１乃至５のいずれかに記載の高周波焼入システム。
上記態様よれば、基端側部材と第２コイルユニットとを容易に位置合せすることができる。
【符号の説明】
【0052】
１ 高周波焼入システム
３ 基端側部材
５ 第１コイルユニット
６ 第２コイルユニット
１０ 第１基端側部材
１１ 第２基端側部材
１２ 第１凸部
１３ 第２凸部
２１ 第１リード部
２２ 第２リード部
２３ 第１凹部
２４ 第２凹部
２５ 第１のＯリング
２６ 第２のＯリング
２７ 第１誘導コイル
３７ 第２誘導コイル
３１ 第３リード部
３２ 第４リード部
３３ 第３凹部
３４ 第４凹部
３５ 第３のＯリング
３６ 第４のＯリング
３ 基端側部材
５ 第１コイルユニット
６ 第２コイルユニット
１０ 第１基端側部材
１１ 第２基端側部材
１２ 第１凸部
１３ 第２凸部
２１ 第１リード部
２２ 第２リード部
２３ 第１凹部
２４ 第２凹部
２５ 第１のＯリング
２６ 第２のＯリング
２７ 第１誘導コイル
３７ 第２誘導コイル
３１ 第３リード部
３２ 第４リード部
３３ 第３凹部
３４ 第４凹部
３５ 第３のＯリング
３６ 第４のＯリング
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】