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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024155000
(43)【公開日】2024-10-31
(54)【発明の名称】光処理装置
(51)【国際特許分類】
B01J 19/12 20060101AFI20241024BHJP
B29C 59/02 20060101ALI20241024BHJP
B29C 35/08 20060101ALI20241024BHJP
【ＦＩ】
B01J19/12 C
B29C59/02 Z
B29C35/08
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023069314
(22)【出願日】2023-04-20
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000729
【氏名又は名称】弁理士法人ユニアス国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】山森 賢治
(72)【発明者】
【氏名】大図 将人
【テーマコード（参考）】
4F203
4F209
4G075
【Ｆターム（参考）】
4F203AA36
4F203AC03
4F203AF01
4F203AG01
4F203AH48
4F203AJ08
4F203DA12
4F203DB02
4F203DC08
4F203DL01
4F203DM12
4F209AA44
4F209AF01
4F209AG05
4F209AM30
4F209PA02
4F209PB01
4F209PN09
4G075AA29
4G075AA30
4G075BA04
4G075CA33
4G075CA63
4G075DA02
4G075EB01
4G075EB31
4G075EC09
4G075EC10
4G075ED04
4G075ED11
4G075FA03
4G075FB06
4G075FB12
(57)【要約】
【課題】処理効率を高めた光処理装置を提供する。
【解決手段】光処理装置は、搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に、紫外光を照射する光源と、前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備える。
【選択図】図１
【解決手段】光処理装置は、搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に、紫外光を照射する光源と、前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備える。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に、紫外光を照射する光源と、
前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備えることを特徴とする光処理装置。
前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備えることを特徴とする光処理装置。
【請求項2】
前記外気流入抑制部は、前記ランプハウスの搬送経路の上流空間の気体が、前記ランプハウスと前記ランプハウスに対向する搬送経路の間に位置するランプハウス近接空間に流入することを抑制する第一隔壁と、前記第一隔壁の近傍かつ前記第一隔壁より搬送方向上流に配置されたガイドローラとを備え、
前記ガイドローラは、前記被処理体を移動させるためのガイドローラ、又は、前記被処理体を搬送するベルトを移動させるためのガイドローラであることを特徴とする、請求項１に記載の光処理装置。
前記ガイドローラは、前記被処理体を移動させるためのガイドローラ、又は、前記被処理体を搬送するベルトを移動させるためのガイドローラであることを特徴とする、請求項１に記載の光処理装置。
【請求項3】
前記第一隔壁と前記ガイドローラの表面との間隔は、前記被処理体又は前記ベルトと前記第一隔壁との間隔より小さいことを特徴とする、請求項２に記載の光処理装置。
【請求項4】
前記ガイドローラの直径は、前記被処理体又は前記ベルトと前記第一隔壁との間隔の５倍以上の大きさであることを特徴とする、請求項２に記載の光処理装置。
【請求項5】
前記外気流入抑制部は、前記ランプハウスと前記ランプハウスに対向する搬送経路の間に位置するランプハウス近接空間と、前記ランプハウス内の空間と、を部分的に隔てる第二隔壁を備えることを特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に記載の光処理装置。
【請求項6】
前記ランプハウス近接空間と前記ランプハウス内の空間との間に、複数の素線が懸架された素線懸架部を含むことを特徴とする、請求項５に記載の光処理装置。
【請求項7】
前記素線懸架部は、前記複数の素線が異なる二方向に懸架されて互いに交差するメッシュ状、又は、前記複数の素線が同じ方向に並ぶアレイ状であることを特徴とする、請求項６に記載の光処理装置。
【請求項8】
前記複数の素線は、いずれの素線も、搬送経路に沿う方向と直交しないことを特徴とする、請求項７に記載の光処理装置。
【請求項9】
前記光処理装置は、前記ランプハウスの前記搬送経路の上流と下流にそれぞれ排気口を備え、
前記外気流入抑制部は、前記ランプハウスと前記被処理体との間で、前記搬送方向の上流に向かって前記不活性ガスが流れるように、前記搬送経路の上流が前記搬送経路の下流よりも排気量が大きくなるように構成される排気調整機構であることを特徴とする、請求項１に記載の光処理装置。
前記外気流入抑制部は、前記ランプハウスと前記被処理体との間で、前記搬送方向の上流に向かって前記不活性ガスが流れるように、前記搬送経路の上流が前記搬送経路の下流よりも排気量が大きくなるように構成される排気調整機構であることを特徴とする、請求項１に記載の光処理装置。
【請求項10】
前記ランプハウスに対向する搬送経路において、前記被処理体又は前記ベルトは、板によって支持され、
前記板のうち、前記被処理体又は前記ベルトに接する表面の少なくとも一部が、滑り性を高められた領域をなすことを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の光処理装置。
前記板のうち、前記被処理体又は前記ベルトに接する表面の少なくとも一部が、滑り性を高められた領域をなすことを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の光処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
建築物内装用材料（壁、天井、及び床等）、住宅設備、及び家具、並びに、車両用内装用材料及び外装用材料等の物品を保護するため、従来から、化粧材及び化粧シートと言われる保護材が使用されている。化粧材及び化粧シートには、耐擦傷性、耐汚染性及び耐候性といった表面特性や、加工特性などの、保護材としての物理的及び機械的特性に加えて、意匠性が要求されている。
【0003】
化粧材及び化粧シートの意匠性を向上させるため、化粧材及び化粧シートの表面につや消し効果を付与する方法が知られている。化粧材及び化粧シートの表面につや消し効果を付与すると、化粧材及び化粧シートの質感を高められる。つや消し効果を付与する方法として、化粧材及び化粧シートの表面に、アクリル系の光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を塗布して塗布膜を形成し、紫外光を照射して塗布膜の表面に微細な凹凸を形成する処理を行ってから、塗布膜の全体を光硬化又は熱硬化させる方法が知られている。
【0004】
紫外光を照射して塗布膜の表面に微細な凹凸を形成する処理を行う光照射装置として、例えば、半導体や液晶素子を製造するための光処理装置が知られている。特許文献１に開示される光処理装置は、搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に紫外光を照射する光源と、前記光源を内部に配置するとともに、その内部に不活性ガスを供給するランプハウスと、を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１９－０１８１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
化粧材及び化粧シートのような大面積の被処理体に光を照射する場合、半導体や液晶を製造するための光処理装置よりも、処理効率を高めてスループットを向上させることが重要となる。本発明の課題は、処理効率を高めた光処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
光処理装置の処理効率を高めるためには、被処理体の搬送速度を高める必要がある。しかしながら、被処理体の搬送速度を高めると、光処理が進みにくくなる。本発明者らの鋭意研究の結果、光処理が進みにくくなる原因の一つが、ランプハウス内への空気の浸入であることを見出した。つまり、被処理体の搬送速度を高めると、ランプハウスの外気がランプハウス内に浸入し易くなる。外気は、通常、空気であるから、外気は多量の酸素を含む。ランプハウス内に多量の外気が浸入すると、光源と被処理体の間の酸素濃度が上昇し、酸素が光源から放射される紫外光を吸収して、被処理体における紫外光の照度が低下する。
【0008】
そこで、本発明者は、以下の光処理装置を創出した。
光処理装置は、
搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に、紫外光を照射する光源と、
前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備える。外気流入抑制部を備えることにより、光源と前記被処理体の間の酸素濃度を低い状態に維持し、被処理体における紫外光の照度の低下を防ぐことができる。
光処理装置は、
搬送経路に沿って搬送される被処理体の表面に、紫外光を照射する光源と、
前記光源を内部に配置するランプハウスであって、前記ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するガス供給口、及び前記紫外光の出射方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスの外気を前記ランプハウスの内部に流入することを抑制する外気流入抑制部と、を備える。外気流入抑制部を備えることにより、光源と前記被処理体の間の酸素濃度を低い状態に維持し、被処理体における紫外光の照度の低下を防ぐことができる。
【0009】
外気流入抑制部は、主に三種類のタイプ（以下に述べる、「第一の外気流入抑制部」、「第二の外気流入抑制部」及び「第三の外気流入抑制部」）を有する。前記光処理装置は、三種類のうち少なくともいずれか一つの外気流入抑制部を備えるとよい。
【0010】
第一の外気流入抑制部について説明する。第一の外気流入抑制部は、前記ランプハウスの搬送経路の上流の外気を、ランプハウスと、ランプハウスに対向する搬送経路との間に流入することを抑制することを目的とするものである。具体的には、第一の外気流入抑制部は、前記ランプハウスの搬送経路の上流空間の気体が、前記ランプハウスと前記ランプハウスに対向する搬送経路の間に位置するランプハウス近接空間（以降、単に「ランプハウス近接空間」と記載することがある。）に流入することを抑制する第一隔壁と、前記第一隔壁の近傍かつ前記第一隔壁より搬送方向上流に配置されたガイドローラとを備える。ここで、前記ガイドローラは、前記被処理体を移動させるためのガイドローラ、又は、前記被処理体を搬送するベルトを移動させるためのガイドローラである。
【0011】
詳細は後述するが、第一の外気流入抑制部の機序を簡単に説明する。前記第一隔壁が、前記被処理体又は前記被処理体を搬送するベルトに巻き込まれて、ランプハウス近接空間に浸入しようとする外気を妨げる。ただし、前記被処理体又は前記被処理体を搬送するベルトと前記第一隔壁との間には比較的大きな隙間を確保せざるを得ないため、第一隔壁を配置するだけでは、外気がランプハウス近接空間へ浸入してしまう。そこで、第一隔壁の近傍にガイドローラを配置する。ガイドローラは、前記被処理体又は前記被処理体を搬送するベルトと接しているため、前記被処理体又は前記被処理体を搬送するベルトに巻き込まれる外気は、ガイドローラに遮られる。よって、ランプハウス近接空間に浸入しようとする外気を減らすことができる。
【0012】
前記第一隔壁と前記ガイドローラの表面との間隔Ｇ４は、前記被処理体又は前記ベルトと前記第一隔壁との間隔Ｇ３より小さくても構わない。
【0013】
前記ガイドローラの直径ｒ１は、前記被処理体又は前記ベルトと前記第一隔壁との間隔Ｇ３の５倍以上の大きさであっても構わない。
【0014】
第二の外気流入抑制部について説明する。第二の外気流入抑制部は、ランプハウス近接空間に浸入した外気を、ランプハウス内の空間に浸入させないことを目的とするものである。具体的には、第二の外気流入抑制部は、前記ランプハウスと前記ランプハウスに対向する搬送経路の間に位置するランプハウス近接空間と、前記ランプハウス内の空間と、を部分的に隔てる第二隔壁を備える。前記第二隔壁により、外気の前記ランプハウス内への浸入を抑えるとともに、ランプハウス内の不活性ガスとの接触を減らして、外気の乱流化を抑える。外気が乱流化すると、外気が拡散してより多くの空間で紫外光を吸収する。つまり、外気の乱流化を抑えることで、紫外光の吸収を抑えることができる。
【0015】
前記ランプハウス近接空間と前記ランプハウス内の空間との間に、複数の素線が懸架された素線懸架部を含んでいても構わない。前記素線懸架部は、前記複数の素線が異なる二方向に懸架されて互いに交差するメッシュ状、又は、前記複数の素線が同じ方向に並ぶアレイ状であっても構わない。前記素線懸架部を構成する素線は、いずれも、搬送経路に沿う方向と直交しないように設計されても構わない。
【0016】
第三の外気流入抑制部について説明する。第三の外気流入抑制部は、第一の外気流入抑制部と同様に、前記ランプハウスの搬送経路の上流の外気を、ランプハウス近接空間に流入することを抑制することを目的とするものである。前提として、前記光処理装置は、前記ランプハウスの前記搬送経路の上流と下流にそれぞれ排気口を備える。そして、第三の外気流入抑制部は、前記ランプハウスと前記被処理体との間で、前記搬送方向の上流に向かって前記不活性ガスが流れるように、前記搬送経路の上流が前記搬送経路の下流よりも排気量が大きくなるように構成される排気調整機構である。前記搬送経路の上流が前記搬送経路の下流よりも排気量が大きいと、ランプハウス近接空間から搬送経路の上流に向かってガスの流れが形成される。搬送経路の上流に向かうガスの流れが、前記被処理体又は前記被処理体を搬送するベルトに巻き込まれてランプハウス近接空間に浸入しようとする外気を妨げる。
【0017】
前記ランプハウスに対向する搬送経路において、前記被処理体又は前記ベルトは、板によって支持され、
前記板のうち、前記被処理体又は前記ベルトに接する表面の少なくとも一部が、滑り性を高められた領域をなしても構わない。
板は、搬送される前記被処理体又は前記ベルトに接触し得る部分において平坦な表面を有するものを言う。前記被処理体又は前記ベルトは、板に接触しながら搬送されることがある。なお、板は、前記被処理体又は前記ベルトに接触しない部分において、平坦な表面を有してなくてもよい。
前記板のうち、前記被処理体又は前記ベルトに接する表面の少なくとも一部が、滑り性を高められた領域をなしても構わない。
板は、搬送される前記被処理体又は前記ベルトに接触し得る部分において平坦な表面を有するものを言う。前記被処理体又は前記ベルトは、板に接触しながら搬送されることがある。なお、板は、前記被処理体又は前記ベルトに接触しない部分において、平坦な表面を有してなくてもよい。
【発明の効果】
【0018】
処理効率を高めた光処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】光処理装置の第一実施形態を示す図である。
【図3】光処理装置の搬送方向に直交する断面における断面図である。
【図4】光処理装置の第二実施形態を示す図である。
【図5A】第二の外気流入抑制部の一例を示す図である。
【図5B】第二の外気流入抑制部の第一変形例を示す図である。
【図5C】第二の外気流入抑制部の第二変形例を示す図である。
【図5D】第二の外気流入抑制部の第三変形例を示す図である。
【図5E】第二の外気流入抑制部の第四変形例を示す図である。
【図5F】第二の外気流入抑制部の第五変形例を示す図である。
【図5G】第二の外気流入抑制部の第六変形例を示す図である。
【図6】光処理装置の第三実施形態を示す図である。
【図7】光処理装置の第四実施形態を示す図である。
【図8】光処理装置の第五実施形態を示す図である。
【図9】光処理装置の第六実施形態を示す図である。
【図10A】境界層を説明する図である。
【図10B】境界層を破壊する様子を説明する図である。
【図11】光処理装置の第七実施形態を示す図である。
【図12】光処理装置の第七実施形態の変形例を示す図である。
【図13B】光処理装置の第七実施形態のさらなる変形例について、板と板上のベルトを＋Ｚ方向から－Ｚ方向に見た図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
図を参照しながら本発明の実施形態を説明する。本明細書に開示された各図面は、あくまで模式的に図示されたものである。すなわち、図面上の寸法比と実際の寸法比とは必ずしも一致しておらず、また、各図面間においても寸法比は必ずしも一致していない。図面に示された各構成要素の個数は、実際の寸法比や各構成要素の個数と必ずしも一致していない。
【0021】
以下において、各図面は、ＸＹＺ座標系を参照しながら説明される。本明細書において、方向を表現する際に、正負の向きを区別する場合には、「＋Ｘ方向」、「－Ｘ方向」のように、正負の符号を付して記載される。正負の向きを区別せずに方向を表現する場合には、単に「Ｘ方向」と記載される。すなわち、本明細書において、単に「Ｘ方向」と記載されている場合には、「＋Ｘ方向」と「－Ｘ方向」の両方が含まれる。Ｙ方向及びＺ方向についても同様である。以下に述べる実施形態では、重力方向が－Ｚ方向であり、被処理体が搬送される搬送方向が－Ｙ方向であり、被処理体の幅方向はＸ方向である。
【0022】
＜第一実施形態＞
［光処理装置の概要］
図１は、光処理装置の第一実施形態の断面図である。光処理装置１００は、紫外光を出射する、三つの光源３と、三つの光源３を内部に配置する一つのランプハウス２を備える。ランプハウス２は、内部が空洞の筐体を備える。筐体は、ＸＹ平面に沿う天井面と、ＸＺ平面又はＹＺ平面に沿う側面で構成される。本実施形態において、光源３の紫外光Ｌ１の出射方向は－Ｚ方向であり、筐体は被処理体４に近接する方向に存在せず、同方向には紫外光を取り出すための開口が存在する。開口が被処理体４の搬送経路に対向するように、光処理装置１００が配置される。そして、被処理体４が搬送経路に沿って－Ｙ方向に搬送されながら、被処理体４は紫外光Ｌ１に曝される。ランプハウス２の筐体の内壁には、紫外光を反射する反射器又は反射層が形成されていてもよい。反射器又は反射層により、光源３から出射する紫外光Ｌ１が－Ｚ方向に進むように方向付けられる。
［光処理装置の概要］
図１は、光処理装置の第一実施形態の断面図である。光処理装置１００は、紫外光を出射する、三つの光源３と、三つの光源３を内部に配置する一つのランプハウス２を備える。ランプハウス２は、内部が空洞の筐体を備える。筐体は、ＸＹ平面に沿う天井面と、ＸＺ平面又はＹＺ平面に沿う側面で構成される。本実施形態において、光源３の紫外光Ｌ１の出射方向は－Ｚ方向であり、筐体は被処理体４に近接する方向に存在せず、同方向には紫外光を取り出すための開口が存在する。開口が被処理体４の搬送経路に対向するように、光処理装置１００が配置される。そして、被処理体４が搬送経路に沿って－Ｙ方向に搬送されながら、被処理体４は紫外光Ｌ１に曝される。ランプハウス２の筐体の内壁には、紫外光を反射する反射器又は反射層が形成されていてもよい。反射器又は反射層により、光源３から出射する紫外光Ｌ１が－Ｚ方向に進むように方向付けられる。
【0023】
本実施形態において、被処理体４はシート状の化粧シートである。被処理体４がシート状である場合、被処理体４は、例えば、ロール・トゥ・ロール方式で搬送されるとよい。ロール・トゥ・ロール方式では、巻出装置（不図示）において巻かれた被処理体４のロールからシート状の被処理体を巻き出し、被処理体４を、搬送経路に沿って搬送させ、巻取装置（不図示）において被処理体４を巻き取る。搬送経路において、被処理体４は複数のガイドローラ３３で支持される。
【0024】
図２は、図１の要部拡大図である。ランプハウス２の筐体側面の－Ｚ側の端を接続し、ランプハウス２の筐体の開口に重なる線分Ｂ１は、ランプハウス２の内と外の境界を表す。本明細書において、ランプハウス２の内部１５とは、線分Ｂ１より＋Ｚ側を指す。線分Ｂ１より－Ｚ側はランプハウス２の外部である。ランプハウス２とランプハウス２に対向する被処理体４（又は、搬送経路）の間を、ランプハウス近接空間１６ｐという。ランプハウス近接空間１６ｐのＺ方向の長さを表す隙間Ｇ１は、被処理体４が高速搬送される最中、被処理体４がＺ方向に揺動しても、被処理体４がランプハウス２の筐体に接触しないようにするために設けられる。
【0025】
ランプハウス２は内部１５に複数のガス供給口８を備える。ガス供給口８は内部１５に不活性ガスＩＧを供給し、内部１５が不活性ガス雰囲気にパージされる。これにより、酸素による紫外光Ｌ１の吸収を抑制し、被処理体４における紫外光Ｌ１の照度を向上させる。本明細書において、「不活性ガス雰囲気」とは、特段の限定がない場合、ランプハウス２の内部１５において、不活性ガスＩＧが全体の９０ｖｏｌ％以上を占める混合気体を言う。このとき、内部１５の酸素濃度は、確実に１０ｖｏｌ％未満となる。例えば、１７２ｎｍの紫外光が、酸素濃度が１０％未満である空間を４ｍｍ進行すると、５０％以上の光強度を確保できる。内部１５において、不活性ガスＩＧは、９５ｖｏｌ％以上を占めると好ましい。このとき、内部１５の酸素濃度は、確実に５％未満となる。例えば、１７２ｎｍの紫外光が、酸素濃度が５％以下である空間を４ｍｍ進行すると、７０％以上の光強度を確保できる。内部１５の不活性ガス濃度は、９８ｖｏｌ％以上を占めるとさらに好ましい。
【0026】
本実施形態の光処理装置１００では、パージチャンバ３２が被処理体４を挟んでランプハウス２に対向する位置にある。パージチャンバ３２は内部５０に複数のガス供給口８を備える。ガス供給口８は内部５０に不活性ガスＩＧを供給する。
【0027】
図２を参照して、パージチャンバ３２の筐体側面の＋Ｚ側の端を接続し、開口に重なる線分Ｂ２は、パージチャンバ３２の内と外の境界を表す。本明細書に図２における線分Ｂ２より－Ｚ側はパージチャンバ３２の内部５０である。線分Ｂ２より＋Ｚ側は、パージチャンバ３２の外部である。パージチャンバ３２とパージチャンバ３２に対向する被処理体４（又は、搬送経路）の間を、パージチャンバ近接空間１６ｑという。パージチャンバ近接空間１６ｑのＺ方向の長さを表す隙間Ｇ２は、被処理体４が高速搬送される最中、被処理体４がＺ方向に揺動しても、被処理体４がパージチャンバ３２の筐体に接触しないようにするために設けられる。隙間Ｇ２の大きさは、隙間Ｇ１の大きさと同じであるとよい。
【0028】
パージチャンバ近接空間１６ｑにある気体は、被処理体４のＸ方向の両側から回り込み、ランプハウス近接空間１６ｐに移動し得る。また、ランプハウス近接空間１６ｐにある気体もまた、被処理体４のＸ方向の両側から回り込み、パージチャンバ近接空間１６ｑに移動し得る。ただし、詳細は後述するが、パージチャンバ３２は本実施形態において必須の構成ではなく、選択的に採用し得る構成である。
【0029】
ランプハウス２の内部１５が不活性ガスで満たされると、不活性ガスＩＧは、ランプハウス近接空間１６ｐを経て、ランプハウス２の上流又は下流へ漏れ出る。パージチャンバ３２の内部５０が不活性ガスで満たされると、不活性ガスＩＧは、パージチャンバ近接空間１６ｑを経て、パージチャンバ３２の上流又は下流へ漏れ出る。ランプハウス２及びパージチャンバ３２から漏れ出る不活性ガスＩＧは、後述するガス回収チャンバで回収される。
【0030】
［外気流入抑制部］
本実施形態の光処理装置１００は、外気流入抑制部として、第一の外気流入抑制部Ｓ１を備えている。第一の外気流入抑制部Ｓ１は、ランプハウス２の搬送経路の上流にある外気が、ランプハウス近接空間１６ｐに流入することを抑制する第一隔壁２６と、第一隔壁２６の近傍かつ第一隔壁２６より搬送方向上流に配置されたガイドローラ４３とを備える。ガイドローラ４３は、被処理体４を支持するために使用される。ガイドローラ４３は、他のガイドローラ３３と同じものであってもよく、ガイドローラ３３と異なるものであってもよい。ガイドローラ４３の直径ｒ１は３０ｍｍ～４０ｍｍであるとよい。
本実施形態の光処理装置１００は、外気流入抑制部として、第一の外気流入抑制部Ｓ１を備えている。第一の外気流入抑制部Ｓ１は、ランプハウス２の搬送経路の上流にある外気が、ランプハウス近接空間１６ｐに流入することを抑制する第一隔壁２６と、第一隔壁２６の近傍かつ第一隔壁２６より搬送方向上流に配置されたガイドローラ４３とを備える。ガイドローラ４３は、被処理体４を支持するために使用される。ガイドローラ４３は、他のガイドローラ３３と同じものであってもよく、ガイドローラ３３と異なるものであってもよい。ガイドローラ４３の直径ｒ１は３０ｍｍ～４０ｍｍであるとよい。
【0031】
図２を参照しながら、第一の外気流入抑制部Ｓ１を説明する。被処理体４を高速搬送すると、光処理装置１００の上流側において、被処理体４の近傍の外気が被処理体４に巻き込まれて、外気が被処理体４とともにランプハウス近接空間１６ｐ又はパージチャンバ近接空間１６ｑに浸入する。そこで、第一隔壁２６を被処理体４にできるだけ近づけて配置する。これにより、被処理体４の近傍の外気がランプハウス近接空間１６ｐ又はパージチャンバ近接空間１６ｑに浸入する量を少なくする。
【0032】
しかしながら、搬送される被処理体４はＺ方向に揺動するため、第一隔壁２６がＺ方向に揺動する被処理体４に接触しないよう、第一隔壁２６と被処理体４との間に、少なくとも隙間Ｇ３を設けざるを得ない。隙間Ｇ３を設けるために、外気は、少量ではあるが、パージチャンバ近接空間１６ｑに浸入することになる。
【0033】
本発明者は、鋭意研究の結果、第一隔壁２６の近傍にガイドローラ４３を配置するという外気流入抑制方法を見出した。ガイドローラ４３は、被処理体４と接しているため、外気が被処理体４とガイドローラ４３との間を通ることはない。ガイドローラ４３が外気の浸入を阻止する。より多くの外気の浸入をガイドローラ４３で阻止するために、ガイドローラ４３の直径ｒ１を隙間Ｇ３に基づいて設定してもよい。例えば、ガイドローラ４３の直径ｒ１を、隙間Ｇ３の５倍以上の大きさに設定するとよく、隙間Ｇ３の１０倍以上の大きさに設定すると、より好ましい。なお、隙間Ｇ３は、隙間Ｇ１又は隙間Ｇ２と同じ大きさであるとよい。隙間Ｇ３は、例えば、２ｍｍ～１０ｍｍであるとよく、より好ましくは、３ｍｍ～５ｍｍであるとよい。
【0034】
ガイドローラ４３を配置しても、外気が第一隔壁２６とガイドローラ４３との隙間Ｇ４を通り、その後、外気が隙間Ｇ３と隙間Ｇ２を経て、ランプハウス近接空間１６ｐへ浸入するルートが残る。そこで、ガイドローラ４３を第一隔壁２６の近傍に配置することにより隙間Ｇ４を小さくして、外気がランプハウス近接空間１６ｐへ浸入する量を小さくする。隙間Ｇ４は、隙間Ｇ３よりも小さくするとよい。隙間Ｇ４は、隙間Ｇ３の３分の１より小さいとよく、隙間Ｇ３の５分の１より小さくするとよい。隙間Ｇ４は、例えば、０．２ｍｍ～４ｍｍであるとよく、より好ましくは、０．５ｍｍ～２ｍｍであるとよい。
【0035】
［光源］
光源３について説明する。光源３が搬送される被処理体４の表面に照射する紫外光Ｌ１は、真空紫外光、即ち、少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する光を有する紫外光である。本明細書において使用される、「少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する光」とは、光源３の発光スペクトルにおいて、少なくとも２０５ｎｍ以下に発光強度を示す光である。斯かる光として、（１）ブロードな波長帯域に強度を示しつつ、最大強度を示すピーク発光波長が２０５ｎｍ以下となる発光スペクトルを示す光、（２）複数の極大強度（複数のピーク）を示す発光スペクトル示しつつ、複数のピークのうちいずれかのピークが２０５ｎｍ以下の波長範囲に含まれるような発光スペクトルを示す光、（３）発光スペクトル内における全積分強度に対して、２０５ｎｍ以下の光が、少なくとも３０％以上の積分強度を示す光、が例示される。真空紫外光は特に酸素に吸収されやすい。
光源３について説明する。光源３が搬送される被処理体４の表面に照射する紫外光Ｌ１は、真空紫外光、即ち、少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する光を有する紫外光である。本明細書において使用される、「少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する光」とは、光源３の発光スペクトルにおいて、少なくとも２０５ｎｍ以下に発光強度を示す光である。斯かる光として、（１）ブロードな波長帯域に強度を示しつつ、最大強度を示すピーク発光波長が２０５ｎｍ以下となる発光スペクトルを示す光、（２）複数の極大強度（複数のピーク）を示す発光スペクトル示しつつ、複数のピークのうちいずれかのピークが２０５ｎｍ以下の波長範囲に含まれるような発光スペクトルを示す光、（３）発光スペクトル内における全積分強度に対して、２０５ｎｍ以下の光が、少なくとも３０％以上の積分強度を示す光、が例示される。真空紫外光は特に酸素に吸収されやすい。
【0036】
上述したように、光処理装置１００で処理される被処理体４は、化粧シートである。被処理体４の表面には、硬化性樹脂（例えば、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂）の塗布膜が形成されている。塗布膜が形成された被処理体４を光処理装置１００に搬送し、光処理装置１００でつや消し効果を付与する処理を行う。光処理装置１００の処理が終わった後、光処理装置１００とは別の装置を使用して、塗布膜に光又は熱を与えて硬化させる。なお、光処理装置１００が、塗布膜の全体を硬化させるための機構（例えば、塗布膜を光硬化させるための光源や、熱硬化させるためのヒータ）を有していてもよい。
【0037】
つや消し効果を付与する処理について説明する。光処理装置１００において被処理体４に照射される紫外光は、被処理体４の表面に塗布された液状の樹脂を収縮させる。樹脂が収縮すると、樹脂の表面に可視光を散乱させる微細な凹凸が形成される。これにより、樹脂塗布膜の表面につや消し効果が付与される。
【0038】
樹脂の収縮について説明する。本実施形態において、被処理体４は、アクリル系の光硬化性樹脂の塗布膜を表面に有する。本実施形態において、光源３は、最大強度を示すピーク発光波長が１７２ｎｍを呈する光を放射する、キセノンエキシマランプである。キセノンエキシマランプから放射される、１７２ｎｍ近辺の波長を有する光が、塗布膜中の光硬化性樹脂を構成する分子の二重結合を開裂させて、他の分子と結合することにより、樹脂の体積が減少し、樹脂が収縮する。
【0039】
光源３は、キセノンガス以外のガスが封入された放電ランプであっても構わない。図１では、三つの光源３が、被処理体４の搬送方向（Ｙ方向）に並んで配置されている。しかしながら、光源３は、少なくとも一つあればよい。光源３が複数ある場合、複数の光源３がＸ方向に並んで配置されてもよいし、Ｘ方向とＹ方向それぞれに光源３が並んで配置されてもよい。光源３は、ＬＥＤ等の固体光源であっても構わない。各光源３は、一つ又は複数の小光源から構成されていてもよい。光源３を被処理体４（搬送経路）に対して近づけたり、離したりすることで、被処理体４への照度を変更してもよい。また、光源３に所望の減光フィルタを配置して照度を変更してもよい。
【0040】
［ガス回収チャンバ］
図１に戻り、光処理装置１００は、搬送経路におけるランプハウス２の上流（＋Ｙ方向）に、ガスを回収するガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ）を有する。ガス回収チャンバ２０ａは、被処理体４の光照射面側（＋Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ２０ｂは、被処理体４の光照射面の反対側（－Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ２０ｂとガス回収チャンバ２０ａは被処理体４を挟んで互いに対向する位置にある。光処理装置１００は、搬送経路におけるランプハウス２の下流（－Ｙ方向）に、ガスを回収するガス回収チャンバ（３０ａ，３０ｂ）を有する。ガス回収チャンバ３０ａは、被処理体４の光照射面側（＋Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ３０ｂは、被処理体４の光照射面の反対側（－Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ３０ｂとガス回収チャンバ３０ａは被処理体４を挟んで互いに対向する位置にある。
図１に戻り、光処理装置１００は、搬送経路におけるランプハウス２の上流（＋Ｙ方向）に、ガスを回収するガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ）を有する。ガス回収チャンバ２０ａは、被処理体４の光照射面側（＋Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ２０ｂは、被処理体４の光照射面の反対側（－Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ２０ｂとガス回収チャンバ２０ａは被処理体４を挟んで互いに対向する位置にある。光処理装置１００は、搬送経路におけるランプハウス２の下流（－Ｙ方向）に、ガスを回収するガス回収チャンバ（３０ａ，３０ｂ）を有する。ガス回収チャンバ３０ａは、被処理体４の光照射面側（＋Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ３０ｂは、被処理体４の光照射面の反対側（－Ｚ側）に位置する。ガス回収チャンバ３０ｂとガス回収チャンバ３０ａは被処理体４を挟んで互いに対向する位置にある。
【0041】
ガス回収チャンバ２０ａは、被処理体４に近接する方向（－Ｚ方向）に開口を有する筐体である。ガス回収チャンバ２０ａは、筐体内に配置される複数のガス回収口２１を有する。複数のガス回収口２１は、ガス回収チャンバ２０ａ内に多孔プレート２１ｐを配置することによって形成される。複数のガス回収口２１は、共通の排気口２３に接続される。排気口２３は、図１には示されていない排気源に接続される。また、本実施形態のガス回収チャンバ（２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）も、ガス回収チャンバ２０ａの構造と同様の構造であるが、異なる構造であってもよい。
【0042】
上述したように、ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）は、ランプハウス２及びパージチャンバ３２から漏れ出る不活性ガスＩＧを回収する。不活性ガスＩＧをガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）で回収することにより、不活性ガスＩＧが光処理装置１００の周囲に漏れないようにする。これにより、光処理装置１００の付近にいる人を酸欠から守る。なお、光処理装置１００の付近に人がいない場合や、光処理装置１００に属さない排気設備がある場合には、光処理装置１００がガス回収チャンバを有していなくてもよい。つまり、光処理装置１００において、ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）は必須の構成ではない。
【0043】
光処理装置は、ランプハウス２及びパージチャンバ３２の上流のガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ）とランプハウス２及びパージチャンバ３２の下流のガス回収チャンバ（３０ａ，３０ｂ）のいずれか一方のみを有していてもよい。光処理装置１００のように、上流と下流の両方にガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）を有する場合には、ランプハウス近接空間１６ｐ内のガスの流れを層流に保ちやすく、より好ましい。
【0044】
［不活性ガスのガス供給口］
ランプハウス２及びパージチャンバ３２に設けられたガス供給口８の詳細を説明する。本実施形態において、ガス供給口８は、不活性ガスＩＧを被処理体４の搬送方向を含む平面（ＸＹ平面）に沿って供給し、不活性ガスＩＧを被処理体４に向かって噴射しないように設計される。なぜなら、仮に、不活性ガスＩＧを被処理体４に向かって噴射すると、噴射された不活性ガスＩＧが被処理体４に衝突し、ランプハウス２内で気体が乱流化するからである。ランプハウス２内で気体が乱流化すると、空気がランプハウス２の内部１５に浸入しやすくなる。なお、不活性ガスＩＧが被処理体４に向かって噴射されない程度に、ガス供給口８の供給方向をＸＹ平面から傾けてもよい。
ランプハウス２及びパージチャンバ３２に設けられたガス供給口８の詳細を説明する。本実施形態において、ガス供給口８は、不活性ガスＩＧを被処理体４の搬送方向を含む平面（ＸＹ平面）に沿って供給し、不活性ガスＩＧを被処理体４に向かって噴射しないように設計される。なぜなら、仮に、不活性ガスＩＧを被処理体４に向かって噴射すると、噴射された不活性ガスＩＧが被処理体４に衝突し、ランプハウス２内で気体が乱流化するからである。ランプハウス２内で気体が乱流化すると、空気がランプハウス２の内部１５に浸入しやすくなる。なお、不活性ガスＩＧが被処理体４に向かって噴射されない程度に、ガス供給口８の供給方向をＸＹ平面から傾けてもよい。
【0045】
図１を参照して、複数のガス供給口８はガス配管６を介してガス供給源１２に接続される。ガス配管６は、必要に応じて分岐される。ガス配管６の途中に流量制御弁７を有する。パージチャンバ３２に設けられたガス供給口８に接続されるガス配管６、流量制御弁７及びガス供給源１２の記載を省略しているが、ランプハウス２のガス供給口８に接続されるガス配管６、流量制御弁７及びガス供給源１２と同様の構造で存在する。本実施形態では、不活性ガスＩＧとして、窒素ガスが使用される。
【0046】
［光処理装置の詳細］
図３は、光処理装置１００の搬送方向（－Ｙ方向）に直交する断面図である。本実施形態の光処理装置１００は、ランプハウス２がスペーサ４２を介してパージチャンバ３２に積層された構造を呈する。しかしながら、光処理装置１００はスペーサ４２を介さずに、ランプハウス２とパージチャンバ３２が積層されていても構わないし、ランプハウス２とパージチャンバ３２が共通する一つの筐体で構成され、＋Ｚ側をランプハウス２として利用し、－Ｚ側をパージチャンバ３２として利用しても構わない。
図３は、光処理装置１００の搬送方向（－Ｙ方向）に直交する断面図である。本実施形態の光処理装置１００は、ランプハウス２がスペーサ４２を介してパージチャンバ３２に積層された構造を呈する。しかしながら、光処理装置１００はスペーサ４２を介さずに、ランプハウス２とパージチャンバ３２が積層されていても構わないし、ランプハウス２とパージチャンバ３２が共通する一つの筐体で構成され、＋Ｚ側をランプハウス２として利用し、－Ｚ側をパージチャンバ３２として利用しても構わない。
【0047】
光処理装置１００の構成部材の各種寸法について説明する。光源３のＸ方向の幅は、被処理体４のＸ方向の幅より大きい。これにより、紫外光を被処理体４の中央から端まで均等に照射できる。被処理体４が搬送される際、被処理体４の蛇行により被処理体４のＸ方向の位置が変化することを考慮すれば、光源３のＸ方向の幅は、被処理体４のＸ方向の幅よりも５０ｍｍ～１００ｍｍ大きいとよい。例えば、被照射体のＸ方向の幅が５００ｍｍのとき、光源３のＸ方向の幅は、５５０ｍｍ～６００ｍｍであるとよい。
【0048】
ガス供給口８はＸ方向に長い長尺状の部材に設けられている。当該部材に複数のガス供給孔がＸ方向に並んで配置されている。これにより、幅方向（Ｘ方向）に均等に不活性ガスを供給できる。また、ガス供給口８は、Ｘ方向に長いスリット状のガス供給孔であっても構わない。
【0049】
図１に示されるように、光処理装置１００のランプハウス２は、複数のガス供給口８が搬送方向においてほぼ等間隔に配置されている。このとき、各ガス供給口８の不活性ガス供給量は、ほぼ同じ量に設定するとよい。これにより、ランプハウス２内の乱流の形成を抑えることができる。パージチャンバ３２に設けられた各ガス供給口８についても同様である。
【0050】
＜第二実施形態＞
光処理装置の第二実施形態及びその変形例を説明する。以下に、第一実施形態とは異なる特徴を中心に説明する。第二実施形態に説明がない点については、第一実施形態と同様に実施できる。後述する第三実施形態以降及び各実施形態の変形例についても、同様である。
光処理装置の第二実施形態及びその変形例を説明する。以下に、第一実施形態とは異なる特徴を中心に説明する。第二実施形態に説明がない点については、第一実施形態と同様に実施できる。後述する第三実施形態以降及び各実施形態の変形例についても、同様である。
【0051】
図４は、光処理装置２００の要部拡大図である。本実施形態の光処理装置２００は、外気流入抑制部として、第二の外気流入抑制部Ｓ２を備えている。第二の外気流入抑制部Ｓ２は、ランプハウス近接空間１６ｐに浸入した外気を、ランプハウス２の内部１５にできるだけ浸入させないことを目的とするものである。
【0052】
ランプハウス近接空間１６ｐに浸入した外気の大部分は、高速搬送される被処理体４とともに－Ｙ方向に流れ、ランプハウス近接空間１６ｐから出ていく。しかしながら、ランプハウス近接空間１６ｐに浸入した外気の一部がランプハウス２の内部１５の気体と接触すると、内部１５で気体が乱流化して紫外光の吸収量が増える。そこで、ランプハウス近接空間１６ｐとランプハウス２の内部１５の境界に、第二の外気流入抑制部Ｓ２を配置する。
【0053】
第二の外気流入抑制部Ｓ２は、ランプハウス近接空間１６ｐとランプハウス２の内部１５と、を部分的に隔てる第二隔壁９を備える。光処理装置２００では、ランプハウス近接空間１６ｐとランプハウス２の内部１５の境界において、二つの第二隔壁９がそれぞれＸＹ平面に沿う方向に延びるように配置される。一方の第二隔壁９はランプハウス２の筐体の上流側側壁に接し、他方の第二隔壁９はランプハウス２の筐体の下流側側壁に接する。第二隔壁９が、ランプハウス近接空間１６ｐに浸入した外気が内部１５に浸入することを抑制し、内部１５の不活性ガスとの接触を減らす。
【0054】
本実施形態の第二隔壁９は、光源３が放射する紫外光を透過しないが、第二隔壁９に光源３が放射する紫外光を透過する材料（例えば、石英ガラスなど）を使用しても構わない。また、図４では、第二隔壁９は、Ｚ方向に一定の厚みを有する板状部材として描いているが、必ずしもＺ方向に厚みが不均等の部材であっても構わないし、板状以外の形状の部材であっても構わない。また、第二隔壁９がランプハウス２の筐体と一体化していても構わない。また、本段落で記載した第二隔壁９の特徴は、後述する変形例の第二隔壁９に適用可能である。
【0055】
図４に示されるように、ランプハウス近接空間１６ｐとランプハウス２の内部１５との間であり、二つの第二隔壁９に挟まれた領域には、複数の素線が懸架された素線懸架部１４（点線で表示）が配置されている。素線懸架部１４もまた、第二の外気流入抑制部Ｓ２の構成要素である。図５Ａを参照しながら、素線懸架部１４の詳細を説明する。
【0056】
図５Ａは、ランプハウス２と外気流入抑制部を＋Ｚ方向に見た図である。素線懸架部１４は、Ｙ方向に延びる複数の素線１４ａと、Ｘ方向に延びる複数の素線１４ｂとが互いに交差して形成されたメッシュ形状を呈する。図４に示されるように、メッシュ形状の素線（１４ａ，１４ｂ）は、ランプハウス近接空間１６ｐとランプハウス２の内部１５の境界上にある。メッシュ形状の素線（１４ａ，１４ｂ）が、ランプハウス近接空間１６ｐに浸入した外気が内部１５に浸入することを抑制する。そして、素線懸架部１４は多数の開口を有するため、素線懸架部１４は光源３から放射されて紫外光を妨げにくい。よって、紫外光が通る領域には、第二隔壁９に代えて素線懸架部１４を配置するとよい。加えて、不活性ガスＩＧは、素線懸架部１４の開口を通って漏れ出ることができる。
【0057】
素線（１４ａ，１４ｂ）は、例えば、略円形の断面を有する金属ワイヤであってもよい。素線（１４ａ，１４ｂ）の直径は、例えば、０．１ｍｍ以上であるとよく、０．３ｍｍ以下であるとよい。メッシュ形状領域の面積全体に占める、素線（１４ａ，１４ｂ）の無い領域の面積の割合が、開口率として表され得る。当該開口率は、５％以上であるとよく、５０％以下であるとよい。また、本段落で記載した素線（１４ａ，１４ｂ）の特徴は、後述する種々の変形例の素線に適用可能である。
【0058】
図５Ｂは、第二の外気流入抑制部の第一変形例である。素線懸架部１４は、一方向に延びる複数の素線１４ｃと、もう一つの方向に延びる複数の素線１４ｄとが互いに交差して形成されたメッシュ形状を呈し、前記一方向及び前記もう一つの方向は、いずれも、素線（１４ｃ，１４ｄ）が搬送経路に沿うＹ方向と直交しないように設計されている。
【0059】
素線（１４ｃ，１４ｄ）が搬送経路に沿う方向と直交しないことの効果について説明する。図５Ａに示された素線懸架部１４では、素線１４ｂが搬送経路に沿うＹ方向に直交する。図５Ａに示されるように、搬送経路に沿って流れる外気４５の一部が、素線１４ｂに垂直をなすように正面から衝突する。それゆえ、素線１４ｂに衝突した外気４５が渦を巻くなど、外気４５の流れが妨げられて乱流化を招きやすい。これに対し、図５Ｂに示された素線懸架部１４では、素線（１４ｃ，１４ｄ）が搬送経路に沿うＹ方向に直交しないため、搬送経路に沿って流れる外気４５が、素線（１４ｃ，１４ｄ）に垂直をなすように正面から衝突しにくい。それゆえ、外気４５の流れが妨げられず乱流化を招きにくい。
【0060】
図５Ｃは、第三の外気流入抑制部の第二変形例である。素線懸架部１４は、搬送経路であるＹ方向に直交しない、Ｙ方向に対して傾斜した方向に並ぶ複数の素線１４ｃから構成されるアレイ状である。素線１４ｃで構成される素線懸架部１４は、搬送経路に沿う外気４５の流れを妨げにくい。
【0061】
図５Ｄは、第二の外気流入抑制部の第三変形例である。素線懸架部１４は、Ｙ方向に並ぶ複数の素線１４ａから構成されるアレイ状である。素線１４ａで構成される素線懸架部１４は、搬送経路に沿う外気４５の流れをさらに妨げにくい。
【0062】
図５Ｅは、第二の外気流入抑制部の第四変形例である。本変形例では、第二隔壁９が存在するが、素線懸架部１４は存在せず、素線懸架部１４に該当する場所には、遮るものがない開口があるのみであり、当該開口は内部１５と通じている。
【0063】
図５Ｆは、第二の外気流入抑制部の第五変形例である。本変形例では、第二隔壁９が存在せず、ランプハウス２の開口全体が素線懸架部１４で覆われている。本実施形態では、搬送経路に沿う方向と直交しない素線（１４ｃ，１４ｄ）により素線懸架部１４が形成されているが、素線懸架部１４は、搬送経路に沿う方向と直交する素線１４ｂを含んでいてもよい。
【0064】
図５Ｇは、第二の外気流入抑制部の第六変形例である。本変形例では、４つの第二隔壁９と３つの素線懸架部１４が交互に配置されている。各素線懸架部１４に対向する位置に各光源３が配置されている。各素線懸架部１４が、それぞれ、対向する光源３の光線束を透過させる。４つの第二隔壁９は、各光源３の光線束の外側に位置する。このように、各光源３が照射する紫外光の光線束に応じて、第二隔壁９及び素線懸架部１４の大きさ及び位置を設計するとよい。
【0065】
＜第三実施形態＞
光処理装置の第三実施形態を説明する。図６は、光処理装置３００の断面図である。本実施形態の光処理装置３００は、外気流入抑制部として、第三の外気流入抑制部Ｓ３を備えている。第三の外気流入抑制部Ｓ３は、ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）と各ガス回収チャンバが接続する負圧源５６との間に接続された、排気調整機構である。排気調整機構は排気流量を調整する流量調整弁（５７ａ，５７ｂ，５７ｃ，５７ｄ）であり、流量調整弁（５７ａ，５７ｂ，５７ｃ，５７ｄ）を使用して、各ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）の排気能力を調整できる。
光処理装置の第三実施形態を説明する。図６は、光処理装置３００の断面図である。本実施形態の光処理装置３００は、外気流入抑制部として、第三の外気流入抑制部Ｓ３を備えている。第三の外気流入抑制部Ｓ３は、ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）と各ガス回収チャンバが接続する負圧源５６との間に接続された、排気調整機構である。排気調整機構は排気流量を調整する流量調整弁（５７ａ，５７ｂ，５７ｃ，５７ｄ）であり、流量調整弁（５７ａ，５７ｂ，５７ｃ，５７ｄ）を使用して、各ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）の排気能力を調整できる。
【0066】
上述したように、ランプハウス２の内部１５が不活性ガスＩＧでパージされると、不活性ガスＩＧは、ランプハウス近接空間１６ｐを経て、ランプハウス２の上流又は下流等へ漏れ出る。このとき、各ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）の排気量を調整することにより、不活性ガスＩＧの流れを変更できる。搬送経路の上流に位置するガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ）の排気量を、搬送経路の下流に位置するガス回収チャンバ（３０ａ，３０ｂ）よりも排気量が大きくなるように調整すると、ランプハウス２から搬送方向の上流に向かって不活性ガスが流れるように制御できる。ランプハウス２から搬送方向の上流に向かう不活性ガスの流れは、ランプハウス近接空間１６ｐに流入する外気の障害となるため、外気流入を抑制できる。
【0067】
本実施形態の光処理装置３００では、被処理体４に対しランプハウス２に対向する位置に、パージ空間を内部に有するパージチャンバ３２が存在しない。被処理体４の裏側（－Ｚ側）では、筐体が被処理体４の近傍に存在する。このように、パージチャンバ３２は必須の構成ではない。そして、パージチャンバ３２を設けない場合、不活性ガスＩＧでパージされるべき体積を小さくできるので、不活性ガスＩＧの使用量を削減できる。
【0068】
＜第四実施形態＞
光処理装置の第四実施形態を説明する。図７は、光処理装置４００の断面図である。本実施形態の光処理装置４００は、被処理体４の両面を光照射するために、被処理体４の両側それぞれにランプハウス２が配置され、搬送される被処理体４に対し両側から光を照射する。二つのランプハウス２は互いに対向する位置に配置される。そのため、短い搬送経路であっても光処理装置４００を使用できる。
光処理装置の第四実施形態を説明する。図７は、光処理装置４００の断面図である。本実施形態の光処理装置４００は、被処理体４の両面を光照射するために、被処理体４の両側それぞれにランプハウス２が配置され、搬送される被処理体４に対し両側から光を照射する。二つのランプハウス２は互いに対向する位置に配置される。そのため、短い搬送経路であっても光処理装置４００を使用できる。
【0069】
本実施形態の被処理体４の両面には硬化性樹脂の塗布膜が形成されており、ガイドローラ４３は当該塗布膜に接触することになる。そのため、塗布膜がガイドローラ４３に接触しても、塗布膜がガイドローラ４３に付着しない塗布膜であることが望ましい。または、ガイドローラ４３の下流、かつ、光源３の上流に塗布ノズルを配置し、ガイドローラ４３を通った後、かつ、被処理体４が光源３に達する前に塗布膜を形成してもよい。なお、本実施形態では、ガイドローラにおける塗布膜の付着リスクを考慮して、ランプハウス２内にはガイドローラを配置していない。しかしながら、塗布膜を被処理体４の全面に形成せず、被処理体４の塗布膜のない領域にガイドローラを接触させることで、ガイドローラが被処理体４を支持してもよい。
【0070】
光処理装置４００では、ランプハウス２の上流において、被処理体４の両面にそれぞれ、第一の外気流入抑制部Ｓ１が設けられている。また、ランプハウス２の下流にも、被処理体４の両面にそれぞれ、第一の外気流入抑制部Ｓ１が設けられている。これら４つの第一の外気流入抑制部Ｓ１により、ランプハウス２内への外気流入を抑制する。
【0071】
＜第五実施形態＞
図８は、光処理装置５００の断面図である。光処理装置５００は、被処理体４の両面を光照射するために、被処理体４の両側それぞれにランプハウス２が配置され、搬送される被処理体４に対し両側から光を照射する。二つのランプハウス２は互いに対向せず、搬送方向にずれた位置に配置される。被処理体４の一方の面が光照射されると、照射された光エネルギーが熱エネルギーに変換され、被処理体４の温度が上昇する。光処理装置５００では、二つのランプハウス２が搬送方向にずれた位置に配置することにより、熱エネルギーの変換が時間的に分散され、被処理体４の温度上昇幅を抑えることができる。
図８は、光処理装置５００の断面図である。光処理装置５００は、被処理体４の両面を光照射するために、被処理体４の両側それぞれにランプハウス２が配置され、搬送される被処理体４に対し両側から光を照射する。二つのランプハウス２は互いに対向せず、搬送方向にずれた位置に配置される。被処理体４の一方の面が光照射されると、照射された光エネルギーが熱エネルギーに変換され、被処理体４の温度が上昇する。光処理装置５００では、二つのランプハウス２が搬送方向にずれた位置に配置することにより、熱エネルギーの変換が時間的に分散され、被処理体４の温度上昇幅を抑えることができる。
【0072】
光処理装置５００では、ランプハウス２の上流において、被処理体４の両面にそれぞれ、第一の外気流入抑制部Ｓ１が設けられている一方で、ランプハウス２の下流には、第一の外気流入抑制部Ｓ１が設けられていない。このように、第一の外気流入抑制部Ｓ１は、図８に示すようにランプハウス２の上流にのみ設けられるか、又は、ランプハウス２の上流と下流の両方に設けられるとよい。
【0073】
＜第六実施形態＞
図９は、光処理装置６００の断面図である。光処理装置６００は、ランプハウス２の搬送経路上流（本実施形態では、ランプハウス２の＋Ｙ方向）にプリパージチャンバ１０を備える。プリパージチャンバ１０内には、不活性ガスＩＧを噴射するパージガスノズル１１が３本取り付けられている。パージガスノズル１１から噴射する不活性ガスＩＧは、ランプハウス２内に供給する不活性ガスＩＧと同種のガスであってもよく、異なる種類のガスであってもよい。本実施形態では、パージガスノズル１１から噴射する不活性ガスＩＧとして、ランプハウス２内に供給する不活性ガスＩＧと同じ、窒素を使用する。各パージガスノズル１１は、ガス配管６を介してガス供給源１２に接続される。ガス配管６は、必要に応じて分岐される。ガス配管６の途中に流量制御弁７を有する。
図９は、光処理装置６００の断面図である。光処理装置６００は、ランプハウス２の搬送経路上流（本実施形態では、ランプハウス２の＋Ｙ方向）にプリパージチャンバ１０を備える。プリパージチャンバ１０内には、不活性ガスＩＧを噴射するパージガスノズル１１が３本取り付けられている。パージガスノズル１１から噴射する不活性ガスＩＧは、ランプハウス２内に供給する不活性ガスＩＧと同種のガスであってもよく、異なる種類のガスであってもよい。本実施形態では、パージガスノズル１１から噴射する不活性ガスＩＧとして、ランプハウス２内に供給する不活性ガスＩＧと同じ、窒素を使用する。各パージガスノズル１１は、ガス配管６を介してガス供給源１２に接続される。ガス配管６は、必要に応じて分岐される。ガス配管６の途中に流量制御弁７を有する。
【0074】
パージガスノズル１１の目的を説明する。図１０Ａは、被処理体４が搬送される側面を模式的に示す拡大図である。被処理体４は、大気雰囲気下、図中Ａ１の方向（－Ｙ方向）に高速搬送される。被処理体４が高速搬送されるとき、被処理体４の表面に隣接する気体５９（斜線でハッチングされた部分）が、被処理体４の表面に粘着した状態で、被処理体４とともに搬送される。本明細書では、被処理体４の表面に粘着した気体５９を、境界層５９という。被処理体４は、大気雰囲気下で高速搬送されるため、境界層５９を構成する気体は空気である。被処理体４は、境界層５９を持った状態でランプハウス２内に搬送される。そうすると、ランプハウス２内を不活性ガス雰囲気にしても、被処理体４に接する境界層５９により、紫外光が吸収されることになる。
【0075】
図１０Ｂは、パージガスノズル１１から、高速搬送される被処理体４に向けて、不活性ガスＩＧを噴射する様子を示す図である。図１０ＢにおいてＡ１方向（－Ｙ方向）に高速搬送される被処理体４に対し、パージガスノズル１１から不活性ガスＩＧが噴射される。その結果、境界層５９は、噴射された不活性ガスＩＧによって破壊され、被処理体４上から境界層５９が除去されるか、又は、境界層５９の厚みが減少する。被処理体４は、境界層５９が除去された（又は、境界層５９の厚みの減少した）状態で、ランプハウス２内へ搬送される。これにより、ランプハウス２において、境界層５９で吸収される紫外光の量が減少し、より多くの紫外光が被処理体４に到達する。なお、不活性ガスＩＧが噴射された後、不活性ガス雰囲気下で被処理体４が高速移動することで、新たな境界層が形成されたとしても、当該境界層は、不活性ガスＩＧから構成される境界層であるため、紫外光は当該境界層で吸収されない。
【0076】
本実施形態では、不活性ガスＩＧの噴射される方向と、上流に向かう方向（＋Ｙ方向）との間になす角度θ１は９０度であるが。９０度に限定されない。角度θ１は、４５度以上９０度以下であると好ましい。ランプハウス２内のガス供給口８と異なり、パージガスノズル１１は、不活性ガスＩＧを被処理体４に向けて噴射する。そのため、プリパージチャンバ１０内では気体が乱流化しやすい。しかしながら、プリパージチャンバ１０内では光処理を行なわないので、プリパージチャンバ１０内で気体が乱流化しても、ランプハウス２での光処理に悪影響を与えにくい。不活性ガスＩＧを被処理体４に向けて噴射できることに、ランプハウス２とは別にプリパージチャンバ１０を設けることの意義がある。
【0077】
本実施形態では、３本のパージガスノズル（１１ａ，１１ｂ，１１ｃ）を搬送方向に異なる位置に配置したが、４本以上のパージガスノズルを配置してもよく、２本以下のパージガスノズルが配置されてもよい。パージガスノズルの数を、被処理体４の搬送速度や、ランプハウス２又はプリパージチャンバ１０内の酸素濃度に基づいて決定してもよい。
【0078】
＜第七実施形態＞
第一実施形態～第六実施形態の光処理装置で処理される被処理体４は化粧シートである場合を説明したが、被処理体４は、化粧シートより厚みのある化粧材であってもよい。厚みのある化粧材の場合、ロール・トゥ・ロール方式で搬送するのではなく、コンベヤベルト等の搬送体に化粧材を配置して搬送する。
第一実施形態～第六実施形態の光処理装置で処理される被処理体４は化粧シートである場合を説明したが、被処理体４は、化粧シートより厚みのある化粧材であってもよい。厚みのある化粧材の場合、ロール・トゥ・ロール方式で搬送するのではなく、コンベヤベルト等の搬送体に化粧材を配置して搬送する。
【0079】
図１１は、光処理装置７００の断面図である。本実施形態では、搬送体としてコンベヤベルト１（以下、単に、「ベルト１」と言うことがある。）が使用される。被処理体４は、ベルト１上に載置されて、ベルト１とともに－Ｙ方向へ搬送される。ランプハウス２及びプリパージチャンバ１０は、それぞれ、ベルト１に近接する方向（－Ｚ方向）に開口を有する筐体である。ベルト１は、被処理体４を、プリパージチャンバ１０の開口の近傍とランプハウス２の開口の近傍をこの順に通過するように搬送する。
【0080】
ベルト１の下側（－Ｚ側）には、板５がある。板５は、ランプハウス２の開口及びプリパージチャンバ１０の開口を覆うように配置されている。ランプハウス２と板５の間、及び、プリパージチャンバ１０と板５の間には、それぞれ、ベルト１と被処理体４を通過させる隙間がある。斯かる隙間を除いて、ランプハウス２及びプリパージチャンバ１０は、板５とともに、周囲から閉鎖された空間を形成している。板５の上流に第一の外気流入抑制部Ｓ１が配置される。
【0081】
搬送体として使用するベルト１の詳細を説明する。ベルト１は、第一プーリ３８と第二プーリ３７を巻回されている。第一プーリ３８及び第二プーリ３７は、Ｘ方向に延びる軸を中心とする回転体である。本実施形態において、第一プーリ３８は、ベルト１を駆動するための駆動プーリである。第二プーリ３７は、駆動しているベルト１との摩擦によって動く従動プーリである。第一プーリ３８及び第二プーリ３７の形状は、Ｘ方向に径が一定の円柱形状であってもよい。第一プーリ３８及び第二プーリ３７のＸ方向の長さは、ベルト１のＸ方向の幅より大きいとよい。
【0082】
ベルト１はシート状である。ベルト１と板５は接しない。ベルト１と、ランプハウス２又はプリパージチャンバ１０は、接しない。ベルト１のＸ方向の幅は、被処理体４のＸ方向の幅より大きい。ベルト１のＸ方向の幅は、５００ｍｍ以上であるとよく、５６０ｍｍ以下であるとよい。なお、ベルト１のＺ方向の厚みは、０．１ｍｍ以上であるとよく、２．０ｍｍ以下であるとよい。ベルト１が厚いとベルト１が撓みにくい。他方で、ベルト１が薄いとベルト１を円滑に移動させやすい。本実施形態において、被処理体４を高速搬送することが期待される。ベルト１の移動速度は、例えば、７０ｍ／分であるとよく、１００ｍ／分以上であるとより好ましい。ベルト１の移動速度を早く設定して処理効率を高めることができる。
【0083】
ベルト１は、例えば、樹脂製であるとよい。ベルト１に、ポリウレタンを使用しても構わない。真空紫外光が酸素又は水を含む空気に吸収されると、酸素ラジカル（Ｏ（１Ｄ））、オゾン（Ｏ３）又はヒドロキシラジカル（・ＯＨ）等の活性物質が生成されるおそれがある。ベルト１が、これら活性物質で変質又は劣化する場合には、ベルト１を定期的に交換するとよい。また、ベルト１は、これら活性物質に対して化学的に変質しにくい材料、例えば、フッ素系樹脂材料を使用してもよい。フッ素系樹脂材料として、ＰＴＦＥが例示される。
【0084】
ベルト１は、第一プーリ３８と第二プーリ３７の間に、ベルト１を支持する、ガイドローラ３３を有する。ガイドローラ３３は、金属製又は樹脂製であっても構わない。ガイドローラ３３が、Ｘ方向に並ぶ、複数の小ローラから構成されてもよい。ガイドローラ３３に樹脂を使用する場合には、紫外光に対して劣化しにくい樹脂（例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、又はＰＴＦＥ樹脂）を使用するとよい。紫外光Ｌ１が照射され得る領域で、被処理体４がガイドローラ３３に支えられるように、ガイドローラ３３が配置されると、被処理体４と光源３との距離を保ちやすく、好ましい。
【0085】
［変形例］
図１２を参照しながら、第七実施形態の変形例を説明する。図１２は、光処理装置８００の断面図である。光処理装置８００には、ガイドローラ３３がない。紫外光Ｌ１が照射され得る領域において、被処理体４は、板５によって支持される。ベルト１は移動し、板５は静止するため、板５とベルト１は擦れ合う。本変形例では、板５の表面５ａの滑り性を高めるとよい。滑り性を高めるには、表面５ａを、樹脂系材料（例えばフッ素樹脂系材料）にするとよい。表面５ａの滑り性を高めるには、板５に別部材を貼り付けてもよく、板５に成膜してもよく、板５を表面改質してもよい。表面５ａは、ベルト１と同じ材質にしてもよい。
図１２を参照しながら、第七実施形態の変形例を説明する。図１２は、光処理装置８００の断面図である。光処理装置８００には、ガイドローラ３３がない。紫外光Ｌ１が照射され得る領域において、被処理体４は、板５によって支持される。ベルト１は移動し、板５は静止するため、板５とベルト１は擦れ合う。本変形例では、板５の表面５ａの滑り性を高めるとよい。滑り性を高めるには、表面５ａを、樹脂系材料（例えばフッ素樹脂系材料）にするとよい。表面５ａの滑り性を高めるには、板５に別部材を貼り付けてもよく、板５に成膜してもよく、板５を表面改質してもよい。表面５ａは、ベルト１と同じ材質にしてもよい。
【0086】
図１３Ａは板５と板５上のベルト１を＋Ｚ方向から－Ｚ方向に見た図である。ベルト１を破線で示す。板５の表面５ａには、フッ素樹脂系材料の一種であるＰＴＦＥで覆われた領域２（実線ハッチング領域）が形成されている。これにより、ベルト１の表面５ａに対する滑り性を高めている。なお、本変形例におけるベルト１の材質もＰＴＦＥである。
【0087】
ＰＴＦＥ領域２のＸ方向の両端は、それぞれ、ベルト１のＸ方向の両端よりもｄ（ｍｍ）大きく、ＰＴＦＥ領域２のＸ方向の幅は、ベルト１のＸ方向の幅よりも２ｄ（ｍｍ）大きい。これにより、ベルト１が移動する際、ベルト１の蛇行によりベルト１のＸ方向の位置が変化しても、ベルト１の表面５ａに対する滑り性を維持できる。ｄは、例えば、２５（ｍｍ）～５０（ｍｍ）であってもよい。図１３ａでは、表面５ａの一部に滑り性を高めた領域２を形成しているが、表面５ａの全面を、滑り性を高めた領域にしてもよい。
【0088】
図１３Ｂは、板５のさらなる変形例である。図１３Ｂは、板５と板５上のベルト１を＋Ｚ方向から－Ｚ方向に見た図である。ベルト１を破線で示す。表面５ａにおいて滑り性を高めた領域２は実線でハッチングされた領域である。当図に示されるように、滑り性を高めた領域２は表面５ａの一部である。具体的には、滑り性を高めた領域２は、ベルト１の幅方向（Ｘ方向）の両端部に重なる部分と、ベルト１が板５に浸入する部分と、ベルト１が板５から離れる部分と、から構成される枠囲み形状である。表面５ａの中央部分は滑り性を高めていない。枠囲み形状の領域２は、ベルト１が表面５ａに特に接触しやすい領域である。ベルト１１が板５に浸入する部分における領域２の幅ｐ１は、５（ｍｍ）～１５（ｍｍ）であるとよい。ベルト１１が板５から離れる部分における領域２の幅ｐ２は、５（ｍｍ）～１５（ｍｍ）であるとよい。ベルト１の幅方向（Ｘ方向）の両端部に重なる部分における、ベルト１の端から領域２の内周までの間隔ｐ３は、５（ｍｍ）～１５（ｍｍ）であるとよい。
【0089】
以上で、光処理装置のいくつかの実施形態及びその変形例について説明したが、本発明は上述した実施形態及び変形例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、上述の実施形態及び変形例に種々の変更又は改良を加えたり、各実施形態又は変形例を組み合わせたりできる。
【0090】
上述した光処理装置は、単一又は二つのランプハウス２を有していたが、搬送方向（Ｙ方向）に３つ以上のランプハウス２を配置しても構わない。被処理体４の同じ面を複数のランプハウス２からの光源で光処理しても構わない。
【0091】
上述した光処理装置は、紫外光Ｌ１の照射方向が重力方向（－Ｚ方向）と同じ方向となるように示したが、紫外光Ｌ１の照射方向が重力方向と異なっていても構わない。例えば、重力方向に搬送される搬送体に対し、水平方向に紫外光を照射しても構わない。
【0092】
ランプハウス２の内部１５又はランプハウス近接空間１６ｐの酸素濃度を一つ以上の酸素濃度計で計測し、計測した酸素濃度に応じて、不活性ガスＩＧの供給量を調整してもよく、ガス回収チャンバ（２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ）の排気量を調整してもよい。酸素濃度計と、不活性ガスＩＧの供給量調整機構又は排気量の調整機構とを制御部で接続し、制御部に酸素濃度を自動制御させてもよい。
【0093】
上述した光処理装置で処理される被処理体４は、化粧材又は化粧シート以外であってもよい。様々な波長の紫外光が、様々な目的で、多様な材料から構成される被処理体４に照射される。本実施形態の光処理装置を、つや消し効果の付与以外の目的で使用しても構わない。
【符号の説明】
【0094】
１ ：コンベヤベルト
２ ：ランプハウス
３ ：光源
４ ：被処理体
５ ：板
６ ：ガス配管
７ ：流量制御弁
８ ：ガス供給口
９ ：第二隔壁
１０ ：プリパージチャンバ
１１ ：パージガスノズル
１２ ：ガス供給源
１４ ：素線懸架部
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ：素線
１５ ：内部
１６ｐ ：ランプハウス近接空間
１６ｑ ：パージチャンバ近接空間
２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ：ガス回収チャンバ
２１ ：ガス回収口
２１ｐ ：多孔プレート
２３ ：排気口
３２ ：パージチャンバ
３３，４３：ガイドローラ
３７ ：第二プーリ
３８ ：第一プーリ
２６ ：第一隔壁
４２ ：スペーサ
４５ ：外気
５０ ：内部
５９ ：境界層
１００，２００，３００，４００，５００，６００，７００：光処理装置
Ｇ１、Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４：隙間
ＩＧ ：不活性ガス
Ｌ１ ：紫外光
Ｓ１ ：第一の外気流入抑制部
Ｓ２ ：第二の外気流入抑制部
Ｓ３ ：第三の外気流入抑制部
２ ：ランプハウス
３ ：光源
４ ：被処理体
５ ：板
６ ：ガス配管
７ ：流量制御弁
８ ：ガス供給口
９ ：第二隔壁
１０ ：プリパージチャンバ
１１ ：パージガスノズル
１２ ：ガス供給源
１４ ：素線懸架部
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ：素線
１５ ：内部
１６ｐ ：ランプハウス近接空間
１６ｑ ：パージチャンバ近接空間
２０ａ，２０ｂ，３０ａ，３０ｂ：ガス回収チャンバ
２１ ：ガス回収口
２１ｐ ：多孔プレート
２３ ：排気口
３２ ：パージチャンバ
３３，４３：ガイドローラ
３７ ：第二プーリ
３８ ：第一プーリ
２６ ：第一隔壁
４２ ：スペーサ
４５ ：外気
５０ ：内部
５９ ：境界層
１００，２００，３００，４００，５００，６００，７００：光処理装置
Ｇ１、Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４：隙間
ＩＧ ：不活性ガス
Ｌ１ ：紫外光
Ｓ１ ：第一の外気流入抑制部
Ｓ２ ：第二の外気流入抑制部
Ｓ３ ：第三の外気流入抑制部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図5D】
【図5E】
【図5F】
【図5G】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10A】
【図10B】
【図11】
【図12】
【図13A】
【図13B】
