ホーム > 特許ランキング > 住友ベークライト株式会社
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024157943
(43)【公開日】2024-11-08
(54)【発明の名称】反射部材、柱、電柱、反射部材の製造方法
(51)【国際特許分類】
H01Q 15/14 20060101AFI20241031BHJP
H01Q 15/16 20060101ALI20241031BHJP
【ＦＩ】
H01Q15/14 Z
H01Q15/16
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023072625
(22)【出願日】2023-04-26
(71)【出願人】
【識別番号】000002141
【氏名又は名称】住友ベークライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100110928
【弁理士】
【氏名又は名称】速水 進治
(72)【発明者】
【氏名】片山 敏彦
(72)【発明者】
【氏名】山下 勝志
(72)【発明者】
【氏名】森 弘就
【テーマコード（参考）】
5J020
【Ｆターム（参考）】
5J020AA03
5J020BA07
5J020CA01
5J020CA02
5J020CA05
(57)【要約】
【課題】反射特性の劣化を抑制しつつ、非平面に形状を適合させることが可能な反射部材が提供すること。
【解決手段】それぞれがメタサーフェス１１０を有している複数の平面構造１００を含み、少なくとも２つの平面構造１００は並んでおり、少なくとも２つの平面構造１００は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、少なくとも２つの平面構造１００は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
【選択図】図１
【解決手段】それぞれがメタサーフェス１１０を有している複数の平面構造１００を含み、少なくとも２つの平面構造１００は並んでおり、少なくとも２つの平面構造１００は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、少なくとも２つの平面構造１００は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
それぞれがメタサーフェスを有している複数の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
【請求項2】
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの平面構造が有する前記メタサーフェスは、それぞれ複数のセルを含んでおり、当該メタサーフェスにおける少なくとも２つの前記セルを含む領域は平面になっている、反射部材。
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの平面構造が有する前記メタサーフェスは、それぞれ複数のセルを含んでおり、当該メタサーフェスにおける少なくとも２つの前記セルを含む領域は平面になっている、反射部材。
【請求項3】
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
特定の前記平面構造に対して、その他の前記平面構造は、それぞれ異なる角度に固定される、反射部材。
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
特定の前記平面構造に対して、その他の前記平面構造は、それぞれ異なる角度に固定される、反射部材。
【請求項4】
前記少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
当該少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、
前記平面構造に対して直角に電波を入射させた場合の当該平面構造が有する前記メタサーフェスによる反射波の強度分布の最大ピークを特定ピークとして、
前記第１方向のベクトルを前記平面構造に投影させた方向に直角かつ前記平面構造の中心を含む平面を、前記平面構造に直角かつ前記平面構造の中心を通る線で２つの領域に分けたときに、
前記少なくとも２つの前記平面構造の前記特定ピークは、同一の領域に存在している、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
当該少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、
前記平面構造に対して直角に電波を入射させた場合の当該平面構造が有する前記メタサーフェスによる反射波の強度分布の最大ピークを特定ピークとして、
前記第１方向のベクトルを前記平面構造に投影させた方向に直角かつ前記平面構造の中心を含む平面を、前記平面構造に直角かつ前記平面構造の中心を通る線で２つの領域に分けたときに、
前記少なくとも２つの前記平面構造の前記特定ピークは、同一の領域に存在している、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項5】
前記第１方向は、前記少なくとも２つの平面構造の、それぞれの中心を結んだ方向である、
請求項４に記載の反射部材。
請求項４に記載の反射部材。
【請求項6】
可撓性を有する基材をさらに含み、
前記基材に前記平面構造が固定されている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
前記基材に前記平面構造が固定されている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項7】
前記基材は、以下の条件２で測定される変位量が２ｃｍ以上である、請求項６に記載の反射部材。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
【請求項8】
少なくとも１つの前記平面構造の前記メタサーフェスの構造は、他の前記平面構造の前記メタサーフェスの構造とは異なる、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項9】
少なくとも２つの前記平面構造は、前記第１方向に直角な第２方向に並んでいる、
請求項４に記載の反射部材。
請求項４に記載の反射部材。
【請求項10】
前記メタサーフェスは、それぞれ同一の構造を有する、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項11】
前記少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、当該少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
前記少なくとも２つの平面構造は、それぞれの平面構造に直角な単位ベクトルの前記第１方向に平行な成分が徐々に変化するように固定されている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
前記少なくとも２つの平面構造は、それぞれの平面構造に直角な単位ベクトルの前記第１方向に平行な成分が徐々に変化するように固定されている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項12】
複数の前記平面構造は、一体となっている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項13】
柱に取り付けられている、
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材。
【請求項14】
柱の本体と、
前記本体に取り付けられている、請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材と、
を備える、柱。
前記本体に取り付けられている、請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材と、
を備える、柱。
【請求項15】
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射部材を有する、電柱。
【請求項16】
構造物を準備する準備工程と、
前記構造物に、レーザを所定のパターンで照射し、前記構造物のうち前記レーザを照射した領域に金属を析出させることにより、メタサーフェスとなる金属パターンを作成する作成工程と、を含む、
反射部材の製造方法。
前記構造物に、レーザを所定のパターンで照射し、前記構造物のうち前記レーザを照射した領域に金属を析出させることにより、メタサーフェスとなる金属パターンを作成する作成工程と、を含む、
反射部材の製造方法。
【請求項17】
前記構造物は、３つ以上の平面を含み、
前記作成工程において、前記平面にレーザを照射して金属パターンを作成する、
請求項１６に記載の反射部材の製造方法。
前記作成工程において、前記平面にレーザを照射して金属パターンを作成する、
請求項１６に記載の反射部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、反射部材、柱、電柱、および反射部材の製造方法に関する。
【0002】
例えば第５世代移動通信システムで使われる高い周波数帯の電波は、超高速・大容量な通信サービスを提供できる。しかし高い周波数帯の電波は直進性が高いため、カバレッジホール（電波が届きにくい場所）が発生しやすいことが知られている。そのため、メタサーフェス板を用いて基地局から放射された電波を反射させることによって、カバレッジホールを減らすことが検討されている。
【0003】
特許文献１には、柱の周りの曲線などの非平面にその形状を適合させることができる、曲げ可能なリフレクトアレイが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特表２０２２－５３５７９５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献１に記載のリフレクトアレイには、非平面に形状を適合させる際の反射特性の劣化に関して改善の余地があった。本発明の目的の一例は、反射特性の劣化を抑制しつつ、曲面等の非平面に形状を適合させることが可能な反射部材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明によれば、以下に示す反射部材、柱、電柱、および反射部材の製造方法が提供される。
【0007】
［１］
それぞれがメタサーフェスを有している複数の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
［２］
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの平面構造が有する前記メタサーフェスは、それぞれ複数のセルを含んでおり、当該メタサーフェスにおける少なくとも２つの前記セルを含む領域は平面になっている、反射部材。
［３］
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
特定の前記平面構造に対して、その他の前記平面構造は、それぞれ異なる角度に固定される、反射部材。
［４］
前記少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
当該少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、
前記平面構造に対して直角に電波を入射させた場合の当該平面構造が有する前記メタサーフェスによる反射波の強度分布の最大ピークを特定ピークとして、
前記第１方向のベクトルを前記平面構造に投影させた方向に直角かつ前記平面構造の中心を含む平面を、前記平面構造に直角かつ前記平面構造の中心を通る線で２つの領域に分けたときに、
前記少なくとも２つの前記平面構造の前記特定ピークは、同一の領域に存在している、
［１］乃至［３］のいずれかに記載の反射部材。
［５］
前記第１方向は、前記少なくとも２つの平面構造の、それぞれの中心を結んだ方向である、
［４］に記載の反射部材。
［６］
可撓性を有する基材をさらに含み、
前記基材に前記平面構造が固定されている、
［１］乃至［５］のいずれかに記載の反射部材。
［７］
前記基材は、以下の条件２で測定される変位量が２ｃｍ以上である、［６］に記載の反射部材。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
［８］
少なくとも１つの前記平面構造の前記メタサーフェスの構造は、他の前記平面構造の前記メタサーフェスの構造とは異なる、
［１］乃至［７］のいずれかに記載の反射部材。
［９］
少なくとも２つの前記平面構造は、前記第１方向に直角な第２方向に並んでいる、
［４］に記載の反射部材。
［１０］
前記メタサーフェスは、それぞれ同一の構造を有する、
［１］乃至［９］のいずれかに記載の反射部材。
［１１］
前記少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、当該少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
前記少なくとも２つの平面構造は、それぞれの平面構造に直角な単位ベクトルの前記第１方向に平行な成分が徐々に変化するように固定されている、
［１］乃至［１０］のいずれかに記載の反射部材。
［１２］
複数の前記平面構造は、一体となっている、
［１］乃至［１１］のいずれかに記載の反射部材。
［１３］
柱に取り付けられている、
［１］乃至［１２］のいずれかに記載の反射部材。
［１４］
柱の本体と、
前記本体に取り付けられている、［１］乃至［１３］のいずれかに記載の反射部材と、
を備える、柱。
［１５］
［１］乃至［１３］のいずれかに記載の反射部材を有する、電柱。
［１６］
構造物を準備する準備工程と、
前記構造物に、レーザを所定のパターンで照射し、前記構造物のうち前記レーザを照射した領域に金属を析出させることにより、メタサーフェスとなる金属パターンを作成する作成工程と、を含む、
反射部材の製造方法。
［１７］
前記構造物は、３つ以上の平面を含み、
前記作成工程において、前記平面にレーザを照射して金属パターンを作成する、
［１６］に記載の反射部材の製造方法。
それぞれがメタサーフェスを有している複数の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、それぞれ以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下である、反射部材。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
［２］
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
前記少なくとも２つの前記平面構造は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能であり、
前記少なくとも２つの平面構造が有する前記メタサーフェスは、それぞれ複数のセルを含んでおり、当該メタサーフェスにおける少なくとも２つの前記セルを含む領域は平面になっている、反射部材。
［３］
それぞれがメタサーフェスを有している３つ以上の平面構造を含み、
少なくとも２つの前記平面構造は並んでおり、
特定の前記平面構造に対して、その他の前記平面構造は、それぞれ異なる角度に固定される、反射部材。
［４］
前記少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
当該少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、
前記平面構造に対して直角に電波を入射させた場合の当該平面構造が有する前記メタサーフェスによる反射波の強度分布の最大ピークを特定ピークとして、
前記第１方向のベクトルを前記平面構造に投影させた方向に直角かつ前記平面構造の中心を含む平面を、前記平面構造に直角かつ前記平面構造の中心を通る線で２つの領域に分けたときに、
前記少なくとも２つの前記平面構造の前記特定ピークは、同一の領域に存在している、
［１］乃至［３］のいずれかに記載の反射部材。
［５］
前記第１方向は、前記少なくとも２つの平面構造の、それぞれの中心を結んだ方向である、
［４］に記載の反射部材。
［６］
可撓性を有する基材をさらに含み、
前記基材に前記平面構造が固定されている、
［１］乃至［５］のいずれかに記載の反射部材。
［７］
前記基材は、以下の条件２で測定される変位量が２ｃｍ以上である、［６］に記載の反射部材。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
［８］
少なくとも１つの前記平面構造の前記メタサーフェスの構造は、他の前記平面構造の前記メタサーフェスの構造とは異なる、
［１］乃至［７］のいずれかに記載の反射部材。
［９］
少なくとも２つの前記平面構造は、前記第１方向に直角な第２方向に並んでいる、
［４］に記載の反射部材。
［１０］
前記メタサーフェスは、それぞれ同一の構造を有する、
［１］乃至［９］のいずれかに記載の反射部材。
［１１］
前記少なくとも２つの平面構造のそれぞれにおいて、当該少なくとも２つの平面構造が並んでいる方向を第１方向としたときに、
前記少なくとも２つの平面構造は、それぞれの平面構造に直角な単位ベクトルの前記第１方向に平行な成分が徐々に変化するように固定されている、
［１］乃至［１０］のいずれかに記載の反射部材。
［１２］
複数の前記平面構造は、一体となっている、
［１］乃至［１１］のいずれかに記載の反射部材。
［１３］
柱に取り付けられている、
［１］乃至［１２］のいずれかに記載の反射部材。
［１４］
柱の本体と、
前記本体に取り付けられている、［１］乃至［１３］のいずれかに記載の反射部材と、
を備える、柱。
［１５］
［１］乃至［１３］のいずれかに記載の反射部材を有する、電柱。
［１６］
構造物を準備する準備工程と、
前記構造物に、レーザを所定のパターンで照射し、前記構造物のうち前記レーザを照射した領域に金属を析出させることにより、メタサーフェスとなる金属パターンを作成する作成工程と、を含む、
反射部材の製造方法。
［１７］
前記構造物は、３つ以上の平面を含み、
前記作成工程において、前記平面にレーザを照射して金属パターンを作成する、
［１６］に記載の反射部材の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、反射特性の劣化を抑制しつつ、非平面に形状を適合させることが可能な反射部材が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
【0010】
【図1】第１実施形態に係る反射部材１０の一例を示す図である。
【図5】平面構造の数毎の反射部材の一例を示す図である。
【図6】ｚ方向から見たメタサーフェス部の構造の一例を示す図である。
【図10】特定ピークを説明するための図である。
【図11】反射波の電力強度密度をｘ方向から見た図である。
【図12】反射波の電力強度密度をｙ方向から見た図である。
【図13】各極座標の位置の電力強度密度を示す図である。
【図14】反射部材の使用形態を説明するための図である。
【図15】第１実施形態に係る反射部材の変形例を示す第１図である。
【図17】第１実施形態に係る反射部材の変形例を示す第２図である。
【図18】第２実施形態に係る反射部材の一例をｚ方向から見た図である。
【図20】第２実施形態に係る反射部材の第２例を直角方向から見た図である。
【図21】第２実施形態の反射部材の使用形態を説明するための図である。
【図22】平面構造の製造方法の第１例を示す図である。
【図23】平面構造の製造方法の第２例を示す図である。
【図24】第１実施形態に係る反射部材の製造方法の一例を示す図である。
【図25】第２実施形態に係る反射部材の製造方法の一例示す図である。
【図26】第１実施形態に係る反射部材の製造方法の変形例を示す図である。
【図27】条件１について説明するための図である。
【図28】第１方向について説明するための第１図である。
【図29】第１方向について説明するための第２図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。なお、図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。なお、図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
【0012】
本明細書中、数値範囲の説明における「ａ～ｂ」との表記は、特に断らない限り、ａ以上ｂ以下のことを表す。例えば、「１％～５％」とは「１％以上５％以下」を意味する。
【0013】
［第１実施形態］
図１は、本実施形態に係る反射部材１０の一例を示す図である。図１に示すように、反射部材１０は、複数の平面構造１００ａ，１００ｂ，１００ｃ・・・を有する。そして、それぞれの平面構造１００は、反射波の角度を制御するためのメタサーフェス部１１０を有する。また、平面構造１００は、メタサーフェス部１１０を支持するためのベース部１２０をさらに有してもよい。
図１は、本実施形態に係る反射部材１０の一例を示す図である。図１に示すように、反射部材１０は、複数の平面構造１００ａ，１００ｂ，１００ｃ・・・を有する。そして、それぞれの平面構造１００は、反射波の角度を制御するためのメタサーフェス部１１０を有する。また、平面構造１００は、メタサーフェス部１１０を支持するためのベース部１２０をさらに有してもよい。
【0014】
図１に示すように、複数の平面構造１００のうち、少なくとも２つの平面構造１００は、異なる方向を向いている、又は、異なる方向を向くことが可能である。そのため、本実施形態に係る反射部材１０は、非平面に形状を適合させて設置しやすい。なお、図１に示す例では、複数の平面構造１００の向きは、異なる方向を向いて固定されている。複数の平面構造１００が異なる方向を向くことが可能な例については、他の実施形態において説明する。
【0015】
図２は、図１における平面構造１００を示す図である。図２においては、平面構造１００は、横の長さがＳ１であり、縦の長さがＳ２の板状である。Ｓ１は、３ｍｍ以上１ｍ以下であることが好ましく、１５ｍｍ以上０．５ｍ以下であることがより好ましい。また、Ｓ２は、９ｍｍ以上３ｍ以下であることが好ましく、４５ｍｍ以上１．５ｍ以下であることがより好ましい。
【0016】
ただし、平面構造１００は、図２に示した形状に限定されるものではなく、多角形、円形または楕円形等の平面を有する形状であればよい。また、図１において、各平面構造１００は同じ形状であるが、各平面構造１００は互いに異なる形状であってもよい。また、少なくとも一つの平面構造１００が有するメタサーフェス部１１０の構造は、他の平面構造１００が有するメタサーフェス部１１０の構造と同一でもよいし、異なるものでもよい。
【0017】
また、図２に示した平面構造１００は、以下の条件１で測定される変位量が６０ｍｍ以下であることが好ましく、４０ｍｍ以下であることがより好ましく、３０ｍｍ以下であることがさらにより好ましい。図２７に、条件１の測定法の概要を示す。これにより、平面構造１００が変形することを抑制し、後述するメタサーフェス部１１０のセルの構造が変化してその特性が変化することを抑制できる。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
（条件１）
前記平面構造から、１００ｍｍ×３０ｍｍの試験片を得る。短手方向の一辺である第１辺から１０ｍｍの位置を支持しつつ、前記第１辺と対向する第２辺を自由端とした状態において、前記第２辺から１０ｍｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．５Ｎのときの、前記第２辺の変位量を測定する。
【0018】
また、本実施形態に係る反射部材１０は、複数の平面構造１００が一体形成されることで、一体化していることが好ましい。これにより、後述するメタサーフェス部１１０のセルの構造が変化してその特性が変化することを抑制できる。
【0019】
図３は、図２におけるＡ－Ａ´断面の複数の例を示す図である。図３（ａ）は、平面構造１００が、メタサーフェス部１１０のみで形成されている場合の断面図である。図３（ｂ）は、平面構造１００がメタサーフェス部１１０と、ベース部１２０が重なって形成されている場合の断面図である。図３（ｃ）は、ベース部１２０に、メタサーフェス部１１０が埋め込まれている場合の断面図である。
【0020】
なお、ベース部１２０は、例えば、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂の少なくとも一方を含む材料から構成される。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、およびポリウレタン樹脂等から選択される、１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂（ＰＴＴ）、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂（ＰＨＴ）等のポリアルキレンテレフタレート樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂（ＳＰＳ）、ポリプロピレン樹脂（ＰＰ）及び他の成分を共重合した共重合体樹脂等から選択される、１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。
【0021】
また、ベース部１２０は、上述した樹脂材料により構成される場合、ガラスクロスなどの繊維基材や、フィラーをさらに含んでいてもよい。これにより、ベース部１２０の機械的強度を向上させることができる。
【0022】
または、ベース部１２０は、鉄、アルミニウムまたは銅などの金属により構成されていてもよい。
【0023】
本実施形態に係る反射部材１０において、少なくとも２つの平面構造１００は、第１方向へ並んでいる。なお、第１方向とは、例えば、並んでいる平面構造１００の中心を結んだ方向である。または、並んでいる平面構造１００の少なくとも一部が互いに重なって見える方向を意味する。
【0024】
または、図２８に示す、反射部材１０を中央の平面構造１００ｂに直角な方向（ｚ方向）から見た場合の平面視において、各平面構造１００の中心を結んだ方向を第１方向としてもよい。
【0025】
または、平面構造１００が矩形であり、隣り合う平面構造１００が短辺同士または長辺同士を対向させて並んでいる場合、隣りの平面構造１００と接している辺１４０に直角な辺の方向すなわち図２８における左右方向を、第１方向としてもよい。この場合、図２９に示すように、矩形の平面構造１００が接しながら高さをずらして並んでいる場合においても、ｘ方向を第１方向とする。
【0026】
なお、第１方向は上記の方向に限定されない。例えば、上記の方向から３０°以内の方向を第１方向としてもよい。
【0027】
図４は、図１に示した反射部材１０を、ｙ方向から見た図である。図４に示すように、それぞれの平面構造１００は、第１方向（ｘ方向）に対する角度が徐々に変化するように並んでいることが好ましい。言い換えると、平面構造１００に直角な単位ベクトルの第１方向に平行な成分が徐々に変化するように並んでいることが好ましい。また、それぞれの平面構造１００は、第１方向に対する角度が同じ方向に徐々に変化するように並んでいることがより好ましい。また、それぞれの平面構造１００は、第１方向に対する角度が等角度で変化するように並んでいることがより好ましい。より具体的には、５°～３０°の範囲の等角度で変化するように並んでいることがより好ましい。図４においてはθ１＝θ２＝１０°である。
【0028】
なお、図１における反射部材１０は３つの平面構造１００を有するが、反射部材１０は、５つ以上の平面構造１００を含むことがより好ましく、７つ以上の平面構造１００を含むことがさらにより好ましく、９つ以上の平面構造１００を含むことが特により好ましい。
【0029】
図５に、平面構造１００の数が、３つ、５つ、７つ、および９つの場合の、反射部材１０の一例を、ｙ方向から見た図を示す。なお、いずれの反射部材１０においても、隣り合う平面構造１００は、第１方向に対する角度が等角度（１０°）ずつ変化している。
【0030】
［メタサーフェス部１１０の概要］
図６は、直角方向（ｚ方向）から見たメタサーフェス部１１０の構造の一例を示す図である。図６に示すように、メタサーフェス部１１０は、スーパーセル２a，２ｂ，２ｃ・・・が周期的に並んで形成されている。図６において、メタサーフェス部１１０は、ｘ方向に９個のスーパーセル２が並び、ｙ方向に３つのスーパーセル２が並ぶことで、２７個のスーパーセル２を有している。スーパーセル２の数は特に限定されないが、スーパーセル２の長手方向（ｙ方向）には、スーパーセル２が３個以上並んでいることが好ましく、４個以上並んでいることがより好ましく、５個以上並んでいることがさらにより好ましく、６個以上並んでいることが特により好ましい。
図６は、直角方向（ｚ方向）から見たメタサーフェス部１１０の構造の一例を示す図である。図６に示すように、メタサーフェス部１１０は、スーパーセル２a，２ｂ，２ｃ・・・が周期的に並んで形成されている。図６において、メタサーフェス部１１０は、ｘ方向に９個のスーパーセル２が並び、ｙ方向に３つのスーパーセル２が並ぶことで、２７個のスーパーセル２を有している。スーパーセル２の数は特に限定されないが、スーパーセル２の長手方向（ｙ方向）には、スーパーセル２が３個以上並んでいることが好ましく、４個以上並んでいることがより好ましく、５個以上並んでいることがさらにより好ましく、６個以上並んでいることが特により好ましい。
【0031】
図７は、図６に示したスーパーセル２の拡大図である。そして、図８は、図７におけるＢ－Ｂ´断面の複数の例を示す図である。そして、図９は、図７におけるＢ－Ｂ´断面の複数の変形例を示す図である。図７に示すように、スーパーセル２は複数の単位セル１a，１ｂ，１ｃを含む。そして、３つの単位セル１は、周期ｐで並んでいる。３つの単位セル１は、それぞれ長さｌ、幅ｗのクロスストリップ形状の電極１１１を含む。そして、図７に示すように、スーパーセル２に含まれる単位セル１は、ｙ方向に進むにつれて、電極１１１の長さｌが小さくなっている。なお、図７に示すスーパーセル２は、３つの単位セル１を含むが、単位セル１の数は３に限定されない。
【0032】
図８（ａ）は、基本的なスーパーセル２の断面図である。誘電体基板１１２の電極１１１と反対側の面には、地板１１３が備えられている。図８（ｂ）は、ベース部１２０を有する場合のスーパーセル２の断面図である。ベース部１２０は、地板１１３と接して、スーパーセル２を支持している。なお、ベース部１２０の厚さＴは、例えば、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましい。図８（ｃ）は、電極１１１が誘電体基板１１２に埋め込まれている場合の断面図である。図示するように、電極１１１は、誘電体基板１１２に埋め込まれて、表面のみ露出していてもよい。
【0033】
図９（ａ）は、電極１１１が誘電体基板１１２に埋め込まれ、電極１１１全体が誘電基板１１２に覆われている場合の断面図である。この場合、電極１１１を外部から保護することができる。図９（ｂ）は、電極１１１が、保護層１３０に覆われている場合の断面図である。この場合にも、電極１１１を外部から保護することができる。さらに、保護層１３０の色彩を調整することで、反射部材１０に意匠性を持たせることができる。
【0034】
また、メタサーフェス部１１０は、少なくとも２つの単一セル１を含む領域が平面になっていることが好ましい。また、３つ以上の単一セル１を含む領域が平面になっていることがより好ましい。また、６つ以上の単一セル１を含む領域が平面になっていることがさらにより好ましい。本図に示す例において、メタサーフェス部１１０の全体が平面になっている。
【0035】
以上が、メタサーフェス部１１０の概要であるが、本実施形態におけるメタサーフェス部１１０は上記のものに限定されない。例えば、電極１１１はクロスストリップ以外の形状であってもよい。電極１１１は、例えば、複数に分離している形状であってもよい。
【0036】
また、本実施形態に係るメタサーフェス部１１０は、各単位セル１の電極１１１の大きさにより、各単位セル１の反射位相を変えるのではなく、各単位セル１に印加する電圧を調整することで、各単位セル１の反射位相を変えるものでもよい。
【0037】
次に、メタサーフェス部１１０の各構成の詳細について説明する。
【0038】
電極１１１は、例えば、銀、金、アルミニウムおよび銅の少なくとも一つを含む。また、電極の厚さＴ１は、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【0039】
また、単位セル１の間隔ｐは、メタサーフェス部１１０の反射特性によって、適宜設定されるが、例えば、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
【0040】
誘電体基板１１２は、例えば、熱硬化性樹脂、シクロオレフィン系樹脂、フッ素樹脂、および液晶ポリマーの少なくとも一つを含む材料から構成される。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、およびポリウレタン樹脂等から選択される、１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。
【0041】
また、誘電体基板１１２は、ガラスクロスなどの繊維基材や、フィラーをさらに含んでいてもよい。これにより、誘電体基板１１２の機械的強度を向上させつつ、誘電率を調整することができる。
【0042】
また、誘電体基板１１２の誘電率は、メタサーフェス部１１０の反射特性によって、適宜設定されるが、例えば、２以上１０以下であることが好ましい。
【0043】
また、誘電体基板１１２の厚さＴ２は、メタサーフェス部１１０の反射特性によって、適宜設定されるが、例えば、０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。
【0044】
地板１１３は、例えば、銀、金、アルミニウムおよび銅の少なくとも一つを含む。地板１１３の厚さＴ３は、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【0045】
図１０に図１に示した反射部材１０の、各平面構造１００に直角に平面波を入射させたときの反射波の特定ピークを示す。なお、特定ピークとは、各平面構造１００に対して直角（５ａ、５ｂ、５ｃの方向）に電波を入射させた場合の平面構造１００が有するメタサーフェス部１１０による反射波の強度分布の最大ピークである。
【0046】
本実施形態に係る反射部材１０は、少なくとも２つの平面構造１００が、第１方向（ｘ方向）のベクトルを平面構造１００に投影させた方向（６ａ、６ｂ、６ｃの方向）に直角かつ平面構造１００の中心を含む平面（７ａ、７ｂ、７ｃの平面）を、平面構造１００に直角かつ平面構造１００の中心を通る線（５ａ、５ｂ、５ｃ）で２つの領域に分けたときに、特定ピーク（８ａ、８ｂ、８ｃ）が、同一の領域に存在することが好ましい。図１０に示す例では、３つの平面構造１００すべての特定ピークが下側（-ｙ方向側）の領域に存在している。
【0047】
また、本実施形態に係る反射部材１０は、平面構造１００に直角な方向（図１におけるＺ方向）からの平面視において、並んでいる平面構造１００のメタサーフェス部１１０が指向性を有する方向が、第１方向に対して直角な方向（図１０におけるｙ方向または－ｙ方向）から４５°以内であることが好ましく、３０°以内であることがより好ましく、１５°以内であることがさらにより好ましく、５°以内であることが最もより好ましい。なお、平面構造１００に直角な方向からの平面視において指向性を有する方向とは、例えば、特定ピークの方向を平面構造１００に投影させた方向、またはスーパーセル２の長手方向である。図１０に示す例では、平面構造１００に直角な方向からの平面視において指向性を有する方向は、－ｙ方向であり、第１の方向に直角となっている。
【0048】
次に、本実施形態に係る反射部材１００の反射特性について説明する。
【0049】
上述した反射部材１０について、以下の構成条件１および測定条件１でシミュレーション測定を行った。なお、平面構造１００が３つ、５つ、７つ、および９つの場合（図５参照）の反射部材１０それぞれについてシミュレーション測定を行った。なお、全ての平面構造１００は、図３（ａ）に示すように、ベース部１２０を含まないものとし、スーパーセル２は、図６、図８（ａ）に示した形状とした。また、比較のため、単一の平面構造１００に対してのシミュレーション結果も測定した。
＜構成条件１＞
Ｓ１：４５ｍｍ
Ｓ２：４５ｍｍ
Ｐ：５ｍｍ
ｌ：大きいものから順に、３．１ｍｍ、２．８ｍｍ、２．５ｍｍ
ｗ：０．５ｍｍ
Ｔ１：１０μｍ
Ｔ２：０．７ｍｍ
Ｔ３：１０μｍ
誘電体基板１１０の誘電率：３．５
＜測定条件１＞
得られた反射板に対して、平面構造１００に直角な方向（ｚ方向）から、電力強度密度が一律の平面波を入射し各方向の反射波を測定する。
＜構成条件１＞
Ｓ１：４５ｍｍ
Ｓ２：４５ｍｍ
Ｐ：５ｍｍ
ｌ：大きいものから順に、３．１ｍｍ、２．８ｍｍ、２．５ｍｍ
ｗ：０．５ｍｍ
Ｔ１：１０μｍ
Ｔ２：０．７ｍｍ
Ｔ３：１０μｍ
誘電体基板１１０の誘電率：３．５
＜測定条件１＞
得られた反射板に対して、平面構造１００に直角な方向（ｚ方向）から、電力強度密度が一律の平面波を入射し各方向の反射波を測定する。
【0050】
図１１－１３に、測定された反射波の電力強度密度のシミュレーション結果を示す。なお、図１１－１３における点Ｏは、中央の平面構造１００の中心である。図１１は、反射波の電力強度密度をｘ方向から見た図である。図１１に示すように、反射波は、メタサーフェス部１１０が指向性を有するｙ方向に大きく広がっている。また、いずれのシミュレーション結果においても、特定ピークが下側（－ｙ方向側）に存在している。ただし、特定ピークの位置はこれに限定されず、適宜設計することができる。
【0051】
図１２は、反射波の電力強度密度をｙ方向から見た図である。図１２に示すように、本実施形態に係る反射部材１０においては、反射波は、メタサーフェス部１１０が指向性を有さないｘ方向に対しても、単一の平面構造１００の結果と比較して大きく広がっている。
【0052】
図１３は、反射部材１０の中央の平面構造１００の中心から、各極座標の位置の電力強度密度を示す図である。なお、極座標は、動径Ｒと偏角θ、φによってなるものである。図１３に示すように、本実施形態に係る反射部材１０は、反射波の電力強度密度のムラが少ない。
【0053】
図１１－１３に示した反射特性を有する、本実施形態に係る反射部材１０によれば、広い範囲に十分な強度の電波を反射させることができる。また、反射部材１０は、平面構造１００の数を増やすことで、さらに広い範囲に電波を反射させることができる。
【0054】
次に、本実施形態に係る反射部材１０の使用形態について、簡単に説明する。本実施形態に係る反射部材１０は、図４，５に示したように、弓なり状の形状を有することができる。この場合、図１４に示すように、柱２０（例えば電柱）などの曲面に形状を適合させて取り付けることができる。
【0055】
また、図１３に示したように、本実施形態に係る反射部材１０は、広い範囲に電波を反射させることができるため、例えば、柱の下の広い範囲のユーザに対して、十分な強度の電波を届けることができる。
【0056】
［変形例］
図１５に示すように、本実施形態に係る反射部材１０は、第２方向にさらに平面構造１００ｄが並んでいてもよい。なお、第２方向は、第１方向と同様に、並んでいる平面構造１００によって定まる。図１５において、第２方向はｙ方向である。第２方向は、平面構造１００に直角な方向（ｚ方向）から見た平面視において、第１方向に対して直角であることが最も好ましいが、直角から３０°以内であればよく、直角から１５°以内であれば好ましい。このようにすることで、さらに広い範囲に反射波を届けることができる。また、図１５には記載されていないが、平面構造１１０ａ、または平面構造１１０ｃに対して、第２方向に平面構造１００が並んでいてもよい。
図１５に示すように、本実施形態に係る反射部材１０は、第２方向にさらに平面構造１００ｄが並んでいてもよい。なお、第２方向は、第１方向と同様に、並んでいる平面構造１００によって定まる。図１５において、第２方向はｙ方向である。第２方向は、平面構造１００に直角な方向（ｚ方向）から見た平面視において、第１方向に対して直角であることが最も好ましいが、直角から３０°以内であればよく、直角から１５°以内であれば好ましい。このようにすることで、さらに広い範囲に反射波を届けることができる。また、図１５には記載されていないが、平面構造１１０ａ、または平面構造１１０ｃに対して、第２方向に平面構造１００が並んでいてもよい。
【0057】
【0058】
また、平面構造１００の数を更に増やしてもよい。例えば、図１７に示すように、９０面として、隣り合う平面構造１００が、第１方向に対する角度が１°ずつ変化するようにしてもよい。このようにすることで、さらに広い範囲に反射波を届けることができる。
【0059】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態に係る反射部材１０について説明する。本実施形態に係る反射部材１０は、以下に記載する点を除いて、第１実施形態と同様である。
次に、第２実施形態に係る反射部材１０について説明する。本実施形態に係る反射部材１０は、以下に記載する点を除いて、第１実施形態と同様である。
【0060】
図１８は、第２実施形態に係る反射部材１０の一例を直角方向（ｚ方向）から見た図である。また、図１９は、図１８におけるＣ－Ｃ´断面の複数の例を示す図である。本実施形態に係る反射部材１０は、第１方向（ｘ方向）に並んでいる複数の板状の平面構造１００と、可撓性を有する基材２００を有する。また、図１９（ａ）に示すように、平面構造１００は、基材２００の一面上に配置されていてもよい。この場合、基材２００が曲がった際に、平面構造１００が受ける負荷が小さくなり、メタサーフェス部１１０のパターンの変化を抑制しやすい。または、図１９（ｂ）に示すように、平面構造１００は、基材２００に埋め込まれて、表面のみが露出していてもよい。この場合、反射部材１０全体を薄くできる。または、または、図１９（ｃ）に示すように、平面構造１００は、基材２００に埋め込まれて、基材２００に覆われていてもよい。この場合、平面構造１００を外部から保護することができる。
【0061】
本実施形態に係る反射部材１０は、板状の平面構造１００の間の基材２００を起点として第１方向に曲げることで、平面構造１００が異なる方向を向くことが可能である。そのため、第１実施形態の反射部材１０と同様に、非平面の形状に取り付けやすい。
【0062】
図２０は、本実施形態に係る反射部材１０の第２例を直角方向（ｚ方向）から見た図である。図２０に示すように、平面構造１００が、第１方向に垂直な第２方向（図２０におけるｙ方向）にさらに並んでいてもよい。このようにすることで、反射部材１０は、第２方向にも曲げられるようになる。
【0063】
図２１は、本実施形態に係る反射部材１０を、図１４に示したように柱２０に取り付けたときに、ｙ方向から見た図である。本実施形態に係る反射部材２０は、柱に巻き付けるようにして取り付けるため、第１実施形態に係る反射部材１０よりも、柱２０を覆う角度θ３を大きくすることができる。
【0064】
次に、本実施形態に係る反射部材１０の各構成について説明する。
【0065】
図１８，１９に戻る。平面構造１００は、第１実施形態と同様に、反射波を制御するメタサーフェス部１１０を有する。また、メタサーフェス部１１０を支持するベース部１２０を有してもよい。反射部材１０を曲げやすくする観点から、平面構造１００間の距離Ｔ４は、例えば、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。または、Ｔ４は、平面構造１００の幅Ｔ５の０．００２倍～０．５倍であることが好ましい。また、平面構造１００の厚さＴ６は、０．２ｍｍ～１０ｍｍであることが好ましい。
【0066】
また、第２実施形態における平面構造１００は、基材２００からの負荷を受けるため、上述した条件１で測定される変位量がより小さいことが好ましい。具体的には、６０ｍｍ以下であることが好ましく、３０ｍｍ以下であることがより好ましく、２０ｍｍ以下であることがさらにより好ましい。これにより、反射部材１０を曲げた際に、平面構造１００が変形することを抑制し、メタサーフェス部１１０のセルパターンが変化することを抑制できる。
【0067】
平面構造１００は、例えば、熱硬化性樹脂を含む材料から構成される。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、およびポリウレタン樹脂等から選択される、１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。
【0068】
［基材２００］
基材２００の厚さＴ７は、０．２ｍｍ～１０ｍｍであることが好ましく、より好ましくは、０．１ｍｍ～５ｍｍである。
基材２００の厚さＴ７は、０．２ｍｍ～１０ｍｍであることが好ましく、より好ましくは、０．１ｍｍ～５ｍｍである。
【0069】
また、基材２００は、以下の条件２で測定される変位量が２ｃｍ以上であることが好ましく、３ｃｍ以上であることがより好ましく、４ｃｍ以上であることがさらにより好ましい。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
（条件２）
前記基材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を得る。前記試験片を、１辺から０．５ｃｍの位置で支持しつつ、前記１辺に対向する辺を自由端とした状態において、前記１辺に対向する辺から０．５ｃｍの位置に負荷を加えてたわませることで応力を得る。前記応力が０．０５Ｎのときの、前記１辺に対向する辺の変位量を測定する。
【0070】
基材２００は、例えば、エラストマーのような伸縮性を有する材料から構成される。エラストマーとしては、例えば、アクリルニトリルブタジエンゴム、イソプレン、スチレンブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム等から選択される、１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。または、基材２００は、ポリエステル樹脂から構成される。ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール樹脂（ＰＥＴＧ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂（ＰＴＴ）、およびポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂（ＰＨＴ）等から選択される１種または２種以上の組み合わせを用いることができる。
【0071】
また、基材２００は、平面構造１００それぞれを一体化しつつ、それらを異なる方向を向くようにできるものであればよい。言い換えると、基材２００は、柱などの曲面に取り付ける際に、容易に曲げることができるモノであれば限定されない。基材２００は、例えば、アルミニウムまたは銅などから構成される金属プレートであってもよいし、無機化合物を成分とする繊布又は不繊布等の無機繊維基材、および芳香族ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等の有機繊維で構成される有機繊維基材等の繊維基材であってもよいし、蝶番のような可動部を有する構造物であってもよい。
【0072】
［平面構造１００の製造方法］
図２２に、平面構造１００の製造方法の第１例を示す。まず、樹脂層３１０の両面に金属層３２０が積層されて構成されている積層基板３００を準備する（Ｓ１１）。
図２２に、平面構造１００の製造方法の第１例を示す。まず、樹脂層３１０の両面に金属層３２０が積層されて構成されている積層基板３００を準備する（Ｓ１１）。
【0073】
次に、一方の金属層３２０にエッチング処理を施し、電極１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ・・・を形成する（Ｓ１２）。これにより、平面構造１００が得られる。
【0074】
次に、図２３に、平面構造１００の製造方法の第２例を示す。まず、射出成形等により、樹脂基板４００を準備する（Ｓ２１）。
【0075】
次に、樹脂基板４００に、ＬＤＳ（Ｌａｓｅｒ Ｄｉｒｅｃｔ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）法により、パターンを形成する（Ｓ２２）。
【0076】
そして、形成したパターンに金属を析出させることで、電極１１１を形成する（Ｓ２３）。
【0077】
その後、樹脂基板４００の電極１１１と反対側の面に地板１１３を例えば、スパッタ法や、銅板を圧縮接合することにより形成する（Ｓ２４）。この方法によっても平面構造１００が得られる。また、この場合、電極１１１は、誘電体基板１１２に埋め込まれて形成される。
【0078】
［反射部材１０の製造方法］
図２４に、第１実施形態に係る反射部材１０の製造方法を示す。まず、複数の上述した平面構造１００ａ、１００ｂ、１００ｃ・・・を準備する（Ｓ３１）。
図２４に、第１実施形態に係る反射部材１０の製造方法を示す。まず、複数の上述した平面構造１００ａ、１００ｂ、１００ｃ・・・を準備する（Ｓ３１）。
【0079】
次に、金属プレート５００に、各平面構造１００を配置する（Ｓ３２）。
【0080】
その後、金属プレート５００を折り曲げ加工し、各平面構造１００が異なる向きになるように固定する（Ｓ３３）。このようにして、第１実施形態に係る反射部材１０が得られる。
【0081】
次に、図２５に、第２実施形態に係る反射部材１０の製造方法を示す。まず、複数の上述した平面構造１００ａ、１００ｂ、１００ｃ・・・を準備する（Ｓ４１）。
【0082】
次に、基材２００に、各平面構造１００を配置する（Ｓ４２）。このようにして、第２実施形態に係る反射部材１０が得られる。
【0083】
次に、図２６に、第１実施形態に係る反射部材１０の製造方法の変形例を示す。まず、射出成形などにより、複数の平面６１０ａ、６１０ｂ、６１０ｃ・・・を有する構造体６００を準備する（Ｓ５１）。
【0084】
次に、各平面６１０に、ＬＤＳ（Ｌａｓｅｒ Ｄｉｒｅｃｔ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）法により、パターンを形成する（Ｓ５２）。
【0085】
その後、パターンに金属を析出させることで各平面６１０に、メタサーフェス部１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを形成する（Ｓ５３）。この方法によっても、第１実施形態に係る反射部材１０が得られる。
【0086】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【符号の説明】
【0087】
１ 単位セル
２ スーパーセル
１０ 反射部材
２０ 柱
１００ 平面構造
１１０ メタサーフェス部
１１１ 電極
１１２ 誘電体基板
１１３ 地板
１２０ ベース部
２００ 基材
３００ 積層基板
３１０ 樹脂層
３２０ 金属層
４００ 樹脂基板
５００ 金属プレート
６００ 構造体
６１０ 平面
２ スーパーセル
１０ 反射部材
２０ 柱
１００ 平面構造
１１０ メタサーフェス部
１１１ 電極
１１２ 誘電体基板
１１３ 地板
１２０ ベース部
２００ 基材
３００ 積層基板
３１０ 樹脂層
３２０ 金属層
４００ 樹脂基板
５００ 金属プレート
６００ 構造体
６１０ 平面
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
