特開 2024-158197 排気ガス管および排気ガス浄化装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024158197

(43)【公開日】2024-11-08

(54)【発明の名称】排気ガス管および排気ガス浄化装置

(51)【国際特許分類】

   F01N 3/08 20060101AFI20241031BHJP

【ＦＩ】

F01N3/08 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023073185

(22)【出願日】2023-04-27

(71)【出願人】

【識別番号】720001060

【氏名又は名称】ヤンマーホールディングス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000947

【氏名又は名称】弁理士法人あーく事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤原 祐一

(72)【発明者】

【氏名】霜野 慎

(72)【発明者】

【氏名】青池 早紀

(72)【発明者】

【氏名】杉本 和馬

【テーマコード（参考）】

3G091

【Ｆターム（参考）】

3G091AB05

3G091AB15

3G091BA07

3G091BA14

3G091CA17

3G091CA27

3G091FC04

3G091HA46

3G091HB01

(57)【要約】

【課題】簡易な構成でデポジットの発生を抑制することのできる排気ガス管および排気ガス浄化装置を提供する。
【解決手段】排気ガス浄化装置に使用される排気ガス管１００は、外管１０１と、外管１０１の管壁に形成され、外管１０１の内部に還元剤を噴射するドージングモジュール１１２が接続されるドージング噴射装置接続部と、外管１０１の内部に配置され、ドージングモジュール１１２から噴射される還元剤が当たる位置に配置される衝突板１０２と、衝突板１０２を外管１０１から離間させるように支持する支持部１０３とを備える。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

排気ガスを還元剤と混合させてＳＣＲ触媒を通過させる排気ガス浄化装置に使用される排気ガス管であって、
外管と、
前記外管の管壁に形成され、前記外管の内部に還元剤を噴射する噴射装置が接続される噴射装置接続部と、
前記外管の内部に配置され、前記噴射装置から噴射される還元剤が当たる位置に配置される還元剤当て部と、
前記還元剤当て部を前記外管から離間させて支持する支持部とを備えることを特徴とする排気ガス管。

【請求項2】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記支持部は、前記還元剤当て部において還元剤が噴射される噴射領域よりも、排気ガス流れ方向の下流側に設けられることを特徴とする排気ガス管。

【請求項3】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記支持部は、前記還元剤当て部における排気ガス流れ方向の中央部に設けられることを特徴とする排気ガス管。

【請求項4】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記還元剤当て部は、当該排気ガス管の中心軸と直交する方向の断面における形状が円または円弧であることを特徴とする排気ガス管。

【請求項5】

請求項４に記載の排気ガス管であって、
前記還元剤当て部は、前記外管の断面形状と同心円状に配置されることを特徴とする排気ガス管。

【請求項6】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記還元剤当て部は、前記外管との隙間が排気ガス流れ方向の上流側で最も広く、下流側に向かうにつれて狭くなるような拡張部を有することを特徴とする排気ガス管。

【請求項7】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記外管は、前記還元剤当て部より上流側に曲がり部を有し、
前記還元剤当て部は、前記曲がり部に対して、曲げの外側に配置されていることを特徴とする排気ガス管。

【請求項8】

請求項１に記載の排気ガス管であって、
前記噴射装置接続部は、前記外管において管の内側に窪んだ凹部に設けられていることを特徴とする排気ガス管。

【請求項9】

排気ガスを還元剤と混合させてＳＣＲ触媒を通過させる排気ガス浄化装置であって、
排気ガスを通過させる排気ガス管と、
前記排気ガス管に直接接続され、前記排気ガス管内に尿素水を噴射供給する噴射装置とを備え、
前記排気ガス管は、請求項１ないし８の何れか１項に記載の排気ガス管であることを特徴とする排気ガス浄化装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、排気ガス管、並びにそれを用いた排気ガス浄化装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ディーゼルエンジンの排気ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化する技術として、尿素ＳＣＲ（Selective Catalytic Reduction）システムが知られている。特許文献１には、排気ガス管の途中にＳＣＲ触媒と尿素水噴射部とを設け、排気ガス管内で排気ガスを尿素水と混合させてＳＣＲ触媒を通過させる技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１６－０７５２１３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

排気ガス管内に尿素水を噴射する際、排気ガス管の内壁に尿素水が衝突すると、尿素水が蒸発されずに尿素由来の固形物（デポジット）が生成して不具合が生じる虞がある。特に、低温環境化では排気ガス管自体が外気によって低温となり、尿素水が蒸発しづらくデポジットの発生リスクが高まる。発生したデポジットは、排気ガス管の壁面から脱落し、下流にあるＳＣＲ触媒に衝突して破損を招く虞もある。

【0005】

従来は、排気ガス管内に尿素水の噴霧の微粒化促進を図る装置（ミキサー）を配置し、ミキサーによって尿素水の蒸発を促進させてデポジットの形成を抑制していた。しかしながら、このような従来技術は、ミキサーの搭載による尿素ＳＣＲシステムの複雑化や、ミキサーの搭載に係る設計的な制約を招くといった問題がある。

【0006】

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、簡易な構成でデポジットの発生を抑制することのできる排気ガス管および排気ガス浄化装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記の課題を解決するために、本開示の第１の態様である排気ガス管は、排気ガスを還元剤と混合させてＳＣＲ触媒を通過させる排気ガス浄化装置に使用される排気ガス管であって、外管と、前記外管の管壁に形成され、前記外管の内部に還元剤を噴射する噴射装置が接続される噴射装置接続部と、前記外管の内部に配置され、前記噴射装置から噴射される還元剤が当たる位置に配置される還元剤当て部と、前記還元剤当て部を前記外管から離間させて支持する支持部とを備えることを特徴としている。

【0008】

上記の構成によれば、還元剤当て部が外管内部で高温の排気ガスに曝されていることにより、その温度が高温に維持されやすく、噴射される還元剤を還元剤当て部に当てることにより、還元剤の蒸発が促進され、排気ガス管内部でのデポジットの生成を抑制できる。

【0009】

また、上記排気ガス管では、前記支持部は、前記還元剤当て部において還元剤が噴射される噴射領域よりも、排気ガス流れ方向の下流側に設けられる構成とすることができる。

【0010】

上記の構成によれば、噴射領域を支持部の上流側とすることで、噴射領域が支持部によって温度低下した排気ガスの影響を受けにくい。これにより、噴射領域における尿素水の蒸発が阻害されない。

【0011】

また、上記排気ガス管では、前記支持部は、前記還元剤当て部における排気ガス流れ方向の中央部に設けられる構成とすることができる。

【0012】

上記の構成によれば、還元剤当て部が支持部による片持ち支持とならず、ガス流れ方向の重量バランスが取れるため、外管に対する還元剤当て部の取付強度が向上する。

【0013】

また、上記排気ガス管では、前記還元剤当て部は、当該排気ガス管の中心軸と直交する方向の断面における形状が円または円弧である構成とすることができる。

【0014】

また、上記排気ガス管では、前記還元剤当て部は、前記外管の断面形状と同心円状に配置される構成とすることができる。

【0015】

上記の構成によれば、還元剤当て部における還元剤の衝突面において噴射装置からの距離を全体的に大きく取ることができ、噴射される還元剤の液滴が還元剤当て部に衝突するまでに微細化されやすい。これにより、還元剤の蒸発がさらに促進されてデポジットの生成がより効果的に抑制される。

【0016】

また、上記排気ガス管では、前記還元剤当て部は、前記外管との隙間が排気ガス流れ方向の上流側で最も広く、下流側に向かうにつれて狭くなるような拡張部を有する構成とすることができる。

【0017】

上記の構成によれば、還元剤当て部の上流側に拡張部を設けることで、還元剤当て部と外管との隙間により多くの排気ガスを誘導することができ、排気ガスから還元剤当て部への熱伝達が促進される。これにより、還元剤の蒸発がさらに促進されてデポジットの生成がより効果的に抑制される。

【0018】

また、上記排気ガス管では、前記外管は、前記還元剤当て部より上流側に曲がり部を有し、前記還元剤当て部は、前記曲がり部に対して、曲げの外側に配置されている構成とすることができる。

【0019】

上記の構成によれば、還元剤当て部を曲がり部の下流側、かつ、曲げの外側に配置することで、還元剤当て部周辺における排気ガスの流量を増やすことができ、排気ガスから還元剤当て部への熱伝達が促進される。これにより、還元剤の蒸発がさらに促進されてデポジットの生成がより効果的に抑制される。

【0020】

また、上記排気ガス管では、前記噴射装置接続部は、前記外管において管の内側に窪んだ凹部に設けられている構成とすることができる。

【0021】

上記の構成によれば、噴射装置の周囲に外気の層（凹部内に入り込む空気層）を持たせ、排気ガスの影響を受けて噴射装置の温度が上昇することを抑制できる。これにより、噴射装置における熱による不具合を防止できる。

【0022】

また、上記の課題を解決するために、本開示の第２の態様である排気ガス浄化装置は、排気ガスを還元剤と混合させてＳＣＲ触媒を通過させる排気ガス浄化装置であって、排気ガスを通過させる排気ガス管と、前記排気ガス管に直接接続され、前記排気ガス管内に尿素水を噴射供給する噴射装置とを備え、前記排気ガス管は、上記記載の排気ガス管であることを特徴としている。

【発明の効果】

【0023】

本開示の排気ガス管および排気ガス浄化装置は、噴射される還元剤を外管内部の還元剤当て部に当てることにより、還元剤の蒸発が促進され、排気ガス管内部でのデポジットの生成を抑制できるといった効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】排気ガス浄化装置の基本構成を示す概略図である。

【図2】第１実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸を含む断面図である。

【図3】第１実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールとの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸と直交する方向の断面図である。

【図4】第２実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸を含む断面図である。

【図5】第３実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸を含む断面図である。

【図6】第４実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸を含む断面図である。

【図7】第５実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸を含む断面図である。

【図8】第５実施形態の排気ガス管におけるドージングモジュールとの接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管の中心軸と直交する方向の断面図である。

【図9】支持部の変形例を示す斜視図である。

【図10】噴射装置接続部の一例を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

〔第１実施形態〕
本開示の排気ガス浄化装置の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。図１は、排気ガス浄化装置１０の基本構成を示す概略図である。尚、本開示における排気ガス浄化装置１０は、排気ガスを還元剤と混合させてＳＣＲ触媒を通過させることで排気ガス中の窒素酸化物を低減させる装置であるが、ここでは、還元剤として一般的な尿素水を使用する場合を例示する。但し、使用する還元剤は、尿素水に限定されるものではなく、他の液体の還元剤であってもよい。

【0026】

排気ガス浄化装置１０は、大略的に、排気ガス管１００、尿素水供給部１１０およびＳＣＲ触媒１２０を備えて構成されている。尿素水供給部１１０は、排気ガス管１００内に尿素水を噴射供給するように、排気ガス管１００に接続されている。ＳＣＲ触媒１２０は、排気ガス管１００において、尿素水供給部１１０よりもガス流れ方向の下流側に配置されており、尿素水の混合された排気ガス中の窒素酸化物を浄化する。尚、以下の説明における上流側／下流側とは、ガス流れ方向の上流側／下流側を指す。

【0027】

尿素水供給部１１０は、尿素水タンク１１１、ドージングモジュール（噴射装置）１１２、供給管１１３およびポンプ１１４を備えている。尿素水タンク１１１は、排気ガス管１００に供給するための尿素水を貯蔵する。ドージングモジュール１１２は、排気ガス管１００に直接接続されており、排気ガス管１００内に尿素水を噴射する。このため、排気ガス管１００の管壁（詳細には、後述する外管１０１の管壁）には、ドージングモジュール１１２を接続するための噴射装置接続部（例えば、図１０に示す噴射装置接続部１０１ｃ）が形成されている。供給管１１３およびポンプ１１４は、尿素水タンク１１１からドージングモジュール１１２への尿素水の供給を行う。

【0028】

排気ガス浄化装置１０は、尿素由来のデポジットの発生を抑制し得る排気ガス管１００の構成に特徴を有する。以下、この特徴点について詳細に説明する。

【0029】

図２は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２の接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸を含む断面（図３のＡ－Ａ断面）図である。図３は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２との接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸と直交する方向の断面（図２のＢ－Ｂ断面）図である。

【0030】

図２および図３に示すように、排気ガス管１００は、外管１０１と、その内部に配置される衝突板（還元剤当て部）１０２および支持部１０３とを有している。衝突板１０２は、支持部１０３を介して外管１０１内で外管１０１とは離間するように支持されている。

【0031】

衝突板１０２は、ドージングモジュール１１２よりも概ね下流側に配置される。排気ガス浄化装置１０におけるドージングモジュール１１２および衝突板１０２の配置は、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水の全て（もしくはほぼ全て）を衝突板１０２に当てる（衝突板１０２で受ける）ことができるように設計される。すなわち、衝突板１０２は、ドージングモジュール１１２における尿素水の噴射方向の延長上であって、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水が当たる位置に配置されている。

【0032】

外管１０１は、その外面側で外気に接しているため、低温環境化等では比較的低温となっていることもあり、外管１０１の内壁に尿素水が衝突すると、尿素水が蒸発されずにデポジットが生成する虞がある。これに対し、衝突板１０２は、外管１０１の内部に配置され、かつ、その全体が高温の排気ガスに曝されていることにより、その温度は尿素水を蒸発させるのに十分な高温に維持される。したがって、本実施形態では、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水を衝突板１０２に当てることにより、尿素水の蒸発が促進され、排気ガス管１００内部でのデポジットの生成を抑制できる。

【0033】

衝突板１０２は、図３に示すように、排気ガス管１００の中心軸と直交する方向の断面において円弧形状とされ、衝突板１０２の円弧は外管１０１と同心円状に配置されることが好ましい。言い換えれば、衝突板１０２の円弧の中心が、外管１０１の中心と一致することが好ましい。衝突板１０２の断面を円弧形状とし、かつ、衝突板１０２を外管１０１と同心円状に配置することで、衝突板１０２における尿素数の衝突面においてドージングモジュール１１２からの距離を全体的に大きく取ることができる。これにより、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水の液滴が、衝突板１０２に衝突するまでに微細化され、尿素水の蒸発がさらに促進されてデポジットの生成がより効果的に抑制される。

【0034】

衝突板１０２に対して、設けられる支持部１０３の数や形状は特に限定されるものではない。但し、支持部１０３は、外管１０１と衝突板１０２との間で熱の移動経路となりうるため、支持部１０３を介しての衝突板１０２から外管１０１への熱の逃げはできる限り抑制されることが好ましい。このため、支持部１０３の数は１つとし、衝突板１０２は外管１０１に対して１点支持とされることが好ましい。また、支持部１０３は、熱の移動経路となる断面積を小さくするため、柱状の形状とされることが好ましい。これにより、衝突板１０２から外管１０１への熱の逃げによる、衝突板１０２の温度低下を防止できる。

【0035】

尚、支持部１０３の数を１つとして、衝突板１０２を外管１０１に対して１点支持する構造には、排気ガス管１００の信頼性を高める作用もある。衝突板１０２は、尿素水の噴射を受けて温度変化が生じ、この温度変化によって熱伸縮が生じることがある。例えば、衝突板１０２が外管１０１に対して２つの支持部１０３によって２点支持される場合、これら２つの支持部１０３間で衝突板１０２の熱伸縮が生じると、衝突板１０２に過剰な応力が生じて衝突板１０２に板割れ等の不具合が生じる虞がある。これに対し、衝突板１０２が１点支持される場合は、衝突板１０２の熱伸縮による過剰な応力の発生は無く、排気ガス管１００の信頼性が向上する。

【0036】

また、支持部１０３は、衝突板１０２に対してガス流れ方向の中央部に設けられることが好ましい。この場合、衝突板１０２が支持部１０３による片持ち支持とならず、ガス流れ方向の重量バランスが取れるため、衝突板１０２の取付強度が向上する。

【0037】

衝突板１０２においてドージングモジュール１１２からの尿素水が噴射される領域（以下、噴射領域）Ｒは、支持部１０３の上流側であることが好ましい。衝突板１０２において、支持部１０３との接続箇所付近は他の箇所に比べて低温になりやすい。また、支持部１０３自体が、周辺の排気ガスの温度低下を招くこともある。このため、衝突板１０２における噴射領域Ｒを支持部１０３の上流側とすることで、噴射領域Ｒが低温となりにくく、また、支持部１０３によって温度低下した排気ガスの影響を受けにくい。これにより、噴射領域Ｒにおける尿素水の蒸発が阻害されない。

【0038】

〔第２実施形態〕
本開示の排気ガス浄化装置の第２実施形態について説明する。尚、第２実施形態において、第１実施形態と同様の構成については同じ部材番号を付して説明する。図４は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２の接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸を含む断面図である。

【0039】

図４に示すように、本実施形態の外管１０１は、衝突板１０２の上流側に曲がり部１０１ａを有する曲げ管とされている。すなわち、衝突板１０２は、曲がり部１０１ａの下流側に配置される。外管１０１の曲がり部１０１ａにおける曲げ角αは０°＜α≦１８０°であり、好ましくは３０°＜α≦１８０°である。尚、α＝１８０°はＵ字型パイプを想定した場合の曲げ角である。すなわち、曲がり部１０１ａでは、外管１０１はＲ（アール）を有するように緩やかに曲げられていてもよい。また、衝突板１０２は、曲がり部１０１ａに対して、曲げの外側に配置されている。

【0040】

曲がり部１０１ａにおける排気ガス流れ方向の下流側では、曲げの内側に比べ、外側において排気ガスの流量が多くなる。このため、衝突板１０２を曲がり部１０１ａの下流側、かつ、曲げの外側に配置することで、衝突板１０２周辺における排気ガスの流量を増やすことができる。その結果、衝突板１０２と外管１０１との隙間に排気ガスが流れやすくなり、排気ガスから衝突板１０２への熱伝達が促進される。これにより、衝突板１０２がより高温に維持されやすく、尿素水の蒸発が促進されて、排気ガス管１００内部でのデポジットの生成が効果的に抑制できる。

【0041】

〔第３実施形態〕
本開示の排気ガス浄化装置の第３実施形態について説明する。尚、第３実施形態においても、第１実施形態と同様の構成については同じ部材番号を付して説明する。図５は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２の接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸を含む断面図である。

【0042】

図５に示すように、本実施形態の衝突板１０２は、その上流側に拡張部１０２ａを有しており。拡張部１０２ａでは、衝突板１０２と外管１０１との隙間が拡張されている。すなわち、拡張部１０２ａでは、衝突板１０２と外管１０１との間における円周方向の距離Ｌが他の箇所に比べて大きくされている。より具体的には、拡張部１０２ａにおける衝突板は、１０２と外管１０１との隙間が上流側で最も広く、下流側に向かうにつれて徐々に狭くなるような傾斜状に形成されている。

【0043】

このように、衝突板１０２の上流側に拡張部１０２ａを設けることで、衝突板１０２と外管１０１との隙間により多くの排気ガスを誘導することができる。その結果、衝突板１０２と外管１０１との隙間に排気ガスが流れやすくなり、排気ガスから衝突板１０２への熱伝達が促進される。これにより、衝突板１０２がより高温に維持されやすく、尿素水の蒸発が促進されて、排気ガス管１００内部でのデポジットの生成が効果的に抑制できる。

【0044】

〔第４実施形態〕
本開示の排気ガス浄化装置の第４実施形態について説明する。尚、第４実施形態においても、第１実施形態と同様の構成については同じ部材番号を付して説明する。図６は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２の接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸を含む断面図である。

【0045】

図６に示すように、本実施形態での外管１０１は、ドージングモジュール１１２の接続箇所において、管の内側に窪んだ凹部１０１ｂを有している。すなわち、ドージングモジュール１１２を接続するための噴射装置接続部は、凹部１０１ｂに設けられている。

【0046】

外管１０１に接続されるドージングモジュール１１２は、排気ガスの影響を受けて高温になると、熱による故障等の不具合も懸念される。これに対し、ドージングモジュール１１２の周囲に凹部１０１ｂを形成することで、ドージングモジュール１１２の周囲に外気の層（凹部１０１ｂ内に入り込む空気層）を持たせ、ドージングモジュール１１２の温度が上昇することを抑制できる。これにより、ドージングモジュール１１２における熱による不具合を防止できる。

【0047】

〔第５実施形態〕
本開示の排気ガス浄化装置の第５実施形態について説明する。尚、第５実施形態においても、第１実施形態と同様の構成については同じ部材番号を付して説明する。図７は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２の接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸を含む断面（図８のＣ－Ｃ断面）図である。図８は、排気ガス管１００におけるドージングモジュール１１２との接続箇所付近を示す図であり、排気ガス管１００の中心軸と直交する方向の断面（図７のＤ－Ｄ断面）図である。

【0048】

図７および図８に示すように、排気ガス管１００は、外管１０１と、その内部に配置される内管（還元剤当て部）１０４とを有している。内管１０４は、支持部１０３を介して外管１０１内で外管１０１とは離間するように支持されている。また、内管１０４は外管１０１と同心円状に配置されることが好ましい。

【0049】

本実施形態では、ドージングモジュール１１２は、外管１０１を貫通して内管１０４に接続されている。ドージングモジュール１１２は、内管１０４に内周面に向けて尿素水を噴射する。内管１０４の配置は、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水の全て（もしくはほぼ全て）が内管１０４に衝突することが想定されるように設計される。すなわち、内管１０４は、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水が当たる位置に配置されている。

【0050】

内管１０４は、第１ないし第４実施形態における衝突板１０２と同様に、外管１０１の内部に配置され、かつ、その全体が高温の排気ガスに曝されていることにより、その温度は尿素水を蒸発させるのに十分な高温に維持される。したがって、本実施形態では、ドージングモジュール１１２から噴射される尿素水を内管１０４に当てる（内管１０４で受ける）ことにより、尿素水の蒸発が促進され、排気ガス管１００内部でのデポジットの生成を抑制できる。

【0051】

支持部１０３は、外管１０１と内管１０４との間で熱の移動経路となりうるため、本実施形態でも、支持部１０３を介しての内管１０４から外管１０１への熱の逃げはできる限り抑制されることが好ましい。このため、支持部１０３の数は１つとし、内管１０４は外管１０１に対して１点支持とされることが好ましい。

【0052】

さらに、支持部１０３の形成箇所は、排気ガス管１００の中心軸に対して噴射領域Ｒとは反対側とされることが好ましい。内管１０４における噴射領域Ｒは、ドージングモジュール１１２の接続側とは反対側であるため、言い換えれば、支持部１０３の形成箇所は、排気ガス管１００の中心軸に対してドージングモジュール１１２の接続側と同一側とされることが好ましい。これにより、特に高温に維持されることが好ましい噴射領域Ｒにおいて、支持部を介した熱の逃げによる内管１０４の温度低下を防止できる。

【0053】

但し、内管１０４に対して、設けられる支持部１０３の数や形状は特に限定されるものではない。支持部１０３の変形例として、例えば図９に示すように、内管１０４の外周面に軸方向に沿って形成されたリブ状の支持部１０３を放射状に複数設け、このようなリブ状の支持部１０３を用いて内管１０４を外管１０１の内部に支持してもよい。無論、このようなリブ状の支持部１０３は、衝突板１０２に対しても適用可能である。

【0054】

〔第６実施形態〕
上述した説明では、ドージングモジュール１１２の一部が外管１０１の内部に差し込まれるように接続されているが、ドージングモジュール１１２における排気ガスの熱影響を避けるためには、図１０に示すような構成とされていてもよい。図１０の構成では、外管１０１の管壁から半径方向外側に突出するように噴射装置接続部１０１ｃを設け、噴射装置接続部１０１ｃにドージングモジュール１１２の先端のみを接続している。このような構成では、ドージングモジュール１１２自体が排気ガスに曝されることがなく、ドージングモジュール１１２における排気ガスの熱影響を回避できる。

【0055】

尚、図１０に示す構成は、ドージングモジュール１１２を内管１０４に対して接続させる第５実施形態では適用できない。このため、第５実施形態の排気ガス管１００では、ドージングモジュール１１２の接続箇所に凹部１０１ｂを設ける第４実施形態の構成を適用することが好ましい。

【0056】

今回開示した実施形態は全ての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本開示の技術的範囲は、上記した実施形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて定められる。

【符号の説明】

【0057】

１０ 排気ガス浄化装置
１００ 排気ガス管
１０１ 外管
１０１ａ 曲がり部
１０１ｂ 凹部
１０１ｃ 噴射装置接続部
１０２ 衝突板（還元剤当て部）
１０２ａ 拡張部
１０３ 支持部
１０４ 内管（還元剤当て部）
１１０ 尿素水供給部
１１１ 尿素水タンク
１１２ ドージングモジュール（噴射装置）
１１３ 供給管
１１４ ポンプ
１２０ ＳＣＲ触媒
Ｒ 噴射領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】