特開 2024-158415 基板処理装置および基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024158415

(43)【公開日】2024-11-08

(54)【発明の名称】基板処理装置および基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20241031BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648K

H01L21/304 651B

H01L21/304 648L

H01L21/304 651G

H01L21/304 651H

H01L21/304 651J

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023073600

(22)【出願日】2023-04-27

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100093056

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100142930

【弁理士】

【氏名又は名称】戸高 弘幸

(74)【代理人】

【識別番号】100175020

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 知彦

(74)【代理人】

【識別番号】100180596

【弁理士】

【氏名又は名称】栗原 要

(74)【代理人】

【識別番号】100195349

【弁理士】

【氏名又は名称】青野 信喜

(72)【発明者】

【氏名】山本 滋

(72)【発明者】

【氏名】永井 泰彦

(72)【発明者】

【氏名】岩田 敬次

(72)【発明者】

【氏名】秋山 剛志

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 明

(72)【発明者】

【氏名】藤井 大樹

(72)【発明者】

【氏名】合田 和樹

(72)【発明者】

【氏名】西野 陽祐

(72)【発明者】

【氏名】川井 侑哉

(72)【発明者】

【氏名】枝光 建治

【テーマコード（参考）】

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F157AA09

5F157AB03

5F157AB13

5F157AB34

5F157AB94

5F157CB14

5F157CE51

5F157CF04

5F157CF14

5F157CF60

5F157CF99

5F157DA15

5F157DA21

5F157DB33

(57)【要約】

【課題】特に、基板処理装置の外部において、非水溶性の撥水剤による配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理する基板処理装置１は、基板Ｗに対して撥水処理を行うために、基板Ｗに非水溶性の撥水剤を供給する基板処理部２と、基板Ｗの撥水処理で生じた排液である、撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して、撥水剤を分解する分解液を混入する分解液混入機構４３と、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置１の外部に排出する排出ユニット４１と、を備えている。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板に対して撥水処理を行うために、前記基板に非水溶性の撥水剤を供給する基板処理部と、
前記基板の撥水処理で生じた排液である、前記撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して、前記撥水剤を分解する分解液を混入する分解液混入機構と、
前記撥水剤含有液と前記分解液の混合液を前記基板処理装置の外部に排出する排出ユニットと、
を備えていることを特徴する基板処理装置。

【請求項2】

請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板処理部は、
前記基板を収容するチャンバと、
前記チャンバに収容された前記基板に前記撥水剤を供給する撥水剤ノズルと、を備え、
前記排出ユニットは、
一端が前記チャンバに接続されたチャンバ排液管と、
前記チャンバ排液管の他端が接続された混合部と、
一端が前記混合部に接続された混合部排液管と、を備え、
前記分解液混入機構は、前記混合部を介して、前記混合部を通過する前記撥水剤含有液に前記分解液を混入し、
前記排出ユニットは、前記混合部排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項3】

請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板処理部は、
前記基板を収容するチャンバと、
前記チャンバに収容された前記基板に前記撥水剤を供給する撥水剤ノズルと、を備え、
前記排出ユニットは、
一端が前記チャンバに接続されたチャンバ排液管と、
前記チャンバ排液管の他端が接続された排液タンクと、
一端が前記排液タンクに接続されたタンク排液管と、を備え、
前記分解液混入機構は、前記排液タンクに設けられた供給口を介して、前記排液タンクに貯留される前記撥水剤含有液に前記分解液を混入し、
前記排出ユニットは、前記タンク排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項4】

請求項３に記載の基板処理装置において、
前記排出ユニットは、前記チャンバ内および前記排液タンク内を排気する減圧ポンプを更に備え、
前記減圧ポンプは、前記チャンバ内を減圧し、また、前記排液タンク内のタンク圧力値が前記チャンバ内のチャンバ圧力値よりも低くなるように、前記排液タンク内を減圧し、
前記撥水剤ノズルは、前記チャンバ内が減圧された状態で前記撥水剤を供給し、
前記排出ユニットは、前記タンク圧力値が前記チャンバ圧力値よりも低く、かつ前記撥水剤ノズルから前記撥水剤が供給されているときに、チャンバ内に貯留された前記撥水剤含有液を、前記チャンバ排液管を通じて前記前記排液タンクに排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項5】

請求項２または３に記載の基板処理装置において、
前記排出ユニットは、
前記チャンバ内を排気する水封式真空ポンプと、
封水を貯留する封水タンクと、
前記チャンバからの気体および前記封水を前記水封式真空ポンプから前記封水タンクに送るため、前記水封式真空ポンプと前記封水タンクとを接続するポンプ排気管と、
前記封水タンクから前記水封式真空ポンプに前記封水を戻すため、前記封水タンクと前記水封式真空ポンプを接続する循環配管と、
一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排気管と、
一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排液管と、を備え、
前記分解液混入機構は、前記封水タンクに設けられた供給口を介して、前記封水タンクに貯留される前記撥水剤含有液としての前記封水に前記分解液を混入し、
前記排出ユニットは、前記封水タンク内の前記混合液としての前記封水を排出するとき、前記封水タンク排液管を通じて前記封水を前記基板処理装置の外部に排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項6】

請求項５に記載の基板処理装置において、
前記分解液混入機構は、前記チャンバ内を減圧にするために前記水封式真空ポンプを作動させ、かつ、前記撥水剤ノズルから前記撥水剤が供給されているときに、前記封水タンクに設けられた供給口を介して、前記封水タンクに貯留される前記撥水剤含有液としての前記封水に前記分解液を混入することを特徴とする基板処理装置。

【請求項7】

請求項２または３に記載の基板処理装置において、
前記排出ユニットは、
前記チャンバ内を排気する水封式真空ポンプと、
封水を貯留する封水タンクと、
前記チャンバからの気体および前記封水を前記水封式真空ポンプから前記封水タンクに送るため、前記水封式真空ポンプと前記封水タンクとを接続するポンプ排気管と、
前記封水タンクから前記水封式真空ポンプに前記封水を戻すため、前記封水タンクと前記水封式真空ポンプを接続する循環配管と、
一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排気管と、
一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排液管と、
前記封水タンク排液管の他端が接続された第２混合部と、
一端が前記第２混合部に接続された第２混合部排液管と、を備え、
前記分解液混入機構は、前記排出ユニットが前記封水タンクから前記撥水剤含有液としての前記封水を排出するとき、前記第２混合部を介して、前記第２混合部を通過する前記封水に前記分解液を混入し、
前記排出ユニットは、前記第２混合部排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項8】

請求項２または３に記載の基板処理装置において、
前記分解液混入機構は、前記チャンバに設けられた供給口を介して、前記チャンバ内に貯留される前記撥水剤含有液に前記分解液を混入することを特徴とする基板処理装置。

【請求項9】

基板を処理する基板処理装置に使用される基板処理方法であって、
前記基板に対して撥水処理を行うために、前記基板に非水溶性の撥水剤を供給する撥水剤供給工程と、
前記基板の撥水処理で生じた排液である、前記撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して、前記撥水剤を分解する分解液を混入する分解液混入工程と、
前記撥水剤含有液と前記分解液の混合液を前記基板処理装置の外部に排出する排出工程と、
を備えていることを特徴とする基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を処理するための基板処理装置および基板処理方法に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

【背景技術】

【0002】

従来の基板処理装置は、基板を液体に浸漬させ、その後、その液体から基板を引き上げて、基板を乾燥させている。この基板の乾燥処理において、基板の表面に形成されているパターンが倒壊する場合がある。そのため、基板処理装置は、基板に撥水剤を供給することで、パターンの倒壊を防止している（例えば、特許文献１，２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２３－０２０２６８号公報

【特許文献2】特開２０２２－０２７０８９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかし、従来の基板処理装置は、次の問題を有する。撥水剤として、非水溶性の撥水剤がある。非水溶性の撥水剤は、例えば、溶媒として油を含む。そのため、非水溶性の撥水剤を使用したときに、非水溶性の撥水剤の油成分が配管の内壁に強く付着する。例えば純水では、配管に付着する油成分を除去することは難しい。そのため、配管を詰まらせ、また、油成分が付着し続けることで、配管を腐食させるおそれがある。

【0005】

また、この問題は、基板処理装置１の内部だけでなく、基板処理装置１の外部にも及ぶ。仮に基板処理装置の内部において、上述の配管詰まり等の対策を講じることができたとしても、基板処理装置の外部（例えば工場の排液設備）にまでその対策を講じさせることは、ユーザー側の大きな負担となる。

【0006】

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、特に、基板処理装置の外部において、非水溶性の撥水剤による配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る基板処理装置は、基板を処理する基板処理装置であって、前記基板に対して撥水処理を行うために、前記基板に非水溶性の撥水剤を供給する基板処理部と、前記基板の撥水処理で生じた排液である、前記撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して、前記撥水剤を分解する分解液を混入する分解液混入機構と、前記撥水剤含有液と前記分解液の混合液を前記基板処理装置の外部に排出する排出ユニットと、を備えていることを特徴するものである。

【0008】

本発明に係る基板処理装置によれば、分解液混入機構は、非水溶性の撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して分解液を混入する。排出ユニットは、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置の外部に排出する。分解液は、非水溶性の撥水剤を分解する。そのため、不水溶性の撥水剤の成分が配管の内壁に付着することを防止する。そのため、特に、基板処理装置の外部において、配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる。また、混合液中の分解液は、付着した不水溶性の撥水剤の成分を分解する。そのため、配管内を洗浄することができる。

【0009】

また、上述の基板処理装置において、前記基板処理部は、前記基板を収容するチャンバと、前記チャンバに収容された前記基板に前記撥水剤を供給する撥水剤ノズルと、を備え、前記排出ユニットは、一端が前記チャンバに接続されたチャンバ排液管と、前記チャンバ排液管の他端が接続された混合部と、一端が前記混合部に接続された混合部排液管と、を備え、前記分解液混入機構は、前記混合部を介して、前記混合部を通過する前記撥水剤含有液に前記分解液を混入し、前記排出ユニットは、前記混合部排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することが好ましい。

【0010】

分解液混入機構は、チャンバに接続されるチャンバ排液管と混合部排液管との間に設けられた混合部を介して、分解液を混入することができる。

【0011】

また、上述の基板処理装置において、前記基板処理部は、前記基板を収容するチャンバと、前記チャンバに収容された前記基板に前記撥水剤を供給する撥水剤ノズルと、を備え、前記排出ユニットは、一端が前記チャンバに接続されたチャンバ排液管と、前記チャンバ排液管の他端が接続された排液タンクと、一端が前記排液タンクに接続されたタンク排液管と、を備え、前記分解液混入機構は、前記排液タンクに設けられた供給口を介して、前記排液タンクに貯留される前記撥水剤含有液に前記分解液を混入し、前記排出ユニットは、前記タンク排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することが好ましい。

【0012】

排液タンクは、チャンバに接続されたチャンバ排液管とタンク排液管との間に設けられる。分解液混入機構は、排液タンクの供給口を介して、分解液を混入することができる。

【0013】

また、上述の基板処理装置において、前記排出ユニットは、前記チャンバ内および前記排液タンク内を排気する減圧ポンプを更に備え、前記減圧ポンプは、前記チャンバ内を減圧し、また、前記排液タンク内のタンク圧力値が前記チャンバ内のチャンバ圧力値よりも低くなるように、前記排液タンク内を減圧し、前記撥水剤ノズルは、前記チャンバ内が減圧された状態で前記撥水剤を供給し、前記排出ユニットは、前記タンク圧力値が前記チャンバ圧力値よりも低く、かつ前記撥水剤ノズルから前記撥水剤が供給されているときに、チャンバ内に貯留された前記撥水剤含有液を、前記チャンバ排液管を通じて前記前記排液タンクに排出することが好ましい。

【0014】

チャンバ内が減圧され、撥水剤ノズルから撥水剤が供給されているときに、チャンバ内から排液タンクに、撥水剤を含有する撥水含有液が排出される。分解液混入機構は、そのような撥水剤含有液に分解液を混入することができる。

【0015】

また、上述の基板処理装置において、前記排出ユニットは、前記チャンバ内を排気する水封式真空ポンプと、封水を貯留する封水タンクと、前記チャンバからの気体および前記封水を前記水封式真空ポンプから前記封水タンクに送るため、前記水封式真空ポンプと前記封水タンクとを接続するポンプ排気管と、前記封水タンクから前記水封式真空ポンプに前記封水を戻すため、前記封水タンクと前記水封式真空ポンプを接続する循環配管と、一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排気管と、一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排液管と、を備え、前記分解液混入機構は、前記封水タンクに設けられた供給口を介して、前記封水タンクに貯留される前記撥水剤含有液としての前記封水に前記分解液を混入し、前記排出ユニットは、前記封水タンク内の前記混合液としての前記封水を排出するとき、前記封水タンク排液管を通じて前記封水を前記基板処理装置の外部に排出することが好ましい。

【0016】

分解液混入機構は、水封式真空ポンプに使用される封水を貯留する封水タンクの供給口を介して、撥水剤含有液としての封水に分解液を混入することができる。

【0017】

また、上述の基板処理装置において、前記分解液混入機構は、前記チャンバ内を減圧にするために前記水封式真空ポンプを作動させ、かつ、前記撥水剤ノズルから前記撥水剤が供給されているときに、前記封水タンクに設けられた供給口を介して、前記封水タンクに貯留される前記撥水剤含有液としての前記封水に前記分解液を混入することが好ましい。

【0018】

チャンバ内が減圧され、撥水剤ノズルから撥水剤が供給されているときに、水封式真空ポンプによって、チャンバ内の撥水剤を含む気体が封水タンクに運ばれる。そして、運ばれた撥水剤が封水に含まれるようになる。このようなときに、分解液を混入する。これにより、不水溶性の撥水剤が封水に含まれるようになると、直ぐに、撥水剤含有液と分解液を混合することができる。また、水封式真空ポンプの作動中に封水が循環されるので、撥水剤含有液と分解液とを良好に混合することができる。

【0019】

また、上述の基板処理装置において、前記排出ユニットは、前記チャンバ内を排気する水封式真空ポンプと、封水を貯留する封水タンクと、前記チャンバからの気体および前記封水を前記水封式真空ポンプから前記封水タンクに送るため、前記水封式真空ポンプと前記封水タンクとを接続するポンプ排気管と、前記封水タンクから前記水封式真空ポンプに前記封水を戻すため、前記封水タンクと前記水封式真空ポンプを接続する循環配管と、一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排気管と、一端が前記封水タンクに接続された封水タンク排液管と、前記封水タンク排液管の他端が接続された第２混合部と、一端が前記第２混合部に接続された第２混合部排液管と、を備え、前記分解液混入機構は、前記排出ユニットが前記封水タンクから前記撥水剤含有液としての前記封水を排出するとき、前記第２混合部を介して、前記第２混合部を通過する前記封水に前記分解液を混入し、前記排出ユニットは、前記第２混合部排液管を通じて前記混合液を前記基板処理装置の外部に排出することが好ましい。

【0020】

分解液混入機構は、封水タンクに接続される封水タンク排液管と第２混合部排液管との間に設けられた第２混合部を介して、分解液を混入することができる。

【0021】

また、上述の基板処理装置において、前記分解液混入機構は、前記チャンバに設けられた供給口を介して、前記チャンバ内に貯留される前記撥水剤含有液に前記分解液を混入することが好ましい。

【0022】

撥水剤含有液と分解液の混合液をチャンバから基板処理装置の外部に排出することができる。そのため、基板処理装置の内部の上流側から、配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる。

【0023】

また、本発明に係る基板処理方法は、基板を処理する基板処理装置に使用される基板処理方法であって、前記基板に対して撥水処理を行うために、前記基板に非水溶性の撥水剤を供給する撥水剤供給工程と、前記基板の撥水処理で生じた排液である、前記撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して、前記撥水剤を分解する分解液を混入する分解液混入工程と、前記撥水剤含有液と前記分解液の混合液を前記基板処理装置の外部に排出する排出工程と、を備えていることを特徴とするものである。

【発明の効果】

【0024】

本発明に係る基板処理装置および基板処理方法によれば、特に、基板処理装置の外部において、非水溶性の撥水剤による配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0025】

【図1】実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図2】第１混合部の一例であるミキサーを示す断面図である。

【図3】実施例１に係る基板処理装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。

【図4】第１分解液混入部の動作を説明するための図である。

【図5】第２分解液混入部の動作を説明するための図である。

【図6】第３分解液混入部の動作を説明するための図である。

【図7】第４分解液混入部の動作を説明するための図である。

【図8】実施例２に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図9】実施例２に係る他の基板処理装置の概略構成図である。

【図10】実施例３に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図11】変形例に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図12】他の変形例に係る枚葉式の基板処理装置の概略構成図ある。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下に本発明の実施例について説明する。

【実施例0027】

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、実施例１に係る基板処理装置１の概略構成図である。図２は、第１混合部５１の一例であるミキサー５１Ａを示す断面図である。

【0028】

＜１．基板処理装置の構成＞
図１を参照する。基板処理装置１は、基板Ｗに対して予め設定された処理を行う。基板は、円板状に形成される。基板処理装置１は、複数枚の基板Ｗを一括して処理するバッチ式の装置である。なお、基板処理装置１は、１枚の基板Ｗを処理することも可能である。基板処理装置１は、基板処理部２を備える。

【0029】

＜１－１．基板処理部の構成＞
基板処理部２は、例えば、基板Ｗに対して撥水処理を行うために、基板Ｗに非水溶性の撥水剤を供給する。基板処理部２は、チャンバ３、処理槽５、２本の噴出管７、急速排液弁（開閉弁）８、およびリフタ９を備える。

【0030】

チャンバ３は、基板Ｗを収容する。チャンバ３の上面には、基板Ｗを搬入出する搬入出口３Ａが設けられる。搬入出口３Ａは、シャッタ１１によって開閉される。処理槽５は、処理液を貯留する。処理槽５は、チャンバ３の内部であって、チャンバ３の下部に設けられる。処理槽５は、チャンバ３内の底面３Ｂから離して配置される。

【0031】

処理槽５の底部の両隅には、処理槽５内に処理液を供給する２本の噴出管７が設けられる。２本の噴出管７は各々、処理液供給管１３の一端が接続される。処理液供給管１３の他端は、処理液供給源１５に接続される。処理液供給源１５は、処理液供給管１３を通じて、２本の噴出管７に処理液を送る。処理液供給管１３には、開閉弁Ｖ１が設けられる。開閉弁Ｖ１は、処理液の供給およびその停止を行う。

【0032】

処理液は、例えば、純水、有機溶剤または、純水で有機溶剤を希釈した液が用いられる。純水は、例えば脱イオン水（ＤＩＷ）が用いられる。有機溶剤は、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が用いられる。

【0033】

処理槽５の底部には、急速排液弁（開閉弁）８が設けられる。急速排液弁８が開状態であるとき、急速排液弁８は、処理槽５に貯留された処理液をチャンバ３内の底面３Ｂに短時間で排出する。急速排液弁８が閉状態であるとき、処理槽５に処理液を貯留できる。

【0034】

リフタ９は、複数枚の基板Ｗを鉛直姿勢で保持する。複数枚の基板Ｗは、所定の間隔で各基板Ｗの厚み方向に配置される。リフタ９は、１枚の基板Ｗであっても保持できる。リフタ９は、受け渡し位置Ｈ１と、乾燥位置Ｈ２と、処理位置Ｈ３との間で基板Ｗを昇降させる。受け渡し位置Ｈ１は、チャンバ３の外部であって、チャンバ３の上方の位置である。乾燥位置Ｈ２は、チャンバ３の内部であって、処理槽５の上方の位置である。処理位置Ｈ３は、処理槽５の内部の位置である。

【0035】

また、基板処理部２は、２本の不活性ガスノズル１９、２本の溶剤ノズル２１および２本の撥水剤ノズル２３を備える。６本のノズル１９，２１，２３は、チャンバ３の内部であって処理槽５よりも高い位置に設けられる。２本の不活性ガスノズル１９、２本の溶剤ノズル２１および２本の撥水剤ノズル２３は、この順番で上から配置される。

【0036】

例えば、２本の撥水剤ノズル２３は、平面視で処理槽５を挟み込みながら、対向するように配置される。また、第１の撥水剤ノズル２３は、第２の撥水剤ノズル２３と同じ高さに配置される。２本の不活性ガスノズル１９および２本の溶剤ノズル２１も同様に配置される。６本のノズル１９，２１，２３は各々、複数枚の基板Ｗが配列される配列方向に延びる管状に形成される。また、６本のノズル１９，２１，２３は各々、その配列方向に沿って配置された複数個の吐出口を備える。

【0037】

２本の不活性ガスノズル１９は各々、チャンバ３内に不活性ガス（例えば窒素ガス）を供給する。２本の不活性ガスノズル１９は各々、供給管２５の一端が接続される。供給管２５の他端は、不活性ガス供給源２７に接続される。不活性ガス供給源２７は、供給管２５を通じて、２本の不活性ガスノズル１９に不活性ガスを送る。供給管２５には、開閉弁Ｖ２が設けられる。開閉弁Ｖ２は、不活性ガスの供給およびその停止を行う。

【0038】

２本の溶剤ノズル２１は各々、チャンバ３内に溶剤（例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ））の蒸気を供給する。２本の溶剤ノズル２１は各々、供給管２９の一端が接続される。供給管２９の他端は、溶剤蒸気供給源３１に接続される。溶剤蒸気供給源３１は、供給管２９を通じて、２本の溶剤ノズル２１に溶剤蒸気を供給する。供給管２９には、開閉弁Ｖ３が設けられる。開閉弁Ｖ３は、溶剤蒸気の供給およびその停止を行う。

【0039】

２本の撥水剤ノズル２３は各々、基板Ｗに対して撥水処理を行うために、チャンバ３に収容された基板Ｗに非水溶性の撥水剤蒸気を供給する。２本の撥水剤ノズル２３は各々、供給管３３の一端が接続される。供給管３３の他端は、撥水剤蒸気供給源３５に接続される。撥水剤蒸気供給源３５は、供給管３３を通じて、２本の撥水剤ノズル２３に非水溶性の撥水剤蒸気を供給する。供給管３３には、開閉弁Ｖ４が設けられる。開閉弁Ｖ４は、撥水剤蒸気の供給およびその停止を行う。

【0040】

撥水剤（シリル化剤）は、溶媒として油を含む。そのため、撥水剤は、非水溶性である。非水溶性の撥水剤は、例えば、セントラル硝子株式会社（Central Glass Co., Ltd.）製の商品番号ＴＪ１０の撥水剤が用いられる。なお、撥水剤蒸気は、キャリアガス（窒素ガスなどの不活性ガス）を含んでいてもよい。

【0041】

なお、例えば、基板処理部２は、１本または３本以上の撥水剤ノズル２３を備えていてもよい。噴出管７、不活性ガスノズル１９および溶剤ノズル２１の各々についても同様である。

【0042】

＜１－２．本実施例の特徴部分の説明＞
基板処理装置１は、排出ユニット４１と分解液混入機構４３を更に備える。非水溶性の撥水剤を使用したときに、非水溶性の撥水剤の油成分が配管の内壁に強く付着することで、配管を詰まらせ、また、配管を腐食させるおそれがある。この問題は、基板処理装置１の内部だけでなく、基板処理装置１の外部にも及ぶ。また、仮に、基板処理装置１の内部において、上述の配管詰まり等の対策を講じることができたとしても、基板処理装置１の外部（例えば工場の排液設備５５，８５）にまでその対策を講じさせることは、ユーザー側の大きな負担となる。

【0043】

例えば、基板処理装置１の配管をテフロン（登録商標）、すなわち、フッ素樹脂で形成することで、配管腐食を抑制できる。これに対し、工場の排液設備５５，８５の配管は、例えばＰＰ（ポリプロピレン、polyepropylene）またはＰＶＣ（ポリ塩化ビニル、polyvinyl chloride）で形成される。そのため、工場の排液設備５５，８５の配管は、配管詰まりおよび配管腐食の影響を受けるおそれがある。

【0044】

そこで、本実施例では、分解液混入機構４３は、基板Ｗの撥水処理で生じた排液である撥水剤含有液（撥水剤を含有する）に対して、撥水剤を分解する分解液を混入する。また、排出ユニット４１は、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置１の外部に排出する。

【0045】

＜１－３．排出ユニットの構成＞
次に、排出ユニット４１の詳細な構成について説明する。排出ユニット４１は、チャンバ排液管４５、排液タンク４７、タンク排液管４９、第１混合部５１および第１混合部排液管５３を備える。第１混合部５１は、本発明の混合部に相当する。第１混合部排液管５３は、本発明の混合部排液管に相当する。チャンバ排液管４５とタンク排液管４９、あるいはチャンバ排液管４５は、本発明のチャンバ排液管に相当する。

【0046】

チャンバ排液管４５の一端はチャンバ３に接続される。具体的には、チャンバ３の底部には、排液口３Ｃが設けられており、チャンバ排液管４５の一端は排液口３Ｃに接続される。チャンバ排液管４５の他端は、排液タンク４７に接続される。チャンバ排液管４５には、開閉弁Ｖ５が設けられる。開閉弁Ｖ５は、チャンバ３から排液タンク４７への液体の流通を許可したり遮断したりすることができる。

【0047】

排液タンク４７は、チャンバ３の下方に設けられる。排液タンク４７は、チャンバ３から排出された液体を貯留する。排液タンク４７の容積は、処理槽５の容積よりも大きい。また、排液タンク４７の容積は、チャンバ３の容積よりも小さいが、大きくてもよい。チャンバ３から排出された液体は、純水、溶剤、非水溶性の撥水剤を含む。この液体は、非水溶性の撥水剤を含有する「撥水剤含有液」と呼ばれる。

【0048】

タンク排液管４９の一端は、排液タンク４７の底部に接続される。タンク排液管４９の他端は、第１混合部５１に接続される。第１混合部５１の詳細な説明は後述する。第１混合部排液管５３の一端は、第１混合部５１に接続される。第１混合部排液管５３の他端は、基板処理装置１の外部の例えば工場の排液設備５５に接続される。排液設備５５と、後述する排液設備８５は各々、配管を備える。

【0049】

また、タンク排液管４９には、開閉弁Ｖ９が設けられる。排液タンク４７内が大気圧である状態において、開閉弁Ｖ９を開くと、排液タンク４７からタンク排液管４９に液体（撥水剤含有液または混合液）が排出される。

【0050】

また、排出ユニット４１は、水封式真空ポンプ５７、チャンバ排気管５９およびタンク排気管６１を備える。水封式真空ポンプ５７は、本発明の減圧ポンプまたは水封式真空ポンプに相当する。

【0051】

水封式真空ポンプ５７は、内部に封水と呼ばれる水を入れ、図示しないインペラー（impeller）の遠心力で水のリングを生成することにより、内部に真空状態を生み出すポンプである。水封式真空ポンプ５７は、チャンバ３内および排液タンク４７内の少なくとも一方を排気する。水封式真空ポンプ５７は、吸引口５７Ａと、排出口５７Ｂと、封水供給口５７Ｃを備える。

【0052】

チャンバ排気管５９の一端は、チャンバ３の側壁に設けられた排気口３Ｄに接続される。チャンバ排気管５９の他端は、水封式真空ポンプ５７の吸引口５７Ａに接続される。チャンバ排気管５９には、開閉弁Ｖ６が設けられる。開閉弁Ｖ６は、チャンバ排気管５９を流通する気体の流量を調整することができる。また、開閉弁Ｖ６は、調整された流量での気体の流通を許容したり遮断したりすることができる。

【0053】

タンク排気管６１の一端は、排液タンク４７の上部に接続される。タンク排気管６１の他端は、開閉弁Ｖ６と吸引口５７Ａとの間のチャンバ排気管５９に接続される。タンク排気管６１には、開閉弁Ｖ７が設けられる。開閉弁Ｖ７は、タンク排気管６１を流通する気体の流量を調整することができる。また、開閉弁Ｖ７は、調整された流量での気体の流通を許容したり遮断したりすることができる。

【0054】

また、排出ユニット４１は、排液タンク４７内のタンク圧力値を大気圧に戻すために、供給管６３、不活性ガス供給源６５および開閉弁Ｖ８を備える。供給管６３の一端は、排液タンク４７に接続される。供給管６３の他端は、不活性ガス供給源６５に接続される。不活性ガス供給源６５は、供給管６３を通じて、排液タンク４７に不活性ガス（例えば窒素ガス）を送る。供給管６３には、開閉弁Ｖ８が設けられる。開閉弁Ｖ８は、不活性ガスの供給およびその停止を行う。

【0055】

また、排出ユニット４１は、封水タンク６７、ポンプ排気管６９、循環配管７１、封水タンク排気管７３、封水タンク排液管７５、第２混合部７７および第２混合部排液管７９を備える。

【0056】

封水タンク６７は、封水を貯留する。図示しない封水供給部は、封水タンク６７に封水として純水（例えばＤＩＷ）を供給することができる。ポンプ排気管６９は、チャンバ３からの気体および封水を水封式真空ポンプ５７から封水タンク６７に送るため、水封式真空ポンプ５７の排出口５７Ｂと封水タンク６７の上部とを接続する。

【0057】

循環配管７１は、封水タンク６７から水封式真空ポンプ５７に封水を戻すため、封水タンク６７の底部と水封式真空ポンプ５７の封水供給口５７Ｃを接続する。循環配管７１には、熱交換器８１が設けられる。熱交換器８１は、循環配管７１を流通する封水を冷却する。ここで、封水には、溶剤および、非水溶性の撥水剤が含まれる。すなわち、非水溶性の撥水剤を含む封水は、撥水剤含有液である。

【0058】

封水タンク排気管７３の一端は、封水タンク６７の上部に接続される。封水タンク排気管７３の他端は、基板処理装置１の外部の例えば工場の排気設備８３に接続される。封水タンク排気管７３は、水封式真空ポンプ５７で封水タンク６７に送られたチャンバ３からの気体を排気設備８３に送る。

【0059】

封水タンク排液管７５の一端は、封水タンク６７の下部または底部に接続される。封水タンク排液管７５の他端は、第２混合部７７に接続される。封水タンク排液管７５には、開閉弁Ｖ１０が設けられる。開閉弁Ｖ１０は、封水タンク６７内の封水の排出およびその停止を行う。すなわち、開閉弁Ｖ１０が閉状態であるとき、封水タンク６７内の封水は、封水タンク排液管７５を通じて排出されない。また、開閉弁Ｖ１０が開状態であるとき、封水タンク６７内の封水は、封水タンク排液管７５を通じて排出される。第２混合部７７は、第１混合部５１と同様に構成される。第２混合部排液管７９の一端は、第２混合部７７に接続される。第２混合部排液管７９の他端は、基板処理装置１の外部の例えば工場の排液設備８５に接続される。

【0060】

チャンバ排液管４５、タンク排液管４９、第１混合部排液管５３、チャンバ排気管５９、タンク排気管６１、ポンプ排気管６９、循環配管７１、封水タンク排液管７５および第２混合部排液管７９の少なくとも１つは、フッ素樹脂で形成される。そのため、不水溶性の撥水剤による腐食の耐久性が得られ、それにより、チャンバ排液管４５等の腐食を抑制することができる。フッ素樹脂は、例えば、ＰＴＦＥ（polytetrafluoroethylene）またはＰＦＡ（polytetrafluoroethylene）である。

【0061】

＜１－４．分解液混入機構の構成＞
本実施例において、分解液混入機構４３は、第１分解液混入部９１、第２分解液混入部９２、第３分解液混入部９３、および第４分解液混入部９４を備える。

【0062】

第１分解液混入部９１は、排液タンク４７に設けられた供給口４７Ａを介して、排液タンクに貯留される液体（撥水剤含有液）に分解液を混入する。例えば、第１分解液混入部９１は、一定量（予め設定された量）の分解液を混入する。第１分解液混入部９１は、第１分解液配管１０１、第１分解液供給源１０３および開閉弁Ｖ１１を備える。

【0063】

第１分解液配管１０１の一端は、供給口４７Ａに接続する。第１分解液配管１０１の他端は、第１分解液供給源１０３に接続する。第１分解液供給源１０３の分解液は、図示しないポンプによって、第１分解液配管１０１を通じて、排液タンク４７に送られる。第１分解液配管１０１には、開閉弁Ｖ１１が設けられる。開閉弁Ｖ１１は、分解液の供給およびその停止を行う。後述する開閉弁Ｖ１２，Ｖ１３，Ｖ１４も開閉弁Ｖ１１と同様に構成される。

【0064】

分解液は、非水溶性の撥水剤の特に油成分を分解する。分解液は、例えば、乳化剤（界面活性剤）またはバクテリアが用いられる。また、分解液は、例えば、乳化剤またはバクテリアを純水（ＤＩＷ）に混ぜたものであってもよい。非水溶性の撥水剤に乳化剤を加えると、油成分を細かくして水に分散させることができる。なお、バクテリアを加える場合、十分に分解されるまで時間を必要とする場合がある。

【0065】

排液タンク４７内の撥水剤含有液と分解液の混合液を排出するとき、排出ユニット４１は、タンク排液管４９および第１混合部排液管５３を通じて、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置１の外部の排液設備５５に排出する。

【0066】

次に、第２分解液混入部９２について説明する。第２分解液混入部９２は、排液タンク４７から液体（撥水剤含有液）を排出するとき、第１混合部５１を介して、第１混合部５１を通過する液体に分解液を混入する。例えば、第２分解液混入部９２は、一定時間（予め設定された時間）、分解液を混入する。第２分解液混入部９２は、第２分解液配管１０５、第２分解液供給源１０７および開閉弁Ｖ１２を備える。

【0067】

第２分解液配管１０５の一端は、第１混合部５１に接続される。第２分解液配管１０５の他端は、第２分解液供給源１０７に接続させる。第２分解液供給源１０７の分解液は、図示しないポンプによって、第２分解液配管１０５を通じて、第１混合部５１に送られる。第２分解液配管１０５には、開閉弁Ｖ１２が設けられる。

【0068】

第１混合部５１は、例えば、図２に示すミキサー本体１１１を備えたミキサー５１Ａ、またはミキシングバルブで構成される。ミキシングバルブは、排液タンク４７から液体（撥水剤含有液）と分解液との混合比を変えることができる。図２を参照する。ミキサー５１Ａ（第１混合部５１）は、ミキサー本体１１１、配管１１３、供給口１１５、流入口１１７および流出口１１９を備える。

【0069】

ミキサー本体１１１は、分解液と液体（撥水剤含有液）とを混ぜる部材である。ミキサー本体１１１は、配管１１３内の供給口１１５および流入口１１７の下流に配置される。ミキサー本体１１１は、管軸に沿って螺旋状に延びるように形成される。なお、ミキサー本体１１１は、右回りの螺旋部材と左回りの螺旋部材を直列に並べたものであってもよい。供給口１１５には、第２分解液配管１０５の一端が接続される。流入口１１７には、タンク排液管４９の他端が接続される。流出口１１９には、第１混合部排液管５３の一端が接続される。

【0070】

ここで、ミキサー５１Ａの動作を説明する。撥水剤含有液は、流入口１１７から流入され、分解液は、供給口１１５から供給される。その後、撥水剤含有液と分解液がミキサー本体１１１を通過するときに、ミキサー本体１１１は、撥水剤含有液と分解液を混ぜる。その後、撥水剤含有液と分解液の混合液は、流出口１１９を通じて、第１混合部排液管５３に送られる。

【0071】

第２分解液混入部９２で分解液を混入する場合、排出ユニット４１は、第１混合部排液管５３を通じて、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置１の外部の排液設備５５に排出する。

【0072】

次に、第３分解液混入部９３について説明する。第３分解液混入部９３は、封水タンク６７に設けられた供給口６７Ａを介して、封水タンク６７に貯留される撥水剤含有液としての封水に分解液を混入する。例えば、第３分解液混入部９３は、一定量（予め設定された量）の分解液を混入する。第３分解液混入部９３は、第３分解液配管１２１、第３分解液供給源１２３および開閉弁Ｖ１３を備える。

【0073】

第３分解液配管１２１の一端は、供給口６７Ａに接続する。第３分解液配管１２１の他端は、第３分解液供給源１２３に接続する。第３分解液供給源１２３の分解液は、図示しないポンプによって、第３分解液配管１２１を通じて、封水タンク６７に送られる。第３分解液配管１２１には、開閉弁Ｖ１３が設けられる。

【0074】

排出ユニット４１は、封水タンク６７内の撥水剤含有液と分解液の混合液としての封水を排出するとき、封水タンク排液管７５および第２混合部排液管７９を通じて封水を基板処理装置１の外部の排液設備８５に排出する。

【0075】

次に、第４分解液混入部９４について説明する。第４分解液混入部９４は、排出ユニット４１が封水タンク６７から封水（撥水剤含有液）を排出するとき、第２混合部７７を介して、第２混合部７７を通過する封水に分解液を混入する。例えば、第４分解液混入部９４は、一定時間（予め設定された時間）、分解液を混入する。第４分解液混入部９４は、第４分解液配管１２５、第４分解液供給源１２７および開閉弁Ｖ１４を備える。

【0076】

第４分解液配管１２５の一端は、第２混合部７７に接続される。第４分解液配管１２５の他端は、第４分解液供給源１２７に接続させる。第４分解液供給源１２７の分解液は、図示しないポンプによって、第４分解液配管１２５を通じて、第２混合部７７に送られる。第２分解液配管１０５には、開閉弁Ｖ１４が設けられる。第２混合部７７は、第１混合部５１と同様に構成される。

【0077】

第４分解液混入部９４で分解液を混入する場合、排出ユニット４１は、第２混合部排液管７９を通じて、撥水剤含有液と分解液の混合液としての封水を基板処理装置１の外部の排液設備８５に排出する。

【0078】

＜１－５．その他の構成＞
チャンバ３には、チャンバ３内の圧力を測定する圧力センサＰＳ１が設けられる。また、排液タンク４７には、排液タンク４７内の圧力を測定する圧力センサＰＳ２が設けられる。

【0079】

基板処理装置１は、制御部１３１と記憶部（図示しない）を備えている。制御部１３１は、基板処理装置１の各構成を制御する。制御部１３１は、例えば中央演算処理装置（ＣＰＵ）などの１つまたは複数のプロセッサを備える。記憶部は、例えば、ＲＯＭ（Read-Only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）、およびハードディスクの少なくとも１つを備えている。記憶部は、基板処理装置１の各構成を制御するために必要なコンピュータプログラムを記憶する。

【0080】

＜２．基板処理装置の動作＞
次に、図３のタイミングチャートを参照しながら、基板処理装置１の動作について説明する。なお、図３において、符号ＣＬは、各弁Ｖ２等の閉状態を示し、符号ＯＰは、各弁Ｖ２等の開状態を示す。また、図４～図７は、４個の分解液混入部９１，９２，９３，９４の動作を説明するための図である。

【0081】

時点ｔ０～時点ｔ１において、リフタ９は、図示しない搬送ロボットにより、受け渡し位置Ｈ１において、基板Ｗを受け取る。リフタ９は、基板Ｗを鉛直姿勢で保持する。処理槽５には、噴出管７から噴出された純水が貯留されている。また、開閉弁Ｖ２が開かれて、不活性ガスノズル１９からチャンバ３内に窒素ガスが供給されている。チャンバ３内の圧力値は、大気圧以上の圧力値である。

【0082】

リフタ９は、受け渡し位置Ｈ１から処理位置Ｈ３に基板Ｗを下降させる。これにより、基板Ｗは、処理槽５の純水に浸漬されて、純水洗浄処理が行われる。なお、基板Ｗが処理位置Ｈ３に下降された後、シャッタ１１は、搬入出口３Ａを閉じる。

【0083】

時点ｔ１において、開閉弁Ｖ６を開くと共に、水封式真空ポンプ５７を作動させる（図３の符号ＯＮ）。これにより、チャンバ３内の気体が排出される。水封式真空ポンプ５７は、圧力センサＰＳ１の計測値に基づき、予め設定された圧力値（チャンバ圧力値）にチャンバ３内を減圧する。予め設定された圧力値は、大気圧よりも小さい圧力値である。

【0084】

なお、水封式真空ポンプ５７は、時点ｔ１から時点ｔ１２まで作動する。また、開閉弁Ｖ６を開くと共に、水封式真空ポンプ５７を作動させると、チャンバ３内の気体は、チャンバ排気管５９、水封式真空ポンプ５７、ポンプ排気管６９、封水タンク６７、封水タンク排気管７３および排気設備８３の順番に送られる。なお、封水タンク６７において、気体は、液体（例えば純水、溶剤および撥水剤）から分離される。また、チャンバ３からの気体に含まれた溶剤および撥水剤は、封水に含まれるようになる。

【0085】

また、水封式真空ポンプ５７を作動させると、封水タンク６７内の封水は、循環配管７１、水封式真空ポンプ５７、ポンプ排気管６９、および封水タンク６７の順番で循環される。また、封水は、循環配管７１に設けられた熱交換器８１で冷やされる。また、封水が少なくなった場合、図示しない純水供給部は、封水タンク６７に純水を供給する。

【0086】

時点ｔ２において、開閉弁Ｖ２を閉じて、不活性ガスノズル１９からの窒素ガスの供給を停止する。その後、時点ｔ３において、開閉弁Ｖ３を開いて、溶剤ノズル２１からチャンバ３内にＩＰＡ蒸気を供給する。これにより、減圧下において、チャンバ３内をＩＰＡ蒸気の雰囲気にする。その後、リフタ９は、処理槽５の純水から基板Ｗを引き上げながら、処理位置Ｈ３から乾燥位置Ｈ２に基板Ｗを上昇させる。これにより、基板Ｗに付着している水分がＩＰＡに置換される。溶剤ノズル２１は、時点ｔ３～時点ｔ７まで、ＩＰＡ蒸気を供給する。

【0087】

時点ｔ４において、チャンバ３内のチャンバ圧力値は、水封式真空ポンプ５７によって、予め設定された圧力値に減圧されている。この状態で、仮に、排液タンク４７内のタンク圧力値がチャンバ３内のチャンバ圧力値よりも大きい場合、チャンバ３から排液タンク４７に液体を送ることができない。そのため、時点ｔ４において、開閉弁Ｖ６を閉じると共に、開閉弁Ｖ７を開く。これにより、排液タンク４７内の気体が排気される。

【0088】

また、水封式真空ポンプ５７は、圧力センサＰＳ２の計測値に基づき、排液タンク４７内のタンク圧力値がチャンバ３内のチャンバ圧力値よりも低くなるように、排液タンク４７内を減圧する（タンク圧力値＜チャンバ圧力値）。

【0089】

なお、排液タンク４７内を排気するとき、開閉弁Ｖ５，Ｖ８，Ｖ９は閉じられる。また、開閉弁Ｖ７を開くと共に、水封式真空ポンプ５７を作動させると、排液タンク４７内の気体は、タンク排気管６１、水封式真空ポンプ５７、ポンプ排気管６９、封水タンク６７、封水タンク排気管７３および排気設備８３の順番に送られる。

【0090】

時点ｔ５において、排液タンク４７内のタンク圧力値は、チャンバ圧力値よりも低い予め設定された圧力値になっている。時点ｔ５において、開閉弁Ｖ７を閉じると共に、開閉弁Ｖ６を開く。これにより、チャンバ３内の気体が排気される。なお、タンク圧力値＜チャンバ圧力値の関係が保たれる。

【0091】

時点ｔ６において、撥水剤ノズル２３は、チャンバ３内が減圧されている状態でチャンバ３内に不水溶性の撥水剤蒸気を供給する。不水溶性の撥水剤蒸気は、時点ｔ６～時点ｔ１０において供給される。また、時点ｔ６において、急速排液弁８を開き、処理槽５内の全ての純水をチャンバ３内の底面３Ｂに放出する。これにより、チャンバ３内の底部に純水が貯留される。処理槽５内が空になったあと、急速排液弁８は閉じられる。

【0092】

時点ｔ７において、開閉弁Ｖ３を閉じて、溶剤ノズル２１からのＩＰＡ蒸気の供給を停止する。また、撥水剤ノズル２３からの不水溶性の撥水剤蒸気の供給は継続される。また、リフタ９は、２本の撥水剤ノズル２３の間を通過させるために、基板Ｗを上下移動させる。これにより、基板Ｗに付着しているＩＰＡが不水溶性の撥水剤に置換される。そのため、基板Ｗの表面、特に、デバイス面が撥水性に改質される（撥水処理）。

【0093】

また、図３の時点ｔ６～時点ｔ１０において、撥水剤蒸気が供給される。そのため、水封式真空ポンプ５７は、不水溶性の撥水剤蒸気を含む気体をチャンバ３内から排気する。そのため、封水には、不水溶性の撥水剤が混ざり込む。不水溶性の撥水剤の排液は、配管詰まりおよび配管腐食の原因になる。

【0094】

そこで、図６において、チャンバ３内を減圧にするために水封式真空ポンプ５７が作動され、かつ、撥水剤ノズル２３から撥水剤が供給されているときに、第３分解液混入部９３は、開閉弁Ｖ１３を開く。例えば、時点ｔ７において、開閉弁Ｖ１３を開く。これにより、第３分解液混入部９３は、封水タンク６７に設けられた供給口６７Ａを介して、封水タンク６７内の撥水剤含有液としての封水に分解液を混入する。

【0095】

これにより、封水に混ざり込んだ不水溶性の撥水剤を分解液で分解することができる。また、封水が循環されるので、不水溶性の撥水剤を含む封水（撥水剤含有液）と分解液とを良好に混ぜることができる。例えば、撥水剤を早く分解させることができる。

【0096】

また、図３の時点ｔ６～時点ｔ７において、急速排液弁８が開かれることで、チャンバ３内の底部に純水が貯留される。この純水にも、撥水処理で生じた不水溶性の撥水剤が含まれる。なお、不水溶性の撥水剤を含む純水は、撥水剤含有液である。

【0097】

そこで、時点ｔ８において、タンク圧力値＜チャンバ圧力値の状態でかつ、撥水剤ノズル２３から不水溶性の撥水剤蒸気が供給されているときに、開閉弁Ｖ５を開く。言い換えると、排出ユニット４１は、タンク圧力値がチャンバ圧力値よりも低く、かつ撥水剤ノズル２３から撥水剤蒸気が供給されているときに、チャンバ３内に貯留された撥水剤含有液を、チャンバ排液管４５を通じて排液タンク４７に排出する。これにより、チャンバ３内の撥水剤含有液を排液タンク４７に排出することができる。減圧されているチャンバ３内の底部に貯留される撥水剤含有液から水分が揮発して基板Ｗに付着すると、撥水処理の効力が低下し、また、撥水剤起因のゴミが生成される。しかし、これらを防止できる。

【0098】

また、チャンバ３から排液タンク４７にチャンバ３内に貯留された撥水剤含有液を排出する前、または撥水剤含有液の排出の途中で、第１分解液混入部９１は、開閉弁Ｖ１１を開く。例えば、開閉弁Ｖ１１は、時点ｔ８よりも前で開かれる。

【0099】

これにより、第１分解液混入部９１は、図４に示すように、排液タンク４７に設けられた供給口４７Ａを介して、排液タンク４７に貯留される撥水剤含有液に分解液を混入するために、排液タンク４７内に分解液を供給する。そのため、排液タンク４７に流入する撥水剤含有液の流れにより、撥水剤含有液と分解液を良好に混ぜることができる。排液タンク４７内の不水溶性の撥水剤は、分解液により分解される。

【0100】

その後、チャンバ３内の底部の撥水剤含有液がなくなると、開閉弁Ｖ５を閉じる。その後、開閉弁Ｖ８を開き、排液タンク４７内に窒素ガスを供給する。これにより、減圧されている排液タンク４７内を大気圧に戻す。開閉弁Ｖ８の開閉は適宜行われる。

【0101】

その後、時点ｔ９において、開閉弁Ｖ９を開く。具体的には、排出ユニット４１は、排液タンク４７内の液体（本実施例では、撥水剤含有液と分解液との混合液）をタンク排液管４９および第１混合部排液管５３を通じて、排液設備５５に排出する。このとき（時点ｔ９）、第２分解液混入部９２は、図５に示すように、第１混合部５１を介して、第１混合部５１を通過する液体（混合液）に分解液を混入する。第２分解液混入部９２による分解液は、不水溶性の撥水剤を分解する。更に分解液を混入するので、不水溶性の撥水剤を確実に分解できる。また、下流の配管で付着する撥水剤の油成分を分解して下流の配管の洗浄を行うことができる。

【0102】

第１混合部５１で更に分解液が混入された混合液は、排液設備５５に送られる。排液タンク４７内の液が全て排出されると、開閉弁Ｖ９は閉じられる。なお、第２分解液混入部９２は、開閉弁Ｖ９が閉じられた後も、所定時間、分解液を供給し続けてもよい。

【0103】

時点ｔ１０において、開閉弁Ｖ４を閉じて、撥水剤ノズル２３からの撥水剤蒸気の供給を停止する。また、開閉弁Ｖ３を開いて、溶剤ノズル２１からＩＰＡ蒸気を供給する。これにより、基板Ｗに付着する撥水剤をＩＰＡに置換する。

【0104】

その後、時点ｔ１１において、開閉弁Ｖ３を閉じて、溶剤ノズル２１からのＩＰＡ蒸気の供給を停止する。また、開閉弁Ｖ２を開いて、不活性ガスノズル１９から窒素ガスを供給する。これらにより、減圧されているチャンバ３内において、基板Ｗに付着しているＩＰＡが揮発し、基板Ｗは乾燥される。

【0105】

その後、時点ｔ１２において、水封式真空ポンプ５７の作動を停止させる（ＯＦＦ）と共に、開閉弁Ｖ６を閉じる。窒素ガスの供給は、減圧されているチャンバ３内を大気圧に戻す。その後、シャッタ１１が開かれる。その後、リフタ９は、乾燥位置Ｈ２から受け渡し位置Ｈ１に基板Ｗを上昇させる。図示しない搬送ロボットは、リフタ９から基板Ｗを受け取り、基板Ｗを次の目的地に送る。

【0106】

時点ｔ１２の後の時点ｔ１３において、水封式真空ポンプ５７が停止した状態で、開閉弁Ｖ１０を開いて、封水タンク６７内の封水（本実施例では、撥水剤含有液と分解液との混合液）を排出する。このとき、第４分解液混入部９４は、図７に示すように、第２混合部７７を介して、第２混合部７７を通過する封水に分解液を混入する。第４分解液混入部９４による分解液は、不水溶性の撥水剤を分解する。封水タンク６７から排出される封水は、更に分解液が混入されるので、不水溶性の撥水剤を確実に分解できる。また、下流の配管で撥水剤の油成分が付着する場合に、その油成分を分解して下流の配管の洗浄を行うことができる。

【0107】

第２混合部７７で更に分解液が混入された混合液は、排液設備８５に送られる。封水タンク６７内の封水が排出されると、開閉弁Ｖ１０は閉じられる。封水タンク６７には、図示しない純水供給部により、純水が供給される。また、第４分解液混入部９４は、開閉弁Ｖ１０が閉じられた後も、所定時間、分解液を供給し続けてもよい。その後、時点ｔ０に戻り、次の基板Ｗを処理する。

【0108】

本実施例によれば、分解液混入機構４３は、非水溶性の撥水剤を含有する撥水剤含有液に対して分解液を混入する。排出ユニット４１は、撥水剤含有液と分解液の混合液を基板処理装置１の外部に排出する。分解液は、非水溶性の撥水剤を分解する。そのため、不水溶性の撥水剤の成分が配管の内壁に付着することを防止する。そのため、特に、基板処理装置１の外部において、配管詰まりおよび配管腐食を防止することができる。また、混合液中の分解液は、付着した不水溶性の撥水剤の成分を分解する。そのため、配管内を洗浄することができる。

【0109】

排液タンク４７は、チャンバ３に接続されたチャンバ排液管４５とタンク排液管４９との間に設けられる。第１分解液混入部９１は、排液タンク４７の供給口４７Ａを介して、分解液を混入することができる。

【0110】

また、チャンバ３内が減圧され、撥水剤ノズル２３から撥水剤が供給されているときに、チャンバ３内から排液タンク４７に、撥水剤を含有する撥水含有液が排出される。第１分解液混入部９１は、そのような撥水剤含有液に分解液を混入することができる。

【0111】

第２分解液混入部９２は、チャンバ３に接続される排液管（チャンバ排液管４５およびタンク排液管４９）と第１混合部排液管５３との間に設けられた第１混合部５１を介して、分解液を混入することができる。

【0112】

第３分解液混入部９３は、水封式真空ポンプ５７に使用される封水を貯留する封水タンク６７の供給口６７Ａを介して、撥水剤含有液としての封水に分解液を混入することができる。

【0113】

チャンバ３内が減圧され、撥水剤ノズル２３から撥水剤が供給されているときに、水封式真空ポンプ５７によって、チャンバ３内の撥水剤を含む気体が封水タンク６７に運ばれる。そして、運ばれた撥水剤が封水に含まれるようになる。このようなときに、分解液を混入する。これにより、不水溶性の撥水剤が封水に含まれるようになると、直ぐに、撥水剤含有液と分解液を混合することができる。また、水封式真空ポンプ５７の作動中に封水が循環されるので、撥水剤含有液と分解液とを良好に混合することができる。

【0114】

第４分解液混入部９４は、封水タンク６７に接続される封水タンク排液管７５と第２混合部排液管７９との間に設けられた第２混合部７７を介して、分解液を混入することができる。

【0115】

なお、本実施例は、次のように変更してもよい。分解液の供給タイミングは、図３の場合に限定されない。例えば、時点ｔ１２以降において、開閉弁Ｖ９を開いて排液タンク４７から撥水剤含有液を排出するときに、第２分解液混入部９２は、開閉弁Ｖ１２を開いて分解液を混入させてもよい。

【0116】

また、第３分解液混入部９３は、撥水剤ノズル２３が供給される時点ｔ６～時点ｔ１０のいずれかで供給してもよい。

【0117】

また、分解液混入機構４３は、排液設備５５に撥水剤含有液を送る場合、２個の分解液混入部９１，９２の少なくとも一方により分解液を混入してもよい。また、分解液混入機構４３は、排液設備８５に撥水剤含有液を送る場合、２個の分解液混入部９３，９４の少なくとも一方により分解液を混入してもよい。

【実施例0118】

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。実施例１では、チャンバ３から排液設備５５までの経路上に２個の分解液混入部９１，９２が設けられた。また、チャンバ３から排液設備８５までの経路上に２個の分解液混入部９３，９４が設けられた。この点、２個の分解液混入部９１，９２の一方が設けられると共に、２個の分解液混入部９３，９４の一方が設けられてもよい。

【0119】

図８を参照する。基板処理装置１は、図１に示す２個の分解液混入部９２，９４を備えず、２個の分解液混入部９１，９３を備えてもよい。図８において、タンク排液管４９の他端は、基板処理装置１の外部の排液設備５５に接続される。また、封水タンク排液管７５の他端は、基板処理装置１の外部の排液設備８５に接続される。

【0120】

また、図９を参照する。基板処理装置１は、図１に示す２個の分解液混入部９１，９３を備えず、２個の分解液混入部９２，９４を備えてもよい。図９において、排液タンク４７内には、分解液が混入されていない撥水剤含有液が貯留される。排液タンク４７から撥水剤含有液を排出するときに、第２分解液混入部９２は、第１混合部５１を介して、第１混合部５１を通過する撥水剤含有液に分解液を混入する。排出ユニット４１は、第１混合部排液管５３を通じて混合液を基板処理装置１の外部の排液設備５５に排出する。

【0121】

また、封水タンク６７等には、分解液が混入されていない封水（撥水剤含有液）が貯留される。第４分解液混入部９４は、排出ユニット４１が封水タンク６７から封水を排出するとき、第２混合部７７を介して、第２混合部７７を通過する封水に分解液を混入する。排出ユニット４１は、第２混合部排液管７９を通じて、封水（撥水剤含有液）と分解液の混合液を基板処理装置１の外部の排液設備８５に排出する。

【0122】

また、基板処理装置１は、図１に示す第２分解液混入部９２および第３分解液混入部９３を備えず、第１分解液混入部９１および第４分解液混入部９４を備えていてもよい。また、基板処理装置１は、図１に示す第１分解液混入部９１および第４分解液混入部９４を備えず、第２分解液混入部９２および第３分解液混入部９３を備えていてもよい。

【0123】

本実施例によれば、実施例１のように、特に、基板処理装置１の外部において、配管詰まりおよび配管腐食を防止することができ、また、配管内を洗浄することができる。また、本実施例の基板処理装置１は、実施例１よりもシンプルに構成することができる。