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特開2024-158967キャビテーション処理方法及びキャビテーション処理装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024158967
(43)【公開日】2024-11-08
(54)【発明の名称】キャビテーション処理方法及びキャビテーション処理装置
(51)【国際特許分類】
B23P 17/00 20060101AFI20241031BHJP
【ＦＩ】
B23P17/00 A
【審査請求】有
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023074643
(22)【出願日】2023-04-28
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2024-02-20
(71)【出願人】
【識別番号】000132161
【氏名又は名称】株式会社スギノマシン
(74)【代理人】
【識別番号】110002712
【氏名又は名称】弁理士法人みなみ特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】松井 大貴
(57)【要約】
【課題】対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法を提供する。
【解決手段】ワーク（対象物）１０ａが、対象穴２０ａを有しており、対象穴２０ａの１つの入口２１以外の部分が塞がれており、ワーク１０ａ及びノズル１０２を処理液中に浸漬し、対象穴２０ａの外側に位置するノズル１０２から対象穴２０ａの入口２１を通して対象穴２０ａの内側へ向けてキャビテーションが発生するように処理液の噴流を噴射し、対象穴２０ａの内側の表面の領域であって対象穴２０ａの塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域Ａ１ａとなる。
【選択図】図２
【解決手段】ワーク（対象物）１０ａが、対象穴２０ａを有しており、対象穴２０ａの１つの入口２１以外の部分が塞がれており、ワーク１０ａ及びノズル１０２を処理液中に浸漬し、対象穴２０ａの外側に位置するノズル１０２から対象穴２０ａの入口２１を通して対象穴２０ａの内側へ向けてキャビテーションが発生するように処理液の噴流を噴射し、対象穴２０ａの内側の表面の領域であって対象穴２０ａの塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域Ａ１ａとなる。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法。
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法。
【請求項2】
前記ノズルの外径が、前記対象穴の前記入口の内径よりも大きい、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項3】
前記入口が前記対象穴の唯一の開口である、
請求項１又は２に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１又は２に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項4】
前記対象物が、前記入口以外に前記対象穴の開口部を有しており、
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１又は２に記載のキャビテーション処理方法。
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１又は２に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項5】
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
前記対象穴の内側に配置した被覆体によって前記非処理領域を覆う、
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
前記対象穴の内側に配置した被覆体によって前記非処理領域を覆う、
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
【請求項6】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側に位置する前記非処理領域を覆う前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
前記噴流が前記通過穴を通過する、
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項7】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の下流側の位置に、
前記噴流の流れを妨げる阻害体を配置する、
請求項１～６のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
前記噴流の流れを妨げる阻害体を配置する、
請求項１～６のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
【請求項8】
前記噴流の流れ方向に沿って前記阻害体を移動させる、
請求項７に記載のキャビテーション処理方法。
請求項７に記載のキャビテーション処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、対象物の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、金属製の対象物に対するキャビテーション処理が行われている（特許第６８７２９２９号公報）。キャビテーション処理は、対象物にキャビティ（気泡）を含む流体の噴流を衝突させ、キャビティが崩壊する際の衝撃力によって対象物の表面を処理するものである。キャビテーション処理によって、対象物の表面に圧縮残留応力を付加するピーニング、対象物の表面にディンプル形状を形成することによる摺動性の向上、その他、洗浄、剥離、切断、バリ取り等の効果が得られる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
キャビテーション処理の対象となる対象物の形状や大きさは様々である。適切なキャビテーション処理を行うためには、対象物の条件に応じた適切な方法で、対象物の表面に噴流を衝突させる必要がある。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法を提供することを目的とする。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0004】
代表的な本発明は、
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法である。
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法である。
【0005】
キャビテーション処理の際、対象物とノズルとは、いずれも槽に貯留された処理液中に浸漬される。処理液中において、ノズルから対象物に向けて処理液の噴流が噴射される。処理液は、例えば水である。処理液は、水に研磨材が混合されたものでも良い。槽に貯留された処理液に、研磨材が混濁されても良い。
【0006】
対象物は、金属で構成される。対象物を構成する金属は、例えば、アルミニウム合金、マグネシウム合金、チタン、チタン合金、鉄鋼である。対象物は、例えば、機械部品である。機械部品は、例えば、バルブ、配管継手である。対象物が有する対象穴は、分岐を有さない穴でも良い。対象穴は、分岐を有しても良い。対象穴の深さは、例えば、５０ｍｍ～３００ｍｍである。対象穴の内径は、例えば、１０ｍｍ～４０ｍｍである。ノズルの噴口径は、例えば、０．５ｍｍ～３ｍｍである。噴流の噴射圧力は、例えば、１０ＭＰａ～８０ＭＰａである。
【0007】
閉塞体は、例えば金属である。閉塞体は、対象穴の開口部に嵌め合うものでも良い。閉塞体は、雄ねじを有し、対象穴の開口部に形成された雌ねじにねじ込まれるものでも良い。閉塞体は、対象穴に対して、わずかな隙間（例えば０．５ｍｍ）を隔てたものでも良い。例えば対象穴の断面形状が円形の場合に、閉塞体は、円板形、円柱形や円筒形であって良い。
【0008】
被覆体は、例えば金属である。被覆体を構成する金属は、例えば、ステンレス鋼である。被覆体は、対象穴の内側の表面の非処理領域に接するものでも良い。被覆体は、対象穴に対して、わずかな隙間（例えば０．５ｍｍ）を隔てたものでも良い。例えば対象穴の断面形状が円形の場合に、被覆体は、円板形、円柱形や円筒形であって良い。
【0009】
通過穴は、噴流の流れ方向に被覆体を貫通する穴であって良い。例えば対象穴の断面形状が円形の場合に、通過穴は断面形状が円形であってその中心軸が対象穴の中心軸と一致したものであって良い。
【0010】
処理領域となる対象穴の奥部の領域とは、対象穴が塞がれた位置の近傍の領域である。具体的には、対象穴が塞がれた位置から、対象穴の深さ方向において５ｍｍ～２０ｍｍの領域である。
【0011】
阻害体は、例えば金属である。阻害体を構成する金属は、例えば、ステンレス鋼である。阻害体は、対象穴の内側の表面に接するものでも良い。阻害体は、対象穴に対して、隙間を隔てたものでも良い。
阻害体は、噴流の流れ方向の上流側から下流側に向けて移動しても良い。阻害体は、噴流の流れ方向の下流側から上流側に向けて移動しても良い。
阻害体は、噴流の流れ方向の上流側から下流側に向けて移動しても良い。阻害体は、噴流の流れ方向の下流側から上流側に向けて移動しても良い。
【0012】
閉塞体と被覆体とは、一体に形成されても良い。閉塞体は、対象穴の開口部を塞ぐとともに、対象穴の内側の表面を覆っても良い。閉塞体が覆う領域が非処理領域であるとき、閉塞体は被覆体としても機能する。すなわち、閉塞体が被覆体を兼ねても良い。
【0013】
被覆体と阻害体とは、一体に形成されても良い。被覆体は、対象穴の内側の表面を覆うとともに、噴流の流れを妨げても良い。このとき、被覆体は阻害体としても機能する。すなわち、被覆体が阻害体を兼ねても良い。
【0014】
閉塞体と阻害体とは、一体に形成されても良い。閉塞体は、対象穴の開口部を塞ぐとともに、噴流の流れを妨げても良い。このとき、閉塞体は阻害体としても機能する。すなわち、閉塞体が阻害体を兼ねても良い。
【0015】
閉塞体と被覆体と阻害体とは、一体に形成されても良い。閉塞体は、対象穴の開口部を塞ぐとともに、対象穴の内側の表面を覆い、かつ噴流の流れを妨げても良い。このとき、閉塞体は被覆体および阻害体としても機能する。すなわち、閉塞体が被覆体と阻害体とを兼ねても良い。
【発明の効果】
【0016】
本発明のキャビテーション処理方法によれば、キャビテーション処理装置は対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行える。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】第１実施形態のキャビテーション処理装置
【図2】第１実施形態のワークの縦断面図
【図3A】第２実施形態のワークと第１キャップの縦断面図
【図3B】第２実施形態の第１キャップが装着されたワーク
【図4A】第３実施形態のワークと第１キャップ及び第７キャップの縦断面図
【図4B】第３実施形態の第１キャップ及び第７キャップが装着されたワーク
【図5A】第４実施形態のワークと第２キャップの縦断面図
【図5B】第４実施形態の第２キャップが装着されたワーク
【図6A】第５実施形態のワークと第２キャップ及び第３キャップの縦断面図
【図6B】第５実施形態の第２キャップ及び第３キャップが装着されたワーク
【図7A】第６実施形態のワークと第４キャップの縦断面図
【図7B】第６実施形態の第４キャップが装着されたワーク
【図8A】第７実施形態のワークと第５キャップの縦断面図
【図8B】第７実施形態の第５キャップが装着されたワーク
【図9A】第８実施形態のワークと第６キャップの縦断面図
【図9B】第８実施形態の第６キャップが装着されたワーク
【発明を実施するための形態】
【0018】
第１実施形態のキャビテーション処理方法に用いるキャビテーション処理装置について説明する。図１に示すように、キャビテーション処理装置１００は、槽１０１と、ノズル１０２と、載置台１０３と、を有する。キャビテーション処理装置１００は、ワーク（対象物）１０に対してキャビテーション処理を行う。
【0019】
槽１０１は、処理液１０４を貯留する。処理液１０４は、例えば水である。槽１０１は、貯留した処理液１０４を循環させる装置を有していても良い。
【0020】
ノズル１０２は、高圧流体供給源（不図示）から供給される処理液１０４の噴流Ｃ１を噴射する。噴流Ｃ１は、キャビティを多く含む。ノズル１０２は、下向きに噴流Ｃ１を噴射する。噴射の方向は、下向き以外でも良い。ノズル１０２は、水平方向（前後方向および左右方向）と上下方向との３軸方向に移動できる。噴流Ｃ１の噴射速度（圧力）やノズル１０２の３軸方向の動作は、制御装置（不図示）により制御される。ノズル１０２の噴口径（内径）は、例えば、０．５ｍｍ～３ｍｍである。
【0021】
載置台１０３は、ワーク１０を載置し固定する。載置台１０３は、ワーク１０をボルト、クランプ等の締結具で固定するものや、ワーク１０を挟み込んで固定するものである。載置台１０３は、上下方向に移動できる。載置台１０３の上下動により、ワーク１０を槽１０１に対して出し入れできる。載置台１０３の上下方向の動作は、制御装置（不図示）により制御される。
【0022】
このように構成されたキャビテーション処理装置１００は、ワーク１０の任意の箇所に対して、任意の距離から、噴流Ｃ１を噴射できる。
【0023】
キャビテーション処理装置１００によって行われる、本実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。図２に示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ａは、１つの対象穴２０ａを有する。
ここで、図２は、対象穴２０ａの中心を通る断面で切断した断面図である。図の左側が上、右側が下である。図３Ａ～図９Ｂにおいて同じ。
ワーク１０ａは、対象穴２０ａの１つの入口２１を有する。入口２１は、ワーク１０ａの１つの面に開口する。対象穴２０ａは、断面円形であって、入口２１から直線状に延びる穴である。対象穴２０ａは、円筒形状の側面２２と、円形状の底面２３と、を有する。対象穴２０ａの入口２１の内径は、ノズル１０２の外径よりも小さい。よって、ノズル１０２は対象穴２０ａに挿入できない。対象穴２０ａは、入口２１から奥へ向けて、内径が変化しないものであっても良いし、内径が変化するものであっても良い。
対象穴２０ａの深さは、例えば、５０ｍｍ～１００ｍｍである。入口２１の内径は、例えば、１０ｍｍである。
ここで、図２は、対象穴２０ａの中心を通る断面で切断した断面図である。図の左側が上、右側が下である。図３Ａ～図９Ｂにおいて同じ。
ワーク１０ａは、対象穴２０ａの１つの入口２１を有する。入口２１は、ワーク１０ａの１つの面に開口する。対象穴２０ａは、断面円形であって、入口２１から直線状に延びる穴である。対象穴２０ａは、円筒形状の側面２２と、円形状の底面２３と、を有する。対象穴２０ａの入口２１の内径は、ノズル１０２の外径よりも小さい。よって、ノズル１０２は対象穴２０ａに挿入できない。対象穴２０ａは、入口２１から奥へ向けて、内径が変化しないものであっても良いし、内径が変化するものであっても良い。
対象穴２０ａの深さは、例えば、５０ｍｍ～１００ｍｍである。入口２１の内径は、例えば、１０ｍｍである。
【0024】
ワーク１０ａは、対象穴２０ａの内側の表面に、処理領域Ａ１ａを有している。処理領域Ａ１ａは、キャビテーション処理を行う領域である。すなわち、処理領域Ａ１ａは、キャビテーション処理による効果を付与したい領域である。処理領域Ａ１ａは、任意に設定される。ワーク１０ａにおいては、底面２３の近傍の側面２２が処理領域Ａ１ａとなっている（図２の一点鎖線で示す領域）。底面２３の近傍は、例えば、底面２３から１０ｍｍ程度の範囲である。
【0025】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、以下のとおりである。
最初に、槽１０１に処理液１０４を貯留する。貯留する処理液１０４の量は、ワーク１０ａを十分な深さに浸漬できる量である。十分な深さは、例えば、３００ｍｍ～５００ｍｍである。このとき、ノズル１０２及び載置台１０３は、処理液１０４の液面より上側に位置している。
次に、ワーク１０ａを載置台１０３に載置固定する。ワーク１０ａは、対象穴２０ａの入口２１が上向きとなる姿勢で固定される。
次に、載置台１０３を下方向に移動させて、槽１０１に貯留された処理液１０４にワーク１０ａ（載置台１０３）を浸漬する。
次に、ノズル１０２を水平方向に移動させて、対象穴２０ａの入口２１にノズル１０２を対向させる。
次に、ノズル１０２を下方向に移動させて、槽１０１に貯留された処理液１０４にノズル１０２を浸漬する。そして、ノズル１０２とワーク１０ａの処理領域Ａ１ａとの間の距離を、キャビテーション処理に適した距離とする。キャビテーション処理に適した距離は、例えば、ノズル１０２の噴口径の５０倍～２００倍程度の距離である。よって、ノズル１０２の噴口径が１ｍｍであれば、ノズル１０２とワーク１０ａの処理領域Ａ１ａとの間の距離は５０ｍｍ～２００ｍｍとすることが望ましい。
最後に、高圧流体供給源（不図示）を起動して、ノズル１０２から噴流Ｃ１を噴射する。噴流Ｃ１は、対象穴２０ａの入口２１から、対象穴２０ａの内部に進入し、処理領域Ａ１ａへと至る。
最初に、槽１０１に処理液１０４を貯留する。貯留する処理液１０４の量は、ワーク１０ａを十分な深さに浸漬できる量である。十分な深さは、例えば、３００ｍｍ～５００ｍｍである。このとき、ノズル１０２及び載置台１０３は、処理液１０４の液面より上側に位置している。
次に、ワーク１０ａを載置台１０３に載置固定する。ワーク１０ａは、対象穴２０ａの入口２１が上向きとなる姿勢で固定される。
次に、載置台１０３を下方向に移動させて、槽１０１に貯留された処理液１０４にワーク１０ａ（載置台１０３）を浸漬する。
次に、ノズル１０２を水平方向に移動させて、対象穴２０ａの入口２１にノズル１０２を対向させる。
次に、ノズル１０２を下方向に移動させて、槽１０１に貯留された処理液１０４にノズル１０２を浸漬する。そして、ノズル１０２とワーク１０ａの処理領域Ａ１ａとの間の距離を、キャビテーション処理に適した距離とする。キャビテーション処理に適した距離は、例えば、ノズル１０２の噴口径の５０倍～２００倍程度の距離である。よって、ノズル１０２の噴口径が１ｍｍであれば、ノズル１０２とワーク１０ａの処理領域Ａ１ａとの間の距離は５０ｍｍ～２００ｍｍとすることが望ましい。
最後に、高圧流体供給源（不図示）を起動して、ノズル１０２から噴流Ｃ１を噴射する。噴流Ｃ１は、対象穴２０ａの入口２１から、対象穴２０ａの内部に進入し、処理領域Ａ１ａへと至る。
【0026】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ａに対してキャビテーション処理が行われる。すなわち、処理領域Ａ１ａに圧縮残留応力が付加されるピーニング等の効果が得られる。対象穴２０ａにはノズル１０２が入らないが、対象穴２０ａの外側から、閉じた穴（１つの入口２１以外の開口を有さない穴）である対象穴２０ａに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ａの内側の表面の処理領域Ａ１ａにキャビテーション処理を行える。処理領域Ａ１ａは、底面２３の近傍である。
【0027】
なお、本実施形態のキャビテーション処理方法の各工程の順序は、上記の順序に限られない。例えば、載置台１０３やノズル１０２を移動させてから、槽１０１に処理液１０４を貯留しても良い。ノズル１０２は、下方向に移動させてから水平方向に移動させても良いし、水平方向と下方向とに同時に移動させても良い。
【0028】
ワーク１０ａが複数の対象穴２０ａを有する場合には、１つの対象穴２０ａに対するキャビテーション処理が終了した後、ノズル１０２を移動させて、他の対象穴２０ａに対するキャビテーション処理を行っても良い。
【0029】
第２実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0030】
図３Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｂは、１つの対象穴２０ｂを有する。ワーク１０ｂは、対象穴２０ｂの１つの入口２１と、対象穴２０ｂの１つの開口部２４と、を有する。入口２１は、ワーク１０ｂの１つの面に開口する。開口部２４は、ワーク１０ｂの他の面に開口する。すなわち、対象穴２０ｂは、ワーク１０ｂの１つの面から他の面へと貫通する穴である。対象穴２０ｂは、断面円形であって、入口２１から開口部２４へと直線状に延びる穴である。対象穴２０ｂは、円筒形状の側面２２を有する。開口部２４には、雌ねじ部２５が形成されている。対象穴２０ｂの入口２１の内径は、ノズル１０２（図３Ａ以降の図において不図示）の外径よりも小さい。よって、ノズル１０２は対象穴２０ｂに挿入できない。対象穴２０ｂは、入口２１から開口部２４へ向けて、内径が変化しないものであっても良いし、内径が変化するものであっても良い。
【0031】
ワーク１０ｂは、対象穴２０ｂの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｂを有している。非処理領域Ｂ１ｂは、キャビテーション処理を行わない領域である。すなわち、非処理領域Ｂ１ｂは、キャビテーション処理による効果を付与したくない領域である。非処理領域Ｂ１ｂは、任意に設定される。ワーク１０ｂにおいては、雌ねじ部２５が非処理領域Ｂ１ｂとなっている（図３Ａの二点鎖線で示す領域）。雌ねじ部２５にキャビテーション処理を行うと、ねじ山が変形してねじとしての性能を損なうおそれがあるため、非処理領域Ｂ１ｂとされている。
【0032】
ワーク１０ｂは、対象穴２０ｂの内側の表面に、処理領域Ａ１ｂを有している。ワーク１０ｂにおいては、側面２２のうち、雌ねじ部２５に隣接する所定の領域が処理領域Ａ１ｂとなっている（図３Ａの一点鎖線で示す領域）。所定の領域は、例えば、雌ねじ部２５から５ｍｍ～１０ｍｍ程度の範囲である。
【0033】
図３Ａ及び図３Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、事前に、ワーク１０ｂの開口部２４に、第１キャップ３０が取り付けられる。第１キャップ３０は、ボルト形状であり、雄ねじ部（閉塞体、被覆体）３１と、頭部３２と、を有する。第１キャップ３０の雄ねじ部３１をワーク１０ｂの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部３１によって開口部２４が塞がれるとともに、雄ねじ部３１によって非処理領域Ｂ１ｂ（雌ねじ部２５）が覆われる。すなわち、雄ねじ部３１は、開口部２４を塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｂを覆う被覆体２である。このように第１キャップ３０が取り付けられたワーク１０ｂに対して、キャビテーション処理を行う。
【0034】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初にワーク１０ｂに第１キャップ３０を取り付ける点を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
【0035】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｂに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第１キャップ３０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部３１）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｂが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｂの外側から、対象穴２０ｂに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｂの内側の表面の処理領域Ａ１ｂにキャビテーション処理を行える。処理領域Ａ１ｂは、閉塞体１（雄ねじ部３１）の近傍である。閉塞体１は、対象穴２０ｂの塞がれた奥部である。非処理領域Ｂ１ｂは、被覆体２（雄ねじ部３１）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｂに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0036】
第３実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0037】
図４Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｃは、１つの対象穴２０ｃを有する。ワーク１０ｃは、対象穴２０ｃの１つの入口２１と、対象穴２０ｃの２つの開口部（第１開口部２４ａ及び第２開口部２４ｂ）と、を有する。入口２１は、ワーク１０ｃの１つの面に開口する。第１開口部２４ａは、ワーク１０ｃの他の面に開口する。第２開口部２４ｂは、ワーク１０ｃの更に他の面に開口する。すなわち、対象穴２０ｃは、ワーク１０ｃの１つの面から、分岐して２つの他の面へと貫通する穴である。対象穴２０ｃは、断面円形であって、主流路２６ａと分岐流路２６ｂとを有する。主流路２６ａは、入口２１から第１開口部２４ａへと直線状に延びる。分岐流路２６ｂは、主流路２６ａの中間部から分岐して、第２開口部２４ｂへと直線状に延びる。すなわち、対象穴２０ｃは、Ｔ字状の流路を有する。対象穴２０ｃは、円筒形状の２つの側面２２の組み合わせにより形成される。第１開口部２４ａ及び第２開口部２４ｂには、雌ねじ部２５が形成されている。対象穴２０ｃの入口２１の内径は、ノズル１０２の外径よりも小さい。よって、ノズル１０２は対象穴２０ｃに挿入できない。対象穴２０ｃは、入口２１から第１開口部２４ａや第２開口部２４ｂへ向けて、内径が変化しないものであっても良いし、内径が変化するものであっても良い。
【0038】
ワーク１０ｃは、対象穴２０ｃの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｃを有している。ワーク１０ｃにおいては、２つの雌ねじ部２５が非処理領域Ｂ１ｃとなっている（図４Ａの二点鎖線で示す領域）。
【0039】
ワーク１０ｃは、対象穴２０ｃの内側の表面に、処理領域Ａ１ｃを有している。ワーク１０ｃにおいては、側面２２のうち、第１開口部２４ａに形成された雌ねじ部２５に隣接する所定の領域が処理領域Ａ１ｃとなっている（図４Ａの一点鎖線で示す領域）。処理領域Ａ１ｃは、対象穴２０ｃの主流路２６ａの深さ方向に、５ｍｍ～１０ｍｍ程度の範囲である。
【0040】
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、事前に、ワーク１０ｃの第１開口部２４ａに第１キャップ３０が取り付けられ、ワーク１０ｃの第２開口部２４ｂに第７キャップ９０が取り付けられる。第７キャップ９０は、雄ねじ部（閉塞体、被覆体）９１と、頭部９２と、支持部９４と、阻害部９５と、を有する。雄ねじ部９１及び頭部９２は、第１キャップ３０の雄ねじ部３１及び頭部３２と実質的に同じである。支持部９４は、棒状であり、雄ねじ部９１の先端から分岐流路２６ｂが延びる方向に沿って延びる。阻害部９５は、円板形状であり、支持部９４の先端に配置される。阻害部９５は、先端面９５ａと、側周面９５ｂと、を有する。阻害部９５の外径は、分岐流路２６ｂの内径よりわずかに小さい。側周面９５ｂにシール部材を設けて、阻害部９５と分岐流路２６ｂの隙間を塞いでも良い。先端面９５ａは、阻害部９５の主流路２６ａ側の端面である。先端面９５ａは、平面である。先端面９５ａから頭部９２までの高さＬ２ｃは、第２開口部２４ｂから主流路２６ａの側面２２までの距離Ｌ１ｃに実質的に等しい。先端面９５ａは、曲面であっても良い。支持部９４と阻害部９５と雄ねじ部９１とは一体で良い。支持部９４の中心軸と阻害部９５の中心軸と雄ねじ部９１の中心軸とは一致する。
図４Ｂに示すように、第７キャップ９０の雄ねじ部９１を第２開口部２４ｂの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部９１によって第２開口部２４ｂが塞がれるとともに、雄ねじ部９１によって非処理領域Ｂ１ｃ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、阻害部９５が、分岐流路２６ｂの主流路２６ａ側の端部に位置する。主流路２６ａ側から見ると、阻害部９５によって分岐流路２６ｂの入口が塞がれる。好ましくは、第７キャップ９０がワーク１０ｃに装着されたときに、先端面９５ａは、主流路２６ａの側面２２となだらかに接続する。すなわち、雄ねじ部９１は、第２開口部２４ｂを塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｃを覆う被覆体２である。このように第１キャップ３０と第７キャップ９０とが取り付けられたワーク１０ｃに対して、キャビテーション処理を行う。
図４Ｂに示すように、第７キャップ９０の雄ねじ部９１を第２開口部２４ｂの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部９１によって第２開口部２４ｂが塞がれるとともに、雄ねじ部９１によって非処理領域Ｂ１ｃ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、阻害部９５が、分岐流路２６ｂの主流路２６ａ側の端部に位置する。主流路２６ａ側から見ると、阻害部９５によって分岐流路２６ｂの入口が塞がれる。好ましくは、第７キャップ９０がワーク１０ｃに装着されたときに、先端面９５ａは、主流路２６ａの側面２２となだらかに接続する。すなわち、雄ねじ部９１は、第２開口部２４ｂを塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｃを覆う被覆体２である。このように第１キャップ３０と第７キャップ９０とが取り付けられたワーク１０ｃに対して、キャビテーション処理を行う。
【0041】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初に第１開口部２４ａに第１キャップ３０を取り付け、第２開口部２４ｂに第７キャップ９０を取り付ける点を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
【0042】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｃに対してキャビテーション処理が行われる。第１開口部２４に第１キャップ３０を取り付け、第２開口部２４ｂに第７キャップ９０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部３１，９１）が第１開口部２４ａと第２開口部２４ｂとを塞ぎ、更に阻害部９５が分岐流路２６ｂの入口を塞ぐ。そして、実質的に、対象穴２０ｃが分岐を有さない、閉じた穴となっている。つまり、対象穴２０ｃは、第２実施形態の対象穴２０ｂと、実質的に同じになる。閉じた穴である対象穴２０ｃの外側から、対象穴２０ｃに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｃの内側の表面の処理領域Ａ１ｃにキャビテーション処理を行える。処理領域Ａ１ｃは、第１キャップ３０の閉塞体１（雄ねじ部３１）の近傍である。閉塞体１は、対象穴２０ｃの塞がれた奥部である。非処理領域Ｂ１ｃは、被覆体２（雄ねじ部３１、９１）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｃに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0043】
第４実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0044】
図５Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｄは、１つの対象穴２０ｄを有する。対象穴２０ｄは、第２実施形態の対象穴２０ｂと実質的に同じである。
【0045】
ワーク１０ｄは、対象穴２０ｄの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｄ，Ｂ２ｄを有している。ワーク１０ｄにおいては、側面２２のうち、雌ねじ部２５が、非処理領域Ｂ１ｄとなり、雌ねじ部２５に隣接する所定の領域が、非処理領域Ｂ２ｄとなっている（図５Ａの二点鎖線で示す領域）。ここで、雌ねじ部２５に隣接する領域は、内径について公差が指定されている箇所である。公差が指定されている箇所にキャビテーション処理を行うと、寸法の精度が維持できないおそれがあるため、非処理領域Ｂ２ｄとされている。
【0046】
ワーク１０ｄは、対象穴２０ｄの内側の表面に、処理領域Ａ１ｄを有している。ワーク１０ｄにおいては、側面２２のうち、非処理領域Ｂ２ｄに隣接する所定の領域が処理領域Ａ１ｄとなっている（図５Ａの一点鎖線で示す領域）。所定の領域は、例えば、非処理領域Ｂ２ｄから５ｍｍ～１０ｍｍ程度の範囲である。開口部２４から処理領域Ａ１ｄの先端（入口２１側の端）までの距離を高さＬ３ｄという。以後、入口２１側の方向を先端方向という。また、対象穴２０ａ～２０ｇ（後述）について、高さというときは、開口部２４からの距離をいう。また、キャップ３０～６０や可動板７５，８５（後述）について、高さというときは、頭部からの先端までの距離（頭部自体は含めない）をいう。
【0047】
図５Ａ及び図５Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、事前に、ワーク１０ｄの開口部２４に、第２キャップ４０が取り付けられる。第２キャップ４０は、雄ねじ部（閉塞体、被覆体）４１と、頭部４２と、被覆部（被覆体）４３と、を有する。雄ねじ部４１及び頭部４２は、第１キャップ３０の雄ねじ部３１及び頭部３２と実質的に同じである。被覆部４３は、円柱形状であり、雄ねじ部４１の先端に配置される。被覆部４３と雄ねじ部４１とは一体で良い。被覆部４３の中心軸と雄ねじ部４１の中心軸とは一致する。被覆部４３の外径は、対象穴２０ｄの内径よりわずかに小さい。被覆部４３の高さＬ２ｄは、開口部２４からの非処理領域Ｂ２ｄの高さＬ１ｄに実質的に等しい。被覆部４３の側周面にシール部材を設けて、被覆部４３と対象穴２０ｄとの間の隙間を塞いでも良い。第２キャップ４０の雄ねじ部４１をワーク１０ｄの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部４１によって開口部２４が塞がれるとともに、雄ねじ部４１によって非処理領域Ｂ１ｄ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、被覆部４３の側周面は、非処理領域Ｂ２ｄとわずかな隙間を隔てて対向する。つまり、被覆部４３が、非処理領域Ｂ２ｄ（雌ねじ部２５に隣接する領域）を実質的に覆う。すなわち、雄ねじ部４１は、開口部２４を塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｄを覆う被覆体２である。被覆部４３は、非処理領域Ｂ２ｄを覆う被覆体２である。なお、被覆部４３と非処理領域Ｂ２ｄとが当接しても良い。このように第２キャップ４０が取り付けられたワーク１０ｄに対して、キャビテーション処理を行う。
【0048】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初にワーク１０ｄに第２キャップ４０を取り付ける点を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
【0049】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｄに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第２キャップ４０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部４１）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｄが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｄの外側から、対象穴２０ｄに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｄの内側の表面の処理領域Ａ１ｄにキャビテーション処理を行える。処理領域Ａ１ｄは、被覆体２（被覆部４３）の近傍である。被覆体２は、対象穴２０ｄの塞がれた奥部である。非処理領域Ｂ１ｄ，Ｂ２ｄは、被覆体２（雄ねじ部４１及び被覆部４３）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｄ，Ｂ２ｄに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0050】
なお、第２実施形態のワーク１０ｂに、第２実施形態のキャビテーション処理を実施した後に、第１キャップ３０に換えて本実施形態の第２キャップ４０を取り付けて、本実施形態のキャビテーション処理を実施しても良い。例えば、被覆部４３の高さＬ２ｄを、第２実施形態の処理領域Ａ１ｂの高さＬ３ｂに一致させれば、連続した長い領域について、キャビテーション処理を実施できる。第３実施形態のワーク１０ｃについても実質的に同じである。
【0051】
第５実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0052】
図６Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｅは、１つの対象穴２０ｅを有する。対象穴２０ｅは、次の点を除いて、第２実施形態の対象穴２０ｂと実質的に同じである。対象穴２０ｅの入口２１には、雌ねじ部２５が形成されている。
【0053】
ワーク１０ｅは、対象穴２０ｅの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｅ，Ｂ２ｅを有している。ワーク１０ｅにおいては、側面２２のうち、両方の雌ねじ部２５が、非処理領域Ｂ１ｅとなり、両方の雌ねじ部２５にそれぞれ隣接する所定の領域が、非処理領域Ｂ２ｅとなっている（図６Ａの二点鎖線で示す領域）。ここで、雌ねじ部２５に隣接する領域は、内径について公差が指定されている箇所である。
【0054】
ワーク１０ｅは、対象穴２０ｅの内側の表面に、処理領域Ａ１ｅを有している。ワーク１０ｅにおいては、側面２２のうち、開口部２４の側の非処理領域Ｂ２ｅに隣接する所定の領域が処理領域Ａ１ｅとなっている（図６Ａの一点鎖線で示す領域）。ここで、処理領域Ａ１ｅの対象穴２０ｅの深さ方向の幅は、５ｍｍ～２０ｍｍである。
【0055】
図６Ａ及び図６Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、事前に、ワーク１０ｅの開口部２４に、第２キャップ４０が取り付けられる。ワーク１０ｅの入口に、第３キャップ５０が取り付けられる。第３キャップ５０は、雄ねじ部（被覆体）５１と、頭部５２と、被覆部（被覆体）５３と、を有する。雄ねじ部５１、頭部５２及び被覆部５３は、第２キャップ４０の雄ねじ部４１、頭部４２及び被覆部４３と実質的に同じである。そして、第３キャップ５０には通過穴５８が形成されている。通過穴５８は、頭部５２から被覆部５３へと貫通する穴である。通過穴５８は、断面円形であって直線状に延びる穴である。通過穴５８の中心軸と雄ねじ部５１、頭部５２及び被覆部５３の中心軸とは一致する。通過穴５８の内径は、例えば、５ｍｍ～２０ｍｍである。好ましくは、通過穴５８の内径は、被覆部５３の外径よりも、３ｍｍ～１０ｍｍ小さい。第３キャップ５０の雄ねじ部５１をワーク１０ｅの入口２１の雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部５１によって非処理領域Ｂ１ｅ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、被覆部５３の側周面は、非処理領域Ｂ２ｅとわずかな隙間を隔てて対向する。つまり、被覆部５３が、非処理領域Ｂ２ｅ（雌ねじ部２５に隣接する領域）を実質的に覆う。すなわち、雄ねじ部５１は、非処理領域Ｂ１ｅを覆う被覆体２である。被覆部５３は、非処理領域Ｂ２ｅを覆う被覆体２である。なお、被覆部５３と非処理領域Ｂ２ｅとが当接しても良い。通過穴５８があるので、第３キャップ５０は入口２１を塞がない。このように第２キャップ４０と第３キャップ５０とが取り付けられたワーク１０ｅに対して、キャビテーション処理を行う。
【0056】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初にワーク１０ｅに第２キャップ４０及び第３キャップ５０を取り付ける点を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。ただし、ノズル１０２から噴射された噴流Ｃ１は、第３キャップ５０の通過穴５８を通過して、対象穴２０ｅの内部に進入し、処理領域Ａ１ｅへと至る。
【0057】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｅに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第２キャップ４０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部４１）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｅが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｅの外側から、対象穴２０ｅに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｅの内側の表面の処理領域Ａ１ｅにキャビテーション処理を行える。処理領域Ａ１ｅは、第２キャップ４０の被覆体２（被覆部４３）の近傍である。被覆体２は、対象穴２０ｅの塞がれた奥部である。非処理領域Ｂ１ｅ，Ｂ２ｅは、被覆体２（雄ねじ部４１，５１及び被覆部４３，５３）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｅ，Ｂ２ｅに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0058】
第６実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0059】
図７Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｆは、１つの対象穴２０ｆを有する。対象穴２０ｆは、第２実施形態の対象穴２０ｂと実質的に同じである。
【0060】
ワーク１０ｆは、対象穴２０ｆの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｆ，Ｂ２ｆを有している。ワーク１０ｆにおいては、側面２２のうち、雌ねじ部２５が、非処理領域Ｂ１ｆとなり、雌ねじ部２５に隣接する所定の領域が、非処理領域Ｂ２ｆとなっている（図７Ａの二点鎖線で示す領域）。ここで、雌ねじ部２５に隣接する領域は、内径について公差が指定されている箇所である。
【0061】
ワーク１０ｆは、対象穴２０ｆの内側の表面に、処理領域Ａ１ｆを有している。ワーク１０ｆにおいては、側面２２のうち、非処理領域Ｂ２ｆから入口２１側に離隔した位置の所定の領域が処理領域Ａ１ｆとなっている（図７Ａの一点鎖線で示す領域）。処理領域Ａ１ｆの基端までの高さＬ１ｆは、例えば、５０ｍｍ～７０ｍｍである。処理領域Ａ１ｆの幅は、例えば、１０ｍｍ程度である。
【0062】
図７Ａ及び図７Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、事前に、ワーク１０ｆの開口部２４に、第４キャップ６０が取り付けられる。第４キャップ６０は、雄ねじ部（閉塞体、被覆体）６１と、頭部６２と、被覆部（被覆体）６３と、支持部６４と、阻害部（阻害体）６５と、を有する。雄ねじ部６１、頭部６２及び被覆部６３は、第２キャップ４０の雄ねじ部４１、頭部４２及び被覆部４３と実質的に同じである。支持部６４及び阻害部６５は、第７キャップ９０の支持部９４及び阻害部９５と実質的に同じである。ただし、阻害部６５の高さＬ２ｆは、高さＬ１ｆと実質的に同じである。支持部６４は、被覆部６３の先端から対象穴２０ｆが延びる方向に沿って延びる。第４キャップ６０の雄ねじ部６１をワーク１０ｆの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部６１によって開口部２４が塞がれるとともに、雄ねじ部６１によって非処理領域Ｂ１ｆ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、被覆部６３の側周面は、非処理領域Ｂ２ｆとわずかな隙間を隔てて対向する。つまり、被覆部６３が、非処理領域Ｂ２ｆ（雌ねじ部２５に隣接する領域）を実質的に覆う。更に、阻害部６５が、処理領域Ａ１ｆに対して入口２１の反対側に隣接して位置する。すなわち、雄ねじ部６１は、開口部２４を塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｆを覆う被覆体２である。被覆部６３は、非処理領域Ｂ２ｆを覆う被覆体２である。阻害部６５は、噴流Ｃ１の流れを妨げる阻害体３である。なお、被覆部６３と非処理領域Ｂ２ｆとが当接しても良い。被覆部６３を省いて、雄ねじ部６１の先端に支持部６４を配置しても良い。被覆部６３が無くても、阻害部６５により、噴流Ｃ１が非処理領域Ｂ２ｆに接触しない。この場合、阻害部６５が被覆体２となる。このように第４キャップ６０が取り付けられたワーク１０ｆに対して、キャビテーション処理を行う。
【0063】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初にワーク１０ｆに第４キャップ６０を取り付ける点を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
【0064】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｆに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第４キャップ６０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部６１）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｆが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｆの外側から、対象穴２０ｆに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｆの内側の表面の処理領域Ａ１ｆにキャビテーション処理を行える。噴流Ｃ１の流れが阻害体３（阻害部６５）によって妨げられるので、阻害体３の入口２１側の処理領域Ａ１ｆに対してキャビテーション処理が行われる。処理領域Ａ１ｆは、阻害体３の近傍である。阻害体３は、対象穴２０ｆの塞がれた奥部である。非処理領域Ｂ１ｆ，Ｂ２ｆは、被覆体２（雄ねじ部６１及び被覆部６３）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｆ，Ｂ２ｆに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0065】
なお、第４実施形態のワーク１０ｄに、第４実施形態のキャビテーション処理を実施した後に、第２キャップ４０に換えて本実施形態の第４キャップ６０を取り付けて、本実施形態のキャビテーション処理を実施しても良い。例えば、第４キャップ６０の阻害部６５の高さＬ２ｆを、処理領域Ａ１ｄの高さＬ３ｄに一致させれば、連続した長い範囲にキャビテーション処理を実施できる。ワーク１０ｃや、ワーク１０ｅについても実質的に同じである。
また、第２実施形態のワーク１０ｂに、第２実施形態のキャビテーション処理を実施した後に、第１キャップ３０に換えて、本実施形態の第４キャップ６０を取り付けて、本実施形態のキャビテーション処理を行っても良い。例えば、第４キャップ６０の阻害部６５の高さＬ２ｆを、処理領域Ａ１ｂの高さＬ３ｂよりも高くすれば、離隔した２つの範囲にキャビテーション処理を実施できる。
また、第２実施形態のワーク１０ｂに、第２実施形態のキャビテーション処理を実施した後に、第１キャップ３０に換えて、本実施形態の第４キャップ６０を取り付けて、本実施形態のキャビテーション処理を行っても良い。例えば、第４キャップ６０の阻害部６５の高さＬ２ｆを、処理領域Ａ１ｂの高さＬ３ｂよりも高くすれば、離隔した２つの範囲にキャビテーション処理を実施できる。
【0066】
第７実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0067】
図８Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｇは、１つの対象穴２０ｇを有する。ワーク１０ｇは、対象穴２０ｇの１つの入口２１と、対象穴２０ｇの１つの開口部２４と、を有する。入口２１は、ワーク１０ｇの１つの面に開口する。開口部２４は、ワーク１０ｇの他の面に開口する。すなわち、対象穴２０ｇは、ワーク１０ｇの１つの面から他の面へと貫通する穴である。対象穴２０ｇは、断面円形であって、入口２１から開口部２４へと直線状に延びる穴である。対象穴２０ｇは、円筒形状の側面２２を有する。対象穴２０ｇの入口２１の内径は、ノズル１０２の外径よりも小さい。よって、ノズル１０２は対象穴２０ｇに挿入できない。
【0068】
ワーク１０ｇは、対象穴２０ｇの内側の表面に、処理領域Ａ１ｇを有している。ワーク１０ｇにおいては、側面２２の全面が処理領域Ａ１ｇとなっている（図８Ａの一点鎖線で示す領域）。
【0069】
図８Ａ及び図８Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、ワーク１０ｇの開口部２４に、第５キャップ７０が取り付けられる。第５キャップ７０は、可動板７５と、駆動装置７６と、を有する。可動板（閉塞体、阻害体）７５は、円板形状である。可動板７５は、先端面７５ａと、側周面７５ｂと、を有する。可動板７５の外径は、対象穴２０ｇの内径よりわずかに小さい。可動板７５の側周面７５ｂにシール部材を設けて、可動板７５と対象穴２０ｇとの間の隙間を塞いでも良い。駆動装置７６は、可動板７５を、噴流Ｃ１の流れ方向（対象穴２０ｇの中心軸方向）に沿って移動させる。駆動装置７６は、流体シリンダ装置である。流体シリンダは、例えば、エアシリンダや水圧シリンダである。駆動装置７６は、シリンダ本体７７と、ロッド７４を有する。シリンダ本体７７は、円筒形状である。ロッド７４は、棒状であり、シリンダ本体７７に対して進退する。ロッド７４の先端が可動板７５に接続されている。駆動装置７６の動作は、制御装置（不図示）により制御される。駆動装置７６は、第５キャップ７０の可動板７５をワーク１０ｇの開口部２４に位置させ、対象穴２０ｇに挿入する。すると、可動板７５によって開口部２４が塞がれる。可動板７５の側周面７５ｂと対象穴２０ｇの側面２２との間にはわずかな隙間があるが、そのような状態も、塞がれた状態に含む。つまり、対象穴２０ｇは、可動板７５によって実質的に塞がれている。更に、可動板７５が、処理領域Ａ１ｇに対して入口２１の反対側に隣接して位置している。すなわち、可動板７５は、開口部２４を塞ぐ閉塞体１であり、且つ、噴流Ｃ１の流れを妨げる阻害体３である。このように第５キャップ７０が取り付けられたワーク１０ｇに対して、キャビテーション処理を行う。
【0070】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、最初にワーク１０ｇに第５キャップ７０を取り付ける点と、駆動装置７６によって可動板７５を移動させる点と、を除いて、第１実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
まず、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４側の端部に位置させる。次いで、ノズル１０２は、噴流Ｃ１を噴射する。このとき、噴流Ｃ１の流れが阻害体３（可動板７５）によって妨げられる。そして、阻害体３の入口２１側の近傍の領域Ａ１１に対してキャビテーション処理が行われる。領域Ａ１１は、阻害体３の近傍である。領域Ａ１１の高さをＬ３１とする。次いで、駆動装置７６は、先端面７５ａが高さＬ３１に位置するように、可動板７５を移動させる。すると、領域Ａ１１に隣接する領域Ａ１２に対して、キャビテーション処理が行われる。このように、駆動装置７６は、可動板７５の先端面７５ａを、キャビテーション処理された領域Ａ１ｍの高さＬ３ｍに順次移動させることで、連続した領域Ａ１１～Ａ１ｎにキャビテーション処理を実行できる（ｍ、ｎは自然数、ｎ＝ｍ＋１）。最終的には、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４側の端部から、入口２１側の端部の近傍まで移動させる。
阻害体３は、対象穴２０ｇの塞がれた奥部である。そして、キャビテーション処理を行いながら阻害体３が移動するので、キャビテーション処理が行われる領域も移動する。阻害体３が開口部２４から入口２１まで移動することで、対象穴２０ｇの側面２２の全面に対してキャビテーション処理が行われる。結果として、対象穴２０ｇの側面２２の全面が処理領域Ａ１ｇとなる。
なお、対象穴２０ｇの一部に、キャビテーション処理を禁止するまでもないが、キャビテーション処理が不要である領域がある場合には、キャビテーション処理を行うときに、駆動装置７２は、キャビテーション不要部分を飛ばして、可動板７５を移動させれば良い。
また、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４から入口２１の近傍まで、連続して移動させても良い。
まず、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４側の端部に位置させる。次いで、ノズル１０２は、噴流Ｃ１を噴射する。このとき、噴流Ｃ１の流れが阻害体３（可動板７５）によって妨げられる。そして、阻害体３の入口２１側の近傍の領域Ａ１１に対してキャビテーション処理が行われる。領域Ａ１１は、阻害体３の近傍である。領域Ａ１１の高さをＬ３１とする。次いで、駆動装置７６は、先端面７５ａが高さＬ３１に位置するように、可動板７５を移動させる。すると、領域Ａ１１に隣接する領域Ａ１２に対して、キャビテーション処理が行われる。このように、駆動装置７６は、可動板７５の先端面７５ａを、キャビテーション処理された領域Ａ１ｍの高さＬ３ｍに順次移動させることで、連続した領域Ａ１１～Ａ１ｎにキャビテーション処理を実行できる（ｍ、ｎは自然数、ｎ＝ｍ＋１）。最終的には、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４側の端部から、入口２１側の端部の近傍まで移動させる。
阻害体３は、対象穴２０ｇの塞がれた奥部である。そして、キャビテーション処理を行いながら阻害体３が移動するので、キャビテーション処理が行われる領域も移動する。阻害体３が開口部２４から入口２１まで移動することで、対象穴２０ｇの側面２２の全面に対してキャビテーション処理が行われる。結果として、対象穴２０ｇの側面２２の全面が処理領域Ａ１ｇとなる。
なお、対象穴２０ｇの一部に、キャビテーション処理を禁止するまでもないが、キャビテーション処理が不要である領域がある場合には、キャビテーション処理を行うときに、駆動装置７２は、キャビテーション不要部分を飛ばして、可動板７５を移動させれば良い。
また、駆動装置７６は、可動板７５を、開口部２４から入口２１の近傍まで、連続して移動させても良い。
【0071】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｇに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第５キャップ７０を取り付けることで、閉塞体１（可動板７５）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｇが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｇの外側から、対象穴２０ｇに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｇの内側の表面の処理領域Ａ１ｇにキャビテーション処理を行える。
【0072】
なお、キャビテーション処理において、ノズル１０２と処理領域Ａ１ｇとの間のノズルオフセット距離（ノズル１０２から阻害体３までの距離）には適正な距離がある。阻害体３の移動量が大きいと、適正な距離の範囲を外れる場合がある。その場合、ノズル１０２も移動させて、ノズルオフセット距離が適正な距離となるようにしても良い。
【0073】
第８実施形態のキャビテーション処理方法について説明する。本実施形態においても、第１実施形態と実質的に同じキャビテーション処理装置１００が用いられる。
【0074】
図９Ａに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法において、ワーク１０ｈは、１つの対象穴２０ｈを有する。対象穴２０ｈは、第２実施形態の対象穴２０ｂと実質的に同じである。
【0075】
ワーク１０ｈは、対象穴２０ｈの内側の表面に、非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈを有している。ワーク１０ｈにおいては、側面２２のうち、雌ねじ部２５が、非処理領域Ｂ１ｈとなり、雌ねじ部２５に隣接する所定の領域が、非処理領域Ｂ２ｈとなっている（図９Ａの二点鎖線で示す領域）。ここで、雌ねじ部２５に隣接する領域は、内径について公差が指定されている箇所である。
【0076】
ワーク１０ｈは、対象穴２０ｈの内側の表面に、処理領域Ａ１ｈを有している。ワーク１０ｈにおいては、側面２２のうち、非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈ以外の全面が処理領域Ａ１ｈとなっている（図９Ａの一点鎖線で示す領域）。
【0077】
図９Ｂに示すように、本実施形態のキャビテーション処理方法においては、ワーク１０ｈの開口部２４に、第６キャップ８０が取り付けられる。第６キャップ８０は、雄ねじ部（閉塞体、被覆体）８１と、頭部８２と、被覆部（被覆体）８３と、可動板（阻害体）８５と、駆動装置８６と、を有する。更に、第６キャップ８０には通過穴８８が形成されている。雄ねじ部８１、頭部８２、被覆部８３及び通過穴８８は、第３キャップ５０の雄ねじ部５１、頭部５２、被覆部５３及び通過穴５８と実質的に同じである。可動板８５及び駆動装置８６は、第５キャップ５０の可動板７５及び駆動装置７６と実質的に同じである。すなわち、駆動装置８６は、シリンダ本体８７と、ロッド８４と、を有する。そして、ロッド８４が通過穴８８を貫通している。ロッド８４の外径は、通過穴８８の内径よりわずかに小さい。可動板８５は、被覆部８３側に位置しており、シリンダ本体８７は、頭部８２側に位置している。可動板８５の厚みと、被覆部８３の幅と、雄ねじ部８１の幅との和Ｌ２ｈが、非処理領域Ｂ２ｈの高さＬ１ｈと実質的に同じである。ここで、非処理領域Ｂ２ｈの高さＬ１ｈとは、非処理領域Ｂ２ｈの入口２１側の端部から、開口部２４までの長さである（図９Ａ参照）。駆動装置８６により、雄ねじ部８１、頭部８２及び被覆部８３が固定された状態で、可動板８５だけを移動させられる。第６キャップ８０の雄ねじ部８１をワーク１０ｈの雌ねじ部２５にねじ込むと、雄ねじ部８１によって開口部２４が塞がれるとともに、雄ねじ部８１によって非処理領域Ｂ１ｈ（雌ねじ部２５）が覆われる。更に、被覆部８３の側周面は、非処理領域Ｂ２ｈとわずかな隙間を隔てて対向する。つまり、被覆部８３が、非処理領域Ｂ２ｈ（雌ねじ部２５に隣接する領域）を実質的に覆う。更に、可動板８５が、処理領域Ａ１ｈに対して入口２１の反対側に隣接して位置する。すなわち、雄ねじ部８１は、開口部２４を塞ぐ閉塞体１であり、且つ、非処理領域Ｂ１ｈを覆う被覆体２である。被覆部８３は、非処理領域Ｂ２ｈを覆う被覆体２である。可動板８５は、噴流Ｃ１の流れを妨げる阻害体３である。なお、被覆部８３と非処理領域Ｂ２ｈとが当接しても良い。被覆部８３を省いても良い。被覆部８３が無くても、可動板８５により、噴流Ｃ１が非処理領域Ｂ２ｈに接触しない。この場合、可動板８５が被覆体２となる。このように第６キャップ８０が取り付けられたワーク１０ｈに対して、キャビテーション処理を行う。
【0078】
本実施形態のキャビテーション処理方法の工程は、第７実施形態のキャビテーション処理方法の工程と実質的に同じである。
【0079】
噴流Ｃ１により、処理領域Ａ１ｈに対してキャビテーション処理が行われる。開口部２４に第６キャップ８０を取り付けることで、閉塞体１（雄ねじ部８１）が開口部２４を塞ぎ、対象穴２０ｈが閉じた穴となっている。閉じた穴である対象穴２０ｈの外側から、対象穴２０ｈに対して噴流Ｃ１を噴射することで、対象穴２０ｈの内側の表面の処理領域Ａ１ｈにキャビテーション処理を行える。噴流Ｃ１の流れが阻害体３（可動板８５）によって妨げられるので、阻害体３の入口２１側の処理領域Ａ１ｈに対してキャビテーション処理が行われる。処理領域Ａ１ｈは、阻害体３の近傍である。阻害体３は、対象穴２０ｈの塞がれた奥部である。そして、キャビテーション処理を行いながら阻害体３が移動するので、キャビテーション処理が行われる領域も移動する。阻害体３が、処理領域Ａ１ｈに対して入口２１の反対側に隣接する位置から、入口２１まで移動することで、対象穴２０ｈの側面２２の非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈ以外の全面に対してキャビテーション処理が行われる。結果として、対象穴２０ｈの側面２２の非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈ以外の全面が処理領域Ａ１ｈとなる。非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈは、被覆体２（雄ねじ部８１及び被覆部８３）により覆われているので、噴流Ｃ１が接触しない。そのため、非処理領域Ｂ１ｈ，Ｂ２ｈに対しては、キャビテーション処理が行われない。
【0080】
なお、対象穴２０ｈの入口２１付近に、雌ねじ部や、非処理領域がある場合には、入口２１に第３キャップ５０を取り付けた状態で、キャビテーション処理を行う。
【0081】
本発明は前述した実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であり、特許請求の範囲に記載された技術思想に含まれる技術的事項の全てが本発明の対象となる。前記実施形態は、好適な例を示したものであるが、当業者ならば、本明細書に開示の内容から、各種の代替例、修正例、変形例あるいは改良例を実現することができ、これらは添付の特許請求の範囲に記載された技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0082】
１ 閉塞体
２ 被覆体
３ 阻害体
１０，１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１０ｆ，１０ｇ，１０ｈ ワーク（対象物）
２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅ，２０ｆ，２０ｇ，２０ｈ 対象穴
２１ 入口
２４ 開口部
５８ 通過穴
１０２ ノズル
Ａ１ａ，Ａ１ｂ，Ａ１ｃ，Ａ１ｄ，Ａ１ｅ，Ａ１ｆ，Ａ１ｇ，Ａ１ｈ 処理領域
Ｂ１ｂ，Ｂ１ｃ，Ｂ１ｄ，Ｂ１ｅ，Ｂ１ｆ，Ｂ１ｈ，Ｂ２ｄ，Ｂ２ｅ，Ｂ２ｆ，Ｂ２ｈ 非処理領域
Ｃ１ 噴流
２ 被覆体
３ 阻害体
１０，１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１０ｆ，１０ｇ，１０ｈ ワーク（対象物）
２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅ，２０ｆ，２０ｇ，２０ｈ 対象穴
２１ 入口
２４ 開口部
５８ 通過穴
１０２ ノズル
Ａ１ａ，Ａ１ｂ，Ａ１ｃ，Ａ１ｄ，Ａ１ｅ，Ａ１ｆ，Ａ１ｇ，Ａ１ｈ 処理領域
Ｂ１ｂ，Ｂ１ｃ，Ｂ１ｄ，Ｂ１ｅ，Ｂ１ｆ，Ｂ１ｈ，Ｂ２ｄ，Ｂ２ｅ，Ｂ２ｆ，Ｂ２ｈ 非処理領域
Ｃ１ 噴流
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】
【図5A】
【図5B】
【図6A】
【図6B】
【図7A】
【図7B】
【図8A】
【図8B】
【図9A】
【図9B】
【手続補正書】
【提出日】2023-11-17
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法。
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となる、
キャビテーション処理方法。
【請求項2】
前記ノズルの外径が、前記対象穴の前記入口の内径よりも大きい、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項3】
前記入口が前記対象穴の唯一の開口である、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項4】
前記対象物が、前記入口以外に前記対象穴の開口部を有しており、
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項5】
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆う、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆う、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項6】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側に位置する前記非処理領域を覆う前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
前記噴流が前記通過穴を通過する、
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項7】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の下流側の位置に配置されるように、前記噴流の流れを妨げる阻害体を前記対象物に装着する、
請求項１～６のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
請求項１～６のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
【請求項8】
前記噴流の流れ方向に沿って前記阻害体を移動させる、
請求項７に記載のキャビテーション処理方法。
請求項７に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項9】
前記対象物が、前記入口に配置される第１の雌ねじ部を有しており、前記第１の雌ねじ部は前記非処理領域の少なくとも一部であり、
前記被覆体が第１の雄ねじ部を有しており、前記第１の雄ねじ部を前記第１の雌ねじ部にねじ込み、前記被覆体を前記対象物に装着する、
請求項５又は６に記載のキャビテーション処理方法。
前記被覆体が第１の雄ねじ部を有しており、前記第１の雄ねじ部を前記第１の雌ねじ部にねじ込み、前記被覆体を前記対象物に装着する、
請求項５又は６に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項10】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の下流側の位置に配置されるように、前記噴流の流れを妨げる阻害体を前記対象物に装着する、キャビテーション処理方法であって、
前記対象物が、前記開口部に配置される第２の雌ねじ部を有しており、前記第２の雌ねじ部は前記非処理領域の少なくとも一部であり、
前記阻害体が第２の雄ねじ部を有しており、前記第２の雄ねじ部を前記第２の雌ねじ部にねじ込み、前記阻害体を前記対象物に装着する、
請求項４に記載のキャビテーション処理方法。
前記対象物が、前記開口部に配置される第２の雌ねじ部を有しており、前記第２の雌ねじ部は前記非処理領域の少なくとも一部であり、
前記阻害体が第２の雄ねじ部を有しており、前記第２の雄ねじ部を前記第２の雌ねじ部にねじ込み、前記阻害体を前記対象物に装着する、
請求項４に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項11】
入口と、前記入口に配置される第１の雌ねじ部と、前記入口に近接して配置される第１の非処理領域と、を有する対象穴を含む対象物に対してキャビテーション処理を行うときに、前記入口に装着される入口用キャップであって、
第１の頭部と、
前記第１の頭部に配置され、前記第１の雌ねじ部にねじ込まれる第１の雄ねじ部と、
前記第１の雄ねじ部に配置され、前記第１の非処理領域を覆う第１の被覆部と、
前記第１の頭部と、前記第１の雄ねじ部と、前記第１の被覆部とを貫通する通過穴と、
を含む入口用キャップ。
第１の頭部と、
前記第１の頭部に配置され、前記第１の雌ねじ部にねじ込まれる第１の雄ねじ部と、
前記第１の雄ねじ部に配置され、前記第１の非処理領域を覆う第１の被覆部と、
前記第１の頭部と、前記第１の雄ねじ部と、前記第１の被覆部とを貫通する通過穴と、
を含む入口用キャップ。
【請求項12】
入口と、開口部とを接続する対象穴であって、前記開口部に配置される第２の雌ねじ部と、前記開口部に近接して配置される第２の非処理領域と、を有する対象穴を含む対象物に対してキャビテーション処理を行うときに、前記開口部に装着される開口部用キャップであって、
第２の頭部と、
前記第２の頭部に配置され、前記第２の雌ねじ部にねじ込まれる第２の雄ねじ部と、
前記第２の雄ねじ部に配置され、前記第２の非処理領域を覆う第２の被覆部 と、
を含む開口部用キャップ。
第２の頭部と、
前記第２の頭部に配置され、前記第２の雌ねじ部にねじ込まれる第２の雄ねじ部と、
前記第２の雄ねじ部に配置され、前記第２の非処理領域を覆う第２の被覆部 と、
を含む開口部用キャップ。
【請求項13】
入口と、開口部とを接続する対象穴であって、前記開口部に配置される第３の雌ねじ部と、前記開口部と離隔して配置される処理領域と、を有する対象穴を含む対象物に対してキャビテーション処理を行うときに、前記開口部に装着される開口部用キャップであって、
第３の頭部と、
前記第３の頭部に配置され、前記第３の雌ねじ部にねじ込まれる第３の雄ねじ部と、
前記第３の雄ねじ部から離隔して配置され、前記処理領域の下流側に位置する阻害部と、前記第３の雄ねじ部と前記阻害部とを接続する支持部と、
を含む開口部用キャップ。
第３の頭部と、
前記第３の頭部に配置され、前記第３の雌ねじ部にねじ込まれる第３の雄ねじ部と、
前記第３の雄ねじ部から離隔して配置され、前記処理領域の下流側に位置する阻害部と、前記第３の雄ねじ部と前記阻害部とを接続する支持部と、
を含む開口部用キャップ。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0003】
キャビテーション処理の対象となる対象物の形状や大きさは様々である。適切なキャビテーション処理を行うためには、対象物の条件に応じた適切な方法で、対象物の表面に噴流を衝突させる必要がある。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法並びにこのキャビテーション処理方法に用いられる入口用キャップ及び開口部用キャップを提供することを目的とする。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法並びにこのキャビテーション処理方法に用いられる入口用キャップ及び開口部用キャップを提供することを目的とする。
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図5B】
【手続補正書】
【提出日】2024-01-19
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となり、
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面であって前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側の位置に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆い、
前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
キャビテーション処理方法。
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となり、
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面であって前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側の位置に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆い、
前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
キャビテーション処理方法。
【請求項2】
前記ノズルの外径が、前記対象穴の前記入口の内径よりも大きい、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項3】
前記入口が前記対象穴の唯一の開口である、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項4】
前記対象物が、前記入口以外に前記対象穴の開口部を有しており、
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
前記開口部を閉塞体によって塞ぐ、
請求項１に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項5】
前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の下流側の位置に配置されるように、前記噴流の流れを妨げる阻害体を前記対象物に装着する、
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
【請求項6】
前記噴流の流れ方向に沿って前記阻害体を移動させる、
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
請求項５に記載のキャビテーション処理方法。
【請求項7】
前記対象物が、前記入口に配置される第１の雌ねじ部を有しており、前記第１の雌ねじ部は前記非処理領域の少なくとも一部であり、
前記被覆体が第１の雄ねじ部を有しており、前記第１の雄ねじ部を前記第１の雌ねじ部にねじ込み、前記被覆体を前記対象物に装着する、
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
前記被覆体が第１の雄ねじ部を有しており、前記第１の雄ねじ部を前記第１の雌ねじ部にねじ込み、前記被覆体を前記対象物に装着する、
請求項１～４のいずれかに記載のキャビテーション処理方法。
【請求項8】
１つの入口以外の部分が塞がれた対象穴を含む対象物であって、前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域であるキャビテーション処理を行う第１の処理領域と、前記入口に配置される第１の雌ねじ部と、前記入口に近接し前記第１の処理領域に対して前記入口側の位置に配置されるキャビテーション処理を行わない領域である第１の非処理領域と、を有する前記対象物に対してキャビテーション処理を行うキャビテーション処理装置であって、
前記入口に装着される入口用キャップであって、
第１の頭部と、
前記第１の頭部に配置され、前記第１の雌ねじ部にねじ込まれる第１の雄ねじ部と、
前記第１の雄ねじ部に配置され、前記第１の非処理領域を覆う第１の被覆部と、
前記第１の頭部と、前記第１の雄ねじ部と、前記第１の被覆部とを貫通する通過穴と、
を含む前記入口用キャップと、
前記対象穴の外側に位置し、前記通過穴を通して、前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように処理液の噴流を噴射するノズルと、
前記処理液が貯留され、前記ノズルと前記入口用キャップが装着された前記対象物が浸漬される槽と、
を備えるキャビテーション処理装置。
前記入口に装着される入口用キャップであって、
第１の頭部と、
前記第１の頭部に配置され、前記第１の雌ねじ部にねじ込まれる第１の雄ねじ部と、
前記第１の雄ねじ部に配置され、前記第１の非処理領域を覆う第１の被覆部と、
前記第１の頭部と、前記第１の雄ねじ部と、前記第１の被覆部とを貫通する通過穴と、
を含む前記入口用キャップと、
前記対象穴の外側に位置し、前記通過穴を通して、前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように処理液の噴流を噴射するノズルと、
前記処理液が貯留され、前記ノズルと前記入口用キャップが装着された前記対象物が浸漬される槽と、
を備えるキャビテーション処理装置。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0003】
キャビテーション処理の対象となる対象物の形状や大きさは様々である。適切なキャビテーション処理を行うためには、対象物の条件に応じた適切な方法で、対象物の表面に噴流を衝突させる必要がある。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法及びこのキャビテーション処理方法に用いられるキャビテーション処理装置を提供することを目的とする。
本発明は、対象物の対象穴の内側の表面にキャビテーション処理を行うキャビテーション処理方法及びこのキャビテーション処理方法に用いられるキャビテーション処理装置を提供することを目的とする。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0004】
代表的な本発明は、
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となり、
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面であって前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側の位置に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆い、
前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
キャビテーション処理方法である。
対象物が、対象穴を有しており、
前記対象穴の１つの入口以外の部分が塞がれており、
前記対象物及びノズルを処理液中に浸漬し、
前記対象穴の外側に位置する前記ノズルから前記対象穴の前記入口を通して前記対象穴の内側へ向けてキャビテーションが発生するように前記処理液の噴流を噴射し、
前記対象穴の内側の表面の領域であって前記対象穴の塞がれた奥部の領域が、キャビテーション処理を行う処理領域となり、
前記対象物が、前記対象穴の内側の表面であって前記処理領域に対して前記噴流の流れ方向の上流側の位置に、キャビテーション処理を行わない領域である非処理領域を有しており、
被覆体が、前記対象穴の内側に配置されるように前記対象物に装着されて、前記非処理領域を覆い、
前記被覆体が、この前記被覆体を貫通する通過穴を有しており、
前記噴流が前記通過穴を通過する、
キャビテーション処理方法である。