特開 2024-1598 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024001598

(43)【公開日】2024-01-10

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20231227BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20231227BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 N

H01L21/304 643A

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022100353

(22)【出願日】2022-06-22

(71)【出願人】

【識別番号】000002428

【氏名又は名称】芝浦メカトロニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001771

【氏名又は名称】弁理士法人虎ノ門知的財産事務所

(72)【発明者】

【氏名】濱田 崇広

(72)【発明者】

【氏名】山崎 修

【テーマコード（参考）】

5F131

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131AA03

5F131AA32

5F131BA12

5F131BA14

5F131BA37

5F131CA12

5F131CA15

5F131CA18

5F131EA06

5F131EA24

5F131EB32

5F131EB34

5F131EB35

5F131EB37

5F131EB55

5F131EB57

5F131KB12

5F131KB45

5F157AB02

5F157AB14

5F157AB33

5F157AB90

5F157DB02

5F157DB51

(57)【要約】

【課題】基板面における処理液の再付着を抑止し、基板品質を向上させること。
【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、基板を回転させる回転テーブルと、基板の外周に当接して基板を把持することで基板を回転テーブルに固定する複数の固定部材と、を備え、固定部材は、回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、基板と当接する側に曲面を有し、回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、曲面の端部と繋げて形成され、かつ、基板と当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、曲面との境界から第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部を有し、回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、頂部に第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を有し、曲面上に形成され、基板が把持された状態で頂部の頂面と基板の上面とが同一平面上にあるように基板を支持する支持部を有する。
【選択図】図２Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を回転させる回転テーブルと、
前記基板の外周に当接して前記基板を把持することで前記基板を前記回転テーブルに固定する複数の固定部材と、
を備え、
前記固定部材は、
前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記基板と当接する側に曲面を有し、
前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記曲面の端部と繋げて形成され、かつ、前記基板と当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、前記曲面との境界から前記第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部を有し、
前記回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、前記第１の方向に直交する方向から見た場合に、頂部に前記第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を有し、
前記曲面上に形成され、前記基板が把持された状態で前記頂部の頂面と当該基板の上面とが同一平面上にあるように前記基板を支持する支持部を有する、基板処理装置。

【請求項2】

基板を回転させる回転テーブルと、
前記基板の外周に当接して前記基板を把持することで前記基板を前記回転テーブルに固定する複数の固定部材と、
を備え、
前記固定部材は、頂部と、前記頂部を保持する基部と、前記基板を支持する支持部とを有し、
前記頂部は、
前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記基板と当接する側に曲面を有し、
前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記曲面の端部と繋げて形成され、かつ、前記基板と当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、前記曲面との境界から前記第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部を有し、
前記回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、前記第１の方向に直交する方向から見た場合に、前記第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を有し、
前記支持部は、前記基板が把持された状態で前記頂部の頂面と当該基板の上面とが同一平面上にあるように前記基板を支持する、基板処理装置。

【請求項3】

前記回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、前記第１の方向に直交する方向から見た場合に、
前記頂部は、前記基板を支持する側に水平面を有し、
前記第１の傾斜面は、前記水平面の端部から前記第１の方向に向かって下降傾斜する、請求項１又は２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記第１の方向における前記第１の傾斜面の長さが、前記第１の方向における前記頂部の長さの半分以上である、請求項１又は２に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記固定部材は、前記第１の方向に向かって前記幅が連続的に縮小する縮小部の向きと、前記基板に供給される処理液の飛散方向とが平行となるように設けられる、請求項１又は２に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記固定部材は、前記回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、前記第１の方向に直交する方向から見た場合に、前記第１の傾斜面の端部から前記第１の方向に向かって下降傾斜する第２の傾斜面をさらに有する、請求項１又は２に記載の基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体ウェーハなどの基板に対して薬液処理もしくは洗浄処理を実行する基板処理装置は、処理の均一性や再現性の観点から、基板を１枚ずつ処理する枚葉方式が広く採用されている。枚葉方式の基板処理装置は、基板を回転テーブルに固定し、基板中心に直交する軸を回転軸として基板を回転させ、基板の中心部に処理液（例えば、薬液や純水など）を流し、遠心力により処理液を基板のエッジに向けて広がらせることで、処理液を基板面に供給し、基板面を処理する。

【0003】

このような基板処理装置は、基板を回転テーブルに固定するため、基板を把持してチャックするチャック機構を備えている。チャック機構は、基板のエッジを把持するためのチャックピン（固定部材）が、基板の周方向に沿って配置されるように複数設けられている。チャックピンは、基板の周方向に沿った複数の位置において、基板のエッジをそれぞれ把持することで、基板を回転テーブルに固定する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特許第６７３４６６６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記した基板処理装置では、遠心力により広がった処理液は、基板のエッジから剥離して、回転テーブルの周囲を覆うカップの内周面によって受けられる。しかしながら、基板のエッジを把持するチャックピンに当たった処理液は、チャックピンから剥離した後、回転テーブルと共に回転するチャックピンによって生じた気流の攪乱によりミスト化して舞い上がり、基板面に再付着する場合がある。このような再付着したミストは、基板面においてウォータマーク（水シミ）になってしまい、製品の不良の原因となる。したがって、ミスト化した処理液の基板面への再付着を抑止することは、製品の品質の向上において非常に重要なものである。

【0006】

上記したように、ミスト化した処理液の基板面への再付着は、チャックピンにより生じた気流の攪乱によって発生するが、気流の攪乱のそもそもの要因は、基板の上面を流れる処理液の流れにあるものと考えられる。具体的には、回転テーブルと共に回転しているチャックピンに向かって基板の上面から流れる処理液の流れが気体の流れ（気流）を発生させ、この気流がチャックピンから剥離した際に、チャックピンの後端付近に後流（気流が渦を巻いた状態）が形成され、それによって気流の攪乱が生じる。

【0007】

図９は、チャックピンによって生じる気流の攪乱を説明するための図である。ここで、図９は、基板を把持し、回転テーブルと共に回転した状態のチャックピンの平面視を模式的に示す。回転テーブルを回転させ、処理液を基板面に供給して基板面を処理した場合、例えば、図９に示すように、基板Ｗの上面において基板Ｗ側からチャックピンに向かって流れる処理液の流れが形成される。ここで、基板Ｗの上面においてチャックピンに向かって流れる処理液は、周囲の気体を巻き込んで流れることとなる。すなわち、回転テーブルの回転中、図９に示すような基板Ｗ側からチャックピンに向かう気流が形成されることとなる。なお、以下では、上記した処理液及び気体の流れについて、流れのもとを上流、流れる先を下流と記す。

【0008】

そして、処理液と共に流れる気体（気流）がチャックピンに当たると、チャックピンが受けた処理液及び気流は、図９の実線矢印に示すように、チャックピンの側面に沿いながら流れ、剥離位置においてチャックピンから剥離する。ここで、剥離位置間の面の幅ｄが所定の幅を有すると、チャックピンの後端の下流側に気流が流れない領域Ｒ２が形成される。この領域Ｒ２は、気流が流れる領域と比べて負圧の状態（圧力が低下している状態）となり、周囲から気流が流れ込むことで渦の流れ（後流）が形成され、気流の攪乱が発生する。

【0009】

このように、回転テーブルの回転中、処理液の流れが気流を生み、この気流がチャックピンに当たることで、気流の攪乱が発生する。この気流の攪乱が、チャックピンに付着した処理液が剥離してミスト化した処理液ミストを基板の上面側に飛散させ、基板面に再付着させる。

【0010】

この現象は、基板の上面に供給された処理液（洗浄液も含む）を振り切って、基板の上面を乾燥させる乾燥工程において顕著に現れる。乾燥工程では、基板の上面の処理液を振り切るため、１５００ｒｐｍ（revolutions per minute）～２０００ｒｐｍの高速回転で回転する。この時、チャックピンの後端側で舞い上がった処理液のミストが、乾燥処理が終了した基板の上面に付着すると、基板の上面でウォータマークが形成されることになる。

【0011】

なお、このような問題に対しては、チャックピン自体を縮小することで、チャックピンに当たる処理液の量を減らすと同時に気流攪乱を最小限にする対策が行われているが、チャックピン自体を縮小した場合、基板を固定する機構自体が弱くなるため、一定の限界がある。

【0012】

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板面における処理液の再付着を抑止し、基板品質を向上させることができる基板処理装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0013】

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明の一態様に係る基板処理装置は、基板を回転させる回転テーブルと、前記基板の外周に当接して前記基板を把持することで前記基板を前記回転テーブルに固定する複数の固定部材と、を備え、前記固定部材は、前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記基板と当接する側に曲面を有し、前記回転テーブルの回転軸方向から見た場合に、前記曲面の端部と繋げて形成され、かつ、前記基板と当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、前記曲面との境界から前記第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部を有し、前記回転テーブルの回転軸方向に直交し、かつ、前記第１の方向に直交する方向から見た場合に、頂部に前記第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を有し、前記曲面上に形成され、前記基板が把持された状態で前記頂部の頂面と当該基板の上面とが同一平面上にあるように前記基板を支持する支持部を有する。

【発明の効果】

【0014】

本発明の一態様によれば、基板面における処理液の再付着を抑止し、基板品質を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】図１は、第１の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す断面図である。

【図2A】図２Ａは、第１の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す斜視図である。

【図2B】図２Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す上面図である。

【図3A】図３Ａは、第１の実施形態に係る回転テーブルの概略構成を示す上面図である。

【図3B】図３Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す断面図である。

【図3C】図３Ｃは、第１の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す断面図である。

【図4A】図４Ａは、第１の実施形態に係る第１の傾斜面の寸法を説明するための図である。

【図4B】図４Ｂは、第１の実施形態に係る第１の傾斜面の寸法を説明するための図である。

【図5A】図５Ａは、第１の実施形態に係るチャックピンの設置方向を説明するための図である。

【図5B】図５Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピンの設置方向を説明するための図である。

【図6A】図６Ａは、変形例１に係るチャックピンの概略構成を示す上面図である。

【図6B】図６Ｂは、変形例１に係るチャックピンの概略構成を示す断面図である。

【図7A】図７Ａは、変形例２に係るチャックピンの概略構成を示す斜視図である。

【図7B】図７Ｂは、変形例２に係る第２の傾斜面の寸法を説明するための図である。

【図8A】図８Ａは、第２の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す斜視図である。

【図8B】図８Ｂは、第２の実施形態に係るチャックピンの概略構成を示す上面図である。

【図9】図９は、チャックピンによって生じる気流の攪乱を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、本願の開示する基板処理装置は、以下の実施形態により限定されるものではない。

【0017】

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す断面図である。図１に示すように、基板処理装置１は、中央に貫通孔２ａを有するベース体２と、ベース体２の上方に回転可能に設けられた回転テーブル３と、回転テーブル３の駆動源となるモータ４と、回転テーブル３を囲む環状の液受け部５と、モータ４を制御する制御装置６とを備えている。

【0018】

回転テーブル３は、モータ４からの動力を伝える円筒状の伝動体３ａと、各部を覆うカバー３ｂと、伝動体３ａの上端側に固定されたリング状の回転プレート３ｃとを備えている。さらに、回転テーブル３は、基板Ｗを把持する複数（例えば、６個）のクランプ部３ｄと、各クランプ部３ｄの下部に個別に設けられた複数（例えば、６個）の子歯車３ｅと、それらに噛み合う親歯車３ｆとを備えている。また、ベース体２には、基板把持を解除するための把持解除機構３ｇが固定配置される。

【0019】

モータ４は、筒状の固定子４ａと、固定子４ａ内に回転可能に挿入された筒状の回転子４ｂにより構成されている。固定子４ａはベース体２の下面に取り付けられており、回転子４ｂの上端側はベース体２の貫通孔２ａ内に位置している。モータ４は、回転テーブル３を回転させるための駆動源の一例である。モータ４は、電気的に制御装置６に接続されており、制御装置６の制御に応じて駆動される。

【0020】

液受け部（カップ）５は、基板Ｗから飛散した処理液や流れ落ちた処理液を受け取る環状の可動液受け部５ａと環状の固定液受け部５ｂとにより構成されている。液受け部５は、回転テーブル３を囲むように形成されている。可動液受け部５ａは、例えば、シリンダなどの昇降機構（図示せず）により上下方向に移動することが可能に構成されている。固定液受け部５ｂは、ベース体２の上面に固定されており、固定液受け部５ｂの底面には処理液（例えば、薬液や純水など）を回収する配管５ｃが接続されている。

【0021】

伝動体３ａは、中心軸がモータ４の回転軸に一致するようにモータ４の回転子４ｂの上端に固定されている。このため、伝動体３ａは、モータ４の駆動によって回転することになる。伝動体３ａ及びモータ４の回転中心軸が基板回転軸Ａ１となる。

【0022】

伝動体３ａ及び回転子４ｂは中空軸であり、これら伝動体３ａ及び回転子４ｂの内部空間には、非回転の保持筒１１が設けられている。保持筒１１の上部には、ノズルヘッド１２が設けられており、ノズルヘッド１２には、各クランプ部３ｄにより把持された基板Ｗの裏面（図１中の下面）に向けて処理液（例えば、薬液や純水など）を吐出するノズル１２ａが形成されている。基板Ｗの裏面で反射した処理液の一部は、排出配管１３を通って外部に排出される。また、回転テーブル３の上方には、基板Ｗの表面（図１中の上面）に処理液を供給するノズル１２ｂが設けられている。

【0023】

カバー３ｂは、下面開口のケース状に形成されており、回転プレート３ｃと共に回転するように回転プレート３ｃに取り付けられている。カバー３ｂは、伝動体３ａの回転と共に回転する部品を覆って乱流の発生を防止する。カバー３ｂには、ノズルヘッド１２のノズル１２ａから吐出された処理液を上部に通過させるための開口部１４と、クランプ部３ｄごとに貫通孔１５が形成されている。

【0024】

回転プレート３ｃは、各クランプ部３ｄを個別に保持する複数の支持筒部１６を有している。回転プレート３ｃは、伝動体３ａの外周面に固定されて一体となっており、伝動体３ａと共に回転する。このため、回転プレート３ｃが保持する各クランプ部３ｄも伝動体３ａの回転中心軸、すなわち基板回転軸Ａ１を中心として回転プレート３ｃと共に回転する。なお、各支持筒部１６は、円板状の回転プレート３ｃの外周側で基板回転軸Ａ１を中心とする円上に等間隔で設けられている。

【0025】

クランプ部３ｄは、基板Ｗに接触するチャックピン（固定部材）２１と、チャックピン２１を保持して回転する回転板２２と、回転板２２を保持して回転するピン回転体２３とを備えている。チャックピン２１は、ピン回転体２３の回転中心軸（基板回転軸Ａ１に平行な回転中心軸）、すなわちピン回転軸Ａ２から一定距離偏心させて回転板２２上に固定されている。チャックピン２１は、ピン回転体２３の回転に応じて、ピン回転軸Ａ２に対し偏心して回転する。ここで、本実施形態に係るチャックピン２１は、基板Ｗへの処理液の再付着を抑止するように形成されているが、この点については、後に詳述する。

【0026】

ピン回転体２３は、回転プレート３ｃの支持筒部１６によって回転することが可能に保持されている。ピン回転体２３の下端には子歯車３ｅが固定されており、基板回転軸Ａ１を回転軸とする親歯車３ｆに噛み合っている。親歯車３ｆは、伝動体３ａに固定された軸受（例えば、ベアリング）２４に設けられ、伝動体３ａ周りに回転することが可能になっている。

【0027】

これにより、クランプ部３ｄに対して相対的に親歯車３ｆが基板回転軸Ａ１周りに回転すると、親歯車３ｆに噛み合う各子歯車３ｅが回転し、クランプ部３ｄごとのピン回転体２３が全て同期してピン回転軸Ａ２周りに回転する。親歯車３ｆが基板Ｗを把持するための回転方向に回転した場合には、各クランプ部３ｄの個々のチャックピン２１が全て同期して偏心回転し、基板Ｗの周端面（外周面）に当接して、基板Ｗの中心を基板回転軸Ａ１上にセンタリングしつつ基板Ｗを把持する。一方、親歯車３ｆが把持するための回転方向の逆方向に回転した場合には、各クランプ部３ｄの個々のチャックピン２１が前述と逆方向に全て同期して回転し、基板Ｗの外周面から離れ、把持状態の基板Ｗを開放する。このように各クランプ部３ｄを動作させることで、基板Ｗの中心を基板回転軸Ａ１上に位置付けるセンタリングを行って基板Ｗを把持するチャック機構が実現されている。

【0028】

親歯車３ｆの下方には、複数（例えば、２本）のクランプバネ２５が回転プレート３ｃとの間で接続されている。親歯車３ｆは、各クランプバネ２５により、基板Ｗを把持するための回転方向に付勢されている。これにより、親歯車３ｆと噛み合っている各子歯車３ｅ及び各チャックピン２１は、基板Ｗを把持するための回転方向に均一に付勢されている。なお、クランプバネ２５の一端は、親歯車３ｆに固定されたバネポスト（図示せず）に掛けられており、その他端は回転プレート３ｃに固定されたバネポスト（図示せず）に掛けられている。このようなクランプバネ２５は、基板回転軸Ａ１を中心として対向する位置に設けられている。各クランプバネ２５のバネ力が親歯車３ｆから各子歯車３ｅに伝えられ、各チャックピン２１がピン回転軸Ａ２に対して偏心回転し、基板Ｗの周端面を押さえつけることで基板Ｗを把持する。

【0029】

このように、親歯車３ｆは、回転プレート３ｃに対し基板回転軸Ａ１を中心として個別に回転する。また、各チャックピン２１で基板Ｗを把持している状態では、クランプバネ２５によって回転プレート３ｃと親歯車３ｆとは係止され（両者がバネにより一体になっており）、親歯車３ｆは回転プレート３ｃと共に回転する。つまり、親歯車３ｆは、基板回転軸Ａ１を中心として回転プレート３ｃと共に、及び個別に回転可能に設けられている。

【0030】

把持解除機構３ｇは、図１に示すように、シリンダ３１と、停止ピン３２とを有している。シリンダ３１は、上下に移動するシリンダ軸３１ａを有している。停止ピン３２は、シリンダ軸３１ａの先端に設けられている。シリンダ３１のシリンダ軸３１ａが上昇すると、シリンダ軸３１ａの先端の停止ピン３２も上昇し、停止ピン３２で親歯車３ｆが係止される。親歯車３ｆが動かない状態で回転プレート３ｃが、基板Ｗを開放する方向に回転すると、回転プレート３ｃと共に回転する各クランプ部３ｄは、回転プレート３ｃの回転方向と同じ方向に親歯車３ｆの周りを移動する。このとき、各チャックピン２１は、基板Ｗを把持するときの方向と逆方向にピン回転軸Ａ２に対して偏心回転し、基板Ｗの周端面から離れる。なお、シリンダ３１は、制御装置６に電気的に接続されており、制御装置６による制御に応じて駆動する。

【0031】

以下、第１の実施形態に係るチャックピン２１の詳細について説明する。図２Ａは、第１の実施形態に係るチャックピン２１の概略構成を示す斜視図である。図２Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピン２１の概略構成を示す上面図である。ここで、図２Ａに示す上側及び下側とは、チャックピン２１が回転板２２に支持された状態での上下方向を意味する。また、図２Ａ及び図２Ｂに示す前側及び後側とは、チャックピン２１が基板Ｗを把持した状態で基板Ｗと当接する側を前側とした場合の前後方向を意味する。第１の実施形態に係るチャックピン２１は、基板Ｗの外周に当接して基板Ｗを把持することで基板Ｗを回転テーブル３に固定する固定部材であり、例えば、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、平視面で涙滴形状を成す柱形状で形成され、頂部２１１と基部２１２とを有する。

【0032】

頂部２１１は、図２Ａに示すように、チャックピン２１が回転板２２に支持された状態でのチャックピン２１の上側に部分である。具体的には、頂部２１１は、チャックピン２１が基板Ｗを支持した際に供されるチャックピン２１の上端の部分である。基部２１２は、図２Ａに示すように、チャックピン２１が回転板２２に支持された状態で頂部２１１よりも下側の部分であり、下端が回転板２２に接続される部分である。

【0033】

図２Ａ及び図２Ｂに示すように、チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に（平視面で見た場合に）、基板Ｗと当接する側（図中の前側）に曲面２１ａを有し、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に、曲面２１ａの端部と繋げて形成され、かつ、基板Ｗと当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、曲面２１ａとの境界から第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部２１ｂを有する。また、チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に（側面から見た場合に）、頂部２１１に第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面２１ｃを有し、曲面２１ａ上に形成され、基板Ｗが把持された状態で頂部２１１の頂面２１ｅと当該基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように基板Ｗを支持する支持部２１ｄを有する。

【0034】

チャックピン２１は、図２Ａ及び図２Ｂに示す前側で基板Ｗと当接するように、回転板２２に保持される。すなわち、チャックピン２１は、図中の前側で基板Ｗを支持するように、基部２１２が回転板２２に接続される。図３Ａは、第１の実施形態に係る回転テーブル３の概略構成を示す上面図である。例えば、回転テーブル３は、図３Ａに示すように、６個のチャックピン２１を保持する。各チャックピン２１は、それぞれが保持された位置で、図２Ａ及び図２Ｂに示す前側に形成された支持部２１ｄにより基板Ｗを支持する。すなわち、各チャックピン２１は、親歯車３ｆが基板Ｗを把持するための回転方向に回転した場合に、支持部２１ｄが基板Ｗに当接することで、基板Ｗを把持する。

【0035】

図３Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピン２１の概略構成を示す断面図である。ここで、図３Ｂは、図３ＡにおけるＡ－Ａ断面の断面図を示す。図３Ｂに示すように、チャックピン２１は、頂部２１１に頂面２１ｅと第１の傾斜面２１ｃとを有する。頂面２１ｅは、水平面であり、基板Ｗを支持する側（前側）に形成されている。具体的には、頂面２１ｅは、第１の傾斜面と比較して、前側に形成されている。第１の傾斜面２１ｃは、基板Ｗを支持する側から離れる方向Ｄ１（第１の方向）に向かって下降傾斜する傾斜面である。具体的には、第１の傾斜面２１ｃは、頂面２１ｅの端部（図２に示す後側の端部）から方向Ｄ１に向かって下降傾斜する傾斜面である。より具体的には、第１の傾斜面２１ｃは、頂面２１ｅの方向Ｄ１側に形成される傾斜面であり、方向Ｄ１に向かって、チャックピン２１の後側端部まで連続的に下降する傾斜面である。すなわち、第１の傾斜面２１ｃは、方向Ｄ１側に向かうにつれて、図２Ａに示す下側に向かって連続的に傾斜する傾斜面である。なお、第１の実施形態に係る頂部２１１は、図３Ｂに示すように、頂面２１ｅから第１の傾斜面２１ｃの後側の端部までの鉛直方向の部分を意味する。

【0036】

ここで、第１の傾斜面２１ｃは、図３Ｂに示すチャックピン２１の方向Ｄ１における中央付近から傾斜が始まるように形成されてもよく、或いは、方向Ｄ１における中央よりも後側（Ｄ１方向側）から傾斜が始まるように形成されてもよい。例えば、第１の傾斜面２１ｃは、チャックピン２１（頂部２１１）の方向Ｄ１における中央付近から方向Ｄ１に向かって、チャックピン２１の後側端部まで連続的に下降する傾斜面として形成される。或いは、第１の傾斜面２１ｃは、チャックピン２１（頂部２１１）の方向Ｄ１における中央よりも後側の位置から方向Ｄ１に向かって、チャックピン２１の後側端部まで連続的に下降する傾斜面として形成される。なお、上記した例はあくまでも一例であり、第１の傾斜面２１ｃは、チャックピン２１（頂部２１１）の方向Ｄ１における中央よりも前側の位置から方向Ｄ１に向かって、チャックピン２１の後側端部まで連続的に下降する傾斜面として形成されてもよい。

【0037】

支持部２１ｄは、頂部２１１に設けられている。具体的には、支持部２１ｄは、頂面２１ｅと繋がる面（図３Ｂにおいて頂面２１ｅと繋がる垂直面）と曲面２１ａに繋がる面（図３Ｂにおいて曲面２１ａと繋がる水平面）とから構成され、曲面２１ａの上方に形成されている。すなわち、支持部２１ｄは、基板Ｗの側面側の外周と当接する垂直面と、基板Ｗの裏面側の外周が載置される水平面とから形成される。ここで、支持部２１ｄにおける水平面は、頂面２１ｅから基板Ｗの厚み分下側に形成されている。換言すると、支持部２１ｄにおける水平面は、図２Ａに示す上下方向において、頂面２１ｅの高さより基板Ｗの厚み分低い位置に形成されている。支持部２１ｄの水平面が上記したように形成されることで、支持部２１ｄは、図３Ｂに示すように、頂面２１ｅと基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように基板Ｗを支持することができる。なお、ここでいう同一平面は、基板Ｗの上面を流れる処理液の流れを阻害しない、及び／又は、基板上を流れる処理液がチャックピンに当たった場合でもその処理液をミスト化させない程度の段差がある状態も含む。

【0038】

図３Ｃは、第１の実施形態に係るチャックピン２１の概略構成を示す断面図である。ここで、図３Ｃは、図３ＢにおけるＢ－Ｂ断面の断面図を示す。すなわち、図３Ｃの断面図は、支持部２１ｄを含まないチャックピン２１の水平方向の断面を示す平面図である。図３Ｃに示すように、チャックピン２１における曲面２１ａは、水平方向の断面に曲線として示される。すなわち、曲面２１ａは、水平方向の曲線を鉛直方向に連続させることで形成される曲面である。この曲面２１ａは、図３Ｂに示すように、チャックピン２１における前側（基板Ｗを支持する側）の支持部２１ｄの下部に形成されている。すなわち、曲面２１ａは、チャックピン２１の前側の側面における支持部２１ｄの下部に形成されている。

【0039】

また、図３Ｃに示すように、チャックピン２１は、方向Ｄ１に直交する方向において、幅が、方向Ｄ１に向かって連続的に縮小する縮小部２１ｂを有する。ここで、縮小部２１ｂは、方向Ｄ１に直交する方向の幅の縮小が開始される位置（曲面２１ａの終点）からチャックピン２１の後側端部までの領域Ｒ１の部分を意味する。例えば、チャックピン２１は、図３Ｃに示すように、曲面２１ａの端部（曲面２１ａの終点）から離れるにしたがって側面が相互に近づいていき、側面が接したチャックピン２１の後側端部２１３までの領域である縮小部２１ｂを有する。

【0040】

このように、第１の実施形態に係るチャックピン２１は、曲面２１ａと縮小部２１ｂとを含む水平方向の断面が、例えば、涙滴形状となるように、形成される。

【0041】

第１の実施形態に係る基板処理装置１は、上記のように構成されたチャックピン２１を有することで、処理液の基板Ｗへの再付着を抑止し、基板品質を向上させることができる。具体的には、チャックピン２１は、縮小部２１ｂ及び第１の傾斜面２１ｃが形成されることで、処理液の飛散方向に縮小する形状となり、チャックピン２１の後側において気流の攪乱が発生することを低減することができる。具体的には、チャックピン２１は、処理液の飛散方向に縮小する形状とすることで、チャックピン２１の後側端部２１３の幅（面）が小さくなるため、チャックピン２１の後側端部２１３の下流側で発生する負圧になる領域を小さくすることができる。すなわち、チャックピン２１では、周りから気流を取り込んで渦の気流が形成される領域が少なくなり、結果として気流の攪乱（渦）の発生を抑えることができる。その結果、チャックピン２１は、チャックピン２１から剥離した処理液のミストが飛散する（舞い上がる）ことを抑制することができる。すなわち、チャックピン２１は、基板Ｗ側に飛散する処理液のミストを低減することができ、基板Ｗへの処理液の再付着を抑止し、基板品質を向上させることができる。このような基板処理装置１によって処理された基板Ｗは、エッジぎりぎりまで利用可能な品質の高い基板となる。

【0042】

また、上記構成のチャックピン２１は、液受け部（カップ）５方向への処理液の排出をスムーズにして、処理液のミスト化を抑え、処理液の基板Ｗへの再付着を抑止する。例えば、チャックピン２１は、第１の傾斜面２１ｃが形成されることで、チャックピン２１から剥離した処理液を下方向に排出することができる。すなわち、チャックピン２１は、剥離した処理液が液受け部（カップ）５の内面に向かうように、処理液を排出することができる。

【0043】

また、例えば、チャックピン２１は、前側に曲面２１ａが形成され、後側に縮小部２１ｂが形成されることで、基板Ｗの上面或いは下面からチャックピン２１に到達した処理液を、液受け部（カップ）５へ速やかに排出することができる。すなわち、チャックピン２１の曲面２１ａ及び縮小部２１ｂは、チャックピン２１に付着した処理液が基板Ｗの上面に飛散することなく、速やかに液受け部（カップ）５へ排出する。

【0044】

また、例えば、チャックピン２１は、基板Ｗが支持された状態で、頂面２１ｅが基板Ｗの上面と同一平面上にあるように形成されることで、基板Ｗの上面を流れてきた処理液がチャックピン２１の頂部２１１に衝突して飛散することを抑止することができる。すなわち、チャックピン２１は、基板Ｗの上面を流れる処理液の流れを阻害することなく、処理液の排出をスムーズにすることができる。

【0045】

次に、第１の傾斜面２１ｃの寸法について、図４Ａ及び図４Ｂを用いて説明する。図４Ａ及び図４Ｂは、第１の実施形態に係る第１の傾斜面２１ｃの寸法を説明するための図である。ここで、図４Ａ及び図４Ｂは、図３ＡにおけるＡ－Ａ断面の断面図を示す。例えば、第１の傾斜面２１ｃは、図４Ａに示す第１の傾斜面２１ｃの方向Ｄ１の長さ「ａ」が「１ｍｍ」となるように形成される。また、例えば、第１の傾斜面２１ｃは、図４Ａに示す第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度「θ」（基板Ｗの上面を「０°」とした場合の角度）が「５°～８０°」の範囲内となるように形成されてもよい。

【0046】

ここで、チャックピン２１は、方向Ｄ１における第１の傾斜面２１ｃの長さ「ａ」を、方向Ｄ１におけるチャックピン２１全体（頂部２１１）の長さの半分以上とすることで、気流の攪乱をより抑えることができる。具体的には、図４Ｂに示すように、第１の傾斜面２１ｃの方向Ｄ１の長さ「ａ」を、図４Ｂに示すチャックピン２１全体（頂部２１１）の方向Ｄ１の長さ「ｂ」の半分以上とする。換言すると、第１の傾斜面２１ｃの後側の端部の高さを変えることなく、長さ「ａ」をより長くすることで、第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度を緩やかにする。例えば、第１の傾斜面２１ｃは、長さ「ａ」が「１ｍｍ～５０ｍｍ」の範囲内となるように形成されてもよい。

【0047】

例えば、第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度が大きすぎる場合、傾斜面上で処理液とともに流れる気流の流れが少なくなり、負圧になりやすくなる。すなわち、第１の傾斜面２１ｃ上が、傾斜面の周囲と比べて圧力が低い状態となる。この状態となると、第１の傾斜面２１ｃ上では、周囲から気流が取り込まれ、第１の傾斜面２１ｃ上で気流の攪乱（渦）が形成される。その結果、第１の傾斜面２１ｃから剥離した処理液のミストが、気流の攪乱によって、基板Ｗの上面側に飛散することとなる。

【0048】

そこで、上記したように第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度を緩やかにすることで、第１の傾斜面２１ｃ上で処理液と共に流れる気流の流れを作り、第１の傾斜面２１ｃ上において負圧の領域が形成されることを低減して、気流の攪乱の発生を抑制する。その結果、第１の傾斜面２１ｃから剥離した処理液のミストが、基板Ｗの上面に飛散することを抑制することができる。

【0049】

なお、方向Ｄ１における第１の傾斜面２１ｃの長さ「ａ」及び第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度「θ」は、実験やシミュレーション等から最適な数値が決定される。

【0050】

次に、チャックピン２１の設置方向について説明する。チャックピン２１は、方向Ｄ１（方向Ｄ１に向かって幅が連続的に縮小する縮小部２１ｂの向き）と、基板Ｗに供給される処理液の飛散方向とが平行となるように設けられてもよい。図５Ａ及び図５Ｂは、第１の実施形態に係るチャックピン２１の設置方向を説明するための図である。ここで、図５Ａ及び図５Ｂは、基板Ｗを支持した状態のチャックピン２１の上面図を示す。すなわち、図５Ａ及び図５Ｂは、親歯車３ｆが基板Ｗを把持するための回転方向に回転して、支持部２１ｄが基板Ｗに当接した状態を示す。

【0051】

図５Ａに示すように、例えば、基板Ｗは、チャックピン２１に把持された状態で方向Ｄ３（CounterClockWise：ＣＣＷ方向）に回転されて処理液が供給される。ここで、例えば、基板Ｗが「５００ｒｐｍ（revolutions per minute）」で回転されると、基板Ｗの上面を流れる処理液の飛散方向は、図５Ａに示す方向Ｄ２となる。このような回転数で基板Ｗを処理する基板処理装置１では、チャックピン２１は、支持部２１ｄが基板Ｗに当接した状態で方向Ｄ１が図５Ａで示す方向となるように、回転板２２に保持される。

【0052】

また、例えば、基板Ｗが「１０００ｒｐｍ」で回転されると、基板Ｗの上面を流れる処理液の飛散方向は、図５Ｂに示す方向Ｄ２となる。このような回転数で基板Ｗを処理する基板処理装置１では、チャックピン２１は、支持部２１ｄが基板Ｗに当接した状態で方向Ｄ１が図５Ｂで示す方向となるように、回転板２２に保持される。

【0053】

なお、図５Ａ及び図５Ｂにおける例は、あくまでも一例であり、方向Ｄ１が必ずしも方向Ｄ２と平行とならなくてもよい。上述したように、気流の攪乱によって舞い上がった処理液のミストが基板面に再付着する現象は、回転テーブル３を１５００ｒｐｍ～２０００ｒｐｍの高速回転で回転させる乾燥工程で顕著に現れる。したがって、チャックピン２１の設置方向は、乾燥工程時の回転数を考慮して決定されてもよい。すなわち、チャックピン２１は、乾燥工程時の回転数において、方向Ｄ１（方向Ｄ１に向かって幅が連続的に縮小する縮小部２１ｂの向き）と、処理液の飛散方向とが平行となるように設けられ、その他の工程においては、方向Ｄ１と処理液の飛散方向とが平行となっていない場合でもよい。

【0054】

なお、基板処理装置１が、基板Ｗを保持した状態でチャックピン２１の向きを変更可能な機構を有する場合には、各工程の回転数に応じてチャックピン２１の向きを変更するようにしてもよい。

【0055】

上記したように、チャックピン２１は、方向Ｄ１（方向Ｄ１に向かって幅が連続的に縮小する縮小部２１ｂの向き）と基板Ｗに供給された処理液が飛散する方向Ｄ２とが平行となるように保持されることで、基板Ｗ上から剥離する処理液がチャックピン２１の側面をスムーズに伝って、排出されるようにすることが可能となる。すなわち、処理液の流れを阻害しないようにすることで、処理液が跳ねることを抑止して、処理液のミストの発生を抑えることができる。

【0056】

（変形例１）
チャックピン２１の支持部２１ｄは、上記した形状に限らず、種々の形状で形成することができる。図６Ａは、変形例１に係るチャックピン２１の概略構成を示す上面図である。例えば、支持部２１ｄは、頂面２１ｅと繋がる縦方向の面（垂直面）が、図６Ａに示すように、曲面２１ｆで形成されてもよい。すなわち、基板Ｗの外周面と当接する面が曲面２１ｆで形成されてもよい。なお、支持部２１ｄは、曲面２１ａと繋がる横方向の面が曲面で形成されてもよい。

【0057】

図６Ｂは、変形例１に係るチャックピン２１の概略構成を示す断面図である。ここで、図６Ｂは、上記したＡ－Ａ断面の断面図である。例えば、支持部２１ｄは、図６Ｂに示すように、頂面２１ｅと繋がる縦方向の面と曲面２１ａと繋がる横方向の面（水平面）とのなす角が鋭角となるように、縦方向の面が傾斜面２１ｇで形成されてもよい。すなわち、基板Ｗの外周面と当接する面が傾斜面２１ｇで形成されてもよい。なお、支持部２１ｄは、横方向の面が傾斜面で形成されてもよい。

【0058】

（変形例２）
チャックピン２１の後側の形状は、第１の実施形態で説明した形状に限らず、種々の形状で形成することができる。図７Ａは、変形例２に係るチャックピン２１の概略構成を示す斜視図である。例えば、図７Ａに示すように、チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、第１の傾斜面２１ｃの端部から第１の方向に向かって下降傾斜する第２の傾斜面２１ｈをさらに有することができる。チャックピン２１は、後側にさらに第２の傾斜面２１ｈを有することで、第１の傾斜面２１ｃから第２の傾斜面２１ｈへ処理液と共に流れる気流の流れの変化を緩やかにして、気流の攪乱をより抑止することができる。

【0059】

第１の傾斜面２１ｃの後端部で剥離した気流は、第１の傾斜面２１ｃの延長線上に流れることから、例えば、第２の傾斜面２１ｈが頂面２１ｅに対して垂直となるように設けられた場合、第２の傾斜面２１ｈの上部（第１の傾斜面２１ｃとの接続付近）から第２の傾斜面２１ｈに沿って下降する流れが少ない状態となる。すなわち、第２の傾斜面２１ｈの上部は、その周囲の圧力より低い状態となり、負圧の領域が形成される。このように負圧の領域が形成された場合、第２の傾斜面２１ｈの上部で、周囲の気流が取り込まれ、気流の攪乱が形成されてしまい、チャックピン２１から剥離する処理液（チャックピンの傾斜面に沿って流れる処理液）のミストが気流の攪乱によって基板Ｗ側へ飛散することとなる。

【0060】

そこで、第２の傾斜面２１ｈの傾斜角度を大きくすることで、第１の傾斜面２１ｃを処理液と共に流れる気流が、第２の傾斜面２１ｈにもより流れるようにして、第２の傾斜面２１ｈの上部に負圧の領域が形成するのを抑止する。これにより、気流の攪乱の発生を抑制して、チャックピン２１から剥離する処理液のミストが基板Ｗ側に飛散するのを抑制する。

【0061】

図７Ｂは、変形例２に係る第２の傾斜面２１ｈの寸法を説明するための図である。ここで、図７Ｂは、上記したＡ－Ａ断面の断面図を示す。例えば、第２の傾斜面２１ｈは、図７Ｂに示す傾斜角度「φ」（鉛直方向を「０°」とした場合の角度）が「１°～８０°」の範囲内となるように形成されてもよい。ただし、第２の傾斜面２１ｈの傾斜角度「φ」は、実験やシミュレーション等から最適な数値が決定される。なお、第２の傾斜面２１ｈは、曲面２１ａの端部（曲面２１ａの終点）から離れるにしたがって相互に近づいていく縮小部２１ｂの側面が接することで形成される稜線（側面の境界線）である場合も含む。

【0062】

上記したように、第１の実施形態によれば、基板処理装置１は、基板Ｗを回転させる回転テーブル３と、基板Ｗの外周に当接して基板Ｗを把持することで基板Ｗを回転テーブル３に固定する複数のチャックピン２１とを有する。チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に、基板Ｗと当接する側に曲面２１ａを有し、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に、曲面２１ａの端部と繋げて形成され、かつ、基板Ｗと当接する側から離れる第１の方向（方向Ｄ１）に直交する方向の幅が、曲面２１ａとの境界から第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部２１ｂを有する。また、チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、頂部２１１に第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を２１ｃ有し、曲面２１ａ上に形成され、基板Ｗが把持された状態で頂部２１１の頂面２１ｅと当該基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように基板Ｗを支持する支持部２１ｄを有する。したがって、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、チャックピン２１の後側（下流側）において気流の攪乱が発生することを低減することができ、チャックピン２１から剥離した処理液のミストが、気流の攪乱によって舞い上がり、基板Ｗに向かって飛散することを抑制することができる。その結果、基板処理装置１は、処理液の基板Ｗへの再付着を抑止し、基板品質を向上させることを可能にする。

【0063】

また、第１の実施形態によれば、支持部２１ｄが、頂部２１１に設けられている。したがって、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、頂部２１１の頂面２１ｅと基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように形成される支持部２１ｄを容易に形成することを可能にする。

【0064】

また、第１の実施形態によれば、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、頂部２１１は、基板Ｗを支持する側（前側）に水平面（頂面２１ｅ）を有し、第１の傾斜面２１ｃは、水平面の端部から第１の方向（方向Ｄ１）に向かって下降傾斜する。また、第１の実施形態によれば、第１の方向（方向Ｄ１）における第１の傾斜面２１ｃの長さが、第１の方向におけるチャックピン２１全体（頂部２１１）の長さの半分以上である。したがって、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、第１の傾斜面２１ｃの傾斜角度を緩やかにすることで、処理液と共に流れる気流を第１の傾斜面２１ｃにより流すことができ、第１の傾斜面２１ｃ上に負圧の領域を形成し難くすることができる。その結果、基板処理装置１は、気流の攪乱の発生を抑制して、処理液のミストが基板Ｗ側に舞い上がることを抑止することができる。

【0065】

また、第１の実施形態によれば、チャックピン２１は、第１の方向（方向Ｄ１）に向かって幅が連続的に縮小する縮小部２１ｂの向きと、基板に供給される処理液の飛散方向（方向Ｄ２）とが平行となるように設けられる。したがって、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、処理液の流れを阻害しないようにすることができ、処理液が跳ねることを抑止して、処理液のミストの発生を抑えることを可能にする。

【0066】

また、第１の実施形態によれば、チャックピン２１は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、第１の傾斜面２１ｃの端部から第１の方向（方向Ｄ１）に向かって下降傾斜する第２の傾斜面２１ｈをさらに有する。したがって、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、第１の傾斜面２１ｃから第２の傾斜面２１ｈへ処理液と共に流れる気流の流れの変化を緩やかにして、気流の乱れをより抑止することを可能にする。すなわち、基板処理装置１は、第２の傾斜面２１ｈを設けることで、第１の傾斜面２１ｃを処理液と共に流れる気流が、第２の傾斜面２１ｈにもより流れるようにして、第２の傾斜面２１ｈの上部に負圧の領域が形成するのを抑止する。その結果、基板処理装置１は、気流の攪乱の発生を抑制して、チャックピン２１から剥離する処理液のミストが基板Ｗ側に飛散するのを抑制することができる。また、基板処理装置１においては、チャックピン２１の後側（下流側）で発生する気流の乱れが抑制されているため、チャックピン２１から剥離した処理液のミストは、基板Ｗ側へ飛散せずに、液受け部（カップ）５の内面に排出されることとなる。

【0067】

（第２の実施形態）
上記した第１の実施形態では、チャックピン全体で、曲面２１ａ、縮小部２１ｂ、第１の傾斜面２１ｃ、支持部２１ｄが形成される場合について説明した。第２の実施形態では、チャックピンの一部に曲面２１ａ、縮小部２１ｂ、第１の傾斜面２１ｃ、支持部２１ｄが形成される場合について説明する。なお、第２の実施形態に係る基板処理装置１は、第１の実施形態と比較して、チャックピンのみが異なる。すなわち、第２の実施形態に係る基板処理装置１は、図１に示す構成において、チャックピン２１が以下で説明するチャックピン１００に置き換わった構成を有する。

【0068】

図８Ａは、第２の実施形態に係るチャックピン１００の概略構成を示す斜視図である。また、図８Ｂは、第２の実施形態に係るチャックピン１００の概略構成を示す上面図である。図８Ａに示すように、第２の実施形態に係るチャックピン１００は、基部１１１と、頂部１１２と、基板Ｗを支持する突起部１１３とを有する。

【0069】

基部１１１は、頂部１１２と、突起部１１３とを保持し、回転板２２によって保持される。頂部１１２は、図８Ａに示すように、曲面２１ａと、縮小部２１ｂと、第１の傾斜面２１ｃと、頂面２１ｅと、第２の傾斜面２１ｈとが形成される。具体的には、頂部１１２は、図８Ｂに示すように、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合（平視面で見た場合）に、基板Ｗと当接する側に曲面２１ａを有し、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合（平視面から見た場合）に、曲面２１ａの端部と繋げて形成され、かつ、基板Ｗと当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、曲面２１ａとの境界から第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部２１ｂを有し、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合（側面から見た場合）に、第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面２１ｃを有する。また、頂部１１２は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合（側面から見た場合）に、第１の傾斜面２１ｃの端部から第１の方向に向かって下降傾斜する第２の傾斜面２１ｈを有する。

【0070】

ここで、第２の実施形態に係る曲面２１ａ、縮小部２１ｂ、第１の傾斜面２１ｃ、及び、頂面２１ｅは、第１の実施形態における各構成と同様に形成される。なお、第２の実施形態に係る第１の傾斜面２１ｃの第１の方向における長さは、頂部１１２の第１の方向における長さとの比較により決定される。例えば、第２の実施形態に係る第１の傾斜面２１ｃの第１の方向における長さは、頂部１１２の第１の方向における長さの半分以上となるように形成される。

【0071】

第２の実施形態に係る支持部２１ｄは、突起部１１３のテーパ面と、曲面２１ａとから構成される。すなわち、チャックピン１００は、突起部１１３のテーパ面によって基板Ｗを支持し、親歯車３ｆが基板Ｗを把持するための回転方向に回転した場合に、曲面２１ａが基板Ｗに当接することで、基板Ｗを把持する。ここで、突起部１１３のテーパ面における頂面２１ｅと繋がる縦方向の面（垂直面）と接する部分は、頂部１１２の頂面２１ｅから基板Ｗの厚み分下側に形成されている。換言すると、突起部１１３のテーパ面における頂面２１ｅと繋がる縦方向の面（垂直面）と接する部分は、頂面２１ｅの高さより基板Ｗの厚み分低い位置に形成されている。これにより、支持部２１ｄは、頂面２１ｅと基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように基板Ｗを支持することができる。また、突起部１１３のテーパ面は、頂面２１ｅと繋がる縦方向の面（垂直面）と接する部分から基板Ｗ側に向かって下降傾斜している。すなわち、突起部１１３のテーパ面は、頂部１１２側から突起部１１３の先端に向かって下降傾斜している。

【0072】

なお、図８Ａに示す基部１１１及び突起部１１３の形状は、あくまでも一例であり、その他種々の形状で形成されてもよい。例えば、基部１１１が、円柱形状で形成されてもよい。

【0073】

上述したように、第２の実施形態によれば、基板処理装置１は、基板Ｗを回転させる回転テーブル３と、基板Ｗの外周に当接して基板Ｗを把持することで基板Ｗを回転テーブル３に固定する複数のチャックピン１００とを有する。チャックピン１００は、頂部１１２と、頂部１１２を保持する基部１１１と、基板Ｗを支持する突起部１１３とを有する。頂部１１２は、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に、基板Ｗと当接する側に曲面２１ａを有し、回転テーブル３の回転軸方向から見た場合に、曲面２１ａの端部と繋げて形成され、かつ、基板Ｗと当接する側から離れる第１の方向に直交する方向の幅が、曲面２１ａとの境界から第１の方向に向かって連続的に縮小する縮小部２１ｂを有する。また、頂部１１２は、回転テーブル３の回転軸方向に直交し、かつ、第１の方向に直交する方向から見た場合に、第１の方向に向かって下降傾斜する第１の傾斜面を２１ｃ有する。突起部１１３は、基板Ｗが把持された状態で頂部１１２の頂面２１ｅと当該基板Ｗの上面とが同一平面上にあるように基板Ｗを支持する。したがって、第２の実施形態に係る基板処理装置１は、第１の実施形態と同様に、チャックピン１００の後側（下流側）において気流の攪乱が発生することを低減することができ、チャックピン２１から剥離した処理液のミストが、気流の攪乱によって舞い上がり、基板Ｗに向かって飛散することを抑制することができる。その結果、基板処理装置１は、処理液の基板Ｗへの再付着を抑止し、基板品質を向上させることを可能にする。

【0074】

また、第２の実施形態によれば、チャックピンの頂部に、曲面２１ａと、縮小部２１ｂと、第１の傾斜面２１ｃとを形成することで、チャックピン１００を形成することができる。すなわち、既存のチャックピンの一部を変更することでチャックピン１００を形成することができ、本願に係るチャックピンを容易に実現することを可能にする。

【0075】

（その他の実施形態）
上記した第１の実施形態及び第２の実施形態では、チャックピンを回転させることによって基板Ｗの把持と開放を制御するチャック機構を用いる場合について説明した。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではなく、基板処理装置１に採用されるチャック機構として、その他の手法が用いられる場合でもよい。例えば、バネなどの弾性部材によりチャックピンの傾きを変化させることで基板Ｗの把持と開放を制御するチャック機構が用いられる場合でもよい。

【符号の説明】

【0076】

１ 基板処理装置
２１、１００ チャックピン
２１ａ 曲面
２１ｂ 縮小部
２１ｃ 第１の傾斜面
２１ｄ 支持部
２１ｅ 頂面
２１ｈ 第２の傾斜面
１１２、２１１ 頂部

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図4A】

【図4B】

【図5A】

【図5B】

【図6A】

【図6B】

【図7A】

【図7B】

【図8A】

【図8B】

【図9】