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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024160543
(43)【公開日】2024-11-14
(54)【発明の名称】表示パネル、及び、表示パネルの製造方法
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1334 20060101AFI20241107BHJP
G02F 1/1333 20060101ALI20241107BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20241107BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1334
G02F1/1333
G02F1/1335 500
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023075664
(22)【出願日】2023-05-01
(71)【出願人】
【識別番号】520487808
【氏名又は名称】シャープディスプレイテクノロジー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000914
【氏名又は名称】弁理士法人ＷｉｓｅＰｌｕｓ
(72)【発明者】
【氏名】中井 貴子
(72)【発明者】
【氏名】島田 伸二
(72)【発明者】
【氏名】長谷川 正
(72)【発明者】
【氏名】橋本 純一
(72)【発明者】
【氏名】吉田 智徳
【テーマコード（参考）】
2H189
2H291
【Ｆターム（参考）】
2H189AA04
2H189AA53
2H189CA08
2H189HA16
2H189LA02
2H189LA03
2H189LA05
2H189LA10
2H189LA14
2H189LA15
2H189MA15
2H189NA09
2H291FA02Y
2H291FA13X
2H291FA13Z
2H291FA16Y
2H291FA71Z
2H291FA82Z
2H291FA85Z
2H291FA95X
2H291FA95Z
2H291FD22
2H291FD26
2H291GA02
2H291GA04
2H291GA08
2H291GA19
2H291GA23
2H291GA24
2H291JA02
2H291LA21
2H291LA40
2H291MA20
2H291NA62
(57)【要約】
【課題】 額縁領域近傍における表示ムラを抑制することができる表示パネル、及び、当該表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の表示パネルは、画像を表示する表示領域と、上記表示領域の周囲に設けられた額縁領域と、を備え、スイッチング素子を有する第１の基板と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層と、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部が上記額縁領域に配置されていない第２の基板と、をこの順に有する。
【選択図】 図１Ｄ
【解決手段】 本発明の表示パネルは、画像を表示する表示領域と、上記表示領域の周囲に設けられた額縁領域と、を備え、スイッチング素子を有する第１の基板と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層と、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部が上記額縁領域に配置されていない第２の基板と、をこの順に有する。
【選択図】 図１Ｄ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
画像を表示する表示領域と、前記表示領域の周囲に設けられた額縁領域と、を備え、
スイッチング素子を有する第１の基板と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層と、前記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部が前記額縁領域に配置されていない第２の基板と、をこの順に有することを特徴とする表示パネル。
スイッチング素子を有する第１の基板と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層と、前記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部が前記額縁領域に配置されていない第２の基板と、をこの順に有することを特徴とする表示パネル。
【請求項2】
前記ポリマー含有層は、前記光硬化モノマーの重合体により構成されるポリマーネットワークと、液晶成分と、を含有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項3】
前記ポリマー含有層は、前記光硬化モノマーの重合体により構成され、かつ、前記第１の基板側の表面及び前記第２の基板側の表面に位置する一対のポリマー層と、前記一対のポリマー層の間に位置する液晶成分と、を含有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項4】
前記第１の基板は、互いに平行に延設された複数のゲート線と、絶縁層を介して前記複数のゲート線と交差する方向に互いに平行に延設された複数のソース線と、を備え、
前記表示領域において、前記複数のゲート線及び前記複数のソース線と重畳する位置にブラックマトリクス層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
前記表示領域において、前記複数のゲート線及び前記複数のソース線と重畳する位置にブラックマトリクス層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項5】
前記第２の基板は、更に、前記額縁領域において、前記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を透過する着色部を備えていることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項6】
更に、前記第１の基板の前記ポリマー含有層と反対側の額縁領域及び前記第２の基板の前記ポリマー含有層と反対側の額縁領域の少なくとも一方の額縁領域に、インク部を備えることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項7】
更に、前記第２の基板の前記ポリマー含有層と反対側に位置する第２の基板側フィルムを備え、
前記インク部は、前記第２の基板側フィルムと前記第２の基板との間、及び、前記第２の基板側フィルムの前記第２の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第２の基板側インク部を備えることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
前記インク部は、前記第２の基板側フィルムと前記第２の基板との間、及び、前記第２の基板側フィルムの前記第２の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第２の基板側インク部を備えることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
【請求項8】
前記第２の基板側インク部は、前記第２の基板側フィルムと前記第２の基板との間に位置することを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項9】
前記第２の基板側フィルムは、ＵＶカットフィルムであることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項10】
前記第２の基板側フィルムは、偏光子であることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項11】
更に、前記第１の基板の前記ポリマー含有層と反対側に位置する第１の基板側フィルムを備え、
前記インク部は、前記第１の基板側フィルムと前記第１の基板との間、及び、前記第１の基板側フィルムの前記第１の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第１の基板側インク部を備えることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
前記インク部は、前記第１の基板側フィルムと前記第１の基板との間、及び、前記第１の基板側フィルムの前記第１の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第１の基板側インク部を備えることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
【請求項12】
前記第１の基板側インク部は、前記第１の基板側フィルムと前記第１の基板との間に位置することを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項13】
前記第１の基板側フィルムは、ＵＶカットフィルムであることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項14】
前記第１の基板側フィルムは、偏光子であることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項15】
更に、筐体を含み、
前記インク部は、前記筐体と同色であることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
前記インク部は、前記筐体と同色であることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
【請求項16】
スイッチング素子を有する第１の基板と、画像を表示する表示領域の周囲に設けられた額縁領域に遮光部を備えない第２の基板との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体に対して、前記第２の基板側から光を照射する露光工程を備えることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項17】
前記露光工程の後、更に、第１の基板側インク部が前記額縁領域に配置された第１の基板側フィルムを、前記第１の基板の前記第２の基板と反対側に貼り合わせる貼合工程を備えることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項18】
前記露光工程の後、更に、第２の基板側インク部が前記額縁領域に配置された第２の基板側フィルムを、前記第２の基板の前記第１の基板と反対側に貼り合わせる貼合工程を備えることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、表示パネル、及び、表示パネルの製造方法に関する。より具体的には、表示パネル、及び、当該表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、表示パネルの背面が透けて見える表示を行うことができるシースルーパネル等の表示パネルが注目されている。例えば、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）層を用いた表示パネルが開発されている。ＰＤＬＣ層は、光硬化モノマーを光重合させることにより得られるポリマーネットワーク中に、液晶成分が分散された構成を有し、電圧の印加によって液晶成分の配向状態を変化させることにより液晶成分とポリマーネットワークとの屈折率差を利用して、透明状態と散乱状態とを切り替えることができる。
【0003】
ＰＤＬＣ層を用いた表示パネルに関する技術として、例えば、特許文献１には、互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた高分子分散型の液晶層と、上記第１基板に設けられたブラックマトリクスとを備え、画像表示を行う表示領域、及び該表示領域の周囲に額縁領域が規定された液晶表示装置であって、上記額縁領域では、上記ブラックマトリクスが互いに離間する複数の遮光部により構成されている液晶表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１０／１０３５８９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
図２８は、比較形態に係る表示パネルの外観を示す模式図である。図２８に示すように、比較形態の表示パネル１Ｒでは、額縁領域１ＮＡ（具体的には、端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡ）近傍において、ある温度（例えば４５℃）で透過率が他の領域と異なるエリアが出現する。このように、ＰＤＬＣ層を備える比較形態の表示パネル１Ｒでは、端子が設けられた端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡ近傍において、ある温度（パネル作製条件、材料によって異なるが、例えば、３０～４０数℃）で他のエリアよりも透過率がアップし、ムラ（表示ムラ）が発生する。
【0006】
比較形態の表示パネルと同様に、上記特許文献１の液晶表示装置においても、額縁領域近傍の透過率が他のエリアよりも増大し、表示ムラが発生するという課題がある。
【0007】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、額縁領域近傍における表示ムラを抑制することができる表示パネル、及び、当該表示パネルの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
（１）本発明の一実施形態は、画像を表示する表示領域と、上記表示領域の周囲に設けられた額縁領域と、を備え、スイッチング素子を有する第１の基板と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層と、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部が上記額縁領域に配置されていない第２の基板と、をこの順に有する、表示パネル。
【0009】
（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記ポリマー含有層は、上記光硬化モノマーの重合体により構成されるポリマーネットワークと、液晶成分と、を含有する、表示パネル。
【0010】
（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記ポリマー含有層は、上記光硬化モノマーの重合体により構成され、かつ、上記第１の基板側の表面及び上記第２の基板側の表面に位置する一対のポリマー層と、上記一対のポリマー層の間に位置する液晶成分と、を含有する、表示パネル。
【0011】
（４）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）又は上記（３）の構成に加え、上記第１の基板は、互いに平行に延設された複数のゲート線と、絶縁層を介して上記複数のゲート線と交差する方向に互いに平行に延設された複数のソース線と、を備え、上記表示領域において、上記複数のゲート線及び上記複数のソース線と重畳する位置にブラックマトリクス層が設けられている、表示パネル。
【0012】
（５）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）又は上記（４）の構成に加え、上記第２の基板は、更に、上記額縁領域において、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を透過する着色部を備えている、表示パネル。
【0013】
（６）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）又は上記（５）の構成に加え、更に、上記第１の基板の上記ポリマー含有層と反対側の額縁領域及び上記第２の基板の上記ポリマー含有層と反対側の額縁領域の少なくとも一方の額縁領域に、インク部を備える、表示パネル。
【0014】
（７）また、本発明のある実施形態は、上記（６）の構成に加え、更に、上記第２の基板の上記ポリマー含有層と反対側に位置する第２の基板側フィルムを備え、上記インク部は、上記第２の基板側フィルムと上記第２の基板との間、及び、上記第２の基板側フィルムの上記第２の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第２の基板側インク部を備える、表示パネル。
【0015】
（８）また、本発明のある実施形態は、上記（７）の構成に加え、上記第２の基板側インク部は、上記第２の基板側フィルムと上記第２の基板との間に位置する、表示パネル。
【0016】
（９）また、本発明のある実施形態は、上記（７）又は上記（８）の構成に加え、上記第２の基板側フィルムは、ＵＶカットフィルムである、表示パネル。
【0017】
（１０）また、本発明のある実施形態は、上記（７）又は上記（８）の構成に加え、上記第２の基板側フィルムは、偏光子である、表示パネル。
【0018】
（１１）また、本発明のある実施形態は、上記（６）、上記（７）、上記（８）、上記（９）又は上記（１０）の構成に加え、更に、上記第１の基板の上記ポリマー含有層と反対側に位置する第１の基板側フィルムを備え、上記インク部は、上記第１の基板側フィルムと上記第１の基板との間、及び、上記第１の基板側フィルムの上記第１の基板と反対側の少なくとも一方に位置する第１の基板側インク部を備える、表示パネル。
【0019】
（１２）また、本発明のある実施形態は、上記（１１）の構成に加え、上記第１の基板側インク部は、上記第１の基板側フィルムと上記第１の基板との間に位置する、表示パネル。
【0020】
（１３）また、本発明のある実施形態は、上記（１１）又は上記（１２）の構成に加え、上記第１の基板側フィルムは、ＵＶカットフィルムである、表示パネル。
【0021】
（１４）また、本発明のある実施形態は、上記（１１）又は上記（１２）の構成に加え、上記第１の基板側フィルムは、偏光子である、表示パネル。
【0022】
（１５）また、本発明のある実施形態は、上記（６）、上記（７）、上記（８）、上記（９）、上記（１０）、上記（１１）、上記（１２）、上記（１３）又は上記（１４）の構成に加え、更に、筐体を含み、上記インク部は、上記筐体と同色である、表示パネル。
【0023】
（１６）また、本発明の他の一実施形態は、スイッチング素子を有する第１の基板と、画像を表示する表示領域の周囲に設けられた額縁領域に遮光部を備えない第２の基板との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体に対して、上記第２の基板側から光を照射する露光工程を備える、表示パネルの製造方法。
【0024】
（１７）また、本発明のある実施形態は、上記（１６）の構成に加え、上記露光工程の後、更に、第１の基板側インク部が上記額縁領域に配置された第１の基板側フィルムを、上記第１の基板の上記第２の基板と反対側に貼り合わせる貼合工程を備える、表示パネルの製造方法。
【0025】
（１８）また、本発明のある実施形態は、上記（１６）又は上記（１７）の構成に加え、上記露光工程の後、更に、第２の基板側インク部が上記額縁領域に配置された第２の基板側フィルムを、上記第２の基板の上記第１の基板と反対側に貼り合わせる貼合工程を備える、表示パネルの製造方法。
【発明の効果】
【0026】
本発明によれば、額縁領域近傍における表示ムラを抑制することができる表示パネル、及び、当該表示パネルの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0027】
【図1A】実施形態１に係る表示パネルの平面模式図である。
【図1B】実施形態１に係る表示パネルが備える第１の基板の平面模式図である。
【図1C】実施形態１に係る表示パネルが備える第２の基板の平面模式図である。
【図2】比較形態に係る表示パネルのＴＦＴ基板の平面模式図である。
【図4】実施形態１に係る表示パネルの一例を示す断面模式図である。
【図5】実施形態１に係る表示パネルにおいて、第２の基板側インク部が、第２の基板側フィルムの第２の基板と反対側に位置する場合について説明する断面模式図である。
【図6】実施形態１に係る表示パネルにおいて、第２の基板側インク部が、第２の基板側フィルムと第２の基板との間に設けられる場合について説明する断面模式図である。
【図7】実施形態１に係る表示パネルの製造方法を示す模式図である。
【図8】実施形態１の変形例１に係る表示パネルの断面模式図である。
【図9】実施形態１に係る表示パネルの額縁反射について説明する断面模式図である。
【図10】実施形態１の変形例１に係る表示パネルの額縁反射について説明する断面模式図である。
【図11】実施形態１に係る表示パネル及び実施形態１の変形例１に係る表示パネルの額縁反射を比較した表である。
【図12】実施形態１の変形例１に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。
【図13】実施形態１の変形例２に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。
【図14】実施形態１の変形例３に係る表示パネルとバックライトとを備える液晶表示装置の断面模式図である。
【図15】実施形態１の変形例４に係る筐体付き表示パネルの製造方法を示した模式図である。
【図16】実施形態１の変形例５に係る表示パネルを示す断面模式図である。
【図17】垂直配向膜の機能について説明する断面模式図である。
【図18】垂直配向膜とポリマーとの絡み合いについて説明する断面模式図である。
【図19】水平配向膜の機能について説明する断面模式図である。
【図20】水平配向膜とポリマーとの絡み合いについて説明する断面模式図である。
【図21】実施例１に係る表示パネルの製造方法を示した模式図である。
【図22】比較例１に係る表示パネルの製造工程で用いられるパネル前駆体の平面模式図である。
【図24】比較例１に係る表示パネルの製造方法を示す模式図である。
【図25】４０Ｊで露光した比較例３の表示パネルの表示ムラを示す平面模式図である。
【図26】１００Ｊで露光した比較例３の表示パネルの表示ムラを示す平面模式図である。
【図27】比較例３に係る表示パネルを製造する際の露光量と、当該表示パネルの保持率との関係を示すグラフである。
【図28】比較形態に係る表示パネルの外観を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0028】
以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。なお、以下の説明において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して適宜用い、その繰り返しの説明は適宜省略する。本発明の各態様は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【0029】
（実施形態１）
図１Ａは、実施形態１に係る表示パネルの平面模式図である。図１Ｂは、実施形態１に係る表示パネルが備える第１の基板の平面模式図である。図１Ｃは、実施形態１に係る表示パネルが備える第２の基板の平面模式図である。図１Ｄは、図１Ａ中のＡ１－Ａ２線に沿った実施形態１に係る表示パネルの断面模式図である。図１Ａ～図１Ｄに示すように、本実施形態の表示パネル１は、画像を表示する表示領域１ＡＡと、表示領域１ＡＡの周囲に設けられた額縁領域１ＮＡと、を備え、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）１２０を有する第１の基板１００と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層２００と、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部３２０が額縁領域１ＮＡに配置されていない第２の基板３００と、をこの順に有する。このような態様とすることにより、額縁領域１ＮＡにおいて、光硬化モノマーの重合が促進され、ポリマー含有層２００における残存モノマー（未反応モノマー）の量を抑制することができる。その結果、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制することができる。
図１Ａは、実施形態１に係る表示パネルの平面模式図である。図１Ｂは、実施形態１に係る表示パネルが備える第１の基板の平面模式図である。図１Ｃは、実施形態１に係る表示パネルが備える第２の基板の平面模式図である。図１Ｄは、図１Ａ中のＡ１－Ａ２線に沿った実施形態１に係る表示パネルの断面模式図である。図１Ａ～図１Ｄに示すように、本実施形態の表示パネル１は、画像を表示する表示領域１ＡＡと、表示領域１ＡＡの周囲に設けられた額縁領域１ＮＡと、を備え、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）１２０を有する第１の基板１００と、光硬化モノマーの重合体を含有するポリマー含有層２００と、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部３２０が額縁領域１ＮＡに配置されていない第２の基板３００と、をこの順に有する。このような態様とすることにより、額縁領域１ＮＡにおいて、光硬化モノマーの重合が促進され、ポリマー含有層２００における残存モノマー（未反応モノマー）の量を抑制することができる。その結果、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制することができる。
【0030】
ここで、上述のように、ＰＤＬＣ層を備える比較形態の表示パネル１Ｒでは、ある温度で他のエリアよりも透過率がアップして可逆的な表示ムラが発生する。この現象は、ＰＤＬＣ層中のポリマーネットワーク表面に垂直配向している液晶成分が、ある温度で水平配向に変わる「アンカリング転移」の転移点で起こる現象である。当該転移点の温度ではアンカリングが弱いため、閾値未満の電圧（例えば０．５Ｖの電圧）でも透明になってしまうために表示ムラが発生すると考えられる。他の領域でもアンカリング転移は起こるが、アンカリング転移の起こる温度がもっと高温であるため、端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡのみムラとなって認識されてしまうと考えられる。
【0031】
すなわち、端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡ近傍のみにおいて表示ムラが見られるのは、アンカリング転移の起こる温度（アンカリング転移点）が、端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡの方が、その他の領域よりも低いためと考えられる。この理由は次のように考えられる。
【0032】
図２は、比較形態に係る表示パネルのＴＦＴ基板の平面模式図である。図３は、図２の破線で囲んだ領域におけるＴＦＴ基板の走査電子顕微鏡写真である。上記比較形態の表示パネル１Ｒは、図２に示すように、スイッチング素子としてのＴＦＴが設けられたＴＦＴ基板１００Ｒを備える。ＴＦＴ基板１００Ｒの端子辺と反対側には、表示領域１ＡＡとシール５００Ｒとの間に表示エリア外の配線パターン１０１Ｘが配置されている。
【0033】
例えば、図２及び図３に示すように、配線パターン１０１Ｘに重畳しない領域は充分に露光されるためポリマーが形成されるが、配線パターン１０１Ｘの裏（配線パターン１０１Ｘの下層に重畳する領域）は充分に露光されず、ポリマーが形成されない。その結果、ＰＤＬＣ層に含まれる、露光されなかった光硬化モノマーが表示領域１ＡＡへと染み出し、アンカリング転移点が下がり、アンカリング転移が低温で起こってしまうと考えられる。
【0034】
また、比較形態の表示パネル１Ｒでは、高温信頼性試験において、端子辺と反対側の額縁領域１ＮＡ近傍に不可逆の透明エリアが発生する。この理由は次のように考えられる。すなわち、上述のようにＰＤＬＣ層に含まれる、露光されなかった光硬化モノマーが表示領域１ＡＡへと染み出すことにより、高温でのエージングによりポリマーの表面状態が変化して不可逆的な透明エリアムラ（不可逆的な表示ムラ）になると考えられる。
【0035】
上記特許文献１の液晶表示装置では、額縁領域のブラックマトリクスが縞状に離れて配置されている。これにより、額縁領域において、ブラックマトリクスによる遮光エリアの面積が減少し、残存モノマーの量を減少させることができる。しかしながら、特許文献１の液晶表示装置では、額縁領域に依然として遮光エリアが存在するため、露光によりＰＤＬＣ層を形成する際に、額縁領域の一部が遮光エリアの影になってしまう。その結果、遮光エリアには残存モノマーが存在することとなる。したがって、特許文献１の液晶表示装置では、残存モノマーの染み出しによる影響を充分に低減することはできない。
【0036】
一方、本実施形態では、額縁領域１ＮＡにブラックマトリクス等の遮光部３２０を有さない第２の基板３００を用いているため、特許文献１のように、露光によりＰＤＬＣ層を形成する際に遮光部の影になってしまう部分はない。そのため、額縁領域１ＮＡにおいて、光硬化モノマーの重合が促進されて、残存モノマー量が表示領域１ＡＡと同等かそれ以下のレベルとなり、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制することができる。以下、本実施形態の表示パネル１の詳細を説明する。
【0037】
【0038】
第１の基板１００は、ポリマー含有層２００に向かって順に、第１の支持基板１１０と、ソース線１０１Ｓと、絶縁層１３０と、画素電極１４０と、を備える。第２の基板３００は、ポリマー含有層２００に向かって順に、第２の支持基板３１０と、遮光部３２０と、オーバーコート層３２１と、対向電極３２２と、を備える。第１の基板１００は、ＴＦＴ基板ともいう。第２の基板３００は、対向基板ともいう。
【0039】
第１の基板１００は、表示領域１ＡＡにおいて、第１の支持基板１１０上に、互いに平行に延設された複数のゲート線１０１Ｇと、絶縁層を介して各ゲート線と交差する方向に互いに平行に延設され複数のソース線１０１Ｓと、を備える。複数のゲート線１０１Ｇ及び複数のソース線１０１Ｓは、各画素を区画するように全体として格子状に形成されている。
【0040】
各ソース線１０１Ｓと各ゲート線１０１Ｇとの交点にはスイッチング素子としてのＴＦＴ１２０が配置されている。互いに隣接する２本のソース線１０１Ｓと互いに隣接する２本のゲート線と１０１Ｇに囲まれた各領域には画素電極１４０が配置されている。画素電極１４０は、ＴＦＴ１２０が備える半導体層を介して対応するソース線１０１Ｓと電気的に接続されている。
【0041】
表示パネル１は、ソース線１０１Ｓに電気的に接続されたソースドライバ、ゲート線１０１Ｇに電気的に接続されたゲートドライバ、及び、コントローラを更に備えている。ゲートドライバは、コントローラによる制御に基づいて、ゲート線に走査信号を順次供給する。ソースドライバは、ＴＦＴ１２０が走査信号によって電圧印加状態となるタイミングで、コントローラによる制御に基づいてソース線１０１Ｓにデータ信号を供給する。ドライバが配置される額縁領域１ＮＡには、ＴＦＴ１２０の端子パターン（額縁パターン）１２０Ａが設けられている。
【0042】
画素電極１４０は各々、対応するＴＦＴ１２０を介して供給されるデータ信号に応じた電位に設定され、画素電極１４０と対向電極３２２との間で縦電界が発生する。ポリマー含有層２００に含まれる正の誘電率異方性を有する液晶成分２２０は、電界方向と平行に並ぼうとする、すなわち、正の誘電率異方性を有する液晶成分２２０は電極に対して垂直に配向する。ポリマーネットワーク２１０に対して液晶成分２２０がランダムな方向で存在する電圧無印加状態では光を散乱することができる。また、画素電極１４０と対向電極３２２との間に印加する電圧の大きさを制御し、液晶成分２２０が電界方向と平行に並んだ場合に、正面視で透過状態を実現することができる。
【0043】
ポリマーの平均屈折率をｎｐ、液晶の長軸方向の屈折率をｎｅ、短軸方向の屈折率をｎｏとしたとき、ｎｅ＞＞ｎｏ≒ｎｐが成り立つ。電圧無印加状態では、ｎｐと、ｎｅ及びｎｏの平均値（（ｎｅ＋ｎｏ）／２）との間に屈折率差があるため「散乱」して見る。一方、電圧印加状態においては、パネルを正面から見たとき（電界方向と平行方向から見たとき）にｎｐ≒ｎｏが成り立つので屈折率差は小さくなり、「透明」に見える。
【0044】
第１の支持基板１１０及び第２の支持基板３１０としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等の絶縁基板が挙げられる。ガラス基板の材料としては、例えば、フロートガラス、ソーダガラス等のガラスが挙げられる。ブラスチック基板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン等のプラスチックが挙げられる。
【0045】
各ＴＦＴ１２０は、複数のソース線及び複数のゲート線のうちの対応するソース線１０１Ｓ及びゲート線１０１Ｇに接続され、対応するゲート線１０１Ｇから突出した（ゲート線の一部である）ゲート電極、対応するソース線１０１Ｓから突出した（ソース線１０１Ｓの一部である）ソース電極、複数の画素電極１４０のうちの対応する画素電極１４０と接続されたドレイン電極、及び、薄膜半導体層を有する三端子スイッチである。ソース電極及びドレイン電極は、ソース線１０１Ｓと同じ層に設けられる電極であり、ゲート電極はゲート線１０１Ｇと同じ層に設けられる電極である。
【0046】
各ＴＦＴ１２０の薄膜半導体層は、例えば、アモルファスシリコン、ポリシリコン等からなる高抵抗半導体層と、アモルファスシリコンにリン等の不純物をドープしたｎ＋アモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層とによって構成される。また、薄膜半導体層として、酸化亜鉛等の酸化物半導体層を用いてもよい。
【0047】
絶縁層１３０は、例えば、無機絶縁膜、有機絶縁膜、又は、上記有機絶縁膜と無機絶縁膜との積層体である。無機絶縁膜としては、例えば、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化珪素（ＳｉＯ２）等の無機膜や、それらの積層膜を用いることができる。有機絶縁膜としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。絶縁層１３０は、着色しておらず、無色透明である。
【0048】
オーバーコート層３２１は、第２の基板３００のポリマー含有層２００側の面を平坦化する機能を有する。オーバーコート層３２１は、例えば、有機絶縁膜である。有機絶縁膜としては、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜や、それらの積層体を用いることができる。本実施形態では、表示パネル１がオーバーコート層３２１を備える態様について説明するが、表示パネル１は、オーバーコート層３２１を備えていなくてもよい。
【0049】
画素電極１４０は、互いに隣接する２本のソース線１０１Ｓと互いに隣接する２本のゲート線１０１Ｇとに囲まれた各領域に配置された電極である。画素電極１４０は、対応するＴＦＴ１２０を介して供給されるデータ信号に応じた電位に設定される。対向電極３２２に対しては一定値に保たれた共通信号が供給され、対向電極３２２は一定の電位に保たれる。
【0050】
ポリマー含有層２００は、光硬化モノマーの重合体を含有する。光硬化モノマーの重合体は、光硬化モノマーに光を照射して重合することにより得られる重合体である。ポリマー含有層２００は、例えば、光硬化モノマーを含有する組成物に光を照射して重合することにより得られる層である。上記組成物は、光硬化モノマーに加えて、液晶成分２２０を含有してもよい。この場合、ポリマー含有層２００にも、液晶成分２２０が含まれる。
【0051】
ポリマー含有層２００は、上記光硬化モノマーの重合体により構成されるポリマーネットワーク２１０と、液晶成分２２０と、を含有する。本実施形態のポリマー含有層２００は、高分子分散液晶層ともいう。ポリマー含有層２００では、光硬化モノマーの重合体（光硬化モノマーの硬化物）の繊維状マトリクスが凝集して三次元的に連続したポリマーネットワーク２１０が形成されており、該ポリマーネットワーク２１０中に液晶成分２２０が存在する状態となっている。
【0052】
高分子分散液晶層であるポリマー含有層２００は、電圧無印加時に散乱状態であり、電圧印加時に透明状態である。このような態様とすることにより、偏光板を必要としない表示パネル１を実現することができる。より具体的には、電圧無印加時に散乱状態であり、電圧印加時に液晶成分２２０の配向が変化して透明状態となる。表示パネル１はシースルーパネルとして機能する。なお、本明細書では、画素電極１４０と対向電極３２２との間に閾値以上の電圧が印加された電圧印加状態を、単に「電圧印加状態」又は「電圧印加時」ともいい、画素電極１４０と対向電極３２２との間に閾値未満の電圧が印加された（電圧無印加を含む）電圧無印加状態を、単に「電圧無印加状態」又は「電圧無印加時」ともいう。電圧無印加状態とは、より具体的には、２５６階調表示における、０階調状態（Ｖ０）をいう。
【0053】
例えば、ポリマーネットワーク２１０内に、液晶成分２２０が存在した状態である場合、電圧無印加状態において、液晶成分２２０は、ポリマーネットワーク２１０に沿って配向する。入射光は、ポリマーネットワーク２１０と液晶成分２２０との屈折率差によって、光は直進できずに散乱し、曇りガラス状（散乱状態）が実現される。
【0054】
一方、電圧印加状態では、正の誘電率異方性を有する液晶成分２２０がその長軸方向を電界方向と平行に並ぶため、液晶成分２２０は電極（画素電極１４０及び対向電極３２２）に対して垂直に配向する。ここで、常光屈折率がポリマーの屈折率に等しい液晶成分であれば、液晶成分２２０とポリマーネットワーク２１０との屈折率差はなくなり光学的に界面のない状態となる。その結果、入射光は散乱せず直進するため、透明状態が実現される。
【0055】
散乱状態とは、光を散乱する状態である。例えば、散乱状態にある高分子分散液晶層の透過率は、例えば、２０％以下であってよい。また、散乱状態にある高分子分散液晶層の透過率の下限は、例えば０～１％である。本明細書中、散乱状態にある高分子分散液晶層の透過率は、散乱状態にある高分子分散液晶層の平行光線透過率を指す。
【0056】
散乱状態にある高分子分散液晶層の透過率は、例えば、次のようにして求めることができる。光源としてＬＥＤを備える通常のバックライト（液晶表示装置用光源）上に、高分子分散液晶層を備える電圧無印加状態の表示パネルを配置した場合の輝度、及び、上記バックライト上に何も配置しない場合の輝度を、トプコン社製の輝度計（ＳＲ－ＵＬ１）を用いて受光角２°にて測定する。測定波長は、視感度Ｙ値であって、波長約５５０ｎｍとする。上記バックライト上に電圧無印加状態の表示パネルを配置した場合の輝度を、バックライト上に何も配置しない場合の輝度で除することにより、散乱状態にある高分子分散液晶層の透過率を求めることができる。
【0057】
また、散乱状態にある高分子分散液晶層の光散乱率を示すヘイズは、例えば、８０％以上であってよく、９０％以上であってよい。また、散乱状態にある高分子分散液晶層の光散乱率を示すヘイズの上限は、例えば９０～１００％である。本実施形態では、散乱状態にある高分子分散液晶層は、可視光を散乱する。そのため、散乱状態にある高分子分散液晶層は、曇りガラスと同様の状態である。本明細書中、ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した方法で測定される。上記ヘイズは、例えば、日本電色工業社製の濁度計「ＨａｚｅＭｅｔｅｒ ＮＤＨ２０００」等により、光源としてハロゲンランプを用いることができる。
【0058】
透明状態とは、光に対して透明性を有する状態である。例えば、透明状態にある高分子分散液晶層の透過率は２５％以上であってよく、３０％以上であってよい。なお、配線の影響がなければ、透過率は、例えば、６０％以上となる。また、透明状態にある高分子分散液晶層の透過率の上限は、例えば１００％である。本実施形態では、透明状態にある高分子分散液晶層は、可視光に対して透明である。本明細書中、透明状態にある高分子分散液晶層の透過率は、透明状態にある高分子分散液晶層の平行光線透過率を指す。
【0059】
透明状態にある高分子分散液晶層の透過率は、例えば、次のようにして求めることができる。光源としてＬＥＤを備える通常のバックライト（液晶表示装置用光源）上に、高分子分散液晶層を備える電圧印加状態の表示パネルを配置した場合の輝度、及び、上記バックライト上に何も配置しない場合の輝度を、トプコン社製の輝度計（ＳＲ－ＵＬ１）を用いて受光角２°にて測定する。測定波長は、視感度Ｙ値であって、波長約５５０ｎｍとする。上記バックライト上に電圧印加状態の表示パネルを配置した場合の輝度を、バックライト上に何も配置しない場合の輝度で除することにより、透明状態にある高分子分散液晶層の透過率を求めることができる。
【0060】
このように、表示パネル１は、高分子分散液晶層中のポリマーネットワーク２１０と液晶成分２２０とのｎｅの屈折率差、及び、ｎｏの屈折率差を変えることで、表示パネル１を透過する光の量を調整するため、一般的な液晶表示パネルで必要とされる偏光板を必要としない。
【0061】
光硬化モノマーは室温で液晶成分２２０と相溶し、紫外線照射により硬化してポリマーが形成される場合に液晶成分２２０と相分離するものである。光硬化モノマーの重合に用いられる光の波長は、３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３４０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下であることがより好ましく、３５０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【0062】
光硬化モノマーは、例えば、下記式（Ｍ１）～（Ｍ２１）で表される反応性基を有することが好ましい。
【0063】
【化1】
【0064】
【化2】
【0065】
【化3】
【0066】
【化4】
【0067】
【化5】
【0068】
上記式（Ｍ１）～（Ｍ２１）で表される反応性基を有する光硬化モノマーとしては、具体的には、（Ｍ１）～（Ｍ３）で表される反応性基を有するアクリル系モノマー、（Ｍ４）で表される反応性基を有するアリルエーテル系モノマー、例えば、ジアリルエーテル、ビスフェノールＡジアリルエーテル、ビスフェノールＡジアリルエーテル、ノボラック樹脂のポリアリルエーテル等、（Ｍ７）～（Ｍ１０）で表される反応性基を有するエポキシ化合物、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、（Ｍ１１）で表される反応性基を有する３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、（Ｍ１２）、（Ｍ１３）で表される反応性基を有するオキセタン系化合物、例えば、エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＡ）や３－エチル－３－クロロメチルオキセタン（ＯＸＣ）、（Ｍ１４）で表される反応性基を有するマレイミド系化合物、例えば、マレイミドエチルアセテートやポリアルキレンエーテルビスマレイミド、等が好ましいが、本実施形態では特に（Ｍ１）又は（Ｍ２）で表される反応性基を有するアクリル系モノマーが密着性の改善効果の点から好ましい。
【0069】
上記アクリル系モノマーとしては、具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられ、またその他、多官能のウレタンオリゴマー、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。
【0070】
また、上記した反応性基を有する光硬化モノマーのなかでも、密着性の改善効果や耐熱サイクル性に優れる点から反応性基を３つ以上有する化合物を含有することがより好ましく、４つ以上有する化合物を含有することが更により好ましい。
【0071】
また、光硬化モノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。更に、光硬化モノマーは、分子構造内に水酸基等の親水性基を有することが密着性や耐熱サイクル性の改善効果が顕著なものとなる点から好ましく、特に４つ以上の反応性を持つ化合物を含む混合物であって、該混合物中、親水性基を有する化合物を４０～８０質量％となる割合で含む混合物として用いることが特に好ましい。
【0072】
重合開始剤は必要に応じて添加してもよい。熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パ－オキシジカーボネイト、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパ－オキシ）３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、ｐ－ペンタハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ（３－メチル－３－メトキシブチル）パーオキシジカーボネイト、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’－アゾビス（２－メチル－Ｎ－フェニルプロピオン－アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２－メチル－Ｎ－［１，１－ビス（ヒドロキシメチル）－２－ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４－トリメチルペンタン）等のアルキルアゾ化合物等を使用することができる。具体的には、和光純薬工業株式会社製の「Ｖ－４０」、「ＶＦ－０９６」、日本油脂株式会社（現日油株式会社）の「パーへキシルＤ」、「パーへキシルＩ」等が挙げられる。
光重合開始剤としては、例えばＢＡＳＦ社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「ダロキュア１１７３」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア１８００」、「イルガキュア２５０」、「イルガキュア７５４」、「イルガキュア７８４」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「イルガキュアＯＸＥ０４」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」、「ダロキュアＭＢＦ」やＬＡＭＢＳＯＮ社製の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬社製の「カヤキュアＤＭＢＩ」、日本シイベルヘグナー社製（現ＤＫＳＨ社）の「ＴＡＺ－Ａ」、ＡＤＥＫＡ社製の「アデカオプトマーＳＰ－１５２」、「アデカオプトマーＳＰ－１７０」、「アデカオプトマーＮ－１４１４」、「アデカオプトマーＮ－１６０６」、「アデカオプトマーＮ－１７１７」、「アデカオプトマーＮ－１９１９」、ＵＣＣ社製の「サイラキュアーＵＶＩ－６９９０」、「サイラキュアーＵＶＩ－６９７４」や「サイラキュアーＵＶＩ－６９９２」、旭電化工業社製の「アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５２、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７２」やローディア製の「ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４」、ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア２５０」、ＧＥシリコンズ社製の 「ＵＶ－９３８０Ｃ」、みどり化学社製の「ＤＴＳ－１０２」等が挙げられる。
またカチオン重合を行う場合は、例えばＵＶＡＣＵＲＥ１５９０（ダイセル・サイテック製）、ＣＰＩ－１１０Ｐ（サンアプロ製）、などのスルホニウム塩やＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ＷＰＩ－１１３（和光純薬製）、Ｒｐ－２０７４（ローディア・ジャパン製）等のヨードニウム塩が挙げられる。
光重合開始剤としては、例えばＢＡＳＦ社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「ダロキュア１１７３」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア１８００」、「イルガキュア２５０」、「イルガキュア７５４」、「イルガキュア７８４」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「イルガキュアＯＸＥ０４」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」、「ダロキュアＭＢＦ」やＬＡＭＢＳＯＮ社製の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬社製の「カヤキュアＤＭＢＩ」、日本シイベルヘグナー社製（現ＤＫＳＨ社）の「ＴＡＺ－Ａ」、ＡＤＥＫＡ社製の「アデカオプトマーＳＰ－１５２」、「アデカオプトマーＳＰ－１７０」、「アデカオプトマーＮ－１４１４」、「アデカオプトマーＮ－１６０６」、「アデカオプトマーＮ－１７１７」、「アデカオプトマーＮ－１９１９」、ＵＣＣ社製の「サイラキュアーＵＶＩ－６９９０」、「サイラキュアーＵＶＩ－６９７４」や「サイラキュアーＵＶＩ－６９９２」、旭電化工業社製の「アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５２、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７２」やローディア製の「ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４」、ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア２５０」、ＧＥシリコンズ社製の 「ＵＶ－９３８０Ｃ」、みどり化学社製の「ＤＴＳ－１０２」等が挙げられる。
またカチオン重合を行う場合は、例えばＵＶＡＣＵＲＥ１５９０（ダイセル・サイテック製）、ＣＰＩ－１１０Ｐ（サンアプロ製）、などのスルホニウム塩やＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ＷＰＩ－１１３（和光純薬製）、Ｒｐ－２０７４（ローディア・ジャパン製）等のヨードニウム塩が挙げられる。
【0073】
電子線硬化する場合は、重合開始剤はあってもなくてもよい。
【0074】
これら重合開始剤の使用量は光硬化モノマーに対して０．１～１０質量部が好ましく、０．５～５質量部が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また必要に応じて増感剤等も用いてもよい。
【0075】
液晶成分２２０は、アクリレート、メタクリレート、マレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、シロキサンなどの重合性基を有していなくてよい。
【0076】
本実施形態において、液晶成分２２０は、下記式（Ｌ）で定義される誘電率異方性（Δε）が正の値を有するものであってもよく、負の値を有するものであってもよい。
Δε＝（液晶成分の長軸方向の誘電率）－（液晶成分の短軸方向の誘電率） （Ｌ）
Δε＝（液晶成分の長軸方向の誘電率）－（液晶成分の短軸方向の誘電率） （Ｌ）
【0077】
正の誘電率異方性を有する液晶成分（液晶分子）は電界方向と平行方向に配向し、負の誘電率異方性を有する液晶成分は電界方向と垂直方向に配向する。なお、正の誘電率異方性を有する液晶成分はポジ型液晶ともいい、負の誘電率異方性を有する液晶成分はネガ型液晶ともいう。また、液晶成分の長軸方向が遅相軸の方向となる。また、電圧無印加時における液晶成分の長軸の方向は、液晶成分の初期配向の方向ともいう。
【0078】
液晶成分２２０としては、例えば、トラン系の液晶材料（－Ｃ≡Ｃ－（炭素炭素三重結合）を連結基として有する液晶材料）を用いることができる。
【0079】
液晶成分２２０の屈折率異方性Δｎは、０．１８以上、０．２４以下であり、液晶成分２２０の誘電率異方性Δεは、１５以上、２５以下であり、液晶成分２２０の回転粘性γ１は、１００ｍＰａ・ｓ以上、３００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。このような態様とすることにより、強散乱及び低電圧駆動の両立可能とし、かつ、ポリマーネットワークを含有しない通常の液晶表示装置と同等の応答速度を実現することができる。液晶成分２２０の屈折率異方性Δｎ、誘電率異方性Δε及び回転粘性γ１が全て上記の範囲内となることによりこのような効果を実現することができる。
【0080】
トラン系の液晶材料の具体例としては、下記一般式（Ｌ１）で表される構造を有する液晶材料が挙げられる。
【0081】
【化6】
【0082】
上記一般式（Ｌ１）におけるｎ１及びｎ２は、同時に０となることはない。すなわち、ｎ１及びｎ２の和は１又は２である。
【0083】
上記一般式（Ｌ１）における芳香環基は置換基を有していてもよい。
【0084】
上記一般式（Ｌ１）中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、下記一般式（Ｌ２－１）～（Ｌ２－７）のいずれかの構造であることが好ましい。
【0085】
【化7】
【0086】
上記一般式（Ｌ１）で表わされる構造を有する液晶材料の具体的構造としては、例えば以下の構造が挙げられる。
【0087】
【化8】
【0088】
液晶成分２２０とポリマーネットワーク２１０との重量比は、液晶成分：ポリマーネットワーク＝７：３～９：１であることが好ましい。すなわち、液晶成分２２０の重量比が７以上、９以下であり、液晶成分２２０の重量比が７以上であるとき、ポリマーネットワーク２１０の重量比は３以下であり、液晶成分２２０の重量比が９以下であるとき、ポリマーネットワーク２１０の重量比は１以上であることが好ましい。このような態様とすることにより、強散乱及び低電圧駆動を効果的に両立させることが可能となる。ポリマーネットワーク２１０の重量比が１０を超えると強散乱は得られるが駆動電圧が高くなり、ポリマーネットワーク２１０の重量比が３未満であると駆動電圧は抑えられるが強散乱が得られない場合がある。なお、散乱度及び駆動電圧は、液晶成分２２０とポリマーネットワーク２１０との重量比に加えて、ネットワークサイズ及びネットワークを形成している成分等を調整することにより、効果的に制御することができる。
【0089】
第２の基板３００は、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部３２０が額縁領域１ＮＡに配置されていない。このような態様とすることにより、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光が、第２の基板３００の額縁領域１ＮＡ全体を透過可能となり、額縁領域１ＮＡにおいて、光硬化モノマーの重合が促進され、ポリマー含有層２００における残存モノマー（未反応モノマー）の量を抑制することができる。その結果、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制することができる。
【0090】
上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る遮光部３２０が額縁領域１ＮＡに配置されていないとは、実質的に額縁領域１ＮＡ全体に遮光部３２０が配置されていないことをいう。
【0091】
第２の基板３００は、表示領域１ＡＡに重畳し、かつ、額縁領域１ＮＡに重畳しない遮光部３２０を備える。遮光部３２０は、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を遮る機能を有する。遮光部３２０は、例えば、光吸収度の指標となるＯＤ値３以上の光学特性を有していればよい。遮光部３２０のＯＤ値は、３．５以上であることが好ましく、４以上であることが更に好ましい。遮光部３２０のＯＤ値の上限は特に限定されないが、例えば、６以下である。
【0092】
測定波長λでのＯＤ値（ＯＤ（λ））は、下記式により求めることができる。測定波長λは、例えば、光硬化モノマーの重合に用いられる波長である。ＯＤ値は、Ｋｏｌｌｍｏｒｇｅｎ社製、ＴＤ－９０４にてマクベス濃度測定法により測定することができる。
ＯＤ（λ）＝Ｌｏｇ１０［Ｔ（λ）／Ｉ（λ）］＝Ｌｏｇ１０Ｔ（λ）－Ｌｏｇ１０Ｉ（λ）
λは測定波長、Ｔ（λ）は測定波長における透過光量、Ｉ（λ）は測定波長における入射光量を表す。
ＯＤ（λ）＝Ｌｏｇ１０［Ｔ（λ）／Ｉ（λ）］＝Ｌｏｇ１０Ｔ（λ）－Ｌｏｇ１０Ｉ（λ）
λは測定波長、Ｔ（λ）は測定波長における透過光量、Ｉ（λ）は測定波長における入射光量を表す。
【0093】
遮光部３２０は、第２の支持基板３１０とポリマー含有層２００との間に配置される。遮光部３２０は、例えば、ブラックマトリクス層であることが好ましい。ブラックマトリクス層は、黒色顔料を含有した樹脂材料、又は、遮光性を有する金属材料が好適に用いられる。ブラックマトリクス層は、例えば、黒色顔料を含む感光性樹脂を塗布して成膜し、露光及び現像等を行うフォトリソグラフィ法により形成される。
【0094】
第１の基板１００は、互いに平行に延設された複数のゲート線と、絶縁層を介して上記複数のゲート線と交差する方向に互いに平行に延設され複数のソース線１０１Ｓと、を備え、表示領域１ＡＡにおいて、複数のゲート線及び複数のソース線１０１Ｓと重畳する位置にブラックマトリクス層が設けられており、遮光部３２０としてのブラックマトリクス層が額縁領域１ＮＡに配置されていないことが好ましい。このような態様とすることにより、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制しつつ、表示領域１ＡＡにおける反射を抑制することができる。
【0095】
第２の基板３００は、額縁領域１ＮＡにおいて、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を透過する着色部３２１ａを備えていてもよい。このような態様とすることにより、着色部３２１ａを表示パネル１の額縁として機能させることができる。着色部３２１ａは、例えば、オーバーコート層３２１の額縁領域１ＮＡを着色することにより得られる。
【0096】
着色部３２１ａは、第２の支持基板３１０とポリマー含有層２００との間に配置される。着色部３２１ａは、上記光硬化モノマーの重合に用いられる波長以外の波長の光を透過してもよい。例えば、光硬化モノマー波長４００ｎｍの光で重合する場合、着色部３２１ａは、波長４００ｎｍの光に加えて、４００ｎｍ以外の波長の光を透過してもよい。
【0097】
なお、オーバーコート層３２１は、着色部３２１ａを有さないことも好ましい。このような態様とすることにより、当該領域を、表示領域１ＡＡの透過部と同じ状態とすることが可能となり、表示不良等の不具合を抑えることができ、かつ、生産性を向上させることができる。
【0098】
表示パネル１は、更に、第１の基板１００のポリマー含有層２００と反対側の額縁領域１ＮＡ及び第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側の額縁領域１ＮＡの少なくとも一方の額縁領域１ＮＡに、インク部５００を備えることが好ましい。このような態様とすることにより、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａが光に曝されることにより電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。また、表示パネル１の額縁反射を抑えることができる。インク部５００は、表示パネル１の額縁として機能する。
【0099】
本実施形態では、図４に示すように、第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側の額縁領域１ＮＡに、第２の基板側インク部５２０が配置される態様について説明する。
【0100】
インク部５００は、光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を透過してもよいし、透過しなくてもよいが、光硬化モノマーの重合に用いられる波長の光を透過しない方が好ましい。このような態様とすることにより、光硬化モノマーの分解等を抑えることができる。インク部５００は、例えば、顔料及び染料の少なくとも一方により色付けされた部材である。第２の基板側インク部５２０は、例えば、後述する第２の基板側フィルム６２０の額縁領域１ＮＡに加色印刷を施すことにより得られる。
【0101】
表示パネル１は、第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側に、第２の基板側フィルム６２０を備えていてもよい。第２の基板側フィルム６２０は、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ））フィルム等の保護フィルム等である。また、粘着剤にＵＶ吸収粘着剤を用いることにより、第２の基板側フィルム６２０としてＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルムを用いることもできる。第２の基板側フィルム６２０の厚みは特に限定されないが、例えば、５０μｍ以上、３００μｍ以下である。
【0102】
表示パネル１は、第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側に位置する第２の基板側フィルム６２０を備え、インク部５００は、第２の基板側フィルム６２０と第２の基板３００との間、及び、第２の基板側フィルム６２０の第２の基板３００と反対側の少なくとも一方に位置する第２の基板側インク部５２０を備えることが好ましい。このような態様とすることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができる。
【0103】
図５、実施形態１に係る表示パネルにおいて、第２の基板側インク部が、第２の基板側フィルムの第２の基板と反対側に位置する場合について説明する断面模式図である。図６は、実施形態１に係る表示パネルにおいて、第２の基板側インク部が、第２の基板側フィルムと第２の基板との間に設けられる場合について説明する断面模式図である。
【0104】
第２の基板側インク部５２０は、第２の基板側フィルム６２０と第２の基板３００との間に位置することが好ましい。このような態様とすることにより、図５に示すように、第２の基板側インク部５２０が第２の基板側フィルム６２０の第２の基板３００と反対側に位置する場合に比べて、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができる。
【0105】
図４、図５及び図６に示すように、インク部５００と画素電極１４０との距離５００Ｄが大きいほど、斜めから観察したときに視認される画素外（額縁領域１ＮＡ）の面積が大きくなる。そのため第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側に加色印刷を行って第２の基板側インク部５２０を設けることが好ましい。
【0106】
第２の基板側フィルム６２０は、ＵＶカットフィルム６２１であることが好ましい。このような態様とすることにより、表示領域１ＡＡの画素配線下などに存在する僅かな残存モノマーが太陽光や蛍光灯などに含まれる紫外光によって露光され、ムラが発生してしまうのを抑え、表示品位の低下を抑制することができる。ＵＶカットフィルムとしては、基材そのものが紫外線を吸収するＴＡＣフィルム等の保護フィルムが挙げられる。
【0107】
表示パネル１は、第１の基板１００のポリマー含有層２００と反対側に、第１の基板側フィルム６１０を備えていてもよい。第１の基板側フィルム６１０は、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ））フィルム等の保護フィルム等である。また、粘着剤にＵＶ吸収粘着剤を用いることにより、第１の基板側フィルム６１０としてＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルムを用いることもできる。第１の基板側フィルム６１０の厚みは特に限定されないが、例えば、５０μｍ以上、３００μｍ以下である。
【0108】
第１の基板側フィルム６１０は、ＵＶカットフィルム６１１であることが好ましい。このような態様とすることにより、表示領域１ＡＡの画素配線下などに存在する僅かな残存モノマーが太陽光や蛍光灯などに含まれる紫外光によって露光され、ムラが発生してしまうのを抑え、表示品位の低下を抑制することができる。ＵＶカットフィルムとしては、基材そのものが紫外線を吸収するＴＡＣフィルム等の保護フィルムが挙げられる。
【0109】
表示パネル１は、第１の基板１００と第１の基板側フィルム６１０との間に、第１の粘着剤層７１０を備える。第１の粘着剤層７１０の厚みは特に限定されないが、例えば、１５μｍ以上、５０μ以下であり、１５μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましい。
【0110】
同様に、表示パネル１は、第２の基板３００と第２の基板側フィルム６２０との間に、第２の粘着剤層７２０を備える。第２の粘着剤層７２０の厚みは特に限定されないが、例えば、１５μｍ以上、５０μ以下であり、１５μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましい。
【0111】
粘着剤層は、隣り合う部材の面と面とを接合し、実用上充分な接着力と接着時間で一体化させるものをいう。粘着剤層を形成する材料としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系等の樹脂材料等が挙げられる。
【0112】
第１の粘着剤層７１０は、ＵＶ吸収剤を含有することが好ましい。このような態様とすることにより、表示領域１ＡＡの画素配線下などに存在する僅かな残存モノマーが太陽光や蛍光灯などに含まれる紫外光によって露光され、ムラが発生してしまうのを抑えることができる。
【0113】
同様に、第２の粘着剤層７２０は、ＵＶ吸収剤を含有することが好ましい。
【0114】
ＵＶ吸収剤は、例えば、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤、トリアジン系ＵＶ吸収剤、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤のうちの少なくとも１種を含有する。
【0115】
ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としては、公知の化合物を使用することができる。具体的には、オクチル３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル］プロピオネート、２－エチルヘキシル３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル）プロピオネート、［３－［３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－メチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］－１－オキソプロピル］－ｗ－［３－［３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］－１－オキソプロポキシ］ポリ（オキシ－１，２－エタンジイル）、（３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル）－１－オキソプロピル）－ヒドロキシポリ（オキソ－１，２－エタンジイル）、２－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジタートペンチルフェノール、３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾリル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ－ベンジルプロピオン酸オクチルエステル、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノールなどが好ましい。
【0116】
トリアジン系ＵＶ吸収剤としては、公知の化合物を使用することができる。具体的には、２－（４，６－ジメチル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（（ヘキシル）オキシ）－フェノール、２－（４－（２－ヒドロキシ－３－トリデシルオキシプロピル）オキシ）－２－ヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－（２－ヒドロキシ－３－ジデシルオキシプロピル）オキシ）－２－ヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－（３－（２－エチルヘキシル－１－オキシ）－２－ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，２’－［６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル］ビス（５－ブトキシフェノール）、６－メチルヘプチル２－｛４－［４，６－ジ（４－ビフェニリル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－３－ヒドロキシフェノキシ｝プロパノエートなどが挙げられる。
【0117】
ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としては、公知の化合物を使用することができる。具体的には、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【0118】
図７は、実施形態１に係る表示パネルの製造方法を示す模式図である。本実施形態の表示パネル１の製造方法は、スイッチング素子としてのＴＦＴ１２０を有する第１の基板１００と、画像を表示する表示領域１ＡＡの周囲に設けられた額縁領域１ＮＡに遮光部３２０を備えない第２の基板３００との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体１０に対して、第２の基板３００側から光Ｌを照射する露光工程を備える。このような態様とすることにより、パネル前駆体１０の額縁領域１ＮＡにおいて光硬化モノマーの重合が促進され、光硬化モノマーが重合することにより形成されるポリマー含有層２００において残存モノマー（未反応モノマー）の量を抑制することができる。その結果、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラを抑制することができる。このように、本実施形態では残存モノマーを抑制することができるので、残存モノマーを抑制するために露光量を上げ過ぎる必要が無く、良好な表示パネル１を得ることができる。これにより、焼き付きも抑制することができる。
【0119】
図７に示すように、第１の基板１００は、互いに平行に延設された複数のゲート線１０１Ｇと、絶縁層を介して複数のゲート線１０１Ｇと交差する方向に互いに平行に延設され複数のソース線１０１Ｓと、ＴＦＴ１２０と、を備え、額縁領域１ＮＡにＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａを有する。一方、第２の基板３００は、額縁領域１ＮＡに遮光部３２０を有さない。第２の基板３００は、表示領域１ＡＡに遮光部３２０を有する。
【0120】
パネル前駆体１０は、例えば、第１の基板１００又は第２の基板３００にシール材を塗布し、上記シール材に囲まれた領域内に上記組成物を形成した後、第１の基板１００及び第２の基板３００をシール材により貼り合わせることにより製造することができる。なお、シール材に囲まれた領域内に上記組成物を充填するのは、第１の基板１００及び第２の基板３００を貼り合せた後に行うこともできる。具体的には、シール描画パターンに注入口を設けておき、真空チャンバー内で液晶を注入する真空注入方式が挙げられる。
【0121】
パネル前駆体１０を露光して光硬化モノマーを重合させることによりポリマー含有層２００を形成し、ＴＦＴ１２０を備える第１の基板１００、ポリマー含有層２００、及び、第２の基板３００を順に備える表示パネル１を実現することができる。
【0122】
図７に示すように、本実施形態の表示パネル１の製造方法は、上記露光工程の後、第２の基板側インク部５２０が額縁領域１ＮＡに配置された第２の基板側フィルム６２０を、第２の基板３００の第１の基板１００と反対側に貼り合わせる貼合工程を備えていてもよい。このような態様とすることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができる。
【0123】
従来の製造方法でパネル露光を行う場合、残存モノマーを抑制する観点から、ブラックマトリクスを備える基板よりも遮光エリアが少ないＴＦＴ基板側から露光が行われている。しかしながら、当該ＴＦＴ基板が備える遮光部材の影は充分に露光されず、残存モノマーが発生して表示ムラを発生させてしまう。
【0124】
一方、本実施形態では、額縁領域１ＮＡにブラックマトリクス等の遮光部３２０を有さない第２の基板３００を用い、第２の基板３００側から露光することにより、額縁領域１ＮＡで未反応モノマーが残存することを抑制できる。当該方法により作製した表示パネルは、そのままの状態であれば、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａが光に曝されることで電気特性が影響を受ける可能性がある。そのため、実装でパネルに貼り合されるフィルム（例えばＵＶカットフィルム）の額縁領域を加色印刷することで、電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。このように、本実施形態では、第１の基板１００、ポリマー含有層２００及び第２の基板３００から構成されるパネルを作製後、額縁領域１ＮＡを加色印刷したＵＶカットフィルムを貼ることにより、表示パネル１に額縁を設けることができる。
【0125】
（実施形態１の変形例１）
上記実施形態１では、インク部５００が、第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側の額縁領域１ＮＡに配置される態様について説明したが、インク部５００は、第２の基板３００側に加えて、第１の基板１００側に配置されてもよい。
上記実施形態１では、インク部５００が、第２の基板３００のポリマー含有層２００と反対側の額縁領域１ＮＡに配置される態様について説明したが、インク部５００は、第２の基板３００側に加えて、第１の基板１００側に配置されてもよい。
【0126】
図８は、実施形態１の変形例１に係る表示パネルの断面模式図である。図８に示すように、本変形例の表示パネル１は、第１の基板１００のポリマー含有層２００と反対側に位置する第１の基板側フィルム６１０を備え、インク部５００は、第１の基板側フィルム６１０と第１の基板１００との間、及び、第１の基板側フィルム６１０の第１の基板１００と反対側の少なくとも一方に位置する第１の基板側インク部５１０を備える。このような態様とすることにより、第１の基板１００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。また、表示パネル１の第１の基板１００側の額縁反射を抑えることができる。
【0127】
第１の基板側インク部５１０は、例えば、第１の基板側フィルム６１０の額縁領域１ＮＡに加色印刷を施すことにより得られる。
【0128】
第１の基板側インク部５１０は、第１の基板側フィルム６１０と第１の基板１００との間に位置することが好ましい。このような態様とすることにより、第２の基板側インク部５２０の場合と同様に、第１の基板側インク部５１０が第１の基板側フィルム６１０の第１の基板１００と反対側に位置する場合に比べて、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができる。
【0129】
図９は、実施形態１に係る表示パネルの額縁反射について説明する断面模式図である。図１０は、実施形態１の変形例１に係る表示パネルの額縁反射について説明する断面模式図である。図１１は、実施形態１に係る表示パネル及び実施形態１の変形例１に係る表示パネルの額縁反射を比較した表である。
【0130】
ポリマー含有層２００が高分子分散液晶層である場合、表示パネル１は両面から視認可能なシースルーパネルとして機能する。バックライト付きの表示パネルはＴＦＴ基板側から視認されることはないが、バックライトを有さず両面から視認可能なシースルーディスプレイはＴＦＴ基板側からも視認される。
【0131】
図９に示すように、上記実施形態１における第１の基板側フィルム６１０はインク部を有さないＵＶカットフィルム６１１であり、第２の基板側フィルム６２０は額縁領域１ＮＡに第２の基板側インク部５２０を有するＵＶカットフィルム６２１である。図９及び図１１に示すように、実施形態１の表示パネル１では、第２の基板３００側に額縁加色印刷のＵＶカットフィルムを貼り合わせることで、対向基板である第２の基板３００側の額縁反射は抑えられる。しかしながら、ＴＦＴ基板である第１の基板１００側には額縁加色印刷が施されていないため、額縁の金属反射が目立つ場合がある。
【0132】
一方、図１０に示すように、本変形例における第１の基板側フィルム６１０は額縁領域１ＮＡに第１の基板側インク部５１０を有するＵＶカットフィルム６１１であり、第２の基板側フィルム６２０は額縁領域１ＮＡに第２の基板側インク部５２０を有するＵＶカットフィルム６２１である。図１０及び図１１に示すように、本変形例の表示パネル１では、第２の基板３００と同様に第１の基板１００側にも額縁加色印刷のＵＶカットフィルム６１１を貼り合わせることで、第１の基板１００側及び第２の基板３００側の額縁反射が抑えられ、第１の基板１００側からも第２の基板３００側からも同等の見栄えの表示パネルを実現することができる。
【0133】
このように、実施形態１の表示パネル１では、第１の基板１００側から見る際は、金属反射による表示品位の低下が起こり易く、特に配線面積の大きい額縁領域１ＮＡの反射が目立ってしまう。しかしながら、本変形例のように、第２の基板３００側と同様に、第１の基板１００側にも額縁領域１ＮＡにインク部５００が配置されることにより、額縁領域１ＮＡの金属反射を低減し、表示品位を向上させることができる。
【0134】
本変形例の表示パネル１の製造方法は、上記露光工程の後、更に、第１の基板側インク部５１０が額縁領域１ＮＡに配置された第１の基板側フィルム６１０を、第１の基板１００の第２の基板３００と反対側に貼り合わせる貼合工程を備えていてもよい。このような態様とすることにより、第１の基板１００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができる。また、表示パネル１の第１の基板１００側の額縁反射を抑えることができる。
【0135】
（実施形態１の変形例２）
図１２は、実施形態１の変形例１に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。図１３は、実施形態１の変形例２に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。
図１２は、実施形態１の変形例１に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。図１３は、実施形態１の変形例２に係る表示パネルが備える第１の基板側フィルムの平面模式図である。
【0136】
図１２に示すように、上記変形例１では、第１の基板側フィルム６１０の額縁領域１ＮＡにのみ加色印刷が施される。すなわち、第１の基板側インク部５１０が額縁領域１ＮＡにのみ設けられる。一方、本変形例では、図１３に示すように、第１の基板側フィルム６１０の額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡの配線位置にも加色印刷が施される。すなわち、第１の基板側インク部５１０が額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡにも設けられる。具体的には、第１の基板側インク部５１０は、表示領域１ＡＡにおいてソース線１０１Ｓ及びゲート線と重畳する。
【0137】
ここで、ＴＦＴ基板である第１の基板１００は金属配線を備えるため、対向基板である第２の基板３００に比べて第１の基板１００は反射率が高く、外光の影響を受けて視認性が低下する場合がある。上記変形例１では、図１２に示すように、額縁領域１ＮＡのみに加色印刷が施された第１の基板側フィルム６１０を貼り合わせるため、額縁領域１ＮＡの反射は抑えられるが、表示領域１ＡＡでの反射を低減することは困難である。
【0138】
一方、本変形例では、図１３に示すように、額縁領域１ＮＡだけでなく表示領域１ＡＡの画素配線に合わせて加色印刷した第１の基板側フィルム６１０を貼り合わせるため、額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡの反射も抑えることが可能となるため、視認性を向上させることができる。
【0139】
（実施形態１の変形例３）
上記実施形態１及び変形例１～２では、ポリマー含有層２００が光硬化モノマーの重合体により構成されるポリマーネットワーク２１０と、液晶成分２２０と、を含有する態様について説明したが、本変形例では、ポリマー含有層２００が、第１の基板１００及び第２の基板３００の表面に位置する一対のポリマー層と、上記一対のポリマー層の間に位置する液晶成分と、を含有する態様について説明する。
上記実施形態１及び変形例１～２では、ポリマー含有層２００が光硬化モノマーの重合体により構成されるポリマーネットワーク２１０と、液晶成分２２０と、を含有する態様について説明したが、本変形例では、ポリマー含有層２００が、第１の基板１００及び第２の基板３００の表面に位置する一対のポリマー層と、上記一対のポリマー層の間に位置する液晶成分と、を含有する態様について説明する。
【0140】
図１４は、実施形態１の変形例３に係る表示パネルとバックライトとを備える液晶表示装置の断面模式図である。上記実施形態１及び変形例１～２におけるポリマー含有層２００は、ポリマーネットワーク２１０中に液晶成分２２０が相分離した高分子分散液晶層であるが、本変形例のポリマー含有層２００は、図１４に示すように、上記光硬化モノマーの重合体により構成され、かつ、第１の基板１００側の表面及び第２の基板３００側の表面に位置する一対のポリマー層２３０と、一対のポリマー層２３０の間に位置する液晶成分２２０と、を含有する。
【0141】
ポリマー層２３０は、液晶成分２２０の配向を制御する層であり、配向維持層（ＰＳＡ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）ともいう。ポリマー層２３０は、例えば、液晶材料に、モノマーやオリゴマー等の重合性成分を混合した液晶組成物をアレイ基板と対向基板との間に封入し、熱又は光（例えば、紫外線）照射によって、モノマー等を重合させて形成することができる。本変形例において、液晶成分２２０とポリマーネットワーク２１０との重量比は、液晶成分：ポリマーネットワーク＝９９．０：１．０～９９．９：０．１であることが好ましい。このような態様とすることにより、ポリマー層２３０が配向維持層として効果的に機能する。
【0142】
図１４に示すように、本変形例の第２の基板３００は、カラーフィルタ層３３０を備える。カラーフィルタ層３３０を備える第２の基板３００は、カラーフィルタ基板ともいう。カラーフィルタ層３３０は、赤色カラーフィルタ３３０Ｒ、緑色カラーフィルタ３３０Ｇ及び青色カラーフィルタ３３０Ｂから構成され、各画素に、赤色カラーフィルタ３３０Ｒを備える絵素、緑色カラーフィルタ３３０Ｇを備える絵素及び青色カラーフィルタ３３０Ｂを備える絵素の３つの絵素がストライプ状に設けられている。赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタは、例えば、顔料を含有する透明樹脂で構成されている。通常、すべての画素に赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタの組み合わせが配置され、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタを透過する色光の量を制御しつつ混色させることで各画素において所望の色が得られる。
【0143】
本変形例の第１の基板側フィルム６１０は、第１の偏光子６１２である。また、第２の基板側フィルム６２０は、第２の偏光子６２２である。第１の偏光子６１２及び第２の偏光子６２２（以下、単に偏光子ともいう）は、いずれも吸収型偏光子であり、互いに吸収軸が直交したクロスニコルの配置関係にある。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素錯体（又は染料）等の異方性材料を、染色及び吸着させてから延伸配向させた偏光子（吸収型偏光子）等を用いることができる。なお、一般的には、機械強度及び耐湿熱性を確保するために、ポリビニルアルコールフィルムの両側にトリアセチルセルロースフィルム等の保護フィルムが積層された状態で実用に供される。本明細書中、「偏光子」とは、直線偏光子（吸収型偏光子）を指し、円偏光板とは区別される。
【0144】
図１４に示す液晶表示装置２は、表示パネル１と、表示パネル１の背面側に配置されたバックライト８００と、を備える。バックライト８００としては、液晶表示装置の分野において通常使用されるものを用いることができる。バックライト８００としては、可視光を含む光を発するものであれば特に限定されず、可視光のみを含む光を発するものであってもよく、可視光及び紫外光の両方を含む光を発するものであってもよい。液晶表示装置２によるカラー表示を可能とするためには、白色光を発するバックライトが好適に用いられる。
【0145】
バックライト８００は、表示パネル１の背面側に配置され、バックライト８００で生じた光を、表示パネル１のポリマー含有層２００を透過させ、観察面側に出射できればよく、直下型であっても、エッジライト型であってもよい。バックライト８００の光源の種類は特に限定されず、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、冷陰極管（ＣＣＦＬ）等が挙げられる。バックライト８００が発した光は、ポリマー含有層２００への印加電圧によって、表示パネル１を透過する光量が制御される。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長３８０ｎｍ以上、８００ｎｍ未満の光（電磁波）を意味する。
【0146】
図１４に示すように、インク部５００と画素電極１４０との距離５００Ｄが大きいほど、斜めから観察したときに視認される画素外（額縁領域１ＮＡ）の面積が大きくなる。そのため、第２の基板側フィルム６２０としての第２の偏光子６２２の粘着剤層側に加色印刷が施されることが好ましい。すなわち、第２の基板側フィルム６２０としての第２の偏光子６２２と第２の粘着剤層７２０との間にインク部５００を設けることが好ましい。
【0147】
（実施形態１の変形例４）
図１５は、実施形態１の変形例４に係る表示パネルの製造方法を示した模式図である。図１５に示すように、本変形例の表示パネル１は、更に、筐体９００を含み、インク部５００は、筐体９００と同色である。このような態様とすることにより、額縁色と筐体色とを一致させることが可能となるため、額縁領域１ＮＡと筐体９００との境界が強調されず、見栄えを向上させることができる。
図１５は、実施形態１の変形例４に係る表示パネルの製造方法を示した模式図である。図１５に示すように、本変形例の表示パネル１は、更に、筐体９００を含み、インク部５００は、筐体９００と同色である。このような態様とすることにより、額縁色と筐体色とを一致させることが可能となるため、額縁領域１ＮＡと筐体９００との境界が強調されず、見栄えを向上させることができる。
【0148】
同色であるとは、厳密な意味で同じ色であることまで必要ではなく、例えば、ＪＩＳＺ８７３０に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色差が２０以内の色であることをいう。同色であるとは、上記色差が０を超え、０．５以下であることが好ましい。
【0149】
本変形例の表示パネルは、次のように作製することができる。図１５に示すように、スイッチング素子としてのＴＦＴ１２０を有する第１の基板１００と、額縁領域１ＮＡに遮光部３２０を備えない第２の基板３００との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体１０に対して、第２の基板３００側から光Ｌを照射する。
【0150】
更に、第１の基板１００の第２の基板３００と反対側に、第１の粘着剤層７１０を介して第１の基板側フィルム６１０としてのＵＶカットフィルム６１１を貼り合わせる。同様に、第２の基板３００の第１の基板１００と反対側に、第２の粘着剤層７２０を介して第２の基板側フィルム６２０としてのＵＶカットフィルム６２１を貼り合わせる。なお、第１の基板側フィルム６１０の第１の粘着剤層７１０側の額縁領域１ＮＡ、及び、第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側の額縁領域１ＮＡの少なくとも一方には、後述の工程で説明する筐体９００と同色の加色印刷が施されている。当該加色印刷部分は、インク部５００（第１の基板側インク部５１０、第２の基板側インク部５２０）に相当する。一例として、図１５は、第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側の額縁領域１ＮＡに、第２の基板側インク部５２０を備える態様を示している。
【0151】
以上のようにして得られた、ＵＶカットフィルム付きの積層体を、インク部５００と同色の筐体９００にはめ込むことにより、本変形例の表示パネル１が得られる。
【0152】
（実施形態１の変形例５）
図１６は、実施形態１の変形例５に係る表示パネルを示す断面模式図である。図１６に示すように、本変形例の表示パネル１は、第１の基板１００とポリマー含有層２００との間、及び、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間の少なくとも一方に配向膜を備えていてもよい。このような態様によっても、実施形態１と同様の効果が得られる。第１の基板１００とポリマー含有層２００との間に配置される配向膜は、第１の配向膜４１０ともいい、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間に配置される配向膜は、第２の配向膜４２０ともいう。なお、図１６に示される本変形例の表示パネル１はオーバーコート層３２１を有していないが、本変形例の表示パネル１は、実施形態１と同様に、遮光部３２０と対向電極３２２との間にオーバーコート層３２１を備えていてもよい。
図１６は、実施形態１の変形例５に係る表示パネルを示す断面模式図である。図１６に示すように、本変形例の表示パネル１は、第１の基板１００とポリマー含有層２００との間、及び、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間の少なくとも一方に配向膜を備えていてもよい。このような態様によっても、実施形態１と同様の効果が得られる。第１の基板１００とポリマー含有層２００との間に配置される配向膜は、第１の配向膜４１０ともいい、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間に配置される配向膜は、第２の配向膜４２０ともいう。なお、図１６に示される本変形例の表示パネル１はオーバーコート層３２１を有していないが、本変形例の表示パネル１は、実施形態１と同様に、遮光部３２０と対向電極３２２との間にオーバーコート層３２１を備えていてもよい。
【0153】
配向膜の材料としては、ポリイミドを主鎖に有するポリマー、ポリアミック酸を主鎖に有するポリマー、ポリシロキサンを主鎖に有するポリマー等の液晶表示パネルの分野で一般的な材料を用いることができる。配向膜に含まれるポリマーは、一種であっても二種以上であってもよい。
【0154】
配向膜は配向膜材料を塗布することによって形成することができ、上記塗布方法は特に限定されず、例えば、フレキソ印刷、インクジェット塗布等を用いることができる。配向膜は、液晶分子を膜面に対して略水平に配向させる水平配向膜であってもよいし、液晶分子を膜面に対して略垂直に配向させる垂直配向膜であってもよい。また、配向膜は、光官能基を有し、かつ配向処理として光配向処理が施された光配向膜であってもよいし、配向処理としてラビング処理が施されたラビング配向膜であってもよいし、配向処理が施されていない配向膜であってもよい。
【0155】
なお、配向膜に施される配向処理の方法としては、配向膜表面をローラー等で擦るラビング法が従来広く用いられてきた。これに対して、近年では、ラビング法に代わる配向処理の方法として、配向膜表面に光を照射する光配向法が広く展開されつつある。光配向法によれば、配向膜の表面に接触することなく配向処理を実施できるので、ラビング処理と異なり、配向処理中における汚れ、ごみ等の発生を抑制することができるという利点がある。
【0156】
第１の配向膜４１０及び第２の配向膜４２０は、水平配向膜であってもよいし、垂直配向膜であってもよいが、垂直配向膜であることが好ましい。このような態様とすることにより、表示パネル１においてポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを抑制することができる。
【0157】
水平配向膜に比べて垂直配向膜の方がポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを抑制することができる理由は、配向膜とポリマー含有層２００との界面に存在する配向膜ポリマーの側鎖の量の違いによるものと考えられる。すなわち、界面に存在する配向膜ポリマーの側鎖の量が多いほど、配向膜ポリマーの側鎖がポリマー含有層２００に含まれるポリマーと絡み合うことが可能となり、ポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを抑制することができると考えられる。
【0158】
図１７は、垂直配向膜の機能について説明する断面模式図である。図１８は、垂直配向膜とポリマーとの絡み合いについて説明する断面模式図である。図１９は、水平配向膜の機能について説明する断面模式図である。図２０は、水平配向膜とポリマーとの絡み合いについて説明する断面模式図である。
【0159】
図１７に示すように、垂直配向膜４３０は、一般的に、支持基板９１１及び電極９１２（例えば、反射電極（Ａｌ、Ａｇ等））を有する基板９１０と、支持基板９２１及び電極９２２（例えば、透明電極（ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）））を有する基板９２０との間に挟持された液晶層９３０に含まれる液晶分子９３１を、配向膜に対して垂直に配向させる機能を有する。そのため、垂直配向膜４３０に含まれる垂直配向膜ポリマー４３１は、主鎖４３２に加えて、液晶分子９３１を配向膜に対して垂直に配向させるために多くの側鎖４３３を有する。したがって、本変形例では、図１８に示すように、垂直配向膜ポリマー４３１の側鎖４３３とポリマー含有層２００に含まれるポリマー２４０（例えば、ポリマーネットワーク２１０、ポリマー層２３０）との間で絡み合い４３４が効果的に発生し、ポリマー含有層２００と垂直配向膜４３０とが剥がれにくくなると考えられる。
【0160】
一方、図１９に示すように、水平配向膜４４０は、一般的に、液晶分子９３１を、配向膜に対して水平に配向させる機能を有する。そのため、水平配向膜４４０に含まれる水平配向膜ポリマー４４１は、主鎖４４２を備えるが側鎖は無い（又は、垂直配向膜４３０が有する垂直配向膜ポリマー４３１よりも少ない）。そのため、図２０に示すように、本変形例では、水平配向膜４４０に含まれる水平配向膜ポリマー４４１とポリマー２４０との絡み合いが発生しない（発生し難い）。したがって、水平配向膜４４０よりも垂直配向膜４３０の方が、ポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを抑制することができる。
【0161】
垂直配向膜ポリマー４３１は、例えば、ポリアミック酸を主鎖に有するポリマーである。垂直配向膜ポリマー４３１は、下記式（ＰＡ－１）で表される構造を有することが好ましい。このような態様とすることにより、ポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを効果的に抑制することができる。
【0162】
【化9】
【0163】
上記式（ＰＡ－１）中、Ｘ１は四価の基を表し、Ｙ１は三価の基を表し、Ｚは一価の基を表し、ｓは１以上の整数を表す。
【0164】
上記式（ＰＡ－１）におけるＸ１は、下記式（Ｘ１－１）又は（Ｘ１－２）であることが好ましい。
【0165】
【化10】
【0166】
【化11】
【0167】
上記式（ＰＡ－１）におけるＹ１は、下記式（Ｙ１－１）又は（Ｙ１－２）であることが好ましい。
【0168】
【化12】
【0169】
【化13】
【0170】
上記式（Ｙ１－１）及び（Ｙ１－２）における＊は、Ｚとの結合位置を表す。
【0171】
上記式（ＰＡ－１）におけるＺは、下記式（Ｚ－１）又は（Ｚ－２）であることが好ましい。
【0172】
【化14】
【0173】
【化15】
【0174】
上記式（Ｚ－１）及び（Ｚ－２）における＊は、Ｙとの結合位置を表す。
【0175】
上記式（Ｚ－２）で表される側鎖はフッ素系の側鎖である。上記式（ＰＡ－１）におけるＺは、式（Ｚ－２）であることが好ましい。このような態様とすることにより、光配向処理を行うことが可能となる。
【0176】
垂直配向膜ポリマー４３１は、ポリシロキサンを主鎖に有するポリマーであることも好ましい。このような態様とすることによっても、ポリマー含有層２００と配向膜との間の剥がれを効果的に抑制することができる。また、垂直配向膜ポリマー４３１がポリシロキサンを主鎖に有するポリマーを含有することにより、光配向処理を行うことが可能となる。
【0177】
ポリシロキサンを主鎖に有するポリマーは、ラジカル反応性官能基を有することが好ましい。このような態様とすることにより、ポリシロキサンを主鎖に有する垂直配向膜ポリマーをラジカル重合により硬化させることができ、硬化収縮を最小限に抑えることができる。ラジカル反応性官能基としては、例えば、ビニル基、α－メチルビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基等の不飽和有機基が挙げられる。これらのうち、硬化反応が円滑に進むことから、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するものが好ましい。
【0178】
ポリシロキサンを主鎖に有するポリマーは、加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。
【0179】
上記加水分解性シラン化合物は、（ｓ１）下記式（ＭＳ－１）で示される加水分解性シラン化合物（以下、（ｓ１）化合物とも言う。）と、（ｓ２）下記式（ＭＳ－２）で示される加水分解性シラン化合物（以下、（ｓ２）化合物とも言う。）と、を含む加水分解性シラン化合物であることが好ましい。
【0180】
【化16】
【0181】
【化17】
【0182】
上記式（ＭＳ－１）中、Ｒ１１は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１２はラジカル反応性官能基を含む有機基である。ｐは１～３の整数である。但し、Ｒ１１及びＲ１２が複数となる場合、複数のＲ１１及びＲ１２はそれぞれ独立している。
【0183】
上記式（ＭＳ－２）中、Ｒ１３は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１４は水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のフッ化アルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基である。ｎは０～２０の整数である。ｑは０～３の整数である。但し、Ｒ１３及びＲ１４が複数となる場合、複数のＲ１３及びＲ１４はそれぞれ独立している。
【0184】
（（ｓ１）化合物）
上記式（ＭＳ－１）中、Ｒ１１は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１２はラジカル反応性官能基を含む有機基である。ｐは１～３の整数である。但し、Ｒ１１及びＲ１２が複数となる場合、複数のＲ１１及びＲ１２はそれぞれ独立している。上述のＲ１１である炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ブチル基等が挙げられる。これらのうち、加水分解の容易性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。上記のｐとしては、加水分解縮合反応の進行の観点から１または２が好ましく、１がより好ましい。
上記式（ＭＳ－１）中、Ｒ１１は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１２はラジカル反応性官能基を含む有機基である。ｐは１～３の整数である。但し、Ｒ１１及びＲ１２が複数となる場合、複数のＲ１１及びＲ１２はそれぞれ独立している。上述のＲ１１である炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ブチル基等が挙げられる。これらのうち、加水分解の容易性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。上記のｐとしては、加水分解縮合反応の進行の観点から１または２が好ましく、１がより好ましい。
【0185】
ラジカル反応性官能基を有する有機基としては、上述のラジカル反応性官能基により１個以上の水素原子が置換された直鎖状、分岐状または環状の炭素数１～１２のアルキル基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数７～１２のアラルキル基等が挙げられる。同一分子内に複数のＲ１２が存在するとき、これらはそれぞれ独立している。また、Ｒ１２が示す有機基はヘテロ原子を有していてもよい。そのような有機基としては、例えば、エーテル基、エステル基、スルフィド基等が挙げられる。
【0186】
（ｓ１）化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ｏ－スチリルトリメトキシシラン、ｏ－スチリルトリエトキシシラン、ｍ－スチリルトリメトキシシラン、ｍ－スチリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、メタクリロキシトリメトキシシラン、メタクリロキシトリエトキシシラン、メタクリロキシトリプロポキシシラン、アクリロキシトリメトキシシラン、アクリロキシトリエトキシシラン、アクリロキシトリプロポキシシラン、２－メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、２－メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、２－メタクリロキシエチルトリプロポキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、２－アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２－アクリロキシエチルトリエトキシシラン、２－アクリロキシエチルトリプロポキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロブチルトリメトキシシラン、３－（トリメトキシシリル）プロピル無水コハク酸等のトリアルコキシシラン化合物が挙げられる。
【0187】
（（ｓ２）化合物）
上記式（ＭＳ－２）中、Ｒ１３は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１４は水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のフッ化アルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基である。ｎは０～２０の整数である。ｑは０～３の整数である。但し、Ｒ１３及びＲ１４がそれぞれ複数となる場合、複数のＲ１３及びＲ１４はそれぞれ独立している。
上記式（ＭＳ－２）中、Ｒ１３は炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ１４は水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のフッ化アルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基である。ｎは０～２０の整数である。ｑは０～３の整数である。但し、Ｒ１３及びＲ１４がそれぞれ複数となる場合、複数のＲ１３及びＲ１４はそれぞれ独立している。
【0188】
上述のＲ１３である炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ブチル基等が挙げられる。これらのうち、加水分解の容易性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。上記のｑとしては、加水分解縮合反応の進行の観点から１または２が好ましく、１がより好ましい。
【0189】
上述のＲ１４が上記炭素数１～２０のアルキル基である場合、そのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、３－メチルブチル基、２－メチルブチル基、１－メチルブチル基、２，２－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、４－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、１－メチルペンチル基、３，３－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、１，３－ジメチルブチル基、２，２－ジメチルブチル基、１，２－ジメチルブチル基、１，１－ジメチルブチル基、ｎ－ヘプチル基、５－メチルヘキシル基、４－メチルヘキシル基、３－メチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、１－メチルヘキシル基、４，４－ジメチルペンチル基、３，４－ジメチルペンチル基、２，４－ジメチルペンチル基、１，４－ジメチルペンチル基、３，３－ジメチルペンチル基、２，３－ジメチルペンチル基、１，３－ジメチルペンチル基、２，２－ジメチルペンチル基、１，２－ジメチルペンチル基、１，１－ジメチルペンチル基、２，３，３－トリメチルブチル基、１，３，３－トリメチルブチル基、１，２，３－トリメチルブチル基、ｎ－オクチル基、６－メチルヘプチル基、５－メチルヘプチル基、４－メチルヘプチル基、３－メチルヘプチル基、２－メチルヘプチル基、１－メチルヘプチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノナニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素数１～１０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～３のアルキル基である。
【0190】
これらの（ｓ２）化合物のうち、特に好ましい加水分解性シラン化合物としては、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ナフチルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシランおよびγ－イソシアネートプロピルトリメトキシシランが挙げられる。このような加水分解性シラン化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0191】
（（ｓ１）化合物および（ｓ２）化合物の加水分解縮合）
上記（ｓ１）化合物および（ｓ２）化合物を加水分解縮合させる条件としては、（ｓ１）化合物及び（ｓ２）化合物の少なくとも一部を加水分解して、加水分解性基をシラノール基に変換し、縮合反応を起こさせるものである限り特に限定されるものではない。
上記（ｓ１）化合物および（ｓ２）化合物を加水分解縮合させる条件としては、（ｓ１）化合物及び（ｓ２）化合物の少なくとも一部を加水分解して、加水分解性基をシラノール基に変換し、縮合反応を起こさせるものである限り特に限定されるものではない。
【0192】
水平配向膜は、下記式（ＰＡ－２）で表される構造を有するポリマーを含有することが好ましい。
【0193】
【化18】
【0194】
上記式（ＰＡ－２）中、Ｘ２は四価の基を表し、Ｙ２は三価の基を表し、ｔは１以上の整数を表す。
【0195】
上記式（ＰＡ－２）におけるＸ２は、下記式（Ｘ２－１）又は（Ｘ２－２）であることが好ましい。
【0196】
【化19】
【0197】
【化20】
【0198】
上記式（ＰＡ－２）におけるＹ２は、下記式（Ｙ２－１）、（Ｙ２－２）又は（Ｙ２－３）であることが好ましい。
【0199】
【化21】
【0200】
【化22】
【0201】
【化23】
【実施例0202】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明の効果を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【0203】
（実施例１）
図２１は、実施例１に係る表示パネルの製造方法を示した模式図である。図２１に示す方法により、実施形態１の表示パネル１に対応する実施例１の表示パネルを作製した。具体的には、スイッチング素子としてのＴＦＴ１２０を有する第１の基板１００と、額縁領域１ＮＡに遮光部３２０を備えない第２の基板３００との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体１０を準備した。当該パネル前駆体１０に対して、第２の基板３００側から光Ｌを照射する露光工程を実施し、実施例１の表示パネル１を作製した。表示パネル１は、第１の基板１００と第２の基板３００との間に、光硬化モノマーが重合することにより形成されたポリマー含有層２００を備えていた。露光工程において、光硬化モノマーの重合に用いられる光の波長は３６０ｎｍであり、露光量は、２０Ｊであった。
図２１は、実施例１に係る表示パネルの製造方法を示した模式図である。図２１に示す方法により、実施形態１の表示パネル１に対応する実施例１の表示パネルを作製した。具体的には、スイッチング素子としてのＴＦＴ１２０を有する第１の基板１００と、額縁領域１ＮＡに遮光部３２０を備えない第２の基板３００との間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体１０を準備した。当該パネル前駆体１０に対して、第２の基板３００側から光Ｌを照射する露光工程を実施し、実施例１の表示パネル１を作製した。表示パネル１は、第１の基板１００と第２の基板３００との間に、光硬化モノマーが重合することにより形成されたポリマー含有層２００を備えていた。露光工程において、光硬化モノマーの重合に用いられる光の波長は３６０ｎｍであり、露光量は、２０Ｊであった。
【0204】
更に、第１の基板１００の第２の基板３００と反対側に、第１の粘着剤層７１０を介して第１の基板側フィルム６１０としてのＵＶカットフィルム６１１を貼り合わせた。同様に、第２の基板３００の第１の基板１００と反対側に、第２の粘着剤層７２０を介して第２の基板側フィルム６２０としてのＵＶカットフィルム６２１を貼り合わせた。なお、第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側の額縁領域１ＮＡには加色印刷を施した。当該加色印刷部分は、第２の基板側インク部５２０に相当する。
【0205】
以上のようにして得られた本実施例の表示パネル１は、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラの抑えられた表示品位の高い表示パネルであった。この理由は次のように考えられる。露光する際、額縁領域１ＮＡは透明であるため、光硬化モノマーに充分光が照射され、額縁領域１ＮＡには残存モノマーが無い、又は、残存モノマーがごくわずかしか存在しなかったため、残存モノマーの表示領域１ＡＡへの染み出しが抑制され、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラが抑えられたと考えられる。
【0206】
また、本実施例の表示パネル１は、良好な保持率を有する表示パネルであった。この理由は次のように考えられる。上述の通り、本実施例では、額縁領域１ＮＡを透明とすることにより額縁領域１ＮＡの残存モノマーの発生を抑制することができた。そのため、額縁領域１ＮＡの残存モノマーを少しでも多く露光するために過剰な露光をする必要がなく、液晶成分２２０の保持率が高く保たれたと考えられる。
【0207】
また、本実施形態の表示パネル１は、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができた。
【0208】
また、第２の基板側インク部５２０を設けることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができた。
【0209】
（実施例２）
上記実施形態１の変形例１に対応する実施例２の表示パネル１を作製した。具体的には、第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側の額縁領域１ＮＡに加えて、第１の基板側フィルム６１０の第１の粘着剤層７１０側の額縁領域１ＮＡにも加色印刷を施してインク部５００（第１の基板側インク部５１０）を設けたこと以外は、実施例１と同様にして表示パネル１を作製した。
上記実施形態１の変形例１に対応する実施例２の表示パネル１を作製した。具体的には、第２の基板側フィルム６２０の第２の粘着剤層７２０側の額縁領域１ＮＡに加えて、第１の基板側フィルム６１０の第１の粘着剤層７１０側の額縁領域１ＮＡにも加色印刷を施してインク部５００（第１の基板側インク部５１０）を設けたこと以外は、実施例１と同様にして表示パネル１を作製した。
【0210】
実施例１と同様に、実施例２の表示パネル１は、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラの抑えられた表示品位の高い表示パネルであった。また、実施例２の表示パネルは、良好な保持率を有する表示パネルであった。また、実施例２の表示パネルは、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができた。
【0211】
また、実施例１と同様に、実施例２の表示パネル１は、第２の基板側インク部５２０を設けることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができた。
【0212】
更に、実施例２の表示パネル１は、第１の基板側インク部５１０を設けることにより、第１の基板１００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第１の基板１００側の額縁反射を抑えることができた。
【0213】
（実施例３）
上記実施形態１の変形例２に対応する実施例３の表示パネル１を作製した。具体的には、第１の基板側フィルム６１０の額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡの画素配線（複数のゲート線１０１Ｇ及びソース線１０１Ｓ）と重畳する領域にも加色印刷を施して第１の基板側インク部５１０を設けたこと以外は、実施例２と同様にして表示パネル１を作製した。
上記実施形態１の変形例２に対応する実施例３の表示パネル１を作製した。具体的には、第１の基板側フィルム６１０の額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡの画素配線（複数のゲート線１０１Ｇ及びソース線１０１Ｓ）と重畳する領域にも加色印刷を施して第１の基板側インク部５１０を設けたこと以外は、実施例２と同様にして表示パネル１を作製した。
【0214】
実施例２と同様に、実施例３の表示パネル１は、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラの抑えられた表示品位の高い表示パネルであった。また、実施例３の表示パネルは、良好な保持率を有する表示パネルであった。また、実施例３の表示パネルは、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができた。
【0215】
また、実施例２と同様に、実施例３の表示パネル１は、第２の基板側インク部５２０を設けることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができた。
【0216】
また、実施例２と同様に、実施例３の表示パネル１は、第１の基板側インク部５１０を設けることにより、第１の基板１００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第１の基板１００側の額縁反射を抑えることができた。
【0217】
更に、実施例３の表示パネル１では、第１の基板側フィルム６１０の表示領域１ＡＡに第１の基板側インク部５１０が配置されることにより、額縁領域１ＮＡに加えて、表示領域１ＡＡにおいても金属反射が低減し、視認性が向上したシースルーパネルを実現することができた。
【0218】
（実施例４）
上記実施形態１の変形例３に対応する実施例４の表示パネル１を作製した。具体的には、実施例１の表示パネル１におけるポリマー含有層２００を、ポリマー層２３０及び液晶成分２２０を含有する層に替え、第２の基板３００にカラーフィルタ層３３０を設け、第１の基板側フィルム６１０を第１の偏光子６１２に替え、第２の基板側フィルム６２０を第２の偏光子６２２に替え、更に、表示パネル１の背面側にバックライト８００を配置して実施例４の表示パネル１、及び、当該表示パネル１とバックライト８００とを備える液晶表示装置２を作製した。
上記実施形態１の変形例３に対応する実施例４の表示パネル１を作製した。具体的には、実施例１の表示パネル１におけるポリマー含有層２００を、ポリマー層２３０及び液晶成分２２０を含有する層に替え、第２の基板３００にカラーフィルタ層３３０を設け、第１の基板側フィルム６１０を第１の偏光子６１２に替え、第２の基板側フィルム６２０を第２の偏光子６２２に替え、更に、表示パネル１の背面側にバックライト８００を配置して実施例４の表示パネル１、及び、当該表示パネル１とバックライト８００とを備える液晶表示装置２を作製した。
【0219】
実施例１と同様に、実施例４の表示パネル１は、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラの抑えられた表示品位の高い表示パネルであった。また、実施例４の表示パネルは、良好な保持率を有する表示パネルであった。また、実施例４の表示パネルは、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができた。
【0220】
また、実施例１と同様に、実施例４の表示パネル１は、第２の基板側インク部５２０を設けることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができた。
【0221】
（実施例５）
上記実施形態１の変形例４に対応する実施例５の表示パネル１を作製した。具体的には、実施例１の表示パネル１を筐体９００にはめ込んで作製した。インク部５００は筐体９００と同色であった。
上記実施形態１の変形例４に対応する実施例５の表示パネル１を作製した。具体的には、実施例１の表示パネル１を筐体９００にはめ込んで作製した。インク部５００は筐体９００と同色であった。
【0222】
実施例１と同様に、実施例５の表示パネル１は、額縁領域１ＮＡ近傍における表示ムラの抑えられた表示品位の高い表示パネルであった。また、実施例５の表示パネル１は、良好な保持率を有する表示パネルであった。また、実施例５の表示パネル１は、観察者が視認可能な端子パターン１２０Ａの範囲を狭めることができ、表示特性を向上させることができた。
【0223】
また、実施例１と同様に、実施例５の表示パネル１は、第２の基板側インク部５２０を設けることにより、第２の基板３００側からの光に曝されることで、額縁領域１ＮＡにおけるＴＦＴ１２０の端子パターン１２０Ａの電気特性が影響を受けるのを抑えることができた。また、表示パネル１の第２の基板３００側の額縁反射を抑えることができた。
【0224】
更に、実施例５の筐体付き表示パネル２０は、表示パネル１と筐体９００との境界が分かり難く、見栄えが良好であった。
【0225】
（実施例６）
上記実施形態１の変形例５に対応する表示パネルを作製した。具体的には、第１の基板１００とポリマー含有層２００との間に第１の配向膜４１０としての垂直配向膜を設け、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間に第２の配向膜４２０としての垂直配向膜を設けたこと以外は、実施例１と同様にして実施例６の表示パネルを作製した。
上記実施形態１の変形例５に対応する表示パネルを作製した。具体的には、第１の基板１００とポリマー含有層２００との間に第１の配向膜４１０としての垂直配向膜を設け、第２の基板３００とポリマー含有層２００との間に第２の配向膜４２０としての垂直配向膜を設けたこと以外は、実施例１と同様にして実施例６の表示パネルを作製した。
【0226】
水平配向膜を用いる場合は、表示パネルを持ち上げた際にポリマー含有層２００と配向膜との間で剥がれが生じてしまうことがあるが、垂直配向膜を用いた実施例６の表示パネルでは剥がれが生じなかった。これは、配向膜とポリマー含有層２００との界面に存在する「側鎖の量」の違いによるものであると考えられ、水平配向膜よりも側鎖の多い垂直配向膜の方が、配向膜ポリマーの側鎖とポリマーとの絡み合いが効果的に発生し、より剥がれが起きにくくなったと考えられる。
【0227】
（比較例１）
図２２は、比較例１に係る表示パネルの製造工程で用いられるパネル前駆体の平面模式図である。図２３は、図２２において破線で囲んだ領域の拡大平面模式図である。図２４は、比較例１に係る表示パネルの製造方法を示す模式図である。
図２２は、比較例１に係る表示パネルの製造工程で用いられるパネル前駆体の平面模式図である。図２３は、図２２において破線で囲んだ領域の拡大平面模式図である。図２４は、比較例１に係る表示パネルの製造方法を示す模式図である。
【0228】
図２２～図２４に示すように、スイッチング素子としてのＴＦＴを有する第１の基板１００と、額縁領域１ＮＡにブラックマトリクス層を備える第２の基板３００Ｒとの間に、光硬化モノマーを含有する組成物が充填されたパネル前駆体１０Ｒを準備した。パネル前駆体１０Ｒに対して、第１の基板１００側（ＴＦＴ基板側）から光Ｌを照射する露光工程を実施することにより、第１の基板１００と第２の基板３００Ｒとの間に、光硬化モノマーが重合することにより形成されたポリマー含有層２００Ｒを備える比較例１の表示パネル１Ｒを作製した。露光工程において、光硬化モノマーの重合に用いられる光の波長は３６０ｎｍであり、露光量は、２０Ｊであった。
【0229】
パネル前駆体１０Ｒは、表示領域１ＡＡに、ゲート電極１１ａ、容量線１１ｂ、及び、ソース電極１４ａを備え、額縁領域１ＮＡに、保護回路４ａ、４ｂ、検査用ＴＦＴ５ｂ、５ｃａ、５ｃｂ、及び、遮光部２１ｂを備えていた。
【0230】
比較例１の表示パネル１では、額縁領域１ＮＡ近傍において、ある温度で他のエリアよりも透過率がアップする可逆的な表示ムラが観察された。また、比較例１の表示パネル１では、高温信頼性試験において、額縁領域１ＮＡ近傍で不可逆的な透明エリアムラ（不可逆的な表示ムラ）が観察された。
【0231】
比較例１では、光硬化モノマー入りの液晶材料を充填したパネル前駆体１０ＲをＴＦＴ基板側から露光してポリマーネットワークを形成した。この際、ＴＦＴ基板の額縁領域１ＮＡに形成されているパターン（ＴＦＴの端子パターン（遮光部２１ｂ）等）の影に充填された光硬化モノマー入りの液晶材料には光が当たらないため、ポリマー含有層２００Ｒの当該領域では光硬化モノマーがポリマー化せずに残存モノマーとして存在してしまったと考えられる。すなわち、ＴＦＴパターンの裏に残存モノマーが残ってしまったと考えられる。当該残存モノマーが表示領域１ＡＡへ染み出すことにより、比較例１の表示パネル１Ｒでは表示不均一エリアが発生したと考えられる。
【0232】
ＴＦＴ基板にはスリットなどのパターンが形成されていることが多く、光が当たる部分では光硬化モノマーの重合反応が進行するが、光が当たらない部分も存在するため、残存モノマーをすべて無くすことは困難である。したがって、比較例１の表示パネル１Ｒでは、通常使用時、エージング時、ある温度範囲での使用時等において表示ムラが発生する可能性があり、当該表示ムラは、可逆的な表示ムラ、非可逆的な表示ムラのいずれの可能性もあると考えられる。
【0233】
（比較例２）
第２の基板３００Ｒ側（対向基板側）から光Ｌを照射したこと以外は、比較例１と同様にして比較例２の表示パネル１Ｒを作製した。
第２の基板３００Ｒ側（対向基板側）から光Ｌを照射したこと以外は、比較例１と同様にして比較例２の表示パネル１Ｒを作製した。
【0234】
比較例２では、光硬化モノマー入りの液晶材料を充填したパネル前駆体１０Ｒを対向基板側から露光してポリマーネットワークを形成した。この際、対向基板の額縁領域１ＮＡに形成されているブラックマトリクス層の影に充填された光硬化モノマー入りの液晶材料には光が当たらないため、当該領域では光硬化モノマーがポリマー化せずに残存モノマーとして存在してしまったと考えられる。すなわち、ブラックマトリクス層の裏に残存モノマーが残ってしまったと考えられる。額縁領域１ＮＡにおけるブラックマトリクス層は全面ベタ状の遮光部であるため、比較例２の残存モノマー量は、比較例１よりも多いと考えられる。当該残存モノマーが表示領域１ＡＡへ染み出すことにより、比較例１の表示パネル１Ｒでは表示不均一エリアが発生したと考えられる。
【0235】
比較例２の表示パネル１Ｒでは、通常使用時、エージング時、ある温度範囲での使用時等において表示ムラが発生する可能性があり、当該表示ムラは、可逆的な表示ムラ、非可逆的な表示ムラのいずれの可能性もあると考えられる。ある温度範囲での使用時等において表示ムラが発生するとは、例えば、室温では全面均一に表示されていて問題ないが、ある温度では残存モノマーの影響が大きい部分だけで表示ムラが発生する場合をいう。
【0236】
（比較例３）
比較例１の露光工程における露光量を変化させて比較例３の表示パネルを作製した。具体的には、４０Ｊで露光した表示パネル、６０Ｊで露光した表示パネル、１００Ｊで露光した表示パネル、及び、２００Ｊで露光した表示パネルを作製した。
比較例１の露光工程における露光量を変化させて比較例３の表示パネルを作製した。具体的には、４０Ｊで露光した表示パネル、６０Ｊで露光した表示パネル、１００Ｊで露光した表示パネル、及び、２００Ｊで露光した表示パネルを作製した。
【0237】
図２５は、４０Ｊで露光した比較例３の表示パネルの表示ムラを示す平面模式図である。図２６は、１００Ｊで露光した比較例３の表示パネルの表示ムラを示す平面模式図である。図２７は、比較例３に係る表示パネルを製造する際の露光量と、当該表示パネルの保持率との関係を示すグラフである。
【0238】
図２５及び図２６に示すように、４０Ｊで露光した表示パネルに比べて、１００Ｊで露光した表示パネルの方が、表示ムラが抑制されることが分かった。露光量を上げることにより、遮光部裏の残存モノマーの露光がやや促進され、残存モノマーの染み出しが若干抑制されたと考えられる。しかしながら、表示ムラの抑制の程度は充分ではなかった。
【0239】
また、図２７に示すように、露光量を上げることにより、液晶材料の保持率が低下してしまうことが分かった。保持率の低下はエッジ焼付き等の不良の原因となる。
【符号の説明】
【0240】
１、１Ｒ：表示パネル
１ＡＡ：表示領域
１ＮＡ：額縁領域
２：液晶表示装置
４ａ、４ｂ：保護回路
５ｂ、５ｃａ、５ｃｂ：検査用ＴＦＴ
１０、１０Ｒ：パネル前駆体
１１ａ：ゲート電極
１１ｂ：容量線
１４ａ：ソース電極
２１ｂ、３２０：遮光部
１００、３００：基板
１００Ｒ：ＴＦＴ基板
１０１Ｇ：ゲート線（ゲートメタル）
１０１Ｓ：ソース線（ソースメタル）
１０１Ｘ：配線パターン
１１０、３１０：支持基板
１２０：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）
１２０Ａ：端子パターン（額縁パターン）
１３０：絶縁層
１４０：画素電極
２００、２００Ｒ：ポリマー含有層
２１０：ポリマーネットワーク
２２０：液晶成分
２３０：ポリマー層
２４０：ポリマー
３２１：オーバーコート層
３２１ａ：着色部
３２２：対向電極
３３０：カラーフィルタ層
３３０Ｂ：青色カラーフィルタ
３３０Ｇ：緑色カラーフィルタ
３３０Ｒ：赤色カラーフィルタ
４１０、４２０：配向膜
４３０：垂直配向膜
４３１：垂直配向膜ポリマー
４３２、４４２：主鎖
４３３：側鎖
４３４：絡み合い
４４０：水平配向膜
４４１：水平配向膜ポリマー
５００Ｄ：距離
５００Ｒ：シール
５００、５１０、５２０：インク部
６１０、６２０：フィルム
６１１、６２１：ＵＶカットフィルム
６１２、６２２：偏光子
７１０、７２０：粘着剤層
８００：バックライト
９００：筐体
９１０、９２０：基板
９１１、９２１：支持基板
９１２、９２２：電極
９３０：液晶層
９３１：液晶分子
１ＡＡ：表示領域
１ＮＡ：額縁領域
２：液晶表示装置
４ａ、４ｂ：保護回路
５ｂ、５ｃａ、５ｃｂ：検査用ＴＦＴ
１０、１０Ｒ：パネル前駆体
１１ａ：ゲート電極
１１ｂ：容量線
１４ａ：ソース電極
２１ｂ、３２０：遮光部
１００、３００：基板
１００Ｒ：ＴＦＴ基板
１０１Ｇ：ゲート線（ゲートメタル）
１０１Ｓ：ソース線（ソースメタル）
１０１Ｘ：配線パターン
１１０、３１０：支持基板
１２０：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）
１２０Ａ：端子パターン（額縁パターン）
１３０：絶縁層
１４０：画素電極
２００、２００Ｒ：ポリマー含有層
２１０：ポリマーネットワーク
２２０：液晶成分
２３０：ポリマー層
２４０：ポリマー
３２１：オーバーコート層
３２１ａ：着色部
３２２：対向電極
３３０：カラーフィルタ層
３３０Ｂ：青色カラーフィルタ
３３０Ｇ：緑色カラーフィルタ
３３０Ｒ：赤色カラーフィルタ
４１０、４２０：配向膜
４３０：垂直配向膜
４３１：垂直配向膜ポリマー
４３２、４４２：主鎖
４３３：側鎖
４３４：絡み合い
４４０：水平配向膜
４４１：水平配向膜ポリマー
５００Ｄ：距離
５００Ｒ：シール
５００、５１０、５２０：インク部
６１０、６２０：フィルム
６１１、６２１：ＵＶカットフィルム
６１２、６２２：偏光子
７１０、７２０：粘着剤層
８００：バックライト
９００：筐体
９１０、９２０：基板
９１１、９２１：支持基板
９１２、９２２：電極
９３０：液晶層
９３１：液晶分子
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図1D】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】