(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024161658
(43)【公開日】2024-11-20
(54)【発明の名称】加熱調理器
(51)【国際特許分類】
A47J 37/06 20060101AFI20241113BHJP
F24C 7/04 20210101ALI20241113BHJP
A47J 37/01 20060101ALI20241113BHJP
【ＦＩ】
A47J37/06 371
F24C7/04 A
A47J37/01
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023076485
(22)【出願日】2023-05-08
(71)【出願人】
【識別番号】000006013
【氏名又は名称】三菱電機株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】000176866
【氏名又は名称】三菱電機ホーム機器株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001461
【氏名又は名称】弁理士法人きさ特許商標事務所
(72)【発明者】
【氏名】澤田 大治
(72)【発明者】
【氏名】森井 彰
(72)【発明者】
【氏名】守岩 和秋
(72)【発明者】
【氏名】竹内 史朗
(72)【発明者】
【氏名】木皿 倫子
(72)【発明者】
【氏名】落合 祐美子
(72)【発明者】
【氏名】香内 由美子
(72)【発明者】
【氏名】吉川 秀樹
(72)【発明者】
【氏名】宮下 健一
【テーマコード（参考）】
3L087
4B040
【Ｆターム（参考）】
3L087AA01
3L087AA02
3L087AC06
3L087BA01
3L087DA26
4B040AA03
4B040AA08
4B040AB02
4B040AC01
4B040AD04
4B040CA17
4B040CB30
(57)【要約】
【課題】焼き上がり時の食感を調節することができる加熱調理器を提供する。
【解決手段】加熱調理器は、被加熱物が焼成される焼成庫と、焼成庫に設けられ、被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、焼成庫に設けられ、被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、を備え、第２加熱手段が設けられた位置における焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている。
【選択図】図１
【解決手段】加熱調理器は、被加熱物が焼成される焼成庫と、焼成庫に設けられ、被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、焼成庫に設けられ、被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、を備え、第２加熱手段が設けられた位置における焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
被加熱物が焼成される焼成庫と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、
を備え、
前記第２加熱手段が設けられた位置における前記焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている
加熱調理器。
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、
を備え、
前記第２加熱手段が設けられた位置における前記焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている
加熱調理器。
【請求項2】
前記第２加熱手段は、前記第１加熱手段とは個別に制御される
請求項１に記載の加熱調理器。
請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項3】
前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域の裏に設けられた塗装領域加熱手段と、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域が設けられていない非塗装領域の裏に設けられ、前記塗装領域加熱手段と個別に制御される非塗装領域加熱手段と、を含み、
前記塗装領域加熱手段による加熱と、前記非塗装領域加熱手段による加熱と、が切り替えて制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
前記焼成庫の内面の前記塗装領域の裏に設けられた塗装領域加熱手段と、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域が設けられていない非塗装領域の裏に設けられ、前記塗装領域加熱手段と個別に制御される非塗装領域加熱手段と、を含み、
前記塗装領域加熱手段による加熱と、前記非塗装領域加熱手段による加熱と、が切り替えて制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
【請求項4】
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、熱伝導を抑制する断熱層により区切られている
請求項３に記載の加熱調理器。
請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項5】
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項6】
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に、交互に繰り返し配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に、交互に繰り返し配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項7】
前記塗装領域は、
前記焼成庫の内面に、均等な面積で複数配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
前記焼成庫の内面に、均等な面積で複数配置されている
請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項8】
前記第１加熱手段は、前記第１加熱手段の温度を反映して加熱量が制御され、
前記第２加熱手段は、前記第２加熱手段の温度を反映して加熱量が制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
前記第２加熱手段は、前記第２加熱手段の温度を反映して加熱量が制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
【請求項9】
前記第１加熱手段、及び、前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の前記内面から前記被加熱物までの距離に応じて制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
前記焼成庫の前記内面から前記被加熱物までの距離に応じて制御される
請求項１又は２に記載の加熱調理器。
【請求項10】
前記距離は、画像分析により測定される
請求項９に記載の加熱調理器。
請求項９に記載の加熱調理器。
【請求項11】
前記距離は、前記被加熱物の表面温度より測定する
請求項９に記載の加熱調理器。
請求項９に記載の加熱調理器。
【請求項12】
前記距離が３ｃｍのときは、
前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度よりも４０度高く設定され、
前記距離が３ｃｍ増加すると、それに応じて、前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度との差が１０度ずつ増加するように設定される
請求項９に記載の加熱調理器。
前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度よりも４０度高く設定され、
前記距離が３ｃｍ増加すると、それに応じて、前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度との差が１０度ずつ増加するように設定される
請求項９に記載の加熱調理器。
【請求項13】
前記焼成庫は、密閉された構造を有し、
前記焼成庫に水分を供給する水分供給手段と、
前記焼成庫から水分を放出する開放弁と、
を更に備えた、請求項１又は２に記載の加熱調理器。
前記焼成庫に水分を供給する水分供給手段と、
前記焼成庫から水分を放出する開放弁と、
を更に備えた、請求項１又は２に記載の加熱調理器。
【請求項14】
前記開放弁が閉状態となり、且つ、前記水分供給手段により前記焼成庫に水分が供給された後、
前記開放弁が開状態となり、且つ、前記水分供給手段による前記焼成庫への水分の供給が停止される
請求項１３に記載の加熱調理器。
前記開放弁が開状態となり、且つ、前記水分供給手段による前記焼成庫への水分の供給が停止される
請求項１３に記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、被加熱物を焼成する焼成庫を有する加熱調理器に関するものである。
【背景技術】
【0002】
加熱調理器として、加熱調理器本体と蓋体と、または、加熱調理器本体と扉体とで形成された空間の内部を被加熱物の加熱調理室とし、内部に設置されたヒータで、被加熱物を載せたプレート又は焼き網等を加熱して調理が行われる加熱調理器が知られている。例えば、特許文献１には、加熱調理器本体の内部にヒータと、蒸気発生装置と、回転する網状載置台とを備えた加熱調理器が開示されている。特許文献１の加熱調理器は、被加熱物を回転させながら加熱することで、被加熱物に均等な焼き色をつけることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－１５３５４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献１のような家庭用コンベクションオーブンは、主に、被加熱物の表面が熱風による対流熱により加熱され、被加熱物の底面が伝導熱により加熱されるため、底面の方が表面よりもよく焼け、上下方向で焼き上がりに偏りがある。熱風による加熱は、被加熱物が乾燥し易いため、水分を含んだしっとりとした食感の実現が難しく、ユーザが自分で焼き色、又は、焼き上がり時の食感を調節することができない。
【0005】
本開示は、焼き上がり時の食感を調節することができる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係る加熱調理器は、被加熱物が焼成される焼成庫と、前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、を備え、前記第２加熱手段が設けられた位置における前記焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されているものである。
【発明の効果】
【0007】
本開示に係る加熱調理器によれば、第１加熱手段の伝導熱により被加熱物の底面を加熱して被加熱物を上側に膨張させ、第２加熱手段の輻射熱が塗装領域により調節された状態で被加熱物の表面を加熱し、被加熱物の膨張が抑制される。これにより、焼き上がり時の被加熱物の食感が調節できる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器の構成を示す概略断面図である。
【図2】比較例に係る加熱調理器により被加熱物を焼成した場合を説明する模式図である。
【図3】比較例に係る加熱調理器により被加熱物を焼成した場合を説明する他の模式図である。
【図4】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器により被加熱物を焼成した場合を説明する模式図である。
【図5】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器により被加熱物を焼成した場合を説明する他の模式図である。
【図6】本開示の実施の形態１に係る焼成庫の天面部の内面を示す概略図である。
【図7】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器の塗装領域と、非塗装領域との形態を示す概略図である。
【図8】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器の塗装領域と、非塗装領域との他の形態を示す概略図である。
【図9】本開示の実施の形態１に係る加熱調理器により焼成された被加熱物のピーク荷重と含水率との関係を示すグラフである。
【図10】本開示の実施の形態１の変形例１に係る加熱調理器の概略断面図である。
【図11】本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器の第１加熱手段及び第２加熱手段が側面部に配置された例を示す概略図である。
【図12】本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器の第１加熱手段及び第２加熱手段が天面部、底面部、及び、側面部に配置された例を示す概略図である。
【図13】本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器の第１加熱手段及び第２加熱手段が天面部及び側面部に配置された例を示す概略図である。
【図14】本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器の第１加熱手段及び第２加熱手段が底面部及び側面部に配置された例を示す概略図である。
【図15】本開示の実施の形態２に係る加熱調理器の概略断面図である。
【図16】本開示の実施の形態２に係る加熱調理器による焼け具合を示す画像である。
【図17】本開示の実施の形態２に係る加熱調理器による被加熱物の裏面の焦げ率と第１加熱手段の温度との関係を示すグラフである。
【図18】本開示の実施の形態２に係る加熱調理器による被加熱物の表面の焦げ率と第２加熱手段の温度との関係を示すグラフである。
【図19】本開示の実施の形態３に係る加熱調理器の概略断面図である。
【図20】本開示の実施の形態３に係る加熱調理器の加湿量に対する含水率を示している。
【図21】本開示の実施の形態３に係る加熱調理器の加湿量に対するピーク荷重を示している。
【図22】本開示の実施の形態３に係る加熱調理器の加湿量に対する上側焦げ率を示している。
【図23】本開示の実施の形態３に係る加熱調理器における蒸気発生部の配置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
本開示に係る加熱調理器を実施するための形態について、添付の図面を参照しながら説明する。各図において、同一、又は、相当する部分には同一の符号を付し、重複する説明は適宜に簡略化又は省略する。以下の説明においては、便宜上、図示の状態を基準に各構造の位置関係を表現することがある。なお、本開示は以下の実施の形態に限定されることなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において、各実施の形態の自由な組み合わせ、各実施の形態の任意の構成要素の変形、または、各実施の形態の任意の構成要素の省略が可能である。また、各図においては、各構成部材の寸法の関係や形状等が実際のものとは異なる場合がある。また、各構成部材同士の位置関係、例えば、上下関係等は、原則として、加熱調理器１００を使用可能な状態に設置したときのものである。
【0010】
実施の形態１．
＜加熱調理器１００の構成＞
図１は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の構成を示す概略断面図である。図１に示すように、加熱調理器１００は、断熱箱体１に形成された焼成庫２と、第１加熱手段４と、第２加熱手段５と、を有する。断熱箱体１は、前面、つまり、正面が、開口しており、内部が焼成庫２になっている。
＜加熱調理器１００の構成＞
図１は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の構成を示す概略断面図である。図１に示すように、加熱調理器１００は、断熱箱体１に形成された焼成庫２と、第１加熱手段４と、第２加熱手段５と、を有する。断熱箱体１は、前面、つまり、正面が、開口しており、内部が焼成庫２になっている。
【0011】
断熱箱体１には、回転部２６が設けられている。回転部２６は、断熱箱体１の前面を閉塞する図示せぬ扉に接続されている。回転部２６を軸に扉が回動することで、扉が開閉する。扉が開放された状態で、焼成庫２の内部に被加熱物３が配置される。扉が閉鎖された状態で、焼成庫２の内部が密閉された状態となる。
【0012】
焼成庫２は、被加熱物３が配置され、焼成される空間である。焼成庫２は、天面部２１と、底面部２２と、一対の側面部２３と、背面部２４と、を有する。焼成庫２は、高熱伝導のアルミ素材等により構成されている。
【0013】
焼成庫２の底面部２２には、第１加熱手段４が設けられている。第１加熱手段４は、被加熱物３の底面を加熱する。第１加熱手段４は、被加熱物３を伝導熱により加熱する。第１加熱手段４の加熱量は、第１温度計１２の計測値に基づき制御される。
【0014】
第１加熱手段４は、例えば、面状ヒータである。面状ヒータとしては、マイカ板に電熱体を巻いた面状ヒータ、又は、電熱体をセラミックで挟んで形成したセラミックヒータなどがある。
【0015】
第１加熱手段４の近傍には、第１温度計１２が配置されている。第１温度計１２は、第１加熱手段４自身の温度を計測するものである。第１温度計１２は、例えば、サーミスタである。
【0016】
焼成庫２の天面部２１には、第２加熱手段５が設けられている。第２加熱手段５は、被加熱物３の表面を加熱する。第２加熱手段５は、被加熱物３を塗装領域９による輻射熱で加熱する。第２加熱手段５は、第１加熱手段４とは個別に加熱量が制御される。第２加熱手段５の加熱量は、第２温度計１３の計測値に基づき制御される。
【0017】
第２加熱手段５は、例えば、面状ヒータである。面状ヒータとしては、マイカ板に電熱体を巻いた面状ヒータ、又は、電熱体をセラミックで挟んで形成したセラミックヒータなどがある。例えば、棒状のヒータが用いられている場合、温度が調節されても、ヒータに近い個所、又は、被加熱物３の底面が焼けやすく、被加熱物３の焼き色が均一になりづらいため、サイズが一般的に決まってしまっている食パンなどにしか効果が得られない。第２加熱手段５として、面状ヒータを用いることで、ユーザによる焼き色の調節が容易になる。
【0018】
第２加熱手段５の近傍には、第２温度計１３が配置されている。第２温度計１３は、第２加熱手段５自身の温度を計測するものである。第２温度計１３は、例えば、サーミスタである。
【0019】
焼成庫２の天面部２１の内面２００には、塗装領域９が設けられている。塗装領域９は、黒体の塗装が施された領域である。塗装領域９は、焼成庫２の天面部２１の内面２００の全面に設けられている。黒体の塗装には、例えば、フッ素系塗料、または、シリコン系塗料を用いることができる。
【0020】
＜第１加熱手段４及び第２加熱手段５の制御＞
第１加熱手段４及び第２加熱手段５は、例えば、電源がＯＮ又はＯＦＦするように制御される。これにより、第１加熱手段４及び第２加熱手段５の加熱量を調整することができる。第１加熱手段４及び第２加熱手段５は、熱源、つまり、第１加熱手段４及び第２加熱手段５自身の温度を参照し、第１加熱手段４及び第２加熱手段５の温度が設定温度になるように制御される。設定温度は、ユーザが自由に設定できる構成でよい。設定温度は、自動で設定される構成であってもよい。設定温度が自動で設定される場合、被加熱物３に応じて最適な設定がなされる。
第１加熱手段４及び第２加熱手段５は、例えば、電源がＯＮ又はＯＦＦするように制御される。これにより、第１加熱手段４及び第２加熱手段５の加熱量を調整することができる。第１加熱手段４及び第２加熱手段５は、熱源、つまり、第１加熱手段４及び第２加熱手段５自身の温度を参照し、第１加熱手段４及び第２加熱手段５の温度が設定温度になるように制御される。設定温度は、ユーザが自由に設定できる構成でよい。設定温度は、自動で設定される構成であってもよい。設定温度が自動で設定される場合、被加熱物３に応じて最適な設定がなされる。
【0021】
第２加熱手段５の温度が、第１加熱手段４の温度よりも高い、例えば、２０℃～４０℃高い設定である場合、被加熱物３は、第２加熱手段５及び塗装領域９の影響により上側が輻射熱で焼成され、第１加熱手段４により下側が底面からの伝導熱で焼成される。被加熱物３は、上下で均一に焼き色がつくとともに、膨張が抑制され、内部に水分が溜め込まれた状態で焼成され、外側がサクサクで、内側がしっとりした二層の食感となる。これにより、外側がサクサクで内側がしっとり柔らかめの焼き菓子ができあがる。
【0022】
第２加熱手段５の温度が、第１加熱手段４の温度よりも低く、例えば、０℃～２０℃低くなるように設定された場合、第２加熱手段５及び塗装領域９の影響が低減し、被加熱物３が、下側から上側に向けて膨張して、水分が被加熱物３の外部に放出される。このため、被加熱物３がふんわりとした食感に焼き上がり、全体的にふんわり柔らかめの焼き菓子ができあがる。
【0023】
【0024】
図２及び３に示すように、比較例に係る加熱調理器１０１では、空間温度Ｔを反映して加熱量が制御されている。そのため、被加熱物３の底面は、伝導熱Ｃにより焼成され、被加熱物３の表面は、対流熱、つまり、熱風ＨＡにより焼成される。被加熱物３が対流熱で焼成されると、熱風ＨＡにより被加熱物３の表面から水分が奪われてしまい、ふんわりとした食感を維持しにくい。
【0025】
図４は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００により被加熱物３を焼成した場合を説明する模式図である。図５は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００により被加熱物３を焼成した場合を説明する他の模式図である。図４及び図５に示すように、第１加熱手段４は、第１温度計１２で計測された第１加熱手段４の温度を反映した加熱量に制御され、第２加熱手段５は、第２温度計１３で計測された第２加熱手段５の温度を反映した加熱量に制御される。
【0026】
第１加熱手段４は、第１温度計１２で計測された温度が設定された温度になるように制御され、第２加熱手段５は、第２温度計１３で計測された温度が設定された温度になるように制御される。これにより、被加熱物３の底面が、第１加熱手段４により伝導熱Ｃで焼成され、被加熱物３の表面が、第２加熱手段５により輻射熱Ｒで焼成される。表面が輻射熱Ｒで焼成されることで、被加熱物３の表面が高温となって水分が蒸発して放出され、内部には水分が保持されるため、ふんわりとした食感を維持しつつ、カリッとした食感に焼き上げることができる。
【0027】
図６は、本開示の実施の形態１に係る焼成庫２の天面部２１の内面２００を示す概略図である。図６に示すように、焼成庫２の天面部２１の内面２００に、塗装領域９と、非塗装領域１０と、が設けられていてもよい。非塗装領域１０は、黒体の塗装がされていない領域であって、アルミ素材の領域である。塗装領域９と、非塗装領域１０とは、例えば、焼成庫２の天面部２１の中央から、塗装領域９と非塗装領域１０との順に配置されている。
【0028】
黒体の塗装が施された塗装領域９は、放射率が０．９程度である一方、非塗装領域１０は、放射率が塗装領域９の１／１０の０．０９程度である。塗装領域９は、非塗装領域１０よりも高放射率であり、黒体の塗装が施されていない非塗装領域１０は、塗装領域９と比較すると輻射熱の影響が低下する。
【0029】
塗装領域９と非塗装領域１０とは、断熱層１１により仕切られている。断熱層１１で仕切ることにより、塗装領域９と非塗装領域１０との間の熱伝導が抑制される。断熱層１１には、例えば、ポリウレタンが用いられている。断熱層１１は、例えば、天面部２１を構成しているアルミ材から塗装領域９となる部分をくりぬき、くり抜かれた境界の部分に形成すればよい。アルミ材から切り抜いた部分には、塗装領域９となる部分に黒体の塗装が施される。黒体の塗装が施された塗装領域９となる部分が、アルミ材に嵌め込まれることで、アルミ材の非塗装領域１０と、塗装領域９とが、断熱層１１により仕切られた天面部２１となる。
【0030】
塗装領域９からは、放射率が０．９程度で輻射熱が放出されるため、被加熱物３が高温に加熱されて、焼き色がつきやすくなる。非塗装領域１０からの輻射熱は、放射率が０．０９程度となり、被加熱物３が主に自然対流熱で焼成されるため、被加熱物３に焼き色がつきにくくなり、被加熱物３がじっくり加熱される。焼成庫２の天面部２１の中央から、塗装領域９と非塗装領域１０との順に配置されていることで、被加熱物３の中心部を他の部分よりもよく焼くことができる。
【0031】
＜塗装領域９及び非塗装領域１０の形態＞
図７は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の塗装領域９と、非塗装領域１０との形態を示す概略図である。図８は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の塗装領域９と、非塗装領域１０との他の形態を示す概略図である。
図７は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の塗装領域９と、非塗装領域１０との形態を示す概略図である。図８は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００の塗装領域９と、非塗装領域１０との他の形態を示す概略図である。
【0032】
図７に示すように、塗装領域９と、非塗装領域１０との形態として、塗装領域９と、非塗装領域１０とが、天面部２１の中央から外側に向かい、塗装領域９と非塗装領域１０との順に、均等に配置されていてもよい。これにより、被加熱物３を全体に均等に焼くことができ、被加熱物３が均一な焼け具合になる。また、図８に示すように、塗装領域９は、天面部２１に、均等な面積で、複数配置されていてもよい。これにより、被加熱物３を全体に均等に焼くことができ、被加熱物３が均一な焼け具合になる。このように、塗装領域９と、非塗装領域１０との形態を変化させることで、被加熱物３に与える輻射熱の影響を調整することができる。
【0033】
なお、塗装領域９は、少なくとも、焼成庫２の内面２００のうち、第２加熱手段５が設けられた面に設けられていればよく、第２加熱手段５が設けられていない面に設けられていてもよい。また、塗装領域９と、非塗装領域１０との形態は、上述の例に限定されない。
【0034】
図９は、本開示の実施の形態１に係る加熱調理器１００により焼成された被加熱物３のピーク荷重と含水率との関係を示すグラフである。図９において、縦軸には、ピーク荷重（ｋｇｆ）が示されており、横軸には、含水率（％）が示されている。また、黒丸は、塗装領域９による加熱をした場合の被加熱物３のピーク荷重及び含水率の数値を示し、白丸は、非塗装領域１０による加熱をした場合の被加熱物３のピーク荷重及び含水率の数値を示している。
【0035】
図９に示すように、黒体の塗装が施されている塗装領域９を用いた加熱による被加熱物３は、黒体の塗装が施されていない非塗装領域１０を用いた加熱による被加熱物３と比較すると、含水率に対するピーク荷重の値が小さい。また、含水率が高いほど、ピーク荷重が低下している。
【0036】
ピーク荷重は、測定対象となる被加熱物３の柔らかさを表しており、テクスチャアナライザで測定した数値である。含水率は、測定対象となる被加熱物３の重量を測定した後、１０５℃の温度に維持された高温槽に１時間置き、その後再度重量を測定して、前後の重量差から水分量を算出して求めた数値である。
【0037】
被加熱物３の食感は、ピーク荷重と含水量とのバランスにより決定される。被加熱物３が輻射熱の影響を受けることで、含水率が低減し、且つ、ピーク荷重の値も低減する。塗装領域９が設けられていると、輻射熱の影響により、被加熱物３の水分が飛びやすいため、被加熱物３が高温になりやすく、更に加熱が進むと、被加熱物３に焦げが生じる。
【0038】
塗装領域９により輻射熱の影響を調整し、被加熱物３のピーク荷重と水分量とのバランスを変化させることで、所望する食感になるように被加熱物３を焼き上げることができる。
【0039】
＜変形例１＞
図１０は、本開示の実施の形態１の変形例１に係る加熱調理器１００の概略断面図である。図１０に示すように、第２加熱手段５は、塗装領域加熱手段５ａと、非塗装領域加熱手段５ｂと、を含んでいてもよい。
図１０は、本開示の実施の形態１の変形例１に係る加熱調理器１００の概略断面図である。図１０に示すように、第２加熱手段５は、塗装領域加熱手段５ａと、非塗装領域加熱手段５ｂと、を含んでいてもよい。
【0040】
塗装領域加熱手段５ａは、塗装領域９の裏に設けられている。非塗装領域加熱手段５ｂは、非塗装領域１０の裏に設けられている。塗装領域加熱手段５ａと非塗装領域加熱手段５ｂとは、個別に加熱量が制御される。主に輻射熱で被加熱物３を焼成したい場合には、塗装領域９の裏に設けられている塗装領域加熱手段５ａがＯＮになるように制御される。主に対流熱で被加熱物３を焼成したい場合には、非塗装領域１０の裏に設けられている非塗装領域加熱手段５ｂがＯＮになるように制御される。
【0041】
塗装領域加熱手段５ａと非塗装領域加熱手段５ｂとは、例えば、ＯＮとＯＦＦとが交互に切り替わるように制御される。塗装領域加熱手段５ａと、非塗装領域加熱手段５ｂとは、例えば、焼き始めは、非塗装領域加熱手段５ｂによる加熱を行い、焼き始めから一定時間が経過した後には、塗装領域加熱手段５ａによる加熱を行うように、切り替えて制御される。
【0042】
塗装領域加熱手段５ａによる加熱が行われると、塗装領域９から放射率が０．９程度で輻射熱が放出され、被加熱物３が高温に加熱されて、焼き色がつきやすくなる。非塗装領域加熱手段５ｂによる加熱が行われると、非塗装領域１０からの輻射熱が、塗装領域９の１／１０の放射率である０．０９程度となり、被加熱物３が主に自然対流熱で被加熱物３が焼成される。
【0043】
焼き始めには、非塗装領域加熱手段５ｂがＯＮとなり、塗装領域加熱手段５ａがＯＦＦとなるように制御され、被加熱物３が対流熱によりじっくりと焼成される。一定時間が経過した後には、塗装領域加熱手段５ａがＯＮとなり、非塗装領域加熱手段５ｂがＯＦＦとなるように制御され、被加熱物３が輻射熱で焼成されることで、表面に焼き色が付加される。この結果、外側が硬めのサクサクで、中側が柔らかいしっとりした二層の食感の被加熱物３となり、美味しく焼き上げることが可能である。
【0044】
塗装領域加熱手段５ａと非塗装領域加熱手段５ｂとが、個別に、且つ、切り替えて制御されることで、被加熱物３が所望の食感となるように被加熱物３を焼き上げることができる。
【0045】
＜変形例２＞
図１１は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１２は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が天面部２１、底面部２２、及び、側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１３は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が天面部２１及び側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１４は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が底面部２２及び側面部２３に配置された例を示す概略図である。
図１１は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１２は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が天面部２１、底面部２２、及び、側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１３は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が天面部２１及び側面部２３に配置された例を示す概略図である。図１４は、本開示の実施の形態１の変形例２に係る加熱調理器１００の第１加熱手段４及び第２加熱手段５が底面部２２及び側面部２３に配置された例を示す概略図である。
【0046】
図１１～図１４に示すように、第１加熱手段４及び第２加熱手段５の配置位置は、特に限定されない。第１加熱手段４は、被加熱物３を底面から加熱することができればよい。第２加熱手段５は、天面部２１ではなく、例えば、側面部２３に設けられていてもよい。第１加熱手段４及び第２加熱手段５の配置の態様は、第１加熱手段４及び第２加熱手段５のうちのいずれかが、焼成庫２の全面、つまり、天面部２１、底面部２２、一対の側面部２３、及び、背面部２４に配置された態様であってもよい。
【0047】
なお、塗装領域９は、少なくとも第２加熱手段５が配置されている面に塗装されていることが望ましい。また、第１加熱手段４又は第２加熱手段５の設置の如何を問わず、被加熱物３と接している底面部２２は、塗装されていても塗装されていなくても構わない。
【0048】
以上説明した、実施の形態１に係る加熱調理器１００によれば、被加熱物３の底部を加熱する第１加熱手段４と、被加熱物３の表面を加熱する第２加熱手段５とを備え、第２加熱手段５が設けられた位置には、黒体の塗装領域９が形成されている。第１加熱手段４が伝導熱により被加熱物３を底面から加熱することで被加熱物３が下側から上側にむけて膨張するとともに、第２加熱手段５と塗装領域９とが輻射熱により被加熱物３を表面から加熱して被加熱物３の膨張が抑制される。第２加熱手段５が第１加熱手段４と個別に制御されることで、被加熱物３を伝導熱で加熱するか輻射熱で加熱するかを選択できるため、被加熱物３がユーザの所望する食感の焼き上がりになる。これにより、食材を美味しく焼き上げることが可能となり、特に、菓子生地の焼き色及び焼き上がり時の食感を自由に、簡単に調節できるようになるという効果が奏される。
【0049】
また、第２加熱手段５は、塗装領域９の裏に設けられた塗装領域加熱手段５ａと、非塗装領域１０の裏に設けられた非塗装領域加熱手段５ｂとを含み、塗装領域加熱手段５ａと非塗装領域加熱手段５ｂとが、個別に、且つ、切り替えて制御される。このため、例えば、非塗装領域加熱手段５ｂによりじっくり焼成した後、塗装領域加熱手段５ａにより表面に焼き色がつくように焼成することが可能であり、被加熱物３が所望の食感となるように被加熱物３を焼き上げることができる。
【0050】
また、塗装領域９と、非塗装領域１０とが、熱伝導を抑制する断熱層１１により区切られており、塗装領域９が加熱された場合に、非塗装領域１０に熱伝導すること、及び、非塗装領域１０が加熱された場合に、塗装領域９に熱伝導することが抑制される。このため、所望の食感の被加熱物３を焼き上げることができる。
【0051】
また、塗装領域９と、非塗装領域１０とが、この順に焼成庫２の内面２００の中央から配置されていることで、被加熱物３の中心が他の部分よりも良く焼けるように調整することができる。
【0052】
また、塗装領域９と、非塗装領域１０とが、この順に焼成庫２の内面２００の中央から、交互に繰り返し配置されていることで、被加熱物３が均一な焼け具合になるように調整することができる。
【0053】
また、塗装領域９は、均等な面積で、複数配置されていることで、被加熱物３が均一な焼け具合となるように調整することができる。
【0054】
また、第１加熱手段４は、第１加熱手段４の温度を反映して加熱量が制御され、第２加熱手段５は、第２加熱手段５の温度を反映して加熱量が制御されるため、熱伝導による加熱と、輻射熱による加熱とのバランスを調節することができる。
【0055】
実施の形態２．
図１５は、本開示の実施の形態２に係る加熱調理器１００の概略断面図である。実施の形態２は、温度測定手段１４を備える点で、実施の形態１と相違する。実施の形態２では、実施の形態１と共通する部分は同一の符号を付して説明を省略し、実施の形態１との相違点を中心に説明する。
図１５は、本開示の実施の形態２に係る加熱調理器１００の概略断面図である。実施の形態２は、温度測定手段１４を備える点で、実施の形態１と相違する。実施の形態２では、実施の形態１と共通する部分は同一の符号を付して説明を省略し、実施の形態１との相違点を中心に説明する。
【0056】
図１５に示すように、加熱調理器１００には、第２加熱手段５が設けられている焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌを測定する温度測定手段１４が設けられている。温度測定手段１４により測定された焼成庫２の天面部２１と被加熱物３との距離Ｌに応じて、第１加熱手段４、及び、第２加熱手段５が制御される。第１加熱手段４、及び、第２加熱手段５は、焼成庫２の天面部２１と被加熱物３との距離Ｌが増大した場合、第１加熱手段４、及び、第２加熱手段５の温度差が増大するように制御される。
【0057】
例えば、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが３ｃｍの場合、第２加熱手段５の設定温度は、第１加熱手段４の設定温度より４０℃高く設定され、これにより、被加熱物３を上下で均一な焼け具合に焼成することができる。焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが３ｃｍ増加し、６ｃｍになった場合には、第１加熱手段４と、第２加熱手段５との温度差が１０℃増加され、第２加熱手段５の設定温度が、第１加熱手段４の設定温度より５０℃高く設定される。焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが更に３ｃｍ増加し、９ｃｍになった場合には、第１加熱手段４と、第２加熱手段５との温度差が更に１０℃増加され、第２加熱手段５の設定温度が、第１加熱手段４の設定温度より６０℃高く設定される。つまり、第１加熱手段４、及び、第２加熱手段５は、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが３ｃｍ増加する毎に、温度差が１０℃ずつ増加するように制御される。これにより、被加熱物３の上下で均一な焼け具合になるように被加熱物３を焼成することができる。
【0058】
焼成庫２の天面部２１と被加熱物３との距離Ｌが増大すると、被加熱物３が第２加熱手段５から受ける加熱量が減少するが、第１加熱手段４、及び、第２加熱手段５の温度差が増大するように制御することで、上下の焼き上がりを均一にすることができる。
【0059】
距離測定手段１５は、例えば、レーザ変位計である。距離測定手段１５は、被加熱物３の表面温度から距離Ｌを判定する構成であってもよい。距離測定手段１５は、例えば、断熱箱体１内に配置されたカメラであってもよく、画像認識により距離Ｌが判定される。距離測定手段１５は、焼成庫２内に付けた目盛りであってもよく、目視により距離Ｌが判定される。
【0060】
図１６は、本開示の実施の形態２に係る加熱調理器１００による焼け具合を示す画像である。図１６において、一律加熱は、第１加熱手段４と、第２加熱手段５との加熱量が同じである場合を示し、上下個別加熱は、第１加熱手段４の加熱量よりも、第２加熱手段５の加熱量を増大させた場合を示している。図１６において、焦げ率は、元画像において焦げた部分Ｂと、焦げていない部分Ｕとに分け、Ｂ／Ｕの割合から算出したものである。
【0061】
図１６に示すように、一律加熱では、表面の焦げ率が８．０％である一方、裏面の焦げ率は７９．４％であり、上下の焦げ率が乖離しており、被加熱物３の上下で均一な焼成ができていない。これに対し、上下個別加熱を行った場合には、表面の焦げ率が１７．２％であり、裏面の焦げ率が９．２％であるため、上下の焼け具合がより均一になるように焼成することができる。
【0062】
図１７は、本開示の実施の形態２に係る加熱調理器１００による被加熱物３の裏面の焦げ率と第１加熱手段４の温度との関係を示すグラフである。図１８は、本開示の実施の形態２に係る加熱調理器１００による被加熱物３の表面の焦げ率と第２加熱手段５の温度との関係を示すグラフである。図１７及び図１８において、グラフＧ１は、塗装領域９が設けられており、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが３．５ｃｍの場合を示している。また、グラフＧ２は、塗装領域９が設けられており、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが６．５ｃｍの場合を示している。また、グラフＧ３は、塗装領域９が設けられておらず、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが３．５ｃｍの場合を示している。
【0063】
図１７に示すように、第１加熱手段４の温度が２００℃を上回ると焦げ率が上昇し出し、２５０℃付近で焦げ率が１００％に近くなり、グラフＧ１～グラフＧ３で大きな違いは見られない。被加熱物３の裏面を加熱する第１加熱手段４は、伝導熱による加熱を行うため、焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌ、又は、塗装領域９の有無による焦げ率の違いは生じない。
【0064】
図１８に示すように、第２加熱手段５の温度に対する焦げ率の変化は、グラフＧ１では、第２加熱手段５の温度が１５０℃を上回ると焦げ率が上昇し出し、２００℃付近で焦げ率が１００％に近くなっている。また、グラフＧ２では、第２加熱手段５の温度が１７０℃を上回ると焦げ率が上昇し出し、２００℃付近で焦げ率が１００％に近くなっている。また、グラフＧ３では、第２加熱手段５の温度が２１０℃を上回ると焦げ率が上昇し出し、２７０℃付近で焦げ率が１００％に近くなっている。
【0065】
焼成庫２の天面部２１と、被加熱物３との距離Ｌが増大すると、被加熱物３の温度が上昇し出す第２加熱手段５の温度が上昇する。また、第２加熱手段５による加熱は、塗装領域９が設けられている場合、輻射熱の影響が増大され、塗装領域９が設けられていない場合と比較して、被加熱物３の温度が上昇しやすい。従って、第２加熱手段５の加熱量と、塗装領域９の有無と、により、被加熱物３に与える焼け具合への影響を調節し、所望の焼き上がりの被加熱物３を実現することができる。
【0066】
なお、例えば、焼成庫２の側面部２３に第２加熱手段５が設けられている場合、距離測定手段１５は、焼成庫２の天面部２１と被加熱物３との距離Ｌを測定する構成ではなく、焼成庫２の側面部２３と被加熱物３との距離Ｌを測定する構成であってもよい。
【0067】
以上説明した、実施の形態２に係る加熱調理器１００によれば、焼成庫２の天面部２１から被加熱物３までの距離Ｌに応じて、第１加熱手段４及び第２加熱手段５による加熱量がそれぞれ調節される。このため、被加熱物３の表面及び裏面で均一な焼き具合になるように被加熱物３を焼成することができる。
【0068】
また、焼成庫２の天面部２１から被加熱物３までの距離Ｌは、例えば、画像分析により測定することができる。これにより、正確な距離Ｌを測定することができる。
【0069】
また、焼成庫２の天面部２１から被加熱物３までの距離Ｌは、例えば、被加熱物３の表面温度で測定することができる。これにより、距離Ｌの測定のために部品を用意する必要がなくなり、加熱調理器１００の小型化に寄与できる。
【0070】
また、例えば、焼成庫２の天面部２１から被加熱物３までの距離Ｌが３ｃｍの場合、第２加熱手段５の温度が、第１加熱手段４の温度より４０℃高く設定される。焼成庫２の天面部２１から被加熱物３までの距離Ｌが３ｃｍ増加する毎に、第２加熱手段５と、第１加熱手段４との温度差が１０℃ずつ増加するように設定される。これにより、所望の焼き上がりの被加熱物３を実現することができる。
【0071】
実施の形態３．
図１９は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００の概略断面図である。実施の形態３は、蒸気発生部７及び開放弁８を備える点で、実施の形態１及び２と相違する。実施の形態３では、実施の形態１及び２と共通する部分は同一の符号を付して説明を省略し、実施の形態１及び２との相違点を中心に説明する。
図１９は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００の概略断面図である。実施の形態３は、蒸気発生部７及び開放弁８を備える点で、実施の形態１及び２と相違する。実施の形態３では、実施の形態１及び２と共通する部分は同一の符号を付して説明を省略し、実施の形態１及び２との相違点を中心に説明する。
【0072】
図１９に示すように、加熱調理器１００の焼成庫２は、密閉された構造であり、蒸気発生部７及び開放弁８を備えている。蒸気発生部７は、水分供給手段の一例である。
【0073】
蒸気発生部７は、供給された水を加熱し、蒸気を発生させて、焼成庫２の内部に水分を供給する。蒸気発生部７は、例えば、第２加熱手段５に接した位置に配置されている。
【0074】
蒸気発生部７の動作により密閉状態の焼成庫２の内部に蒸気が供給されると、焼成庫２の内部の湿度が上昇する。焼成庫２の湿度が上昇した状態では、第１加熱手段４及び第２加熱手段５が１００℃以上に設定されていても、蒸気の温度が１００℃～１２０℃に保たれる。このため、焼成庫２の内部の被加熱物３が蒸し焼きの状態となり、被加熱物３がこげにくく、じっくりと焼成される。
【0075】
開放弁８は、焼成庫２の内部の湿度を調節するものであり、開放弁８が開放されることで焼成庫２の内部の湿度が低下する。開放弁８が開放されると、焼成庫２の内部の湿度が低下した状態で第１加熱手段４及び第２加熱手段５が１００℃以上に設定されると、被加熱物３の表面の温度が第１加熱手段４及び第２加熱手段５の設定温度に近づく。その結果、被加熱物３は、蒸し焼きの状態にはならず、焼き色がつきやすく、焦げが生じやすくなる。
【0076】
図２０は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００の加湿量に対する含水率を示している。図２１は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００の加湿量に対するピーク荷重を示している。図２２は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００の加湿量に対する上側焦げ率を示している。図２０～図２２において、グラフＧ４は、塗装領域９が設けられている場合を示し、グラフＧ５は、塗装領域９が設けられていない場合を示している。
【0077】
図２０に示すように、焼成庫２内の加湿量が増加すると被加熱物３の含水率も増大する。また、塗装領域９が設けられていない場合よりも塗装領域９が設けられている場合の方が、加湿量に対する含水率が低い。これは、塗装領域９により輻射熱の影響が増大されることで、被加熱物３の水分が蒸発して放出されやすいためである。
【0078】
また、図２１に示すように、焼成庫２内の加湿量が増加するとピーク荷重は低減し、且つ、塗装領域９が設けられていない場合よりも塗装領域９が設けられている場合の方が、加湿量に対するピーク荷重が低い。塗装領域９が設けられている場合、輻射熱の影響が増大されることで水分が蒸発して放出され、乾燥しやすい。同じ加湿量で比較すると、塗装領域９が設けられている方が、塗装領域９が設けられていない場合よりもピーク荷重が低い。
【0079】
また、図２１に示すように、加湿量が増加すると上側、つまり、表面の焦げ率は低減する。また、塗装領域９が設けられている場合の方が、塗装領域９が設けられていない場合と比較して、焦げ率が高い。
【0080】
焼成庫２が密閉されていない構造であると、焼成庫２の内部を加湿しても、加湿された状態を維持したまま、被加熱物３を焼成することができないため、蒸らし焼きの効果が得にくい。また、焼き色を付ける調理工程で、焼成庫２の内部を開放して湿度を低下させた状態にすることができないと、焼き色をつけづらい。このような場合、ユーザが自分で焼き色又は焼き上がり時の食感を調節することが困難である。
【0081】
焼成庫２の内部が高湿度の状態に維持できることで、被加熱物３が水分を多く含んだ状態で焼き上がり、被加熱物３がしっとりとした軟らかい食感に焼き上がる。また、焼成庫２の内部が低湿度に維持されることで、被加熱物３は水分が低減されて、焼き色が着き易い状態であるため、サクサクとした乾燥した硬めの食感となる。また、焼成庫２の内部が高湿度の状態で維持され、その後、途中で開放弁８が開放されて低湿度の状態に維持されることで、始めに水分を多く含んだ状態でじっくりと焼成された後、水分が抜けて表面のみが乾燥し、焼き色がついた状態に焼き上がる。このように、塗装領域９の有無と、加湿量の調節とにより、被加熱物３の焼成具合を変化させることで、外はサクサクで、中はしっとりとした二層の食感の被加熱物３とすることができる。
【0082】
図２３は、本開示の実施の形態３に係る加熱調理器１００における蒸気発生部７の配置を示す概略断面図である。図２３に示すように、蒸気発生部７は、焼成庫２の底面全体に配置されていてもよく、その場合、蒸気発生部７の上部に網状のプレートを配置し、プレート上で被加熱物３を焼成する構成としてもよい。また、蒸気発生部７は、焼成庫２の奥側に配置されていてもよい。
【0083】
以上説明した、実施の形態３に係る加熱調理器１００によれば、水分を供給する蒸気発生部７と、水分が放出される開放弁８とにより、焼成庫２の湿度を上昇又は低下させることができる。これにより、被加熱物３を蒸し焼きにすること、又は、被加熱物３に焼き色を着けることができるため、被加熱物３を所望の食感に仕上げることができる。
【0084】
また、開放弁８が閉状態となり、且つ、蒸気発生部７により焼成庫２に水分が供給され、被加熱物３が、水分を多く含んだ状態でじっくりと焼かれる。その後、開放弁８が開状態となり、且つ、蒸気発生部７による焼成庫２への水分の供給が停止されることで、水分が抜けて、表面のみ乾燥することで焼き色がついて焼き上がる。これにより、被加熱物３が、外はサクサクで、中はしっとりとした二層の食感になるように焼き上げることができる。
【0085】
なお、実施の形態１～３は、適宜組み合わせることができる。
【0086】
以下、本開示の諸態様を付記としてまとめて記載する。
【0087】
（付記１）
被加熱物が焼成される焼成庫と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、
を備え、
前記第２加熱手段が設けられた位置における前記焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている、
加熱調理器。
（付記２）
前記第２加熱手段は、前記第１加熱手段とは個別に制御される
付記１に記載の加熱調理器。
（付記３）
前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域の裏に設けられた塗装領域加熱手段と、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域が設けられていない非塗装領域の裏に設けられ、前記塗装領域加熱手段と個別に制御される非塗装領域加熱手段と、を含み、
前記塗装領域加熱手段による加熱と、前記非塗装領域加熱手段による加熱と、が切り替えて制御される
付記１又は２に記載の加熱調理器。
（付記４）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、熱伝導を抑制する断熱層により区切られている
付記３に記載の加熱調理器。
（付記５）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記６）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に、交互に繰り返し配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記７）
前記塗装領域は、
前記焼成庫の内面に、均等な面積で複数配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記８）
前記第１加熱手段は、前記第１加熱手段の温度を反映して加熱量が制御され、
前記第２加熱手段は、前記第２加熱手段の温度を反映して加熱量が制御される
付記１～７のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記９）
前記第１加熱手段、及び、前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の前記内面から前記被加熱物までの距離に応じて制御される
付記１～８のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１０）
前記距離は、画像分析により測定される
付記９に記載の加熱調理器。
（付記１１）
前記距離は、前記被加熱物の表面温度より測定する
付記９に記載の加熱調理器。
（付記１２）
前記距離が３ｃｍのときは、
前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度よりも４０度高く設定され、
前記距離が３ｃｍ増加すると、それに応じて、前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度との差が１０度ずつ増加するように設定される
付記１～１１のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１３）
前記焼成庫は、密閉された構造を有し、
前記焼成庫に水分を供給する水分供給手段と、
前記焼成庫から水分を放出する開放弁と、
を更に備えた、付記１～１２のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１４）
前記開放弁が閉状態となり、且つ、前記水分供給手段により前記焼成庫に水分が供給された後、
前記開放弁が開状態となり、且つ、前記水分供給手段による前記焼成庫への水分の供給が停止される
付記１３に記載の加熱調理器。
被加熱物が焼成される焼成庫と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の底部を伝導熱で加熱する第１加熱手段と、
前記焼成庫に設けられ、前記被加熱物の表面を輻射熱で加熱する第２加熱手段と、
を備え、
前記第２加熱手段が設けられた位置における前記焼成庫の内面に、輻射熱の影響を調節する黒体の塗装が施された塗装領域が形成されている、
加熱調理器。
（付記２）
前記第２加熱手段は、前記第１加熱手段とは個別に制御される
付記１に記載の加熱調理器。
（付記３）
前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域の裏に設けられた塗装領域加熱手段と、
前記焼成庫の内面の前記塗装領域が設けられていない非塗装領域の裏に設けられ、前記塗装領域加熱手段と個別に制御される非塗装領域加熱手段と、を含み、
前記塗装領域加熱手段による加熱と、前記非塗装領域加熱手段による加熱と、が切り替えて制御される
付記１又は２に記載の加熱調理器。
（付記４）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、熱伝導を抑制する断熱層により区切られている
付記３に記載の加熱調理器。
（付記５）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記６）
前記塗装領域と、前記非塗装領域とは、
前記焼成庫の内面の中央から、前記塗装領域と前記非塗装領域との順に、交互に繰り返し配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記７）
前記塗装領域は、
前記焼成庫の内面に、均等な面積で複数配置されている
付記３又は４に記載の加熱調理器。
（付記８）
前記第１加熱手段は、前記第１加熱手段の温度を反映して加熱量が制御され、
前記第２加熱手段は、前記第２加熱手段の温度を反映して加熱量が制御される
付記１～７のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記９）
前記第１加熱手段、及び、前記第２加熱手段は、
前記焼成庫の前記内面から前記被加熱物までの距離に応じて制御される
付記１～８のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１０）
前記距離は、画像分析により測定される
付記９に記載の加熱調理器。
（付記１１）
前記距離は、前記被加熱物の表面温度より測定する
付記９に記載の加熱調理器。
（付記１２）
前記距離が３ｃｍのときは、
前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度よりも４０度高く設定され、
前記距離が３ｃｍ増加すると、それに応じて、前記第１加熱手段の温度が、前記第２加熱手段の温度との差が１０度ずつ増加するように設定される
付記１～１１のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１３）
前記焼成庫は、密閉された構造を有し、
前記焼成庫に水分を供給する水分供給手段と、
前記焼成庫から水分を放出する開放弁と、
を更に備えた、付記１～１２のいずれか一つに記載の加熱調理器。
（付記１４）
前記開放弁が閉状態となり、且つ、前記水分供給手段により前記焼成庫に水分が供給された後、
前記開放弁が開状態となり、且つ、前記水分供給手段による前記焼成庫への水分の供給が停止される
付記１３に記載の加熱調理器。
【符号の説明】
【0088】
１ 断熱箱体、２ 焼成庫、３ 被加熱物、４ 第１加熱手段、５ 第２加熱手段、５ａ 塗装領域加熱手段、５ｂ 非塗装領域加熱手段、７ 蒸気発生部、８ 開放弁、９ 塗装領域、１０ 非塗装領域、１１ 断熱層、１２ 第１温度計、１３ 第２温度計、１４ 温度測定手段、１５ 距離測定手段、２１ 天面部、２２ 底面部、２３ 側面部、２４ 背面部、２６ 回転部、１００ 加熱調理器、１０１ 加熱調理器、２００ 内面。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】