特開2024-162308洗浄搬送装置、ウェハ処理装置、搬送装置および洗浄搬送方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024162308
(43)【公開日】2024-11-21
(54)【発明の名称】洗浄搬送装置、ウェハ処理装置、搬送装置および洗浄搬送方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/677 20060101AFI20241114BHJP
H01L 21/304 20060101ALI20241114BHJP
B24B 55/06 20060101ALI20241114BHJP
B24B 49/10 20060101ALI20241114BHJP
B24B 41/06 20120101ALI20241114BHJP
B24B 37/34 20120101ALN20241114BHJP
【ＦＩ】
H01L21/68 A
H01L21/304 622L
H01L21/304 622Q
H01L21/304 651A
H01L21/304 648A
H01L21/304 648H
B24B55/06
B24B49/10
B24B41/06 A
B24B37/34
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023077683
(22)【出願日】2023-05-10
(71)【出願人】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】230104019
【弁護士】
【氏名又は名称】大野 聖二
(74)【代理人】
【識別番号】230112025
【弁護士】
【氏名又は名称】小林 英了
(74)【代理人】
【識別番号】230117802
【弁護士】
【氏名又は名称】大野 浩之
(74)【代理人】
【識別番号】100106840
【弁理士】
【氏名又は名称】森田 耕司
(74)【代理人】
【識別番号】100131451
【弁理士】
【氏名又は名称】津田 理
(74)【代理人】
【識別番号】100167933
【弁理士】
【氏名又は名称】松野 知紘
(74)【代理人】
【識別番号】100174137
【弁理士】
【氏名又は名称】酒谷 誠一
(74)【代理人】
【識別番号】100184181
【弁理士】
【氏名又は名称】野本 裕史
(72)【発明者】
【氏名】豊澤 功太郎
(72)【発明者】
【氏名】吉成 大
【テーマコード（参考）】
3C034
3C047
3C158
5F057
5F131
5F157
【Ｆターム（参考）】
3C034AA19
3C034BB83
3C034CA11
3C034CA26
3C034CA30
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5F057AA04
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(57)【要約】 （修正有）
【課題】ウェハの搬送中に、ウェハ搬送機構のハンド上でのウェハの把持を確認する洗浄搬送装置、ウェハ処理装置、搬送装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】ウェハ処理装置において、洗浄部は、直列配置の複数の洗浄モジュール、複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構及びその動作を制御する制御部を有する。ウェハ搬送機構３２は、ウェハ把持機構６０１、２、ウェハ上下移動機構６４１、２及びウェハ把持機構を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構６２を有する。ウェハ把持機構は、開閉可能な一対のハンド６１、開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構６３及びハンドが閉状態にあるときに、一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するトルクセンサ８１を有する。制御部は、センサの測定データを予め定められた閾値と比較してハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
【選択図】図２
【解決手段】ウェハ処理装置において、洗浄部は、直列配置の複数の洗浄モジュール、複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構及びその動作を制御する制御部を有する。ウェハ搬送機構３２は、ウェハ把持機構６０１、２、ウェハ上下移動機構６４１、２及びウェハ把持機構を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構６２を有する。ウェハ把持機構は、開閉可能な一対のハンド６１、開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構６３及びハンドが閉状態にあるときに、一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するトルクセンサ８１を有する。制御部は、センサの測定データを予め定められた閾値と比較してハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
直列に配置された複数の洗浄モジュールと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する
洗浄搬送装置。
前記複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する
洗浄搬送装置。
【請求項2】
前記制御装置は、前記一対のハンド上にウェハが把持されていないと判定された場合に、前記ウェハ搬送機構の動作を停止させる、
請求項１に記載の洗浄搬送装置。
請求項１に記載の洗浄搬送装置。
【請求項3】
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサである、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項4】
前記センサは、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサである、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項5】
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサである、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
前記センサは、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサである、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項6】
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサと、を有する、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項7】
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサとのうちの一方または両方と、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサと、を有する、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサとのうちの一方または両方と、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサと、を有する、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項8】
前記制御装置は、前記センサの測定データを前記閾値とは異なる第２の閾値と比較して前記一対のハンド上に把持されているウェハの状態を推定する
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項9】
前記ウェハの状態は、ウェハが前記一対のハンドの一方のみに片持ちされているか否か、ウェハが割れているか否か、ウェハ上に所定の水滴量があるか否か、評価用ウェハの摩耗量が所定の値を上回っているか否か、異常個体のウェハであるか否か、のいずれかである、
請求項８に記載の洗浄搬送装置。
請求項８に記載の洗浄搬送装置。
【請求項10】
前記制御装置は、前記センサの測定データが前記閾値を超えた回数をカウントして装置の故障診断を行う、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項11】
前記制御装置は、前記上下移動機構および配列方向移動機構による前記ウェハ把持機構の移動中に、前記センサの測定データの変動を確認して異常を検知する、
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
請求項１または２に記載の洗浄搬送装置。
【請求項12】
ウェハを研磨する研磨部と、
研磨後のウェハを洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記洗浄部は、請求項１または２に記載の洗浄搬送装置を有する、
ウェハ処理装置。
研磨後のウェハを洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記洗浄部は、請求項１または２に記載の洗浄搬送装置を有する、
ウェハ処理装置。
【請求項13】
直列に配置された複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する
搬送装置。
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する
搬送装置。
【請求項14】
直列に配置された複数の洗浄モジュールでウェハを洗浄するステップと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハ搬送機構によりウェハを搬送するステップと、
を含み、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記搬送するステップは、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定するステップを含む、
洗浄搬送方法。
前記複数の洗浄モジュール間でウェハ搬送機構によりウェハを搬送するステップと、
を含み、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記搬送するステップは、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定するステップを含む、
洗浄搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、洗浄搬送装置、ウェハ処理装置、搬送装置および洗浄搬送方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつつある。半導体デバイスの製造では、シリコンウェハの上に多くの種類の材料が膜状に繰り返し形成され、積層構造が形成される。この積層構造を形成するためには、ウェハの表面を平坦にする技術が重要となっている。このようなウェハの表面を平坦化する一手段として、化学機械研磨（ＣＭＰ）を行う研磨装置（化学的機械的研磨装置ともいう）が広く用いられている。
【0003】
この化学機械研磨（ＣＭＰ）装置は、一般に、研磨パッドが取り付けられた研磨テーブルと、ウェハを保持するトップリングと、研磨液（スラリー）を研磨パッド上に供給するノズルとを備えている。ノズルから研磨液を研磨パッド上に供給しながら、トップリングによりウェハを研磨パッドに押し付け、さらにトップリングと研磨テーブルとを相対移動させることにより、ウェハを研磨してその表面を平坦にする。
【0004】
ウェハ処理装置は、このようなＣＭＰ装置に加え、研磨後のウェハを洗浄し、さらに乾燥させる機能を有する装置である。特許文献１では、研磨後の基板を洗浄する洗浄部の構成の一例として、複数の洗浄モジュールが直列に配置されている構成が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１８－６５４９号公報
【発明の概要】
【0006】
このようなウェハ処理装置において、本件出願人は、各洗浄モジュール内に光センサを設置し、ステージ上にウェハが存在しているか否かを光センサでの受光量の大小により判定する技術を既に提案している（特願２０２２－０１２７６９号）。
【0007】
この技術によれば、たとえば、第１洗浄モジュールから第２洗浄モジュールへのウェハの搬送開始時には、第１洗浄モジュールにウェハが存在し、第２洗浄モジュールにはウェハが存在しない、という状態が想定されるところ、図１０Ａに示すように、正常時であれば、各洗浄モジュールの光センサの検出結果により、第１洗浄モジュールにウェハが存在し、第２洗浄モジュールにはウェハが存在しないと判定される。したがって、搬送開始時に想定される状態とセンサにより実際に判定された状態とを照らし合わせた場合、両者に矛盾がないことから、正常であると判断できる。
【0008】
また、第１洗浄モジュールから第２洗浄モジュールへのウェハの搬送完了時には、第１洗浄モジュールにはウェハが存在せず、第２洗浄モジュールにウェハが存在する、という状態が想定されるところ、図１０Ｂに示すように、正常時であれば、各洗浄モジュールの光センサの検出結果により、第１洗浄モジュールにはウェハが存在せず、第２洗浄モジュールにウェハが存在すると判定される。したがって、搬送完了時に想定される状態とセンサにより実際に判定された状態とを照らし合わせた場合、両者に矛盾がないことから、正常であると判断できる。
【0009】
他方、図１０Ｃに示すように、第１洗浄モジュール内でウェハが割れ、第１洗浄モジュールの光センサでは発光部からの光を受光できた場合を考える。この場合、第１洗浄モジュールから第２洗浄モジュールへのウェハの搬送開始時には、各洗浄モジュールの光センサの検出結果により、第１洗浄モジュールと第２洗浄モジュールにはウェハが存在しないと判定される。したがって、搬送開始時に想定される状態とセンサにより実際に判定された状態とを照らし合わせた場合、両者に矛盾があることから、異常であると判断できる。
【0010】
また、図１０Ｄに示すように、第１洗浄モジュール内でウェハが割れたものの、第１洗浄モジュールの光センサでは発光部からの光を受光できない場合を考える。この場合、第１洗浄モジュールから第２洗浄モジュールへのウェハの搬送完了時には、各洗浄モジュールの光センサの検出結果により、第１洗浄モジュールにはウェハが存在し、第２洗浄モジュールにはウェハが存在しないと判定される。したがって、搬送完了時に想定される状態とセンサにより実際に判定された状態とを照らし合わせた場合、両者に矛盾があることから、異常であると判断できる。
【0011】
しかし、上記の方法では、異常の有無を、搬送開始時または搬送完了時でのみ確認できるにとどまり、搬送中の確認ができない。また、搬送中に何らかの理由でウェハ搬送機構のハンドからウェハが脱落した場合、その事実は次の洗浄モジュールへの受け渡し時に（搬送完了時）に初めてわかることになる。
【0012】
複数の処理モジュールに対し、複数枚のウェハを順番に移動させながら個別の処理を行う場合、搬送中にウェハが脱落したことが次の処理に移るタイミングで確認されることになるのでは、脱落したウェハの前後のウェハの移送・処理にも影響することになり、場合によっては、前後のウェハ自体が使い物にならなくなる場合も起こりうる。さらに、ウェハ処理時間の短縮による効率化が望まれている前提で、このような気づきの遅れによる効率化の阻害は問題である。
【0013】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたものである。本発明の目的は、ウェハの搬送中であっても、ウェハ搬送機構のハンド上にウェハが把持されていることを確認できる洗浄搬送装置、ウェハ処理装置、搬送装置および洗浄方法を提供することにある。
【0014】
本発明の第１の態様に係る洗浄搬送装置は、
直列に配置された複数の洗浄モジュールと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
直列に配置された複数の洗浄モジュールと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
【0015】
このような態様によれば、一対のハンドが閉状態にあるときに当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサが、上下移動機構および配列方向移動機構により移動されるウェハ把持機構に設けられているため、上下移動機構および配列方向移動機構の動作中（ウェハの搬送中）であっても、一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定することが可能である。これにより、搬送ミスを迅速に検知して対応することができる。また、搬送中のウェハの位置情報を追跡することができる。
【0016】
本発明の第２の態様に係る洗浄搬送装置は、第１の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記制御装置は、前記一対のハンド上にウェハが把持されていないと判定された場合に、前記ウェハ搬送機構の動作を停止させる。
前記制御装置は、前記一対のハンド上にウェハが把持されていないと判定された場合に、前記ウェハ搬送機構の動作を停止させる。
【0017】
このような態様によれば、異常発生時にすぐに動作を停止させることで、装置のダウンタイム削減に寄与することができる。
【0018】
本発明の第３の態様に係る洗浄搬送装置は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサである。
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサである。
【0019】
本発明の第４の態様に係る洗浄搬送装置は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記センサは、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサである。
前記センサは、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサである。
【0020】
本発明の第５の態様に係る洗浄搬送装置は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサである。
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサである。
【0021】
本発明の第６の態様に係る洗浄搬送装置は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサと、を有する。
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサと、を有する。
【0022】
本発明の第７の態様に係る洗浄搬送装置は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサとのうちの一方または両方と、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサと、を有する。
前記一対のハンドは、ハンド本体と、前記ハンド本体の下方に吊り下がるように配置されるフックと、前記フックを前記ハンド本体に対して弾性的に支持する弾性部材とを有し、
前記センサは、前記回動機構が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサと、前記一対のハンドの基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサとのうちの一方または両方と、前記ハンド本体上に配置され、前記フックの接近または離間を検出する近接センサと、を有する。
【0023】
本発明の第８の態様に係る洗浄搬送装置は、第１～７のいずれかの態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記制御装置は、前記センサの測定データを前記閾値とは異なる第２の閾値と比較して前記一対のハンド上に把持されているウェハの状態を推定する。
前記制御装置は、前記センサの測定データを前記閾値とは異なる第２の閾値と比較して前記一対のハンド上に把持されているウェハの状態を推定する。
【0024】
本発明の第９の態様に係る洗浄搬送装置は、第８の態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記ウェハの状態は、ウェハが前記一対のハンドの一方のみに片持ちされているか否か、ウェハが割れているか否か、ウェハ上に所定の水滴量があるか否か、評価用ウェハの摩耗量が所定の値を上回っているか否か、異常個体のウェハであるか否か、のいずれかである。
前記ウェハの状態は、ウェハが前記一対のハンドの一方のみに片持ちされているか否か、ウェハが割れているか否か、ウェハ上に所定の水滴量があるか否か、評価用ウェハの摩耗量が所定の値を上回っているか否か、異常個体のウェハであるか否か、のいずれかである。
【0025】
本発明の第１０の態様に係る洗浄搬送装置は、第１～９のいずれかの態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記制御装置は、前記センサの測定データが前記閾値を超えた回数をカウントして装置の故障診断を行う。
前記制御装置は、前記センサの測定データが前記閾値を超えた回数をカウントして装置の故障診断を行う。
【0026】
本発明の第１１の態様に係る洗浄搬送装置は、第１～１０のいずれかの態様に係る洗浄搬送装置であって、
前記制御装置は、前記上下移動機構および配列方向移動機構による前記ウェハ把持機構の移動中に、前記センサの測定データの変動を確認して異常を検知する。
前記制御装置は、前記上下移動機構および配列方向移動機構による前記ウェハ把持機構の移動中に、前記センサの測定データの変動を確認して異常を検知する。
【0027】
本発明の第１２の態様に係るウェハ処理装置は、
ウェハを研磨する研磨部と、
研磨後のウェハを洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記洗浄部は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置を有する。
ウェハを研磨する研磨部と、
研磨後のウェハを洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記洗浄部は、第１または２の態様に係る洗浄搬送装置を有する。
【0028】
本発明の第１３の態様に係る搬送装置は、
直列に配置された複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
直列に配置された複数の洗浄モジュール間でウェハを搬送するウェハ搬送機構と、
前記ウェハ搬送機構の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記制御装置は、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定する。
【0029】
本発明の第１４の態様に係る洗浄搬送方法は、
直列に配置された複数の洗浄モジュールでウェハを洗浄するステップと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハ搬送機構によりウェハを搬送するステップと、
を含み、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記搬送するステップは、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定するステップを含む。
直列に配置された複数の洗浄モジュールでウェハを洗浄するステップと、
前記複数の洗浄モジュール間でウェハ搬送機構によりウェハを搬送するステップと、
を含み、
前記ウェハ搬送機構は、
ウェハを把持するウェハ把持機構と、
前記ウェハ把持機構を上下移動させる上下移動機構と、
前記ウェハ把持機構を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構と、
を有し、
前記ウェハ把持機構は、
開閉可能な一対のハンドと、
前記一対のハンドを開閉方向と平行な回転軸を中心として回動させる回動機構と、
前記一対のハンドが閉状態にあるときに、当該一対のハンドに加わる重みに応じた値を測定するセンサと、
を有し、
前記搬送するステップは、前記センサの測定データを予め定められた閾値と比較して前記一対のハンド上にウェハが把持されているか否かを判定するステップを含む。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【発明を実施するための形態】
【0031】
以下に、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、以下の説明および以下の説明で用いる図面では、同一に構成され得る部分について、同一の符号を用いるとともに、重複する説明を省略する。
【0032】
＜基板処理装置の構成＞
図１は、一実施の形態に係るウェハ処理装置の全体構成を示す平面図である。図１に示すように、ウェハ処理装置１０は、平面視略矩形状のハウジングを備えており、ハウジングの内部は隔壁によってロード／アンロード部１１と研磨部１２と洗浄部１３と搬送部１４に区画されている。これらのロード／アンロード部１１、研磨部１２、洗浄部１３、および搬送部１４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。また、ウェハ処理装置１０には、ロード／アンロード部１１、研磨部１２、洗浄部１３、および搬送部１４の動作を制御する制御部１５（制御装置ともいう）が設けられている。
図１は、一実施の形態に係るウェハ処理装置の全体構成を示す平面図である。図１に示すように、ウェハ処理装置１０は、平面視略矩形状のハウジングを備えており、ハウジングの内部は隔壁によってロード／アンロード部１１と研磨部１２と洗浄部１３と搬送部１４に区画されている。これらのロード／アンロード部１１、研磨部１２、洗浄部１３、および搬送部１４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。また、ウェハ処理装置１０には、ロード／アンロード部１１、研磨部１２、洗浄部１３、および搬送部１４の動作を制御する制御部１５（制御装置ともいう）が設けられている。
【0033】
このうちロード／アンロード部１１は、多数のウェハ（基板）Ｗをストックするウェハカセットが載置される複数（図示された例では４つ）のフロントロード部１１３と、フロントロード部１１３の配列方向（図示された例では基板処理装置１０の幅方向）に沿って移動可能な搬送ロボット１１１とを有している。ロード／アンロード部１１の具体的な構成としては、たとえば、特許第６７２７０４４号に記載の構成を採用することができる。搬送ロボット１１１は、フロントロード部１１３のウェハカセットから研磨前のウェハＷを取り出して後述する搬送部１４へと搬送するとともに、後述する洗浄部１３から洗浄および乾燥後のウェハＷを取り出してウェハカセットに戻すようになっている。
【0034】
搬送部１４は、研磨前のウェハＷをロード／アンロード部１１から研磨部１２へと搬送する領域であり、基板処理装置１０の長手方向に沿って延びるように設けられている。搬送部１４は、ウェハＷを保持するスライドステージ（不図示）と、スライドステージを長手方向に沿って直線移動させるステージ移動機構（不図示）とを有している。搬送部１４の具体的な構成としては、たとえば、特許第６７２７０４４号に記載の構成を採用することができる。ロード／アンロード部１１の搬送ロボット１１１から搬送部１４へと受け渡された研磨前のウェハＷは、スライドステージ上に載せられて、後述する研磨部１４の搬送ロボット２３がアクセスできる位置まで移動される。
【0035】
研磨部１２は、ウェハＷの研磨が行われる領域であり、第１研磨装置２１ａと第２研磨装置２１ｂとを有する第１研磨ユニット２０ａと、第３研磨装置２１ｃと第４研磨装置２１ｄとを有する第２研磨ユニット２０ｂと、搬送部１４と第１研磨ユニット２０ａおよび第２研磨ユニット２０ｂのそれぞれに隣接するように配置された研磨部搬送機構２２と、を有している。研磨部１２の具体的な構成としては、たとえば、特許第６７２７０４４号に記載の構成を採用することができる。第１研磨装置２１ａ、第２研磨装置２１ｂ、第３研磨装置２１ｃ、および第４研磨装置２１ｄは、基板処理装置１０の長手方向に沿って配列されており、研磨部搬送機構２２は、基板処理装置１０の幅方向において洗浄部１３と第１研磨ユニット２０ａおよび第２研磨ユニット２０ｂとの間に配置されている。
【0036】
研磨部搬送機構２２は、第１研磨ユニット２０ａにウェハＷを搬送する第１搬送ユニット２４ａと、第２研磨ユニット２０ｂにウェハＷを搬送する第２搬送ユニット２４ｂと、第１搬送ユニット２４ａと第２搬送ユニット２４ｂとの間に配置され、搬送部１４と第１搬送ユニット２４ａおよび第２搬送ユニット２４ｂとの間のウェハの受け渡しを行う搬送ロボット２３とを有している。図示された例では、搬送ロボット２３は、基板処理装置１０のハウジングの略中央に配置されている。
【0037】
搬送部１４から研磨部１２へと連続的に搬送されてくる研磨前のウェハＷは、搬送ロボット２３により第１搬送ユニット２４ａおよび第２搬送ユニット２４ｂに振り分けられる。そして、第１搬送ユニット２４ａに振り分けられたウェハＷは、第１研磨ユニット２０ａへと搬入されて、第１研磨ユニット２０ａの研磨装置２１ａおよび／または２１ｂにて研磨処理される。また、第２搬送ユニット２４ｂに振り分けられたウェハＷは、第２研磨ユニット２０ｂへと搬入されて、第２研磨ユニット２０ｂの研磨装置２１ｃおよび／または２１ｄにて研磨処理される。
【0038】
第１研磨ユニット２０ａの研磨装置２１ａ、２１ｂにて研磨処理されたウェハＷは、第１研磨ユニット２０ａから第１搬送ユニット２４ａへと受け渡された後、搬送ロボット２３により第１搬送ユニット２４ａから取り出され、後述する洗浄部１３のウェハステーション３３へと搬送される。同様に、第２研磨ユニット２０ｂの研磨装置２１ｃ、２１ｄにて研磨処理されたウェハＷは、第２研磨ユニット２０ｂから第２搬送ユニット２４ｂへと受け渡された後、搬送ロボット２３により第２搬送ユニット２４ｂから取り出され、後述する洗浄部１３のウェハステーション３３へと搬送される。
【0039】
洗浄部１３は、研磨後のウェハを洗浄する領域である。図１に示す例では、洗浄部１３と搬送部１４とが上下方向に重なるように配列されており、これにより、フットプリントが小さいという利点が得られている。
【0040】
図１に示すように、洗浄部１３は、複数（図示された例では４つ）の洗浄モジュール３１１、３１２、３１３、３１４と、ウェハステーション３３と、各洗浄モジュール３１１～３１４とウェハステーション３３との間にてウェハＷを搬送するウェハ搬送機構３２とを有する洗浄搬送装置３０を有している。ウェハステーション３３の具体的な構成としては、たとえば、特許第６７２７０４４号に記載の構成を採用することができる。
【0041】
図示された例では、４つの洗浄モジュール３１１～３１４（以下、１次～４次洗浄モジュールと呼ぶことがある）は、ウェハステーション３３からこの順に直列に配置されている。各洗浄モジュール３１１～３１４は、それぞれ、不図示の洗浄機と、この洗浄機をカバーする筐体９１（図３Ａ～図３Ｅ参照）とを有している。
【0042】
１次洗浄モジュール３１１および２次洗浄モジュール３１２の洗浄機としては、例えば、上下に配置されたロール状のスポンジを回転させてウェハの表面および裏面に押し付けてウェハの表面および裏面を洗浄するロールタイプの洗浄機を用いることができる。また、３次洗浄モジュール３１３の洗浄機としては、例えば、半球状のスポンジを回転させながらウェハに押し付けて洗浄するペンシルタイプの洗浄機（例えば、特開２０００－１７３９６６号公報の図１０等に開示されている装置）を用いることができる。４次洗浄モジュール３１４の洗浄機としては、例えば、ウェハの裏面はリンス洗浄することができ、ウェハ表面の洗浄は半球状のスポンジを回転させながら押し付けて洗浄するペンシルタイプの洗浄機を用いることができる。この４次洗浄モジュール３１４の洗浄機は、チャックしたウェハを高速回転させるステージを備えており、ウェハを高速回転させることで洗浄後のウェハを乾燥させる機能（スピンドライ機能）を有している。一変形例として、４次洗浄モジュール３１４は、ウェハＷを回転させながらウェハＷの表面にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）蒸気を吹き付けて乾燥させるＩＰＡ乾燥装置（例えば、特開２０１０－５０４３６号公報の図３３～図３９等に開示されている装置）を有していてもよい。なお、各洗浄モジュール３１１～３１４の洗浄機において、上述したロールタイプの洗浄機やペンシルタイプの洗浄機に加えて、洗浄液に超音波を当てて洗浄するメガソニックタイプの洗浄機を付加的に設けてもよい。
【0043】
各洗浄モジュール３１１～３１４の筐体は、ウェハステーション３３の筐体と同様に、底面板と、４つの側面板と、天面板とを有している。４つの側面板のうちウェハ搬送機構３２に対向する側面板および左右の側面板には、ウェハ搬送機構３２のハンドを通過させるためのハンド通過用開口９４が形成されている（図３Ａ～図３Ｅ参照）。ハンド通過用開口９４は、シャッタ９７により開閉可能となっている。このハンド通過用開口９４の高さ位置は、ウェハステーション３３のハンド通過用開口と同じ高さ位置に形成されている。ウェハ搬送機構３２は、このハンド通過用開口９４から筐体９１の内側にアクセス可能となっている。
【0044】
図２は、ウェハ搬送機構３２の構成を示す内部背面図である。図２に示すように、ウェハ搬送機構３２は、ウェハＷをそれぞれ把持する第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２と、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２をそれぞれ上下移動させる第１上下移動機構６４１および第２上下移動機構６４２と、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２を複数の洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動させる配列方向移動機構６２と、を有している。すなわち、本実施の形態では、ウェハ把持機構６０１、６０２の数は、洗浄モジュール３１１～３１４の数より少なくなっている。
【0045】
本実施の形態では、例えばウェハＷの清浄度に応じて第１ウェハ把持機構６０１と第２ウェハ把持機構６０２とを使い分けることができる。例えば、１次～４次洗浄モジュール３１１～３１４のうち洗浄処理前半の１次洗浄モジュール３１１および２次洗浄モジュール３１２では第１ウェハ把持機構６０１を使用し、洗浄処理後半の３次洗浄モジュール３１３および４次洗浄モジュール３１４では第２ウェハ把持機構６０２を使用することで、洗浄処理後半のウェハＷが第１ウェハ把持機構６０１に接して汚染されることを防止できる。
【0046】
配列方向移動機構６２としては、例えばボールねじを用いたモータ駆動機構が用いられる。図２に示すように、配列方向移動機構６２のボールねじは、洗浄モジュール３１１～３１４の上方に洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に延びるように設けられている。
【0047】
配列方向移動機構６２のボールねじには、メインフレーム６８が取り付けられている。メインフレーム６８は、配列方向移動機構６２のボールねじから下方に吊り下がるように取り付けられており、洗浄モジュール３１１～３１４の側面と対向するようになっている。配列方向移動機構６２のボールねじに連結されたモータの駆動により、メインフレーム６８は洗浄モジュール３１１～３１４の側面と対向したまま洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って直線移動される。
【0048】
図示された例では、メインフレーム６８は、奥行方向（洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向および上下方向の両方に対して垂直な方向）の位置を調整するための奥行方向移動機構６７を有している。奥行方向移動機構６７としては、例えばラック・アンド・ピニオンを用いたモータ駆動機構が用いられる。奥行方向移動機構６７の駆動により、奥行方向におけるメインフレーム６８の位置が調整される。
【0049】
第１上下移動機構６４１および第２上下移動機構６４２は、メインフレーム６８上に設けられている。第１上下移動機構６４１および第２上下移動機構６４２としては、例えばボールねじを用いたモータ駆動機構が用いられる。図２に示すように、第１上下移動機構６４１のボールねじは、メインフレーム６８の左端部において上下方向に延びるように取り付けられており、第２上下移動機構６４２のボールねじは、メインフレーム６８の右端部において上下方向に延びるように取り付けられている。
【0050】
第１上下移動機構６４１のボールねじには、第１ウェハ把持機構６０１を支持するサブフレーム６９が取り付けられている。このサブフレーム６９は、メインフレーム６８の左側にメインフレーム６８と隣り合うように設けられており、洗浄モジュール３１１～３１４の側面と対向するようになっている。第１上下移動機構６４１のボールねじに連結されたモータの駆動により、サブフレーム６９上に設けられた第１ウェハ把持機構６０１は上下方向に沿って直線移動される。
【0051】
同様に、第２上下移動機構６４２のボールねじには、第２ウェハ把持機構６０２を支持するサブフレーム６９が取り付けられている。このサブフレーム６９は、メインフレーム６８の右側にメインフレーム６８と隣り合うように設けられており、洗浄モジュール３１１～３１４の側面と対向できるようになっている。第２上下移動機構６４２のボールねじに連結されたモータの駆動により、サブフレーム６９上に設けられた第２ウェハ把持機構６０２は上下方向に沿って直線移動される。
【0052】
第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２は、メインフレーム６８に対して対称であること以外は、実質的に同様の構造を有しているため、以下では第１ウェハ把持機構６０１について説明する。
【0053】
図２に示すように、第１ウェハ把持機構６０１は、ウェハを把持する開閉可能な一対のハンド６１と、一対のハンド６１を開閉方向と平行な回転軸６３Ａを中心として回動させる回動機構６３と、一対のハンド６１を互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉する開閉機構６６と、を有している。
【0054】
図２に示すように、一対のハンド６１は互いに平行に配置されており、ハンド６１の基端部は、サブフレーム６９上に回転可能に設けられた回転軸６３Ａに取り付けられている。また、サブフレーム６９上には回転軸６３Ａを中心として一対のハンド６１を回転させる回動機構６３が設けられている。回動機構６３としては、例えばモータ駆動機構（サーボモータ）が用いられる。この回動機構６３の回転軸は、リンク部材６３Ｌを介して回転軸６３Ａに連結されている。第２回動機構６３の回転力は、リンク部材６３Ｌを介して回転軸６３Ａに伝達され、一対のハンド６１は、回転軸６３Ａを中心として回転される。
【0055】
また、サブフレーム６９上には、一対のハンド６１を互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉する開閉機構６６が設けられている。開閉機構６６としては、例えばエアシリンダが用いられる。開閉機構６６により一対のハンド６１が閉じられることにより、一対のハンド６１はウェハＷの周縁部を挟み込んで保持するようになっている。
【0056】
次に、図３Ａ～図３Ｅを参照して、一対のハンド６１の動作の一例を説明する。上述したように各洗浄モジュールは、ウェハＷの洗浄中に外部に使用流体が飛散しないように筐体９１によって区画されており、筐体９１の側面にはアーム通過用開口９４が形成されている。アーム通過用開口９４には、開閉可能なシャッタ９７が設けられている。
【0057】
洗浄後のウェハＷを筐体９１から取り出す場合には、図３Ａに示すように、先端が上向きに向けられた一対のハンド６１は、配列方向移動機構６２の駆動より筐体９１に隣接する待機位置へと移動される。本実施の形態では、筐体９１のシャッタ９７が閉じられていても、一対のハンド６１の先端を上向きに向けておくことで、一対のハンド６１を筐体９１に隣接する待機位置へと移動させることができる。したがって、ウェハ取り出し作業の開始タイミングを早くすることができ、プロセス全体のスループットが向上させることができる。
【0058】
次に、図３Ｂおよび図３Ｃに示すように、回動機構６３の駆動により、一対のハンド６１は、回転軸６３Ａを中心として回動される。図示された例では、一対のハンド６１は、側面視において回転軸６３Ａを中心として時計回りに９０°回転され、一対のハンド６１の先端は横向きに向けられる。
【0059】
次に、図３Ｄに示すように、上下駆動機構６４１の駆動により、一対のハンド６１は、アーム通過用開口９４と同じ高さ位置まで上昇される。このとき、シャッタ９７が退避されアーム通過用開口９４が開けられる。
【0060】
次に、図３Ｅに示すように、開閉機構６６２の駆動により、一対のハンド６１は、互いに近接する方向に閉じられ、アーム通過用開口９４を通って筐体９１内側に挿入され、筐体９１内のウェハＷを把持する。そして、ウェハＷを把持した一対のハンド６１は、配列方向移動機構６２の駆動より次の洗浄モジュールへと移動される。
【0061】
洗浄前のウェハＷを筐体９１に搬入する場合には、図３Ａ～図３Ｅに示す上述した動作が逆の順序で行われる。すなわち、図３Ｅに示すように、ウェハＷを把持した一対のハンド６１は、配列方向移動機構６２の駆動よりアーム通過用開口９４を通って筐体９１の内側に移動される。
【0062】
次に、図３Ｄに示すように、開閉機構６６の駆動により、一対のハンド６１は、互いに離間する方向に開かれ、アーム通過用開口９４を通って筐体９１の外側に出される。
【0063】
次に、図３Ｃに示すように、上下駆動機構６４１の駆動により、一対のハンド６１は、アーム通過用開口９４より低い高さ位置まで下降される。このとき、アーム通過用開口９４がシャッタ９７により、筐体９１の内側にウェハＷの洗浄処理が開始される。
【0064】
次に、図３Ｂおよび図３Ａに示すように、回動機構６３の駆動により、一対のハンド６１は、回転軸６３Ａを中心として回動される。図示された例では、一対のハンド６１は、側面視において回転軸６３Ａを中心として反時計回りに９０°回転され、一対のハンド６１の先端は上向きに向けられる。そして、先端が上向きに向けられた一対のjハンド６１は、配列方向移動機構６２の駆動より次の洗浄モジュールへと移動される。本実施の形態では、回動機構６３が一対のハンド６１を先端が上向きになるように回動させる際に、上下移動機構６４１が一対のハンド６１を下降させるため、一対のハンド６１の上方に必要なスペースを削減できる。
【0065】
図２に示すように、本実施の形態では、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が、配列方向移動機構６２の下方に懸垂状に配置されている。これにより、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２のメンテナンススペースを拡大される。したがって、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。
【0066】
本実施の形態では、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２には、それぞれ、一対のハンド６１が閉状態にあるときに、当該一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサ８１がさらに設けられている。図２に示す例では、センサ８１は、回動機構６３が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサである。
【0067】
図４は、本実施の形態に係る具体的な実施例として、ハンド６１上にウェハＷが把持されているときと把持されていないときにそれぞれ測定されたトルクセンサ８１の測定データを示すテーブルである。
【0068】
図４に示すように、本件発明者らによる実際の検証によれば、ハンド６１上にウェハＷが把持されているときと、把持されていないときでは、回動機構６３のサーボモータに掛かる負荷トルクに、約１０％以上の変動が見られることが分かった。したがって、回動機構６３が有するサーボモータの負荷トルクを測定するトルクセンサ８１は、一対のハンド６１が閉状態にあるときに当該一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサとして利用することが可能である。
【0069】
本実施の形態では、制御装置１５は、センサ８１の測定データを予め定められた閾値（以下、第１の閾値ともいう）と比較して一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定する。
【0070】
たとえば、図４に示す例では、制御装置１５には、ハンド６１上にウェハＷが把持されているときの負荷トルク（図４に示す例では、たとえば－２３％）が第１の閾値として記憶されている。そして、制御装置１５は、ハンド６１が閉状態にあるときに、トルクセンサ８１の計測データを、予め記憶しておいた第１の閾値（－２３％）と比較し、その差が所定値（たとえば５％）未満であるときは、ハンド６１上にウェハＷが把持されていると判定し、所定値以上であるときは、ハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定する。
【0071】
本実施の形態では、一対のハンド６１が閉状態にあるときに当該一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサ８１が、上下移動機構６５１、６５２および配列方向移動機構６２により移動されるウェハ把持機構６０１、６０２に設けられているため、上下移動機構６５１、６５２および配列方向移動機構６２の動作中（ウェハＷの搬送中）であっても、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定することが可能である。
【0072】
一変形例として、図５に示すように、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２のサブフレーム６９には、一対のハンド６１の上方において、一対のハンド６１と平行に延びるブラケット８４が取り付けられており、当該ブラケット８４の先端部には、一対のハンド６１が閉状態にあるときに、一対のハンド６１の基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサ８２が設けられていてもよい。
【0073】
図５に示す例では、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていない場合には、一対のハンド６１の先端部は基端部と同じ高さ位置にある。これに対し、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されている場合には、ウェハＷの重みに応じて一対のハンド６１が撓る（曲がる）ため、一対のハンド６１の先端部は基端部より下方に下がることになる。したがって、ハンド６１上にウェハＷが把持されているときと、把持されていないときでは、一対のハンド６１の基端部に対する先端部の相対的な高さ位置が変動することが分かる。したがって、一対のハンド６１が閉状態にあるときに、一対のハンド６１の基端部に対する先端部の相対的な高さ位置を測定する変位センサ８２は、一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサとして利用することが可能である。
【0074】
別の変形例として、図６Ａおよび図６Ｂに示すように、一対のハンド６１は、ハンド本体６１Ａと、ハンド本体６１Ａの下方にブッシュ６１Ｄを介して吊り下がるように配置されるフック６１Ｂと、フック６１Ｂをハンド本体６１Ａに対して弾性的に支持する弾性部材６１Ｃ（たとえばスプリング）とを有しており、ハンド本体６１Ａ上には、フック６１Ｂの接近または離間を検出する近接センサ８３（たとえばフォトマイクロセンサ）が配置されていてもよい。
【0075】
図６Ａに示すように、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていない場合には、フック６１Ｂの上端部が近接センサ８３に近接してその検知範囲内に入っている。これに対し、図６Ｂに示すように、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されている場合には、ウェハＷの重みに応じて弾性部材６１Ｃが収縮することで、フック６１Ｂが下方に下がるため、フック６１Ｂの上端部が近接センサ８３から離間してその検知範囲外に外れることになる。したがって、ハンド６１上にウェハＷが把持されているときと、把持されていないときでは、近接センサ８３による検知結果が変動することが分かる。したがって、ハンド６１Ａ本体上に配置され、フック６１Ｂの接近または離間を検出する近接センサ８３は、一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサとして利用することが可能である。
【0076】
さらに別の変形例として、一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサは、上述したトルクセンサ８１と、変位センサ８２と、近接センサ８３のうちの２種類以上を有していてもよい。この場合、より高精度でウェハＷを監視することができる。
【0077】
たとえば、図８Ａは、一対のハンド６１が洗浄モジュール内のステージ上からウェハＷを受け取るときのトルクセンサ８１と近接センサ８３の計測データを重ねて示すグラフである。図８Ａに示すように、ウェハＷの受け取り（ステージ上からの離脱）のタイミングでは、トルクセンサ８１の計測データがある傾きで増加するのに対し、近接センサ８３の計測データは階段状にＯＮ（近接）からＯＦＦ（離間）に切り替わる。したがって、複数のセンサを組み合わせて利用することで、時間軸の正確な割り出しが可能となる。
【0078】
また、図７に示すように、一対のハンド６１が洗浄モジュール内のステージ上からウェハＷを受け取るときに、ウェハＷの周縁部がフック８１Ｂの胴部にめり込んでしまって沈み込まず、近接センサ８３がＯＦＦ（離間）にならない場合がある。図８Ｂは、この場合のトルクセンサ８１と近接センサ８３の計測データを重ねて示すグラフである。このような異常が起こっても、図８Ｂに示すように、トルクセンサ８１の計測データは正常時と同様に変動するため、トルクセンサ８１の計測データだけでは異常に気づくことができない。したがって、複数のセンサを組み合わせて利用することで、一対のハンド６１がウェハＷを正確に把持できているか判断することが可能となる。
【0079】
制御装置１５は、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、ウェハ搬送機構６２の動作を停止させてもよい。異常発生時にすぐに動作を停止させることで、装置のダウンタイム削減に寄与することが可能となる。
【0080】
制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値とは異なる第２の閾値と比較して一対のハンド６１上に把持されているウェハＷの状態を推定してもよい。ここで、推定されるウェハＷの状態は、ウェハＷが一対のハンド６１の一方のみに片持ちされているか否か、ウェハＷが割れているか否か、ウェハＷ上に所定の水滴量があるか否か、評価用ウェハＷの摩耗量が所定の値を上回っているか否か、異常個体（ゴミや欠けがある個体）のウェハＷであるか否か、のいずれかであってもよい。
【0081】
たとえば、ウェハＷが一対のハンド６１の一方のみに片持ちされている場合には、回動機構６３が有するサーボモータの負荷トルクは、ハンド６１の両方の上にウェハＷが把持されているときの負荷トルクと、ハンド６１上にウェハＷが把持されていないときの負荷トルクとの中間の値となる。したがって、制御装置１５は、その中間の値を第２の閾値として記憶しておき、ハンド６１が閉状態にあるときに、トルクセンサ８１の計測データを第２の閾値と比較し、その差が所定値（たとえば５％）未満であるときは、ウェハＷが一対のハンド６１の一方のみに片持ちされていると判定してもよい。
【0082】
ウェハＷの搬送中、ウェハＷの受け渡し中、退避中といった装置の動作に応じて、センサ８１～８３の計測データの閾値を設定することで、以下のような応用も可能となる。
【0083】
すなわち、たとえば、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データが閾値を超えた回数をカウントし、カウントされた回数に応じて装置の故障診断を行ってもよい。具体的には、たとえば、センサ８１～８３の測定データが第１の閾値を超えた回数をカウントし、その回数が所定回数（たとえば１０回）に達した場合には、制御装置１５は、装置の故障の予兆であると判断してもよい。
【0084】
また、制御装置１５は、上下移動機構６４１、６４２および配列方向移動機構６２によるウェハ把持機構６０１、６０２の移動中に、センサ８１～８３の測定データの変動の強度（振れ幅）および／または周期（周波数）を確認し、測定データの変動の強度（振れ幅）および／または周期（周波数）に応じて装置の異常を検知してもよい。具体的には、たとえば、センサ８１～８３の測定データの変動の強度（振れ幅）が所定値を超えた場合には、制御装置１５は、装置に異常があると判断してもよい。
【0085】
次に、以上のように構成された洗浄搬送装置３０の動作の一例を説明する。
【0086】
まず、図９Ａに示すように、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２の各々のハンド６１が先端を上向きに向けられた状態で、配列方向移動機構６２の動作により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が、洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、第１ウェハ把持機構６０１のハンド６１がウェハステーション３３に隣接する待機位置にて静止される。そして、回動機構６３の駆動により、第１ウェハ把持機構６０１の一対のハンド６１は回転軸６３Ａを中心として回動され、一対のハンド６１の先端は横向きに向けられる。ウェハステーション３３のシャッタが退避されてアーム通過用開口７４が開けられた後、第１ウェハ把持機構６０１の一対のハンド６１がアーム通過用開口７４を通ってウェハステーション３３の内側に挿入され、ステージ７２上に保持されたウェハＷを把持する。ウェハＷが一対のハンド６１に把持された後、ステージ７２は下方に退避される。
【0087】
このとき、正常時は、一対のハンド６１にウェハＷの重みが加わり、センサ８１～８３の計測データが変動するため、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていることを検知できる。他方、たとえばウェハＷが割れている場合は、一対のハンド６１にウェハＷの重みが加わらず、センサ８１～８３の計測データが変動しない。そのため、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されておらず、異常が起きたことを検知できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。
【0088】
次に、図９Ｂに示すように、１次洗浄モジュール３１１のシャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられた後、配列方向移動機構６２の動作により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、第１ウェハ把持機構６０１の一対のハンド６１に把持されたウェハＷは、ウェハステーション３３から１次洗浄モジュール３１１へと搬送され、１次洗浄モジュール３１１の洗浄機に受け渡される。
【0089】
ウェハステーション３３から１次洗浄モジュール３１１への搬送中に、正常時は、一対のハンド６１にウェハＷの重みが加わっているため、センサ８１～８３の計測データは変動しない。そのため、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていることを検知できる。他方、たとえば搬送中にウェハＷが脱落した場合は、一対のハンド６１にウェハＷの重みが加わらず、センサ８１～８３の計測データが変動するため、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されておらず、異常が起きたことを検知できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。
【0090】
また、１次洗浄モジュール３１１の洗浄機への受け渡しのタイミングでは、正常時は、一対のハンド６１からウェハＷの重みが取り除かれ、センサ８１～８３の計測データが変動する。そのため、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、受け渡しが完了したことを検知できる。
【0091】
１次洗浄モジュール３１１の洗浄機にウェハＷが受け渡された後、一対のハンド６１が１次洗浄モジュール３１１の筐体９１の外側に出され、アーム通過用開口９４がシャッタ９７により閉じられ、１次洗浄モジュール３１１の洗浄機にてウェハＷの洗浄が行われる。
【0092】
１次洗浄モジュール３１１での洗浄処理が終了した後、シャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられる。第１ウェハ把持機構６０１の一対のハンド６１がアーム通過用開口９４を通って１次洗浄モジュール３１１の筐体９１の内側に挿入され、洗浄機にて洗浄されたウェハＷを把持する。このときも、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。
【0093】
次に、図９Ｃに示すように、２次洗浄モジュール３１２のシャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられた後、配列方向移動機構６２の動作により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、一対のハンド６１に把持されたウェハＷは、１次洗浄モジュール３１１から２次洗浄モジュール３１２へと搬送され、２次洗浄モジュール３１２の洗浄機に受け渡される。１次洗浄モジュール３１１から２次洗浄モジュール３１２への搬送中も、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。また、２次洗浄モジュール３１２の洗浄機への受け渡しのタイミングでは、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、受け渡しが完了したことを検知できる。
【0094】
次いで、第１ウェハ把持機構６０１の一対のハンド６１が２次洗浄モジュール３１２の筐体９１の外側に出された後、アーム通過用開口９４がシャッタ９７により閉じられ、２次洗浄モジュール３１２の洗浄機にてウェハＷの洗浄が行われる。
【0095】
次に、図９Ｄに示すように、回動機構６３の駆動により、第１ウェハ把持機構６０１のハンド６１は回転軸６３Ａを中心として回動され、ハンド６１の先端は上向きに向けられる。そして、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２の各々のハンド６１がそれぞれ先端を上向きに向けられた状態で、配列方向移動機構６２の駆動により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が第１洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、第２ウェハ把持機構６０２のハンド６１が第２洗浄モジュール３１２に隣接する待機位置にて静止される。回動機構６３の駆動により、第２ウェハ把持機構６０２のハンド６１は回転軸６３２Ａを中心として回動され、ハンド６１の先端は横向きに向けられる。
【0096】
２次洗浄モジュール３１２での洗浄処理が終了した後、シャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられる。第２ウェハ把持機構６０２の一対のハンド６１がアーム通過用開口９４を通って２次洗浄モジュール３１２の筐体９１の内側に挿入され、洗浄機にて洗浄されたウェハＷを把持する。このときも、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。
【0097】
本実施の形態では、２次洗浄モジュール３１２での洗浄前のウェハＷは第１ウェハ把持機構６０１のハンド６１により把持されて搬送され、２次洗浄モジュール３１２での洗浄後のウェハＷは第２ウェハ把持機構６０２のハンド６１により把持されて搬送される。すなわち、２次洗浄モジュール３１２においてハンドが交換される。これにより、２次洗浄モジュール３１２での洗浄後のウェハＷに第１ウェハ把持機構６０１のハンド６１が接触して当該ウェハＷが汚染されることを防止できる。
【0098】
次に、図９Ｅに示すように、３次洗浄モジュール３１３のシャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられた後、配列方向移動機構６２の動作により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、第２ウェハ把持機構６０２の一対のハンド６１に把持されたウェハＷは、２次洗浄モジュール３１２から３次洗浄モジュール３１３へと搬送され、３次洗浄モジュール３１３の洗浄機に受け渡される。２次洗浄モジュール３１２から３次洗浄モジュール３１３への搬送中も、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。また、３次洗浄モジュール３１３の洗浄機への受け渡しのタイミングでは、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、受け渡しが完了したことを検知できる。
【0099】
次いで、第２ウェハ把持機構６０２の一対のハンド６１が３次洗浄モジュール３１３の筐体９１の外側に出された後、アーム通過用開口９４がシャッタ９７により閉じられ、３次洗浄モジュール３１３の洗浄機にてウェハＷの洗浄が行われる。
【0100】
３次洗浄モジュール３１３での洗浄処理が終了した後、シャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられる。第２ウェハ把持機構６０２の一対の第２アーム６１２がアーム通過用開口９４を通って３次洗浄モジュール３１３ａの筐体９１の内側に挿入され、洗浄機にて洗浄されたウェハＷを把持する。このときも、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。
【0101】
次に、図９Ｆに示すように、４次洗浄モジュール３１４のシャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられた後、配列方向移動機構６２の駆動により、第１ウェハ把持機構６０１および第２ウェハ把持機構６０２が洗浄モジュール３１１～３１４の配列方向に沿って移動され、第２ウェハ把持機構６０２の一対のハンド６１に把持されたウェハＷは、３次洗浄モジュール３１３から４次洗浄モジュール３１４へと搬送され、４次洗浄モジュール３１４の洗浄機に受け渡される。３次洗浄モジュール３１３から４次洗浄モジュール３１４への搬送中も、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定できる。一対のハンド６１上にウェハＷが把持されていないと判定された場合には、制御装置１５は、ウェハ搬送機構３０の動作を停止させる。また、４次洗浄モジュール３１４の洗浄機への受け渡しのタイミングでは、制御装置１５は、センサ８１～８３の測定データを第１の閾値と比較することで、受け渡しが完了したことを検知できる。
【0102】
次いで、第２ウェハ把持機構６０２の一対のハンド６１が４次洗浄モジュール３１４の筐体９１の外側に出された後、アーム通過用開口９４がシャッタ９７により閉じられ、４次洗浄モジュール３１４の洗浄機にてウェハＷの洗浄及び乾燥が行われる。
【0103】
４次洗浄モジュール３１４での洗浄及び乾燥処理が終了した後、シャッタ９７が退避されてアーム通過用開口９４が開けられる。上述したロード／アンロード部１１の搬送ロボット１１１のハンドがアーム通過用開口９４を通って４次洗浄モジュール３１４の筐体９１の内側に挿入され、洗浄機にて洗浄され、最後の工程として（例えばスピン）乾燥処理されたウェハＷがロード／アンロード部１１へと取り出される。
【0104】
以上のような本実施の形態によれば、一対のハンド６１が閉状態にあるときに当該一対のハンド６１に加わる重みに応じた値を測定するセンサ８１～８３が、上下移動機構６４１、６４２および配列方向移動機構６２により移動されるウェハ把持機構６０１、６０２に設けられているため、上下移動機構６４１、６４２および配列方向移動機構６２の動作中（ウェハの搬送中）であっても、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定することが可能である。これにより、搬送ミスを迅速に検知して対応することができる。また、搬送中のウェハＷの位置情報を追跡することができる。
【0105】
また、本実施の形態によれば、ウェハの搬送中であっても、一対のハンド６１上にウェハＷが把持されているか否かを判定することができ、異常発生時には、制御装置１５がウェハ搬送機構３２の動作をすぐに停止させることで、装置のダウンタイム削減に寄与することができる。
【0106】
以上、本発明の実施の形態および変形例を例示により説明したが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において目的に応じて変更・変形することが可能である。また、各実施の形態および変形例は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。
【符号の説明】
【0107】
１０ ウェハ処理装置
１１ ロード／アンロード部
１２ 研磨部
１３ 洗浄部
１４ 搬送部
１５ 制御部
２０ａ 第１研磨ユニット
２０ｂ 第２研磨ユニット
２１ａ 第１研磨装置
２１ｂ 第２研磨装置
２１ｃ 第３研磨装置
２１ｄ 第４研磨装置
２２ 研磨部搬送機構
２３ 搬送ロボット
２４ａ 第１搬送ユニット
２４ｂ 第２搬送ユニット
３０ 洗浄搬送装置
３１１～３１４ 洗浄モジュール
３２ ウェハ搬送機構
３３ ウェハステーション
６０１ 第１ウェハ把持機構
６０２ 第２ウェハ把持機構
６１ ハンド
６２ 配列方向移動機構
６３ 回動機構
６３Ａ 回転軸
６３Ｌ リンク部材
６４１ 第１上下移動機構
６４２ 第２上下移動機構
６６ 開閉機構
６７ 奥行方向移動機構
６８ メインフレーム
６９ サブフレーム
８１ トルクセンサ
８２ 変位センサ
８３ 近接センサ
８４ ブラケット
９１ 筐体
９４ アーム通過用開口
９７ シャッタ
Ｗ 基板
１１ ロード／アンロード部
１２ 研磨部
１３ 洗浄部
１４ 搬送部
１５ 制御部
２０ａ 第１研磨ユニット
２０ｂ 第２研磨ユニット
２１ａ 第１研磨装置
２１ｂ 第２研磨装置
２１ｃ 第３研磨装置
２１ｄ 第４研磨装置
２２ 研磨部搬送機構
２３ 搬送ロボット
２４ａ 第１搬送ユニット
２４ｂ 第２搬送ユニット
３０ 洗浄搬送装置
３１１～３１４ 洗浄モジュール
３２ ウェハ搬送機構
３３ ウェハステーション
６０１ 第１ウェハ把持機構
６０２ 第２ウェハ把持機構
６１ ハンド
６２ 配列方向移動機構
６３ 回動機構
６３Ａ 回転軸
６３Ｌ リンク部材
６４１ 第１上下移動機構
６４２ 第２上下移動機構
６６ 開閉機構
６７ 奥行方向移動機構
６８ メインフレーム
６９ サブフレーム
８１ トルクセンサ
８２ 変位センサ
８３ 近接センサ
８４ ブラケット
９１ 筐体
９４ アーム通過用開口
９７ シャッタ
Ｗ 基板
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図3D】
【図3E】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図9D】
【図9E】
【図9F】
【図10A】
【図10B】
【図10C】
【図10D】
