(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024162500
(43)【公開日】2024-11-21
(54)【発明の名称】シャッタ装置
(51)【国際特許分類】
A61L 2/20 20060101AFI20241114BHJP
A61J 3/00 20060101ALI20241114BHJP
【ＦＩ】
A61L2/20
A61J3/00 300C
A61J3/00 301
【審査請求】未請求
【請求項の数】2
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023078053
(22)【出願日】2023-05-10
(71)【出願人】
【識別番号】000253019
【氏名又は名称】澁谷工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100156199
【弁理士】
【氏名又は名称】神崎 真
(74)【代理人】
【識別番号】100124497
【弁理士】
【氏名又は名称】小倉 洋樹
(72)【発明者】
【氏名】谷本 和仁
(72)【発明者】
【氏名】西村 哲也
(72)【発明者】
【氏名】橋本 克紀
(72)【発明者】
【氏名】山本 寛純
(72)【発明者】
【氏名】辻口 大毅
【テーマコード（参考）】
4C047
4C058
【Ｆターム（参考）】
4C047CC13
4C047CC14
4C047GG33
4C047GG37
4C047LL02
4C058AA01
4C058BB07
4C058EE01
4C058EE02
4C058JJ12
4C058JJ26
(57)【要約】
【課題】 内部空間が駆動源によって占拠されず、かつ内部空間の清掃性や無菌性を確保しやすくする。
【解決手段】 チャンバを複数の内部空間Ｓ１に区画する仕切り壁１１に形成された開口部１１ａを開閉するシャッタ２１と、上記シャッタ２１を上記仕切り壁１１に沿って移動させる第１移動機構２２と、シャッタ２１を仕切り壁１１に向けて進退動させる第２移動機構２３と、上記シャッタ２１と開口部１１ａとをシールするシール手段２４とを備えたシャッタ装置１２に関する。
上記第１、第２移動機構２２、２３の駆動源（昇降用シリンダ２２ａ、モータ３１）を外部空間Ｓ２に設け、上記第２移動機構２３は、上記モータ３１によって回転し、チャンバの外部空間Ｓ２から内部空間Ｓ１に貫通して設けられた回転軸３２と、内部空間Ｓ１に設けられるとともに上記シャッタ２１と回転軸３２とを連結するリンク機構３３とを備えている。
【選択図】 図２
【解決手段】 チャンバを複数の内部空間Ｓ１に区画する仕切り壁１１に形成された開口部１１ａを開閉するシャッタ２１と、上記シャッタ２１を上記仕切り壁１１に沿って移動させる第１移動機構２２と、シャッタ２１を仕切り壁１１に向けて進退動させる第２移動機構２３と、上記シャッタ２１と開口部１１ａとをシールするシール手段２４とを備えたシャッタ装置１２に関する。
上記第１、第２移動機構２２、２３の駆動源（昇降用シリンダ２２ａ、モータ３１）を外部空間Ｓ２に設け、上記第２移動機構２３は、上記モータ３１によって回転し、チャンバの外部空間Ｓ２から内部空間Ｓ１に貫通して設けられた回転軸３２と、内部空間Ｓ１に設けられるとともに上記シャッタ２１と回転軸３２とを連結するリンク機構３３とを備えている。
【選択図】 図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
内部が密閉されたチャンバを複数の内部空間に区画する仕切り壁に形成された開口部を開閉するシャッタと、上記シャッタを上記仕切り壁に沿って移動させる第１移動機構と、シャッタを仕切り壁に向けて進退動させる第２移動機構と、上記シャッタと開口部との間隙をシールするシール手段とを備えたシャッタ装置において、
上記第１、第２移動機構の駆動源をそれぞれ上記チャンバの外部空間に設け、
上記第２移動機構は、上記チャンバの外部空間から内部空間に貫通して設けられるとともに、当該第２移動機構の駆動源によって回転する回転軸と、内部空間に設けられるとともに上記シャッタと回転軸とを連結するリンク機構とを備え、
上記第２移動機構の駆動源が回転軸を回転させることにより、上記リンク機構を介してシャッタが仕切り壁に向けて進退動することを特徴とするシャッタ装置。
上記第１、第２移動機構の駆動源をそれぞれ上記チャンバの外部空間に設け、
上記第２移動機構は、上記チャンバの外部空間から内部空間に貫通して設けられるとともに、当該第２移動機構の駆動源によって回転する回転軸と、内部空間に設けられるとともに上記シャッタと回転軸とを連結するリンク機構とを備え、
上記第２移動機構の駆動源が回転軸を回転させることにより、上記リンク機構を介してシャッタが仕切り壁に向けて進退動することを特徴とするシャッタ装置。
【請求項2】
上記シャッタの外周縁を上記開口部の開口縁よりも小さく形成し、
上記シール手段は、開口部の内周に沿って設けた中空のシール部材と、当該シール部材の内部にエアを供給するエア供給手段とを備え、
上記第２移動機構によって上記シャッタが上記開口部の内側に位置すると、上記エア供給手段がシール部材にエアを供給して当該シール部材を膨張させ、シール部材をシャッタの外周縁に密着させることを特徴とする請求項１に記載のシャッタ装置。
上記シール手段は、開口部の内周に沿って設けた中空のシール部材と、当該シール部材の内部にエアを供給するエア供給手段とを備え、
上記第２移動機構によって上記シャッタが上記開口部の内側に位置すると、上記エア供給手段がシール部材にエアを供給して当該シール部材を膨張させ、シール部材をシャッタの外周縁に密着させることを特徴とする請求項１に記載のシャッタ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はシャッタ装置に関し、詳しくはチャンバを複数の内部空間に区画する仕切り壁の開口部を、移動機構によって移動するシャッタによって開閉させるシャッタ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、内部が密閉されたチャンバを仕切り壁によって複数の内部空間に区画し、内部空間と内部空間との間で物品を移載する際に、上記仕切り壁に形成された開口部をシャッタ装置によって開閉させるシステムが知られている（特許文献１）。
このようなシャッタ装置として、シャッタを上記仕切り壁に沿って移動させる第１移動機構と、シャッタを仕切り壁に向けて進退動させる第２移動機構と、上記シャッタと開口部との間隙をシールするシール手段とを備えたものが知られている（特許文献２）。
特許文献２のシャッタ装置では、第１移動機構によってシャッタが開口部の前方に位置すると、第２移動機構がシャッタを仕切り壁に接近させ、これにより上記シール手段がシャッタと開口部との間をシールするようになっている。
このようなシャッタ装置として、シャッタを上記仕切り壁に沿って移動させる第１移動機構と、シャッタを仕切り壁に向けて進退動させる第２移動機構と、上記シャッタと開口部との間隙をシールするシール手段とを備えたものが知られている（特許文献２）。
特許文献２のシャッタ装置では、第１移動機構によってシャッタが開口部の前方に位置すると、第２移動機構がシャッタを仕切り壁に接近させ、これにより上記シール手段がシャッタと開口部との間をシールするようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２０－１８３８４５号公報
【特許文献2】特許第４５２４８８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記特許文献２のシャッタ装置の場合、上記第１移動機構および第２移動機構を駆動する駆動源が上記チャンバの内部空間に設けられており、駆動源が内部空間のスペースを占拠するという問題がある。
また、チャンバの内部空間を清掃する場合には、当該内部空間に設けた駆動源の清掃が煩雑であり、内部空間を殺菌する場合には、駆動源を殺菌剤から防護しなければならないという問題があった。
このような問題に鑑み、本発明は内部空間が駆動源によって占拠されず、かつ内部空間の清掃性や無菌性を確保しやすいシャッタ装置を提供するものである。
また、チャンバの内部空間を清掃する場合には、当該内部空間に設けた駆動源の清掃が煩雑であり、内部空間を殺菌する場合には、駆動源を殺菌剤から防護しなければならないという問題があった。
このような問題に鑑み、本発明は内部空間が駆動源によって占拠されず、かつ内部空間の清掃性や無菌性を確保しやすいシャッタ装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
すなわち請求項１の発明にかかるシャッタ装置は、内部が密閉されたチャンバを複数の内部空間に区画する仕切り壁に形成された開口部を開閉するシャッタと、上記シャッタを上記仕切り壁に沿って移動させる第１移動機構と、シャッタを仕切り壁に向けて進退動させる第２移動機構と、上記シャッタと開口部との間隙をシールするシール手段とを備えたシャッタ装置において、
上記第１、第２移動機構の駆動源をそれぞれ上記チャンバの外部空間に設け、
上記第２移動機構は、上記チャンバの外部空間から内部空間に貫通して設けられるとともに、当該第２移動機構の駆動源によって回転する回転軸と、内部空間に設けられるとともに上記シャッタと回転軸とを連結するリンク機構とを備え、
上記第２移動機構の駆動源が回転軸を回転させることにより、上記リンク機構を介してシャッタが仕切り壁に向けて進退動することを特徴としている。
上記第１、第２移動機構の駆動源をそれぞれ上記チャンバの外部空間に設け、
上記第２移動機構は、上記チャンバの外部空間から内部空間に貫通して設けられるとともに、当該第２移動機構の駆動源によって回転する回転軸と、内部空間に設けられるとともに上記シャッタと回転軸とを連結するリンク機構とを備え、
上記第２移動機構の駆動源が回転軸を回転させることにより、上記リンク機構を介してシャッタが仕切り壁に向けて進退動することを特徴としている。
【発明の効果】
【0006】
上記発明によれば、第１、第２移動機構の駆動源をチャンバの外部空間に設けているため、チャンバの内部空間の構造を簡素化することができ、また内部空間の清掃が容易となり、殺菌剤に対する駆動源の防護が不要となる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下図示実施形態について本発明を説明すると、図１はバイアルに薬液を充填する処理と、当該薬液を凍結乾燥して粉末化する処理と、バイアルを密閉する処理とを行う凍結乾燥製剤製造システム１を示している。
凍結乾燥製剤製造システム１は、内部が無菌状態に維持されたアイソレータ２と、薬液を凍結乾燥するための凍結乾燥機３と、これらの間に設けられた断熱室４とを備え、これら上記アイソレータ２、凍結乾燥機３および断熱室４によって、本発明にかかるチャンバが構成されている。
上記アイソレータ２の内部には、図示しないがバイアルに薬液を充填する充填装置および、上記バイアルを密閉する打栓装置が設けられており、上記バイアルは図示しない移載装置によって上記アイソレータ２と凍結乾燥機３との間で自動的に移載されるようになっている。そして凍結乾燥製剤製造システム１は図示しない制御手段によって制御されるようになっている。
上記断熱室４は、アイソレータ２と凍結乾燥機３との温度差を軽減するために設けられ、上記アイソレータ２と断熱室４との間は第１仕切り壁１１Ａによって区画され、また凍結乾燥機３と断熱室４との間は第２仕切り壁１１Ｂによって区画されている。
そして、これら第１、第２仕切り壁１１Ａ、１１Ｂにはそれぞれ開口部１１ａが形成され、これらの開口部１１ａは制御手段によって制御される第１、第２シャッタ装置１２Ａ、１２Ｂによって自動的に開閉されるようになっている。
凍結乾燥製剤製造システム１は、内部が無菌状態に維持されたアイソレータ２と、薬液を凍結乾燥するための凍結乾燥機３と、これらの間に設けられた断熱室４とを備え、これら上記アイソレータ２、凍結乾燥機３および断熱室４によって、本発明にかかるチャンバが構成されている。
上記アイソレータ２の内部には、図示しないがバイアルに薬液を充填する充填装置および、上記バイアルを密閉する打栓装置が設けられており、上記バイアルは図示しない移載装置によって上記アイソレータ２と凍結乾燥機３との間で自動的に移載されるようになっている。そして凍結乾燥製剤製造システム１は図示しない制御手段によって制御されるようになっている。
上記断熱室４は、アイソレータ２と凍結乾燥機３との温度差を軽減するために設けられ、上記アイソレータ２と断熱室４との間は第１仕切り壁１１Ａによって区画され、また凍結乾燥機３と断熱室４との間は第２仕切り壁１１Ｂによって区画されている。
そして、これら第１、第２仕切り壁１１Ａ、１１Ｂにはそれぞれ開口部１１ａが形成され、これらの開口部１１ａは制御手段によって制御される第１、第２シャッタ装置１２Ａ、１２Ｂによって自動的に開閉されるようになっている。
【0009】
上記アイソレータ２、凍結乾燥機３、断熱室４は、それぞれ内部が無菌状態に維持されるようになっており、アイソレータ２、断熱室４にはそれぞれ給気配管１３が接続され、給気ポンプ１４によって無菌エアが供給されるようになっている。
これと同様、上記アイソレータ２、凍結乾燥機３、断熱室４には、それぞれ排気配管１５が接続され、排気ポンプ１６によって内部のエアが排出されるようになっている。
さらに、上記給気配管１３と排気配管１５との間には循環配管１７が接続されるとともに循環ポンプ１８が設けられており、当該循環ポンプ１８を作動させることにより、上記排気配管１５を流通するエアを給気配管１３へと送気し、上記アイソレータ２、凍結乾燥機３、断熱室４に供給された無菌エアを循環させるようになっている。
そして、上記給気配管１３には過酸化水素蒸気などの除染ガスを供給する図示しない殺菌剤供給手段が設けられており、必要なタイミングでアイソレータ２や断熱室４に除染ガスを供給してそれらの内部を除染することができるようにしてある。
なお凍結乾燥機３については、当該凍結乾燥機３に連通している給気配管１３の開閉弁を閉鎖して、除染ガスを用いた除染を行わずに、蒸気による滅菌（ＳＩＰ）を行うようになっている。
これと同様、上記アイソレータ２、凍結乾燥機３、断熱室４には、それぞれ排気配管１５が接続され、排気ポンプ１６によって内部のエアが排出されるようになっている。
さらに、上記給気配管１３と排気配管１５との間には循環配管１７が接続されるとともに循環ポンプ１８が設けられており、当該循環ポンプ１８を作動させることにより、上記排気配管１５を流通するエアを給気配管１３へと送気し、上記アイソレータ２、凍結乾燥機３、断熱室４に供給された無菌エアを循環させるようになっている。
そして、上記給気配管１３には過酸化水素蒸気などの除染ガスを供給する図示しない殺菌剤供給手段が設けられており、必要なタイミングでアイソレータ２や断熱室４に除染ガスを供給してそれらの内部を除染することができるようにしてある。
なお凍結乾燥機３については、当該凍結乾燥機３に連通している給気配管１３の開閉弁を閉鎖して、除染ガスを用いた除染を行わずに、蒸気による滅菌（ＳＩＰ）を行うようになっている。
【0010】
上記構成を有する凍結乾燥製剤製造システム１によれば、アイソレータ２と凍結乾燥機３との間でバイアルを移載する場合には、上記第１、第２シャッタ装置１２Ａ、１２Ｂによって、上記第１、第２仕切り壁１１Ａ、１１Ｂに設けた開口部１１ａを同時に開放させるようになっている。
この状態となると、薬液が充填されたバイアルをアイソレータ２から断熱室４を通過して凍結乾燥機３の内部に移載することができ、また凍結乾燥された薬剤を収容したバイアルを凍結乾燥機３からアイソレータ２へと移載することができる。
この状態となると、薬液が充填されたバイアルをアイソレータ２から断熱室４を通過して凍結乾燥機３の内部に移載することができ、また凍結乾燥された薬剤を収容したバイアルを凍結乾燥機３からアイソレータ２へと移載することができる。
【0011】
また本実施形態の凍結乾燥製剤製造システム１によれば、上記凍結乾燥機３において薬液を凍結乾燥している最中に、薬液と異なる薬液をアイソレータ２で充填する場合には、薬液同士でのコンタミネーションを防止するために、上記アイソレータ２の除染を行う必要が生じる。
この際、薬液を凍結乾燥している凍結乾燥機３の内部空間は－４０℃に冷却されているが、上記断熱室４が第１シャッタ装置１２Ａと第２シャッタ装置１２Ｂとによって密閉されて断熱空間を形成しているため、アイソレータ２に充満させた除染ガスが、凍結乾燥機３の冷気によって冷却されないようにすることができる。
この際、薬液を凍結乾燥している凍結乾燥機３の内部空間は－４０℃に冷却されているが、上記断熱室４が第１シャッタ装置１２Ａと第２シャッタ装置１２Ｂとによって密閉されて断熱空間を形成しているため、アイソレータ２に充満させた除染ガスが、凍結乾燥機３の冷気によって冷却されないようにすることができる。
【0012】
図２は、上記第１シャッタ装置１２Ａを断熱室４の内部側から見た図を示しており、開口部１１ａが開放されてアイソレータ２と断熱室４とが連通した開放状態を示している。なお第２シャッタ装置１２Ｂも同様の構成を有しているため、説明を省略する。
第１シャッタ装置１２Ａは、上記アイソレータ２と断熱室４とを区画する第１仕切り壁１１Ａに設けられており、当該第１仕切り壁１１Ａに形成された開口部１１ａを開閉するシャッタ２１と、上記シャッタ２１を上記第１仕切り壁１１Ａに沿って移動させる第１移動機構２２と、シャッタ２１を第１仕切り壁１１Ａに向けて進退動させる第２移動機構２３と、上記シャッタ２１と開口部１１ａとの間隙をシールするシール手段２４とを備えている。
第１シャッタ装置１２Ａは、上記アイソレータ２と断熱室４とを区画する第１仕切り壁１１Ａに設けられており、当該第１仕切り壁１１Ａに形成された開口部１１ａを開閉するシャッタ２１と、上記シャッタ２１を上記第１仕切り壁１１Ａに沿って移動させる第１移動機構２２と、シャッタ２１を第１仕切り壁１１Ａに向けて進退動させる第２移動機構２３と、上記シャッタ２１と開口部１１ａとの間隙をシールするシール手段２４とを備えている。
【0013】
図２において、上記第１仕切り壁１１Ａは上記アイソレータ２の外壁を構成しており、上記第１仕切り壁１１Ａの断熱室４側には、上記開口部１１ａが形成された所要の板厚を有するプレート２５が設けられている。
上記開口部１１ａは角部にコーナーＲが形成された横長の長方形を有しており、上記シャッタ２１の外周縁はこの開口部１１ａの開口縁よりも小さく形成されている。
このため、図３（ｂ）に示すようにシャッタ２１を開口部１１ａの内側に位置させると、上記シャッタ２１の外周縁と開口部１１ａの開口縁との間に一定の幅の隙間が形成されるようになっている。
そして、上記開口部１１ａおよび上記プレート２５を囲繞するように、断面略正方形の筒状部材２６が連結されており、当該筒状部材２６の内側が上記断熱室４の内部空間Ｓ１を構成するようになっている。
上記開口部１１ａは角部にコーナーＲが形成された横長の長方形を有しており、上記シャッタ２１の外周縁はこの開口部１１ａの開口縁よりも小さく形成されている。
このため、図３（ｂ）に示すようにシャッタ２１を開口部１１ａの内側に位置させると、上記シャッタ２１の外周縁と開口部１１ａの開口縁との間に一定の幅の隙間が形成されるようになっている。
そして、上記開口部１１ａおよび上記プレート２５を囲繞するように、断面略正方形の筒状部材２６が連結されており、当該筒状部材２６の内側が上記断熱室４の内部空間Ｓ１を構成するようになっている。
【0014】
上記第１移動機構２２は、上記シャッタ２１を上下に昇降させるものとなっており、駆動源として１対の昇降用シリンダ２２ａを備え、上記シャッタ２１は上記第２移動機構２３ごと昇降されるようになっている。
上記昇降用シリンダ２２ａは上記断熱室４を構成する上記筒状部材２６の外部に設けられており、上記アイソレータ２を構成する上記第１仕切り壁１１Ａに固定されている。
昇降用シリンダ２２ａのシリンダシャフト２２ｂは図示上方に設けられ、２つのシリンダシャフト２２ｂの先端部と先端部とは、上記第２移動機構２３を保持するための上部ベースフレーム２２ｃによって連結されている。
上記昇降用シリンダ２２ａは上記断熱室４を構成する上記筒状部材２６の外部に設けられており、上記アイソレータ２を構成する上記第１仕切り壁１１Ａに固定されている。
昇降用シリンダ２２ａのシリンダシャフト２２ｂは図示上方に設けられ、２つのシリンダシャフト２２ｂの先端部と先端部とは、上記第２移動機構２３を保持するための上部ベースフレーム２２ｃによって連結されている。
【0015】
上記第２移動機構２３は、上記上部ベースフレーム２２ｃに固定された駆動源としての２つのモータ３１と、当該モータ３１によって回転する２つの回転軸３２と、断熱室４の内部空間Ｓ１に設けられるとともに上記シャッタ２１と回転軸３２とを連結する２つのリンク機構３３とを備えている。
上記回転軸３２は、上端部が上記上部ベースフレーム２２ｃに対して回転可能に設けられており、上記筒状部材２６を上下方向に貫通するように設けられている。また回転軸３２の下端部には当該回転軸３２の下端部同士を連結する下部ベースフレーム３４が設けられている。
上記筒状部材２６の内側には、上記回転軸３２を回転可能に保持する筒状のスリーブ３５が設けられており、また上記プレート２５の上部には当該スリーブ３５を保持するためのブラケット３５ａが設けられている。
またスリーブ３５の内部には、当該スリーブ３５を介して断熱室４の内部空間Ｓ１に外気が進入するのを防止するため、Ｏリングなどのシール手段が設けられている。
そして上記モータ３１は上記上部ベースフレーム２２ｃの上部に固定されるとともに、上記回転軸３２の上端部に連結され、上記制御手段の制御によって上記回転軸３２を回転させるようになっている。
上記回転軸３２は、上端部が上記上部ベースフレーム２２ｃに対して回転可能に設けられており、上記筒状部材２６を上下方向に貫通するように設けられている。また回転軸３２の下端部には当該回転軸３２の下端部同士を連結する下部ベースフレーム３４が設けられている。
上記筒状部材２６の内側には、上記回転軸３２を回転可能に保持する筒状のスリーブ３５が設けられており、また上記プレート２５の上部には当該スリーブ３５を保持するためのブラケット３５ａが設けられている。
またスリーブ３５の内部には、当該スリーブ３５を介して断熱室４の内部空間Ｓ１に外気が進入するのを防止するため、Ｏリングなどのシール手段が設けられている。
そして上記モータ３１は上記上部ベースフレーム２２ｃの上部に固定されるとともに、上記回転軸３２の上端部に連結され、上記制御手段の制御によって上記回転軸３２を回転させるようになっている。
【0016】
上記下部ベースフレーム３４には上記回転軸３２の下端部を軸支する軸受けが設けられるとともに、当該下部ベースフレーム３４の両端部にはリング状を有したリング状部材３４ａが設けられている。
これに対し、上記プレート２５の左右両端部には、上記リング状部材３４ａに嵌合するピン３６が設けられており、上記第１移動機構２２がシャッタ２１を下降端まで下降させると、上記リング状部材３４ａが上記ピン３６に嵌合するようになっている。
これにより、上記下部ベースフレーム３４が第１仕切り壁１１Ａに対して前後方向に移動するのを阻止し、第２移動機構２３によってシャッタ２１を移動させる際に、下部ベースフレーム３４の揺れを防止するようになっている。
これに対し、上記プレート２５の左右両端部には、上記リング状部材３４ａに嵌合するピン３６が設けられており、上記第１移動機構２２がシャッタ２１を下降端まで下降させると、上記リング状部材３４ａが上記ピン３６に嵌合するようになっている。
これにより、上記下部ベースフレーム３４が第１仕切り壁１１Ａに対して前後方向に移動するのを阻止し、第２移動機構２３によってシャッタ２１を移動させる際に、下部ベースフレーム３４の揺れを防止するようになっている。
【0017】
図３は上記リンク機構３３を説明する図となっており、上記回転軸３２に固定されたアーム３３ａと、上記シャッタ２１に固定されるとともに上記アーム３３ａに対して揺動軸３３ｂを中心に揺動可能に設けられた保持部材３３ｃとを備えている。
図３（ａ）は、シャッタ２１が第１仕切り壁１１Ａに対して離隔した状態を示しており、上記第１移動機構２２はシャッタ２１が開口部１１ａより離隔した状態で当該シャッタ２１を昇降させるようになっている。
これに対し、図３（ｂ）は上記シャッタ２１を第１仕切り壁１１Ａに向けて接近させ、当該シャッタ２１を上記開口部１１ａの内側に位置させた状態を示している。
図３（ａ）の状態から図３（ｂ）の状態とするには、上記モータ３１が回転軸３２を回転させて上記アーム３３ａを旋回させ、これにより上記保持部材３３ｃを揺動させることでシャッタ２１を開口部１１ａに向けて移動させることができる。
また図３（ｂ）の状態から回転軸３２を逆方向に回転させれば、リンク機構３３を介してシャッタ２１が開口部１１ａから離隔する方向に移動し、上記図３（ａ）の状態にすることができる。
本実施形態においては、図３（ｂ）のように上記シャッタ２１を上記開口部１１ａの内側に位置させると、シャッタ２１の外周縁が第１仕切り壁１１Ａの開口部１１ａに沿って設けたストッパ３７に当接するようになっている。
図３（ａ）は、シャッタ２１が第１仕切り壁１１Ａに対して離隔した状態を示しており、上記第１移動機構２２はシャッタ２１が開口部１１ａより離隔した状態で当該シャッタ２１を昇降させるようになっている。
これに対し、図３（ｂ）は上記シャッタ２１を第１仕切り壁１１Ａに向けて接近させ、当該シャッタ２１を上記開口部１１ａの内側に位置させた状態を示している。
図３（ａ）の状態から図３（ｂ）の状態とするには、上記モータ３１が回転軸３２を回転させて上記アーム３３ａを旋回させ、これにより上記保持部材３３ｃを揺動させることでシャッタ２１を開口部１１ａに向けて移動させることができる。
また図３（ｂ）の状態から回転軸３２を逆方向に回転させれば、リンク機構３３を介してシャッタ２１が開口部１１ａから離隔する方向に移動し、上記図３（ａ）の状態にすることができる。
本実施形態においては、図３（ｂ）のように上記シャッタ２１を上記開口部１１ａの内側に位置させると、シャッタ２１の外周縁が第１仕切り壁１１Ａの開口部１１ａに沿って設けたストッパ３７に当接するようになっている。
【0018】
上記シール手段２４は、上記プレート２５に設けられており、上記開口部１１ａの内周に沿って形成した収容溝２５ａと、当該収容溝２５ａの内部に設けられた中空のシール部材２４ａと、当該シール部材２４ａの内部にエアを供給するエア供給手段（図示せず）とを備えている。
上記シール部材２４ａは、図３（ａ）に示すようにシャッタ２１が開放された状態ではエアが抜かれており、シール部材２４ａが上記収容溝２５ａの内部に収容されるようになっている。このとき、上記シャッタ２１の外周縁との間には隙間が形成されるようになっている。
これに対し、図３（ｂ）に示すようにシール部材２４ａにエア供給手段が制御手段の制御によってエアを供給すると、シール部材２４ａが膨張して上記収容溝２５ａから突出し、上記開口部１１ａの内側に位置するシャッタ２１の外周縁に密着して、シャッタ２１と開口部１１ａとがシールされるようになっている。
上記シール部材２４ａは、図３（ａ）に示すようにシャッタ２１が開放された状態ではエアが抜かれており、シール部材２４ａが上記収容溝２５ａの内部に収容されるようになっている。このとき、上記シャッタ２１の外周縁との間には隙間が形成されるようになっている。
これに対し、図３（ｂ）に示すようにシール部材２４ａにエア供給手段が制御手段の制御によってエアを供給すると、シール部材２４ａが膨張して上記収容溝２５ａから突出し、上記開口部１１ａの内側に位置するシャッタ２１の外周縁に密着して、シャッタ２１と開口部１１ａとがシールされるようになっている。
【0019】
上記構成を有する第１シャッタ装置１２Ａの動作を図４を用いて説明する。
図４（ａ）は第１シャッタ装置１２Ａの開放状態を示し、このときシャッタ２１は上記第１移動機構２２によって開口部１１ａに対して上方に位置しており、また第２移動機構２３によって図３（ａ）に示すように第１仕切り壁１１Ａから離隔した状態となっている。
この状態から、図４（ｂ）に示すように、上記第１移動機構２２がシャッタ２１を下降させて、当該シャッタ２１を開口部１１ａの前方に位置させる。
このとき、第１移動機構２２の昇降用シリンダ２２ａが作動して、上記上部ベースフレーム２２ｃを下降させ、これにより第２移動機構２３と共にシャッタ２１を下降させる。このとき第２移動機構２３は作動しておらず、依然としてシャッタ２１は図３（ａ）に示すように第１仕切り壁１１Ａから離隔した状態を維持している。
図４（ａ）は第１シャッタ装置１２Ａの開放状態を示し、このときシャッタ２１は上記第１移動機構２２によって開口部１１ａに対して上方に位置しており、また第２移動機構２３によって図３（ａ）に示すように第１仕切り壁１１Ａから離隔した状態となっている。
この状態から、図４（ｂ）に示すように、上記第１移動機構２２がシャッタ２１を下降させて、当該シャッタ２１を開口部１１ａの前方に位置させる。
このとき、第１移動機構２２の昇降用シリンダ２２ａが作動して、上記上部ベースフレーム２２ｃを下降させ、これにより第２移動機構２３と共にシャッタ２１を下降させる。このとき第２移動機構２３は作動しておらず、依然としてシャッタ２１は図３（ａ）に示すように第１仕切り壁１１Ａから離隔した状態を維持している。
【0020】
シャッタ２１が開口部１１ａの前方に位置すると、図４（ｃ）に示すように、上記第２移動機構２３がシャッタ２１を第１仕切り壁１１Ａに接近させ、図３（ｂ）に示すように当該シャッタ２１を開口部１１ａの内側に位置させる。
このとき、第２移動機構２３のモータ３１が作動して回転軸３２を回転させると、上記リンク機構３３のアーム３３ａが旋回し、これに連動して上記保持部材３３ｃが揺動することで、上記シャッタ２１が第１仕切り壁１１Ａに接近する方向に移動する。
そして、上記シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置すると、シャッタ２１の外周縁が上記開口部１１ａに設けたストッパ３７に当接し、シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置した状態が維持される。
このとき、第２移動機構２３のモータ３１が作動して回転軸３２を回転させると、上記リンク機構３３のアーム３３ａが旋回し、これに連動して上記保持部材３３ｃが揺動することで、上記シャッタ２１が第１仕切り壁１１Ａに接近する方向に移動する。
そして、上記シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置すると、シャッタ２１の外周縁が上記開口部１１ａに設けたストッパ３７に当接し、シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置した状態が維持される。
【0021】
シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置すると、図４（ｄ）に示すように、上記シール手段２４が作動して、上記シール部材２４ａによってシャッタ２１と開口部１１ａとをシールした閉鎖状態とする。
シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置すると、上記シール手段２４のエア供給手段がシール部材２４ａにエアを供給し、これによりシール部材２４ａが膨張する。
シール部材２４ａは開口部１１ａの内周面に形成された収容溝２５ａに収容されているため、シール部材２４ａが膨張することで開口部１１ａの内側に向けて膨張し、膨張したシール部材２４ａがシャッタ２１の外周縁に密着する。
これにより、第１仕切り壁１１Ａの開口部１１ａが第１シャッタ装置１２Ａによって閉鎖されることとなり、アイソレータ２と断熱室４とが気密を保った状態で区画されることとなる。
シャッタ２１が開口部１１ａの内側に位置すると、上記シール手段２４のエア供給手段がシール部材２４ａにエアを供給し、これによりシール部材２４ａが膨張する。
シール部材２４ａは開口部１１ａの内周面に形成された収容溝２５ａに収容されているため、シール部材２４ａが膨張することで開口部１１ａの内側に向けて膨張し、膨張したシール部材２４ａがシャッタ２１の外周縁に密着する。
これにより、第１仕切り壁１１Ａの開口部１１ａが第１シャッタ装置１２Ａによって閉鎖されることとなり、アイソレータ２と断熱室４とが気密を保った状態で区画されることとなる。
【0022】
以上のように、本実施形態の第１、第２シャッタ装置１２Ａ、１２Ｂは、上記第１移動機構２２の昇降用シリンダ２２ａと、上記第２移動機構２３のモータ３１とが、上記アイソレータ２および断熱室４の外部空間Ｓ２に設けた構成を有している。
特に本実施形態において、上記断熱室４は上記開口部１１ａを囲繞するように設けた筒状部材２６によって構成されることから、当該筒状部材２６の内部空間Ｓ１にこれらの駆動源を設けると、これらの駆動源が内部空間Ｓ１を占拠してしまい、バイアルの移載に支障をきたす恐れがあった。
また、駆動源を外部空間Ｓ２に設けることで、内部空間Ｓ１において駆動源の作動による粉塵等の発生が防止され、内部空間Ｓ１の清浄化を維持することができ、内部空間Ｓ１の清掃をする際には、複雑な形状を有する駆動源の清掃が不要となる。
さらに、アイソレータ２や断熱室４の内部を除染ガスによって除染する際、これらの駆動源に除染ガスが触れることはないため、駆動源を除染ガス対応のものとする必要はなく、またカバー等によって覆う必要がなくなる。
特に本実施形態において、上記断熱室４は上記開口部１１ａを囲繞するように設けた筒状部材２６によって構成されることから、当該筒状部材２６の内部空間Ｓ１にこれらの駆動源を設けると、これらの駆動源が内部空間Ｓ１を占拠してしまい、バイアルの移載に支障をきたす恐れがあった。
また、駆動源を外部空間Ｓ２に設けることで、内部空間Ｓ１において駆動源の作動による粉塵等の発生が防止され、内部空間Ｓ１の清浄化を維持することができ、内部空間Ｓ１の清掃をする際には、複雑な形状を有する駆動源の清掃が不要となる。
さらに、アイソレータ２や断熱室４の内部を除染ガスによって除染する際、これらの駆動源に除染ガスが触れることはないため、駆動源を除染ガス対応のものとする必要はなく、またカバー等によって覆う必要がなくなる。
【符号の説明】
【0023】
１ 凍結乾燥製剤製造システム ２ アイソレータ
３ 凍結乾燥機 ４ 断熱室
１１Ａ、１１Ｂ 第１、第２仕切り壁 １１ａ 開口部
１２Ａ、１２Ｂ 第１、第２シャッタ装置 ２１ シャッタ
２２ 第１移動機構 １１ 昇降用シリンダ（駆動源）
２３ 第２移動機構 ２４ シール手段
３１ モータ（駆動源） ３２ 回転軸
３３ リンク機構
３ 凍結乾燥機 ４ 断熱室
１１Ａ、１１Ｂ 第１、第２仕切り壁 １１ａ 開口部
１２Ａ、１２Ｂ 第１、第２シャッタ装置 ２１ シャッタ
２２ 第１移動機構 １１ 昇降用シリンダ（駆動源）
２３ 第２移動機構 ２４ シール手段
３１ モータ（駆動源） ３２ 回転軸
３３ リンク機構
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】