(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024165007
(43)【公開日】2024-11-28
(54)【発明の名称】カード及びカードの製造方法
(51)【国際特許分類】
B32B 3/30 20060101AFI20241121BHJP
B42D 15/00 20060101ALI20241121BHJP
【ＦＩ】
B32B3/30
B42D15/00 341C
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023080806
(22)【出願日】2023-05-16
(71)【出願人】
【識別番号】000003193
【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100149548
【弁理士】
【氏名又は名称】松沼 泰史
(74)【代理人】
【識別番号】100139686
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 史朗
(74)【代理人】
【識別番号】100169764
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 雄一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100147267
【弁理士】
【氏名又は名称】大槻 真紀子
(72)【発明者】
【氏名】藤井 奏子
【テーマコード（参考）】
4F100
【Ｆターム（参考）】
4F100AB01B
4F100AB21B
4F100AK25C
4F100AK42A
4F100AT00A
4F100BA03
4F100BA04
4F100BA07
4F100BA10A
4F100BA10C
4F100BA10D
4F100DD07C
4F100EH66B
4F100EJ91C
4F100HB31C
4F100JG06D
4F100JK14C
4F100YY00C
(57)【要約】
【課題】金属調のカードでありながら、光の反射によるぎらつきを抑えて、より重厚感があり落ち着いた印象を与えるカードを提供する。
【解決手段】カード１は、カード基材２と、カード基材２の上面２ａに順番に積層された金属蒸着層３及び保護層４と、を備える。保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下である。
【選択図】図１
【解決手段】カード１は、カード基材２と、カード基材２の上面２ａに順番に積層された金属蒸着層３及び保護層４と、を備える。保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
カード基材と、前記カード基材の上面に順番に積層された金属蒸着層及び保護層と、を備え、
前記保護層の上面に関し、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下であるカード。
前記保護層の上面に関し、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下であるカード。
【請求項2】
前記金属蒸着層に対向する前記カード基材の上面側に配置された磁気ストライプを備える請求項１に記載のカード。
【請求項3】
請求項１又は請求項２に記載のカードを製造するカードの製造方法であって、
マット加工された凹凸面を有する転写シート基材、及び、前記凹凸面に積層された前記保護層を有する保護層転写箔を用意する工程と、
前記カード基材に積層された前記金属蒸着層に対して前記保護層転写箔を重ねて、前記保護層を前記金属蒸着層と前記転写シート基材との間に介在させる工程と、
前記転写シート基材を前記保護層から剥離する工程と、
を備えるカードの製造方法。
マット加工された凹凸面を有する転写シート基材、及び、前記凹凸面に積層された前記保護層を有する保護層転写箔を用意する工程と、
前記カード基材に積層された前記金属蒸着層に対して前記保護層転写箔を重ねて、前記保護層を前記金属蒸着層と前記転写シート基材との間に介在させる工程と、
前記転写シート基材を前記保護層から剥離する工程と、
を備えるカードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、カード及びカードの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ＩＣカードや磁気カード等のカードは、キャッシュカード、クレジットカード、ＩＤカード、会員カード等、様々な分野に用いられている。このようなカードとして、特許文献１には、カード基材上に金属蒸着層及び保護層を順番に積層した金属調のカードが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第５７０８１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来の金属調のカードでは、光沢感が強く金属蒸着層が鏡面状になっているため、光の反射によるぎらつきが大きい。近年では、重厚感があり落ち着いた印象を与えるカードとして、金属の質感や鏡面の光沢感を維持しながらぎらつきを抑えることで、意匠性に優れた金属調のカードが求められている。
【0005】
上述の課題を鑑み、本発明の目的は、金属調のカードでありながら、光の反射によるぎらつきを抑えて、重厚感があり落ち着いた印象を与えるカード及びカードの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様は、カード基材と、前記カード基材の上面に順番に積層された金属蒸着層及び保護層と、を備えるカードである。前記保護層の上面に関し、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下である。
【0007】
本発明の一態様は、前記カードを製造するカードの製造方法であって、マット加工された凹凸面を有する転写シート基材、及び、前記凹凸面に積層された前記保護層を有する保護層転写箔を用意する工程と、前記カード基材に積層された前記金属蒸着層に対して前記保護層転写箔を重ねて、前記保護層を前記金属蒸着層と前記転写シート基材との間に介在させる工程と、前記転写シート基材を前記保護層から剥離する工程と、を備えるカードの製造方法である。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、金属調のカードでありながら、光の反射によるぎらつきを抑えて、より重厚感があり落ち着いた印象を与えるカードを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本発明の一実施形態に係るカードの要部を模式的に示す断面図である。
【図2】本発明の一実施形態に係るカードの製造方法において、金属層転写箔をカード基材に重ねる前の状態を示す図である。
【図3】本発明の一実施形態に係るカードの製造方法において、金属層転写箔をカード基材に重ねた後の状態を示す図である。
【図4】本発明の一実施形態に係るカードの製造方法において、金属蒸着層から第一転写シート基材を除去した後、かつ、保護層転写箔を金属蒸着層に重ねる前の状態を示す図である。
【図5】本発明の一実施形態に係るカードの製造方法において、保護層転写箔を金属蒸着層に重ねた後の状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
【0011】
本実施形態のカード基材２は、１層以上のコアシート２１とオーバーシート２２とを積層することで構成されている。図１において、カード基材２は、１層のコアシート２１及び１層のオーバーシート２２によって構成されている。なお、カード基材２は、例えば１層のコアシート２１の両面にオーバーシート２２を設けて構成されてもよい。後述する金属蒸着層３や保護層４が積層されるカード基材２の上面２ａは、オーバーシート２２によって構成されている。
【0012】
コアシート２１、オーバーシート２２は、白色のシート又は光透過性を有するシートである。コアシート２１、オーバーシート２２の材料には、例えば、塩化ビニル材料、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体材料、テレフタル酸とシクロヘキサンジメタノール及びエチレングリコールとの共重合体材料、または前述の共重合体とポリカーボネート及び／又はポリアリレートとのポリマーアロイからなる非晶質ポリエステル材料、ポリエチレンテレフタレート材料、ポリブチレンテレフタレート材料、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合合成樹脂（ＡＢＳ）材料、紙材料、含浸紙材料等を用いることができる。
【0013】
本実施形態のカード基材２の上面２ａ側には、磁気ストライプ５（磁気テープ）が設けられている。磁気ストライプ５は、カード１に磁気機能を持たせる。磁気ストライプ５は、カード基材２の上面２ａの一部に設けられる。図１において、磁気ストライプ５は、カード基材２の上面２ａに露出するようにカード基材２に埋設されている。具体的に、磁気ストライプ５は、オーバーシート２２に埋設されている。磁気読み取りの観点から磁気ストライプ５上に重なる層（例えば金属蒸着層３、保護層４など）の膜厚は総厚で１０μｍ以下とすることが好ましい。
【0014】
金属蒸着層３及び保護層４は、カード基材２の上面２ａに順番に積層される。
金属蒸着層３は、真空蒸着法などによって金属を蒸着することで形成される。本実施形態の金属蒸着層３は、金属を海島状に形成することで絶縁性を有する。金属蒸着層３は、例えば、金属を海島状に蒸着することで、あるいは、金属を蒸着した後に部分的に除去して海島状に形成することで、構成されてよい。金属蒸着層３の上面には、例えばヘアライン加工による細かい線状のラインが形成されてよい（特許第５７０８１０９号公報参照）。
金属蒸着層３は、真空蒸着法などによって金属を蒸着することで形成される。本実施形態の金属蒸着層３は、金属を海島状に形成することで絶縁性を有する。金属蒸着層３は、例えば、金属を海島状に蒸着することで、あるいは、金属を蒸着した後に部分的に除去して海島状に形成することで、構成されてよい。金属蒸着層３の上面には、例えばヘアライン加工による細かい線状のラインが形成されてよい（特許第５７０８１０９号公報参照）。
【0015】
金属蒸着層３を構成する金属には、アルミニウム、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、銀、スズ、金などの金属単体またはこれらの化合物を用いることができる。金属蒸着層３は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等の方法により形成することができる。
金属蒸着層３の厚みは、例えば１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲であることが好ましい。金属蒸着層３の厚みが１０ｎｍ未満である場合には、金属光沢の効果がなくなってしまう。また、金属蒸着層３の厚みが１００ｎｍを超える場合には、金属蒸着層３の形成に長い時間がかかってしまう上に、膜厚のむらが大きくなってしまう、また、金属蒸着層３が海島状にならず絶縁性を確保することが難しい。
金属蒸着層３の厚みは、例えば１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲であることが好ましい。金属蒸着層３の厚みが１０ｎｍ未満である場合には、金属光沢の効果がなくなってしまう。また、金属蒸着層３の厚みが１００ｎｍを超える場合には、金属蒸着層３の形成に長い時間がかかってしまう上に、膜厚のむらが大きくなってしまう、また、金属蒸着層３が海島状にならず絶縁性を確保することが難しい。
【0016】
本実施形態のカード１において、金属蒸着層３と後述する保護層４との間には、剥離保護層３２が介在する。剥離保護層３２は金属蒸着層３の上面２ａに接している。剥離保護層３２は、後述するカード１の製造方法において、金属蒸着層３から転写シート基材３１（図２、図３参照）を剥離させる役割を有する。剥離保護層３２は透明である。これにより、剥離保護層３２側から金属蒸着層３を透かして見ることができる。
剥離保護層３２の材料には、例えばウレタン樹脂、メラミン樹脂、繊維素系樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂などを用いることができる。また、剥離保護層３２の材料には、必要に応じてワックス等を使用することもできる。剥離保護層３２の厚みは、１μｍ～３μｍの範囲であることが好ましい。
上記した金属蒸着層３及び剥離保護層３２の合計厚さは、例えば６．０μｍ以下であってよい。
剥離保護層３２の材料には、例えばウレタン樹脂、メラミン樹脂、繊維素系樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂などを用いることができる。また、剥離保護層３２の材料には、必要に応じてワックス等を使用することもできる。剥離保護層３２の厚みは、１μｍ～３μｍの範囲であることが好ましい。
上記した金属蒸着層３及び剥離保護層３２の合計厚さは、例えば６．０μｍ以下であってよい。
【0017】
金属蒸着層３上に積層される保護層４は、透明である。これにより、保護層４側から金属蒸着層３を透かして見ることができる。保護層４に用いる樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを用いることができる。当該樹脂の具体例として、例えば塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、ポジビニルアルコール、ポジエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂やそれらの共重合体、ポリマーアロイや、ポジエステル系ポジオールにイツシアネートを添加したアクリルＵＶ樹脂等があげられるがこの限りではない。
【0018】
金属蒸着層３上に重ねられた保護層４の上面４ａは凹凸面となっている。これにより、保護層４の上面４ａがマット調になる。具体的に、凹凸面４１ａとされた保護層４の上面４ａでは、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下となっている。
【0019】
本実施形態のカード１において、金属蒸着層３と保護層４との間には、印刷層４２が介在する。印刷層４２は保護層４に接している。印刷層４２は、オフセット印刷やスクリーン印刷等、公知の印刷方法で設けることができる。
印刷層４２に用いるインキは任意であってよい。ただし、印刷層４２には、印刷層４２側から金属蒸着層３を透かして見ることができるような隠蔽性の低いインキを使用することがより好ましい。また、印刷層４２の厚みは、０．５μｍ～１.０μｍであることが好ましい。これにより、金属蒸着層３の光沢感や質感を活かしつつ、任意の色に着色することができる。印刷層４２は、無色透明であってもよいが、例えば有色透明であってもよい。また、印刷層４２は、文字、記号、絵柄などを含んでもよい。
上記した保護層４及び印刷層４２の合計厚さは、１．５μｍ～３．０μｍであってよい。
印刷層４２に用いるインキは任意であってよい。ただし、印刷層４２には、印刷層４２側から金属蒸着層３を透かして見ることができるような隠蔽性の低いインキを使用することがより好ましい。また、印刷層４２の厚みは、０．５μｍ～１.０μｍであることが好ましい。これにより、金属蒸着層３の光沢感や質感を活かしつつ、任意の色に着色することができる。印刷層４２は、無色透明であってもよいが、例えば有色透明であってもよい。また、印刷層４２は、文字、記号、絵柄などを含んでもよい。
上記した保護層４及び印刷層４２の合計厚さは、１．５μｍ～３．０μｍであってよい。
【0020】
次に、図２～図５を参照して、本実施形態のカード１の製造方法の一例について説明する。
図１に示すカード１の製造に際しては、はじめに図２に示すカード基材２及び金属層転写箔３０、並びに、図４に示す保護層転写箔４０を用意する。
図１に示すカード１の製造に際しては、はじめに図２に示すカード基材２及び金属層転写箔３０、並びに、図４に示す保護層転写箔４０を用意する。
【0021】
図２に示すように、カード基材２は、コアシート２１の上面（片面）に、磁気ストライプ５を埋め込んだオーバーシート２２を積層することで形成される。この状態において、磁気ストライプ５は、オーバーシート２２からなるカード基材２の上面２ａに露出する。
【0022】
金属層転写箔３０は、転写シート基材３１（以下、第一転写シート基材３１と呼ぶ。）に剥離保護層３２及び金属蒸着層３を順番に積層して形成される。第一転写シート基材３１としては、ポジエテレンテレフタレート（ＰＥＴ）や、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート、ポリイミドのフィルムを用いることができる。金属蒸着層３は、金属が海島状に形成されるように第一転写シート基材３１上に形成される。剥離保護層３２及び金属蒸着層３の材料や厚みなどは、前述したとおりである。
【0023】
図４に示すように、保護層転写箔４０は、転写シート基材４１（以下、第二転写シート基材４１と呼ぶ。）に保護層４及び印刷層４２を順番に積層して形成される。第二転写シート基材４１としては、例えば前述した金属層転写箔３０の第一転写シート基材３１において例示したフィルムを用いることができる。保護層４及び印刷層４２の材料や厚みなどは、前述したとおりである。
第二転写シート基材４１は、マット加工された凹凸面４１ａを有する。保護層４は、第二転写シート基材４１の凹凸面４１ａに積層される。これにより、第二転写シート基材４１側に向く保護層４の面（上面４ａ）にマット加工が施される。そして、マット加工が施された保護層４の面（上面４ａ）では、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上とされる。
第二転写シート基材４１は、マット加工された凹凸面４１ａを有する。保護層４は、第二転写シート基材４１の凹凸面４１ａに積層される。これにより、第二転写シート基材４１側に向く保護層４の面（上面４ａ）にマット加工が施される。そして、マット加工が施された保護層４の面（上面４ａ）では、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上とされる。
【0024】
図２に示すようにカード基材２及び金属層転写箔３０を用意した後には、金属蒸着層３をカード基材２に転写する。金属蒸着層３を転写する際には、はじめに図３に示すように、金属層転写箔３０をカード基材２上に重ねて、金属蒸着層３をカード基材２と第一転写シート基材３１との間に介在させる。具体的には、金属蒸着層３を磁気ストライプ５が露出するカード基材２の上面２ａに重ねる。次いで、図４に示すように、第一転写シート基材３１を金属蒸着層３から剥離する。具体的に、第一転写シート基材３１は剥離保護層３２から剥離し、剥離保護層３２は金属蒸着層３側に残る。これにより、金属蒸着層３のカード基材２への転写が完了する。
【0025】
金属蒸着層３をカード基材２に転写し、また、保護層転写箔４０を用意した後には、保護層４及び印刷層４２を金属蒸着層３上に転写する。保護層４及び印刷層４２を転写する際には、はじめに図５に示すように、保護層転写箔４０を金属蒸着層３上に重ねて、保護層４及び印刷層４２を金属蒸着層３と第二転写シート基材４１との間に介在させる。具体的には、保護層転写箔４０を金属蒸着層３上の剥離保護層３２に重ねる。また、剥離保護層３２から第二転写シート基材４１に向けて印刷層４２と保護層４とを順番に並べる。次いで、図１に示すように、第二転写シート基材４１を保護層４から剥離する。これにより、保護層４及び印刷層４２の金属蒸着層３上への転写が完了する。
以上により、本実施形態のカード１の製造方法が完了する。
以上により、本実施形態のカード１の製造方法が完了する。
【0026】
製造後のカード１における保護層４の上面４ａでは、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上、十点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上であり、光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下である。
【0027】
本実施形態のカード１では、保護層４の上面４ａの光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下であることで、金属蒸着層３が鏡面状になっていても、光の反射によるぎらつきを抑制することができる。これにより、金属蒸着層３による金属調の質感、鏡面の光沢感を維持しながらも、重厚感があり落ち着いた印象を与えるカード１を提供することができる。
【0028】
また、本実施形態のカード１は、金属蒸着層３に対向するカード基材２の上面２ａ側に配置された磁気ストライプ５をさらに備えているものの、保護層４の上面４ａの光沢度Ｇｓ（６０°）が１５０以下となっている。これにより、磁気ストライプ５が保護層４の上面４ａ側から見えることを効果的に抑制することができる。したがって、より意匠性に優れたカード１を提供することができる。
【0029】
また、本実施形態のカード１の製造方法では、第二転写シート基材４１の凹凸面４１ａに保護層４を積層するだけで第二転写シート基材４１側に向く保護層４の上面４ａにマット加工が施される。このため、第二転写シート基材４１を保護層４から剥離した後の状態では、第二転写シート基材４１が接触していた保護層４の上面４ａに、第二転写シート基材４１の凹凸面４１ａに対応する凹凸が現れる。これにより、保護層４を金属蒸着層３上に転写した後に保護層４の上面４ａにマット加工を施して凹凸面４１ａを形成する場合と比較して、少ない工数で保護層４の上面４ａを所望の表面粗さの凹凸面に形成することができる。したがって、カード１を効率よく製造することが可能となる。
【実施例0030】
以下、上記した実施形態のカード１について、実施例１、実施例２及び比較例１を示してさらに説明する。本発明の技術的範囲は、以下に示す実施例１、実施例２及び比較例１の具体的内容により何ら限定されるものではない。
【0031】
＜実施例１＞
厚み６００μｍの白色ＰＥＴ－Ｇ基材からなるコアシート２１の両面に、磁気ストライプ５を埋め込んだ厚み１００μｍの透明ＰＥＴ－Ｇ基材からなるオーバーシート２２を、磁気ストライプ５が外側に位置するように積層してカード基材２を得た。
カード基材２の上面２ａをなす一方のオーバーシート２２に、下記の金属層転写箔３０を用いて金属蒸着層３及び剥離保護層３２を転写形成することで、カード基材２の上面２ａに金属蒸着層３と剥離保護層３２とを順番に積層した。さらに、下記の保護層転写箔４０を用いて印刷層４２及び保護層４を剥離保護層３２上に転写形成することで、剥離保護層３２上に印刷層４２と保護層４とを順番に積層した。以上により、実施例１のカードを得た。
厚み６００μｍの白色ＰＥＴ－Ｇ基材からなるコアシート２１の両面に、磁気ストライプ５を埋め込んだ厚み１００μｍの透明ＰＥＴ－Ｇ基材からなるオーバーシート２２を、磁気ストライプ５が外側に位置するように積層してカード基材２を得た。
カード基材２の上面２ａをなす一方のオーバーシート２２に、下記の金属層転写箔３０を用いて金属蒸着層３及び剥離保護層３２を転写形成することで、カード基材２の上面２ａに金属蒸着層３と剥離保護層３２とを順番に積層した。さらに、下記の保護層転写箔４０を用いて印刷層４２及び保護層４を剥離保護層３２上に転写形成することで、剥離保護層３２上に印刷層４２と保護層４とを順番に積層した。以上により、実施例１のカードを得た。
【0032】
（金属層転写箔）
ＰＥＴからなる第一転写シート基材３１上に、アクリル系樹脂を主成分とする厚み２μｍの剥離保護層３２、及び、厚み４０ｎｍの金属蒸着層３を順次積層して金属層転写箔３０を作製した。金属蒸着層３は、真空蒸着法によってスズ（Ｓｎ）を海島状に形成することで、絶縁性とした。
ＰＥＴからなる第一転写シート基材３１上に、アクリル系樹脂を主成分とする厚み２μｍの剥離保護層３２、及び、厚み４０ｎｍの金属蒸着層３を順次積層して金属層転写箔３０を作製した。金属蒸着層３は、真空蒸着法によってスズ（Ｓｎ）を海島状に形成することで、絶縁性とした。
【0033】
（保護層転写箔）
厚み１００μｍのＰＥＴからなる第二転写シート基材４１のうち保護層４が接する側の面にマット目となる凹凸加工（マット加工）を施した。その後、第二転写シート基材４１上に、アクリル系樹脂を主成分とする厚み１．４μｍの保護層４、及び、無色透明のアクリル系樹脂からなる厚み１．５μｍの印刷層４２を順次積層して保護層転写箔４０を作製した。
厚み１００μｍのＰＥＴからなる第二転写シート基材４１のうち保護層４が接する側の面にマット目となる凹凸加工（マット加工）を施した。その後、第二転写シート基材４１上に、アクリル系樹脂を主成分とする厚み１．４μｍの保護層４、及び、無色透明のアクリル系樹脂からなる厚み１．５μｍの印刷層４２を順次積層して保護層転写箔４０を作製した。
【0034】
（表面粗さと光沢度）
実施例１のカードについて、表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、光沢計（日本電色工業株式会社製 ハンディ型光沢計 ＰＧ－ＩＩ）を用いて、保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。光沢度の測定時における光の入射角は、汎用性の高い６０°で測定した。
実施例１のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．２８μｍ、十点平均粗さＲｚが２．０２μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が１３７．５であった。実施例１のカードは、カード券面が金属調でありながら、光の反射によるぎらつきが抑えられたカードとなった。
実施例１のカードについて、表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、光沢計（日本電色工業株式会社製 ハンディ型光沢計 ＰＧ－ＩＩ）を用いて、保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。光沢度の測定時における光の入射角は、汎用性の高い６０°で測定した。
実施例１のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．２８μｍ、十点平均粗さＲｚが２．０２μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が１３７．５であった。実施例１のカードは、カード券面が金属調でありながら、光の反射によるぎらつきが抑えられたカードとなった。
【0035】
＜実施例２＞
実施例１と同様の手法で、実施例２のカードを得た。ただし、実施例２のカードでは、保護層転写箔４０の作製に際して、第二転写シート基材４１のうち保護層４が接する側の面に、実施例１と比較してマット目の粗さが大きい凹凸加工を施した。
実施例１と同様の手法で、実施例２のカードを得た。ただし、実施例２のカードでは、保護層転写箔４０の作製に際して、第二転写シート基材４１のうち保護層４が接する側の面に、実施例１と比較してマット目の粗さが大きい凹凸加工を施した。
【0036】
（表面粗さと光沢度）
実施例２のカードについて、実施例１と同じ表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、実施例１と同じ光沢計を用いて、光の入射角を６０°として保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。
実施例２のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．５２μｍ、十点平均粗さＲｚが３．１６μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が５４．８であった。実施例２のカードは、カード券面が金属調でありながら、光の反射によるぎらつきがほとんどないカードとなった。
実施例２のカードについて、実施例１と同じ表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、実施例１と同じ光沢計を用いて、光の入射角を６０°として保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。
実施例２のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．５２μｍ、十点平均粗さＲｚが３．１６μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が５４．８であった。実施例２のカードは、カード券面が金属調でありながら、光の反射によるぎらつきがほとんどないカードとなった。
【0037】
＜比較例１＞
実施例１と同様の手法で、比較例１のカードを得た。ただし、比較例１のカードでは、保護層転写箔４０の作製に際して、第二転写シート基材４１に実施例１，２のような凹凸加工を施さずに、第二転写シート基材４１上に、保護層４及び印刷層４２を順次積層した。
実施例１と同様の手法で、比較例１のカードを得た。ただし、比較例１のカードでは、保護層転写箔４０の作製に際して、第二転写シート基材４１に実施例１，２のような凹凸加工を施さずに、第二転写シート基材４１上に、保護層４及び印刷層４２を順次積層した。
【0038】
（表面粗さと光沢度）
比較例１のカードについて、実施例１と同じ表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、実施例１と同じ光沢計を用いて、光の入射角を６０°として保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。
比較例１のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．１１μｍ、十点平均粗さＲｚが０．６４μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が１９３．６であった。比較例１のカードは、カード券面に映り込みが生じる程度に鏡面光沢感の強い金属調のカードとなった。
比較例１のカードについて、実施例１と同じ表面粗さ測定装置を用いて、保護層４の上面４ａ側における算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した。また、実施例１と同じ光沢計を用いて、光の入射角を６０°として保護層４の上面４ａの光沢度を測定した。
比較例１のカードでは、保護層４の上面４ａに関し、算術平均粗さＲａが０．１１μｍ、十点平均粗さＲｚが０．６４μｍ、光沢度Ｇｓ（６０°）が１９３．６であった。比較例１のカードは、カード券面に映り込みが生じる程度に鏡面光沢感の強い金属調のカードとなった。
【0039】
＜比較結果＞
マット加工を施した実施例１、実施例２のカード券面と比較例１のカード券面とを比較すると、実施例１、実施例２の光沢度は、比較例１の光沢度よりも低くなった。また、実施例１よりもマット目の粗さが大きいマット加工を施した実施例２のカード券面では、実施例１のカード券面と比較して、光沢度がさらに低くなった。
実施例１及び実施例２のカード券面は、光沢度が低くなったことで反射によるぎらつきが抑えられ、金属調の鏡面光沢感を維持しながらも重厚感のある落ち着いた印象を与えるカードとなった。さらに、比較例１については磁気ストライプ５が浮き上がって見えたが、実施例１と実施例２については磁気ストライプ５が目立ちにくくカード券面に馴染んで見えた。
マット加工を施した実施例１、実施例２のカード券面と比較例１のカード券面とを比較すると、実施例１、実施例２の光沢度は、比較例１の光沢度よりも低くなった。また、実施例１よりもマット目の粗さが大きいマット加工を施した実施例２のカード券面では、実施例１のカード券面と比較して、光沢度がさらに低くなった。
実施例１及び実施例２のカード券面は、光沢度が低くなったことで反射によるぎらつきが抑えられ、金属調の鏡面光沢感を維持しながらも重厚感のある落ち着いた印象を与えるカードとなった。さらに、比較例１については磁気ストライプ５が浮き上がって見えたが、実施例１と実施例２については磁気ストライプ５が目立ちにくくカード券面に馴染んで見えた。
【0040】
以上、本発明に係る実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【0041】
本発明において、カード基材２は、例えば単層のコアシート２１のみによって構成されてもよい。
【0042】
本発明のカードは、例えば磁気ストライプ５を備えなくてもよい。
【0043】
本発明のカードは、例えば剥離保護層３２を備えなくてもよい。この場合、金属層転写箔３０の第一転写シート基材３１自体が剥離性を有していればよい。これにより、上記実施形態の場合と同様に、カードの製造に際して金属蒸着層３を第一転写シート基材３１から剥離させることができる。
【0044】
本発明のカードは、例えば印刷層４２を備えなくてもよい。
【符号の説明】
【0045】
１ カード
２ カード基材
２ａ カード基材２の上面
３ 金属蒸着層
４ 保護層
４ａ 保護層４の上面
５ 磁気ストライプ
３０ 金属層転写箔
３１ 第一転写シート基材
４０ 保護層転写箔
４１ 第二転写シート基材（転写シート基材）
４１ａ 凹凸面
４２ 印刷層
２ カード基材
２ａ カード基材２の上面
３ 金属蒸着層
４ 保護層
４ａ 保護層４の上面
５ 磁気ストライプ
３０ 金属層転写箔
３１ 第一転写シート基材
４０ 保護層転写箔
４１ 第二転写シート基材（転写シート基材）
４１ａ 凹凸面
４２ 印刷層
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】