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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024166384
(43)【公開日】2024-11-28
(54)【発明の名称】デンプン汚れの除去方法
(51)【国際特許分類】
C11D 17/08 20060101AFI20241121BHJP
C11D 1/72 20060101ALI20241121BHJP
C11D 1/722 20060101ALI20241121BHJP
C11D 3/20 20060101ALI20241121BHJP
C11D 3/43 20060101ALI20241121BHJP
C11D 3/33 20060101ALI20241121BHJP
C11D 1/02 20060101ALI20241121BHJP
C11D 1/66 20060101ALI20241121BHJP
C11D 1/75 20060101ALI20241121BHJP
C11D 1/88 20060101ALI20241121BHJP
【ＦＩ】
C11D17/08
C11D1/72
C11D1/722
C11D3/20
C11D3/43
C11D3/33
C11D1/02
C11D1/66
C11D1/75
C11D1/88
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024161916
(22)【出願日】2024-09-19
(62)【分割の表示】P 2019209338の分割
【原出願日】2019-11-20
(71)【出願人】
【識別番号】000000918
【氏名又は名称】花王株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100087642
【弁理士】
【氏名又は名称】古谷 聡
(74)【代理人】
【識別番号】100203242
【弁理士】
【氏名又は名称】河戸 春樹
(72)【発明者】
【氏名】國友 凜
(72)【発明者】
【氏名】小埜 真理子
(57)【要約】
【課題】乾燥などによるデンプンの固着を防止して、デンプンを含む汚れが付着した対象物を、例えば処理浴に浸漬させずに放置しても、容易に除去できる、デンプン汚れの除去方法を提供する。
【解決手段】デンプン汚れが付着した対象物に（ａ）分子量１２０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物を０．１質量％以上１０質量％以下、（ｂ）界面活性剤を含有する処理液を接触させた後、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法（ただし、特定の組成物１、組成物２、及び組成物３を処理液として用いる除去方法を除く。）。
【選択図】なし
【解決手段】デンプン汚れが付着した対象物に（ａ）分子量１２０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物を０．１質量％以上１０質量％以下、（ｂ）界面活性剤を含有する処理液を接触させた後、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法（ただし、特定の組成物１、組成物２、及び組成物３を処理液として用いる除去方法を除く。）。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
デンプン汚れが付着した対象物に（ａ）分子量１２０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物〔以下、（ａ）成分という〕を０．１質量％以上１０質量％以下、
（ｂ）界面活性剤〔以下、（ｂ）成分という〕を含有する処理液を接触させた後、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法（ただし、以下の組成物１、組成物２、及び組成物３を処理液として用いる除去方法を除く。）。
組成物１：（Ａ１）ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルを６質量％～４０質量％、（Ｂ１）デンプン分解酵素、（Ｃ１）酵素安定化剤、（Ｄ１）可溶化剤、及び（Ｅ１）ｐＨ調整剤を含有することを特徴とする前浸漬用洗浄剤組成物。
組成物２：下記の（イ）および（ロ）を（イ）：（ロ）＝３：１～２０：１の質量比で配合してなる非イオン界面活性剤（Ａ２）と、アルカノールアミン（Ｂ２）と、酵素（Ｃ２）と、キシレンスルホン酸塩およびクメンスルホン酸塩の少なくとも一方からなる可溶化剤（Ｄ２）と、カルシウム添加剤と、水とを含有し、硬質表面用液体洗浄剤組成物全体に対し、上記非イオン界面活性剤（Ａ２）が１～１０質量％、アルカノールアミン（Ｂ２）が１０～３０質量％、酵素（Ｃ２）が０．１～５質量％含有され、硬質表面用液体洗浄剤組成物の２５℃におけるｐＨが８．０～１０．０の範囲に設定されていることを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。
（イ）ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンアルキルエーテル。
（ロ）トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド付加物およびグリセリンのエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド付加物の少なくとも一方。
組成物３：界面活性剤（Ａ３）と、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄及び亜鉛から選択される少なくとも１種（Ｂ３）と、前記（Ｂ３）成分と錯体を形成するアミノカルボン酸型金属イオン封鎖剤（Ｃ３）と、ビグアニド系ポリマー（Ｄ３）とを含有する、食器洗い機用洗浄剤組成物。
（ｂ）界面活性剤〔以下、（ｂ）成分という〕を含有する処理液を接触させた後、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法（ただし、以下の組成物１、組成物２、及び組成物３を処理液として用いる除去方法を除く。）。
組成物１：（Ａ１）ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルを６質量％～４０質量％、（Ｂ１）デンプン分解酵素、（Ｃ１）酵素安定化剤、（Ｄ１）可溶化剤、及び（Ｅ１）ｐＨ調整剤を含有することを特徴とする前浸漬用洗浄剤組成物。
組成物２：下記の（イ）および（ロ）を（イ）：（ロ）＝３：１～２０：１の質量比で配合してなる非イオン界面活性剤（Ａ２）と、アルカノールアミン（Ｂ２）と、酵素（Ｃ２）と、キシレンスルホン酸塩およびクメンスルホン酸塩の少なくとも一方からなる可溶化剤（Ｄ２）と、カルシウム添加剤と、水とを含有し、硬質表面用液体洗浄剤組成物全体に対し、上記非イオン界面活性剤（Ａ２）が１～１０質量％、アルカノールアミン（Ｂ２）が１０～３０質量％、酵素（Ｃ２）が０．１～５質量％含有され、硬質表面用液体洗浄剤組成物の２５℃におけるｐＨが８．０～１０．０の範囲に設定されていることを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。
（イ）ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンアルキルエーテル。
（ロ）トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド付加物およびグリセリンのエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド付加物の少なくとも一方。
組成物３：界面活性剤（Ａ３）と、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄及び亜鉛から選択される少なくとも１種（Ｂ３）と、前記（Ｂ３）成分と錯体を形成するアミノカルボン酸型金属イオン封鎖剤（Ｃ３）と、ビグアニド系ポリマー（Ｄ３）とを含有する、食器洗い機用洗浄剤組成物。
【請求項2】
（ａ）成分がプロピレングリコール及びグリセリンから選ばれる１種以上である、請求項１に記載のデンプン汚れの除去方法。
【請求項3】
（ｃ）成分として、下記一般式（ｃ１）の化合物を含有する、請求項１又は２に記載のデンプン汚れの除去方法。
Ｒ1ｃ－（ＯＲ２ｃ）ｒ－ＯＨ （ｃ１）
［一般式（ｃ１）において、Ｒ1ｃは炭素数１以上６以下のアルキル基であり、Ｒ２ｃは炭素数２又は３のアルキレン基であり、ｒは１～３の整数である。］
Ｒ1ｃ－（ＯＲ２ｃ）ｒ－ＯＨ （ｃ１）
［一般式（ｃ１）において、Ｒ1ｃは炭素数１以上６以下のアルキル基であり、Ｒ２ｃは炭素数２又は３のアルキレン基であり、ｒは１～３の整数である。］
【請求項4】
（ｂ）成分として、（ｂｘ）デンプン膨潤率が１５０％以上３００％以下である界面活性剤〔以下、（ｂｘ）成分という〕を含有する、請求項１～３の何れか１項に記載のデンプン汚れの除去方法。
【請求項5】
（ｂ）成分中の（ｂｘ）成分の割合が６０質量％以上１００質量％以下である、請求項４に記載のデンプン汚れの除去方法。
【請求項6】
（ｂ）成分が、両性界面活性剤、アミンオキシド型界面活性剤、非イオン界面活性剤、及び陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤である、請求項１～５の何れか１項に記載のデンプン汚れの除去方法。
【請求項7】
デンプン汚れの除去を、水を含有し前記処理液とは異なる液体媒体の接触により行う、請求項１～６の何れか１項に記載のデンプン汚れの除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、デンプン汚れの除去方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、家族中心の生活スタイルから個人中心の生活スタイルに変化しつつあり、家庭で家族そろって食事する機会が減少する傾向にある。このため食事毎に食器を洗浄するより、例えば一日分の汚れた食器をシンクなどに溜めておき、時間があるときに食器洗いをするなどの生活習慣が広まっている。ところがこの場合汚れが乾燥などにより強固に食器などに付着する現象が起こり、洗浄するために強い機械力を必要とするため非常に大きな労力が必要とされる。そのため、汚れが強固に付着した表面を簡単に除去できる技術が強く求められる。
【0003】
特許文献１には食器手洗い用液体洗浄剤にグリセリンなどの保湿剤を含有する技術が開示されている。また、特許文献２、特許文献３には酵素の安定化剤として多価アルコールを含有する技術が開示されている。特許文献４にはプロピレングリコールなどの溶剤を含有し、汚れにスプレーした後濯ぐ洗浄剤組成物が開示されている。特許文献５にはプロピレングリコールなどを含有する機械洗浄前洗い用食器洗浄剤組成物の技術が開示されており、デンプン汚れ洗浄力が高い前処理剤の技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特表２０１２－５１６９０５号公報
【特許文献2】特開２０１８－１１５２８６号公報
【特許文献3】特開２０１９－９４４２０号公報
【特許文献4】特開２０１６－１９８７６５号公報
【特許文献5】特開２０１８－９０６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従来の洗浄剤や前処理剤は、汚れが付着してから比較的短時間のうちに洗浄を行うことで汚れの除去を行うものであったり、処理浴での浸漬を行うものであったりするが、対象物を処理浴に浸漬させずに、より長時間放置するような場合は汚れが乾燥することで対象物に強固に付着し、非常に除去しにくくなる。本発明者らは、汚れが強固に固着して落とし難くなる原因の１つとして、汚れが含むデンプンの影響が大きいことを見出した。しかし、従来の洗浄剤や前処理剤では、デンプンの固着防止と洗浄の関連について、十分な検討はされていない。
【0006】
本発明は、乾燥などによるデンプンの固着を防止して、デンプンを含む汚れが付着した対象物を、例えば処理浴に浸漬させずに放置しても、容易に除去できる、デンプン汚れの除去方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、デンプン汚れが付着した対象物に（ａ）分子量１５０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物〔以下、（ａ）成分という〕を０．１質量％以上１０質量％以下含有する処理液を接触させた後、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法に関する。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、乾燥などによるデンプンの固着を防止して、デンプンを含む汚れが付着した対象物を、例えば処理浴に浸漬させずに放置しても、容易に除去できる、デンプン汚れの除去方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0009】
〔処理液〕
本発明者らは、デンプンを含有する汚れが時間とともに食器などの表面に固着する原因を追究した結果、乾燥による糖質の凝集が原因であることを解明した。そしてその凝集を防止するためには、ただ単に乾燥を遅らせるだけでは難しく、乾燥によって形成される糖質間の水素結合の形成を抑制し、さらに乾燥しても水を導入するだけで簡単に水和しやすくすることが必要であることを見出した。
本発明の（ａ）成分は分子量が小さいためデンプン内部への侵入が容易であり、デンプン内部の水素結合の形成を緩和する効果を有する。また（ａ）成分は水を保持できるため、デンプンを含む汚れの乾燥を遅延させることができると考えられる。
本発明者らは、デンプンを含有する汚れが時間とともに食器などの表面に固着する原因を追究した結果、乾燥による糖質の凝集が原因であることを解明した。そしてその凝集を防止するためには、ただ単に乾燥を遅らせるだけでは難しく、乾燥によって形成される糖質間の水素結合の形成を抑制し、さらに乾燥しても水を導入するだけで簡単に水和しやすくすることが必要であることを見出した。
本発明の（ａ）成分は分子量が小さいためデンプン内部への侵入が容易であり、デンプン内部の水素結合の形成を緩和する効果を有する。また（ａ）成分は水を保持できるため、デンプンを含む汚れの乾燥を遅延させることができると考えられる。
【0010】
本発明では、デンプン汚れが付着した対象物に（ａ）成分を０．１質量％以上１０質量％以下含有する処理液〔以下、本発明の処理液という場合もある〕を接触させる。
【0011】
［（ａ）成分］
本発明の処理液は、（ａ）成分として、分子量１５０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物を含有する。
本発明の処理液は、（ａ）成分として、分子量１５０以下の多価アルコールから選ばれる１種以上の化合物を含有する。
【0012】
（ａ）成分の分子量は、糖質の凝集抑制の観点から、好ましくは５０以上、より好ましくは７５以上、そして、好ましくは１２０以下、より好ましくは１００以下である。
（ａ）成分は、糖質の凝集抑制の観点から、２価以上４価以下の多価アルコール、更に２価以上３価以下の多価アルコールが好ましい。
（ａ）成分は、糖質の凝集抑制の観点から、２価以上４価以下の多価アルコール、更に２価以上３価以下の多価アルコールが好ましい。
【0013】
（ａ）成分は、具体的には、エチレングリコール（２価、分子量６２）、プロピレングリコール（２価、分子量７６）、ブチレングリコール（２価、分子量９０）、グリセリン（３価、分子量９２）、エリトリトール（４価、分子量１２２）から選ばれる１種以上が挙げられる。
【0014】
（ａ）成分は、糖質の凝集抑制の観点から、プロピレングリコール及びグリセリンから選ばれる１種以上が好ましく、グリセリンがより好ましい。
【0015】
本発明の処理液は、（ａ）成分を、糖質の凝集抑制の観点から、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、更に好ましくは０．７５質量％以上、そして、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは２質量％以下含有する。
【0016】
＜任意成分等＞
［（ｂ）成分］
本発明の処理液は、デンプンを含有する汚れへの（ａ）成分の浸透を助ける観点、及び乾燥したデンプンへの水の浸透を助ける観点から（ｂ）成分として、浸透剤を含有することが好ましい。
（ｂ）成分としては、界面活性剤が挙げられる。
（ｂ）成分としては、両性界面活性剤、アミンオキシド型界面活性剤、非イオン界面活性剤、及び陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤が挙げられる。
［（ｂ）成分］
本発明の処理液は、デンプンを含有する汚れへの（ａ）成分の浸透を助ける観点、及び乾燥したデンプンへの水の浸透を助ける観点から（ｂ）成分として、浸透剤を含有することが好ましい。
（ｂ）成分としては、界面活性剤が挙げられる。
（ｂ）成分としては、両性界面活性剤、アミンオキシド型界面活性剤、非イオン界面活性剤、及び陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤が挙げられる。
【0017】
両性界面活性剤としては、スルホベタイン及びカルボベタインから選ばれる１種以上の両性界面活性剤が挙げられる。
【0018】
スルホベタインとしては、アルキル基の炭素数が好ましくは１０以上、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下のＮ－アルキル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－スルホプロピルアンモニウムスルホベタイン、アルキル基の炭素数が好ましくは１０以上、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下のＮ－アルキル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－ヒドロキシスルホプロピル）アンモニウムスルホベタイン、アルカノイル基の炭素数が好ましくは１０以上、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下のＮ－アルカノイルアミノプロピル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－スルホプロピルアンモニウムスルホベタイン、アルカノイル基の炭素数が好ましくは１０以上、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下のＮ－アルカノイルアミノプロピル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－ヒドロキシスルホプロピル）アンモニウムスルホベタインが挙げられる。
【0019】
カルボベタインとしては、アルキル基の炭素数が好ましくは１０以上、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下のＮ－アルキル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－カルボキシメチルアンモニウムベタインや下記一般式（ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
【0020】
【化1】
【0021】
〔式中、Ｒ１ｂは炭素数７以上２１以下のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｒ２ｂはプロピレン基を示し、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ独立に、炭素数１以上３以下のアルキル基を示す。〕
【0022】
一般式（ｂ１）中、Ｒ１ｂは、好ましくは９以上、より好ましくは１１以上、そして、好ましくは１５以下、より好ましくは１３以下のアルキル基又はアルケニル基であり、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基が好ましい。
一般式（ｂ１）中、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ独立に、好ましくはメチル基である。
一般式（ｂ１）中、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ独立に、好ましくはメチル基である。
【0023】
アミンオキシド型界面活性剤としては、下記一般式（ｂ２）の化合物が好適である。
【0024】
【化2】
【0025】
〔式中、Ｒ５ｂは炭素数８以上２２以下の炭化水素基、好ましくはアルキル基又はアルケニル基、より好ましくはアルキル基を示し、Ｒ６ｂ及びＲ７ｂは、同一又は異なって、炭素数１以上３以下のアルキル基を示す。Ｄは－ＮＨＣ（＝Ｏ）－基又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－基を示し、Ｅは炭素数１以上５以下のアルキレン基を示す。ｍ及びｐは、ｍ＝０かつｐ＝０又はｍ＝１かつｐ＝１を示す。〕
【0026】
上記一般式（ｂ２）において、Ｒ５ｂは、好ましくは炭素数１０以上１８以下のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１２以上１６以下のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１２以上１４以下のアルキル基であり、より更に好ましくは炭素数１２のアルキル基である。Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂは、好ましくは炭素数１のメチル基である。
【0027】
非イオン界面活性剤としては、グリセリルエーテル型界面活性剤、グリコシド型界面活性剤、アルコールアルコキシレート型界面活性剤などが挙げられる。
【0028】
グリセリルエーテル型界面活性剤としては、下記一般式（ｂ３）で示される化合物が好ましい。
Ｒ８ｂ－［ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２］ｕ－ＯＨ （ｂ３）
〔式中、Ｒ８ｂは炭素数８以上１０以下のアルキル基であり、ｕは１以上３以下の数である。〕
一般式（ｂ３）中、Ｒ８ｂは分岐鎖アルキル基が好ましく、２－エチルヘキシル基、イソノニル基、及びイソデシル基から選ばれる分岐鎖アルキル基がより好ましく、２－エチルヘキシル基が更に好ましい。ｕは１又は２の数が好ましく、１がより好ましい。
グリセリルエーテル型界面活性剤は、２－エチルヘキシルモノグリセリルエーテルが更に好ましい。
Ｒ８ｂ－［ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２］ｕ－ＯＨ （ｂ３）
〔式中、Ｒ８ｂは炭素数８以上１０以下のアルキル基であり、ｕは１以上３以下の数である。〕
一般式（ｂ３）中、Ｒ８ｂは分岐鎖アルキル基が好ましく、２－エチルヘキシル基、イソノニル基、及びイソデシル基から選ばれる分岐鎖アルキル基がより好ましく、２－エチルヘキシル基が更に好ましい。ｕは１又は２の数が好ましく、１がより好ましい。
グリセリルエーテル型界面活性剤は、２－エチルヘキシルモノグリセリルエーテルが更に好ましい。
【0029】
グリコシド型界面活性剤としては、炭素数８以上１６以下の炭化水素基を有するグリコシド型界面活性剤が挙げられる。炭素数８以上１６以下の炭化水素基を有するグリコシド型界面活性剤としては、下記一般式（ｂ４）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ９ｂ（ＯＲ１０ｂ）ｘＧｙ （ｂ４）
〔式中、Ｒ９ｂは炭素数８以上１６以下の炭化水素基を示し、Ｒ１０ｂは炭素数２以上４以下のアルキレン基を示し、Ｇは炭素数５又は６の糖に由来する残基を示し、ｘはその平均値が０以上５以下となる数を示し、ｙはその平均値が１以上３以下となる数を示す。〕
Ｒ９ｂ（ＯＲ１０ｂ）ｘＧｙ （ｂ４）
〔式中、Ｒ９ｂは炭素数８以上１６以下の炭化水素基を示し、Ｒ１０ｂは炭素数２以上４以下のアルキレン基を示し、Ｇは炭素数５又は６の糖に由来する残基を示し、ｘはその平均値が０以上５以下となる数を示し、ｙはその平均値が１以上３以下となる数を示す。〕
【0030】
アルコールアルコキシレート型界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキル又はアルケニルエーテルが挙げられる。具体的には、下記一般式（ｂ５）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ１１ｂ－Ｏ－（ＡＯ）ｑ－Ｈ （ｂ５）
〔式中、Ｒ１１ｂは、炭素数８以上１８以下のアルキル基又はアルケニル基、ＡＯは炭素数２又は３のアルキレンオキシ基、ｑは平均付加モル数であり、１以上３０以下の数である。〕
Ｒ１１ｂ－Ｏ－（ＡＯ）ｑ－Ｈ （ｂ５）
〔式中、Ｒ１１ｂは、炭素数８以上１８以下のアルキル基又はアルケニル基、ＡＯは炭素数２又は３のアルキレンオキシ基、ｑは平均付加モル数であり、１以上３０以下の数である。〕
【0031】
陰イオン界面活性剤としては、炭素数８以上、好ましくは１０以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下の炭化水素基、好ましくはアルキル基を有する陰イオン界面活性剤が好ましく、アルキルアリールスルホン酸型界面活性剤、硫酸エステル型界面活性剤、アルカンスルホン酸型界面活性剤、オレフィンスルホン酸型界面活性剤、及びスルホ脂肪酸エステル型界面活性剤から選ばれる１種以上の陰イオン界面活性剤が好ましい。
【0032】
アルキルアリールスルホン酸型界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩が挙げられる。具体的には、炭素数６以上１５以下のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸塩が挙げられる。
【0033】
硫酸エステル型界面活性剤としては、炭素数８以上２０以下の炭化水素基と、硫酸エステル基とを有する陰イオン界面活性剤が挙げられる。炭化水素基は、洗浄力の観点から、炭素数が８以上、好ましくは１０以上、より好ましくは１２以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１２以下である。炭化水素基は、アルキル基が好ましい。
硫酸エステル型界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。
アルキル硫酸エステル塩としては、炭素数が８以上、好ましくは１０以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１２以下のアルキル基、更に直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル硫酸エステル塩が好適である。
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩としては、炭素数８以上、好ましくは１０以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１２以下のアルキル基、更に直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有し、炭素数２以上３以下のオキシアルキレン基の平均付加モル数が、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．３以上、更に好ましくは０．４以上、そして、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、更に好ましくは２．０以下である、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が好適である。オキシアルキレン基はエチレン基が好ましい。
硫酸エステル型界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。
アルキル硫酸エステル塩としては、炭素数が８以上、好ましくは１０以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１２以下のアルキル基、更に直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル硫酸エステル塩が好適である。
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩としては、炭素数８以上、好ましくは１０以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１２以下のアルキル基、更に直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有し、炭素数２以上３以下のオキシアルキレン基の平均付加モル数が、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．３以上、更に好ましくは０．４以上、そして、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、更に好ましくは２．０以下である、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が好適である。オキシアルキレン基はエチレン基が好ましい。
【0034】
アルカンスルホン酸型界面活性剤としては、アルカン部分の炭素数が８以上、好ましくは１０以上、より好ましくは１４以上、そして、２０以下、好ましくは１８以下のアルカンスルホン酸塩が挙げられる。
【0035】
オレフィンスルホン酸型界面活性剤としては、α－オレフィンスルホン酸塩、内部オレフィンスルホン酸塩が挙げられる。α－オレフィンスルホン酸塩は、オレフィン部分の炭素数が８以上、好ましくは１０以上、より好ましくは１４以上、そして、２２以下、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下を挙げることができる。また内部オレフィンスルホン酸塩は、オレフィン部分の炭素数が８以上、好ましくは１２以上、より好ましくは１６以上、そして、２４以下、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下である。
【0036】
スルホ脂肪酸エステル型界面活性剤としては、脂肪酸部分の炭素数が１０以上１８以下のα－スルホ脂肪酸塩、脂肪酸部分の炭素数が１０以上１８以下であり、エステル部分の炭素数が１以上５以下であるα－スルホ脂肪酸低級アルキルエステル塩が挙げられる。
【0037】
陰イオン界面活性剤の塩として、ナトリウム塩、アンモニウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩等から選ばれる無機塩、モノエタノールアンモニウム塩、ジエタノールアンモニウム塩、トリエタノールアンモニウム塩、モルホリニウム塩等から選ばれる有機アンモニウム塩が好適である。
【0038】
陰イオン界面活性剤は、浸透性の観点から、好ましくはアルキル基の炭素数が１０以上１４以下のアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、及びポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩（オキシアルキレン基、好ましくはオキシエチレン基の平均付加モル数は０．４以上、２．０以下）から選ばれる１種以上の陰イオン界面活性剤である。
【0039】
（ｂ）成分としては、（ｂｘ）下記のデンプン膨潤率が１５０％以上３００％以下である界面活性剤〔以下、（ｂｘ）成分という〕が挙げられる。（ｂ）成分中の（ｂｘ）成分の割合が６０質量％以上１００質量％以下であってよい。
＜デンプン膨潤率＞
内径４．２０±０．０２ｍｍ、長さ１７８ｍｍのガラス製ＮＭＲチューブに、馬鈴薯デンプンの含有量が１０質量％である水混合液を１ｍｌ加え、キャップをした後、２５℃で１時間静置し、デンプン沈殿物の高さを測定し、基準の沈殿物高さＬ０（ｍｍ）とする。次に、キャップを外して前記ＮＭＲチューブの内容物に、測定対象の界面活性剤の１００ｍＭの水溶液１ｍｌを加え、キャップをした後、２０００ｒｐｍの条件で５分攪拌し、２５℃で２４時間静置し、デンプン沈殿物の高さを測定し、静置後の沈殿物の高さＬ２４とする。デンプン膨潤率を下記式により求める。なお、撹拌機としてはIKA MS 3 Basic Vortexer、Overstocklabequipment社製を用いることができる。
デンプン膨潤率（％）＝（Ｌ２４／Ｌ０）×１００
＜デンプン膨潤率＞
内径４．２０±０．０２ｍｍ、長さ１７８ｍｍのガラス製ＮＭＲチューブに、馬鈴薯デンプンの含有量が１０質量％である水混合液を１ｍｌ加え、キャップをした後、２５℃で１時間静置し、デンプン沈殿物の高さを測定し、基準の沈殿物高さＬ０（ｍｍ）とする。次に、キャップを外して前記ＮＭＲチューブの内容物に、測定対象の界面活性剤の１００ｍＭの水溶液１ｍｌを加え、キャップをした後、２０００ｒｐｍの条件で５分攪拌し、２５℃で２４時間静置し、デンプン沈殿物の高さを測定し、静置後の沈殿物の高さＬ２４とする。デンプン膨潤率を下記式により求める。なお、撹拌機としてはIKA MS 3 Basic Vortexer、Overstocklabequipment社製を用いることができる。
デンプン膨潤率（％）＝（Ｌ２４／Ｌ０）×１００
【0040】
（ｂ）成分は、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤、アミンオキシド型界面活性剤、及びアルキルグリセリルエーテル型界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤が好ましい。陰イオン界面活性剤は、（ａ）成分の効果に影響しやすい傾向にあるため、浸透性を向上させる観点から、（ｂ）成分中の陰イオン界面活性剤の割合は、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、より更に好ましくは５質量％以下である。
【0041】
本発明の処理液が（ｂ）成分を含有する場合、（ａ）成分の含有量と（ｂ）成分の含有量との質量比である（ａ）／（ｂ）は、（ａ）成分の糖質の凝集抑制効果を高める観点から、好ましくは０．２５以上、より好ましくは０．５以上、更に好ましくは１以上、そして、好ましくは５以下、より好ましくは４以下、更に好ましくは３以下である。
【0042】
本発明の処理液は、（ｂ）成分を、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、更に好ましくは０．７５質量％以上、そして、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下含有する。
【0043】
［（ｃ）成分］
本発明の処理液は、安定性の観点から、（ｃ）成分として、有機溶剤を含有することが好ましい。（ｂ）成分として非イオン界面活性剤を用いた場合は、処理液が濁りやすくなることがあるため、その改善に（ｃ）成分を用いることが好ましい。
本発明の処理液は、安定性の観点から、（ｃ）成分として、有機溶剤を含有することが好ましい。（ｂ）成分として非イオン界面活性剤を用いた場合は、処理液が濁りやすくなることがあるため、その改善に（ｃ）成分を用いることが好ましい。
【0044】
（ｃ）成分としては、アルキル基の炭素数が炭素数１以上６以下のアルキルグリコールエーテルが好ましく、下記一般式（ｃ１）の化合物がより好ましい。
Ｒ1ｃ－（ＯＲ２ｃ）ｒ－ＯＨ （ｃ１）
［一般式（ｃ１）においてＲ1ｃは炭素数１以上、好ましくは２以上、更に好ましくは３以上、そして、６以下、好ましくは５以下のアルキル基であり、Ｒ２ｃは炭素数２又は３のアルキレン基、好ましくはエチレン基であり、ｒは１～３の整数である。］
（ｃ）成分としては、より具体的には、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ブチルグリコール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノプロピルエーテルから選ばれる１種以上が挙げられる。
Ｒ1ｃ－（ＯＲ２ｃ）ｒ－ＯＨ （ｃ１）
［一般式（ｃ１）においてＲ1ｃは炭素数１以上、好ましくは２以上、更に好ましくは３以上、そして、６以下、好ましくは５以下のアルキル基であり、Ｒ２ｃは炭素数２又は３のアルキレン基、好ましくはエチレン基であり、ｒは１～３の整数である。］
（ｃ）成分としては、より具体的には、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ブチルグリコール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノプロピルエーテルから選ばれる１種以上が挙げられる。
【0045】
本発明の処理液は、安定性の観点から、（ｃ）成分を、好ましくは２質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは４質量％以上、そして、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは８質量％以下、更に好ましくは６質量％以下含有する。
【0046】
本発明の処理液が（ｃ）成分を含有する場合、（ａ）成分の含有量と（ｃ）成分の含有量との質量比である（ａ）／（ｃ）は、安定性をより高める観点から、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．１５以上、そして、好ましくは０．５以下、より好ましくは０．３以下である。
【0047】
本発明の処理液が（ｂ）成分と（ｃ）成分を含有する場合、（ｂ）成分の含有量と（ｃ）成分の含有量との質量比である（ｂ）／（ｃ）は、安定性をより高める観点から、好ましくは０．４以上、より好ましくは０．５以上、そして、好ましくは１．３以下、より好ましくは２．０以下である。この質量比は、本発明のデンプン汚れ固着防止剤が（ｂ）成分として非イオン界面活性剤を含有する場合により好ましい。
【0048】
［その他の成分等］
本発明の処理液は、本発明の目的を損なわない範囲で、ハイドロトロープ剤、分散剤、ｐＨ調整剤、増粘剤、粘度調整剤、香料、着色剤、酸化防止剤、防腐剤、抑泡剤、漂白剤、漂白活性化剤などの他の成分（ただし、（ａ）成分、任意の（ｂ）成分、（ｃ）成分に該当しないもの）を含有することができる。
本発明の処理液は、本発明の目的を損なわない範囲で、ハイドロトロープ剤、分散剤、ｐＨ調整剤、増粘剤、粘度調整剤、香料、着色剤、酸化防止剤、防腐剤、抑泡剤、漂白剤、漂白活性化剤などの他の成分（ただし、（ａ）成分、任意の（ｂ）成分、（ｃ）成分に該当しないもの）を含有することができる。
【0049】
本発明の処理液は、水を含有することが好ましい。本発明の処理液は、（ａ）成分及び水を含有する液体組成物として用いることが好ましい。
【0050】
本発明の処理液は、水を、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは８５質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上、そして、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは９７質量％以下、更に好ましくは９７質量％以下含有する。
【0051】
本発明の処理液は、ｐＨが、手へのマイルド性の観点から、好ましくは２以上、より好ましくは４以上、更に好ましくは５以上、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは９以下、更に好ましくは８以下である。ｐＨは２５℃の時のものであってよい。なお、本発明では、処理液のｐＨは、ガラス電極法により測定される。
【0052】
本発明では、本発明の処理液をデンプン汚れが付着した対象物に接触させた後、汚れの易洗浄化の観点から、好ましくは３０分超、より好ましくは６０分超、更に好ましくは９０分超、特に好ましくは１２０分超、そして、４８０分以下、より好ましくは３６０分以下、更に好ましくは２４０分以下、放置してからデンプン汚れを除去する。この場合、最初に前記処理液が食器に接触した時点を放置の開始としてよい。なお、放置する際の温度は、室温でよく、例えば、１０℃以上３０℃以下が挙げられる。
【0053】
本発明のデンプン汚れの除去方法では、デンプン汚れが付着した対象物を、前記処理液に浸漬させて接触させてもよいが、効率的に洗浄力を高める観点から、前記処理液を噴霧又は塗布して、前記対象物に接触させる方法が好ましい。
本発明の処理液を、デンプン汚れが付着した対象物に接触させる方法は、噴霧又は塗布が好ましく、液滴状にして噴霧する又は泡状にして塗布する方法がより好ましい。具体的には、スプレー手段を用いる、すなわち本発明の処理液を、スプレイヤーを具備する容器に充填してなる洗浄用前処理剤物品を用いるのが好ましい。本発明は、本発明の処理液を、スプレイヤーを具備する容器に充填してなる、スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品を提供する。
本発明では、前記処理液を噴霧して前記対象物に接触させることができる。
本発明では、前記処理液を泡状で前記対象物に接触させることができる。
本発明では、前記処理液を泡状に噴霧して前記対象物に接触させることができる。
本発明の処理液を、デンプン汚れが付着した対象物に接触させる方法は、噴霧又は塗布が好ましく、液滴状にして噴霧する又は泡状にして塗布する方法がより好ましい。具体的には、スプレー手段を用いる、すなわち本発明の処理液を、スプレイヤーを具備する容器に充填してなる洗浄用前処理剤物品を用いるのが好ましい。本発明は、本発明の処理液を、スプレイヤーを具備する容器に充填してなる、スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品を提供する。
本発明では、前記処理液を噴霧して前記対象物に接触させることができる。
本発明では、前記処理液を泡状で前記対象物に接触させることができる。
本発明では、前記処理液を泡状に噴霧して前記対象物に接触させることができる。
【0054】
前記スプレイヤーを具備する容器は、トリガー式スプレー容器、ポンプ式スプレー容器等の噴射剤を使用しない手動式スプレー装置、噴射剤を用いるエアゾール等が挙げられる。前記スプレイヤーを具備する容器は、内容物を液滴状又は泡状にして噴霧又は塗布することができるトリガー式スプレーが好ましく、内容物を液滴状に噴霧する機構を備えたトリガー式スプレー又は泡を形成する機構（泡形成機構）を備えたトリガー式スプレーがよ
り好ましい。
り好ましい。
【0055】
前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品において、前記処理液を液滴状に噴霧する機構を備えたトリガー式スプレーを用いる場合、前記処理液を入れるスプレー容器の噴射ノズルの噴口径は、スプレーのし易さや、噴射された液滴が荒くなく、直線状にスプレーされず、スプレーできる面積が極端に狭くならないために、好ましくは０．１ｍｍ以上、より好ましくは０．３ｍｍ以上、そして、好ましくは２ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下の範囲である。
液滴状に噴霧する機構を備えたトリガー式スプレーを用いる場合、前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品は、１回の操作で、好ましくは０．１ｍＬ以上、より好ましくは０．３ｍＬ以上、そして、好ましくは５ｍＬ以下、より好ましくは２ｍＬ以下の組成物を噴霧する。
液滴状に噴霧する機構を備えたトリガー式スプレーを用いる場合、前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品は、１回の操作で、好ましくは０．１ｍＬ以上、より好ましくは０．３ｍＬ以上、そして、好ましくは５ｍＬ以下、より好ましくは２ｍＬ以下の組成物を噴霧する。
【0056】
また前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品において、泡形成機構を備えたトリガー式スプレーを用いる場合、好ましくはスピンエレメント及び直径４～８ｍｍの円形状の空間部分に棒状の突起を数個設置された液体通過板を有するものが好適である。ここでスピンエレメントとは、スピンエレメントを通じて液状物の流れにスピンを与え、最後にノズルから噴出する機構であり、その詳細な構造としては特開平８－３３２４２２号公報や特開平８－１０８１０２号公報の図４（ｂ）、特開２００２－６８２６５号公報の図１などを参考にすることができる。
【0057】
泡形成機構を備えたトリガー式スプレーを用いる場合、前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品は、１回の操作で、好ましくは０．５ｍＬ以上、より好ましくは１ｍＬ以上、そして、好ましくは３０ｍＬ以下、より好ましくは１５ｍＬ以下、更に好ましくは５ｍＬ以下の前記処理液を噴霧する。
【0058】
泡形成機構のもう一つの部材である液体通過板は、直径５～７ｍｍの円形状の空間部分に棒状の突起を好ましくは３～８個設置されたものであり、通過する板を平面で見た場合に、好ましくは幅０．８～１．２ｍｍ、長さ２～４ｍｍの長方形状の棒状の突起が好適である。また、棒状の突起を除いた空間部分に対する棒状の突起の占める面積は、好ましくは３０面積％以上、より好ましくは４０面積％以上、そして、好ましくは９０面積％以下、より好ましくは８０面積％以下、更に好ましくは７０面積％以下であり、このような液体通過板を設置することで、垂直表面への泡の付着滞留性が良好になる。
【0059】
前記スプレー容器入り洗浄用前処理剤物品の容器は、一般に使用されている容器を用いることができる。例えば、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートを原料として得られるものであり、ブロー成形などによって製造することができる。容器の肉厚は底面と側面と異なってもよく、０．０１～２ｍｍが好ましく、容器の容量は１００～１０００ｍＬが好ましい。容器に充填される本発明の処理液の量は、取り扱い上、２００～５００ｍＬが望ましい。また液の充填は、常識的な空隙を残して行われる。
【0060】
本発明の処理液を、デンプン汚れが付着した食器などの対象物に接触させた後は、当該対象物を３０分超放置してからデンプン汚れを除去すればよい。デンプン汚れの除去は、水を含有し前記処理液とは異なる液体媒体［以下洗浄液という］の接触により行うのが好ましい。またデンプン汚れ除去には、必要に応じてスポンジ等の可撓性吸収体や布巾等の布製品を使用して、前記食器を擦るなどの操作を行い、デンプン汚れを除去するのが好ましい。
【0061】
洗浄液としては水であってもよいが、界面活性剤を含有する水溶液が好適である。界面活性剤としては、（ｂ）成分として挙げた陰イオン界面活性剤〔以下、（ｂ１）成分という〕が好ましい。具体的には、アルキル基の炭素数が８以上１８以下のポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、アルキル基の炭素数が８以上１８以下のアルキル硫酸エステル塩、及び炭素数５以上１８以下の脂肪アルコールとスルホコハク酸とのモノ又はジエステルの塩から選ばれる１種以上の陰イオン界面活性剤が好ましい。本発明では（ｂ１）成分を、好ましくは５質量％以上、より好ましくは７質量％以上、更に好ましくは９質量％以上、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１８質量％以下、更に好ましくは１４質量％以下、及び水を含有する洗浄液でデンプン汚れが付着した食器から汚れを除去することが好ましい。
【0062】
本発明の洗浄液は、（ｂ１）成分に加えて、上述の（ｂ）成分である両性界面活性剤、アミンオキシド型界面活性剤、及び非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤〔以下、（ｂ２）成分という〕を含有することがデンプンを含有する汚れの除去効果の点から好ましい。洗浄液は、（ｂ２）成分を、好ましくは３質量％以上、より好ましくは５質量％以上、更に好ましくは７質量％以上、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下含有する。
また、デンプンを含有する汚れの除去効果の点から、洗浄液中の（ｂ１）成分の含有量と（ｂ２）成分の含有量との質量比である（ｂ１）／（ｂ２）が、好ましくは０．９以上２．０以下である。
また、デンプンを含有する汚れの除去効果の点から、洗浄液中の（ｂ１）成分の含有量と（ｂ２）成分の含有量との質量比である（ｂ１）／（ｂ２）が、好ましくは０．９以上２．０以下である。
【0063】
デンプン汚れが付着した対象物、例えば食器に、本発明の処理液を接触させて３０分超放置した後、洗浄液、例えば、水と界面活性剤を含有する洗浄液で処理することにより、労力をかけずとも、容易にデンプン汚れを除去することが可能となり、洗浄液で処理後は水で界面活性剤を濯ぎ除去するだけで高い洗浄効果を得ることができる。
【0064】
本発明は、対象物が食器であることが好ましい。本発明の態様として、本発明の処理液を、デンプン汚れが付着した食器に接触させた後、当該食器を３０分超放置してからデンプン汚れを除去する、デンプン汚れの除去方法を挙げることができる。
【実施例0065】
表１に示す成分を用いて、表１に示す処理液を調製し、以下の項目について評価を行った。結果を表１に示す。表１の処理液は、常法により調製した。即ち、適量のイオン交換水（６０℃）に（ａ）成分、（ｂ）成分及びその他の成分を添加し、６０℃で溶解した後、水酸化ナトリウム又は／及び塩酸を添加してｐＨ（２５℃）を表１に示す値に調整した後、室温（２５℃）に冷却した。なお、表１中の配合成分の質量％は、全て有効分に基づく数値である。
【0066】
＜洗浄力評価１＞
カレー（ボンカレー、大塚食品(株)製）、米飯、卵を１：１：１の質量比で混合したものを作製し、モデル複合汚れとした。このモデル複合汚れと調製した処理液とを質量比２：１で混合し、混合液を調製した。２５ｍｍ（横）×７５ｍｍ（縦）×１ｍｍ（厚み）のガラス試験片の質量を４桁天秤で測定した（ｘ）。前記ガラス試験片の片面に、調製した混合液を、０．３ｇとなるように均一に塗布したものを作成し、汚れピースとした。同汚れピースの質量を４桁天秤で測定した（ｙ）。この汚れピースを塗布から１８０分間、２５℃で放置したのちに、イオン交換水で１０秒間すすいだ。すすぎ終了後、汚れピースを乾燥させた後、４桁天秤で質量を測定した（ｚ）。以下の式で洗浄率を求めた。
洗浄率（％）＝｛（ｙ）－（ｚ）｝／｛（ｙ）－（ｘ）｝×１００
洗浄力評価１において、洗浄率が高いほどデンプンの凝集が抑制され、その結果、すすぎによるデンプンの除去が容易になったと判断できる。
カレー（ボンカレー、大塚食品(株)製）、米飯、卵を１：１：１の質量比で混合したものを作製し、モデル複合汚れとした。このモデル複合汚れと調製した処理液とを質量比２：１で混合し、混合液を調製した。２５ｍｍ（横）×７５ｍｍ（縦）×１ｍｍ（厚み）のガラス試験片の質量を４桁天秤で測定した（ｘ）。前記ガラス試験片の片面に、調製した混合液を、０．３ｇとなるように均一に塗布したものを作成し、汚れピースとした。同汚れピースの質量を４桁天秤で測定した（ｙ）。この汚れピースを塗布から１８０分間、２５℃で放置したのちに、イオン交換水で１０秒間すすいだ。すすぎ終了後、汚れピースを乾燥させた後、４桁天秤で質量を測定した（ｚ）。以下の式で洗浄率を求めた。
洗浄率（％）＝｛（ｙ）－（ｚ）｝／｛（ｙ）－（ｘ）｝×１００
洗浄力評価１において、洗浄率が高いほどデンプンの凝集が抑制され、その結果、すすぎによるデンプンの除去が容易になったと判断できる。
【0067】
＜洗浄力評価２＞
カレー（ボンカレー、大塚食品（株）製）、米飯、卵を１：１：１の質量比で混合したモデル複合汚れ１ｇを白色陶器皿（直径２３．５ｃｍ、カタログナンバー：６１８－３－６０９、玉渕９吋リムミート皿、食器カタログ器蔵記載）に塗り広げたモデル汚染食器を作製した。
表１の実施例１－１～１－９の各組成物をトリガー式スプレー容器（マジックリンハンディスプレー、花王（株）製）に充填し、水平に置かれたモデル汚染食器５枚に１枚当たり３回均一にモデル複合汚れに付着するようにスプレーし、１８０分間２５℃で放置した。
その後、下記洗浄液Ａを1ｇ及び２５℃に温調した水道水３０ｇを染み込ませた市販のスポンジ（商品名：キクロンＡ、キクロン株式会社）を手で５回揉むことで泡を立てた。このスポンジを用いて、熟練したパネラーにより放置後のモデル汚染食器を一定の手の速度で擦りながら、１枚ずつこすり洗いを行い汚れの落ちやすさを評価した。
また、表１の比較例１－１～１－８の組成物を用いて同様の評価を行った。
その結果、表１の各実施例組成物を用いた場合は、５枚のモデル汚染食器すべてにおいて１枚当たりこすり洗い５回以下行うことで汚れが完全に除去できたが、表１の各比較例組成物を用いた場合は汚れを完全に除去するためには５枚のモデル汚染食器すべてにおいて１０回以上こすり洗いをする必要があった。
洗浄液Ａ．
・ポリオキシエチレン（平均付加モル数２．０モル）アルキル（炭素数１２）硫酸エステル塩（１０質量％）
・Ｎ-ラウリル－Ｎ，Ｎ－ジメチル-Ｎ-（2-ヒドロキシスルホプロピルプロピル）アンモ
ニウムスルホベタイン（４．５質量％）、
・ラウリルジメチルアミンオキサイド（４．５質量％）、
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（６．０質量％）
・水 （残部合計は１００質量％）
・２０℃におけるｐＨ７．８
カレー（ボンカレー、大塚食品（株）製）、米飯、卵を１：１：１の質量比で混合したモデル複合汚れ１ｇを白色陶器皿（直径２３．５ｃｍ、カタログナンバー：６１８－３－６０９、玉渕９吋リムミート皿、食器カタログ器蔵記載）に塗り広げたモデル汚染食器を作製した。
表１の実施例１－１～１－９の各組成物をトリガー式スプレー容器（マジックリンハンディスプレー、花王（株）製）に充填し、水平に置かれたモデル汚染食器５枚に１枚当たり３回均一にモデル複合汚れに付着するようにスプレーし、１８０分間２５℃で放置した。
その後、下記洗浄液Ａを1ｇ及び２５℃に温調した水道水３０ｇを染み込ませた市販のスポンジ（商品名：キクロンＡ、キクロン株式会社）を手で５回揉むことで泡を立てた。このスポンジを用いて、熟練したパネラーにより放置後のモデル汚染食器を一定の手の速度で擦りながら、１枚ずつこすり洗いを行い汚れの落ちやすさを評価した。
また、表１の比較例１－１～１－８の組成物を用いて同様の評価を行った。
その結果、表１の各実施例組成物を用いた場合は、５枚のモデル汚染食器すべてにおいて１枚当たりこすり洗い５回以下行うことで汚れが完全に除去できたが、表１の各比較例組成物を用いた場合は汚れを完全に除去するためには５枚のモデル汚染食器すべてにおいて１０回以上こすり洗いをする必要があった。
洗浄液Ａ．
・ポリオキシエチレン（平均付加モル数２．０モル）アルキル（炭素数１２）硫酸エステル塩（１０質量％）
・Ｎ-ラウリル－Ｎ，Ｎ－ジメチル-Ｎ-（2-ヒドロキシスルホプロピルプロピル）アンモ
ニウムスルホベタイン（４．５質量％）、
・ラウリルジメチルアミンオキサイド（４．５質量％）、
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（６．０質量％）
・水 （残部合計は１００質量％）
・２０℃におけるｐＨ７．８
【0068】
【表1】
【0069】
表中、（ｂ）成分は以下のものである。
・ＡＥＳ：ポリオキシエチレン（平均付加モル数２．０）アルキル（炭素数１２）エーテル硫酸エステルナトリウム、エマール２２７－ｐＨ１１、花王（株）製、デンプン膨潤率１００％
・ＧＥ－ＥＨ：２－エチルヘキシルモノグリセリルエーテル、デンプン膨潤率２４０％
・アミンオキシド：一般式（ｂ２）中、Ｒ５ｂが炭素数１２のアルキル基、Ｒ６ｂ及びＲ７ｂメチル基、ｍ＝０、ｐ＝０の化合物、アンヒトール２０Ｎ、花王（株）製、デンプン膨潤率２２６％
・スルホベタイン：Ｎ－ラウリル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－ヒドロキシスルホプロピル）アンモニウムスルホベタイン、アンヒトール２０ＨＤ、花王（株）製、デンプン膨潤率２１０％
・ＰＰＧ４００：重量平均分子量４００のポリプロピレングリコール
・ＡＥＳ：ポリオキシエチレン（平均付加モル数２．０）アルキル（炭素数１２）エーテル硫酸エステルナトリウム、エマール２２７－ｐＨ１１、花王（株）製、デンプン膨潤率１００％
・ＧＥ－ＥＨ：２－エチルヘキシルモノグリセリルエーテル、デンプン膨潤率２４０％
・アミンオキシド：一般式（ｂ２）中、Ｒ５ｂが炭素数１２のアルキル基、Ｒ６ｂ及びＲ７ｂメチル基、ｍ＝０、ｐ＝０の化合物、アンヒトール２０Ｎ、花王（株）製、デンプン膨潤率２２６％
・スルホベタイン：Ｎ－ラウリル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－ヒドロキシスルホプロピル）アンモニウムスルホベタイン、アンヒトール２０ＨＤ、花王（株）製、デンプン膨潤率２１０％
・ＰＰＧ４００：重量平均分子量４００のポリプロピレングリコール