特開 2024-166827 液晶表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024166827

(43)【公開日】2024-11-29

(54)【発明の名称】液晶表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1335 20060101AFI20241122BHJP

   G02F 1/1343 20060101ALI20241122BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALI20241122BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1335 520

G02F1/1343

G02F1/1368

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023083201

(22)【出願日】2023-05-19

(71)【出願人】

【識別番号】520487808

【氏名又は名称】シャープディスプレイテクノロジー株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000914

【氏名又は名称】弁理士法人ＷｉｓｅＰｌｕｓ

(72)【発明者】

【氏名】小出 貴子

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 孝

【テーマコード（参考）】

2H092

2H192

2H291

【Ｆターム（参考）】

2H092GA13

2H092HA03

2H092HA05

2H092JA24

2H092JB05

2H092JB08

2H092JB54

2H092NA01

2H092PA08

2H092PA09

2H092QA06

2H092QA07

2H192AA24

2H192BC13

2H192BC64

2H192BC74

2H192BC82

2H192EA04

2H192EA43

2H192JA05

2H192JA13

2H291FA02Y

2H291FA13Y

2H291GA19

2H291HA06

2H291HA11

2H291LA21

2H291NA13

2H291NA29

2H291NA35

2H291NA37

(57)【要約】

【課題】広い色再現範囲を実現することができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板と、上記第１基板に対向する第２基板と、上記第１基板及び上記第２基板の間に設けられた液晶層と、を備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、上記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域と、を含み、上記複数の画素の少なくとも１つは、更に、上記透過領域の内側に配置された遮光領域を含み、上記第２基板は、上記液晶層側に向かって順に、第２基板側絶縁層と、カラーフィルタ層と、を備え、上記第２基板側絶縁層は、上記反射領域及び上記遮光領域に配置され、上記透過領域における上記カラーフィルタ層の膜厚は、上記反射領域における上記カラーフィルタ層の膜厚よりも大きい、液晶表示装置。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に設けられた液晶層と、
を備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域と、を含み、
前記複数の画素の少なくとも１つは、更に、前記透過領域の内側に配置された遮光領域を含み、
前記第２基板は、前記液晶層側に向かって順に、第２基板側絶縁層と、カラーフィルタ層と、を備え、
前記第２基板側絶縁層は、前記反射領域及び前記遮光領域に配置され、
前記透過領域における前記カラーフィルタ層の膜厚は、前記反射領域における前記カラーフィルタ層の膜厚よりも大きい、ことを特徴とする液晶表示装置。

【請求項2】

前記遮光領域を有する画素の、前記透過領域における前記カラーフィルタ層の膜厚は、前記遮光領域を有さない画素の、前記透過領域における前記カラーフィルタ層の膜厚よりも大きい、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項3】

前記反射領域における前記第２基板側絶縁層の膜厚は、前記反射領域における前記カラーフィルタ層の膜厚の０．５倍以上、２倍以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項4】

前記遮光領域における前記第２基板側絶縁層の膜厚は、前記遮光領域における前記カラーフィルタ層の膜厚の０．５倍以上、２倍以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項5】

前記複数の画素は、第１画素電極を有する１画素、第２画素電極を有する第２画素、及び、第３画素電極を有する第３画素を含み、
前記第１画素電極は、前記第３画素電極に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項6】

前記第１画素、前記第２画素及び前記第３画素は、サブピクセルを構成する、ことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。

【請求項7】

前記第２画素電極は、前記第１画素電極に隣接して配置され、
前記第３画素電極は、前記第２画素電極の前記第１画素電極とは反対側に配置される、ことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。

【請求項8】

前記第１基板は、前記遮光領域に対応して設けられた遮光部と、前記反射領域に対応して設けられた反射層と、前記反射層の前記液晶層側に配置された絶縁層と、前記絶縁層の前記液晶層側に配置された画素電極とを有する、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項9】

前記絶縁層は、前記透過領域に透過開口溝を有する、ことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。

【請求項10】

前記第１基板は、前記遮光領域に対応して設けられた遮光部と、前記反射領域に対応して設けられた反射層と、前記反射層の前記液晶層とは反対側に配置された画素電極と、を備える、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。

【請求項11】

前記透過領域における前記液晶層の厚さは、前記反射領域における前記液晶層の厚さよりも大きい、ことを特徴とする請求項１～１０のいずれかに記載の液晶表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

以下の開示は、液晶表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置は、液晶層への光の透過方法により、反射型と透過型とに大別される。反射型の液晶表示装置は、装置内部に反射板を有し、外部からの入射光を反射板で反射し、反射光が液晶層を透過することで表示を行う。透過型の液晶表示装置は、バックライトユニットを備え、バックライトユニットから出射された光が液晶層を透過することで表示を行う。

【0003】

反射型の液晶表示装置は、バックライトユニットを必要としないため、低消費電力化、薄型化、軽量化が達成できる。一方で、透過型の液晶表示装置は、装置内に光源を有するため、暗い環境下でも視認性がよい。近年、室内での視認性だけでなく、外光視認性も考慮し、反射型と透過型の両方の利点を併せもつ液晶表示装置として、半透過型の液晶表示装置が提案されている。

【0004】

半透過型の液晶表示装置は、例えば、１つの画素内に、反射モードでの表示（反射表示）を行う反射領域と、透過モードでの表示（透過表示）を行う透過領域とを有している。そのため、外光を用いた反射表示によって太陽光下の屋外環境での高い視認性が得られるとともに、バックライトを用いた透過表示によって夜間の情報確認が可能である。

【0005】

半透過型の液晶表示装置に関する技術として、例えば、特許文献１には、基板上に、感光性樹脂を塗布し、着色層を形成する工程（ａ）と、前記着色層を、露光機の解像限界以下のパターンを遮光膜に有するマスクで露光し、現像することで、パターニングを行い、着色層に第１領域と、第１領域より膜厚が薄い第２領域とを形成する工程（ｂ）と、前記着色層上に、感光性樹脂を塗布する工程（ｃ）と、前記感光性樹脂のパターニングを行い、マルチギャップ層を形成する工程（ｄ）と、を有するカラーフィルタの製造方法が開示されている。

【0006】

また、特許文献２には、相互に向い合っていて、反射部と透過部を有する第１基板及び第２基板と；前記第１基板の内面に形成されていて、前記透過部に対応する第１透過ホールを有するバッファ層と；前記第１基板とバッファ層の下部に形成されるカラーフィルタ層と；前記カラーフィルタ層の下部に形成される共通電極と；前記反射部と透過部に形成される画素電極と；前記反射部に形成され、前記透過部に対応する第２透過ホールを有する反射層と；前記共通電極と画素電極間に形成される液晶層とを含む反射透過型液晶表示装置において、前記反射部のカラーフィルタ層の厚みとバッファ層の厚みの和は、前記透過部のカラーフィルタ層の厚みより大きい反射透過型液晶表示装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００９－１０９８０４号公報

【特許文献2】特開２００４－１０２２４３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

図１２～図１４は、それぞれ、従来の半透過型の液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。近年、スマートウォッチや携帯端末向けに、図１２～図１４に示すような半透過型の液晶表示装置が応用されている。図１２～図１４に示す半透過型の液晶表示装置１００Ｒは、１画素Ｐ内に、透過表示が行われる透過領域Ｔｒと、反射表示が行われる反射領域Ｒｆと、を有する。

【0009】

図１２～図１４に示す半透過型の液晶表示装置１００Ｒは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を有する第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０Ｒと、第１基板１０及び第２基板２０に挟持された液晶層３０と、を備える。液晶層３０は、ツイスト配向した液晶分子を含有する。第２基板２０Ｒは、支持基板２１と、赤色カラーフィルタ２２Ｒ、緑色カラーフィルタ２２Ｇ及び青色カラーフィルタ２２Ｂを含むカラーフィルタ層２２と、対向電極２０Ｃｏｍと、を液晶層３０側に向かって順に有する。

【0010】

図１２に示される第１基板１０は、ガラス基板等の支持基板１１と、絶縁層１２ａと、画素電極１０Ｐｘと、反射層１０Ｒｆと、を液晶層３０側に向かって順に有する。

【0011】

図１３及び図１４に示される第１基板１０は、いずれも、ガラス基板等の支持基板１１と、第１絶縁層１２と、透明電極１０Ｔｒと、反射層１０Ｒｆと、第２絶縁層１３と、画素電極１０Ｐｘと、を液晶層３０側に向かって順に有する。図１３の画素電極１０Ｐｘは平坦であるが、図１４の第２絶縁層１３には、透過領域Ｔｒと対応する位置に透過開口溝１３Ａが設けられている。

【0012】

半透過型の液晶表示装置１００Ｒは、１画素Ｐ内に反射表示を行う反射領域Ｒｆと、透過表示を行う透過領域Ｔｒと、を備える。そのため、反射表示によって太陽光下の屋外環境における高い視認性が得られると共に、バックライトを使った透過表示によって夜間の情報確認が可能である。しかしながら、従来の半透過型の液晶表示装置１００Ｒでは、透過表示の色再現範囲が狭い（ＮＴＳＣ比が低い）という課題があった。

【0013】

上記特許文献１及び２には、広い色再現範囲を実現する技術は開示されていない。

【0014】

本発明は上記現状に鑑みてなされたものであり、広い色再現範囲を実現することができる液晶表示装置を提供することを目的とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0015】

（１）本発明の一実施形態は、第１基板と、上記第１基板に対向する第２基板と、上記第１基板及び上記第２基板の間に設けられた液晶層と、を備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、上記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域と、を含み、上記複数の画素の少なくとも１つは、更に、上記透過領域の内側に配置された遮光領域を含み、上記第２基板は、上記液晶層側に向かって順に、第２基板側絶縁層と、カラーフィルタ層と、を備え、上記第２基板側絶縁層は、上記反射領域及び上記遮光領域に配置され、上記透過領域における上記カラーフィルタ層の膜厚は、上記反射領域における上記カラーフィルタ層の膜厚よりも大きい、液晶表示装置。

【0016】

（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記遮光領域を有する画素の、上記透過領域における上記カラーフィルタ層の膜厚は、上記遮光領域を有さない画素の、上記透過領域における上記カラーフィルタ層の膜厚よりも大きい、液晶表示装置。

【0017】

（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）又は上記（２）の構成に加え、上記反射領域における上記第２基板側絶縁層の膜厚は、上記反射領域における上記カラーフィルタ層の膜厚の０．５倍以上、２倍以下である、液晶表示装置。

【0018】

（４）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）又は上記（３）の構成に加え、上記遮光領域における上記第２基板側絶縁層の膜厚は、上記遮光領域における上記カラーフィルタ層の膜厚の０．５倍以上、２倍以下である、液晶表示装置。

【0019】

（５）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）又は上記（４）の構成に加え、上記複数の画素は、第１画素電極を有する１画素、第２画素電極を有する第２画素、及び、第３画素電極を有する第３画素を含み、上記第１画素電極は、上記第３画素電極に電気的に接続されている、液晶表示装置。

【0020】

（６）また、本発明のある実施形態は、上記（５）の構成に加え、上記第１画素、上記第２画素及び上記第３画素は、サブピクセルを構成する、液晶表示装置。

【0021】

（７）また、本発明のある実施形態は、上記（５）又は上記（６）の構成に加え、上記第２画素電極は、上記第１画素電極に隣接して配置され、上記第３画素電極は、上記第２画素電極の上記第１画素電極とは反対側に配置される、液晶表示装置。

【0022】

（８）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）又は上記（７）の構成に加え、上記第１基板は、上記遮光領域に対応して設けられた遮光部と、上記反射領域に対応して設けられた反射層と、上記反射層の上記液晶層側に配置された絶縁層と、上記絶縁層の上記液晶層側に配置された画素電極とを有する、液晶表示装置。

【0023】

（９）また、本発明のある実施形態は、上記（８）の構成に加え、上記絶縁層は、上記透過領域に透過開口溝を有する、液晶表示装置。

【0024】

（１０）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）、上記（７）、上記（８）又は上記（９）の構成に加え、上記第１基板は、上記遮光領域に対応して設けられた遮光部と、上記反射領域に対応して設けられた反射層と、上記反射層の上記液晶層とは反対側に配置された画素電極と、を備える、液晶表示装置。

【0025】

（１１）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）、上記（３）、上記（４）、上記（５）、上記（６）、上記（７）、上記（８）、上記（９）又は上記（１０）の構成に加え、上記透過領域における上記液晶層の厚さは、上記反射領域における上記液晶層の厚さよりも大きい、液晶表示装置。

【発明の効果】

【0026】

本発明によれば、広い色再現範囲を実現することができる液晶表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】実施形態１の液晶表示装置の平面模式図である。

【図2】図１中のＡ１－Ａ２線に沿った断面模式図である。

【図3】図２の破線で囲まれた領域の拡大断面模式図である。

【図4】特許文献１の液晶表示装置の平面模式図の一例である。

【図5】実施形態１のＴＦＴ基板が有する画素電極の平面模式図である。

【図6】実施形態１のＴＦＴ基板が有する反射層及び遮光部の平面模式図である。

【図7】図１中のＢ１－Ｂ２線に沿った断面模式図である。

【図8】実施形態２の液晶表示装置の平面模式図である。

【図9】図８中のＣ１－Ｃ２線に沿った断面模式図である。

【図10】実施形態３の液晶表示装置の平面模式図である。

【図11】図１０中のＤ１－Ｄ２線に沿った断面模式図である。

【図12】従来の半透過型の液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。

【図13】従来の半透過型の液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。

【図14】従来の半透過型の液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。なお、以下の説明において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して適宜用い、その繰り返しの説明は適宜省略する。本発明の各態様は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。

【0029】

（実施形態１）
図１は、実施形態１の液晶表示装置の平面模式図である。図２は、図１中のＡ１－Ａ２線に沿った断面模式図である。図３は、図２の破線で囲まれた領域の拡大断面模式図である。図１～図３を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置１００を説明する。

【0030】

図１～図３に示すように、本実施形態の液晶表示装置１００は、第１基板１０と、第１基板１０に対向する第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた液晶層３０と、を備え、マトリクス状に配列された複数の画素Ｐを有する液晶表示装置であって、複数の画素Ｐのそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域Ｒｆと、透過モードで表示を行う透過領域Ｔｒと、を含み、複数の画素Ｐの少なくとも１つは、更に、透過領域Ｔｒの内側に配置された遮光領域Ｓｈを含み、第２基板２０は、液晶層３０側に向かって順に、第２基板側絶縁層２０Ｔと、カラーフィルタ層２２と、を備え、第２基板側絶縁層２０Ｔは、反射領域Ｒｆ及び遮光領域Ｓｈに配置される。また、透過領域Ｔｒにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔは、反射領域Ｒｆにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｒよりも大きい。このような態様とすることにより、広い色再現範囲を実現することができる。特に、透過表示の色再現範囲を拡大することができる。本実施形態の液晶表示装置１００は、反射領域Ｒｆ及び透過領域Ｔｒの液晶分子が同じ画素電極で駆動される半透過型液晶表示装置であって、第２基板２０上の反射領域Ｒｆ（後述する反射層１０ｆに対応する領域）及び遮光領域Ｓｈ（後述する遮光部１０Ｓに対応する領域）に第２基板側絶縁層２０Ｔ（例えば、透明樹脂）が配置され、その上にカラーフィルタ層２２（色層）が設けられたマルチセルギャップの半透過型液晶表示装置である。

【0031】

色再現範囲（ＮＴＳＣ比）は、測定対象の液晶表示パネルをバックライト上に配置し、輝度計（例えば、トプコンテクノハウス社製 ＳＲ－ＵＬ２ 分光放射計）を用いてＲＧＢの輝度を測定することにより求めることができる。本実施形態の液晶表示装置１００のＮＴＳＣ比は、従来の液晶表示装置よりも向上する。

【0032】

本実施形態の液晶表示装置１００は、半透過型（透過反射両用型）の液晶表示装置である。液晶表示装置１００は、図１に示すように、複数の画素Ｐを有する。複数の画素Ｐは、複数の行および複数の列を含むマトリクス状に配列されている。図１には、液晶表示装置１００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。複数の画素Ｐは、典型的には、赤を表示する赤画素、緑を表示する緑画素および青を表示する青画素を含む。

【0033】

また、液晶表示装置１００は、図２に示すように、液晶表示パネルＬＰと、液晶表示パネルＬＰの背面側（観察者側とは反対側）に配置されたバックライト（照明装置）５０とを備える。液晶表示パネルＬＰは、第１基板（ＴＦＴ基板）１０と、第１基板１０に対向する第２基板（対向基板）２０と、第１基板１０と第２基板２０との間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを有する。
各画素Ｐは、反射モードで表示を行う反射領域Ｒｆと、透過モードで表示を行う透過領域Ｔｒと、を含む。また、複数の画素Ｐの少なくとも１つは、更に、透過領域Ｔｒの内側に配置された遮光領域Ｓｈを含む。遮光領域Ｓｈを含む画素Ｐの画素数は、遮光領域Ｓｈを含まない画素Ｐの画素数の０．５倍以上、５倍以下であることが好ましく、１．０倍以上、４．５倍以下であることがより好ましく、１．５倍以上、４倍以下であることが更に好ましい。

【0034】

第１基板１０は、各画素Ｐに開口部１０ＲｆＡが設けられた反射層１０Ｒｆと、平面視はおいて、開口部１０ＲｆＡの少なくとも１つと重畳する位置に配置された遮光部１０Ｓと、を備える。平面視において、反射層１０Ｒｆと重畳する領域が反射領域Ｒｆに対応し、当該領域において反射表示を実現することができる。また、平面視において、開口部１０ＲｆＡと重畳し、かつ、遮光部１０Ｓと重畳しない領域が透過領域Ｔｒに対応し、当該領域において透過表示を実現することができる。また、平面視において、遮光部１０Ｓと重畳する領域が遮光領域Ｓｈに対応する。当該遮光領域は、透過表示にも反射表示にも寄与しない。なお、開口部１０ＲｆＡは、反射層１０Ｒｆに含まれない。

【0035】

本明細書において、反射領域Ｒｆは、表示領域ＡＡ内であって、かつ、平面視において反射層１０Ｒｆと重畳する領域である。遮光領域Ｓｈは、表示領域ＡＡ内であって、かつ、平面視において遮光部１０Ｓと重畳する領域である。透過領域Ｔｒは、表示領域ＡＡ内であって、かつ、平面視において反射層１０Ｒｆ及び遮光部１０Ｓと重畳しない領域である。

【0036】

図２に示された３つの画素（第１画素Ｐ１、第２画素Ｐ２及び第３画素Ｐ３）はそれぞれ開口部１０ＲｆＡが設けられている。当該３つの画素が有する３つの開口部１０ＲｆＡのうち２か所（第１画素Ｐ１に配置された開口部１０ＲｆＡ及び第２画素Ｐ２に配置された開口部１０ＲｆＡ）には、図２に示すように、ＴＦＴ配線等の遮光部１０Ｓが存在するため遮光領域Ｓｈが配置される。

【0037】

平面視において、第２基板側絶縁層２０Ｔは、反射領域Ｒｆ（平面視において反射層１０Ｒｆと重畳する領域）に配置される。このような態様とすることにより、透過領域Ｔｒ（平面視において反射層１０Ｒｆ及び遮光部１０Ｓと重畳しない領域）におけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔを反射領域Ｒｆにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｒよりも厚くすることが可能となる。すなわち、第２基板２０において、反射層１０Ｒｆと対応する位置に第２基板側絶縁層２０Ｔが配置されることによりマルチギャップ化を実現し、カラーフィルタ層２２（色層）の厚みを透過領域Ｔｒで厚くすることできる。その結果、色再現範囲を拡大することができる（例えば、第３画素Ｐ３）。

【0038】

ここで、図１２～図１４に示される従来の半透過型の液晶表示装置１００Ｒにおいて透過表示の色再現範囲が狭い（ＮＴＳＣ比が低い）のは、透過表示光が、反射表示用に低い顔料濃度に調整したカラーフィルタ層２２を１回しか透過しないためであると考えられる。そこで、本実施形態では、反射領域Ｒｆにおいて、第２基板２０に第２基板側絶縁層２０Ｔを配置することにより、カラーフィルタ層２２（色層）に段差を設ける。これにより、平面視において第２基板側絶縁層２０Ｔの配置されていない領域におけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔと、平面視において第２基板側絶縁層２０Ｔの配置されている領域におけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｒとは、２２ｄｔ＞２２ｄｒの関係を満たすことになる。すなわち、透過領域Ｔｒにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔは、反射領域Ｒｆにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｒよりも大きい。

【0039】

また、平面視において、第２基板側絶縁層２０Ｔは、遮光領域Ｓｈ（平面視において遮光部１０Ｓと重畳する領域）にも配置される。すなわち、平面視において開口部１０ＲｆＡと重畳する領域にＴＦＴ配線等の遮光部１０Ｓが配置された第１画素Ｐ１及び第２画素Ｐ２においては、反射層１０Ｒｆと重畳する領域だけでなく、遮光部１０Ｓと重畳する領域にも第２基板側絶縁層２０Ｔが配置される。このような態様とすることにより、透過領域Ｔｒのカラーフィルタ層２２の厚みを効果的に厚くすることが可能となり、色再現範囲を効果的に拡大することができる。

【0040】

また、遮光領域Ｓｈを有する画素（第１画素Ｐ１及び第２画素Ｐ２）の、透過領域Ｔｒにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔ１は、遮光領域Ｓｈを有さない画素（第３画素Ｐ３）の、透過領域Ｔｒにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｔ２よりも大きいことが好ましい。すなわち、カラーフィルタ層の膜厚は、２２ｄｔ１＞２２ｄｔ２＞２２ｄｒであることが好ましい。このような態様とすることにより、色再現範囲をより効果的に拡大することができる。なお、本明細書において「重畳する」とは、特に断りのない限り、平面視において重畳することをいい、「重畳しない」とは、特に断りのない限り、平面視において重畳しないことをいう。

【0041】

上記特許文献１には、基板上の反射領域に絶縁層（マルチギャップ層）が設けられ、更にその上にカラーフィルタ層（着色層）が設けられたマルチギャップセルが開示されている。特許文献１では、マルチギャップにすることで、光が２回通過する反射領域における液晶層のリタデーションよりも透過領域における液晶層のリタデーションを大きくし、かつ、反射領域における色層よりも透過領域における色層を厚くすることにより、表示性能を向上させている。

【0042】

しかしながら、特許文献１に開示された技術は、反射表示重視であり、かつ、階調分割表示のため、反射電極の開口部にＴＦＴなどの配線が存在する。そのため、着色層を備える基板の反射領域に絶縁層を配置するだけでは透過領域の表示性能が充分に上がらない。

【0043】

図４は、特許文献１の液晶表示装置の平面模式図の一例である。図４に示すように、特許文献１の液晶表示装置では、浮島状に形成された反射電極に対応する領域に反射領域Ｒｆが、その周囲に透過領域Ｔｆが設けられている。特許文献１の液晶表示装置が備える反射電極には開口部が設けられていない。すなわち、特許文献１の液晶表示装置が備える画素は、透過領域の内側に反射領域を有する。

【0044】

一方、本実施形態の液晶表示装置１００では、図１に示すように、反射層１０Ｒｆに開口部１０ＲｆＡが設けられており、当該開口部１０ＲｆＡに対応する領域に透過領域Ｔｒが、反射層１０Ｒｆに対応する領域に反射領域Ｒｆが設けられている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１００が備える画素Ｐは、反射領域Ｒｆの内側に透過領域Ｔｒを有する。このような点においても、本実施形態の液晶表示装置１００と特許文献１の液晶表示装置とは構成が異なる。

【0045】

以下、本実施形態の液晶表示装置１００について詳細に説明する。

【0046】

図５は、実施形態１のＴＦＴ基板が有する画素電極の平面模式図である。図６は、実施形態１のＴＦＴ基板が有する反射層及び遮光部の平面模式図である。図７は、図１中のＢ１－Ｂ２線に沿った断面模式図である。

【0047】

本実施形態の液晶表示装置１００は、各画素Ｐに対応して設けられた画素電極１０Ｐｘを有する。画素電極１０Ｐｘは、絶縁膜（第２絶縁層１３）を介して反射層１０Ｒｆの液晶層３０側に配置されている。

【0048】

図５に示すように、複数の画素Ｐは、第１画素電極１０Ｐｘ１を有する第１画素Ｐ１、第２画素電極１０Ｐｘ２を有する第２画素Ｐ２、及び、第３画素電極１０Ｐｘ３を有する第３画素Ｐ３を含み、第１画素電極１０Ｐｘ１は、第３画素電極１０Ｐｘ３に電気的に接続されている。このような態様とすることにより、第１画素電極１０Ｐｘ１及び第３画素電極１０Ｐｘ３に印加される電圧と、第２画素電極１０Ｐｘ２に印加される電圧とを独立して制御することが可能となる。その結果、第１画素Ｐ１、第２画素Ｐ２及び第３画素Ｐ３から構成されるサブピクセルＰｓｕｂ内の階調を、例えば下記表１のように変化させることができる。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１００は、サブピクセルＰｓｕｂ内の画素電極を分割することで階調表示を行う階調分割方式の半透過型液晶表示装置である。

【0049】

【表1】

【0050】

図５に示すように、例えば、第２画素電極１０Ｐｘ２は、第１画素電極１０Ｐｘ１に隣接して配置され、第３画素電極１０Ｐｘ３は、第２画素電極１０Ｐｘ２の第１画素電極１０Ｐｘ１とは反対側に配置される。

【0051】

このように、階調分割方式を採用している本実施形態の液晶表示装置１００には、階調分割のため別信号を入力する必要があるＴＦＴとコンタクトホールが開口部１０ＲｆＡに存在する。当該ＴＦＴ等の遮光部１０Ｓに対しての対策を行わない特許文献１の構成では透過領域Ｔｒの色再現範囲の拡大が不充分となる。

【0052】

画素Ｐ内に占める透過領域Ｔｒの面積の割合は、用途等に応じて適宜設定され得るが、例えば１０％以上、９０％以下である。また、画素Ｐ内における透過領域Ｔｒの位置や形状も用途等に応じて適宜設定され得る。なお、本願明細書では、画素Ｐ内で反射表示にも透過表示にも寄与しない領域を「遮光領域Ｓｈ」と呼ぶ。

【0053】

第１基板１０は、液晶層３０側に向かって順に、支持基板１１と、第１絶縁層１２と、透明電極１０Ｔｒと、反射層１０Ｒｆと、第２絶縁層１３と、画素電極１０Ｐｘと、を備える。

【0054】

第１基板１０の構成要素（上述した画素電極１０Ｐｘ等）は、支持基板１１によって支持されている。支持基板１１は、例えば透明基板である。透明基板の材料としては、例えば無アルカリガラスやプラスチックを用いることができる。なお、本明細書において「透明」とは、光に対して透明性を有することを意味する。具体的には、光（例えば可視光）の透過率（例えば、平行光線透過率）が８０％以上、１００％以下であることをいう。

【0055】

支持基板１１上には、画素Ｐを駆動するための回路（バックプレーン回路）が形成されている。バックプレーン回路は、特に限定されない。例えば、バックプレーン回路は、複数の画素Ｐのそれぞれに接続されたメモリ回路（例えばＳＲＡＭ）を含んでもよい。画素Ｐごとにメモリ回路が設けられた液晶表示装置は、「メモリ液晶」と呼ばれることもある。

【0056】

メモリ液晶の具体的な構成は、例えば、特許第５０３６８６４号公報（米国特許第８６９２７５８号明細書に対応）に開示されている。特許第５０３６８６４号公報および米国特許第８６９２７５８号明細書のすべての開示内容を参考のために本明細書に援用する。あるいは、バックプレーン回路は、一般的なアクティブマトリクス基板のように、画素電極１０Ｐｘに接続された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含んでいてもよい。バックプレーン回路が有するＴＦＴは、遮光部１０Ｓの一例として挙げられる。

【0057】

ＴＦＴは、例えば、活性層として、アモルファスシリコン層、ポリシリコン層、またはＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体を含む酸化物半導体層を有するＴＦＴ（特開２０１４－００７３９９号公報参照）である。特開２０１４－００７３９９号公報を参考のために本明細書に援用する。バックプレーン回路は、メモリ回路やＴＦＴの他に、ゲート配線、ソース配線などの各種配線も含み得る。

【0058】

第１絶縁層１２は、バックプレーン回路を覆うように設けられている。第１絶縁層１２は、透明絶縁層であり、例えば透明な有機絶縁材料から形成されている。第１絶縁層１２の表面は、凹凸形状を有する。つまり、第１絶縁層１２は、凹凸表面構造を有する。凹凸表面構造を有する第１絶縁層１２は、例えば、特許第３３９４９２６号公報に記載されているように感光性樹脂を用いて形成され得る。

【0059】

反射層１０Ｒｆは、第１絶縁層１２上に設けられている。反射層１０Ｒｆは、反射率の高い金属材料から形成されている。反射層１０Ｒｆを形成するための金属材料としては、例えば、アルミニウムや銀、銀合金などを用いることができる。

【0060】

反射層１０Ｒｆの表面は、第１絶縁層１２の凹凸表面構造が反映された凹凸形状を有する。つまり、反射層１０Ｒｆも凹凸表面構造を有する。反射層１０Ｒｆの凹凸表面構造は、ＭＲＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）と呼ばれることもあり、周囲光を拡散反射してペーパーホワイトに近い表示を実現するために設けられている。凹凸表面構造は、例えば、隣り合う凸部ｔの中心間隔が５μｍ以上、５０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上、２０μｍ以下となるようにランダムに配置された複数の凸部ｔで構成され得る。表示面法線方向からみたとき、凸部ｔの形状は略円形または略多角形である。画素Ｐに占める凸部ｔの面積は、例えば約２０％から４０％である。凸部ｔの高さは、例えば１μｍ以上、５μｍ以下である。

【0061】

反射層１０Ｒｆは、各画素Ｐの反射領域Ｒｆに位置する第１部分１０Ｒｆ１と、互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間に位置する第２部分１０Ｒｆ２とを含んでいる。反射層１０Ｒｆの凹凸表面構造は、第１部分１０Ｒｆ１及び第２部分１０Ｒｆ２のそれぞれに形成されている。つまり、第１部分１０Ｒｆ１だけでなく第２部分１０Ｒｆ２も凹凸表面構造を有している。

【0062】

なお、反射層１０Ｒｆは、凹凸表面構造を有していなくても（つまり平坦な鏡面状であっても）よい。反射層１０Ｒｆが凹凸表面構造を有していない場合には、反射層１０Ｒｆと光散乱層とを組み合わせて用いることによって、ペーパーホワイトに近い表示を実現することができる。

【0063】

第１基板１０は、遮光領域Ｓｈに対応して設けられた遮光部１０Ｓと、反射領域Ｒｆに対応して設けられた反射層１０Ｒｆと、反射層１０Ｒｆの液晶層３０側に配置された上記絶縁層としての第２絶縁層１３と、第２絶縁層１３の液晶層３０側に配置された画素電極１０Ｐｘとを有する。第２絶縁層１３は、透過領域Ｔｒ（平面視において反射層１０Ｒｆ及び遮光部１０Ｓと重畳しない領域）に透過開口溝１３Ａを有する。このような態様とすることにより、透過セルギャップｄｔを反射セルギャップｄｒよりも大きくすることができる。その結果、透過モードの表示に用いられる光に対する液晶層３０のリタデーションを大きくすることができ、透過領域Ｔｒにとって好ましい（より明るい表示を実現できる）電圧－輝度特性が得られる。

【0064】

このように、第２絶縁層１３は、反射層１０Ｒｆを覆うように設けられている。第２絶縁層１３は、透明絶縁層であり、例えば透明な有機絶縁材料から形成されている。第２絶縁層１３には、フォトリソグラフィプロセスによって、透過セルギャップｄｔを反射セルギャップｄｒよりも大きくするための凹部（透過開口溝１３Ａ）が形成されている。

【0065】

透過開口溝１３Ａは、第２絶縁層１３の液晶層３０側の表面の凹部である。平面視において透過開口溝１３Ａと重畳する領域における第２絶縁層１３の膜厚は、その他の領域における第２絶縁層１３の膜厚の０．１倍以上、１．０倍未満であり、０．２倍以上、０．９倍以下であることが好ましく、０．３倍以上、０．８倍以下であることがより好ましい。このような態様とすることにより、透過領域Ｔｒにとってより好ましい（より明るい表示を実現できる）電圧－輝度特性が得られる。

【0066】

画素電極１０Ｐｘは、第２絶縁層１３上に設けられている。つまり、画素電極１０Ｐｘは、第２絶縁層１３を介して反射層１０Ｒｆ上に設けられている。画素電極１０Ｐｘは、透明導電材料から形成されている。透明導電材料としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ（登録商標））、またはこれらの混合物を用いることができる。画素電極１０Ｐｘは、バックプレーン回路に電気的に接続されている。

【0067】

透明電極（透明導電層）１０Ｔｒが、反射層１０Ｒｆと第１絶縁層１２との間に介在している。透明電極１０Ｔｒは、省略されてもよい。透明電極１０Ｔｒは、透明導電材料から形成されている。透明導電材料としては、画素電極１０Ｐｘと同様の材料を用いることができる。

【0068】

第２基板２０は、液晶層３０側に向かって順に、支持基板２１と、第２基板側絶縁層２０Ｔと、カラーフィルタ層２２と、対向電極２０Ｃｏｍと、を備える。また、第２基板２０は、複数の柱状スペーサをさらに有する。

【0069】

第２基板２０の構成要素（上述した対向電極２０Ｃｏｍ等）は、支持基板２１によって支持されている。支持基板２１は、例えば透明基板である。透明基板の材料としては、例えば無アルカリガラスやプラスチックを用いることができる。なお、第２基板２０は、互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間にはブラックマトリクス（遮光層）を有しないことが好ましい。

【0070】

第２基板側絶縁層２０Ｔは、反射領域Ｒｆ及び遮光領域Ｓｈに配置される。第２基板側絶縁層２０Ｔは、透明絶縁層であることが好ましい。第２基板側絶縁層２０Ｔは、例えば透明な有機絶縁材料から形成されている。第２基板側絶縁層２０Ｔは、例えば、透光性を有する樹脂材料を支持基板２１上に塗布し、塗布された樹脂材料を既知のフォトリソグラフィー法によってパターン化することで所望の形状に形成される。

【0071】

反射領域Ｒｆにおける第２基板側絶縁層２０Ｔの膜厚２０Ｔｄｒは、反射領域Ｒｆにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｒの０．５倍以上、２倍以下であることが好ましい。このような態様とすることにより、透過表示の色再現範囲をより効果的に拡大することができる。膜厚２０Ｔｄｒは、膜厚２２ｄｒの０．６倍以上、１．８倍以下であることがより好ましく、０．７倍以上、１．６倍以下であることが更に好ましい。

【0072】

遮光領域Ｓｈにおける第２基板側絶縁層２０Ｔの膜厚２０Ｔｄｓは、遮光領域Ｓｈにおけるカラーフィルタ層２２の膜厚２２ｄｓの０．５倍以上、２倍以下であることが好ましい。このような態様とすることにより、透過表示の色再現範囲をより効果的に拡大することができる。膜厚２０Ｔｄｓは、膜厚２２ｄｓの０．６倍以上、１．８倍以下であることがより好ましく、０．７倍以上、１．６倍以下であることが更に好ましい。

【0073】

対向電極２０Ｃｏｍは、画素電極１０Ｐｘに対向するように設けられている。対向電極２０Ｃｏｍは、透明導電材料から形成されている。対向電極２０Ｃｏｍを形成するための透明導電材料としては、画素電極１０Ｐｘと同様の材料を用いることができる。反射層１０Ｒｆには、例えば、対向電極２０Ｃｏｍに与えられる電位（共通電位）と同じ電位が与えられる。

【0074】

カラーフィルタ層２２は、典型的には、赤画素に配置された赤カラーフィルタ、緑画素に配置された緑カラーフィルタ、及び、青画素に配置された青カラーフィルタを含む。カラーフィルタ層２２の、異なる色の画素Ｐ間に対応する領域は、例えば、異なる色のカラーフィルタで略等分されている。カラーフィルタ層２２を覆うように、オーバーコート層が形成されていてもよい。

【0075】

柱状スペーサは、液晶層３０の厚さ（セルギャップ）を規定する。柱状スペーサは、感光性樹脂から形成することができる。

【0076】

液晶層３０は、誘電異方性が負の（つまりネガ型の）ネマチック液晶材料を含み、カイラル剤を含んでいない。液晶層３０は、例えば滴下法により形成することができる。

【0077】

第１基板１０と液晶層３０との間、及び、第２基板２０と液晶層３０との間には、それぞれ、第１配向膜及び第２配向膜が配置されていてもよい。第１配向膜及び第２配向膜は、それぞれ液晶層３０に接するように設けられる。第１配向膜及び第２配向膜のそれぞれは、例えば、垂直配向膜である。本明細書において、「垂直配向膜」は、配向膜近傍の液晶分子を、配向膜表面に対して実質的に垂直に配向させるものであればよく、例えば、液晶分子に８６．０°以上のプレチルト角を付与する配向膜であり得る。垂直配向膜の主成分は、例えば、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリマレイミドまたはポリシロキサンであることが好ましい。これらは、配向膜として効果的に利用することができるポリマー群である。

【0078】

第１配向膜及び第２配向膜の少なくとも一方は、配向処理を施されており、プレチルト方位を規定する。配向処理としては、ラビング処理や光配向処理を用いることができる。光配向処理（光照射／露光）によって液晶分子に対する配向規制力の強さや方向が変化する配向膜は、「光配向膜」と呼ばれる。光配向膜は、光反応性官能基として、シンナメート基、アゾベンゼン基、カルコン基、スチルベン基およびクマリン基のうちの少なくとも１種類を含むことが好ましい。これにより、液晶層３０中に光分解物を溶出させる可能性が低くなるので信頼性を向上させることができ、また、比較的低い照射エネルギーで光配向処理を行うことが可能となる。

【0079】

液晶層３０の液晶分子は、液晶層３０に電圧が印加されていない状態では垂直配向し、液晶層３０に所定の電圧が印加された状態では水平配向する。本実施形態では、液晶層３０のツイスト角は実質的に０°であり、ＶＡ－ＥＣＢ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ ＥｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードで表示が行われる。なお、「ツイスト角が実質的に０°である」とは、ツイスト角が製造誤差の範囲内で０°に近い場合も含意している。

【0080】

液晶層３０として、誘電異方性が正の（つまりポジ型の）ネマチック液晶材料を含むものを用いてもよい。その場合、第１配向膜及び第２配向膜として水平配向膜が用いられ、表示モードとしてＥＣＢモードが採用される。

【0081】

液晶表示装置１００は、更に、一対の円偏光板（第１円偏光板４０Ａ及び第２円偏光板４０Ｂ）を備える。一対の円偏光板の一方（第１円偏光板４０Ａ）は、液晶表示パネルＬＰの背面側に配置されており、他方（第２円偏光板４０Ｂ）は、液晶表示パネルＬＰの観察者側に配置されている。第１円偏光板（裏円偏光板）４０Ａは、第１直線偏光板４１Ａと、第１直線偏光板４１Ａ及び液晶表示パネルＬＰの間に位置する第１位相差板４２Ａとを含む。第２円偏光板（表円偏光板）４０Ｂは、第２直線偏光板４１Ｂと、第２直線偏光板４１Ｂ及び液晶表示パネルＬＰの間に位置する第２位相差板４２Ｂとを含む。

【0082】

第２直線偏光板（表直線偏光板）４１Ｂは、吸収型の直線偏光板である。吸収型直線偏光板として、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を染色して延伸させたフィルム偏光子とトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）保護層とから構成された直線偏光板や、染料系偏光板、塗布型偏光板などを用いることができる。吸収型直線偏光板は、透過軸と、透過軸に直交する吸収軸とを有している。

【0083】

第１直線偏光板（裏直線偏光板）４１Ａとしては、表直線偏光板４１Ｂと同様に吸収型直線偏光板を用いることができる。また、反射型の直線偏光板や、吸収型直線偏光板と反射型直線偏光板との積層体を用いてもよい。反射型直線偏光板として、スリーエム ジャパン社製の多層反射型偏光板（商品名：ＤＢＥＦ）や、コレステリック液晶フィルムとλ／４板とを組み合わせたものが挙げられる。反射型直線偏光板は、吸収型直線偏光板と異なり、透過軸と直交する方向に反射軸を有している。そのため、バックライト５０からの光の一部は、反射型直線偏光板で反射され、バックライト５０に含まれる反射板５３で更に反射されることでリサイクルされる。なお、反射型直線偏光板が、裏直線偏光板４１Ａではなく、バックライト５０に含まれてもよい。

【0084】

第１位相差板４２Ａ及び第２位相差板４２Ｂのそれぞれは、１枚のλ／４板であってもよいし、１枚のλ／４板と１枚又は２枚のλ／２板との組み合わせや、１枚のλ／４板と１枚のネガティブＣプレートとの組み合わせであってもよい。

【0085】

裏直線偏光板４１Ａおよび表直線偏光板４１Ｂの吸収軸の方位や、第１位相差板４２Ａ及び第２位相差板４２Ｂの遅相軸の方位は、ノーマリブラックモードで表示が行われるように設定されている。液晶層３０の液晶分子は、黒表示状態において垂直配向し、白表示状態（および中間調表示状態）においてツイスト角０°で倒れる。

【0086】

バックライト５０は、裏円偏光板４０Ａの背面側に配置されている。バックライト５０は、光を発する光源（例えばＬＥＤ）５１、光源５１からの光を液晶パネル側に導く導光板５２および導光板５２の背面側に配置された反射板５３を有する。また、バックライト５０は、導光板５２の前面側（または背面側）に配置されたプリズムシートおよび拡散シートをさらに有してもよい。

【0087】

本実施形態では、第１基板１０の液晶層３０側の表面は、上段部Ｓ１、下段部Ｓ２及び段差部Ｓ３を含む段差を有している。上段部Ｓ１は、少なくとも反射領域Ｒｆ内に位置しており、実質的に平坦である。下段部Ｓ２は、少なくとも透過領域Ｔｒ内に位置しており、実質的に平坦である。段差部Ｓ３は、上段部Ｓ１と下段部Ｓ２とを結ぶ部分であり、支持基板１１の基板面に対して傾斜又は直交している。

【0088】

上述したように、本実施形態の液晶表示装置１００は、反射層（反射電極）１０ｒｆと画素電極１０Ｐｘとが第２絶縁層１３を介して隔てられた２段電極構造を有する。そのため、反射層１０Ｒｆは、画素Ｐ内に位置する第１部分１０Ｒｆ１だけでなく、隣接する２つの画素Ｐ間に位置する第２部分１０Ｒｆ２を含み得る。従って、画素Ｐ間の領域も反射表示に寄与させることができるので、反射開口率（表示領域ＡＡ内で反射モードの表示に寄与する領域が占める割合）が向上し、反射率のいっそうの向上を図ることができる。そのため、反射モードでいっそう明るい表示を行うことができる。また、反射層１０Ｒｆの凹凸表面構造は、画素電極１０Ｐｘの下に形成される第２絶縁層１３によって平坦化されるので、反射層１０Ｒｆの凹凸表面構造に起因する配向乱れは発生せず、面内均一性の高い配向が得られる。

【0089】

なお、本実施形態の液晶表示装置１００では、画素Ｐ間の領域を反射モードの表示に寄与させるので、第２基板２０は、複数の画素Ｐのうちの互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間にブラックマトリクスを有しないことが好ましい。

【0090】

透過領域Ｔｒにおける液晶層３０の厚さ（透過セルギャップ）ｄｔと、反射領域Ｒｆにおける液晶層３０の厚さ（反射セルギャップ）ｄｒとは異なっている。具体的には、透過セルギャップｄｔは、反射セルギャップｄｒよりも大きい（つまりｄｔ＞ｄｒ）。このように、液晶表示装置１００は、マルチギャップ構造を有する。

【0091】

透過モードの表示に用いられる光が液晶層３０を１回だけ通過するのに対し、反射モードの表示に用いられる光は液晶層３０を２回通過する。そのため、本実施形態のように、透過領域Ｔｒの透過セルギャップｄｔを反射領域Ｒｆの反射セルギャップｄｒよりも大きくすることで、透過モードの表示に用いられる光に対する液晶層３０のリタデーションを大きくすることができ、透過領域Ｔｒにとって好ましい（より明るい表示を実現できる）電圧－輝度特性が得られる。すなわち、透過領域Ｔｒにおける液晶層の厚さ（透過セルギャップｄｔ）は、反射領域Ｒｆにおける液晶層３０の厚さ（反射セルギャップｄｒ）よりも大きいことが好ましい。

【0092】

本実施形態の液晶表示装置１００の具体的な構成は、例えば、以下の通りである。
反射層１０Ｒｆ：銀合金層
透明電極（透明導電層）１０Ｔｒ、画素電極１０Ｐｘ：ＩＴＯ層
第１絶縁層１２、第２絶縁層１３、第２基板側絶縁層２０Ｔ：有機絶縁層
遮光領域Ｓｈ：９μｍ角の正方形状
透過領域Ｔｒ：１８μｍ角の正方形状の領域から遮光領域Ｓｈを除いた領域
反射領域Ｒｆ：４１μｍ角の正方形状の領域から透過領域Ｔｒ及び遮光領域Ｓｈを除いた領域
液晶層３０：ネガ型液晶材料、カイラル剤非含有
表示モード：ＶＡ－ＥＣＢモード、ツイスト角０°
反射セルギャップｄｒ：２．０μｍ
透過セルギャップｄｔ：２．０～３．５μｍの間で変化
対向電極２０Ｃｏｍ：ＩＴＯ層
支持基板１１、２１：無アルカリガラス基板
裏表偏光板：直線偏光板と位相差板とを組み合わせた円偏光板
バックライト５０：ＬＥＤバックライト

【0093】

（実施形態２）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態１と重複する内容については説明を省略する。本実施形態は、第２絶縁層１３が透過開口溝１３Ａを有さないことを除いて、実施形態１と実質的に同じである。

【0094】

図８は、実施形態２の液晶表示装置の平面模式図である。図９は、図８中のＣ１－Ｃ２線に沿った断面模式図である。上記実施形態１と同様に、本実施形態の液晶表示装置１が備える第１基板１０は、遮光領域Ｓｈに対応して設けられた遮光部１０Ｓと、反射領域Ｒｆに対応して設けられた反射層１０Ｒｆと、反射層１０Ｒｆの液晶層３０側に配置された上記絶縁層としての第２絶縁層１３と、第２絶縁層１３の液晶層３０側に配置された画素電極１０Ｐｘとを有する。

【0095】

図８及び図９に示すように、第２絶縁層１３は、透過開口溝１３Ａを有さない。このような態様によっても、実施形態１と同様に、透過表示の色再現範囲を拡大することができる。

【0096】

本実施形態においても、カラーフィルタ層２２の膜厚は、２２ｄｔ１＞２２ｄｔ２＞２２ｄｒを満たす。

【0097】

（実施形態３）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態１と重複する内容については説明を省略する。本実施形態は、画素電極１０Ｐｘが反射層１０Ｒｆの下層に配置されることを除いて、実施形態１と実質的に同じである。

【0098】

図１０は、実施形態３の液晶表示装置の平面模式図である。図１１は、図１０中のＤ１－Ｄ２線に沿った断面模式図である。図１０及び図１１に示すように、本実施形態の液晶表示装置１００が備える反射層１０Ｒｆは、画素電極１０Ｐｘの液晶層３０側に配置される。すなわち、本実施形態の第１基板１０は、遮光領域Ｓｈに対応して設けられた遮光部１０Ｓと、反射領域Ｒｆに対応して設けられた反射層１０Ｒｆと、反射層１０Ｒｆの液晶層３０とは反対側に配置された画素電極１０Ｐｘと、を備える。このような態様によっても、実施形態１と同様に、透過表示の色再現範囲を拡大することができる。

【0099】

平面視において、画素電極１０Ｐｘは、反射層１０Ｒｆに重畳する。また、実施形態においても、カラーフィルタ層２２の膜厚は、２２ｄｔ１＞２２ｄｔ２＞２２ｄｒを満たす。

【符号の説明】

【0100】

１０：第１基板（ＴＦＴ基板）
１０Ｐｘ：画素電極
１０Ｐｘ１：第１画素電極
１０Ｐｘ２：第２画素電極
１０Ｐｘ３：第３画素電極
１０Ｒｆ：反射層
１０Ｒｆ１：第１部分
１０Ｒｆ２：第２部分
１０ＲｆＡ：開口部
１０Ｓ：遮光部
１０Ｔｒ：透明電極
１１、２１：支持基板
１２：第１絶縁層
１２ａ：絶縁層
１３：第２絶縁層
１３Ａ：透過開口溝
２０：第２基板（対向基板）
２０Ｃｏｍ：対向電極
２０Ｔ：第２基板側絶縁層
２０Ｔｄｒ、２０Ｔｄｓ、２２ｄｒ、２２ｄｓ、２２ｄｔ、２２ｄｔ１、２２ｄｔ２：膜厚
２２：カラーフィルタ層
２２Ｂ：青色カラーフィルタ
２２Ｇ：緑色カラーフィルタ
２２Ｒ：赤色カラーフィルタ
３０：液晶層
４０Ａ：第１円偏光板（裏円偏光板）
４０Ｂ：第２円偏光板（表円偏光板）
４１Ａ：第１直線偏光板（裏直線偏光板）
４１Ｂ：第２直線偏光板（表直線偏光板）
４２Ａ：第１位相差板
４２Ｂ：第２位相差板
５０：バックライト
５１：光源
５２：導光板
５３：反射板
１００、１００Ｒ：液晶表示装置
ＡＡ：表示領域
ｄｔ：透過セルギャップ
ｄｒ：反射セルギャップ
ＬＰ：液晶表示パネル
Ｐ：画素
Ｐ１：第１画素
Ｐ２：第２画素
Ｐ３：第３画素
Ｒｆ：反射領域
Ｓ１：上段部
Ｓ２：下段部
Ｓ３：段差部
Ｓｈ：遮光領域
Ｔｒ：透過領域
ｔ：凸部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】