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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024166907
(43)【公開日】2024-11-29
(54)【発明の名称】光学フィルム及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20241122BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20241122BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20241122BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20241122BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H10K50/86
H10K59/10
G09F9/00 313
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023083332
(22)【出願日】2023-05-19
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100127465
【弁理士】
【氏名又は名称】堀田 幸裕
(74)【代理人】
【識別番号】100202304
【弁理士】
【氏名又は名称】塙 和也
(72)【発明者】
【氏名】牛山 章伸
【テーマコード（参考）】
2H149
3K107
5G435
【Ｆターム（参考）】
2H149AA18
2H149AB05
2H149BA02
2H149DA00
2H149DA02
2H149DA12
2H149EA02
2H149FA05Y
2H149FA08Y
2H149FA33Y
2H149FA52Y
2H149FA58Y
2H149FD46
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC07
3K107CC32
3K107CC37
3K107EE21
3K107EE26
3K107FF15
5G435AA04
5G435BB05
5G435EE49
5G435FF02
5G435GG01
5G435HH02
5G435KK07
(57)【要約】 （修正有）
【課題】輝度の低下を抑制しつつ、ブルーシフトの発生を抑制することが可能な、光学フィルム及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】光学フィルム１０の位相差層３０は、繰り返し配列された単位パターン領域３１から構成されている。単位パターン領域３１は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａを有している。単位パターン領域３１のピッチＰは、１５μｍ以下である。
【選択図】図１０
【解決手段】光学フィルム１０の位相差層３０は、繰り返し配列された単位パターン領域３１から構成されている。単位パターン領域３１は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａを有している。単位パターン領域３１のピッチＰは、１５μｍ以下である。
【選択図】図１０
【特許請求の範囲】
【請求項1】
位相差層を備える光学フィルムであって、
前記位相差層は、繰り返し配列された単位パターン領域から構成され、
前記単位パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を有し、
前記単位パターン領域のピッチは、１５μｍ以下である、光学フィルム。
前記位相差層は、繰り返し配列された単位パターン領域から構成され、
前記単位パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を有し、
前記単位パターン領域のピッチは、１５μｍ以下である、光学フィルム。
【請求項2】
基材層と、
前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、請求項１に記載の光学フィルム。
前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項3】
前記配向膜は、ＵＶ硬化樹脂を含み、
前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、請求項２に記載の光学フィルム。
前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項4】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。
前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。
【請求項5】
前記光学フィルムと前記表示装置との間、又は、前記光学フィルムに対して、前記表示装置と反対側に配置された偏光板を更に備える、請求項４に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光学フィルム及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
画像表示装置の一例である有機ＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）表示装置は、種々の分野で用いられている。
【0003】
このような有機ＬＥＤ表示装置では、斜めから視認された画像においてブルーシフトが生じ易い。ブルーシフトとは、斜め方向で視認される画像が正面視で視認される画像よりも青くなる現象のことである。すなわち、有機ＬＥＤ表示装置が表示する画像でも、ブルーシフトに起因して、視野角内での色味が変化する可能性がある。このように、視野角内で色味が変化した場合、画像の表示品質を低下させる要因となり得る。
【0004】
一方、画像の表示品質の改善を図るための技術は従来から種々提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１には、防眩フィルム性フィルムのヘイズ値を大きくすることにより、斜めから観察したときの色ムラを抑制できる画像表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００９－１６３２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
ところで、フィルムのヘイズ値を大きくした場合、画像表示装置の輝度が低下する可能性がある。このため、画像表示装置においては、輝度の低下を抑制しつつ、ブルーシフトの発生を抑制することが求められている。
【0007】
本開示は、以上の点を考慮してなされたものであって、輝度の低下を抑制しつつ、ブルーシフトの発生を抑制することが可能な、光学フィルム及び画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示の実施の形態は、以下の［１］～［５］に関する。
【0009】
［１］位相差層を備える光学フィルムであって、
前記位相差層は、繰り返し配列された単位パターン領域から構成され、
前記単位パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を有し、
前記単位パターン領域のピッチは、１５μｍ以下である、光学フィルム。
前記位相差層は、繰り返し配列された単位パターン領域から構成され、
前記単位パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を有し、
前記単位パターン領域のピッチは、１５μｍ以下である、光学フィルム。
【0010】
［２］基材層と、
前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、［１］に記載の光学フィルム。
前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、［１］に記載の光学フィルム。
【0011】
［３］前記配向膜は、ＵＶ硬化樹脂を含み、
前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、［２］に記載の光学フィルム。
前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、［２］に記載の光学フィルム。
【0012】
［４］［１］乃至［３］のいずれか一つに記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。
前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。
【0013】
［５］前記光学フィルムと前記表示装置との間、又は、前記光学フィルムに対して、前記表示装置と反対側に配置された偏光板を更に備える、［４］に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【0014】
本開示の実施の形態によれば、輝度の低下を抑制しつつ、ブルーシフトの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、図面を参照して本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【0017】
本明細書において用いる、形状及び幾何学的条件、並びにそれらの程度を特定する用語等、例えば、「平行」、「垂直」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【0018】
本明細書において、「フィルム」、「シート」及び「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別される用語ではない。例えば「フィルム」は、シート又は板等と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【0019】
【0020】
図１乃至図３に示すように、本実施の形態による画像表示装置１は、光学フィルム１０と、光学フィルム１０に積層された表示装置５０とを備えている。また、画像表示装置１は、偏光板４０を更に備えていても良い。この場合、図１に示すように、偏光板４０は、光学フィルム１０と表示装置５０との間に配置されていても良い。また、図２に示すように、偏光板４０は、光学フィルム１０に対して、表示装置５０と反対側に配置されていても良い。さらに、図１及び図３に示すように、画像表示装置１は、紫外線カットフィルム６０を更に備えていても良い。ここでは、まず、光学フィルム１０について説明する。
【0021】
図４に示すように、光学フィルム１０は、位相差層３０を備えている。また、光学フィルム１０は、基材層１１と、基材層１１に積層された配向膜２０とを更に備えていても良い。基材層１１、配向膜２０及び位相差層３０は、この順に積層されていても良い。この場合、位相差層３０は、基材層１１よりも視認者側（積層方向Ｚのプラス側）に配置されても良い。なお、図示はしないが、基材層１１と配向膜２０との間に、プライマー層が設けられていても良い。
【0022】
次に、光学フィルム１０の各層について詳細に説明する。
【0023】
＜基材層＞
基材層１１は、位相差層３０を支持及び保護する役割を果たす層である。この基材層１１は、光学的等方性である層であっても良い。基材層１１は、ポリマーから形成された層であっても良く、ガラスから形成された層であっても良い。基材層１１を構成するポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート若しくはポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、又は、ポリスチレン若しくはアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等を利用することができる。また、基材層１１を構成するポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体のようなポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン若しくは芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又はこれらポリマーの混合物等が挙げられる。
基材層１１の面内位相差は、２０ｎｍ以下であることが好ましいく、５ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１ｎｍ以下であることがよりさらに好ましく、０ｎｍであることが最も好ましい。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。測定装置は王子計測機器社製KOBRA-WRを使って、低位相差モードで測定する。
基材層１１は、位相差層３０を支持及び保護する役割を果たす層である。この基材層１１は、光学的等方性である層であっても良い。基材層１１は、ポリマーから形成された層であっても良く、ガラスから形成された層であっても良い。基材層１１を構成するポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート若しくはポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、又は、ポリスチレン若しくはアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等を利用することができる。また、基材層１１を構成するポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体のようなポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン若しくは芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又はこれらポリマーの混合物等が挙げられる。
基材層１１の面内位相差は、２０ｎｍ以下であることが好ましいく、５ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１ｎｍ以下であることがよりさらに好ましく、０ｎｍであることが最も好ましい。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。測定装置は王子計測機器社製KOBRA-WRを使って、低位相差モードで測定する。
【0024】
基材層１１がポリマーから形成された場合、基材層１１の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下程度であっても良い。基材層１１がガラスから形成された場合、基材層１１の厚みは、１００μｍ以上５ｍｍ以下であっても良い。
【0025】
＜配向膜＞
配向膜２０は、位相差層３０を形成する際に、位相差層３０内で液晶化合物を配向させやすくする役割を果たす。なお、位相差層３０を形成後、配向膜２０が除去されていても良い。これにより、配向膜２０を有さない光学フィルム１０を得ることができる。
配向膜２０は、位相差層３０を形成する際に、位相差層３０内で液晶化合物を配向させやすくする役割を果たす。なお、位相差層３０を形成後、配向膜２０が除去されていても良い。これにより、配向膜２０を有さない光学フィルム１０を得ることができる。
【0026】
図５及び図６に示すように、配向膜２０には、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの遅相軸に対応する凹凸２１が形成されていても良い。これにより、配向膜２０上に設けられた位相差層３０の液晶化合物を、凹凸２１の凹部２２に沿って、所定の方向に配向させることができる。例えば、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａごとに面内の遅相軸の方向を変化させたい場合、光軸パターン領域Ｐａごとに凹部２２の長手方向を変えることで、液晶化合物の配向方向が変化する。これにより、光軸パターン領域Ｐａごとに面内の遅相軸の方向を変化させることができる。この場合、例えば、凹凸２１は、インプリント法によって形成されていても良い。
【0027】
図５に示す例においては、凹凸２１の凹部２２は、直線状に延びている。また、凹部２２は、第１方向Ｘに傾斜する方向、及び、第１方向Ｘに直交する第２方向Ｙに傾斜する方向に延びている。しかしながら、これに限られず、例えば、図７に示すように、凹凸２１の凹部２２が、第１方向Ｘ又は第２方向Ｙに沿って延びていても良く、図８Ａ及び図８Ｂに示すように、凹凸２１の凹部２２が、曲線状に延びていても良い。なお、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、それぞれ、光学フィルム１０の積層方向Ｚに直交する方向である。また、図５、図７及び図８Ａは、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの個数が２個となる場合の配向膜２０を示しており、図８Ｂは、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの個数が４個となる場合の配向膜２０を示している。
【0028】
凹部２２の深さは、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。凹部２２の深さを２ｎｍ以上とすることにより、凹部２２に沿って後述する液晶化合物（液晶分子）をより配向しやすくできる。凹部２２の深さを２００ｎｍ以下とすることにより、後述する賦形用の版から配向膜２０をより剥離しやすくなるため、配向膜２０の凹凸２１をより安定して形成しやすくできる。
【0029】
配向膜２０に配向規制力を付与する手段は、従来公知の手段であっても良い。例えば、配向膜２０に配向規制力を付与する手段は、インプリント法、ラビング法又は光配向法等が挙げられる。いずれの方法でも作製可能であるが、形状が直線でない場合は効率よくロール加工できるためインプリント法が好ましい。インプリント法により配向膜２０を作製する場合、硬化後の形状変形を防ぐため、電子線硬化樹脂を使うことが好ましい。また、インプリント法により配向膜２０を作製する場合、配向膜２０は、ＵＶ硬化樹脂を含んでいても良い。すなわち、配向膜２０を形成するための樹脂組成物は、ＵＶ硬化樹脂であっても良い。ＵＶ硬化樹脂の具体例としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリロイル基をもつ重合性オリゴマー又はモノマーと、アクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー又はモノマー等の単体あるいは配合した材料に、光重合開始剤及び任意の添加剤を加えた材料等が挙げられる。なお、配向膜２０の材料としては、例えば、熱硬化樹脂等であっても良い。光配向法により配向膜２０を作製する場合、まず、熱硬化樹脂を含む溶液を乾燥させることにより、溶剤を除去する。その後、本実施の形態の凹凸２１に対応する形状を有するマスクを使って、マスク越しに紫外線照射による分子内もしくは分子間の２量化、若しくは異性化を行うことにより、所望の形状を有する配向膜２０を作製する。
【0030】
＜インプリント法＞
次に、配向膜２０をインプリント法で作製する方法について説明する。配向膜２０の凹凸は、例えば、配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形することにより、形成することができる。
より具体的には、配向膜２０は、例えば、下記の工程１及び工程２により形成することができる。
次に、配向膜２０をインプリント法で作製する方法について説明する。配向膜２０の凹凸は、例えば、配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形することにより、形成することができる。
より具体的には、配向膜２０は、例えば、下記の工程１及び工程２により形成することができる。
【0031】
工程１：基材層１１上に、樹脂を含む配向膜形成用塗布液を塗布し、樹脂を含む層を形成する工程。
工程２：配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形する工程。
工程２：配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形する工程。
【0032】
配向膜２０をインプリント法で作製する際、まず、工程１により、基材層１１上に、樹脂を含む配向膜形成用塗布液を塗布し、樹脂を含む層を形成する。配向膜形成用塗布液が溶剤を含む場合、工程１で溶剤を乾燥させることが好ましい。
【0033】
樹脂として、硬化性樹脂を用いる場合、工程１の配向膜形成用塗布液としては、硬化性樹脂組成物を含む配向膜形成用塗布液を用いることが好ましい。すなわち、樹脂として、硬化性樹脂を用いる場合、工程１の配向膜形成用塗布液中の硬化性樹脂は未硬化の状態とであることが好ましい。
【0034】
工程１の配向膜形成用塗布液として、電離放射線硬化性樹脂組成物を含む配向膜形成用塗布液を用いる場合、工程２の賦形と同時に電離放射線を照射することにより、賦形された層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。
【0035】
基材層１１と配向膜２０との間に、プライマー層等の他の層が設けられる場合には、工程１の前に、基材層１１上に他の層を形成する工程が実施されることが好ましい。
【0036】
次に、工程２により、配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形する。工程２で使用する版は、例えば、レーザーリソグラフィ、電子線リソグラフィ、又はＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）等の汎用の手段により作製できる。また、前述した手段により作製した版を複製した版を多数作製し、複製した多数の版を並べて、多面付けの版とすることも好ましい。版の複製は、電鋳法等の汎用の手段により実施できる。
【0037】
配向膜２０をインプリント法で作製した場合、配向膜２０の厚みは、０．５μｍ以上２０μｍ以下程度であっても良く、１μｍ以上１０μｍ以下程度であっても良い。ここで、配向膜形成用塗布液を塗布する工程１において、配向膜形成用塗布液に、異物が混入する可能性がある。このように、配向膜形成用塗布液に異物が混入した場合であっても、配向膜２０の厚みが０．５μｍ以上であることにより、配向膜２０内に異物を取り込むことができる。すなわち、異物が、配向膜２０の表面から露出してしまうことを抑制できる。このため、歩留まりの低下を抑制できる。また、配向膜２０の厚みが０．５μｍ以上であることにより、深さが２００ｎｍ以下の凹部２２を容易に作製できる。また、配向膜２０の厚みが２０μｍ以下であることにより、紫外線を照射した際に、硬化性樹脂において硬化不足の発生を抑制できる。このため、配向膜２０が版から離型できなくなることを抑制できる。
【0038】
＜光配向法＞
次に、配向膜２０を光配向法で作製する方法について説明する。光配向法により配向膜２０を作製する方法としては、２光束干渉を用いる方法及び遮光性のマスクを用いて直線偏光性の光を照射する方法が挙げられる。
次に、配向膜２０を光配向法で作製する方法について説明する。光配向法により配向膜２０を作製する方法としては、２光束干渉を用いる方法及び遮光性のマスクを用いて直線偏光性の光を照射する方法が挙げられる。
【0039】
２光束干渉を用いる方法では、まず、複屈折誘起材料重合体を溶媒に溶解した液を基材層１１上に塗布する。次に、当該液体を乾燥させることにより、塗布膜を作製する。次いで、塗布膜に対して、レーザー光のような干渉性の良い偏光性の光束を用いた２光束干渉により、配向規制力を付与する。
【0040】
遮光性のマスクを用いる方法としては、以下の２つの方法が挙げられる。第１の方法では、所望の周期ピッチを有する遮光性のマスクを少なくとも２回用いて、少なくとも２つの領域に、偏光特性及び強度の異なる直線偏光性の光を照射する。第２の方法では、まず、所望の周期ピッチを有する遮光性のマスクを用いて、直線偏光性の光を照射する。次に、遮光性のマスクを用いることなく、直線偏光性の光を照射することにより、所望の周期ピッチで照射エネルギー量の異なる領域を形成する。これにより、分子配向方向が９０°異なる周期構造を付与する。第１の方法と第２の方法とを比較した場合、第２の方法の方が装置を簡略化できる利点がある。
【0041】
本実施の形態による配向膜２０に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報及び特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報及び特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号及び特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報及び特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド及び光架橋性ポリエステル、並びに、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０／１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報及び特開２０１４－１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物及びクマリン化合物等が挙げられる。これらの中でも光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド、光架橋性ポリエステル、シンナメート化合物及びカルコン化合物が好ましい。
【0042】
次に、光配向法により、配向膜２０に対して配向規制力を付与するための露光装置７０について説明する。
【0043】
図９に示すように、露光装置７０は、光源７１と、偏光ビームスプリッター７２と、ミラー７３Ａ、７３Ｂと、λ／４板７４Ａ、７４Ｂと、を備えている。このうち光源７１は、レーザー照射部７５と、λ／２板（図示せず）とを有している。この光源７１は、レーザー照射部７５から出射されたレーザー光Ｍの偏光方向を変えることにより、直線偏光Ｐ０を出射するように構成されている。
【0044】
偏光ビームスプリッター７２は、光源７１から出射されたレーザー光Ｍを、光線ＭＡ、ＭＢの２つに分離する役割を果たす。
【0045】
ミラー７３Ａ、７３Ｂは、分離された２つの光線ＭＡ、ＭＢの光路上にそれぞれ配置されている。
【0046】
λ／４板７４Ａ、７４Ｂは、互いに平行な光学軸を備えている。λ／４板７４Ａは、直線偏光Ｐ０（光線ＭＡ）を右円偏光ＰＲに変換し、λ／４板７４Ｂは、直線偏光Ｐ０（光線ＭＢ）を左円偏光ＰＬに変換する役割を果たす。
【0047】
このような露光装置７０において、配向パターンを形成される前の配向膜２０ａが、図示しない露光部に配置される。そして、２つの光線ＭＡ、ＭＢを、配向膜２０ａ上において交差させることにより干渉させる。この干渉により、干渉光の偏光状態が、干渉縞状に周期的に変化する。次に、干渉光を配向膜２０ａに対して照射することにより露光する。これにより、配向膜２０において、配向状態が周期的に変化する配向パターンが得られる。
【0048】
露光装置７０においては、２つの光線ＭＡ、ＭＢの交差角αを変化させることにより、配向パターンの周期を調節できる。例えば、配向膜２０に、液晶化合物の遅相軸が一方向に向かって連続的に１８０°回転する配向パターンを形成する場合、交差角αを調節することにより、遅相軸が１８０°回転する１周期の長さを調節できる。このような配向パターンを有する配向膜２０上に、液晶層を形成することにより、液晶化合物の遅相軸が一方向に向かって連続的に回転する位相差層３０を形成できる。なお、λ／４板７４Ａ、７４Ｂの光学軸を、それぞれ、９０°回転させることにより、光学軸の回転方向を逆にすることができる。
【0049】
配向膜２０を光配向法で作製した場合、配向膜２０の厚みは、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下程度であっても良く、６０ｎｍ以上３００ｎｍ以下程度であっても良い。配向膜２０の厚みが１ｎｍ以上であることにより、配向膜２０内に異物を取り込むことができ、歩留まりの低下を抑制できる。また、配向膜２０の厚みが１０００ｎｍ以下であることにより、偏光露光による配向膜２０の感度が悪化することを抑制できる。このため、液晶配向規制力が低下することを抑制できる。
【0050】
配向膜２０の作製は、ロール・トゥ・ロール方式で実施されても良い。ロール・トゥ・ロール方式で配向膜２０を作製することにより、配向膜２０を短い時間で大量生産できる。なお、配向膜２０は、枚葉状のシートから作製されても良い。シートから配向膜２０を作製する場合、配向膜２０は、インプリント法であれば金属版又は樹脂版から作製可能であり、光配向法であれば遮光用のマスクを使用することにより作製可能である。
【0051】
＜位相差層＞
位相差層３０は、液晶化合物を含んでいても良い。また、位相差層３０は、光重合開始剤と、界面活性剤と、溶剤とを更に含有する組成物から作製されても良い。ここでは、まず、位相差層３０の液晶化合物、光重合開始剤、界面活性剤及び溶剤について説明する。
位相差層３０は、液晶化合物を含んでいても良い。また、位相差層３０は、光重合開始剤と、界面活性剤と、溶剤とを更に含有する組成物から作製されても良い。ここでは、まず、位相差層３０の液晶化合物、光重合開始剤、界面活性剤及び溶剤について説明する。
【0052】
＜＜液晶化合物＞＞
位相差層３０の液晶化合物としては、ネマティック液晶化合物及びスメクティック液晶化合物等の棒状液晶化合物、又は、ディスコティック液晶化合物が挙げられる。本実施の形態では、位相差層３０の液晶化合物は、棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物であっても良い。また、液晶化合物は、重合性液晶化合物であっても良い。言い換えれば、位相差層３０は、重合性液晶化合物を含む組成物の硬化物であっても良い。
位相差層３０の液晶化合物としては、ネマティック液晶化合物及びスメクティック液晶化合物等の棒状液晶化合物、又は、ディスコティック液晶化合物が挙げられる。本実施の形態では、位相差層３０の液晶化合物は、棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物であっても良い。また、液晶化合物は、重合性液晶化合物であっても良い。言い換えれば、位相差層３０は、重合性液晶化合物を含む組成物の硬化物であっても良い。
【0053】
重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物であり、重合性基が１つの単官能性液晶化合物、重合性基が２以上の多官能性液晶化合物が挙げられる。これらの中でも多官能性液晶化合物が好ましく、重合性基の数が２～３の多官能液晶化合物がより好ましく、重合性基の数が２の多官能液晶化合物がさらに好ましい。重合性基は、紫外線等の活性エネルギー線の照射を受けて重合可能となるものであり、ビニル基、メタクロイル基、アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合等が挙げられる。
【0054】
位相差層３０において、液晶化合物は、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていても良い。例えば、棒状液晶化合物の長軸は、位相差層３０の表面に対して実質的に水平であっても良い。棒状液晶化合物が実質的に水平とは、位相差層３０の表面と棒状液晶化合物のダイレクターとがなす角度が、０°以上２０°以下の範囲内であることを意味する。当該角度は、０°以上１０°以下であっても良く、０°以上５°以下であっても良い。
【0055】
また、ディスコティック液晶化合物の円盤面は、フィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であっても良い。ディスコティック液晶化合物が実質的に垂直とは、位相差層３０の表面とディスコティック液晶化合物の円盤面とがなす角度の平均値が、７０°以上９０°以下の範囲内であることを意味する。当該角度は、８０°以上９０°以下であっても良く、８５°以上９０°以下であっても良い。
【0056】
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類又はアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が用いられ得る。棒状液晶化合物としては、これらの低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物が用いられても良い。また、棒状液晶化合物は、重合性基を有していても良い。棒状液晶化合物の一分子中の重合性基の数は、２又は３であっても良く、２であっても良い。
【0057】
ディスコティック液晶化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶化合物の重合については、特開平８－２７２８４号公報に記載がある。
【0058】
ディスコティック液晶化合物は、重合性基を有していても良い。この場合、例えば、ディスコティック液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられる。一方、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になり得る。そこで、ディスコティック液晶化合物は、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を有していても良い。すなわち、重合性基を有するディスコティック液晶化合物は、下記式で表される化合物であっても良い。
Ｄ（－Ｌ－Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１以上１２以下の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の具体例は、それぞれ、特開２００１－４８３７号公報に記載の（Ｄ１）～（Ｄ１５）、（Ｌ１）～（Ｌ２５）、（Ｐ１）～（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を用いることができる。なお、ディスコティック液晶化合物の相転移温度は、３０℃以上３００℃以下であっても良く、３０℃以上１７０℃以下であっても良い。
Ｄ（－Ｌ－Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１以上１２以下の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の具体例は、それぞれ、特開２００１－４８３７号公報に記載の（Ｄ１）～（Ｄ１５）、（Ｌ１）～（Ｌ２５）、（Ｐ１）～（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を用いることができる。なお、ディスコティック液晶化合物の相転移温度は、３０℃以上３００℃以下であっても良く、３０℃以上１７０℃以下であっても良い。
【0059】
また、後述するように、位相差層３０は、逆分散性を示しても良い。この場合、逆分散性を示す液晶性化合物としては、特表２０１０－５３７９５４号公報、特表２０１０－５３７９５５号公報、特表２０１０－５２２８９２号公報、特表２０１０－５２２８９３号公報、若しくは特表２０１３－５０９４５８号公報等の各公開公報、又は、特許第５８９２１５８号、特許第５９７９１３６号、特許第５９９４７７７号、若しくは特許第６０１５６５５号等の各特許公報に記載されている化合物が用いられても良い。
【0060】
液晶化合物は、１種単独で用いられても良く、２種以上を組み合わせて用いられても良い。液晶化合物を１種単独で用いる場合、液晶化合物は重合性液晶化合物であっても良い。また、２種以上の液晶化合物を組み合わせて用いる場合、少なくとも１種が重合性液晶化合物であっても良く、全てが重合性液晶化合物であっても良い。位相差層３０を構成する組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、６０質量％以上９９．９質量％以下であっても良く、６５質量％以上９８質量％以下であっても良い。
【0061】
＜＜光重合開始剤＞＞
位相差層３０の光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル又はチオキサンソン類等が挙げられる。位相差層３０を構成する組成物中の光重合開始剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２０質量％以下であっても良く、０．５質量％以上５質量％以下であっても良い。
位相差層３０の光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル又はチオキサンソン類等が挙げられる。位相差層３０を構成する組成物中の光重合開始剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２０質量％以下であっても良く、０．５質量％以上５質量％以下であっても良い。
【0062】
＜＜界面活性剤＞＞
位相差層３０の界面活性剤としては、重合性基を有するフッ素系界面活性剤、又は重合性基を有するシリコン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤は、組み合わされて用いられても良い。位相差層３０を構成する組成物中の界面活性剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２．０質量％以下であっても良く、０．１質量％以上１．０質量％以下であっても良い。
位相差層３０の界面活性剤としては、重合性基を有するフッ素系界面活性剤、又は重合性基を有するシリコン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤は、組み合わされて用いられても良い。位相差層３０を構成する組成物中の界面活性剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２．０質量％以下であっても良く、０．１質量％以上１．０質量％以下であっても良い。
【0063】
＜＜溶剤＞＞
位相差層３０の溶剤としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、又はアミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。位相差層３０を構成する組成物中の溶剤の含有量は、当該組成物中の５０質量％以上９０質量％以下であっても良く、７０質量％以上８０質量％以下であっても良い。
位相差層３０の溶剤としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、又はアミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。位相差層３０を構成する組成物中の溶剤の含有量は、当該組成物中の５０質量％以上９０質量％以下であっても良く、７０質量％以上８０質量％以下であっても良い。
【0064】
このような位相差層３０は、例えば、配向膜２０上に、位相差層３０を構成する組成物を塗布した後、当該組成物を乾燥及び硬化させることにより形成できる。具体的な乾燥条件は、位相差層３０を構成する組成物により異なるが、乾燥温度は、４０℃以上１５０℃以下としても良い。基材層１１の変形を抑制するためには、乾燥温度は、４０℃以上１００℃以下が好ましい。乾燥時間は、３０秒以上２５０秒以下としても良く、５０秒以上２００秒以下としても良い。重合性液晶化合物を重合する際、紫外線が用いられても良い。紫外線の照射エネルギーは、位相差層３０の厚み等により異なるが、５０ｍＪ／ｃｍ２以上１Ｊ／ｃｍ２以下であっても良く、１５０ｍＪ／ｃｍ２以上９００ｍＪ／ｃｍ２以下であっても良い。
【0065】
位相差層３０は、５５０ｎｍの測定波長でλ／２の位相差を与える層であることが最も好ましいが、λ／４のｎ倍（ｎλ／４）の位相差を与える層であっても良い。位相差層３０は、λ／２位相差層、又はλ／４位相差層であっても良い。位相差層３０がλ／２位相差層である場合、波長５５０ｎｍにおける面内位相差は、２２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であっても良く、２３０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であっても良く、２４０ｎｍ以上２７５ｎｍ以下であっても良い。位相差層３０がλ／４位相差層である場合、波長５５０ｎｍにおける面内位相差は、９０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下であっても良く、１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であっても良く、１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であっても良い。本明細書において、面内位相差（面内リタデーション、Ｒｅ）は、面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率をｎｙ、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄ（ｎｍ）とした際に、下記式で表すことができる。
面内位相差（Ｒｅ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
位相差層３０の面内位相差は、位相差層３０の面内の７箇所の面内位相差から、最大値及び最小値を除外した５つの面内位相差の平均値を意味する。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。面内位相差の測定装置としては、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の商品名「ＡｘｏＳｔｅｐ」が挙げられる。
面内位相差（Ｒｅ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
位相差層３０の面内位相差は、位相差層３０の面内の７箇所の面内位相差から、最大値及び最小値を除外した５つの面内位相差の平均値を意味する。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。面内位相差の測定装置としては、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の商品名「ＡｘｏＳｔｅｐ」が挙げられる。
【0066】
位相差層３０は、正分散性を示しても良く、逆分散性を示しても良い。なお、逆分散性とは、透過光の波長が長くなるに従って透過光に与える位相差が増大する特性である。具体的には、逆分散性とは、波長４５０ｎｍにおけるリタデーション（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるリタデーション（Ｒｅ５５０）との関係が、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０となる特性である。一方、正分散性とは、Ｒｅ４５０とＲｅ５５０との関係が、Ｒｅ４５０＞Ｒｅ５５０となる特性である。
【0067】
位相差層３０の厚みは、付与する位相差を考慮して、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲で適宜調整できる。
【0068】
ここで、図１０に示すように、本実施の形態では、位相差層３０は、繰り返し配列された単位パターン領域３１から構成されている。位相差層３０の単位パターン領域３１は、第１方向Ｘに沿って、複数配列されている。なお、位相差層３０の単位パターン領域３１は、曲線（例えば、蛇行する曲線）に沿うように、複数配列されていても良い。この場合、一方向の反射による回折光に起因する視認性の悪化を抑制できる。
【0069】
単位パターン領域３１は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａ（第１光軸パターン領域Ｐａ１及び第２光軸パターン領域Ｐａ２）を有している。複数の光軸パターン領域Ｐａは、第１方向Ｘに沿って配列されている。図示された例においては、各々の単位パターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを２個ずつ有している。また、各々の光軸パターン領域Ｐａの幅は、互いに等しくなっている。なお、単位パターン領域３１は、幅のサイズが近い複数の光軸パターン領域Ｐａを有していても良い。例えば、単位パターン領域３１は、幅が５μｍ（中心値）である光軸パターン領域Ｐａと、幅が４μｍ又は６μｍである光軸パターン領域Ｐａとを有していても良い。なお、図１０の光軸パターン領域Ｐａ内の直線は、面内の遅相軸の方向を示している。また、後述する図１１Ａ及び図１１Ｂの光軸パターン領域Ｐａ内の曲線は、液晶化合物が並ぶ方向を示している。
【0070】
なお、図８Ａ及び図８Ｂに示すように、配向膜２０の凹凸２１が延びる方向が、連続して変化する場合には、図１１Ａ及び図１１Ｂに示すように、光軸が延びる方向が、連続して変化する。なお、図１１Ａは、図８Ａに示す配向膜２０上に形成された位相差層３０を示しており、図１１Ａに示す位相差層３０では、各々の単位パターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを２個ずつ有している。図１１Ｂは、図８Ｂに示す配向膜２０上に形成された位相差層３０を示しており、図１１Ｂに示す位相差層３０では、各々の単位パターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを４個ずつ有している。いる。これらの場合、光軸パターン領域Ｐａの幅にもよるが、光軸パターン領域Ｐａの１つ当たりの幅が５μｍ以上の場合、以下のとおり、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数は、３個以上９０個以下であっても良い。また、この場合、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数は、１０個以上６０個以下であることが好ましく、２０個以上３０個以下であることが更に好ましい。単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数が３個以上であることにより、光軸が延びる方向の急激な変化を抑制できる。このため、液晶配向性の悪化を抑制できる。また、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数が９０個以下であることにより、隣接する光軸パターン領域Ｐａ同士の境界部分が多くなりすぎることを抑制できる。このため、当該境界部分において、不要な回折光が発生することを抑制できる。光軸パターン領域Ｐａの１つ当たりの幅が５μｍ以下の場合、光配向法で配向膜２０を作製する場合には問題ないが、インプリント法で配向膜２０を作製する場合、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数は、３個以上２０個以下であることが好ましい。単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数が２０個以下であることにより、配向膜２０の凹凸形状の幅が狭くなりすぎることを抑制できる。このため、配向膜２０の凹凸２１を構成する樹脂が、凸部の形状を良好に保つことができる。
【0071】
ここで、単位パターン領域３１同士は、互いに同じ光軸パターン領域Ｐａを有している。図示された例においては、各々の単位パターン領域３１は、第１光軸パターン領域Ｐａ１及び第２光軸パターン領域Ｐａ２を有している。このため、図１０に示す例においては、第１方向Ｘに沿って、第１光軸パターン領域Ｐａ１及び第２光軸パターン領域Ｐａ２が、交互に配置されている。
【0072】
上述したように、各々の光軸パターン領域Ｐａの遅相軸の方向は、互いに異なっている。図示された例においては、遅相軸の方向は、上述した配向膜２０に形成された凹凸２１凹部２２の長手方向に対応している。一方、各々の光軸パターン領域Ｐａ内において、各々の遅相軸の方向は、互いに同じである。
【0073】
また、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数が３個以上である場合、各々の光軸パターン領域Ｐａは、第１方向Ｘに沿って、面内の遅相軸の方向が段階的に変化するように構成されていても良い。例えば、図示しないが、光軸パターン領域Ｐａの面内の遅相軸は、第１方向Ｘのプラス側に向かうにつれて、第２方向Ｙに対する角度が段階的に変化しても良い。例えば、単位パターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数が１８０個である場合、各々の光軸パターン領域Ｐａにおける遅相軸の第２方向Ｙに対する角度が、１°ずつ段階的に変化していても良い。段階的に遅相軸の方向を変化させることにより、光軸パターン領域Ｐａ間における液晶化合物の配向不良を抑制できるため好ましい。
【0074】
各々の光軸パターン領域Ｐａの形状としては、例えば、正方形、長方形、ひし形等の四角形、三角形又は六角形等の多角形であっても良い。各々の光軸パターン領域Ｐａの幅（第１方向Ｘの長さ）は、例えば、０．００１ｍｍ以上１ｍｍ以下であっても良い。なお、各々の光軸パターン領域Ｐａの幅は、互いに同じであっても良く、互いに異なっていても良い。
【0075】
単位パターン領域３１のピッチＰは、１５μｍ以下である。これにより、光学フィルム１０の輝度の低下を抑制しつつ、画像表示装置１を斜めから視認した場合であっても、ブルーシフトの発生を抑制できる。また、単位パターン領域３１のピッチＰは、２μｍ以上であっても良い。単位パターン領域３１のピッチＰが２μｍ以上であることにより、インプリント法により配向膜２０を作製する際に、凹凸２１の賦形性を向上できる。
【0076】
本実施の形態による光学フィルム１０は、他の層として、機能層又は粘着剤層等を更に備えていてもよい。
【0077】
＜機能層＞
機能層は、例えば、ハードコート層、防眩層又は反射防止層等の機能を有していても良い。機能層は、例えば、基材層１１上等に形成されても良い。
機能層は、例えば、ハードコート層、防眩層又は反射防止層等の機能を有していても良い。機能層は、例えば、基材層１１上等に形成されても良い。
【0078】
＜粘着剤層＞
粘着剤層は、光学フィルム１０の各層を互いに接着するための層であっても良い。粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、又はビニル系粘着剤等の汎用の粘着剤が用いられても良い。これら汎用の粘着剤から形成される粘着剤層は、通常、光学的等方性を有する。粘着剤層の厚みは、２μｍ以上３０μｍ以下程度であっても良い。
粘着剤層は、光学フィルム１０の各層を互いに接着するための層であっても良い。粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、又はビニル系粘着剤等の汎用の粘着剤が用いられても良い。これら汎用の粘着剤から形成される粘着剤層は、通常、光学的等方性を有する。粘着剤層の厚みは、２μｍ以上３０μｍ以下程度であっても良い。
【0079】
＜光学フィルムの具体的な層構成＞
光学フィルム１０の層構成は特に限定されないが、光学フィルム１０は、下記（１）～（１５）の構成を有していても良い。なお、「／」は層の界面を示す。
（１） 基材層／配向膜／位相差層
（２） 機能層／基材層／配向膜／位相差層
（３） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（４） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（５） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（６） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（７） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（８） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（９） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（１０）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１１）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層／機能層
（１２）機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１３）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層
（１４）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（１５）機能層／基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層
光学フィルム１０の層構成は特に限定されないが、光学フィルム１０は、下記（１）～（１５）の構成を有していても良い。なお、「／」は層の界面を示す。
（１） 基材層／配向膜／位相差層
（２） 機能層／基材層／配向膜／位相差層
（３） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（４） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（５） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（６） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（７） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（８） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（９） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（１０）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１１）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層／機能層
（１２）機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１３）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層
（１４）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（１５）機能層／基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層
【0080】
次に、画像表示装置１の偏光板４０及び表示装置５０について説明する。
【0081】
［偏光板］
偏光板４０は、有機ＥＬ素子等の表示素子、又は図示しない抵抗膜式タッチパネル等のタッチパネル上に配置することにより、光吸収性能又は反射防止性能を発揮する役割を果たす。偏光板は、直線偏光板であっても良く、円偏光板であっても良い。
偏光板４０は、有機ＥＬ素子等の表示素子、又は図示しない抵抗膜式タッチパネル等のタッチパネル上に配置することにより、光吸収性能又は反射防止性能を発揮する役割を果たす。偏光板は、直線偏光板であっても良く、円偏光板であっても良い。
【0082】
偏光板４０の偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子、又はポリエン系偏光子が用いられても良い。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造できる。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。このため、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光子は、長手方向に対して平行に延びる吸収軸を有する。一方、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光子は、長手方向に対して垂直に延びる吸収軸を有する。
【0083】
［表示装置］
表示装置５０は、例えば有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置からなる。表示装置５０は、例えば図示しない金属層、支持基材、樹脂基材、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、及び有機ＥＬ層を含んでいても良い。表示装置５０上には、図示しないタッチパネルが配置されていても良い。タッチパネルは、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル又は電磁誘導式タッチパネル等であっても良い。これらタッチパネルは圧力検知機能を備えたものであっても良い。なお、図示はしないが、表示装置５０は、表示装置５０に電気的に接続された制御部（図示せず）と共に、図示しない筐体内に収容されていても良い。
表示装置５０は、例えば有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置からなる。表示装置５０は、例えば図示しない金属層、支持基材、樹脂基材、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、及び有機ＥＬ層を含んでいても良い。表示装置５０上には、図示しないタッチパネルが配置されていても良い。タッチパネルは、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル又は電磁誘導式タッチパネル等であっても良い。これらタッチパネルは圧力検知機能を備えたものであっても良い。なお、図示はしないが、表示装置５０は、表示装置５０に電気的に接続された制御部（図示せず）と共に、図示しない筐体内に収容されていても良い。
【0084】
＜大きさ、形状等＞
表示装置５０を作製する場合、光学フィルム１０及び偏光板４０は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態の材料を使用しても良く、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態の材料を使用しても良い。枚葉状の形態の材料を使用する場合、光学フィルム１０等の大きさは特に限定されないが、最大径が０．５インチ以上５００インチ以下程度であっても良い。“最大径”とは、光学フィルム１０等の任意の２点を結んだ際の最大長さをいう。例えば、光学フィルム１０等が長方形である場合は、長方形の対角線が最大径となる。光学フィルム１０等が円形である場合は、円の直径が最大径となる。
表示装置５０を作製する場合、光学フィルム１０及び偏光板４０は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態の材料を使用しても良く、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態の材料を使用しても良い。枚葉状の形態の材料を使用する場合、光学フィルム１０等の大きさは特に限定されないが、最大径が０．５インチ以上５００インチ以下程度であっても良い。“最大径”とは、光学フィルム１０等の任意の２点を結んだ際の最大長さをいう。例えば、光学フィルム１０等が長方形である場合は、長方形の対角線が最大径となる。光学フィルム１０等が円形である場合は、円の直径が最大径となる。
【0085】
ロール状の形態の材料を使用する場合、光学フィルム１０等の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は３００ｍｍ以上８０００ｍｍ以下、長さは５０ｍ以上１００００ｍ以下程度であっても良い。ロール状の形態の光学フィルム１０等は、画像表示装置等１の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。枚葉状にカットする場合、カットされた材料の形状も特に限定されず、例えば、材料の形状は、三角形、四角形もしくは五角形等の多角形であっても良く、円形であっても良く、又はランダムな不定形であっても良い。
【0086】
次に、本実施の形態による光学フィルム１０の製造方法について説明する。
【0087】
まず、基材層１１を準備する。
【0088】
次に、基材層１１上に、配向膜２０を形成する。この際、まず、基材層１１上に、例えばＵＶ硬化樹脂を塗布した後に、例えば、インプリント法により凹凸２１を形成する。その後、ＵＶ硬化樹脂に紫外線を照射することにより、ＵＶ硬化樹脂を硬化させる。
【0089】
次いで、配向膜２０上に、位相差層３０を形成する。この際、例えば、配向膜２０上に、位相差層３０を構成する組成物を塗布した後、当該組成物を乾燥及び硬化させることにより、位相差層３０を形成する。
【0090】
このようにして、図４に示す光学フィルム１０が得られる。
【0091】
以上説明したように、本実施の形態によれば、光学フィルム１０の位相差層３０が、繰り返し配列された単位パターン領域３１から構成されている。また、単位パターン領域３１が、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａを有している。そして、単位パターン領域３１のピッチＰが、１５μｍ以下である。これにより、光学フィルム１０の輝度の低下を抑制しつつ、画像表示装置１を斜めから視認した場合であっても、ブルーシフトの発生を抑制できる。なお、単位パターン領域３１のピッチＰが、１５μｍ以下であることにより、光学フィルム１０の輝度の低下を抑制しつつ、画像表示装置１を斜めから視認した場合であっても、ブルーシフトの発生を抑制できることは、後述する実施例により説明する。
【実施例0092】
次に、上記実施の形態における具体的実施例について説明する。
【0093】
（実施例１）
図４に示す光学フィルム１０を作製した。この際、まず、図８Ｂに示す配向膜２０をインプリント法により作製した。また、単位パターン領域３１のピッチＰは、０．５μｍとした。さらに、光軸パターン領域Ｐａの個数は、４個とした。
図４に示す光学フィルム１０を作製した。この際、まず、図８Ｂに示す配向膜２０をインプリント法により作製した。また、単位パターン領域３１のピッチＰは、０．５μｍとした。さらに、光軸パターン領域Ｐａの個数は、４個とした。
【0094】
光学フィルム１０を作製する際、まず、配向膜２０を形成するための版を作製した。このとき、まず、シミュレーションで設計した表面形状を備える母型を作製した。この際、６インチ角サイズの合成石英板を用い、電子線描画装置とドライエッチング装置とを使用した電子線リソグラフィプロセスにより、石英の母型を作製した。
【0095】
次いで、母型に紫外線硬化性樹脂を流し込んだ後、紫外線硬化性樹脂に対して紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂を硬化させた。その後、母型から紫外線硬化性樹脂を剥離することにより、母型の表面形状と相補的形状を有する樹脂版を得た。次いで、電鋳法により、樹脂版の形状と相補的形状を有する型である、母型の複製型を複数作製した。次に、複数の複製型をロールに巻き付け、ロール状の版を作製した。
【0096】
次に、基材層１１（厚み４０μｍのシクロオレフィンポリマー。日本ゼオン社の商品名「ゼオノア」）上に、下記処方のプライマー層を塗布し、乾燥させることにより、厚み０．５μｍのプライマー層を形成した。
【0097】
次いで、プライマー層上に下記処方のパターン層形成用塗布液を塗布し、乾燥させることにより、未硬化の樹脂を含む層を形成した。
【0098】
次いで、上述したロール状の版を用いて、ロール・トゥ・ロール方式により、未硬化の樹脂を含む層を賦形すると同時に、基材層１１側から紫外線を照射することにより、賦形した樹脂を含む層を硬化させた。このとき、紫外線の積算光量は、５００ｍＪ／ｃｍ２とした。次いで、版から賦形した層を剥離し、基材層１１上にプライマー層及びパターン層（配向膜２０）を有する積層体を得た。
【0099】
次いで、連続のロール・トゥ・ロール方式により、パターン層上に下記の液晶層（位相差層）形成用塗布液を塗布し、乾燥させた後、紫外線を照射することにより、液晶層（位相差層３０）を形成した。このとき、紫外線の積算光量は、１５０ｍＪ／ｃｍ２とした。
【0100】
液晶層は、面内複屈折（Δｎ）が０．１５の液晶を用い、面内位相差が２７５ｎｍとなるように膜厚を調整した。単位パターン領域３１のピッチＰが０．５μｍの実施例１では、所望の膜厚となるように、液晶層形成用塗布液を４回に分けて塗工した。なお、後述する実施例２乃至比較例３では、ピッチＰが１０μｍの場合は、所望の膜厚となるように、液晶層形成用塗布液を２回に分けて塗工し、ピッチＰが２０μｍの場合は、液晶層形成用塗布液を１回で塗工した。ピッチＰの大きさにより液晶の配向性が異なるためである。
【0101】
以上の工程により、実施例１による光学フィルム１０を作製した。
【0102】
＜プライマー層形成用塗布液＞
・ポリオレフィン系樹脂：７０質量部
（三菱ケミカル社製、商品名：サーフレンＰ－１０００）
・シリカ系易滑剤：５質量部
（ＣＩＫナノテック社製、商品名：ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・メチルエチルケトン：２５質量部
・ポリオレフィン系樹脂：７０質量部
（三菱ケミカル社製、商品名：サーフレンＰ－１０００）
・シリカ系易滑剤：５質量部
（ＣＩＫナノテック社製、商品名：ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・メチルエチルケトン：２５質量部
【0103】
＜パターン層形成用塗布液＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート：９６質量部
（日本化薬社製、商品名：ＰＥＴ－３０）
・光重合開始剤：４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート：９６質量部
（日本化薬社製、商品名：ＰＥＴ－３０）
・光重合開始剤：４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
【0104】
＜液晶層形成用塗布液＞
・界面活性剤：０．０４質量部
（ＢＹＫ－３６１Ｎ（商品名）、ビックケミー社製）
・棒状液晶分子：１０質量部
（ＬＣ２４２（商品名）、ＢＡＳＦ社製、面内複屈折（Δｎ）＝０．１５）
・光重合開始剤：０．４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・メチルエチルケトン：８９．６質量部
・界面活性剤：０．０４質量部
（ＢＹＫ－３６１Ｎ（商品名）、ビックケミー社製）
・棒状液晶分子：１０質量部
（ＬＣ２４２（商品名）、ＢＡＳＦ社製、面内複屈折（Δｎ）＝０．１５）
・光重合開始剤：０．４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・メチルエチルケトン：８９．６質量部
【0105】
測定用サンプル作製
・スマートフォン（サムスン電子社製Ｇａｌａｘｙ Ｚ Ｆｏｌｄ３ ５Ｇ）の画面上に保護フィルム等がないことを確認した後、当該画面上に厚み２５μｍの光学粘着フィルム（パナック社製 ＰＤ-Ｒ５）を貼合した。その後、位相差層が光学粘着フィルムに対面するように、光学フィルム１０を光学粘着フィルム上に貼合した。このようにして、測定用サンプルを作製した。
・スマートフォン（サムスン電子社製Ｇａｌａｘｙ Ｚ Ｆｏｌｄ３ ５Ｇ）の画面上に保護フィルム等がないことを確認した後、当該画面上に厚み２５μｍの光学粘着フィルム（パナック社製 ＰＤ-Ｒ５）を貼合した。その後、位相差層が光学粘着フィルムに対面するように、光学フィルム１０を光学粘着フィルム上に貼合した。このようにして、測定用サンプルを作製した。
【0106】
次に、得られた光学フィルム１０の輝度を測定した。光学フィルム１０の輝度は、正面輝度を精度よく測定するために色彩輝度計装置（トプコンテクノハウス社製、ＢＭ－５Ａ）を使用し、以下のようにして測定した。
（１）測定用サンプルの上面から色彩輝度計装置の集光レンズまでの距離が５０ｃｍになるように、色彩輝度計装置の高さを設定する。この際、正面輝度を正しく測定するために、鏡等の反射物を使って、レンズ越しに覗いた像に対してレンズ部が反射されるように、色彩輝度計装置の軸調整を行う。その後、測定用サンプルを所定の位置に設置して、再度レンズ越しに観察することにより、測定用サンプルの上面にピントを調整する。なお、測定用サンプルの上面とは、光学フィルム１０の基材層１１の面のうち、位相差層３０とは反対側の面を意味する。
（２）スマートフォンの画面の光量を最大に設定する。
（３）測定角を０．２°に設定する。
（４）外光が入らないように測定室を暗室にして、光量が安定する３０秒後の輝度を測定する。測定環境は温度２５℃、相対湿度４５％の環境で測定した。
（５）各測定用サンプルに対して、上記（４）の測定を１分間隔で５回繰り返して、５回の測定で得られた数値のうち最大と最小の値を削除し、残りの各数値の平均値を光学フィルム１０の輝度とする。
（１）測定用サンプルの上面から色彩輝度計装置の集光レンズまでの距離が５０ｃｍになるように、色彩輝度計装置の高さを設定する。この際、正面輝度を正しく測定するために、鏡等の反射物を使って、レンズ越しに覗いた像に対してレンズ部が反射されるように、色彩輝度計装置の軸調整を行う。その後、測定用サンプルを所定の位置に設置して、再度レンズ越しに観察することにより、測定用サンプルの上面にピントを調整する。なお、測定用サンプルの上面とは、光学フィルム１０の基材層１１の面のうち、位相差層３０とは反対側の面を意味する。
（２）スマートフォンの画面の光量を最大に設定する。
（３）測定角を０．２°に設定する。
（４）外光が入らないように測定室を暗室にして、光量が安定する３０秒後の輝度を測定する。測定環境は温度２５℃、相対湿度４５％の環境で測定した。
（５）各測定用サンプルに対して、上記（４）の測定を１分間隔で５回繰り返して、５回の測定で得られた数値のうち最大と最小の値を削除し、残りの各数値の平均値を光学フィルム１０の輝度とする。
【0107】
また、光学フィルム１０の色座標ｘ、ｙを測定した。色座標ｘ、ｙは、ＣＩＥ１９３１色空間で規定されるｘｙ色度図の色座標ｘ、ｙである。色座標ｘ、ｙの測定は、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｒを用いて行った。測定手順は以下のとおり実施した。
（１）測定用サンプルの上面から色彩輝度計装置の集光レンズまでの距離を設定する。このとき、スマートフォンのカラーフィルターにピントが合う位置（約５ｍｍ）になるように、色彩輝度計装置の高さを設定する。
（２）スマートフォンの画面の光量を最大に設定する。
（３）外光が入らないように測定室を暗室にする。測定環境は温度２５℃、相対湿度４５％の環境で測定した。
（４）ＥＺ Ｃｏｍ Ｖ５．２０を適用して測定及び色座標ｘ、ｙを算出した。
（１）測定用サンプルの上面から色彩輝度計装置の集光レンズまでの距離を設定する。このとき、スマートフォンのカラーフィルターにピントが合う位置（約５ｍｍ）になるように、色彩輝度計装置の高さを設定する。
（２）スマートフォンの画面の光量を最大に設定する。
（３）外光が入らないように測定室を暗室にする。測定環境は温度２５℃、相対湿度４５％の環境で測定した。
（４）ＥＺ Ｃｏｍ Ｖ５．２０を適用して測定及び色座標ｘ、ｙを算出した。
【0108】
このとき、平面視と、斜め方向から見た場合との色の変化を評価するために、平面視（０度）の色座標ｘ、ｙと、平面視に対して６０度傾いた方向から見た場合の色座標ｘ、ｙを測定した。なお、平面視に対して６０度傾いた方向から見た場合の色座標ｘ、ｙは、左右方向のそれぞれから測定した色座標ｘ、ｙの平均値とした。
【0109】
なお、上述した測定及び評価は、異物、傷及び皺等の欠陥がない箇所で実施した。また、上述した測定及び評価は、特に断りのない限り、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で実施した。また、特に断りのない限り、各測定の前に、前記雰囲気に測定用サンプルを３０分以上６０分以下晒した。
【0110】
（実施例２）
単位パターン領域３１のピッチＰが、１μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、１μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
【0111】
（実施例３）
単位パターン領域３１のピッチＰが、２μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、２μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
【0112】
（実施例４）
単位パターン領域３１のピッチＰが、３μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、３μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が８個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
【0113】
（実施例５）
単位パターン領域３１のピッチＰが、７μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、７μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
【0114】
（実施例６）
単位パターン領域３１のピッチＰが、１５μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、１５μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルム１０の輝度及び色座標を測定した。
【0115】
（比較例１）
位相差層が、単位パターン領域から構成されていない光学フィルムを作製したこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。比較例１による光学フィルムでは、位相差層の面内において、各々の遅相軸の方向は、互いに同じであった。
位相差層が、単位パターン領域から構成されていない光学フィルムを作製したこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。比較例１による光学フィルムでは、位相差層の面内において、各々の遅相軸の方向は、互いに同じであった。
【0116】
（比較例２）
単位パターン領域３１のピッチＰが、２０μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、２０μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。
【0117】
（比較例３）
単位パターン領域３１のピッチＰが、３０μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。
単位パターン領域３１のピッチＰが、３０μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、光学フィルムの輝度及び色座標を測定した。
【0118】
以上の結果を表１及び表２に示す。
【0119】
【表1】
【0120】
【表2】
【0121】
なお、上記表１において、「成形性」の欄に付された「Ａ」は、配向膜の凹凸を非常に高精度で作製できたことを意味する。また、上記表１において、「成形性」の欄に付された「Ｂ」は、配向膜の凹凸を高精度で作製できたことを意味する。
【0122】
また、上記表２において、「輝度比」とは、比較例１による光学フィルムの輝度に対する、実施例１乃至実施例６、比較例２及び比較例３による光学フィルムの輝度の割合を意味する。さらに、上記表２において、「色度変動量」とは、以下の式で算出される量である。
色度変動量＝（Δｘ２＋Δｙ２）１／２
なお、Δｘ及びΔｙは、平面視（０度）の色座標ｘ、ｙと、平面視に対して６０度傾いた方向から見た場合の色座標ｘ、ｙとの差を意味する。
色度変動量＝（Δｘ２＋Δｙ２）１／２
なお、Δｘ及びΔｙは、平面視（０度）の色座標ｘ、ｙと、平面視に対して６０度傾いた方向から見た場合の色座標ｘ、ｙとの差を意味する。
【0123】
この結果、表１及び表２に示すように、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０において、ピッチを１５μｍ以下とした場合であっても、配向膜２０の凹凸２１を高精度で作製できた。とりわけ、実施例３乃至実施例６による光学フィルム１０では、ピッチを２μｍ以上とすることにより、配向膜２０の凹凸２１を非常に高精度で作製できた。
【0124】
また、表１及び表２に示すように、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、輝度比が９３％以上であった。このため、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、ピッチを１５μｍ以下とした場合であっても、光学フィルム１０の輝度が低下することを抑制できた。
【0125】
また、表１及び表２に示すように、比較例１乃至比較例３による光学フィルムでは、色度座標差Δｘが、０．０４６３以上であった。これに対して、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、色度座標差Δｘを０．０４０７以下にできた。とりわけ、実施例１乃至実施例５による光学フィルム１０では、色度座標差Δｘを０．０３２０以下にできた。ここで、色座標ｘが変化した場合（０に近づいた場合）、画像が青くなりやすくなる。このため、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、色度座標差Δｘを小さくできるため、画像表示装置１におけるブルーシフトの発生を抑制できることがわかった。
【0126】
さらに、表１及び表２に示すように、比較例１乃至比較例３による光学フィルムでは、色度変動量が、０．０４６７以上であった。これに対して、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、色度変動量を０．０４１２以下にできた。このため、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、平面視と、斜め方向から見た場合との色の変化を小さくできた。このため、実施例１乃至実施例６による光学フィルム１０では、画像表示装置１を斜めから見た場合であっても、画像表示装置１におけるブルーシフトの発生を抑制できることがわかった。
【0127】
上記実施の形態および各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施の形態および各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図9】
【図10】
【図11A】
【図11B】