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特開2024-16825ガイドプレート構造及びプローブアレイ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024016825
(43)【公開日】2024-02-07
(54)【発明の名称】ガイドプレート構造及びプローブアレイ
(51)【国際特許分類】
   G01R 1/073 20060101AFI20240131BHJP
   H01L 21/66 20060101ALI20240131BHJP
【FI】
G01R1/073 D
H01L21/66 B
【審査請求】有
【請求項の数】15
【出願形態】OL
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2023119083
(22)【出願日】2023-07-21
(31)【優先権主張番号】111128025
(32)【優先日】2022-07-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】TW
(71)【出願人】
【識別番号】521312662
【氏名又は名称】スター テクノロジーズ インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100120891
【弁理士】
【氏名又は名称】林 一好
(74)【代理人】
【識別番号】100165157
【弁理士】
【氏名又は名称】芝 哲央
(74)【代理人】
【識別番号】100205659
【弁理士】
【氏名又は名称】齋藤 拓也
(74)【代理人】
【識別番号】100126000
【弁理士】
【氏名又は名称】岩池 満
(74)【代理人】
【識別番号】100185269
【弁理士】
【氏名又は名称】小菅 一弘
(72)【発明者】
【氏名】ロウ チュン レオン
【テーマコード(参考)】
2G011
4M106
【Fターム(参考)】
2G011AA15
2G011AB07
2G011AC14
2G011AC21
2G011AE03
2G011AF07
4M106BA01
4M106DD04
4M106DD10
(57)【要約】      (修正有)
【課題】複数のプローブの高度差を制御できる、ガイドプレート構造及びプローブアレイを提供する。
【解決手段】ガイドプレート構造51及びプローブアレイ5を提供する。プローブアレイは、第1プローブ53A、第2プローブ53B及び第1ガイドプレート511を含む。第1プローブと第2プローブとは、プローブアレイに関する構成が異なる。第1ガイドプレートは、第1貫通孔511A及び第2貫通孔511Bを含む。第1貫通孔は、第1プローブを受け入れる。第2貫通孔は、第2プローブを受け入れる。第1貫通孔と第2貫通孔とは、ガイドプレートに関する構成が異なる。
【選択図】図5A
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含む第1ガイドプレートを含み、前記第1プローブと前記第2プローブとは、構成が異なり、
前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、構成が異なる、ガイドプレート構造。
【請求項2】
前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さよりも短く、前記第2貫通孔の直径は、前記第1貫通孔の直径よりも大きい、請求項1に記載のガイドプレート構造。
【請求項3】
前記第1プローブを受け入れる第3貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第4貫通孔を含む第2ガイドプレートを更に含み、前記第3貫通孔の直径は、前記第4貫通孔の直径よりも大きい、請求項2に記載のガイドプレート構造。
【請求項4】
前記第1プローブの端部は、被試験体と接触するように構成され、前記第1ガイドプレートと前記第1プローブの前記端部との間の距離は、前記第2ガイドプレートと前記第1プローブの前記端部との間の距離よりも小さい、請求項3に記載のガイドプレート構造。
【請求項5】
前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さよりも短く、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、円錐形であり、異なる方向に先細になる、請求項1に記載のガイドプレート構造。
【請求項6】
前記第1プローブの端部及び前記第2プローブの端部は、被試験体と接触するように構成され、前記第1貫通孔は、前記第1プローブの前記端部に向かって先細になり、前記第2貫通孔は、前記第2プローブの前記端部から離れる方向に先細になる、請求項5に記載のガイドプレート構造。
【請求項7】
前記第1ガイドプレートは、断面を有し、前記断面における前記第1貫通孔又は前記第2貫通孔の一部は、正方形、長方形、台形又は段差形を有する、請求項1に記載のガイドプレート構造。
【請求項8】
被試験体の第1ブロックを探るように構成された第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び前記被試験体の第2ブロックを探るように構成された第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含むガイドプレートを含み、
前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、構成が異なり、前記ガイドプレートの前記第1プローブ及び前記第2プローブに対する変位により、前記第1プローブをシフトさせて前記第1ブロックと接触させ、前記第2プローブをシフトさせて前記第2ブロックと接触させる、ガイドプレート構造。
【請求項9】
プローブアレイであって、
第1プローブと、
前記プローブアレイに関する構成が前記第1プローブのものと異なる、第2プローブと、
前記第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含む第1ガイドプレートと、を含み、前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、前記第1ガイドプレートに関する構成が異なる、プローブアレイ。
【請求項10】
前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さよりも短く、前記第2貫通孔の直径は、前記第1貫通孔の直径よりも大きい、請求項9に記載のプローブアレイ。
【請求項11】
前記第1プローブを受け入れる第3貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第4貫通孔を含む第2ガイドプレートを更に含み、前記第3貫通孔の直径は、前記第4貫通孔の直径よりも大きい、請求項10に記載のプローブアレイ。
【請求項12】
前記第1プローブの端部は、被試験体と接触するように構成され、前記第1ガイドプレートと前記第1プローブの前記端部との間の距離は、前記第2ガイドプレートと前記第1プローブの前記端部との間の距離よりも小さい、請求項11に記載のプローブアレイ。
【請求項13】
前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さよりも短く、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、円錐形であり、異なる方向に先細になる、請求項9に記載のプローブアレイ。
【請求項14】
前記第1プローブの端部及び前記第2プローブの端部は、被試験体と接触するように構成され、前記第1貫通孔は、前記第1プローブの前記端部に向かって先細になり、前記第2貫通孔は、前記第2プローブの前記端部から離れる方向に先細になる、請求項13に記載のプローブアレイ。
【請求項15】
前記第1ガイドプレートは、断面を有し、前記断面における前記第1貫通孔又は前記第2貫通孔の一部は、正方形、長方形、台形又は段差形を有する、請求項9に記載のプローブアレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
〔関連出願の相互参照〕
本願は、2022年7月26日に出願された台湾出願第111128025号の優先権を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれるものとする。
【0002】
本開示は、ガイドプレート構造及びプローブアレイ(probe array)に関し、より具体的には、異なる貫通孔を有するガイドプレート構造、及びガイドプレート構造を特徴とするプローブアレイに関する。
【背景技術】
【0003】
従来技術において、様々なICチップを製造プロセスにおいて電気的に試験する必要がある。被試験体(例えば、チップオンウェハオンサブストレート(chip-on-wafer-on-substrate)、又はCoWoS)の目標領域が異なる厚さを有する場合、単一のプローブ構造を有するプローブアレイでは、被試験体の目標領域と一致接触(consistent contact)することができない。
【0004】
この〔背景技術〕部分は、単に背景情報を提供するものである。この〔背景技術〕の記載は、この部分に開示された主題が本開示の従来技術を構成することを認めるものではなく、この〔背景技術〕部分には、この〔背景技術〕部分を含む本願の任意の部分が本開示の従来技術を構成することを認めるものとして使用することはできない。
【発明の概要】
【0005】
本開示の一実施形態に係るガイドプレート構造は、第1ガイドプレートを含む。前記第1ガイドプレートは、第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含む。前記第1プローブと前記第2プローブとは、構成が異なる。前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、構成が異なる。
【0006】
いくつかの実施形態では、前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さより短く、前記第2貫通孔の直径は、前記第1貫通孔の直径より大きい。
【0007】
いくつかの実施形態では、前記ガイドプレート構造は、第2ガイドプレートを更に含む。前記第2ガイドプレートは、前記第1プローブを受け入れる第3貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第4貫通孔を含む。前記第3貫通孔の直径は、前記第4貫通孔の直径より大きい。
【0008】
いくつかの実施形態では、前記第1プローブの端部は、被試験体と接触するように構成され、前記第1ガイドプレートと前記第1プローブの端部の間の距離は、前記第2ガイドプレートと前記第1プローブの端部の間の距離より小さい。
【0009】
いくつかの実施形態では、前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さより短く、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、円錐形であり、異なる方向に先細になる(taper)。
【0010】
いくつかの実施形態では、前記第1プローブの端部及び前記第2プローブの端部は、被試験体と接触するように構成される。前記第1貫通孔は、前記第1プローブの端部に向かって先細になる。前記第2貫通孔は、前記第2プローブの端部から離れる方向に先細になる。
【0011】
いくつかの実施形態では、前記第1ガイドプレートは、断面を有する。前記断面における前記第1貫通孔の一部又は前記断面における前記第2貫通孔の一部は、正方形、長方形、台形(trapezoid shape)又は段差形(step shape)を有する。
【0012】
本開示の別の実施形態に係るガイドプレート構造は、ガイドプレートを含む。前記ガイドプレートは、被試験体の第1ブロックを探る(probe)ように構成された第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び被試験体の第2ブロックを探るように構成された第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含む。前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、構成が異なる。前記ガイドプレートの前記第1プローブ及び前記第2プローブに対する変位により、前記第1プローブをシフトさせて(移動させて。変位させて。ずらして)前記第1ブロックと接触させ、前記第2プローブをシフトさせて前記第2ブロックと接触させる。
【0013】
本開示のまた別の実施形態に係るプローブアレイは、第1プローブ、第2プローブ及び第1ガイドプレートを含む。前記第1プローブと前記第2プローブとは、前記プローブアレイに関する構成が異なる。前記第1ガイドプレートは、前記第1プローブを受け入れる第1貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第2貫通孔を含む。前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは、前記第1ガイドプレートに関する構成が異なる。
【0014】
いくつかの実施形態では、前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さより短く、前記第2貫通孔の直径は、前記第1貫通孔の直径より大きい。
【0015】
いくつかの実施形態では、前記プローブアレイは、第2ガイドプレートを更に含む。前記第2ガイドプレートは、前記第1プローブを受け入れる第3貫通孔、及び前記第2プローブを受け入れる第4貫通孔を含む。前記第3貫通孔の第3直径は、前記第4貫通孔の第4直径より大きい。
【0016】
いくつかの実施形態では、前記第1プローブの端部は、被試験体と接触するように構成される。前記第1ガイドプレートと前記第1プローブの端部の間の距離は、前記第2ガイドプレートと前記第1プローブの端部の間の距離より小さい。
【0017】
いくつかの実施形態では、前記第2プローブの長さは、前記第1プローブの長さより短く、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、円錐形であり、異なる方向に先細になる。
【0018】
いくつかの実施形態では、前記第1プローブの端部及び前記第2プローブの端部は、被試験体と接触するように構成される。前記第1貫通孔は、前記第1プローブの端部に向かって先細になり、前記第2貫通孔は、前記第2プローブの端部から離れる方向に先細になる。
【0019】
いくつかの実施形態では、前記第1ガイドプレートは、断面を有する。前記断面における前記第1貫通孔の一部又は前記断面における前記第2貫通孔の一部は、正方形、長方形、台形又は段差形を有する。
【0020】
本開示の技術的特徴及び利点は、以上の説明において総合的に提供されることにより、以下の説明において記載された詳細から本開示をよりよく理解することを可能にする。本開示の請求項における主題の追加的な技術的特徴及び利点は、以下の説明において提供される。本開示の技術分野における当業者であれば、以下の説明に開示される概念及び具体的な実施形態に基づいて、他の構造又はプロセスを変更(modify)又は設計(design)することにより、本開示と同様の目的を達成することが容易であることを理解すべきである。また、当業者であれば、このような等価配置(equivalent arrangements)は、添付の特許請求の範囲によって限定される本開示の趣旨及び範囲に含まれることを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【0021】
図面と併用して詳細な説明及び特許請求の範囲を参照して本開示をより完全に理解することができ、図面において、同一の参照番号が類似した要素(element)を示す。
【0022】
図1A】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図1B】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図2A】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図2B】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図2C】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図2D】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図3A】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図3B】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図4A】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図4B】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図5A】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図5B】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図5C】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
図5D】本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
以下、本開示の説明には、図面が添付されて本開示の実施形態を説明する。しかしながら、本開示は、このような実施形態に限定されないことに留意されたい。また、以下の実施形態は、他の実施形態に適切に組み込むことができる。
【0024】
用語「実施形態」、「一実施形態」、「例示的な実施形態」、「他の実施形態」及び「別の実施形態」は、本開示に記載された実施形態が特定の特徴、構造又は特性を含むことができる。しかしながら、必ずしも各実施形態は、このような特定の特徴、構造又は特性を含む必要がないことに留意されたい。また、表現「実施形態における」又は「実施形態の」は、繰り返して使用される場合、同一の実施形態を指す可能性があるが、必ずしも同一の実施形態を指すとは限らない。
【0025】
本開示を完全に理解するために、以下、ステップ又は構造を詳細に説明する。明らかに、本開示の実施は、当業者によく知られている具体的な詳細に限定されない。更に、本開示を不必要に限定しないようにするために、よく知られている構造及びステップを詳細に説明しない。以下、本開示の好ましい実施形態を詳細に説明する。しかしながら、詳細な説明とは別に、本開示は、他の実施形態においても広く適用することができる。本開示の範囲は、詳細な説明に開示された内容に限定されず、添付の特許請求の範囲に従って限定される。
【0026】
以下の開示は、本開示の異なる特徴を実施するための様々な異なる実施形態又は実施例を提供することが理解されるべきである。以下、本開示を簡略化するために、部品及び配置の特定の実施形態又は実施例を説明する。このような詳細は、例示的なものであり、限定を意図するものではないことに留意されたい。例えば、要素のサイズは、開示された範囲又は値に限定されず、製造条件及び/又は装置の所望の特性によって決められる。また、以下の説明において、説明された、第2特徴の「上方」又は「上に」第1特徴を形成することは、第1特徴と第2特徴とが直接接触して形成される実施形態を含んでもよく、第1特徴と第2特徴とが直接接触し得ないように追加の特徴が第1特徴と第2特徴との間に形成される実施形態を含んでもよい。簡略化及び明確化のために、様々な特徴を異なる縮尺で描くことができる。添付図面において、簡略化のために、いくつかの層又は特徴を省略する。
【0027】
また、説明の便宜上、「下方」、「下」、「下部」、「上」、「上部」などの相対的な空間的関係の用語は、1つの要素又は特徴の別の要素又は特徴に対する関係を説明するために使用されてもよい。相対的な空間的関係のこのような用語は、図面に示される方位に加えて、使用中又は動作中の要素の異なる方位を包含することを意図する。装置は、他の方向(90度回転させて、又は他の方位に)配向されてもよく、文献に用いられている相対的な空間的関係の記述用語も同様かつ対応的に解釈されてもよい。
【0028】
本開示の一実施形態に係るガイドプレート構造は、ガイドプレートを含む。ガイドプレートは、貫通孔を含む。貫通孔は、異なる構成を有し、プローブを受け入れるように構成される。プローブは、プローブのアレイに関する構成が異なる。ガイドプレートがプローブに対して移動する場合、プローブがシフトするため、貫通孔に配置されたプローブは、それぞれ被試験体のブロックと接触する。ブロックの厚さは異なる。
【0029】
図1Aに示すように、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイ1の概略図である。プローブアレイ1は、ガイドプレート構造11、第1プローブ13A及び第2プローブ13Bを含む。ガイドプレート構造11は、第1ガイドプレート111を含む。第1ガイドプレート111は、第1貫通孔111A及び第2貫通孔111Bを含む。第1貫通孔111Aは、第1プローブ13Aを受け入れる。第2貫通孔111Bは、第2プローブ13Bを受け入れる。いくつかの実施形態では、第1プローブ13Aと第2プローブ13Bとは、構成(例えば、長さ、形状、配置、及び対応する貫通孔における位置)が異なる。いくつかの実施形態では、第1貫通孔111Aと第2貫通孔111Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。
【0030】
図1Bに示すように、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造11の概略図である。第1プローブ13Aの上部13A1及び第2プローブ13Bの上部13B1の動きの範囲は、(例えば、メカニズム(図示せず)により)制限される。第1貫通孔111Aと第2貫通孔111Bとは、構成が異なる。したがって、第1ガイドプレート111が第1プローブ13A及び第2プローブ13Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、第1ガイドプレート111の動きのため、第1プローブ13Aの下部13A2及び第2プローブ13Bの下部13B2はそれぞれ、第1貫通孔111A及び第2貫通孔111Bと一緒にシフトする。
【0031】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート111が厚さを有する。第1貫通孔111Aと第2貫通孔111Bとは、構成が異なる。第1ガイドプレート111の変位により、第1プローブ13Aの下部13A2のオフセットが第2プローブ13Bの下部13B2のオフセットとは異なる。そのため、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3との高度差(difference in height)が生じる。したがって、(1)第1ガイドプレート111の厚さを調整し、(2)第1プローブ13A及び第2プローブ13Bに対する第1ガイドプレート111の変位を制御(control)し、(3)第1貫通孔111A及び第2貫通孔111Bの構成を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3との高度差を制御することができる。
【0032】
したがって、第1プローブ13Aの端部13A3及び第2プローブ13Bの端部13B3が、単一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと接触するように構成された場合、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3との高度差を制御することにより、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3とは、同一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと同時に接触しているときに、同じ接触プローブ圧力(contact probe pressure)を有する。したがって、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3との高度差を制御することにより、第1プローブ13Aの端部13A3と第2プローブ13Bの端部13B3とは、同一の被試験体の目標ブロックと一致接触することができる。
【0033】
図2Aに示すように、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイ2の概略図である。プローブアレイ2は、ガイドプレート構造21、第1プローブ23A及び第2プローブ23Bを含む。ガイドプレート構造21は、第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212を含む。第1ガイドプレート211は、2つの貫通孔211A及び211Bを含む。第2ガイドプレート212は、2つの貫通孔212A及び212Bを含む。第1ガイドプレート211の貫通孔211A及び第2ガイドプレート212の貫通孔212Aは、第1プローブ23Aを受け入れる。第1ガイドプレート211の貫通孔211B及び第2ガイドプレート212の貫通孔212Bは、第2プローブ23Bを受け入れる。
【0034】
いくつかの実施形態では、第1プローブ23Aの端部23A3及び第2プローブ23Bの端部23B3は、被試験体(図示せず)と接触するように構成される。第1ガイドプレート211と第1プローブ23Aの端部23A3の間の距離は、第2ガイドプレート212と第1プローブ23Aの端部23A3の間の距離より小さい。第1ガイドプレート211と第2プローブ23Bの端部23B3の間の距離は、第2ガイドプレート212と第2プローブ23Bの端部23B3の間の距離より小さい。したがって、第1ガイドプレート211は、第2ガイドプレート212と第1プローブ23Aの端部23A3(又は第2プローブ23Bの端部23B3)との間に配置される。
【0035】
いくつかの実施形態では、第1プローブ23Aと第2プローブ23Bとは、構成(例えば、長さ、形状、配置、及び対応する貫通孔における位置)が異なる。貫通孔211Aと貫通孔211Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。貫通孔212Aと貫通孔212Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。いくつかの実施形態では、第1プローブ23Aの長さは、第2プローブ23Bの長さより短く、貫通孔211Aの直径は、貫通孔211Bの直径より大きく、貫通孔212Aの直径は、貫通孔212Bの直径より小さい。いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212はそれぞれ、(例えば、厚さ方向に沿った)断面を有し、貫通孔211A、211B、212A及び212Bのそれぞれの一部は、正方形又は長方形の断面を有する。しかしながら、本開示は、これに限定されない。
【0036】
図2Bは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造21の概略図である。第1プローブ23Aの上部23A1及び第2プローブ23Bの上部23B1の動きの範囲は、(例えば、メカニズム(図示せず)により)制限される。第1ガイドプレート211が第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔211Bの直径が小さいため、貫通孔211Bによって第2プローブ23Bの下部23B2がシフトする。
【0037】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート211は、厚さを有し、貫通孔211Aの直径は、貫通孔211Bの直径より大きいため、第1ガイドプレート211の変位により、第2プローブ23Bの下部23B2がシフトする。そのため、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3との高度差は変化する。したがって、(1)第1ガイドプレート211の厚さを調整し、(2)第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対する第1ガイドプレート211の変位を制御し、(3)貫通孔211A及び貫通孔211Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3との高度差を制御することができる。
【0038】
図2Cは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造21の概略図である。第2ガイドプレート212が第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔212Aの直径が小さいため、貫通孔212Aによって第1プローブ23Aの下部23A2がシフトする。
【0039】
いくつかの実施形態では、第2ガイドプレート212は、厚さを有し、貫通孔212Aの直径は、貫通孔212Bの直径より小さいため、第2ガイドプレート212の変位により、第1プローブ23Aの下部23A2がシフトする。そのため、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3との高度差は変化する。したがって、(1)第2ガイドプレート212の厚さを調整し、(2)第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対する第2ガイドプレート212の変位を制御し、(3)貫通孔212A及び貫通孔212Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3との高度差を制御することができる。
【0040】
図2Dは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造21の概略図である。第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212が第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔212Aは、第1プローブ23Aの下部23A2をシフトさせ、貫通孔211Bは、第2プローブ23Bの下部23B2をシフトさせる。
【0041】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212はそれぞれ、厚さを有し、貫通孔211Aの直径は、貫通孔211Bの直径より大きく、貫通孔212Aの直径は、貫通孔212Bの直径より小さい。したがって、第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212の変位により、第1プローブ23Aの下部23A2及び第2プローブ23Bの下部23B2がシフトする。これにより、第1プローブ23Aの端部23A3と貫通孔212Aの間の距離を第2プローブ23Bの端部23B3と貫通孔211Bの間の距離に等しく維持することができる。
【0042】
したがって、(1)第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212の厚さを調整し、(2)第1プローブ23A及び第2プローブ23Bに対する第1ガイドプレート211及び第2ガイドプレート212の変位を制御し、(3)貫通孔211A、211B、212A及び212Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ23Aの端部23A3と貫通孔212Aの間の距離を第2プローブ23Bの端部23B3と貫通孔211Bの間の距離に等しく維持することができる。
【0043】
したがって、第1プローブ23Aの端部23A3及び第2プローブ23Bの端部23B3が、単一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと接触するように構成された場合、(1)第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3との高度差を制御するか、又は(2)第1プローブ23Aの端部23A3と貫通孔212Aとの間の距離を第2プローブ23Bの端部23B3と貫通孔211Bとの間の距離に等しく維持することにより、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3とは、同一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと同時に接触しているときに、同じ接触プローブ圧力を有することができる。
【0044】
したがって、第1プローブ23Aの端部23A3及び第2プローブ23Bの端部23B3の前述の構成を制御することにより、第1プローブ23Aの端部23A3と第2プローブ23Bの端部23B3とは、同一の被試験体に規定される目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと一致接触することができる。
【0045】
図3Aは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイ3の概略図である。プローブアレイ3は、ガイドプレート構造31、第1プローブ33A及び第2プローブ33Bを含む。ガイドプレート構造31は、第1ガイドプレート311を含む。第1ガイドプレート311は、第1貫通孔311A及び第2貫通孔311Bを含む。第1貫通孔311Aは、第1プローブ33Aを受け入れる。第2貫通孔311Bは、第2プローブ33Bを受け入れる。
【0046】
いくつかの実施形態では、第1プローブ33Aの端部33A3及び第2プローブ33Bの端部33B3は、被試験体(図示せず)と接触するように構成される。第1プローブ33Aと第2プローブ33Bとは、構成(例えば、長さ、形状、配置、及び対応する貫通孔における位置)が異なる。第1貫通孔311Aと第2貫通孔311Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。いくつかの実施形態では、第1プローブ33Aの長さは、第2プローブ33Bの長さより長く、第1貫通孔311A及び第2貫通孔311Bは、円錐形である。円錐形の第1貫通孔311Aは、第1プローブ33Aの端部33A3に向かって先細になる。円錐形の第2貫通孔311Bは、第2プローブ33Bの端部33B3から離れる方向に先細になる。いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート311及び第2ガイドプレート312はそれぞれ、(例えば、厚さ方向に沿った)断面を有し、前記断面における第1貫通孔311A及び第2貫通孔311Bの一部はそれぞれ、台形の断面を有する。しかしながら、本開示は、これに限定されない。
【0047】
図3Bは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造31の概略図である。第1プローブ33Aの上部33A1及び第2プローブ33Bの上部33B1の動きの範囲は、(例えば、メカニズム(図示せず)により)制限される。第1ガイドプレート311が第1プローブ33A及び第2プローブ33Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、第1貫通孔311A及び第2貫通孔311Bはそれぞれ、第1プローブ33Aの下部33A2及び第2プローブ33Bの下部33B2をシフトさせる。
【0048】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート311は、厚さを有し、第1貫通孔311Aと第2貫通孔311Bとは、円錐形の構成が異なる。そのため、第1ガイドプレート311の変位により、第1プローブ33Aの下部33A2及び第2プローブ33Bの下部33B2がシフトする。これにより、第1プローブ33Aの端部33A3と貫通孔311Aの間の最短距離を第2プローブ33Bの端部33B3と貫通孔311Bの間の最短距離に等しく維持する。したがって、(1)第1ガイドプレート311の厚さを調整し、(2)第1プローブ33A及び第2プローブ33Bに対する第1ガイドプレート311の変位を制御し、(3)第1貫通孔311A及び第2貫通孔311Bの構成を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ33Aの端部33A3と貫通孔311Aの間の最短距離を第2プローブ33Bの端部33B3と貫通孔311Bの間の最短距離に等しく維持することができる。
【0049】
したがって、第1プローブ33Aの端部33A3及び第2プローブ33Bの端部33B3が、単一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと接触するように構成された場合、第1プローブ33Aの端部33A3と貫通孔311Aの間の最短距離を第2プローブ33Bの端部33B3と貫通孔311Bの間の最短距離に等しく維持する。これにより、第1プローブ33Aの端部33A3と第2プローブ33Bの端部33B3とは、目標ブロックと同時に接触している間、同じ接触プローブ圧力を有する。したがって、第1プローブ33Aの端部33A3と貫通孔311Aの間の最短距離を第2プローブ33Bの端部33B3と貫通孔311Bの間の最短距離に等しく維持することにより、第1プローブ33Aの端部33A3と第2プローブ33Bの端部33B3とは、被試験体の目標ブロックと一致接触する。
【0050】
図4Aは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイ4の概略図である。プローブアレイ4は、ガイドプレート構造41、第1プローブ43A及び第2プローブ43Bを含む。ガイドプレート構造41は、第1ガイドプレート411を含む。第1ガイドプレート411は、第1貫通孔411A及び第2貫通孔411Bを含む。第1貫通孔411Aは、第1プローブ43Aを受け入れる。第2貫通孔411Bは、第2プローブ43Bを受け入れる。
【0051】
いくつかの実施形態では、第1プローブ43Aの端部43A3及び第2プローブ43Bの端部43B3は、被試験体(図示せず)と接触するように構成される。第1プローブ43Aと第2プローブ43Bとは、構成(例えば、長さ、形状、配置、及び対応する貫通孔における位置)が異なる。第1貫通孔411Aと第2貫通孔411Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。いくつかの実施形態では、第1プローブ43Aの長さは、第2プローブ43Bの長さより長く、第1貫通孔411A及び第2貫通孔411Bの両方は、段差形を有する。第1貫通孔411Aの段差形は、第1プローブ43Aの端部43A3に向かって先細になり、第2貫通孔411Bの段差形は、第2プローブ43Bの端部43B3から離れる方向に先細になる。いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート411及び第2ガイドプレート412はそれぞれ、(例えば、厚さ方向に沿って)断面を有し、断面における第1貫通孔411A及び第2貫通孔411Bの一部はそれぞれ、段差形を有する。しかしながら、本開示は、これに限定されない。
【0052】
図4Bは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造41の概略図である。第1プローブ43Aの上部43A1及び第2プローブ43Bの上部43B1の動きの範囲は、(例えば、メカニズム(図示せず)により)制限される。第1ガイドプレート411が第1プローブ43A及び第2プローブ43Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、第1貫通孔411A及び第2貫通孔411Bはそれぞれ、第1プローブ43Aの下部43A2及び第2プローブ43Bの下部43B2をシフトさせる。
【0053】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート411は、厚さを有し、第1貫通孔411Aの段差形と第2貫通孔411Bの段差形とは、構成が異なる。そのため、第1ガイドプレート411の変位により、第1プローブ43Aの下部43A2及び第2プローブ43Bの下部43B2がシフトする。これにより、第1プローブ43Aの端部43A3と貫通孔411Aの間の最短距離が第2プローブ43Bの端部43B3と貫通孔411Bの間の最短距離に等しくなる。したがって、(1)第1ガイドプレート411の厚さを調整し、(2)第1プローブ43A及び第2プローブ43Bに対する第1ガイドプレート411の変位を制御し、(3)第1貫通孔411A及び第2貫通孔411Bの構成を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ43Aの端部43A3と貫通孔411Aの間の最短距離は、第2プローブ43Bの端部43B3と貫通孔411Bの間の最短距離に等しくなる。
【0054】
したがって、第1プローブ43Aの端部43A3及び第2プローブ43Bの端部43B3が、単一の被試験体に規定される異なる目標ブロックであって異なる厚さを有する目標ブロックと接触するように構成された場合、第1プローブ43Aの端部43A3と貫通孔411Aの間の最短距離を第2プローブ43Bの端部43B3と貫通孔411Bの間の最短距離に等しく維持する。これにより、第1プローブ43Aの端部43A3と第2プローブ43Bの端部43B3とは、単一の被試験体の目標ブロックと同時に接触している間、同じ接触プローブ圧力を有する。したがって、第1プローブ43Aの端部43A3と貫通孔411Aの間の最短距離を第2プローブ43Bの端部43B3と貫通孔411Bの間の最短距離に等しく維持することにより、第1プローブ43Aの端部43A3と第2プローブ43Bの端部43B3とは、被試験体の目標ブロックと一致接触する。
【0055】
図5Aは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブアレイ5の概略図である。プローブアレイ5は、ガイドプレート構造51、複数の第1プローブ53A及び複数の第2プローブ53Bを含む。ガイドプレート構造51は、第1ガイドプレート511、第2ガイドプレート512、少なくとも1つの第3ガイドプレート513及び少なくとも1つの第4ガイドプレート514を含む。第1ガイドプレート511は、複数の貫通孔511A及び複数の貫通孔511Bを含む。第2ガイドプレート512は、複数の貫通孔512A及び複数の貫通孔512Bを含む。第1ガイドプレート511の貫通孔511Aのそれぞれ及び第2ガイドプレート512の貫通孔512Aのそれぞれは、複数の第1プローブ53Aのうちの1つの第1プローブ53Aを受け入れる。第1ガイドプレート511の貫通孔511Bのそれぞれ及び第2ガイドプレート512の貫通孔512Bのそれぞれは、複数の第2プローブ53Bのうちの1つの第2プローブ53Bを受け入れる。
【0056】
第3ガイドプレート513は、第1ガイドプレート511と第2ガイドプレート512との間に配置され、複数の貫通孔5130を含む。第3ガイドプレート513の貫通孔5130のそれぞれは、1つの第1プローブ53A又は1つの第2プローブ53Bを受け入れる。第4ガイドプレート514は、複数の貫通孔5140を含む。貫通孔5140のそれぞれは、1つの第1プローブ53A又は1つの第2プローブ53Bを受け入れることにより、第1プローブ53Aの上部53A1及び第2プローブ53Bの上部53B1の動きの範囲を制限する。
【0057】
いくつかの実施形態では、第1プローブ53Aの端部53A3及び第2プローブ53Bの端部53B3はそれぞれ、被試験体の第1ブロック及び第2ブロックと接触するように構成される。第1ブロックと第2ブロックとは、厚さが異なる。第1ガイドプレート511と第1プローブ53Aの端部53A3の間の距離は、第2ガイドプレート512と第1プローブ53Aの端部53Aの間の距離より小さい。第1ガイドプレート511と第2プローブ53Bの端部53B3の間の距離は、第2ガイドプレート512と第2プローブ53Bの端部53Bの間の距離より小さい。したがって、第1ガイドプレート511は、第2ガイドプレート512と第1プローブ53Aの端部53A3(又は第2プローブ53Bの端部53B3)との間に配置される。
【0058】
いくつかの実施形態では、第1プローブ53Aと第2プローブ53Bとは、構成(例えば、長さ、形状、配置、及び対応する貫通孔における位置)が異なり、貫通孔511Aと貫通孔511Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なり、貫通孔512Aと貫通孔512Bとは、構成(例えば、直径及び形状)が異なる。いくつかの実施形態では、第1プローブ53Aの長さは、第2プローブ53Bの長さより短く、貫通孔511Aの直径は、貫通孔511Bの直径より大きく、貫通孔512Aの直径は、貫通孔512Bの直径より小さい。いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート511及び第2ガイドプレート512はそれぞれ、(例えば、厚さ方向に沿った)断面を有し、前記断面における貫通孔511A、貫通孔511B、貫通孔512A及び貫通孔512Bの一部はそれぞれ、正方形又は長方形の断面を有する。しかしながら、本開示は、これに限定されない。
【0059】
図5Bは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造51の概略図である。第1プローブ53Aの上部53A1及び第2プローブ53Bの上部53B1の動きの範囲は、少なくとも1つの第4ガイドプレート514により制限される。第1ガイドプレート511が第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔511Bの直径が小さいため、貫通孔511Bによって第2プローブ53Bの下部53B2がシフトする。
【0060】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート511は、厚さを有し、貫通孔511Aの直径は、貫通孔511Bの直径より大きい。そのため、第1ガイドプレート511の変位により、第2プローブ53Bの下部53B2がシフトする。そのため、第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差は変化する。したがって、(1)第1ガイドプレート511の厚さを調整し、(2)第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対する第1ガイドプレート511の変位を制御し、(3)貫通孔511Aの直径及び貫通孔511Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差を制御することができる。
【0061】
図5Cは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造51の概略図である。第2ガイドプレート512が第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔512Aの直径が小さいため、貫通孔512Aによって第1プローブ53Aの下部53A2がシフトする。
【0062】
いくつかの実施形態では、第2ガイドプレート512は、厚さを有する。貫通孔512Aの直径は、貫通孔512Bの直径より小さい。そのため、第2ガイドプレート512の変位により、第1プローブ53Aの下部53A2がシフトする。そのため、第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差は変化する。したがって、(1)第2ガイドプレート512の厚さを調整し、(2)第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対する第2ガイドプレート512の変位を制御し、(3)貫通孔512A及び貫通孔512Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差を制御することができる。
【0063】
図5Dは、本開示のいくつかの実施形態に係るプローブをガイドするガイドプレート構造51の概略図である。第1ガイドプレート511及び第2ガイドプレート512が第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対して(例えば、横方向に)移動する場合、貫通孔512Aは、第1プローブ53Aの下部53A2をシフトさせ、貫通孔511Bは、第2プローブ53Bの下部53B2をシフトさせる。
【0064】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート511及び第2ガイドプレート512は、厚さを有するため、(1)貫通孔511Aの直径は、貫通孔511Bの直径より大きく、(2)貫通孔512Aの直径は、貫通孔512Bの直径より小さい。そのため、第1ガイドプレート511の変位及び第2ガイドプレート512の変位により、第1プローブ53Aの下部53A2及び第2プローブ53Bの下部53B2がシフトする。これにより、第1プローブ53Aの端部53A3と貫通孔512Aの間の距離を第2プローブ53Bの端部53B3と貫通孔511Bの間の距離に等しく維持することができる。
【0065】
したがって、(1)第1ガイドプレート511の厚さ及び第2ガイドプレート512の厚さを調整し、(2)第1プローブ53A及び第2プローブ53Bに対する第1ガイドプレート511及び第2ガイドプレート512の変位を制御し、(3)貫通孔511A、貫通孔511B、貫通孔512A及び貫通孔512Bの直径を調整することにより、又は(1)~(3)の任意の組み合わせにより、第1プローブ53Aの端部53A3と貫通孔512Aの間の距離を第2プローブ53Bの端部53B3と貫通孔511Bの間の距離に等しく維持することができる。
【0066】
いくつかの実施形態では、第1ガイドプレート511と第2ガイドプレート512との間に配置された少なくとも1つの第3ガイドプレート513が設けられる。これにより、(1)(例えば、第1ガイドプレート511と第2ガイドプレート512の間の距離を増加させるために)第3ガイドプレート513の数を調整することができ、(2)第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差を制御するか、又は第1プローブ53Aの端部53A3と貫通孔512Aの間の距離を第2プローブ53Bの端部53B3と貫通孔511Bの間の距離に等しく維持するために、(例えば、第1プローブ53Aを受け入れる貫通孔5130の直径を増加させ、第2プローブ53Bを受け入れる貫通孔5130の直径を減少させることにより)第3ガイドプレート513の貫通孔5130の構成を調整することができる。
【0067】
したがって、第1プローブ53Aの端部53A3及び第2プローブ53Bの端部53B3が、被試験体の、異なる厚さを有する異なる目標ブロックと接触するように構成された場合、(1)第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3との高度差を制御するか、又は(2)第1プローブ53Aの端部53A3と貫通孔512Aの間の距離を第2プローブ53Bの端部53B3と貫通孔511Bの間の距離に等しく維持することにより、第1プローブ53Aの端部53A3と第2プローブ53Bの端部53B3とは、目標ブロックと同時に一致接触している間、同じ接触プローブ圧力が印加されることになる。
【0068】
以上、本開示及びその利点について詳細に説明したが、添付の特許請求の範囲によって規定されている本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な変形、代替及び置換を行うことを理解されたい。例えば、上述した様々なプロセスは、互いに異なる方法で実施されてもよく、上述した様々なプロセスの代わりに、他のプロセス又はその組み合わせが使用されてもよい。
【0069】
また、本願の範囲は、詳細な説明に提供されたプロセス、機械、製造、物質組成、手段、方法又はステップの特定の実施形態に限定されない。当業者であれば、本開示に記載の対応する実施形態と同じ機能を果たすか、又は実質的に同じ結果を達成する、既存の又は今後開発されるプロセス、機械、製造、物質組成、手段、方法又はステップを利用できることを本願の開示から理解することができる。したがって、添付の特許請求は、このようなプロセス、機械、製造、物質組成、手段、方法又はステップをその範囲に含むことを意図したものである。
図1A
図1B
図2A
図2B
図2C
図2D
図3A
図3B
図4A
図4B
図5A
図5B
図5C
図5D
【外国語明細書】