特開 2024-168824 表示装置及び表示システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024168824

(43)【公開日】2024-12-05

(54)【発明の名称】表示装置及び表示システム

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1368 20060101AFI20241128BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20241128BHJP

   G02F 1/1339 20060101ALI20241128BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20241128BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1368

G09F9/30 349C

G09F9/30 338

G09F9/30 349B

G09F9/30 348A

G02F1/1339 500

G02F1/13 505

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023085799

(22)【出願日】2023-05-24

(71)【出願人】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田中 仁

(72)【発明者】

【氏名】小出 元

(72)【発明者】

【氏名】渡辺 恭輔

(72)【発明者】

【氏名】廣澤 仁

(72)【発明者】

【氏名】長澤 順子

【テーマコード（参考）】

2H088

2H189

2H192

5C094

【Ｆターム（参考）】

2H088EA08

2H088EA10

2H088HA07

2H088HA08

2H088HA24

2H088HA28

2H088MA01

2H189DA07

2H189DA32

2H192AA24

2H192BB12

2H192BB52

2H192BC31

2H192CB44

2H192DA12

2H192DA24

2H192EA04

2H192EA32

2H192EA42

2H192EA67

2H192FA35

2H192GB71

2H192GD42

2H192GD43

5C094AA02

5C094BA43

5C094DA15

5C094DB01

5C094EA04

5C094EA07

5C094ED02

5C094ED15

(57)【要約】

【課題】スペーサに対応する遮光領域が表示に与える影響を抑制する表示装置及び表示システムを提供する。
【解決手段】表示装置は、アレイ基板と、対向基板と、を有している。アレイ基板は、第１方向に間隔をおいて並ぶ複数の信号線と、第２方向に間隔をおいて並ぶ複数の走査線と、カラーフィルタと、画素毎に配置された複数の画素電極と、絶縁膜を介して複数の画素電極と重畳する共通電極と、カラーフィルタを覆う絶縁膜と、アレイ基板と対向基板との間の距離を規制する、少なくとも１つのスペーサと、共通電極と積層され、平面視で複数の信号線及び複数の走査線に沿う格子状の導電層とを有する。導電層は、スペーサが配置され、第１方向及び第２方向のうち少なくとも１つの導電層の幅を拡幅した遮光領域を有している。スリット部は、遮光領域とは非重畳である。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

アレイ基板と、
前記アレイ基板に対向する対向基板と、を有し、
前記アレイ基板は、
第１方向に間隔をおいて並ぶ複数の信号線と、
第２方向に間隔をおいて並ぶ複数の走査線と、
隣り合う２つの信号線及び隣り合う２つの走査線に囲まれる開口と重なる位置に配置されたカラーフィルタと、
画素毎に配置された複数の画素電極と、
絶縁膜を介して複数の前記画素電極と重畳する透光性の導電体であって、前記開口のそれぞれに設けられたスリット部を有する共通電極と、
前記カラーフィルタを覆う絶縁膜と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間の距離を規制する、少なくとも１つのスペーサと、
前記共通電極と積層され、平面視で複数の前記信号線及び複数の前記走査線に沿う格子状の導電層と、を有し、
前記導電層は、平面視で、前記スペーサが配置され、前記第１方向及び前記第２方向の少なくとも１つの前記導電層の幅を拡幅した遮光領域を有し、
前記スリット部は、前記遮光領域とは非重畳である、
表示装置。

【請求項2】

前記遮光領域が重畳する前記第１方向に隣接する２つの画素の前記スリット部の長手方向の延在方向は、異なる、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項3】

前記遮光領域が重畳する前記第２方向に隣接する２つの画素の前記スリット部の長手方向の延在方向は、異なる、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項4】

前記遮光領域が重畳する前記第１方向及び前記第２方向に隣接する４つの画素の前記スリット部の長手方向の延在方向は、異なる、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項5】

前記遮光領域が重畳する画素の前記スリット部の面積と、前記遮光領域が非重畳の画素の前記スリット部の面積の大きさは、異なる、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項6】

前記遮光領域が重畳する画素と同じ色であって、かつ前記遮光領域と非重畳の画素の前記スリット部の面積は、前記遮光領域が重畳する前記スリット部の面積と同じである、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項7】

前記遮光領域は、前記信号線と前記走査線とが交差する複数の交差部分のうち１つの前記スペーサが配置される交差部分毎に、配置される、請求項１に記載の表示装置。

【請求項8】

前記遮光領域は、前記信号線に非重畳で、前記走査線に重畳する前記スペーサが配置される部分毎に配置される、請求項１に記載の表示装置。

【請求項9】

前記遮光領域は、前記走査線に非重畳で、前記信号線に重畳する前記スペーサが配置される部分毎に配置される、請求項１に記載の表示装置。

【請求項10】

レンズと、
請求項１から９のいずれか１項に記載の表示装置と、
前記表示装置に画像を出力する制御装置と、を備える、
表示システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、表示装置及び表示システムに関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、スイッチング素子を備えるアレイ基板側に、カラーフィルタ、画素電極及び共通電極が配置された、いわゆるＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ Ｏｎ Ａｒｒａｙ）構造が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２１－０６３８９７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１では、アレイ基板と対向基板との重ねズレの影響を小さくするため、対向基板の表示領域には、カラーフィルタがない。このため、アレイ基板にカラーフィルタが設けられる。一方、アレイ基板と対向基板との基板間距離を保つスペーサも、アレイ基板との重ねずれが生じる可能性がある。このため、アレイ基板に対する重ねずれでスペーサが移動してもスペーサの光学的な影響を抑制する遮光領域が必要になる。画素のサイズが小さくなると、スペーサに対応する遮光領域が表示に影響を与える可能性がある。

【0005】

本開示の目的は、スペーサに対応する遮光領域が表示に与える影響を抑制する、表示装置及び表示システムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一態様の表示装置は、アレイ基板と、前記アレイ基板に対向する対向基板と、を有し、前記アレイ基板は、第１方向に間隔をおいて並ぶ複数の信号線と、第２方向に間隔をおいて並ぶ複数の走査線と、隣り合う２つの信号線及び隣り合う２つの走査線に囲まれる開口と重なる位置に配置されたカラーフィルタと、画素毎に配置された複数の画素電極と、絶縁膜を介して複数の前記画素電極と重畳する透光性の導電体であって、前記開口毎に設けられたスリット部を有する共通電極と、前記カラーフィルタを覆う絶縁膜と、前記アレイ基板と前記対向基板との間の距離を規制する、少なくとも１つのスペーサと、前記共通電極と積層され、平面視で複数の前記信号線及び複数の前記走査線に沿う格子状の導電層と、を有し、前記導電層は、平面視で、前記スペーサが配置され、前記第１方向及び前記第２方向の少なくとも１つの前記導電層の幅を拡幅した遮光領域を有し、前記スリット部は、前記遮光領域とは非重畳である。

【0007】

一態様の表示システムは、レンズと、上述した表示装置と、前記表示装置に画像を出力する制御装置と、を備える。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、実施形態１に係る表示システムの一例を示す構成図である。

【図2】図２は、表示装置とユーザの目との相対関係の一例を示す模式図である。

【図3】図３は、実施形態１に係る表示システムの構成の一例を示すブロック図である。

【図4】図４は、実施形態１に係る表示領域の画素配列を表す回路図である。

【図5】図５は、実施形態１において、表示領域の一部を拡大して模式的に示す模式図である。

【図6】図６は、図５のＶＩ－ＶＩ’の断面を模式的に示す断面図である。

【図7】図７は、図５のＶＩＩ－ＶＩＩ’の断面を模式的に示す断面図である。

【図8】図８は、実施形態１のスペーサに対する遮光領域と、スリット部との関係を模式的に示す平面図である。

【図9】図９は、実施形態１に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図10】図１０は、比較例のスペーサに対する遮光領域と、スリット部との関係を模式的に示す断面図である。

【図11】図１１は、実施形態１に係る表示領域と周辺領域の境界を模式的に示す断面図である。

【図12】図１２は、実施形態２に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図13】図１３は、実施形態３に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図14】図１４は、実施形態４に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図15】図１５は、実施形態５に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図16】図１６は、実施形態６に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。

【図17】図１７は、実施形態７に係る表示領域の画素配列を表す回路図である。

【図18】図１８は、実施形態７に係る表示パネルの一例を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本開示の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

【0010】

（実施形態１）
図１は、実施形態１に係る表示システムの一例を示す構成図である。図２は、表示装置とユーザの目との相対関係の一例を示す模式図である。

【0011】

本実施形態において、表示システム１は、ユーザの動きに伴って表示を変更する表示システムである。例えば、表示システム１は、仮想空間上の３次元のオブジェクト等を示すＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）画像を立体表示し、ユーザの頭部の向き（位置）に伴って立体表示を変更することにより、ユーザに仮想現実感を生じさせるＶＲシステムである。

【0012】

表示システム１は、例えば、表示装置１００と、制御装置２００と、を有する。表示装置１００と制御装置２００とは、ケーブル３００を介して情報（信号）の入出力が可能な構成になっている。ケーブル３００は、例えば、ＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｓｅｒｉａｌ Ｂｕｓ）、ＨＤＭＩ（登録商標）（Ｈｉｇｈ－Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）等のケーブルを含む。表示装置１００と制御装置２００とは、無線通信によって情報の入出力が可能な構成としてもよい。

【0013】

また、表示装置１００は、制御装置２００からケーブル３００を介して電力が供給されている。例えば、表示装置１００は、制御装置２００の電源部からケーブル３００を介して電力が供給される受電部を有し、表示装置１００の表示パネル１１０、センサ１２０等の各構成が制御装置２００から供給される電力を用いて駆動するようにしてもよい。このようにすることで、表示装置１００からバッテリー等を除くことができ、より安価で軽量な表示装置１００を提供できる。なお、装着部材４００又は表示装置１００に、バッテリーが備えられており、表示装置に供給されるようにしてもよい。

【0014】

表示装置１００は、表示パネルを有する。表示パネルは、例えば、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）である。

【0015】

表示装置１００は、装着部材４００に固定される。装着部材４００は、例えば、ヘッドセット、ゴーグル、ユーザの両目を覆うヘルメット及びマスク等を含む。装着部材４００は、ユーザの頭部に装着される。装着部材４００は、装着時に、ユーザの両目を覆うように、ユーザの正面に配置される。装着部材４００は、内部に固定した表示装置１００をユーザの両目の前に位置付けることにより、没入型の装着部材として機能する。装着部材４００は、制御装置２００から出力される音信号等を出力する出力部を有してもよい。また、装着部材４００は、制御装置２００の機能を内蔵する構造であってもよい。

【0016】

図１に示す一例では、表示装置１００は、装着部材４００にスロットインされる場合を示しているが、装着部材４００に固定されてもよい。言い換えると、表示システムは、装着部材４００と表示装置１００を含む装着型表示装置と制御装置２００とで構成されてもよい。

【0017】

図２に示すように、装着部材４００は、例えば、ユーザに両目に対応したレンズ４１０を有する。レンズ４１０は、ユーザの目に画像を結像させるための拡大レンズである。装着部材４００は、ユーザの頭部に装着されると、レンズ４１０をユーザの目Ｅの前方に位置付ける。ユーザは、レンズ４１０によって拡大された表示装置１００の表示領域を視認する。そのため、表示装置１００は、画像（画面）を鮮明に表示するため、解像度を高める必要がある。なお、本開示において、レンズが１つを例示して説明したが、例えば、複数のレンズを有し、表示装置１００を眼前とは異なる位置に配置してもよい。

【0018】

制御装置２００は、例えば、画像を表示装置１００に表示させる。制御装置２００は、例えば、パーソナルコンピュータ、ゲーム機器等の電子機器を用いることができる。仮想画像は、例えば、コンピュータグラフィック映像、３６０度の実写映像等の画像を含む。制御装置２００は、ユーザの両目の視差を利用した３次元の画像を表示装置１００に出力する。制御装置２００は、ユーザの頭部の向きに追従する右目用及び左目用の画像を表示装置１００に出力する。

【0019】

図３は、実施形態１に係る表示システムの構成の一例を示すブロック図である。図３に示すように、表示装置１００は、２つの表示パネル１１０と、センサ１２０と、画像分離回路１５０と、インタフェース１６０と、を備える。

【0020】

表示装置１００は、２つの表示パネル１１０から構成され、１つを左目用の表示パネル１１０とし、他方を右目用の表示パネル１１０として用いる。

【0021】

２つの表示パネル１１０のそれぞれは、表示領域ＡＡと、表示制御回路１１２と、を有する。なお、表示パネル１１０は、表示領域ＡＡを背後から照射する図示しない光源装置を有する。

【0022】

表示領域ＡＡは、画素Ｐｉｘが、Ｐ_０×Ｑ_０個（行方向にＰ_０個、列方向にＱ_０個）、２次元のマトリクス状（行列状）に配列されている。本実施形態では、Ｐ_０＝２８８０、Ｑ_０＝１７００とする。図３では、複数の画素Ｐｉｘの配列を模式的に表しており、詳細な画素Ｐｉｘの配列は、後述する。レンズを通して表示装置の画素を視認するので、画素ピッチは、例えば、３μｍ以上１０μｍ以下となっており、表示領域ＡＡは、高精細な画素Ｐｉｘの配列となっている。表示領域ＡＡは、周辺領域ＧＡに囲まれている。

【0023】

表示パネル１１０は、Ｘ方向に延在する走査線と、Ｘ方向と交差するＹ方向に延在する信号線を有する。例えば、表示パネル１１０は、２８８０本の信号線ＳＬと、１７００本の走査線ＧＬとを有する。表示パネル１１０において、信号線ＳＬと走査線ＧＬとに囲まれた領域には、画素Ｐｉｘが配置される。画素Ｐｉｘは、信号線ＳＬ及び走査線ＧＬと接続されるスイッチング素子ＳＷ（ＴＦＴ：薄膜トランジスタ）、及び、スイッチング素子ＳＷに接続された画素電極を有する。１つの走査線ＧＬは、走査線ＧＬの延在方向に沿って配置される複数の画素Ｐｉｘが接続される。また、１つの信号線ＳＬは、信号線ＳＬの延在方向に沿って配置される複数の画素Ｐｉｘが接続される。

【0024】

２つの表示パネル１１０のうち、一方の表示パネル１１０の表示領域ＡＡが右目用であり、他方の表示パネル１１０の表示領域ＡＡが左目用である。実施形態１では、表示パネル１１０は、左目用と右目用の２つの表示パネル１１０を有する場合について説明する。ただし、表示装置１００は、上述のように２つの表示パネル１１０を用いる構造に限定されない。例えば、表示パネル１１０は、１つであって、右半分の領域には右目用の画像を表示し、左半分の領域には左目用の画像を表示するように、１つの表示パネル１１０の表示領域を２分割するようにしてもよい。

【0025】

表示制御回路１１２は、ドライバＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ：集積回路）１１５、信号線接続回路１１３及び走査線駆動回路１１４を備えている。信号線接続回路１１３は、信号線ＳＬと電気的に接続されている。ドライバＩＣ１１５は、走査線駆動回路１１４によって、画素Ｐｉｘの動作（光透過率）を制御するためのスイッチング素子（例えば、ＴＦＴ）のＯＮ／ＯＦＦを制御する。走査線駆動回路１１４は、走査線ＧＬと電気的に接続されている。

【0026】

センサ１２０は、ユーザの頭部の向きを推定可能な情報を検出する。例えば、センサ１２０は、表示装置１００や装着部材４００の動きを示す情報を検出し、表示システム１は、表示装置１００や装着部材４００の動きを示す情報に基づいて、表示装置１００を頭部に装着したユーザの頭部の向きを推定する。

【0027】

センサ１２０は、例えば、表示装置１００や装着部材４００の角度、加速度、角速度、方位、距離の少なくとも１つを用いて、視線の向きを推定可能な情報を検出する。センサ１２０は、例えば、ジャイロセンサ、加速度センサ、方位センサ等を用いることができる。センサ１２０は、例えば、ジャイロセンサによって表示装置１００や装着部材４００の角度及び角速度を検出してもよい。センサ１２０は、例えば、加速度センサによって表示装置１００や装着部材４００に働く加速度の方向及び大きさを検出してもよい。センサ１２０は、例えば、方位センサによって表示装置１００の方位を検出してもよい。センサ１２０は、例えば、距離センサ、ＧＰＳ（Ｇｌｏｂａｌ Ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ）受信機等によって表示装置１００や装着部材４００の移動を検出してもよい。センサ１２０は、ユーザの頭部の向き、視線の変化、移動等を検出するためのセンサであれば、光センサ等の他のセンサでもよく、複数のセンサを組み合わせて用いてもよい。センサ１２０は、後述するインタフェース１６０を介して、画像分離回路１５０と電気的に接続されている。

【0028】

画像分離回路１５０は、ケーブル３００を介して制御装置２００から送られてきた左目用画像データと右目用画像データを受けとり、左目用画像データを左目用の画像を表示する表示パネル１１０に送り、右目用画像データを右目用の画像を表示する表示パネル１１０に送る。

【0029】

インタフェース１６０には、ケーブル３００（図１）が接続されるコネクタを含む。インタフェース１６０は、接続されたケーブル３００を介して、制御装置２００からの信号が入力される。画像分離回路１５０は、インタフェース１６０およびインタフェース２４０を介して、センサ１２０から入力された信号を制御装置２００へ出力する。ここで、センサ１２０から入力された信号には、上述した視線の向きを推定可能な情報が含まれる。あるいは、センサ１２０から入力された信号は、インタフェース１６０を介して直接、制御装置２００の制御部２３０へ出力されてもよい。インタフェース１６０は、例えば、無線通信装置とし、無線通信を介して制御装置２００との間で情報の送受信を行ってもよい。

【0030】

制御装置２００は、操作部２１０と、記憶部２２０と、制御部２３０と、インタフェース２４０と、を備える。

【0031】

操作部２１０は、ユーザの操作を受け付ける。操作部２１０は、例えば、キーボード、ボタン、タッチスクリーン等の入力デバイスを用いることができる。操作部２１０は、制御部２３０と電気的に接続されている。操作部２１０は、操作に応じた情報を制御部２３０に出力する。

【0032】

記憶部２２０は、プログラム及びデータを記憶する。記憶部２２０は、制御部２３０の処理結果を一時的に記憶する。記憶部２２０は、記憶媒体を含む。記憶媒体は、例えば、ＲＯＭ、ＲＡＭ、メモリカード、光ディスク、又は光磁気ディスク等を含む。記憶部２２０は、表示装置１００に表示させる画像のデータを記憶してもよい。

【0033】

記憶部２２０は、例えば、制御プログラム２１１、ＶＲアプリケーション２１２等を記憶する。制御プログラム２１１は、例えば、制御装置２００を稼働させるための各種制御に関する機能を提供できる。ＶＲアプリケーション２１２は、仮想現実の画像を表示装置１００に表示させる機能を提供できる。記憶部２２０は、例えば、センサ１２０の検出結果を示すデータ等の表示装置１００から入力された各種情報を記憶できる。

【0034】

制御部２３０は、例えば、ＭＣＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｕｎｉｔ）、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等を含む。制御部２３０は、制御装置２００の動作を統括的に制御できる。制御部２３０の各種機能は、制御部２３０の制御に基づいて実現される。

【0035】

制御部２３０は、例えば、表示する画像を生成するＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）を含む。ＧＰＵは、表示装置１００に表示する画像を生成する。制御部２３０は、ＧＰＵが生成した画像を、インタフェース２４０を介して表示装置１００に出力する。本実施形態では、制御装置２００の制御部２３０は、ＧＰＵを含む場合について説明するが、これに限定されない。例えば、ＧＰＵは、表示装置１００又は表示装置１００の画像分離回路１５０に設けてもよい。この場合、表示装置１００は、例えば、制御装置２００、外部の電子機器等からデータを取得し、当該データに基づいてＧＰＵが画像を生成すればよい。

【0036】

インタフェース２４０には、ケーブル３００（図１参照）が接続されるコネクタを含む。インタフェース２４０は、ケーブル３００を介して、表示装置１００からの信号が入力される。インタフェース２４０は、制御部２３０から入力された信号を、ケーブル３００を介して表示装置１００へ出力する。インタフェース２４０は、例えば、無線通信装置とし、無線通信を介して表示装置１００との間で情報の送受信を行ってもよい。

【0037】

制御部２３０は、ＶＲアプリケーション２１２を実行すると、ユーザ（表示装置１００）の動きに応じた画像を表示装置１００に表示させる。制御部２３０は、画像を表示装置１００に表示させた状態で、ユーザ（表示装置１００）の変化を検出すると、当該変化した方向の画像へ表示装置１００に表示している画像を変化させる。制御部２３０は、画像の作成開始時に、仮想空間上の基準視点及び基準視線に基づく画像を作成し、ユーザ（表示装置１００）の変化を検出した場合、表示させている画像を作成する際の視点又は視線を、基準視点又は基準視線方向からユーザ（表示装置１００）の動きに応じて変更し、変更した視点又は視線に基づく画像を表示装置１００に表示させる。

【0038】

例えば、制御部２３０は、センサ１２０の検出結果に基づいて、ユーザの頭部の右方向への移動を検出する。この場合、制御部２３０は、現在表示させている画像から右方向へ視線を変化させた場合の画像へ変化させる。ユーザは、表示装置１００に表示されている画像の右方向の画像を視認することができる。

【0039】

例えば、制御部２３０は、センサ１２０の検出結果に基づいて、表示装置１００の移動を検出すると、検出した移動に応じて画像を変化させる。制御部２３０は、表示装置１００が前方へ移動したことを検出した場合、現在表示させている画像の前方へ移動した場合の画像へ変化させる。制御部２３０は、表示装置１００が後方方向へ移動したことを検出した場合、現在表示させている画像の後方へ移動した場合の画像へ変化させる。ユーザは、表示装置１００に表示されている画像から、自身の移動方向の画像を視認することができる。

【0040】

図４は、実施形態１に係る表示領域の画素配列を表す回路図である。本開示では、走査線ＧＬと、信号線ＳＬとは直角に交わっていると限らないが、図３では説明の便宜上、走査線ＧＬと、信号線ＳＬとは直角になっている。

【0041】

図４に示す画素Ｐｉｘは、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＧ、画素ＰｉｘＢのいずれかである。以下、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＧ及び画素ＰｉｘＢのそれぞれを区別しない場合には、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＧ及び画素ＰｉｘＢは、画素Ｐｉｘと称する。

【0042】

表示領域ＡＡには、図４に示す各画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢのスイッチング素子ＳＷ、信号線ＳＬ、走査線ＧＬ等が形成されている。信号線ＳＬは、各画素電極ＰＥ（図６参照）に画素信号を供給するための配線である。走査線ＧＬは、各スイッチング素子ＳＷを駆動するゲート信号を供給するための配線である。

【0043】

図４に示すように、画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢは、それぞれスイッチング素子ＳＷ及び液晶層ＬＣの容量を備えている。スイッチング素子ＳＷは、薄膜トランジスタにより構成されるものであり、この例では、ｎチャネルのＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型のＴＦＴで構成されている。後述する画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に絶縁膜が設けられ、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に、図４に示す保持容量Ｃｓが形成される。

【0044】

図５は、図５は、実施形態１において、表示領域の一部を拡大して模式的に示す模式図である。図６は、図５のＶＩ－ＶＩ’の断面を模式的に示す断面図である。図７は、図５のＶＩＩ－ＶＩＩ’の断面を模式的に示す断面図である。図８は、実施形態１のスペーサに対する遮光領域と、スリット部との関係を模式的に示す平面図である。

【0045】

図５及び図６に示すスペーサＳＰは、アレイ基板ＳＵＢ１と、対向基板ＳＵＢ２との間の距離を規制する部材である。スペーサＳＰの材料は、例えば、アクリル樹脂である。スペーサＳＰは、円柱状であり、図５には、スペーサＳＰの最大径が示されている。なお、スペーサＳＰは、形状は円柱に限られず、例えば角柱のスペーサとして形成されていてもよい。図５では、１つのスペーサを例示するが、実際には、複数のスペーサが配置されている。

【0046】

図５に示すように、複数の信号線ＳＬは、方向Ｖｘに間隔をおいて並ぶ。複数の走査線ＧＬは、方向Ｖｙに間隔をおいて並ぶ。導電層ＴＬは、平面視で複数の信号線ＳＬ及び複数の走査線ＧＬと重畳しており、格子状である。導電層ＴＬの方向Ｖｘの幅は、信号線ＳＬの方向Ｖｘの幅よりも大きい。走査線ＧＬの方向Ｖｙの幅は、導電層ＴＬの方向Ｖｙの幅よりも大きい。

【0047】

信号線ＳＬと走査線ＧＬとが交差する交差部分の一部に、スペーサＳＰが配置される。アレイ基板ＳＵＢ１に対する重ねずれで、スペーサＳＰの位置がばらつく可能性がある。スペーサＳＰが、導電層ＴＬと重なっていないと、スペーサＳＰが光学的なノイズの原因となる。そこで、実施形態１の導電層ＴＬは、スペーサＳＰの光学的な影響を抑制する遮光領域ＴＬＲを有している。

【0048】

遮光領域ＴＬＲは、導電層ＴＬの一部である。遮光領域ＴＬＲは、信号線ＳＬと走査線ＧＬとの交点を中心に弧を描く、外縁を有している。高精細化により、画素Ｐｉｘのサイズが小さいと相対的に遮光領域ＴＬＲの大きさが大きくなり、スペーサＳＰに対応する遮光領域ＴＬＲが画素Ｐｉｘの開口部が小さくなってしまう。遮光領域ＴＬＲの縁を円として、遮光領域ＴＬＲの面積を求め、遮光領域ＴＬＲの面積が画素Ｐｉｘの開口部の８０％以上であると、スリット部ＣＥＳが遮光領域ＴＬＲに重なりやすくなる。

【0049】

画素Ｐｉｘには、２つの信号線ＳＬ及び２つの走査線ＧＬに囲まれる開口部ごとに画素電極ＰＥ及びスイッチング素子ＳＷが配置されている。共通電極ＣＥは、複数の画素Ｐｉｘに渡って共通の電極である。共通電極ＣＥは、２つの信号線ＳＬ及び２つの走査線ＧＬに囲まれる開口部ごとに、スリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢを有している。スリット部ＣＥＳは、共通電極ＣＥの透光性導電材料がない部分である。スリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢは、画素電極ＰＥと重なっている。

【0050】

スリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢは、遮光領域ＴＬＲと重ならない。このため、画素ＰｉｘＲにある遮光領域ＴＬＲを避けて、画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＡは、遮光領域ＴＬＲがない画素ＰｉｘＧのスリット部ＣＥＳよりも方向Ｖｘの幅が小さくなっている。また、画素ＰｉｘＢにある遮光領域ＴＬＲを避けて、画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＢは、遮光領域ＴＬＲがない画素ＰｉｘＧのスリット部ＣＥＳよりも方向Ｖｘの幅が小さくなっている。画素ＰｉｘＲと画素ＰｉｘＢでは、遮光領域ＴＬＲが占める位置が異なることから、方向Ｖｙに対する画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳの長手方向の傾きは、方向Ｖｙに対する画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳの長手方向の傾きが異なっている。

【0051】

図５に示すように、半導体ＳＣは、Ｕ字状に形成されている。図７に示すように、信号線ＳＬと半導体ＳＣとは、コンタクトホールＣＨ１を介して電気的に接続している。半導体ＳＣと中継電極ＲＥとは、コンタクトホールＣＨ２を介して電気的に接続している。図６に示すように、中継電極ＲＥと画素電極ＰＥとは、コンタクトホールＣＨ３を介して電気的に接続している。

【0052】

実施形態１は、図６及び図７に示すように、カラーフィルタＣＦがアレイ基板ＳＵＢ１に設けられている。表示装置１００は、カラーフィルタＣＦ、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥがアレイ基板ＳＵＢ１に配置された、いわゆるＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ Ｏｎ Ａｒｒａｙ）構造を有する。

【0053】

図６及び図７に示すように、アレイ基板ＳＵＢ１は、ガラス基板や樹脂基板などの透光性を有する第１絶縁基板１０を基体としている。図５に示す走査線ＧＬは、ゲート電極ＧＬ１及びゲート電極ＧＬ２を有する。アレイ基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０の対向基板ＳＵＢ２と対向する側に、走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ１、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ２、第４絶縁膜１４、カラーフィルタＣＦ、第５絶縁膜１５、画素電極ＰＥ１、第６絶縁膜１６、共通電極ＣＥ１、第７絶縁膜１７、画素電極ＰＥ２、第１平坦化膜１８、第２平坦化膜１９、導電層ＴＬ、共通電極ＣＥ２、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。以下の説明において、アレイ基板ＳＵＢ１から対向基板ＳＵＢ２に向かう方向を上方、あるいは、単に上と称する。

【0054】

走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ１は、第１絶縁基板１０の上に位置している。第１絶縁膜１１は、走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ１及び第１絶縁基板１０の内側面１０Ａの上に位置している。第２絶縁膜１２は、第１絶縁膜１１の上に位置している。半導体ＳＣは、第２絶縁膜１２の上に位置している。第３絶縁膜１３は、半導体ＳＣ及び第２絶縁膜１２の上に位置している。走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ２は、第３絶縁膜１３の上に位置している。

【0055】

第４絶縁膜１４は、走査線ＧＬのゲート電極ＧＬ２及び第３絶縁膜１３の上に位置している。半導体ＳＣに重なる位置に、第３絶縁膜１３及び第４絶縁膜１４に穴をあけて、コンタクトホールＣＨ１が形成され、第４絶縁膜１４の上に形成された信号線ＳＬが、コンタクトホールＣＨ１を介して、半導体ＳＣに電気的に接続している。

【0056】

半導体ＳＣに重なる位置に、第３絶縁膜１３及び第４絶縁膜１４に穴をあけて、コンタクトホールＣＨ２が形成され、第４絶縁膜１４の上に形成された中継電極ＲＥが、コンタクトホールＣＨ２を介して、半導体ＳＣに電気的に接続している。

【0057】

第５絶縁膜１５は、信号線ＳＬ、中継電極ＲＥ及び第４絶縁膜１４の上に位置している。カラーフィルタＣＦは、第５絶縁膜１５の上に位置している。第６絶縁膜１６は、カラーフィルタＣＦ及び第５絶縁膜１５の上に位置している。

【0058】

図６に示すように、中継電極ＲＥに重なる位置に、第５絶縁膜１５及び第６絶縁膜１６に穴を画素電極ＰＥ１が、コンタクトホールＣＨ３を介して、中継電極ＲＥに電気的に接続している。第１中間絶縁膜１７Ａは、第６絶縁膜１６及び画素電極ＰＥ１の上に位置している。画素電極ＰＥ１は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＧＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｇａｌｌｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ）などの透光性を有する導電材料によって形成されている。

【0059】

共通電極ＣＥ１は、第１中間絶縁膜１７Ａの上に位置している。共通電極ＣＥ１は、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ、ＩＧＯなどの透光性を有する導電材料によって形成されている。第２中間絶縁膜１７Ｂは、共通電極ＣＥ１及び第１中間絶縁膜１７Ａの上に位置している。画素電極ＰＥ２は、第２中間絶縁膜１７Ｂの上に位置している。画素電極ＰＥ２は、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ、ＩＧＯなどの透光性を有する導電材料によって形成されている。第２中間絶縁膜１７Ｂには、コンタクトホールＣＨ４が形成されている。第２中間絶縁膜１７Ｂが画素電極ＰＥ２と共通電極ＣＥ１とが電気的に絶縁されつつ、コンタクトホールＣＨ４を介して、画素電極ＰＥ２が画素電極ＰＥ１と電気的に導通している。

【0060】

第３中間絶縁膜１７Ｃは、画素電極ＰＥ２及び第２中間絶縁膜１７Ｂの上に位置している。第１中間絶縁膜１７Ａ、第２中間絶縁膜１７Ｂ及び第３中間絶縁膜１７Ｃは、第７絶縁膜である。

【0061】

コンタクトホールＣＨ３には、第３中間絶縁膜１７Ｃの表面の凹部が形成されるので、凹部は、第１平坦化膜１８で平坦化される。第２平坦化膜１９は、第３中間絶縁膜１７Ｃ及び第１平坦化膜１８の上に位置している。

【0062】

第１平坦化膜１８は、ノボラック樹脂又はアクリル樹脂である。第２平坦化膜１９は、第１平坦化膜１８と同じ材料でもよいし、異なる材料でもよい。第２平坦化膜１９は、例えば、窒化シリコンなどの無機絶縁膜や、ノボラック樹脂又はアクリル樹脂などの有機絶縁膜である。

【0063】

導電層ＴＬは、第２平坦化膜１９の上に位置している。導電層ＴＬは金属の導電体であり、共通電極ＣＥに電気的に接続しているので、共通電極ＣＥ及び導電層ＴＬの単位面積当たりの抵抗値が小さくなる。導電層ＴＬは、例えばアルミニウム（Ａｌ）等の金属の単層でもよいが、アルミニウムの上層及び下層にチタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）を配置し、チタン／アルミニウム／チタンあるいは、モリブデン／アルミニウム／モリブデン等の複数の金属層で形成してもよい。導電層ＴＬは、薄膜干渉により、遮光性を有している。

【0064】

共通電極ＣＥ２は、導電層ＴＬ及び第２平坦化膜１９の上に位置している。共通電極ＣＥ２及びスリット部ＣＥＳは、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。

【0065】

対向基板ＳＵＢ２は、ガラス基板や樹脂基板などの透光性を有する第２絶縁基板２０を基体としている。対向基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＳＵＢ１と対向する側に、オーバーコート層２１、第２配向膜ＡＬ２を備えている。

【0066】

上述したアレイ基板ＳＵＢ１及び対向基板ＳＵＢ２は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が向かい合うように配置されている。液晶層ＬＣは、第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２との間に封入されている。第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２により、液晶分子の長軸が、図５に示す初期配向方向ＡＤと平行になるように配向されている。液晶層ＬＣは、誘電率異方性が負のネガ型液晶材料、あるいは、誘電率異方性が正のポジ型液晶材料によって構成されている。

【0067】

アレイ基板ＳＵＢ１がバックライトユニットと対向し、対向基板ＳＵＢ２が表示面側に位置する。バックライトユニットとしては、種々の形態のものが適用可能であるが、その詳細な構造については説明を省略する。

【0068】

第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１は、第１絶縁基板１０の外側面１０Ｂ、あるいは、バックライトユニットと対向する面に配置される。第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２は、第２絶縁基板２０の外側面２０Ｂ、あるいは、観察位置側の面に配置される。第１偏光板ＰＬ１の第１偏光軸及び第２偏光板ＰＬ２の第２偏光軸は、例えばＶｘ－Ｖｙ平面においてクロスニコルの位置関係にある。なお、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、位相差板などの他の光学機能素子を含んでいてもよい。

【0069】

例えば、液晶層ＬＣがネガ型液晶材料である場合であって、液晶層ＬＣに電圧が印加されていない状態では、液晶分子ＬＭは、Ｖｘ－Ｖｙ平面内において、その長軸が所定の方向に沿う方向に初期配向している。一方、液晶層ＬＣに電圧が印加された状態、つまり、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されたオン時において、液晶分子ＬＭは、電界の影響を受けてその配向状態が変化する。オン時において、入射した直線偏光は、その偏光状態が液晶層ＬＣを通過する際に液晶分子ＬＭの配向状態に応じて変化する。

【0070】

図５に示すように、スリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢは、遮光領域ＴＬＲと重ならない。図５及び図８に示すように、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤは、同様に、遮光領域ＴＬＲと重ならない。このため、画素ＰｉｘＲにある遮光領域ＴＬＲを避けて、画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣは、遮光領域ＴＬＲがない画素ＰｉｘＧのスリット部ＣＥＳよりも方向Ｖｘの幅が小さくなっている。また、画素ＰｉｘＢにある遮光領域ＴＬＲを避けて、画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＢ及びスリット部ＣＥＳＤは、遮光領域ＴＬＲがない画素ＰｉｘＧのスリット部ＣＥＳよりも方向Ｖｘの幅が小さくなっている。

【0071】

画素ＰｉｘＲと画素ＰｉｘＢでは、遮光領域ＴＬＲが占める位置が異なることから、方向Ｖｙに対する画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＡの長手方向の傾きは、方向Ｖｙに対する画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＢの長手方向の傾きが異なっている。図８に示すように、遮光領域ＴＬＲは、信号線ＳＬと走査線ＧＬとの交点を中心に弧を描くので、方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＲにおけるスリット部ＣＥＳＡとスリット部ＣＥＳＣとは、走査線ＧＬに対して線対称となる。同様に、方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＢにおけるスリット部ＣＥＳＢとスリット部ＣＥＳＤとは、走査線ＧＬに対して線対称となる。

【0072】

図８に示すように、方向Ｖｘに隣り合う画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＡと画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＢは、信号線ＳＬに対して線対称となる。言い換えると、方向Ｖｘに隣り合う画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＡの長手方向の延在方向と、画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＢの長手方向の延在方向とは、異なる。

【0073】

図８に示すように、方向Ｖｘに隣り合う画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＣと画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＤは、信号線ＳＬに対して線対称となる。言い換えると、方向Ｖｘに隣り合う画素ＰｉｘＲのスリット部ＣＥＳＣの長手方向の延在方向と、画素ＰｉｘＢのスリット部ＣＥＳＤの長手方向の延在方向とは、異なる。

【0074】

図８に示すように、方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＲにおいて、スリット部ＣＥＳＡとスリット部ＣＥＳＣとは、信号線ＳＬに対して線対称となる。方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＲにおいて、スリット部ＣＥＳＡの長手方向の延在方向と、スリット部ＣＥＳＣの長手方向の延在方向とは、異なる。

【0075】

図８に示すように、方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＢにおいて、スリット部ＣＥＳＣとスリット部ＣＥＳＤとは、信号線ＳＬに対して線対称となる。方向Ｖｙに隣り合う画素ＰｉｘＢにおいて、スリット部ＣＥＳＢの長手方向の延在方向と、スリット部ＣＥＳＤの長手方向の延在方向とは、異なる。

【0076】

図９は、実施形態１に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。図１０は、比較例のスペーサに対する遮光領域と、スリットとの関係を模式的に示す断面図である。

【0077】

図９に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。上述したように、スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤがある。図９において、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。遮光領域ＴＬＲが重畳する方向Ｖｘ及び方向Ｖｙに隣接する４つの画素のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤの長手方向の延在方向は、異なる。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲ以外の画素Ｐｉｘには、スリット部ＣＥＳがある。スリット部ＣＥＳがある画素Ｐｉｘは、Ａの文字で表されている。

【0078】

図１０に示すように、比較例のスペーサＳＰに対する遮光領域ＴＬＲは、スリット部ＣＥＳと重畳する。遮光領域ＴＬＲがスリット部ＣＥＳの一部を塞ぐので、遮光領域ＴＬＲがない画素ＰｉｘＧにおけるスリット部ＣＥＳよりも、遮光領域ＴＬＲが重なるスリット部ＣＥＳの導電材料がない部分が小さくなる。遮光領域ＴＬＲの周りの複数のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢは、遮光領域ＴＬＲの縁の円弧にそった電界の分布に影響を受ける。その結果、画素ＰｉｘＧの液晶分子の回転に比べ、遮光領域ＴＬＲの周りの画素ＰｉｘＲ及び画素ＰｉｘＢは、液晶分子の回転が乱れ、遮光領域ＴＬＲが表示に影響を与える可能性がある。

【0079】

これに対して、実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤは、スペーサＳＰに対する遮光領域ＴＬＲに重畳していない。実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤは、遮光領域ＴＬＲの縁の円弧にそった電界の分布に影響を受けにくい。

【0080】

図９に示すように、実施形態１のスリット部ＣＥＳの面積は、実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ又はスリット部ＣＥＳＤの面積よりも大きい。実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ又はスリット部ＣＥＳＤがスペーサＳＰの周りにあるだけなので、実施形態１のスリット部ＣＥＳの数が、実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ又はスリット部ＣＥＳＤの数よりも相対的に多いので、実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ又はスリット部ＣＥＳＤの影響を抑制できる。

【0081】

図１１は、実施形態１に係る表示領域と周辺領域の境界を模式的に示す断面図である。図８及び図１１に示すように、周辺領域ＧＡには、共通電位を供給する配線ＣＯＭが第４絶縁膜１４の上に配置されている。第５絶縁膜１５は、配線ＣＯＭを覆って保護している。第５絶縁膜１５の一部には、コンタクトホールＣＨＧが設けられ、配線ＣＯＭは、表示領域ＡＡから引き出されてきた共通電極ＣＥ１、導電層ＴＬ、共通電極ＣＥ２にコンタクトホールＣＨＧを介して、電気的に接続される。

【0082】

図８及び図１１に示すように、周辺領域ＧＡでは、対向基板ＳＵＢ２に遮光層ＢＭが設けられ、アレイ基板ＳＵＢ１の周辺領域ＧＡを遮光層ＢＭが隠すことができる。図８及び図１１に示すように、表示領域ＡＡでは、対向基板ＳＵＢ２に遮光層ＢＭが設けられていない。遮光層ＢＭは、黒色の樹脂材料によって形成されている。

【0083】

図８及び図１１に示す、実施形態１のＣＯＡ構造では、対向基板ＳＵＢ２の表示領域ＡＡには、カラーフィルタＣＦと、カラーフィルタＣＦの各色の境界にある遮光層がないので、画素Ｐｉｘが小さくても、画素Ｐｉｘの開口が遮光されない。

【0084】

以上説明したように、表示装置１００は、アレイ基板ＳＵＢ１と、アレイ基板ＳＵＢ１に対向する対向基板ＳＵＢ２と、を有している。対向基板ＳＵＢ２の表示領域ＡＡには、遮光層がない。これにより、アレイ基板ＳＵＢ１と対向基板ＳＵＢ２との重ねズレの影響が小さくなる。

【0085】

アレイ基板ＳＵＢ１は、方向Ｖｘに間隔をおいて並ぶ複数の信号線ＳＬと、方向Ｖｙに間隔をおいて並ぶ複数の走査線ＧＬと、を有する。アレイ基板ＳＵＢ１のカラーフィルタＣＦは、隣り合う２つの信号線ＳＬ及び隣り合う２つの走査線ＧＬに囲まれる開口と重なる位置に配置されている。アレイ基板ＳＵＢ１は、画素Ｐｉｘ毎に配置された複数の画素電極ＰＥと、絶縁膜を介して複数の画素電極ＰＥと重畳する共通電極ＣＥとを有している。共通電極ＣＥには、開口のそれぞれに設けられたスリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤを有している。

【0086】

第６絶縁膜１６は、カラーフィルタＣＦを覆う。コンタクトホールＣＨ３は、第６絶縁膜１６に開けられた凹部であって、画素電極ＰＥと、半導体ＳＣとを中継電極ＲＥを介して電気的に接続する。

【0087】

導電層ＴＬは、平面視で、スペーサＳＰが配置され、方向Ｖｘ及び方向Ｖｙの両方の導電層の幅を拡幅した遮光領域ＴＬＲを有している。

【0088】

実施形態１において、スリット部ＣＥＳ、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤは、遮光領域ＴＬＲとは非重畳である。実施形態１のスリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤは、遮光領域ＴＬＲの影響が抑制されている。その結果、スペーサＳＰに対応する遮光領域ＴＬＲが表示に与える影響は、抑制される。

【0089】

（実施形態２）
図１２は、実施形態２に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。以下の説明において、同様の構成要素について実施形態１と同一の符号を付して、説明を省略する。

【0090】

図１２に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤがある。図１２において、スリット部ＣＥＳＡ、スリット部ＣＥＳＢ、スリット部ＣＥＳＣ及びスリット部ＣＥＳＤの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＲに加え、スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＲにも、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣがある。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢに加え、スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＢにも、スリット部ＣＥＳＢ及びスリット部ＣＥＳＤがある。画素ＰｉｘＧには、スリット部ＣＥＳがある。スリット部ＣＥＳがある画素Ｐｉｘは、Ａの文字で表されている。

【0091】

遮光領域ＴＬＲが重畳する画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲと同じ色であって、かつ遮光領域ＴＬＲと非重畳の画素のスリット部の面積は、遮光領域ＴＬＲが重畳するスリット部の面積と同じである。同じ色の画素のスリット部の面積が同じになるので、スペーサＳＰの周りの表示品位の低下が目立たなくなる。

【0092】

（実施形態３）
図１３は、実施形態３に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。以下の説明において、実施形態１および実施形態２と同様の構成要素について同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

【0093】

実施形態３では、実施形態１とは異なり、２つの列に跨がってスペーサＳＰがない。図１３に示すように、スペーサＳＰは、信号線ＳＬ上にはなく、走査線ＧＬ上に配置される。

【0094】

図１３に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。遮光領域は、信号線ＳＬに非重畳で、走査線ＧＬに重畳するスペーサＳＰが配置される部分毎に配置される。つまり、導電層ＴＬは、遮光領域で、方向Ｖｙに幅を拡幅する。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣがある。図１３において、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳがある。画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＧには、スリット部ＣＥＳがある。スリット部ＣＥＳがある画素Ｐｉｘは、Ａの文字で表されている。

【0095】

（実施形態４）
図１４は、実施形態４に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。以下の説明において、実施形態１および実施形態２と同様の構成要素について同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

【0096】

実施形態４では、実施形態３とは異なり、スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＲに加え、スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＲにも、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢがある。

【0097】

図１４に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。遮光領域は、信号線ＳＬに非重畳で、走査線ＧＬに重畳するスペーサＳＰが配置される部分毎に配置される。つまり、導電層ＴＬは、遮光領域で、方向Ｖｙに幅を拡幅する。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣがある。図１４において、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣがある。画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＧには、スリット部ＣＥＳがある。スリット部ＣＥＳがある画素Ｐｉｘは、Ａの文字で表されている。

【0098】

（実施形態５）
図１５は、実施形態５に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。以下の説明において、実施形態１および実施形態２と同様の構成要素について同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

【0099】

実施形態５では、実施形態１とは異なり、２つの行に跨がってスペーサＳＰがない。図１５に示すように、スペーサＳＰは、走査線ＧＬ上にはなく、信号線ＳＬ上に配置される。

【0100】

図１５に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。遮光領域は、走査線ＧＬに非重畳で、信号線ＳＬに重畳するスペーサＳＰが配置される部分毎に配置される。つまり、導電層ＴＬは、遮光領域で、方向Ｖｘに幅を拡幅する。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢがある。スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＲ以外の画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＧには、スリット部ＣＥＳがある。スリット部ＣＥＳがある画素Ｐｉｘは、Ａの文字で表されている。

【0101】

（実施形態６）
図１６は、実施形態６に係る表示領域の画素配列とスペーサとの関係を模式的に示す断面図である。以下の説明において、実施形態１から実施形態５と同様の構成要素について同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

【0102】

実施形態６では、実施形態５とは異なり、スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲに加え、スペーサＳＰが周りにない画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲにも、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＣがある。

【0103】

図１６に示すように、複数のスペーサＳＰが一定の間隔で配置されている。遮光領域は、走査線ＧＬに非重畳で、信号線ＳＬに重畳するスペーサＳＰが配置される部分毎に配置される。つまり、導電層ＴＬは、遮光領域で、方向Ｖｘに幅を拡幅する。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢがある。スペーサＳＰの周りの画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲ以外の画素ＰｉｘＢ及び画素ＰｉｘＲには、スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢがある。スリット部ＣＥＳＡ及びスリット部ＣＥＳＢの区別は、Ｆの文字の向きで表されている。スリット部ＣＥＳがある画素ＰｉｘＧは、Ａの文字で表されている。

【0104】

（実施形態７）
図１７は、実施形態７に係る表示領域の画素配列を表す回路図である。図１８は、実施形態７に係る表示パネルの一例を示す模式図である。以下の説明において、実施形態１から実施形態６と同様の構成要素について同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

【0105】

実施形態７では、実施形態１とは、画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢの配置が異なる。

【0106】

図１７に示すように、方向Ｖｘ（第１方向）において、画素ＰｉｘＲが、画素ＰｉｘＢと画素ＰｉｘＧとに挟まれており、方向Ｖｙ（第２方向）において、画素ＰｉｘＲが、画素ＰｉｘＢと画素ＰｉｘＧとに挟まれている。

【0107】

また、方向Ｖｘにおいて、画素ＰｉｘＧが、画素ＰｉｘＲと画素ＰｉｘＢとに挟まれており、方向Ｖｙにおいて、画素ＰｉｘＧが、画素ＰｉｘＲと画素ＰｉｘＢとに挟まれている。

【0108】

また、方向Ｖｘにおいて、画素ＰｉｘＢが、画素ＰｉｘＧと画素ＰｉｘＲとに挟まれており、方向Ｖｙにおいて、画素ＰｉｘＢが、画素ＰｉｘＧと画素ＰｉｘＲとに挟まれている。

【0109】

方向Ｖｘにおいて、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＧ、画素ＰｉｘＢが、順に繰り返し並べられている。方向Ｖｙにおいて、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＢ、画素ＰｉｘＧが、順に繰り返し並べられている。なお、方向Ｖｙにおける配列は、画素ＰｉｘＲ、画素ＰｉｘＧ、画素ＰｉｘＢの順に繰り返し並べられるようにしてもよい。

【0110】

図１８に示すカラーフィルタＣＦＲ１、カラーフィルタＣＦＧ１、カラーフィルタＣＦＢ１は、例えば赤（第１色：Ｒ）、緑（第２色：Ｇ）、青（第３色：Ｂ）の３色に着色された色領域が周期的に配列されている。図１７に示す各画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢに、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の色領域が対応付けられる。そして、３色の色領域に対応する画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢは、１組で画素となる。なお、カラーフィルタは、４色以上の色領域を含んでいてもよい。画素ＰｉｘＲ、ＰｉｘＧ、ＰｉｘＢがそれぞれ、副画素と呼ばれることもある。

【0111】

図１８に示すカラーフィルタＣＦＲ１、カラーフィルタＣＦＧ１、カラーフィルタＣＦＢ１は、２つの信号線ＳＬ及び２つの走査線ＧＬに囲まれる開口部に配置されている。

【0112】

図１８に示すように、カラーフィルタＣＦＲ１同士は、同じ赤色のカラーフィルタＣＦＲ２で接続されており、カラーフィルタＣＦＲ１、カラーフィルタＣＦＲ２を繋ぐと、方向Ｖｘ及び方向Ｖｙのそれぞれに交差する斜め方向に同じ色のカラーフィルタが配置される。同様に、カラーフィルタＣＦＧ１同士は、同じ緑色のカラーフィルタＣＦＧ２で接続され、カラーフィルタＣＦＢ１同士は、同じ青色のカラーフィルタＣＦＢ２で接続されている。

【0113】

カラーフィルタＣＦＲ１と、カラーフィルタＣＦＲ２とは、一体形成されているので、説明の都合上、カラーフィルタＣＦＲ１と、カラーフィルタＣＦＲ２とが区別されない場合は、以下、カラーフィルタＣＦＲという。同様に、カラーフィルタＣＦＧ１と、カラーフィルタＣＦＧ２とが区別されない場合は、以下、カラーフィルタＣＦＧという。カラーフィルタＣＦＢ１と、カラーフィルタＣＦＢ２とが区別されない場合は、以下、カラーフィルタＣＦＢという。さらに、カラーフィルタＣＦＲ、カラーフィルタＣＦＧ、カラーフィルタＣＦＢを区別しない場合、カラーフィルタＣＦＲ、カラーフィルタＣＦＧ、カラーフィルタＣＦＢは、カラーフィルタＣＦという。

【0114】

以上、好適な実施の形態を説明したが、本開示はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本開示の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本開示の技術的範囲に属する。

【0115】

例えば、走査線ＧＬは、ゲート電極ＧＬ１及びゲート電極ＧＬ２を含むが、ゲート電極ＧＬ１又はゲート電極ＧＬ２のみを含んでいる態様でもよい。共通電極ＣＥは、共通電極ＣＥ１及び共通電極ＣＥ２を含むが、共通電極ＣＥ１又は共通電極ＣＥ２のみを含む態様でもよい。画素電極ＰＥは、画素電極ＰＥ１及び画素電極ＰＥ２を含むが、画素電極ＰＥ１又は画素電極ＰＥ２のみを含んでいる態様でもよい。

【符号の説明】

【0116】

１ 表示システム
１０ 第１絶縁基板
１１ 第１絶縁膜
１２ 第２絶縁膜
１３ 第３絶縁膜
１４ 第４絶縁膜
１５ 第５絶縁膜
１６ 第６絶縁膜
１７ 第７絶縁膜
１７Ａ 第１中間絶縁膜
１７Ｂ 第２中間絶縁膜
１７Ｃ 第３中間絶縁膜
１８ 第１平坦化膜
１９ 第２平坦化膜
２０ 第２絶縁基板
２０Ｂ 外側面
２１ オーバーコート層
１００ 表示装置
１１０ 表示パネル
１１２ 表示制御回路
２００ 制御装置
４１０ レンズ
ＡＡ 表示領域
ＢＭ 遮光層
ＣＥ、ＣＥ１、ＣＥ２ 共通電極
ＣＥＳ、ＣＥＳＡ、ＣＥＳＢ、ＣＥＳＣ、ＣＥＳＤ スリット部
ＣＦ カラーフィルタ
ＧＡ 周辺領域
ＧＬ 走査線
ＰＥ、ＰＥ１、ＰＥ２ 画素電極
ＳＬ 信号線
ＳＵＢ１ アレイ基板
ＳＵＢ２ 対向基板
ＴＬ 導電層
ＴＬＲ 遮光領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】