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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024169126
(43)【公開日】2024-12-05
(54)【発明の名称】Ｘ線回折測定装置
(51)【国際特許分類】
G01N 23/205 20180101AFI20241128BHJP
G01N 23/20008 20180101ALI20241128BHJP
【ＦＩ】
G01N23/205
G01N23/20008
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023086343
(22)【出願日】2023-05-25
(71)【出願人】
【識別番号】000005197
【氏名又は名称】株式会社不二越
(74)【代理人】
【識別番号】100176072
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 功
(74)【代理人】
【識別番号】100169225
【弁理士】
【氏名又は名称】山野 明
(72)【発明者】
【氏名】乾 典規
【テーマコード（参考）】
2G001
【Ｆターム（参考）】
2G001AA01
2G001BA18
2G001CA01
2G001DA06
2G001DA09
2G001KA01
2G001KA07
2G001LA02
2G001SA02
(57)【要約】
【課題】Ｘ線回折測定装置を小型化する。
【解決手段】Ｘ線回折測定装置は、基板１６と、基板１５の孔から試料へＸ線を照射するコリメータ１２と、基板１６上において、コリメータ１２の中心からの距離がＤ１の位置に設けられ、試料から回折した回折環を検出するチップ１５Ａとチップ１５Ｂと、コリメータの中心からの距離がＤ１より長いＤ２の位置に設けられ、試料から回折した回折環を検出するチップ１６を備える。Ｄ１とＤ２とは、α相とγ相のそれぞれに対応した回折角等のパラメータを用いた関係式により示される。
【選択図】図５
【解決手段】Ｘ線回折測定装置は、基板１６と、基板１５の孔から試料へＸ線を照射するコリメータ１２と、基板１６上において、コリメータ１２の中心からの距離がＤ１の位置に設けられ、試料から回折した回折環を検出するチップ１５Ａとチップ１５Ｂと、コリメータの中心からの距離がＤ１より長いＤ２の位置に設けられ、試料から回折した回折環を検出するチップ１６を備える。Ｄ１とＤ２とは、α相とγ相のそれぞれに対応した回折角等のパラメータを用いた関係式により示される。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板と、
前記基板の孔から試料へＸ線を照射するコリメータと、
前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ１は、検出面から前記試料までの距離をＣＬとし、第１の相に対応する回折角を２θ０１とし、前記距離Ｄ１と平行な前記検出面の幅をＷ１とすると、
となり、前記試料から回折した回折環を検出する第１検出部と、
前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ２は、前記距離Ｄ１より長く、前記第１の相とは異なり回折角が２θ０１と異なる第２の相に対応する回折角を２θ０２とし、前記距離Ｄ２と平行な前記検出面の幅をＷ２とすると、
となり、前記試料から回折した回折環を検出する第２検出部と、
を備えるＸ線回折測定装置。
前記基板の孔から試料へＸ線を照射するコリメータと、
前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ１は、検出面から前記試料までの距離をＣＬとし、第１の相に対応する回折角を２θ０１とし、前記距離Ｄ１と平行な前記検出面の幅をＷ１とすると、
【数1】
前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ２は、前記距離Ｄ１より長く、前記第１の相とは異なり回折角が２θ０１と異なる第２の相に対応する回折角を２θ０２とし、前記距離Ｄ２と平行な前記検出面の幅をＷ２とすると、
【数2】
を備えるＸ線回折測定装置。
【請求項2】
前記第１検出部は、前記コリメータを挟んで２つ設けられており、
前記第２検出部は、２つの前記第１検出部の中心及び前記コリメータの中心を結ぶ線と直交する方向において、前記距離Ｄ２の位置に設けられている請求項１に記載のＸ線回折測定装置。
前記第２検出部は、２つの前記第１検出部の中心及び前記コリメータの中心を結ぶ線と直交する方向において、前記距離Ｄ２の位置に設けられている請求項１に記載のＸ線回折測定装置。
【請求項3】
前記第１の相は、α相であり、
前記第１検出部は、α相Ｋα回折を検出し、
前記第２の相は、γ相であり、
前記第２検出部は、γ相Ｋα回折を検出する請求項１に記載のＸ線回折測定装置。
前記第１検出部は、α相Ｋα回折を検出し、
前記第２の相は、γ相であり、
前記第２検出部は、γ相Ｋα回折を検出する請求項１に記載のＸ線回折測定装置。
【請求項4】
前記ＣＬは、前記第１の相又は前記第２の相に対応して、回折プロフィル幅をＷｐとし、半価幅をＦＷＨＭとし、回折角を２θ０とすると、
となる請求項１から３のいずれか１項に記載のＸ線回折測定装置。
【数3】
【請求項5】
前記基板は、前記第１検出部を前記距離Ｄ１の方向に、前記第２検出部を前記距離Ｄ２の方向に位置変更可能な機構が設けられている請求項１から３のいずれか１項に記載のＸ線回折測定装置。
【請求項6】
前記コリメータの中心を軸として、前記試料と、前記第１検出部及び前記第２検出部とを前記軸周りに相対的に回転させる回転機構を備える請求項１から３のいずれか１項に記載のＸ線回折測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｘ線回折測定装置に関する。
【背景技術】
【0002】
試料を分析するために、試料へ向けてＸ線を照射し、試料で回折したＸ線の回折環を検出する方法がある。検出された回折環によることで、試料の半価幅（鉄鋼材料では硬さに相当）や残留応力、残留オーステナイト等を分析することが可能である。
【0003】
例えば特許文献１には、α相（フェライト相又はマルテンサイト相）と、γ相（オーステナイト相）との理論回折Ｘ線ピーク強度比から、γ相の体積率を求めることが開示されている。また、特許文献２には、試料にＸ線を照射して得た回折線のピーク付近をガウス曲線で近似して回折線の広がりを評価し、硬度を推定することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平７－１４００９４号公報
【特許文献2】特開昭５９－１５５７４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従来方法では複数の相に対応する回折を検出して、試料の物性分析に用いている。例えば残留オーステナイト量の分析では、回折強度の高いα相Ｋα回折とγ相Ｋα回折とを用いている。しかしながら、通常、試料における各相の回折角は異なる。例えば鉄鋼材をＣｒターゲット線で測定する場合、α相Ｋα回折で回折角が約１５６．４°、γ相Ｋα回折で回折角が約１２８．８°と異なる。このように回折角が異なる複数の相の回折をそれぞれ検出しようとした場合、測角機構等を搭載した大型の装置により検出器を円弧上に移動させて回折Ｘ線を得るか、大型の２次元検出器を搭載した装置を使用していた。
【0006】
上記課題に鑑み、本発明は、装置の小型化をすることができるＸ線回折測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するために、本発明に係るＸ線回折測定装置は、基板と、前記基板の孔から試料へＸ線を照射するコリメータと、前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ１は、検出面から前記試料までの距離をＣＬとし、第１の相に対応する回折角を２θ０１とし、前記距離Ｄ１と平行な前記検出面の幅をＷ１とすると、
【0008】
【数1】
【0009】
となり、前記試料から回折した回折環を検出する第１検出部と、前記基板上において、前記コリメータの中心からの距離Ｄ２は、前記距離Ｄ１より長く、前記第１の相とは異なり回折角が２θ０１と異なる第２の相に対応する回折角を２θ０２とし、前記距離Ｄ２と平行な前記検出面の幅をＷ２とすると、
【0010】
【数2】
【0011】
また、前記第１検出部は、前記コリメータを挟んで２つ設けられており、前記第２検出部は、２つの前記第１検出部の中心及び前記コリメータの中心を結ぶ線と直交する方向において、前記距離Ｄ２の位置に設けられている。
【0012】
また、前記第１の相は、α相であり、前記第１検出部は、α相Ｋα回折を検出し、前記第２の相は、γ相であり、前記第２検出部は、γ相Ｋα回折を検出する。
【0013】
また、前記ＣＬは、前記第１の相又は前記第２の相に対応して、回折プロフィル幅をＷｐとし、半価幅をＦＷＨＭとし、回折角を２θ０とすると、
【0014】
【数3】
【0015】
また、前記基板は、前記第１検出部を前記距離Ｄ１の方向に、前記第２検出部を前記距離Ｄ２の方向に位置変更可能な機構が設けられている。
【0016】
また、前記コリメータの中心を軸として、前記試料と、前記第１検出部及び前記第２検出部とを前記軸周りに相対的に回転させる回転機構を備える。
【発明の効果】
【0017】
本発明に係るＸ線回折測定装置によれば、装置の小型化をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の第一実施形態に係るＸ線回折測定装置の構成例を示す図である。
【図4】回折Ｘ線と各部の位置関係を示す図である。
【図5】第１検出部と第２検出部の配置を示す図である。
【図6】本発明の第二実施形態に係る回転を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
―――第一実施形態―――
まず、第一実施形態について説明する。
まず、第一実施形態について説明する。
【0020】
図１は、本実施形態に係るＸ線回折測定装置１の構成の一例を示す図である。Ｘ線回折測定装置１は、試料２に対してＸ線を照射し、試料２で回折したＸ線を検出する。試料２は、分析対象物であり、例えば歯車、クランク軸、シャフト等の自動車部品や、その他の機械部品等である。特に、試料２は、鉄鋼材である。検出結果は、例えばコンピュータ等で分析される。分析される試料２のパラメータとしては、例えば試料２の硬さ（例えば、鉄鋼材料では回折Ｘ線プロフィルの半価幅との相関）や、残留応力（例えば、回折角あるいは回折環半径のひずみから算出）、残留オーステナイト量（例えば、α相とγ相の各回折Ｘ線のプロフィルの積分強度比）等が挙げられる。
【0021】
本実施形態では、残留オーステナイト量を分析するために、α相とγ相の回折Ｘ線をＸ線回折測定装置１で検出する場合を例として説明する。なお、本実施形態のＸ線回折測定装置１は異なる相の回折Ｘ線を検出可能であり、α相とγ相に限定されない。また、分析されるパラメータは残留オーステナイト量以外でも適用可能である。さらに、検出された回折Ｘ線を用いてパラメータを分析する方法は限定されない。
【0022】
＜Ｘ線回折測定装置１の構成＞
図１に示すように、Ｘ線回折測定装置１は、本体部１０があり、管球１１と、コリメータ１２と、基板１３と、検出部１４とを主な構成要素としている。
図１に示すように、Ｘ線回折測定装置１は、本体部１０があり、管球１１と、コリメータ１２と、基板１３と、検出部１４とを主な構成要素としている。
【0023】
管球１１は、Ｘ線を生成し、生成したＸ線を試料２に向けて照射する照射部としての機能を有する。管球１１は、ガラスや金属等の材料によって構成される。
【0024】
コリメータ１２は、管球１１により生成したＸ線の照射範囲を調整する機能を有する。コリメータ１２は、管球１１の下方（基板側）に設けられ、基板１３の下部まで延伸している。管球１１で生成されたＸ線は、コリメータ１２を通り、試料２へ照射される。
【0025】
基板１３は、板状部材であり、後述する検出部１４が設けられている。また、基板１３には孔が設けられており、管球１１側から伸びるコリメータ１２がこの孔から試料２側へ突出している。基板１３には検出部１４の検出結果（画素信号）を例えばコンピュータへ送信するためのコネクタが設けられている。
【0026】
検出部１４は、四角形状であり、基板１３上において試料２側（管球１１とは反対の面）に設けられている。検出部１４は、試料２からの回折したＸ線を検出する。具体的には、検出部１４は、回折したＸ線の環状の回折像である回折環を検出する。回折環は、デバイ環やデバイ・シェラー環とも呼ばれる。すなわち、検出部１４は回折環を撮像するための撮像素子であり、例えばＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）センサである。ＳＯＩセンサは高感度及び高分解能であるためα相Ｋα回折とγ相Ｋα回折とを正確に検出することができる。
【0027】
図２は、Ｘ線回折測定装置１における検出部１４を示している。すなわち、図２は、図１におけるＸ線回折測定装置１の検出部１４周りの底面図である。図２に示すように、検出部１４は、第１検出部としてのチップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、第２検出部としてのチップ１６とを含んで構成される。本実施形態では、第１検出部としてチップ１５Ａ及びチップ１５Ｂの２つを設けることとしているが、数は限定されず、例えば１つとすることも可能である。
【0028】
チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、コリメータ１２を挟んでそれぞれ設けられている。これは、コリメータ１２に近い位置に形成される回折環を観測するためである。すなわち、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、特定の相に対応する回折環を検出する。特定の相は、第１の相である。本実施形態では、第１の相は、α相であり、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、α相Ｋα回折を検出する。
【0029】
図２では、回折環の一例をライン２０、ライン２１、ライン２２として示している。ライン２０はα相Ｋα回折に対応し、ライン２１はγ相Ｋβ回折に対応し、ライン２２はγ相Ｋα回折に対応する。
【0030】
図３は、回折プロフィルを示している。縦軸は強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）、横軸はコリメータ１２の中心を基準とした位置（px）としている。図３に示すように、回折環は、中心に近い位置にＬ１としてα相Ｋα回折が現れ、α相Ｋα回折よりも離れた位置にＬ３としてγ相Ｋα回折が現れる。これはそれぞれの回折Ｘ線の回折角が離れているためである。チップ１５Ａとチップ１５Ｂは、このように形成されるα相Ｋα回折を検出する。なお、チップ１５Ａとチップ１５Ｂの適切な設置位置の詳細については後述する。図３に示すように、α相Ｋα回折の付近には、Ｌ２としてγ相Ｋβ回折も現れる。すなわち、チップ１５Ａとチップ１５Ｂでα相Ｋα回折を検出する場合には、γ相Ｋβ回折の成分も検出される可能性があるため、例えばＶ（バナジウム）フィルタ等によってγ相Ｋβ回折の成分を減衰（強度低下）している。
【0031】
チップ１６は、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂよりも離れた位置に設けられる。そして、チップ１６は、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂの中心及びコリメータ１２の中心を結ぶ線と直交する方向に設けられている。チップ１６は、特定の相に対応する回折環を検出する。特定の相は、第１の相とは異なる第２の相である。本実施形態では、第２の相は、γ相であり、チップ１６は、γ相Ｋα回折を検出する。
【0032】
図３に示すように、チップ１６は、α相Ｋα回折と離れた位置に形成されるγ相Ｋα回折を検出する。なお、チップ１６の適切な設置位置の詳細については後述する。α相Ｋα回折とγ相Ｋα回折とは位置が離れているため、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、チップ１６のそれぞれで各相のＫα回折を検出するようにしている。
【0033】
＜各チップの配置＞
次に、チップ１５Ａと、チップ１５Ｂと、チップ１６との配置の説明をする。
チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、α相Ｋα回折を検出し、チップ１６は、γ相Ｋα回折を検出できるように、コリメータ１２を基準として基板１３上に配置される。
次に、チップ１５Ａと、チップ１５Ｂと、チップ１６との配置の説明をする。
チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、α相Ｋα回折を検出し、チップ１６は、γ相Ｋα回折を検出できるように、コリメータ１２を基準として基板１３上に配置される。
【0034】
図４は、試料２で回折したＸ線をチップ１５Ｂで検出する場合の一例を示している。図４は、チップ１５Ａとチップ１５Ｂとチップ１６の配置と距離の関係を示している。図４に示すように、コリメータ１２から照射されたＸ線は、試料２で回折してチップ１５Ｂへ到達する。図４ではα相Ｋα回折の例を示しており、回折角は２θ０１（ｄｅｇｒｅｅ）とする。チップ１５Ｂの検出面から試料２までの距離をＣＬ（ｍｍ）とする。検出面は、Ｘ線を検出可能な面であり、例えばピクセル（画素）で構成される。図４では、Ｘ線の回折プロフィルの一例をＰとして示している。回折プロフィルは、回折環の中心座標（コリメータ１２の中心）を基準とした半径方向の強度分布である。図４の回折プロフィルＰは、コリメータ１２の中心から距離Ｒ（ｍｍ）の位置で回折強度が最大であるプロフィルピークＰｍとなっている。すなわち、距離Ｒは回折Ｘ線の最大強度の位置である。また、コリメータ１２の中心からチップ１５Ｂの検出面の端部までの距離をＤ１（ｍｍ）とし、チップ１５Ｂの検出面の幅をＷ１（ｍｍ）とする。なお、チップ１５Ｂの幅とは、距離Ｄ１と平行なチップ１５Ｂの検出面の長さである。このように各パラメータを考えると、距離Ｒは、以下の式（１）及び式（２）のそれぞれで示すことができる。回折角は材質や組織ごとに定数であるため、距離ＲはＣＬで決まることとなる。また、式（１）で距離Ｒが定まれば、Ｗ１は定数であるため、式（２）より距離Ｄ１の最適な値を求めることも可能である。
【0035】
【数4】
【0036】
上記の式（１）と式（２）について距離Ｄ１に対して解くと、以下の式（３）を得る。
【0037】
【数5】
【0038】
距離Ｄ１は、コリメータ１２の直径をｄとすると、Ｄ１＞ｄ／２の関係となる。このようにチップ１５Ｂは、コリメータ１２の中心を基準として距離Ｄ１の位置に配置されることで、α相Ｋα回折に対応する回折角２θ０１の回折Ｘ線を検出面で捉えることができる。なお、特に検出面の中心部分で回折強度が高くなるように回折環を捉えることが可能となる。
【0039】
上記の式（３）は、最も好ましいチップ１５Ｂの配置を示しており、多少位置を変更することとしてもよい。すなわち、以下の式（４）のように位置を設定することも可能である。この場合には、距離Ｄ１は、式（３）の±３０％と設定してもよい。なお、±３０％については、これに限定されず、許容値を大きくしてもよい。
【0040】
【数6】
【0041】
なお、式（３）及び式（４）では、チップ１５Ｂに対応して説明したが、チップ１５Ａについても同様の式となる。すなわち、チップ１５Ａの検出面から試料２までの距離＝チップ１５Ｂの検出面から試料２までの距離＝距離ＣＬとなる。ここで、回折プロフィルのプロフィル幅をＷｐ（ｍｍ）とする。プロフィル幅とは、ガウス幅であり、中心の±σ分の幅である。距離Ｒを中心として、＋σ分をＲＬ、－σ分をＲＨとすると、Ｗｐ＝ＲＬ－ＲＨとなる。すなわち、プロフィル幅Ｗｐを半価幅（半値全幅）であるＦＷＨＭ（ｄｅｇｒｅｅ）を用いると、以下の式（５）を得る。なお、式（５）では、回折角を一般化して２θ０として示している。
【0042】
【数7】
【0043】
この式（５）を距離ＣＬについて解くと、以下の式（６）を得る。
【0044】
【数8】
【0045】
このように、式（６）でチップ１５Ｂの検出面から試料２までの距離ＣＬを算出することとしてもよい。式（６）は、α相に対応して算出することができる。具体的には、α相に対応する回折角２θ０（すなわち回折角２θ０１）、プロフィル幅Ｗｐ、半価幅ＦＷＨＭを入れることで、相に対応したＣＬを算出することができる。なお、例えばγ相など、他の相に対応して距離ＣＬを算出することも可能である。また、この式（６）を式（３）や式（４）のＣＬに代入することによって、距離Ｄ１の式からＣＬをキャンセルすることも可能である。
【0046】
上記の式（３）は、α相Ｋα回折に対応して、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂの設置位置として説明したが、γ相Ｋα回折に対応したチップ１６の設置位置も同様の関係式となる。すなわち、チップ１６の検出面から試料２までの距離として上記と同様の距離ＣＬを用い、γ相Ｋα回折に対応した回折角を回折角は２θ０２（ｄｅｇｒｅｅ）とし、コリメータ１２の中心からチップ１６の検出面の端部までの距離をＤ２（ｍｍ）とし、チップ１６の検出面の幅をＷ２（ｍｍ）とする。チップ１６の幅とは、距離Ｄ２と平行なチップ１６の検出面の長さである。このように各パラメータを設定すると、距離Ｄ２は、以下の式（７）となる。距離Ｄ２については、上記のα相とは異なり、回折角が２θ０１とは異なり、距離Ｄ１よりも長くなる。
【0047】
【数9】
【0048】
このようにして、距離Ｄ２は、チップ１５Ａ等における距離Ｄ２と平行な長さをｈとすると、Ｄ２＞ｈ／２の関係となる。このようにすることで、チップ１６で、γ相Ｋα回折に対応する回折角２θ０２の回折Ｘ線を検出面で捉えることができる。なお、特に検出面の中心部分で回折強度が高くなるように回折環を捉えることが可能となる。
【0049】
上記の式（７）は、最も好ましいチップ１６の配置を示しており、多少位置を変更することとしてもよい。すなわち、以下の式（８）のように位置を設定することも可能である。この場合には、距離Ｄ２は、式（７）の±３０％と設定してもよい。なお、±３０％については、これに限定されず、許容値を大きくしてもよい。
【0050】
【数10】
【0051】
なお、式（６）を式（７）や式（８）のＣＬに代入することによって、距離Ｄ２の式からＣＬをキャンセルすることも可能である。
【0052】
＜効果＞
【0053】
以上、第一実施形態において、Ｘ線回折測定装置１は、基板１３と、基板１３の孔から試料２へＸ線を照射するコリメータ１２と、基板１３上において、コリメータ１２の中心からの距離Ｄ１は、検出面から試料２までの距離をＣＬとし、第１の相に対応する回折角を２θ０１とし、距離Ｄ１と平行な検出面の幅をＷ１とすると、式（４）となり、試料２から回折した回折環を検出するチップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、基板１３上において、コリメータ１２の中心からの距離Ｄ２は、距離Ｄ１より長く、第１の相とは異なり回折角が２θ０１と異なる第２の相に対応する回折角を２θ０２とし、距離Ｄ２と平行な検出面の幅をＷ２とすると、式（８）となり、試料２から回折した回折環を検出するチップ１６と、を備える。
【0054】
この構成によれば、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂを式（４）に基づいて配置することでα相に対応する回折環を検出することができ、さらに、チップ１６を式（８）に基づいて配置することでγ相に対応する回折環を適切に検出することができる。すなわち、それぞれに対応する相の検出を適切な位置で行うことができるため、余分な検出可能範囲を抑制することができる。例えば、検出器を円弧上に移動させて回折線を得る装置や、大型の２次元検出器を搭載した装置では実際に回折環を検出しない範囲まで装置が構成されているが、この場合と比較してＸ線回折測定装置１の小型化が可能である。
【0055】
また、第一実施形態では、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、コリメータ１２を挟んで２つ設けられており、チップ１６は、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂの中心及びコリメータ１２の中心を結ぶ線と直交する方向（α角が９０°）において、距離Ｄ２の位置に設けられている。
この構成によれば、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、チップ１６とを直交方向に設けることで、重複を抑制することができる。
この構成によれば、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、チップ１６とを直交方向に設けることで、重複を抑制することができる。
【0056】
また、第一実施形態では、第１の相は、α相であり、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂは、α相Ｋα回折を検出し、第２の相は、γ相であり、チップ１６は、γ相Ｋα回折を検出する。
【0057】
この構成によれば、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂと、チップ１６とでそれぞれの相に対応する回折環を検出して、残留オーステナイト量の分析に用いることができる。
【0058】
また、第一実施形態では、ＣＬは、第１の相又は第２の相に対応して、回折プロフィル幅をＷｐとし、半価幅をＦＷＨＭとし、回折角を２θ０とすると、式（６）となる。
この構成によれば、ＣＬを回折角等のパラメータで算出することができる。
この構成によれば、ＣＬを回折角等のパラメータで算出することができる。
【0059】
―――第二実施形態―――
次に、第二実施形態について説明する。
次に、第二実施形態について説明する。
【0060】
第二実施形態では、チップ１５Ａと、チップ１５Ｂと、チップ１６の位置変更可能な場合を説明する。基板１３において、位置変更可能な機構としてのチップ設置範囲が設けられている。チップ設置範囲は、チップ１５Ａ、チップ１５Ｂ、チップ１６のそれぞれに対して設けられており、各チップのサイズより大きく、チップ設置範囲の中で各チップは位置変更可能である。チップ１５Ａは、距離Ｄ１の方向に位置変更可能である。チップ１５Ｂは、距離Ｄ１の方向に位置変更可能である。チップ１６は、距離Ｄ２の方向に位置変更可能である。位置変更については、例えば任意位置に着脱することで行われる。なお位置変更については自動ステージやマイクロメータを搭載して自動移動させてもよい。
【0061】
＜効果＞
以上、第二実施形態では、基板１３は、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂを距離Ｄ１の方向に、チップ１６を距離Ｄ２の方向に位置変更可能な機構が設けられている。
この構成によれば、位置変更可能であることで、検出可能な回折環の自由度が向上する。
以上、第二実施形態では、基板１３は、チップ１５Ａ及びチップ１５Ｂを距離Ｄ１の方向に、チップ１６を距離Ｄ２の方向に位置変更可能な機構が設けられている。
この構成によれば、位置変更可能であることで、検出可能な回折環の自由度が向上する。
【0062】
―――第三実施形態―――
次に、第三実施形態について説明する。
次に、第三実施形態について説明する。
【0063】
第三実施形態では、より広く回折環を検出する場合について説明する。試料２に粗大粒や集合組織があると回折ピークが一定の回折環が得られない可能性があり、分析に影響する場合がある。本実施形態では、回転機構を設ける。
【0064】
図６は、本実施形態の概略構成を示している。本体部１０から台３０に載置された試料２へＸ線が照射される。軸３１は、コリメータ１２の中心を示している。この軸３１に沿ってＸ線が照射される。台３０は、軸３１周りに試料２を回転させる回転機能としての機能を有する。これによって、本体部１０、すなわちチップ１５Ａとチップ１５Ｂとチップ１６とは位置を変えず、試料２を回転させることで、より広い範囲の回折環を検出することができる。なお、１周回転させつつ測定してもよいし、あるいは例えば９０°といった所定角度だけ回転させて複数回測定行うことも可能である。
【0065】
なお、試料２と、チップ１５Ａからチップ１６とを軸３１周りに相対的に回転させることができれば、試料２を回転させる場合に限定されず、本体部１０側を軸３１周りに回転させることとしてもよい。なお、本体部１０の特にチップ１５Ａとチップ１５Ｂとチップ１６とが少なくとも回転すればよい。
【0066】
＜効果＞
以上、第三実施形態では、コリメータ１２の中心を軸３１として、試料２と、チップ１５Ａからチップ１６とを軸周りに相対的に回転させる回転機構を備える。
この構成によれば、回折環を広く測定することができるため、回折線強度の偏りの影響を抑制して測定することができる。
以上、第三実施形態では、コリメータ１２の中心を軸３１として、試料２と、チップ１５Ａからチップ１６とを軸周りに相対的に回転させる回転機構を備える。
この構成によれば、回折環を広く測定することができるため、回折線強度の偏りの影響を抑制して測定することができる。
【0067】
＜変形例＞
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。すなわち、上述した具体例に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。また、上記実施形態及び下記変形例が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。すなわち、上述した具体例に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。また、上記実施形態及び下記変形例が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
【0068】
例えば、上記実施形態では、チップ１６は、チップ１５Ａとチップ１５Ｂの中心及びコリメータ１２の中心を結ぶ線と直交する方向において距離Ｄ２の位置設けられる場合を例として説明したが、直交の関係に限定されない。
【符号の説明】
【0069】
１：Ｘ線回折測定装置、２：試料、１２：コリメータ、１３：基板、１５Ａ～１５Ｂ：チップ（第１検出部）、１６：チップ（第２検出部）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】