特開 2024-169178 構造体、露光装置、および物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024169178

(43)【公開日】2024-12-05

(54)【発明の名称】構造体、露光装置、および物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20241128BHJP

   H01L 21/68 20060101ALI20241128BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 521

H01L21/68 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】19

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023086427

(22)【出願日】2023-05-25

(71)【出願人】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】桜川 寛大

(72)【発明者】

【氏名】是永 伸茂

【テーマコード（参考）】

2H197

5F131

【Ｆターム（参考）】

2H197AA09

2H197CD13

2H197DB15

2H197FB01

2H197HA03

2H197JA09

5F131AA02

5F131AA10

5F131BA13

5F131CA19

5F131DA32

5F131DA33

5F131DA42

5F131EA02

5F131EA14

5F131EA15

5F131EA16

5F131EA21

5F131EA22

5F131EA23

5F131EA24

5F131EA25

5F131EA27

5F131FA17

5F131FA32

5F131FA33

5F131FA37

5F131FA39

5F131KA16

5F131KA47

5F131KA72

5F131KB12

5F131KB32

5F131KB53

5F131KB54

5F131KB55

5F131KB56

(57)【要約】

【課題】ステージの移動で生じる風圧が投影光学系に与える影響を低減するために有利な技術を提供する。
【解決手段】原版を保持して定盤上を移動するステージと、前記原版のパターン像を基板上に投影する投影光学系と、を有する露光装置の一部を構成する構造体は、前記ステージの移動経路と前記投影光学系との間に配置されたプレートと、前記プレートの下面に沿って延びて配置され、前記下面に接触して前記プレートを支持する複数の支持部材と、を備える。
【選択図】図１Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

原版を保持して定盤上を移動するステージと、前記原版のパターン像を基板上に投影する投影光学系と、を有する露光装置の一部を構成する構造体であって、
前記ステージの移動経路と前記投影光学系との間に配置されたプレートと、
前記プレートの下面に沿って延びて配置され、前記下面に接触して前記プレートを支持する複数の支持部材と、
を備えることを特徴とする構造体。

【請求項2】

前記複数の支持部材は、前記定盤に固定されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項3】

前記複数の支持部材の各々の端部に接続された固定部材を更に備え、
前記複数の支持部材は、前記固定部材を介して前記定盤に固定されている、ことを特徴とする請求項２に記載の構造体。

【請求項4】

前記複数の支持部材は、前記原版を通過して前記投影光学系に入射する光の光路を挟むように配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項5】

前記ステージの移動をガイドする２本のレールが前記定盤上に配置されおり、
前記プレートおよび前記複数の支持部材は、前記２本のレールの間に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項6】

前記投影光学系は、前記定盤から前記原版側に突出した突出部分を有するように前記定盤を貫通して配置されており、
前記２本のレールは、前記投影光学系の前記突出部分を挟むように前記定盤上に配置されている、ことを特徴とする請求項５に記載の構造体。

【請求項7】

前記複数の支持部材は、前記ステージの移動方向において前記投影光学系の前記突出部分を挟むように配置された２個の固定部材を介して前記定盤に固定されている、ことを特徴とする請求項６に記載の構造体。

【請求項8】

前記複数の支持部材の各々は、前記ステージの移動方向に沿って延びるように構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項9】

前記プレートは、その長手方向が前記移動方向になるように配置されている、ことを特徴とする請求項８に記載の構造体。

【請求項10】

前記複数の支持部材の各々は、前記プレートが篏合される溝部を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項11】

前記複数の支持部材は、前記原版からの光の光路を挟むように配置されており、
前記溝部は、前記複数の支持部材の各々における前記光路側の側面に設けられている、ことを特徴とする請求項１０に記載の構造体。

【請求項12】

前記複数の支持部材の各々は、長手方向において中央部よりも端部の方が厚くなるように構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項13】

前記プレートは、前記原版からの光が通過する窓部を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項14】

前記プレートは、前記原版からの光を透過する部材によって構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項15】

前記プレートは、複数の部分領域に分割されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項16】

前記プレートは、前記原版からの光が通過する窓部を有し、
前記プレートにおける前記複数の部分領域は、前記窓部の一部を有する第１部分領域と、前記窓部の残りの部分を有する第２部分領域とを含む、ことを特徴とする請求項１５に記載の構造体。

【請求項17】

前記プレートは、前記複数の支持部材から分離可能に構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の構造体。

【請求項18】

基板を露光する露光装置であって、
原版を保持して移動するステージと、
前記原版のパターン像を前記基板上に投影する投影光学系と、
請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の構造体と、
を備えることを特徴とする露光装置。

【請求項19】

請求項１８に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記基板を加工する加工工程と、
前記加工工程を経た前記基板から物品を製造する製造工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、構造体、露光装置、および物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスなどの製造工程で用いられるリソグラフィ装置として、投影光学系を介して原版と基板とを相対的に移動（走査）させながら基板を露光することにより原版のパターンを基板上に転写する露光装置が知られている。このような露光装置では、原版を保持するステージの移動で生じる風圧によって投影光学系の振動が引き起こされることがある。この場合、原版のパターンを基板上に精度よく転写することが困難になりうる。特許文献１～２には、レチクルステージの移動で生じるエアフローおよび／または圧力波が投影システムを励振することを低減するため、レチクルステージと投影システムとの間に遮蔽板を設ける構成が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１１－１４６７２７号公報

【特許文献2】特開２００９－１８２３２６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１～２に記載されている構成では、レチクルステージの移動で生じるエアフローおよび／または圧力波によって遮蔽板自体が振動しうる。このような遮蔽板自体の振動によっても、投影光学系の振動が引き起こされうる。遮蔽板の厚さを増加させて遮蔽板の剛性を高めれば遮蔽板自体の励振を低減することができるが、この場合、遮蔽板の重量も増加するため、装置の製造やメンテナンス等における遮蔽板の取り付けや取り外しが困難になりうる。

【0005】

そこで、本発明は、ステージの移動で生じる風圧が投影光学系に与える影響を低減するために有利な技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての構造体は、原版を保持して定盤上を移動するステージと、前記原版のパターン像を基板上に投影する投影光学系と、を有する露光装置の一部を構成する構造体であって、前記ステージの移動経路と前記投影光学系との間に配置されたプレートと、前記プレートの下面に沿って延びて配置され、前記下面に接触して前記プレートを支持する複数の支持部材と、を備えることを特徴とする。

【0007】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、例えば、ステージの移動で生じる風圧が投影光学系に与える影響を低減するために有利な技術を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1A】第１実施形態の露光装置の構成例を示す図（全体斜視図）

【図1B】第１実施形態の露光装置の構成例を示す図（断面斜視図）

【図1C】第１実施形態の露光装置の構成例を示す図（断面図）

【図1D】第１実施形態の露光装置の構成例を示す図（拡大図）

【図2】第２実施形態の露光装置の構成例を示す図

【図3】第３実施形態の露光装置の構成例を示す図

【図4】第４実施形態の露光装置の構成例を示す図

【図5】第５実施形態の露光装置の構成例を示す図

【図6】第６実施形態の露光装置の構成例を示す図

【図7】第７実施形態のプレートおよび２本の支持部材の構成例を示す図

【図8A】従来の露光装置の構成例を示す図（全体斜視図）

【図8B】従来の露光装置の構成例を示す図（断面斜視図）

【図8C】従来の露光装置の構成例を示す図（分解斜視図）

【図8D】従来の露光装置の構成例を示す図（断面図）

【図8E】原版ステージの移動で生じる風圧を説明するための図

【図8F】風圧によってプレート自体が振動することを説明するための図

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0011】

本明細書および添付図面では、投影光学系の光軸に平行をＺ方向とし、原版の移動方向（走査方向）をＹ方向とするＸＹＺ座標系で方向を示す。ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに平行な方向をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向とし、Ｘ軸周りの回転、Ｙ軸周りの回転及びＺ軸周りの回転のそれぞれを、θＸ、θＹ及びθＺとする。Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に関する制御及び駆動（移動）は、それぞれ、Ｘ軸に平行な方向、Ｙ軸に平行な方向、Ｚ軸に平行な方向に関する制御又は駆動（移動）を意味する。また、θＸ軸、θＹ軸、θＺ軸に関する制御又は駆動は、それぞれ、Ｘ軸に平行な軸周りの回転、Ｙ軸に平行な軸周りの回転、Ｚ軸に平行な軸周りの回転に関する制御又は駆動を意味する。

【0012】

露光装置は、半導体素子などのデバイスの製造工程に用いられ、基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置は、一般的に、原版（例えばマスク、レチクル）を保持して移動する原版ステージと、原版のパターン像を基板上に投影する投影光学系と、基板（例えばウェハ）を保持して移動する基板ステージとを含みうる。そして、露光装置は、原版ステージおよび基板ステージによって原版と基板とを相対的に移動（走査）させながら基板を露光することにより、原版のパターン像を基板上に転写することができる。

【0013】

まず、従来の露光装置１００ｃの構成例について、図８Ａ～８Ｄを参照しながら説明する。図８Ａ～８Ｄは、従来の露光装置１００ｃの構成例を示す図である。図８Ａは全体斜視図、図８Ｂは断面斜視図、図８Ｃは分解斜視図、図８Ｄは断面図をそれぞれ示している。

【0014】

従来の露光装置１００ｃでは、最下部にベースフレーム下板１１０が配置され、ベースフレーム下板１１０上に３本の第１ベースフレーム支柱１１１と３本の第２ベースフレーム支柱１１２が固定されている。また、ベースフレーム下板１１０上には基板ステージ定盤１２０が固定されており、基板ステージ定盤１２０の上には基板ステージ１２１が配置されている。基板ステージ１２１は、基板Ｓを保持して基板ステージ定盤１２０上をＸＹ方向に移動可能に構成されている。

【0015】

３本の第１ベースフレーム支柱１１１上には、投影光学系１６３を支持する鏡筒定盤１６０がダンパ１６２を介して配置されている。第１ベースフレーム支柱１１１と鏡筒定盤１６０との間にダンパ１６２を設けることにより、露光装置１００ｃが設置されている床から鏡筒定盤１６０および投影光学系１６３に伝達される振動が低減される。また、鏡筒定盤１６０には、干渉計支柱１６１が固定されている。干渉計支柱１６１には、原版ステージ１５０の位置を計測するための干渉計が固定されうる。

【0016】

３本の第２ベースフレーム支柱１１２上には、脚部材１４３を介してブリッジ定盤１４１が配置されている。脚部材１４３は、露光装置１００ｃが設置されている床からブリッジ定盤１４１に伝達される振動が低減されるように除振機能を有していることが望ましい。ブリッジ定盤１４１上には４個のアジャスタ１４２が設けられ、その上に原版ステージ定盤１４０が配置されている。４個のアジャスタ１４２は、原版ステージ定盤１４０をＺ方向に駆動するためのアクチュエータをそれぞれ含み、θＸ方向および／またはθＹ方向における原版ステージ定盤１４０の姿勢を調整するように構成される。これにより、原版ステージ定盤１４０と投影光学系１６３との相対姿勢を適切に調整することが可能になる。なお、図８Ａ～８Ｄの例では４個のアジャスタ１４２が設けられているが、アジャスタ１４２の数は４個に限られるものではなく、少なくとも３個あればよい。

【0017】

投影光学系１６３は、原版ステージ定盤１４０から原版側に突出した突出部分１６３ａを有するように原版ステージ定盤１４０を貫通して配置される。具体的には、原版ステージ定盤１４０には、投影光学系１６３が貫通する貫通孔１４０ａが設けられている。そして、投影光学系１６３は、その上部が突出部分１６３として貫通孔１４０ａから原版側に突出するように配置される。

【0018】

原版ステージ定盤１４０の上には原版ステージ１５０が配置されている。原版ステージ１５０は、原版Ｍを保持して原版ステージ定盤１４０上（定盤上）をＹ方向に移動可能に構成されている。図８Ａ～８Ｄの例では、原版ステージ１５０は、粗動ステージ１５１と微動ステージ１５２とによって構成されている。

【0019】

粗動ステージ１５１は、固定子１５３と可動子１５４とを有するリニアモータによって駆動されうる。固定子１５３は、粗動ステージ１５１の移動方向（走査方向、Ｙ方向）に沿って配列された複数のコイルを含むとともに、粗動ステージ１５１の移動をガイドするガイドレールとして機能する。以下では、固定子１５３を「ガイドレール１５３」と表記することがある。ガイドレール１５３は、粗動ステージ１５１の移動方向に沿って延びており、原版ステージ定盤１４０上に２本配置されている。２本のガイドレール１５３は、原版ステージ定盤１４０（貫通孔１４０ａ）から突出している投影光学系１６３の突出部分１６３ａを挟むように、原版ステージ１５０の移動方向と直交（交差）する方向（例えばＸ方向）に離間して配置されている。また、可動子１５４は、粗動ステージ１５１に固定されている。

【0020】

ガイドレール１５３（固定子）のコイルに電流を流すと、ガイドレール１５３（固定子）と可動子１５４との間に推力が発生する。これにより、粗動ステージ１５１をガイドレール１５３に沿ってＹ方向に移動させることができる。また、粗動ステージ１５１には、ガイドレール１５３から粗動ステージ１５１を浮上させるためのエアスライダ１５５（エアベアリング）が設けられている。このエアスライダ１５５により、粗動ステージ１５１の滑らかな移動を実現することができる。

【0021】

微動ステージ１５２は、原版Ｍを保持するとともに、粗動ステージ１５１上で移動可能に構成される。微動ステージ１５２は、粗動ステージ１５１よりも短ストロークであるが高精度に移動することができる。微動ステージ１５２の位置（例えばＹ方向）および姿勢（例えばθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向）は、干渉計支柱１６１に設けられた不図示の干渉計によって計測される。

【0022】

このように構成された露光装置１００ｃでは、不図示の照明光学系から射出されたスリット状の光（以下、スリット光と表記することがある）で、原版ステージ１５０によって保持されている原版Ｍを照明する。そして、原版Ｍのうちスリット光によって照明された領域のパターン像が投影光学系１６３によって基板Ｓ上に投影される。原版ステージ１５０および基板ステージ１２１によって原版Ｍと基板Ｓとを相対的にＹ方向に同期移動（走査）させながら基板Ｓを露光することで、原版Ｍのパターン像を基板Ｓ上に転写することができる。このような処理は、走査露光と呼ばれ、基板Ｓにおける複数のショット領域の各々について実行される。

【0023】

ところで、露光装置１００ｃでは、図８Ｅに示すように、原版ステージ１５０の移動で生じる風圧Ｐによって投影光学系１６３の振動が引き起こされることがある。この場合、原版Ｍのパターン像を基板Ｓ上に精度よく転写することが困難になりうる。特に、投影光学系１６３は、その上部（突出部分１６３ａ）が原版ステージ定盤１４０から突出するように配置されているため、原版ステージ１５０の移動で生じる風圧Ｐを受けやすい。この対策の１つとして、図８Ｆに示すように、投影光学系１６３への風圧Ｐの影響を低減するためのプレート１１を、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間に設けることが考えられる。しかしながら、単にプレート１１を設けるだけでは、図８Ｆにおいて破線で示すように、原版ステージ１５０の移動で生じる風圧Ｐによってプレート１１自体が振動し、プレート１１の振動が投影光学系１６３の振動を引き起こしうる。プレート１１の厚さを増加させてプレート１１の剛性を高めればプレート１１自体の励振を低減することができるが、この場合、プレート１１の重量も増加するため、装置の製造やメンテナンス等におけるプレート１１の取り付けや取り外しが困難になりうる。

【0024】

そこで、本発明に係る露光装置１００では、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間に配置されたプレート１１に加えて、プレート１１の下面に接触してプレート１１を支持する複数の支持部材１２が設けられている。以下、本発明に係る露光装置１００の実施形態について説明する。

【0025】

＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態の露光装置１００の構成例について、図１Ａ～１Ｄを参照しながら説明する。図１Ａ～１Ｄは、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図１Ａは全体斜視図、図１Ｂは断面斜視図、図１Ｃは断面図をそれぞれ示している。また、図１Ｄは、原版ステージ定盤１４０から上の構造の拡大図を示している。なお、本実施形態の露光装置１００において説明のない個所は従来の露光装置１００ｃと同じ構造であるため、以下では当該箇所の説明を省略する。

【0026】

本実施形態の露光装置１００は、プレート１１と、２本（複数）の支持部材１２とを備える。プレート１１および２本の支持部材１２は、露光装置１００の一部を構成する構造体として理解されてもよい。なお、本実施形態では、２本の支持部材１２が設けられているが、支持部材１２の数は２本に限られるものではなく、３本以上であってもよい。

【0027】

プレート１１は、原版ステージ１５０の移動で生じる風圧Ｐが投影光学系１６３に影響することを低減するために、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間に配置される。プレート１１は、その長手方向が原版ステージ１５０の移動方向（Ｙ方向）になるように配置（構成）されている。プレート１１の厚さは、Ｚ方向における原版ステージ１５０の下端と投影光学系１６３の上端との隙間Ｇａｐ（図１Ｃ参照）内にプレート１１が収まるように適切に設定される。プレート１１は、２本の支持部材１２に着脱可能に、即ち、２本の支持部材１２から分離可能に構成されうる。また、プレート１１には、原版Ｍからのスリット光を通過させるための窓部１１ａ（開口部、スリット部）が設けられている。窓部１１ａを通過したスリット光は、投影光学系１６３に入射する。ここで、図１Ａ～１Ｄの例では、Ｘ方向におけるプレート１１の幅は、投影光学系１６３の幅より狭いが、投影光学系１６３の幅より広くてもよい。Ｘ方向におけるプレート１１の幅が投影光学系１６３の幅より狭い場合には、プレート１１を軽量化し、装置の製造やメンテナンス等におけるプレート１１の取り付けや取り外しをより容易にすることができる。一方、Ｘ方向におけるプレート１１の幅が投影光学系１６３の幅より広い場合には、投影光学系１６３への風圧Ｐの影響をより低減することができる。

【0028】

２本の支持部材１２の各々は、プレート１１の下面に沿って延びるように配置され、プレート１１の下面に接触してプレート１１を支持するように構成される。本実施形態の場合、２本の支持部材１２の各々は、原版ステージ１５０の移動方向（Ｙ方向）に沿って延びるように構成されうる。また、２本の支持部材１２は、原版Ｍを通過して投影光学系１６３に入射するスリット光の光路を挟むように、原版ステージ１５０の移動方向と直交（交差）する方向（例えばＸ方向）に離間して配置されうる。ここで、２本の支持部材１２は、固定部材１３を介して原版ステージ定盤１４０に固定（接続）されている。固定部材１３は、原版ステージ１５０の移動方向（Ｙ方向）において投影光学系１６３（突出部分１６３ａ）を挟むように複数（本実施形態では２個）配置されうる。固定部材１３は、２本の支持部材１２を原版ステージ定盤１４０に固定するための部材であり、２本の支持部材１２の各々の端部に接続されている。固定部材１３は、２本の支持部材１２と原版ステージ定盤１４０とを連結するための部材として理解されてもよい。なお、固定部材１３は、プレート１１および２本の支持部材１２とともに、露光装置１００の一部を構成する構造体に含まれうる。

【0029】

２本の支持部材１２は、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間を通過するように配置されうる。即ち、２本の支持部材１２は、Ｚ方向における原版ステージ１５０の下端と投影光学系１６３の上端との隙間Ｇａｐ内に配置されうる。この場合、各支持部材１２の中央部（投影光学系１６３の上方に配置される部分）は、当該隙間Ｇａｐによって厚さが制限されるが、各支持部材１２の端部については、そのような制限はない。そのため、各支持部材１２の剛性および強度を向上させる観点から、各支持部材１２は、長手方向（Ｙ方向）において中央部よりも端部の方が厚くなるように構成されるとよい。このように各支持部材１２において、中央部より端部の方が厚くなるように厚さ分布を設けることで、各支持部材１２によってプレート１１がより剛に支持されうる。つまり、プレート１１と支持部材１２とから成る構造体の剛性および強度を向上させることができる。

【0030】

なお、各支持部材１２は、各固定部材１３と一体として構成されてもよく、この場合、長手方向において中央部より端部の方が厚く構成されていると解釈することができる。また、２本の支持部材１２は、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間を通過するように配置されることに限られず、Ｘ方向において投影光学系１６３の上部（例えば突出部分１６３ａ）を挟むように配置されてもよい。

【0031】

各支持部材１２は、プレート１１と同じ材料（材質）によって構成されてもよいが、プレート１１と異なる材料、具体的には、プレート１１より剛性および／または強度が高い材料で構成されるとよい。また、各支持部材１２は、プレート１１よりも比重が大きい材料で構成されるとよい。換言すると、プレート１１は、各支持部材１２よりも比重が小さい材料で構成されるとよい。これにより、プレート１１を軽量化することができる一方で、プレート１１と支持部材１２とから成る構造体の剛性および強度を向上させることができる。つまり、投影光学系１６３への風圧Ｐの影響の低減と、プレート１１の取り付けや取り外しの容易性とを両立させることができる。

【0032】

プレート１１および各支持部材１２は、Ｘ方向において、２本のガイドレール１５３の間に配置されうる。２本のガイドレール１５３の各々は、前述したように、原版ステージ１５０（粗動ステージ１５１）を駆動するリニアモータの固定子であり、原版ステージ１５０の移動方向（Ｙ方向）に沿って延びるように原版ステージ定盤１４０上に配置（延設）されている。この構成により、従来の露光装置１００ｃの構成を変更することなく、投影光学系１６３への風圧Ｐの影響が効果的に低減されるようにプレート１１および各支持部材１２を配置することができる。また、この構成では、プレート１１と２本のガイドレール１５３とによって投影光学系１６３（突出部分１６３ａ）が囲まれる。そのため、投影光学系１６３に対し、原版ステージ１５０の移動で発生する風圧Ｐの影響だけでなく、露光装置１００内における他の部材の駆動で発生する風圧等の影響をも低減することができる。

【0033】

ここで、露光装置１００では、プレート１１の上面と原版ステージ１５０の走行面とが非平行状態（例えばくさび状）で配置されていると、原版ステージ１５０の移動によるＺ方向の風圧が増加し、プレート１１への当該風圧の影響が増大しうる。したがって、露光装置１００では、プレート１１の上面と原版ステージ１５０の走行面との平行度を確保することが重要である。それには、原版ステージ定盤１４０の上面基準で、ガイドレール１５３の上面および原版ステージ１５０の走行面の平行度を確保するとともに、原版ステージ１５０の走行面に対するプレート１１、支持部材１２および固定部材１３の平行度を確保するとよい。このため、本実施形態では、支持部材１２および固定部材１３が、原版ステージ定盤１４０上に設置（固定）される。

【0034】

上述したように、本実施形態の露光装置１００では、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間に配置されたプレート１１と、プレート１１を支持する２本の支持部材１２とが設けられている。２本の支持部材１２の各々は、プレート１１の下面に沿って延びるように配置され、プレート１１の下面に接触してプレート１１を支持するように構成されている。これにより、プレート１１および支持部材１２から成る構造体の剛性および強度を向上させることができるため、原版ステージ１５０の移動で生じる風圧Ｐによってプレート１１自体および投影光学系１６３が振動することを低減することができる。また、プレート１１を軽量化し、装置の製造やメンテナンス等におけるプレート１１の取り付けや取り外しをより容易にすることができる。

【0035】

＜第２実施形態＞
本発明に係る第２実施形態について説明する。本実施形態は第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。図２は、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図２では、図を分かり易くするために、図示を省略している箇所（例えば原版ステージ１５０など）があるが、それらの箇所は、従来または第１実施形態の露光装置と同じ構造である。

【0036】

本実施形態では、第１実施形態に対してプレート１１の構造が異なる。具体的には、第１実施形態のプレート１１は、スリット光が透過する部分に窓部１１ａ（開口部、スリット部）が設けられた構造であった。それに対し、本実施形態のプレート１１’は、図２に示すように、プレート１１’の全体が、ガラスなど、スリット光を透過する光透過部材（光透過材料）によって構成されている。第１実施形態のプレート１１では、窓部１１ａを通過した風圧Ｐが投影光学系１６３に影響する懸念があったが、全体が光透過部材で構成された本実施形態のプレート１１’を用いることにより当該懸念を解消することができる。

【0037】

＜第３実施形態＞
本発明に係る第３実施形態について説明する。本実施形態は第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。図３は、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図３では、図を分かり易くするために、図示を省略している箇所（例えば原版ステージ１５０など）があるが、それらの箇所は、従来または第１実施形態の露光装置と同じ構造である。

【0038】

本実施形態では、第１実施形態に対してプレート１１の構造が異なる。具体的には、第１実施形態のプレート１１では、窓部１１ａが開口部（スリット部）として構成されていた。それに対し、本実施形態のプレート１１”では、図３に示すように、ガラスなど、スリット光を透過する光透過部材が窓部１１ａに設けられている。即ち、光透過部材によって窓部１１ａが塞がれて（覆われて）いる。このように窓部１１ａに光透過部材を設けることによって、第２実施形態と同様に、窓部１１ａを通過した風圧Ｐが投影光学系１６３に影響する懸念を解消することができる。

【0039】

＜第４実施形態＞
本発明に係る第４実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。また、本実施形態は、第２実施形態または第３実施形態を適用してもよい。図４は、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図４では、図を分かり易くするために、図示を省略している箇所があるが、それらの箇所は、従来または第１実施形態の露光装置と同じ構造である。

【0040】

本実施形態では、プレート１１が複数の部分領域に分割されている例を説明する。具体的には、本実施形態のプレート１１は、図４に示すように、第１部分領域１１ｂと第２部分領域１１ｃとを含む複数の部分領域に分割されている。第１部分領域１１ｂは、窓部１１ａの一部を有する領域であり、第２部分領域１１ｃは、窓部１１ａの残りの部分を有する領域である。そして、プレート１１における複数の部分領域１１ｂ～１１ｃは、支持部材１２から個別に分離可能に構成されている。このようにプレート１１を分割することで、各部分領域の重量を低減することができるため、装置の製造やメンテナンス等におけるプレート１１の着脱をより容易にすることができる。また、原版ステージ１５０を取り外すことなくプレート１１の着脱を容易に行うことが可能となる。例えば、原版ステージ１５０を＋Ｙ方向に移動させておけば、プレート１１の第１部分領域１１ｂへのアクセス（着脱）が容易になり、原版ステージ１５０を－Ｙ方向に移動させておけば、プレート１１の第２部分領域１１ｃへのアクセス（着脱）が容易になる。

【0041】

また、本実施形態では、図４に示すように、各支持部材１２も、複数の部分領域に分割されていてもよい。これにより、支持部材１２の設計自由度を向上させることができる。例えば、投影光学系１６３の上面に局所的な突起があり、場所によって当該突起の高さが変化している場合、各支持部材１２において、当該突起を避ける凹部や開口部を設けたり、局所的に厚さを変化させたりすることが容易になる。また、各支持部材１２における複数の部分領域の間に隙間を設けることが可能となる。この場合、プレート１１の支持剛性はやや劣化するものの、組み立ての際に、各支持部材１２における複数の部分領域同士の干渉を低減することができる。即ち、組み立て性を向上させることができる。

【0042】

＜第５実施形態＞
本発明に係る第５実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。また、本実施形態は、第２実施形態または第３実施形態を適用してもよい。図５は、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図５では、図を分かり易くするために、図示を省略している箇所があるが、それらの箇所は、従来または第１実施形態の露光装置と同じ構造である。

【0043】

本実施形態では、プレート１１が複数の部分領域に分割されている他の例を説明する。上記の第４実施形態ではプレート１１が対称（均等）に分割されている例を説明したがが、本実施形態ではプレート１１が非対称（非均等）に分割されている例を説明する。具体的には、本実施形態のプレート１１は、図５に示すように、複数の部分領域１１ｄ～１１ｅに分割されている。部分領域１１ｄは、部分領域１１ｅよりも大きい面積を有し、窓部１１ａの全体を含む。これにより、上記の第３実施形態で説明したように、窓部１１ａに光透過部材を設けることが可能となる。この場合、上記の第４実施形態の効果に加えて、上記の第３実施形態の効果も併せて得ることができる。

【0044】

＜第６実施形態＞
本発明に係る第６実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。また、本実施形態は、第２実施形態または第３実施形態を適用してもよい。図６は、本実施形態の露光装置１００の構成例を示す図である。図６では、図を分かり易くするために、図示を省略している箇所があるが、それらの箇所は、従来または第１実施形態の露光装置と同じ構造である。

【0045】

本実施形態では、図６に示すように、プレート１１が更に複数（４つ）の部分領域１１ｆ～１１ｉに分割されている例を示している。このようにプレート１１を更に複数の部分領域に分割することで、各部分領域の重量を更に低減することができるため、装置の製造やメンテナンス等におけるプレート１１の着脱をより容易にすることができる。ここで、図６の例では、部分領域１１ｆのみに窓部１１ａが設けられるようにプレート１１が４つの部分領域１１ｆ～１１ｉに設けられているが、それに限られず、上記の第４実施形態で説明したように、２つの部分領域にわたって窓部１１ａが設けられてもよい。また、プレートを分割する部分領域の数は、４つに限られるものではなく、３つ或いは５つ以上であってもよい。

【0046】

＜第７実施形態＞
本発明に係る第７実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。また、本実施形態は、第２～第６実施形態を適用してもよい。本実施形態では、２本の支持部材１２に対するプレート１１の位置決め機構の例について説明する。図７は、プレート１１および２本の支持部材１２の構成例を示す図である。図７（ａ）は斜視図を、図７（ｂ）は断面図をそれぞれ示している。なお、図７では、プレート１１が複数（４つ）の部分領域に分割されている例を示しているが、それに限られず、プレート１１は分割されていなくてもよい。

【0047】

２本の支持部材１２の各々は、プレート１１が篏合される溝部１２ａを、スリット光の光路側の側面に有する。このように各支持部材１２の溝部１２ａにプレート１１が篏合されることにより、原版ステージ定盤１４０に固定されている各支持部材１２に対してプレート１１を精度よく位置決めすることができる。即ち、原版ステージ定盤１４０および投影光学系１６３に対してプレート１１を精度よく位置決めすることができる。また、プレート１１を２本の支持部材１２の上に配置する際には、プレート１１を２本の支持部材１２の溝部１２ａに篏合させるだけでよいため、装置の製造やメンテナンス時における組み立て性を向上させることができる。

【0048】

ここで、本実施形態のプレート１１には、図７（ｂ）に示すように、各支持部材１２の溝部１２ａに篏合される部分に切欠部１１ｊが設けられていてもよい。この切欠部１１ｊは、プレート１１の上面と各支持部材１２の上面とが同じ高さになるように形成されうる。この構成により、プレート１１と支持部材１２とから成る構造体の剛性および強度を確保しつつ、当該構造体の全体的な厚さを低減することが可能となる。即ち、当該構造体を、原版ステージ１５０の移動経路と投影光学系１６３との間の狭い隙間Ｇａｐに適切に配置することが可能となる。

【0049】

＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記の露光装置を用いて基板を露光する露光工程（基板上にパターン像を転写する工程）と、露光工程を経て露光された基板を加工する加工工程と、加工工程を経て加工された基板から物品を製造する製造工程を含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0050】

＜実施形態のまとめ＞
本明細書の開示は、少なくとも以下の構造体、露光装置、および物品の製造方法を含む。
（項目１）
原版を保持して定盤上を移動するステージと、前記原版のパターン像を基板上に投影する投影光学系と、を有する露光装置の一部を構成する構造体であって、
前記ステージの移動経路と前記投影光学系との間に配置されたプレートと、
前記プレートの下面に沿って延びて配置され、前記下面に接触して前記プレートを支持する複数の支持部材と、
を備えることを特徴とする構造体。
（項目２）
前記複数の支持部材は、前記定盤に固定されている、ことを特徴とする項目１に記載の構造体。
（項目３）
前記複数の支持部材の各々の端部に接続された固定部材を更に備え、
前記複数の支持部材は、前記固定部材を介して前記定盤に固定されている、ことを特徴とする項目２に記載の構造体。
（項目４）
前記複数の支持部材は、前記原版を通過して前記投影光学系に入射する光の光路を挟むように配置されている、ことを特徴とする項目１乃至３のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目５）
前記ステージの移動をガイドする２本のレールが前記定盤上に配置されおり、
前記プレートおよび前記複数の支持部材は、前記２本のレールの間に配置されている、ことを特徴とする項目１乃至４のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目６）
前記投影光学系は、前記定盤から前記原版側に突出した突出部分を有するように前記定盤を貫通して配置されており、
前記２本のレールは、前記投影光学系の前記突出部分を挟むように前記定盤上に配置されている、ことを特徴とする項目５に記載の構造体。
（項目７）
前記複数の支持部材は、前記ステージの移動方向において前記投影光学系の前記突出部分を挟むように配置された２個の固定部材を介して前記定盤に固定されている、ことを特徴とする項目６に記載の構造体。
（項目８）
前記複数の支持部材の各々は、前記ステージの移動方向に沿って延びるように構成されている、ことを特徴とする項目１乃至７のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目９）
前記プレートは、その長手方向が前記移動方向になるように配置されている、ことを特徴とする項目８に記載の構造体。
（項目１０）
前記複数の支持部材の各々は、前記プレートが篏合される溝部を有する、ことを特徴とする項目１乃至９のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１１）
前記複数の支持部材は、前記原版からの光の光路を挟むように配置されており、
前記溝部は、前記複数の支持部材の各々における前記光路側の側面に設けられている、ことを特徴とする項目１０に記載の構造体。
（項目１２）
前記複数の支持部材の各々は、長手方向において中央部よりも端部の方が厚くなるように構成されている、ことを特徴とする項目１乃至１１のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１３）
前記プレートは、前記原版からの光が通過する窓部を有する、ことを特徴とする項目１乃至１２のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１４）
前記プレートは、前記原版からの光を透過する部材によって構成されている、ことを特徴とする項目１乃至１２のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１５）
前記プレートは、複数の部分領域に分割されている、ことを特徴とする項目１乃至１４のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１６）
前記プレートは、前記原版からの光が通過する窓部を有し、
前記プレートにおける前記複数の部分領域は、前記窓部の一部を有する第１部分領域と、前記窓部の残りの部分を有する第２部分領域とを含む、ことを特徴とする項目１５に記載の構造体。
（項目１７）
前記プレートは、前記複数の支持部材から分離可能に構成されている、ことを特徴とする項目１乃至１６のいずれか１項目に記載の構造体。
（項目１８）
基板を露光する露光装置であって、
原版を保持して移動するステージと、
前記原版のパターン像を前記基板上に投影する投影光学系と、
項目１乃至１７のいずれか１項目に記載の構造体と、
を備えることを特徴とする露光装置。
（項目１９）
項目１８に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記基板を加工する加工工程と、
前記加工工程を経た前記基板から物品を製造する製造工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。

【0051】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0052】

１１：プレート、１２：支持部材、１３：固定部材、１００：露光装置、１４０：原版ステージ定盤、１５０：原版ステージ、１５３：ガイドレール、１６３：投影光学系、１６３ａ：突出部分

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図1D】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8A】

【図8B】

【図8C】

【図8D】

【図8E】

【図8F】