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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024169597
(43)【公開日】2024-12-05
(54)【発明の名称】機能パネル
(51)【国際特許分類】
   G09F 9/30 20060101AFI20241128BHJP
   H10K 77/10 20230101ALI20241128BHJP
   H10K 59/82 20230101ALI20241128BHJP
   H10K 59/131 20230101ALI20241128BHJP
   H10K 59/179 20230101ALI20241128BHJP
【FI】
G09F9/30 308Z
H10K77/10
H10K59/82
H10K59/131
H10K59/179
【審査請求】有
【請求項の数】2
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2024162277
(22)【出願日】2024-09-19
(62)【分割の表示】P 2020106709の分割
【原出願日】2020-06-22
(31)【優先権主張番号】P 2019121280
(32)【優先日】2019-06-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000153878
【氏名又は名称】株式会社半導体エネルギー研究所
(72)【発明者】
【氏名】中村 太紀
(72)【発明者】
【氏名】安達 広樹
(72)【発明者】
【氏名】谷中 順平
(57)【要約】
【課題】利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供する。
【解決手段】第1の領域と、第2の領域と、第3の領域と、を有する機能パネルであって
、第3の領域は第1の領域および第2の領域の間に挟まれ、第3の領域は屈曲することが
でき、第3の領域は機能層、接合層および第1の導電膜を備える。接合層は機能層および
第1の導電膜の間に挟まれる領域を備え、機能層は回路および絶縁膜を含み、回路は第2
の導電膜を含む。絶縁膜は第1の導電膜および第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、
第1の導電膜は第2の導電膜との間に容量を形成する。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1の領域と、第2の領域と、第3の領域と、第4の領域と、第5の領域と、を有し、
前記第3の領域は、前記第1の領域および前記第2の領域の間に挟まれ、
前記第1の領域は、前記第3の領域および前記第5の領域の間に挟まれ、
前記第5の領域は、前記第1の領域および前記第4の領域の間に挟まれ、
前記第3の領域および前記第5の領域は、屈曲することができ、
前記第3の領域は、第1の基材、機能層、接合層および第1の導電膜を備え、
前記第1の導電膜は、前記第1の基材および前記接合層との間に挟まれる領域を備え、
前記接合層は、前記機能層および前記第1の導電膜の間に挟まれる領域を備え、
前記機能層は、回路および絶縁膜を含み、
前記回路は、第2の導電膜を含み、
前記絶縁膜は、前記第1の導電膜および前記第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、
前記第1の導電膜は、前記第2の導電膜との間に容量を形成し、
前記第5の領域は、第1の曲げ剛性を備え、
前記第3の領域は、第2の曲げ剛性を備え、
前記第2の曲げ剛性は、前記第1の曲げ剛性に比べて高い、機能パネル。
【請求項2】
請求項1において、
前記第3の領域は、屈曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、前記機能層より前記第1の導電膜が外側になるように屈曲することができ、
前記第5の領域は、前記第3の領域とは逆向きに屈曲することができる、機能パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の一態様は、機能パネル、表示装置、入出力装置、情報処理装置または半導体装置
に関する。
【0002】
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の
一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明
の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・
オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明
の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、
それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
【背景技術】
【0003】
第1の領域と、第2の領域と、表示領域と、を有する表示パネルが知られている(特許文
献1)。第2の領域は表示領域の一部を含み、第2の領域は第1の部材を備え、第2の領
域は第1の部材を外側に向けて湾曲することができ、第1の部材は第1の弾性体および第
2の弾性体を備え、第2の弾性体は第1の弾性体に一部または全部が覆われる端部を備え
、第2の弾性体は第1の弾性体より大きい弾性率を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第2019/106480号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の一態様は、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供するこ
とを課題の一とする。または、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な半導体装置を
提供することを課題の一とする。または、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な入
出力装置を提供することを課題の一とする。または、利便性、有用性または信頼性に優れ
た新規な情報処理装置を提供することを課題の一とする。または、新規な機能パネル、新
規な入出力装置、新規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供することを課題の一
とする。
【0006】
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題
は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図
面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【0007】
(1)本発明の一態様は、第1の領域と、第2の領域と、第3の領域と、を有する機能パ
ネルである。
【0008】
第3の領域は第1の領域および第2の領域の間に挟まれ、第3の領域は屈曲することがで
き、第3の領域は機能層、接合層および第1の導電膜を備える。
【0009】
接合層は機能層および第1の導電膜の間に挟まれる領域を備え、機能層は回路および絶縁
膜を含む。
【0010】
回路は第2の導電膜を含み、絶縁膜は第1の導電膜および第2の導電膜の間に挟まれる領
域を備える。
【0011】
第1の導電膜は第2の導電膜との間に容量を形成する。
【0012】
これにより、第1の導電膜を用いて、ノイズから回路を遮蔽できる。または、回路が安定
に動作することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パ
ネルを提供することができる。なお、本明細書等において、静電気放電などにより発生す
る電磁ノイズを単にノイズとして記載する。
【0013】
(2)また、本発明の一態様は、第1の基材を有する上記の機能パネルである。なお、第
1の基材は、接合層との間に、第1の導電膜を挟む領域を備える。
【0014】
これにより、第1の基材を用いて、第1の導電膜を外力などから保護することができる。
その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができ
る。
【0015】
(3)また、本発明の一態様は、第4の領域と、第5の領域と、を有する上記の機能パネ
ルである。
【0016】
第5の領域は、第1の領域および第4の領域の間に挟まれ、第5の領域は、第1の曲げ剛
性を備える。
【0017】
第3の領域は第2の基材を備え、第2の基材は接合層との間に、前記第1の導電膜を挟む
領域を備え、第3の領域は、第2の曲げ剛性を備える。
【0018】
第2の曲げ剛性は、第1の曲げ剛性に比べて高い。
【0019】
これにより、第3の領域の中立面を第2の基材に近づけることができる。または、第5の
領域の中立面より第3の領域の中立面を第2の基材に近づけることができる。または、屈
曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、機能層より導電膜が外側になるように、第
3の領域を屈曲することができる。または、当該方向への屈曲に伴い、例えば、第2の導
電膜に加わる引っ張り応力を軽減できる。または、例えば、当該方向への屈曲に伴う圧縮
応力を、第2の導電膜に加えることができる。または、当該方向への屈曲に伴う、例えば
、機能層の破壊を防ぐことができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新
規な機能パネルを提供することができる。
【0020】
(4)また、本発明の一態様は、屈曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、第3の
領域が機能層より導電膜が外側になるように屈曲し、第5の領域が第3の領域とは逆向き
に屈曲することができる、上記の機能パネルである。
【0021】
これにより、第3の領域および第5の領域を互い違いに屈曲することができる。または、
機能パネルを、例えば、ジグザグに屈曲することができる。または、ジグザグの屈曲に伴
う、例えば、機能層の破壊を防ぐことができる。または、例えば、屈曲に伴って現れる曲
率円の中心を基準にして、機能層より導電膜が内側になるように、第5の領域を屈曲する
ことができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供
することができる。
【0022】
(5)また、本発明の一態様は、画素を有し、回路が第1の画素回路を含む上記の機能パ
ネルである。
【0023】
画素は発光素子および第1の画素回路を備え、発光素子は第1の画素回路と電気的に接続
される。
【0024】
これにより、第1の導電膜を用いて、画素を遮蔽し、ノイズの伝搬を防ぐことができる。
または、表示に対するノイズの影響を軽減することができる。または、屈曲に伴う表示の
乱れを軽減することができる。または、指などの近接に伴う表示の乱れを軽減することが
できる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供するこ
とができる。
【0025】
(6)また、本発明の一態様の機能パネルは、一組の画素を有する上記の機能パネルであ
る。
【0026】
一組の画素は上記の画素および他の画素を備え、他の画素は第2の画素回路および光電変
換素子を備える。
【0027】
光電変換素子は第2の画素回路と電気的に接続される。
【0028】
(7)また、本発明の一態様は、機能層を有する上記の機能パネルである。
【0029】
機能層は第1の画素回路を備え、第1の画素回路は第1のトランジスタを含み、機能層は
第2の画素回路を備え、第2の画素回路は第2のトランジスタを含み、機能層は駆動回路
を備え、駆動回路は第3のトランジスタを含む。
【0030】
第1のトランジスタは半導体膜を備え、第2のトランジスタは第1のトランジスタの半導
体膜を形成する工程で作製することができる半導体膜を備え、第3のトランジスタは第1
のトランジスタ半導体膜を形成する工程で作製することができる半導体膜を備える。
【0031】
これにより、画素回路を機能層に形成することができる。または、駆動回路を機能層に形
成することができる。または、例えば、画素回路に用いる半導体膜を形成する工程におい
て、駆動回路に用いる半導体膜を形成することができる。または、機能パネルの作製工程
を簡略化することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能
パネルを提供することができる。
【0032】
(8)また、本発明の一態様は、上記の機能パネルと、筐体を有する半導体装置である。
【0033】
筐体は第1の面、第2の面および第3の面を備える。
【0034】
第3の面は第1の面および前記第2の面の間に挟まれ、第1の面は第1の領域と重なり、
第2の面は第2の領域と重なり、第3の面は第3の領域との間に距離を備える。なお、当
該距離は、第3の領域の屈曲に伴い変化する。
【0035】
これにより、例えば、第3の領域の屈曲に伴い、筐体および回路の間の距離が変化しても
、回路は安定して動作することができる。または、第1の基材を用いて、第1の導電膜を
外力などから保護することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新
規な半導体装置を提供することができる。
【0036】
(9)また、本発明の一態様は、上記の機能パネルと、制御部と、を有する表示装置であ
る。
【0037】
制御部は画像情報および制御情報を供給され、制御部は画像情報に基づいて情報を生成し
、制御部は制御情報に基づいて制御信号を生成し、制御部は情報および制御信号を供給す
る。
【0038】
機能パネルは情報および制御信号を供給され、画素は情報に基づいて発光する。
【0039】
これにより、発光素子を用いて画像情報を表示することができる。その結果、利便性、有
用性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。
【0040】
(10)また、本発明の一態様は、入力部と、表示部と、を有する入出力装置である。
【0041】
表示部は上記の機能パネルを備え、入力部は検知領域を備え、入力部は検知領域に近接す
るものを検知し、検知領域は画素と重なる領域を備える。
【0042】
これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示部と重なる領域に近接するも
のを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位
置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付
けることができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な入出力装置を
提供することができる。
【0043】
(11)また、本発明の一態様は、演算装置と、入出力装置と、を有する情報処理装置で
ある。
【0044】
演算装置は入力情報または検知情報を供給され、演算装置は入力情報または検知情報に基
づいて、制御情報および画像情報を生成し、演算装置は制御情報および画像情報を供給す
る。
【0045】
入出力装置は入力情報および検知情報を供給し、入出力装置は制御情報および画像情報を
供給され、入出力装置は表示部、入力部および検知部を備える。
【0046】
表示部は上記の機能パネルを備え、表示部は制御情報に基づいて、画像情報を表示する。
【0047】
入力部は入力情報を生成し、検知部は検知情報を生成する。
【0048】
これにより、入力情報または検知情報に基づいて、制御情報を生成することができる。ま
たは、入力情報または検知情報に基づいて、画像情報を表示することができる。その結果
、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。
【0049】
(12)また、本発明の一態様は、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデ
バイス、タッチセンサ、照度センサ、撮像装置、音声入力装置、視線入力装置、姿勢検出
装置、のうち一以上と、上記の機能パネルと、を含む、情報処理装置である。
【0050】
これにより、さまざまな入力装置を用いて供給する情報に基づいて、画像情報または制御
情報を演算装置に生成させることができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優
れた新規な情報処理装置を提供することができる。
【0051】
本明細書に添付した図面では、構成要素を機能ごとに分類し、互いに独立したブロックと
してブロック図を示しているが、実際の構成要素は機能ごとに完全に切り分けることが難
しく、一つの構成要素が複数の機能に係わることもあり得る。
【0052】
本明細書においてトランジスタが有するソースとドレインは、トランジスタの極性及び各
端子に与えられる電位の高低によって、その呼び方が入れ替わる。一般的に、nチャネル
型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がソースと呼ばれ、高い電位が与えられ
る端子がドレインと呼ばれる。また、pチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えら
れる端子がドレインと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がソースと呼ばれる。本明細書
では、便宜上、ソースとドレインとが固定されているものと仮定して、トランジスタの接
続関係を説明する場合があるが、実際には上記電位の関係に従ってソースとドレインの呼
び方が入れ替わる。
【0053】
本明細書においてトランジスタのソースとは、活性層として機能する半導体膜の一部であ
るソース領域、或いは上記半導体膜に接続されたソース電極を意味する。同様に、トラン
ジスタのドレインとは、上記半導体膜の一部であるドレイン領域、或いは上記半導体膜に
接続されたドレイン電極を意味する。また、ゲートはゲート電極を意味する。
【0054】
本明細書においてトランジスタが直列に接続されている状態とは、例えば、第1のトラン
ジスタのソースまたはドレインの一方のみが、第2のトランジスタのソースまたはドレイ
ンの一方のみに接続されている状態を意味する。また、トランジスタが並列に接続されて
いる状態とは、第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方が第2のトランジスタ
のソースまたはドレインの一方に接続され、第1のトランジスタのソースまたはドレイン
の他方が第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方に接続されている状態を意味
する。
【0055】
本明細書において接続とは、電気的な接続を意味しており、電流、電圧または電位が、供
給可能、或いは伝送可能な状態に相当する。従って、接続している状態とは、直接接続し
ている状態を必ずしも指すわけではなく、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝
送可能であるように、配線、抵抗、ダイオード、トランジスタなどの回路素子を介して間
接的に接続している状態も、その範疇に含む。
【0056】
本明細書において回路図上は独立している構成要素どうしが接続されている場合であって
も、実際には、例えば配線の一部が電極として機能する場合など、一の導電膜が、複数の
構成要素の機能を併せ持っている場合もある。本明細書において接続とは、このような、
一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。
【0057】
また、本明細書中において、トランジスタの第1の電極または第2の電極の一方がソース
電極を、他方がドレイン電極を指す。
【発明の効果】
【0058】
本発明の一態様によれば、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供
することができる。または、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な半導体装置を提
供することができる。または、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な入出力装置を
提供することができる。または、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な情報処理装
置を提供することができる。または、新規な機能パネル、新規な入出力装置、新規な情報
処理装置または新規な半導体装置を提供することができる。
【0059】
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は
、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面
、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0060】
図1図1(A)乃至(C)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する図である。
図2図2(A)および(B)は実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図3図3は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図4図4(A)乃至(C)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図5図5(A)乃至(C)は、実施の形態に係る表示装置の構成を説明する図である。
図6図6(A)乃至(C)は、実施の形態に係る表示装置の構成を説明する図である。
図7図7(A)および(B)は、実施の形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
図8図8(A)および(B)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する図である。
図9図9(A)乃至(C)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する図である。
図10図10は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する回路図である。
図11図11は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する回路図である。
図12図12は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図13図13(A)および(B)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図14図14(A)および(B)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図15図15(A)および(B)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
図16図16は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する図である。
図17図17(A)および(B)は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する回路図である。
図18図18は、実施の形態に係る機能パネルの動作を説明する図である。
図19図19(A)乃至(D)は、実施の形態に係る表示装置の構成を説明する図である。
図20図20は、実施の形態に係る入出力装置の構成を説明するブロック図である。
図21図21(A)乃至(D)は、実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する図である。
図22図22(A)乃至(D)は、実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する図である。
図23図23(A)乃至(C)は、実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明するブロック図および投影図である。
図24図24(A)および(B)は、実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明するフローチャートである。
図25図25(A)乃至(C)は、実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明する図である。
図26図26(A)乃至(C)は、実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明する図である。
図27図27(A)乃至(E)は、実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する図である。
図28図28(A)乃至(E)は、実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する図である。
図29図29(A)および(B)は、実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する図である。
図30図30は、実施の形態に係る機能パネルの構成を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0061】
本発明の一態様の機能パネルは、第1の領域と、第2の領域と、第3の領域と、を有する
。第3の領域は第1の領域および第2の領域の間に挟まれ、第3の領域は屈曲することが
でき、第3の領域は機能層、接合層および第1の導電膜を備える。接合層は機能層および
第1の導電膜の間に挟まれる領域を備え、機能層は回路および絶縁膜を含み、回路は第2
の導電膜を含む。絶縁膜は第1の導電膜および第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、
第1の導電膜は第2の導電膜との間に容量を形成する。
【0062】
これにより、第1の導電膜を用いて、ノイズから回路を遮蔽できる。または、回路が安定
に動作することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パ
ネルを提供することができる。
【0063】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定さ
れず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し
得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の
記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において
、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、
その繰り返しの説明は省略する。
【0064】
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様の機能パネルの構成について、図1乃至図4および図
30を参照しながら説明する。
【0065】
図1は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図1(A)は本発明の一
態様の機能パネルの斜視図であり、図1(B)および図1(C)は図1(A)に示す機能
パネルの一部を屈曲した状態を説明する図である。
【0066】
図2は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図2(A)は図1(B)
に示す本発明の一態様の機能パネルの断面図であり、図2(B)は図2(A)の一部を説
明する図である。
【0067】
図3は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図3図1(B)に示す
本発明の一態様の機能パネルの断面図であり、図2(A)の一部を説明する図である。
【0068】
図4は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図4(A)は図2(B)
に示す本発明の一態様の機能パネルの断面図であり、図4(B)および図4(C)は、図
4(A)とは異なる構成を説明する図である。
【0069】
図30は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図30図4(A)乃
至(C)とは異なる構成を説明する図である。
【0070】
なお、本明細書において、1以上の整数を値にとる変数を符号に用いる場合がある。例え
ば、1以上の整数の値をとる変数pを含む(p)を、最大p個の構成要素のいずれかを特
定する符号の一部に用いる場合がある。また、例えば、1以上の整数の値をとる変数mお
よび変数nを含む(m,n)を、最大m×n個の構成要素のいずれかを特定する符号の一
部に用いる場合がある。
【0071】
<機能パネル700の構成例1>
本実施の形態で説明する機能パネルは、領域231(1)と、領域231(2)と、領域
231(3)と、を有する(図1(A)乃至図1(C)参照)。
【0072】
《領域231(3)の構成例1》
領域231(3)は、領域231(1)および領域231(2)の間に挟まれる(図1
B)および図2(A)参照)。また、領域231(3)は屈曲することができる。
【0073】
領域231(3)は、機能層520、接合層505および導電膜510Mを備える(図2
(B)参照)。
【0074】
[接合層505の構成例]
接合層505は、機能層520および導電膜510Mの間に挟まれる領域を備える。例え
ば、接合層505は機能層520および導電膜510Mを貼り合わせる機能を備える。具
体的には、機能層520と、あらかじめ他の基材に成膜した導電膜510Mを、接合層5
05を用いて、貼り合わせることができる。
【0075】
無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料等を接合層505に用いること
ができる。
【0076】
例えば、熱溶融性の樹脂または硬化性の樹脂等の有機材料を、接合層505に用いること
ができる。
【0077】
例えば、反応硬化型接着剤、光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤または/および嫌気型接着
剤等の有機材料を接合層505に用いることができる。
【0078】
具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミ
ド樹脂、イミド樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラ
ル)樹脂、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂等を含む接着剤を接合層505に用
いることができる。
【0079】
《機能層520の構成例1》
機能層520は、回路530および絶縁膜501Cを含む。
【0080】
《回路530の構成例1》
回路530は、導電膜524(1)を含む。例えば、トランジスタを回路530に用いる
ことができる。また、トランジスタのゲート電極、ソース電極またはドレイン電極に導電
膜を用いることができる。具体的には、ゲート電極に導電膜524(1)を用いることが
できる。
【0081】
《絶縁膜501Cの構成例1》
絶縁膜501Cは、導電膜510Mおよび導電膜524(1)の間に挟まれる領域を備え
る。例えば、シリコンおよび酸素を含む材料またはポリイミドなどを絶縁膜501Cに用
いることができる。これにより、例えば、回路530と導電膜510Mの間の短絡を防ぐ
ことができる。
【0082】
《導電膜510Mの構成例1》
導電膜510Mは、導電膜524(1)との間に容量CSを形成する。例えば、無機導電
性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを導電膜510Mに用いる
ことができる。具体的には、アルミニウムまたはチタンなど、配線に用いることができる
材料を用いることができる。また、蒸着法または印刷法を用いて膜状に成形することがで
きる。
【0083】
これにより、導電膜510Mを用いて、ノイズから回路530を遮蔽できる。その結果、
利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0084】
<機能パネル700の構成例2>
また、本発明の一態様の機能パネル700は、基材510を有する。
【0085】
《基材510の構成例1》
基材510は、接合層505との間に、導電膜510Mを挟む領域を備える。例えば、可
撓性を有する材料を基材510に用いることができる。
【0086】
これにより、基材510を用いて、導電膜510Mを外力などから保護することができる
。または、屈曲に伴う摩擦から、導電膜510Mを保護することができる。その結果、利
便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0087】
<機能パネル700の構成例3>
また、本発明の一態様の機能パネル700は、領域231(4)と、領域231(5)と
、を有する。
【0088】
《領域231(5)の構成例1》
領域231(5)は、領域231(1)および領域231(4)の間に挟まれる(図1
A)、図1(B)および図2(A)参照)。
【0089】
領域231(5)は、曲げ剛性EI(5)を備える。
【0090】
《領域231(3)の構成例2》
領域231(3)は基材410を備え、基材410は接合層505との間に、導電膜51
0Mを挟む領域を備える(図2(B)、図4(A)および図30参照)。例えば、接合層
410Aを基材410および基材510の貼り合わせに用いることができる。
【0091】
また、領域231(3)が、導電膜510Mおよび基材510の間に基材410を挟む領
域を備えてもよい(図4(B)または図4(C)参照)。
【0092】
領域231(3)は曲げ剛性EI(3)を備え、曲げ剛性EI(3)は曲げ剛性EI(5
)に比べて高い。
【0093】
これにより、領域231(3)の中立面を基材410に近づけることができる。または、
領域231(5)の中立面より領域231(3)の中立面を基材410に近づけることが
できる。または、屈曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、機能層520より導電
膜510Mが外側になるように、領域231(3)を屈曲することができる。または、当
該方向への屈曲に伴い、例えば、導電膜524(1)に加わる引っ張り応力を軽減できる
。または、例えば、当該方向への屈曲に伴う圧縮応力を、導電膜524(1)に加えるこ
とができる。または、当該方向への屈曲に伴う、例えば、機能層520の破壊を防ぐこと
ができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供する
ことができる。
【0094】
《領域231の構成例1》
領域231(3)は、屈曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、機能層520より
導電膜510Mが外側になるように屈曲する。また、領域231(5)は、領域231(
3)とは逆向きに屈曲することができる(図2(A)、図2(B)および図3参照)。
【0095】
これにより、方向が互い違いになるように、領域231(3)および領域231(5)を
屈曲することができる。または、機能パネルを、例えば、ジグザグに屈曲することができ
る。または、ジグザグの屈曲に伴う、例えば、機能層520の破壊を防ぐことができる。
または、例えば、屈曲に伴って現れる曲率円の中心を基準にして、機能層520より導電
膜510Mが内側になるように、領域231(5)を屈曲することができる。その結果、
利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0096】
<機能パネル700の構成例4>
また、本発明の一態様の機能パネル700は、画素702G(i,j)、を有する。なお
、機能パネル700は画素703(i,j)を有し、画素703(i,j)は画素702
G(i,j)を備える(図1(A)、図8(A)および図8(B)参照)。
【0097】
回路530は、画素回路530G(i,j)を含む(図12参照)。
【0098】
《画素702G(i,j)の構成例1》
画素702G(i,j)は、発光素子550G(i,j)および画素回路530G(i,
j)を備える。
【0099】
発光素子550G(i,j)は、画素回路530G(i,j)と電気的に接続される。
【0100】
これにより、導電膜510Mを用いて、画素702G(i,j)を遮蔽し、ノイズの伝搬
を防ぐことができる。または、表示に対するノイズの影響を軽減することができる。また
は、屈曲に伴う表示の乱れを軽減することができる。または、指などの近接に伴う表示の
乱れを軽減することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機
能パネルを提供することができる。
【0101】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0102】
(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明の一態様の機能パネルの構成について、図8乃至図11を参照
しながら説明する。
【0103】
図8は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図8(A)は本発明の一
態様の機能パネルの構成を説明する上面図であり、図8(B)は図8(A)の一部を説明
する図である。
【0104】
図9(A)は図8(A)の一部を説明する図であり、図9(B)は図9(A)の一部を説
明する図であり、図9(C)は図9(A)の他の一部を説明する図である。
【0105】
図10は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図10は画素回路の構
成を説明する回路図である。
【0106】
図11は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図11は画素回路の構
成を説明する回路図である。
【0107】
<機能パネル700の構成例1>
機能パネル700は一組の画素703(i,j)を有する(図8(A)参照)。
【0108】
《画素703(i,j)の構成例1》
一組の画素703(i,j)は、画素702G(i,j)を備える(図8(B)参照)。
画素702G(i,j)は、画素回路530G(i,j)および発光素子550G(i,
j)を備え、発光素子550G(i,j)は画素回路530G(i,j)と電気的に接続
される(図9(A)参照)。
【0109】
《画素回路530G(i,j)の構成例1》
画素回路530G(i,j)は、スイッチSW21、スイッチSW22、トランジスタM
21、容量C21およびノードN21を備える(図10参照)。
【0110】
トランジスタM21は、ノードN21と電気的に接続されるゲート電極と、発光素子55
0G(i,j)と電気的に接続される第1の電極と、導電膜ANOと電気的に接続される
第2の電極と、を備える。
【0111】
スイッチSW21は、ノードN21と電気的に接続される第1の端子と、導電膜S1g(
j)と電気的に接続される第2の端子と、導電膜G1(i)の電位に基づいて、導通状態
または非導通状態を制御する機能を備える。
【0112】
スイッチSW22は、導電膜S2g(j)と電気的に接続される第1の端子と、導電膜G
2(i)の電位に基づいて、導通状態または非導通状態を制御する機能を備える。
【0113】
容量C21は、ノードN21と電気的に接続される導電膜と、スイッチSW22の第2の
電極と電気的に接続される導電膜を備える。
【0114】
これにより、画像信号をノードN21に格納することができる。または、ノードN21の
電位を、スイッチSW22を用いて、変更することができる。または、発光素子550G
(i,j)が射出する光の強度を、ノードN21の電位を用いて、制御することができる
。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することがで
きる。
【0115】
《発光素子550G(i,j)の構成例1》
例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンス素子、発光
ダイオードまたはQDLED(Quantum Dot LED)等を、発光素子550
G(i,j)に用いることができる。
【0116】
《画素703(i,j)の構成例2》
画素703(i,j)は、画素702S(i,j)を備える(図8(B)参照)。画素7
02S(i,j)は、画素回路530S(i,j)および光電変換素子PD(i,j)を
備え、光電変換素子PD(i,j)は画素回路530S(i,j)と電気的に接続される
図9(A)参照)。
【0117】
《画素回路530S(i,j)の構成例1》
画素回路530S(i,j)は、スイッチSW31、スイッチSW32、スイッチSW3
3、トランジスタM31、容量C31およびノードFDを備える(図11参照)。
【0118】
スイッチSW31は、光電変換素子PD(i,j)と電気的に接続される第1の端子と、
ノードFDと電気的に接続される第2の端子と、導電膜TX(i)の電位に基づいて、導
通状態または非導通状態を制御する機能を備える。
【0119】
スイッチSW32は、ノードFDと電気的に接続される第1の端子と、導電膜VRと電気
的に接続される第2の端子と、導電膜RS(i)の電位に基づいて、導通状態または非導
通状態を制御する機能を備える。
【0120】
容量C31は、ノードFDと電気的に接続される導電膜と、導電膜VCPと電気的に接続
される導電膜を備える。
【0121】
トランジスタM31は、ノードFDと電気的に接続されるゲート電極と、導電膜VPIと
電気的に接続される第1の電極と、を備える。
【0122】
スイッチSW33は、トランジスタM31の第2の電極と電気的に接続される第1の端子
と、導電膜WX(j)と電気的に接続される第2の端子と、導電膜SE(i)の電位に基
づいて、導通状態または非導通状態を制御する機能を備える。
【0123】
これにより、光電変換素子PD(i,j)が生成した撮像信号を、スイッチSW31を用
いて、ノードFDに転送することができる。または、光電変換素子PD(i,j)が生成
した撮像信号を、スイッチSW31を用いて、ノードFDに格納することができる。また
は、画素回路530S(i,j)および光電変換素子PD(i,j)の間を、スイッチS
W31を用いて、非導通状態にすることができる。または、相関二重サンプリング法を適
用することができる。または、撮像信号に含まれるノイズを低減することができる。その
結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0124】
《光電変換素子PD(i,j)の構成例1》
例えば、ヘテロ接合型の光電変換素子、バルクヘテロ接合型の光電変換素子等を、光電変
換素子PD(i,j)に用いることができる。
【0125】
《画素703(i,j)の構成例3》
複数の画素を画素703(i,j)に用いることができる。例えば、色相が互いに異なる
色を表示する複数の画素を用いることができる。なお、複数の画素のそれぞれを副画素と
言い換えることができる。または、複数の副画素を一組にして、画素と言い換えることが
できる。
【0126】
これにより、当該複数の画素が表示する色を加法混色または減法混色することができる。
または、個々の画素では表示することができない色相の色を、表示することができる。
【0127】
具体的には、青色を表示する画素702B(i,j)、緑色を表示する画素702G(i
,j)および赤色を表示する画素702R(i,j)を画素703(i,j)に用いるこ
とができる。また、画素702B(i,j)、画素702G(i,j)および画素702
R(i,j)のそれぞれを副画素と言い換えることができる(図8(B)参照)。
【0128】
また、例えば、白色等を表示する画素を上記の一組に加えて、画素703(i,j)に用
いることができる。また、シアンを表示する画素、マゼンタを表示する画素およびイエロ
ーを表示する画素を、画素703(i,j)に用いることができる。
【0129】
また、例えば、赤外線を射出する画素を上記の一組に加えて、画素703(i,j)に用
いることができる。具体的には、650nm以上1000nm以下の波長を備える光を含
む光を射出する画素を、画素703(i,j)に用いることができる。
【0130】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0131】
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様の機能パネルの構成について、図12乃至図15を参
照しながら説明する。
【0132】
図12は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図12図8(A)の
切断線X1-X2、X3-X4、X9-X10、X11-X12および画素における断面
図である。
【0133】
図13は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図13(A)は図8
B)に示す画素702G(i,j)の断面図であり、図13(B)は図13(A)の一部
を説明する断面図である。
【0134】
図14は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図14(A)は図8
B)に示す画素702S(i,j)の断面図であり、図14(B)は図14(A)の一部
を説明する断面図である。
【0135】
図15は本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。図15(A)は図8
A)の切断線X1-X2および切断線X3-X4における断面図であり、図15(B)は
図15(A)の一部を説明する図である。
【0136】
<機能パネル700の構成例1>
本発明の一態様の機能パネルは、機能層520を有する(図12参照)。
【0137】
《機能層520の構成例1》
機能層520は、画素回路530G(i,j)を備える(図12参照)。機能層520は
、例えば、画素回路530G(i,j)に用いるトランジスタM21を含む(図10およ
図13(A)参照)。
【0138】
機能層520は開口部591Gを備える。画素回路530G(i,j)は開口部591G
において、発光素子550G(i,j)と電気的に接続される(図12および図13(A
)参照)。
【0139】
《機能層520の構成例2》
機能層520は、画素回路530S(i,j)を備える(図12参照)。機能層520は
、例えば、画素回路530S(i,j)のスイッチSW31に用いるトランジスタを含む
図12および図14(A)参照)。
【0140】
機能層520は開口部591Sを備え、画素回路530S(i,j)は、開口部591S
において、光電変換素子PD(i,j)と電気的に接続される(図12および図14(A
)参照)。
【0141】
これにより、画素回路530G(i,j)を機能層520に形成することができる。また
は、画素回路530S(i,j)を機能層520に形成することができる。または、例え
ば、画素回路530G(i,j)に用いる半導体膜を形成する工程において、画素回路5
30S(i,j)に用いる半導体膜を形成することができる。または、機能パネルの作製
工程を簡略化することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な
機能パネルを提供することができる。
【0142】
《機能層520の構成例3》
機能層520は駆動回路GDを備える(図8(A)および図12参照)。機能層520は
、例えば、駆動回路GDに用いるトランジスタMDを含む(図12および図15(A)参
照)。
【0143】
機能層520は駆動回路RDおよび読み出し回路RCを備える(図12参照)。
【0144】
これにより、例えば、画素回路530G(i,j)に用いる半導体膜を形成する工程にお
いて、駆動回路GDに用いる半導体膜を形成することができる。または、例えば、画素回
路530G(i,j)に用いる半導体膜を形成する工程において、駆動回路RDおよび読
み出し回路RCに用いる半導体膜を形成することができる。または、機能パネルの作製工
程を簡略化することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機
能パネルを提供することができる。
【0145】
《トランジスタの構成例》
ボトムゲート型のトランジスタまたはトップゲート型のトランジスタなど、機能層520
に用いることができる。具体的には、トランジスタをスイッチに用いることができる。
【0146】
トランジスタは、半導体膜508、導電膜504、導電膜512Aおよび導電膜512B
を備える(図13(B)参照)。
【0147】
半導体膜508は、導電膜512Aと電気的に接続される領域508A、導電膜512B
と電気的に接続される領域508Bを備える。半導体膜508は、領域508Aおよび領
域508Bの間に領域508Cを備える。
【0148】
導電膜504は領域508Cと重なる領域を備え、導電膜504はゲート電極の機能を備
える。
【0149】
絶縁膜506は、半導体膜508および導電膜504の間に挟まれる領域を備える。絶縁
膜506はゲート絶縁膜の機能を備える。
【0150】
導電膜512Aはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の一方を備え、導電膜51
2Bはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の他方を備える。
【0151】
また、導電膜524をトランジスタに用いることができる。導電膜524は、導電膜50
4との間に半導体膜508を挟む領域を備える。導電膜524は、第2のゲート電極の機
能を備える。
【0152】
なお、画素回路のトランジスタに用いる半導体膜を形成する工程において、駆動回路のト
ランジスタに用いる半導体膜を形成することができる。
【0153】
《半導体膜508の構成例1》
例えば、14族の元素を含む半導体を半導体膜508に用いることができる。具体的には
、シリコンを含む半導体を半導体膜508に用いることができる。
【0154】
[水素化アモルファスシリコン]
例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いることができる。または、
微結晶シリコンなどを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、ポリ
シリコンを半導体膜508に用いる機能パネルより、表示ムラが少ない機能パネルを提供
することができる。または、機能パネルの大型化が容易である。
【0155】
[ポリシリコン]
例えば、ポリシリコンを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、水
素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタより、トランジスタの
電界効果移動度を高くすることができる。または、例えば、水素化アモルファスシリコン
を半導体膜508に用いるトランジスタより、駆動能力を高めることができる。または、
例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタより、画素
の開口率を向上することができる。
【0156】
または、例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタよ
り、トランジスタの信頼性を高めることができる。
【0157】
または、トランジスタの作製に要する温度を、例えば、単結晶シリコンを用いるトランジ
スタより、低くすることができる。
【0158】
または、駆動回路のトランジスタに用いる半導体膜を、画素回路のトランジスタに用いる
半導体膜と同一の工程で形成することができる。または、画素回路を形成する基板と同一
の基板上に駆動回路を形成することができる。または、電子機器を構成する部品数を低減
することができる。
【0159】
[単結晶シリコン]
例えば、単結晶シリコンを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、
水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いる機能パネルより、精細度を高める
ことができる。または、例えば、ポリシリコンを半導体膜508に用いる機能パネルより
、表示ムラが少ない機能パネルを提供することができる。または、例えば、スマートグラ
スまたはヘッドマウントディスプレイを提供することができる。
【0160】
《半導体膜508の構成例2》
例えば、金属酸化物を半導体膜508に用いることができる。これにより、アモルファス
シリコンを半導体膜に用いたトランジスタを利用する画素回路と比較して、画素回路が画
像信号を保持することができる時間を長くすることができる。具体的には、フリッカーの
発生を抑制しながら、選択信号を30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは
一分に一回未満の頻度で供給することができる。その結果、情報処理装置の使用者に蓄積
する疲労を低減することができる。また、駆動に伴う消費電力を低減することができる。
【0161】
また、アモルファスシリコンを半導体膜に用いたトランジスタを利用する画素回路と比較
して、画素回路が撮像信号を保持することができる時間を長くすることができる。具体的
には、選択信号を30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは一分に一回未満
の頻度で供給することができる。その結果、グローバルシャッター方式で撮影することが
できる。また、運動する被写体を、歪みを抑えて撮影することができる。
【0162】
例えば、酸化物半導体を用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、イン
ジウムを含む酸化物半導体またはインジウムとガリウムと亜鉛を含む酸化物半導体を半導
体膜に用いることができる。
【0163】
一例を挙げれば、オフ状態におけるリーク電流が、半導体膜にアモルファスシリコンを用
いたトランジスタより小さいトランジスタを用いることができる。具体的には、酸化物半
導体を半導体膜に用いたトランジスタをスイッチ等に利用することができる。これにより
、アモルファスシリコンを用いたトランジスタをスイッチに利用する回路より長い時間、
フローティングノードの電位を保持することができる。
【0164】
例えば、インジウム、ガリウムおよび亜鉛を含む厚さ25nmの膜を、半導体膜508に
用いることができる。
【0165】
例えば、タンタルおよび窒素を含む厚さ10nmの膜と、銅を含む厚さ300nmの膜と
、を積層した導電膜を導電膜504に用いることができる。なお、銅を含む膜は、絶縁膜
506との間に、タンタルおよび窒素を含む膜を挟む領域を備える。
【0166】
例えば、シリコンおよび窒素を含む厚さ400nmの膜と、シリコン、酸素および窒素を
含む厚さ200nmの膜と、を積層した積層膜を、絶縁膜506に用いることができる。
なお、シリコンおよび窒素を含む膜は、半導体膜508との間に、シリコン、酸素および
窒素を含む膜を挟む領域を備える。
【0167】
例えば、タングステンを含む厚さ50nmの膜と、アルミニウムを含む厚さ400nmの
膜と、チタンを含む厚さ100nmの膜と、をこの順で積層した導電膜を、導電膜512
Aまたは導電膜512Bに用いることができる。なお、タングステンを含む膜は、半導体
膜508と接する領域を備える。
【0168】
ところで、例えば、アモルファスシリコンを半導体に用いるボトムゲート型のトランジス
タの製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるボトムゲート型のトランジスタの製造
ラインに容易に改造できる。また、例えばポリシリコンを半導体に用いるトップゲート型
のトランジスタの製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるトップゲート型のトラン
ジスタの製造ラインに容易に改造できる。いずれの改造も、既存の製造ラインを有効に活
用することができる。
【0169】
これにより、表示のチラツキを抑制することができる。または、消費電力を低減すること
ができる。または、動きの速い動画を滑らかに表示することができる。または、豊かな階
調で写真等を表示することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新
規な機能パネルを提供することができる。
【0170】
《半導体膜508の構成例3》
例えば、化合物半導体をトランジスタの半導体に用いることができる。具体的には、ガリ
ウムヒ素を含む半導体を用いることができる。
【0171】
例えば、有機半導体をトランジスタの半導体に用いることができる。具体的には、ポリア
セン類またはグラフェンを含む有機半導体を半導体膜に用いることができる。
【0172】
《容量の構成例》
容量は、一の導電膜、他の導電膜および絶縁膜を備える。当該絶縁膜は一の導電膜および
他の導電膜の間に挟まれる領域を備える。
【0173】
例えば、トランジスタのソース電極またはドレイン電極に用いる導電膜と、ゲート電極に
用いる導電膜と、ゲート絶縁膜に用いる絶縁膜と、を容量に用いることができる。
【0174】
《機能層520の構成例2》
機能層520は、絶縁膜521、絶縁膜518、絶縁膜516、絶縁膜506および絶縁
膜501C等を備える(図13(A)および図13(B)参照)。
【0175】
絶縁膜521は、画素回路530G(i,j)および発光素子550G(i,j)の間に
挟まれる領域を備える。
【0176】
絶縁膜518は、絶縁膜521および絶縁膜501Cの間に挟まれる領域を備える。
【0177】
絶縁膜516は絶縁膜518および絶縁膜501Cの間に挟まれる領域を備える。
【0178】
絶縁膜506は絶縁膜516および絶縁膜501Cの間に挟まれる領域を備える。
【0179】
[絶縁膜521]
例えば、絶縁性の無機材料、絶縁性の有機材料または無機材料と有機材料を含む絶縁性の
複合材料を、絶縁膜521に用いることができる。
【0180】
具体的には、無機酸化物膜、無機窒化物膜または無機酸化窒化物膜等またはこれらから選
ばれた複数を積層した積層材料を、絶縁膜521に用いることができる。
【0181】
例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等
またはこれらから選ばれた複数を積層した積層材料を含む膜を、絶縁膜521に用いるこ
とができる。なお、窒化シリコン膜は緻密な膜であり、不純物の拡散を抑制する機能に優
れる。
【0182】
例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、
ポリシロキサン若しくはアクリル樹脂等またはこれらから選択された複数の樹脂の積層材
料もしくは複合材料などを絶縁膜521に用いることができる。ところで、ポリイミドは
熱的安定性、絶縁性、靱性、低誘電率、低熱膨張率、耐薬品性などの特性において他の有
機材料に比べて優れた特性を備える。これにより、特にポリイミドを絶縁膜521等に好
適に用いることができる。
【0183】
また、感光性を有する材料を用いて、絶縁膜521を形成してもよい。具体的には、感光
性のポリイミドまたは感光性のアクリル樹脂等を用いて形成された膜を絶縁膜521に用
いることができる。
【0184】
これにより、絶縁膜521は、例えば、絶縁膜521と重なるさまざまな構造に由来する
段差を平坦化することができる。
【0185】
[絶縁膜518]
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜518に用いることができる。
【0186】
例えば、酸素、水素、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の拡散を抑制する機能を備
える材料を絶縁膜518に用いることができる。具体的には、窒化物絶縁膜を絶縁膜51
8に用いることができる。例えば、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化アルミニウム
、窒化酸化アルミニウム等を絶縁膜518に用いることができる。これにより、トランジ
スタの半導体膜への不純物の拡散を抑制することができる。
【0187】
[絶縁膜516]
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜516に用いることができる。
【0188】
具体的には、絶縁膜518とは作製方法が異なる膜を絶縁膜516に用いることができる
【0189】
[絶縁膜506]
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜506に用いることができる。
【0190】
具体的には、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、窒化シリコン
膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜、酸化ジルコニウム膜
、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ランタン膜、酸化セリウ
ム膜または酸化ネオジム膜を含む膜を絶縁膜506に用いることができる。
【0191】
[絶縁膜501D]
絶縁膜501Dは、絶縁膜501Cおよび絶縁膜516の間に挟まれる領域を備える。
【0192】
例えば、絶縁膜506に用いることができる材料を絶縁膜501Dに用いることができる
【0193】
[絶縁膜501C]
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜501Cに用いることができる
。具体的には、シリコンおよび酸素を含む材料を絶縁膜501Cに用いることができる。
これにより、画素回路、発光素子または光電変換素子等への不純物の拡散を抑制すること
ができる。
【0194】
《機能層520の構成例3》
機能層520は、導電膜、配線および端子を備える。導電性を備える材料を配線、電極、
端子、導電膜等に用いることができる。
【0195】
[配線等]
例えば、無機導電性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを配線等
に用いることができる。
【0196】
具体的には、アルミニウム、金、白金、銀、銅、クロム、タンタル、チタン、モリブデン
、タングステン、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウムまたはマンガンから選ばれた金属
元素などを、配線等に用いることができる。または、上述した金属元素を含む合金などを
、配線等に用いることができる。特に、銅とマンガンの合金がウエットエッチング法を用
いた微細加工に好適である。
【0197】
具体的には、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にチタン
膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、窒化タン
タル膜または窒化タングステン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、チタン膜と、
そのチタン膜上にアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を形成する三層構造
等を配線等に用いることができる。
【0198】
具体的には、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、
ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を、配線等に用いることができる。
【0199】
具体的には、グラフェンまたはグラファイトを含む膜を配線等に用いることができる。
【0200】
例えば、酸化グラフェンを含む膜を形成し、酸化グラフェンを含む膜を還元することによ
り、グラフェンを含む膜を形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方
法や還元剤を用いる方法等を挙げることができる。
【0201】
例えば、金属ナノワイヤーを含む膜を配線等に用いることができる。具体的には、銀を含
むナノワイヤーを用いることができる。
【0202】
具体的には、導電性高分子を配線等に用いることができる。
【0203】
なお、例えば、導電材料を用いて、端子519Bをフレキシブルプリント基板FPC1と
電気的に接続することができる(図12参照)。具体的には、導電材料CPを用いて、端
子519Bをフレキシブルプリント基板FPC1と電気的に接続することができる。
【0204】
<機能パネル700の構成例2>
また、機能パネル700は、基材510、基材770および封止材705を備える(図1
3(A)参照)。また、機能パネル700は構造体KBを備える。
【0205】
《基材510、基材770》
透光性を備える材料を、基材510または基材770に用いることができる。
【0206】
例えば、可撓性を有する材料を基材510または基材770に用いることができる。これ
により、可撓性を備える機能パネルを提供することができる。
【0207】
例えば、厚さ0.7mm以下厚さ0.1mm以上の材料を用いることができる。具体的に
は、厚さ0.1mm程度まで研磨した材料を用いることができる。これにより、重量を低
減することができる。
【0208】
ところで、第6世代(1500mm×1850mm)、第7世代(1870mm×220
0mm)、第8世代(2200mm×2400mm)、第9世代(2400mm×280
0mm)、第10世代(2950mm×3400mm)等のガラス基板を基材510また
は基材770に用いることができる。これにより、大型の表示装置を作製することができ
る。
【0209】
有機材料、無機材料または有機材料と無機材料等の複合材料等を基材510または基材7
70に用いることができる。
【0210】
例えば、ガラス、セラミックス、金属等の無機材料を用いることができる。具体的には、
無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラス、クリスタルガラス、アルミノ珪酸ガ
ラス、強化ガラス、化学強化ガラス、石英またはサファイア等を、基材510または基材
770に用いることができる。または、アルミノ珪酸ガラス、強化ガラス、化学強化ガラ
スまたはサファイア等を、機能パネルの使用者に近い側に配置される基材510または基
材770に好適に用いることができる。これにより、使用に伴う機能パネルの破損や傷付
きを防止することができる。
【0211】
具体的には、無機酸化物膜、無機窒化物膜または無機酸窒化物膜等を用いることができる
。例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜
等を用いることができる。ステンレス・スチールまたはアルミニウム等を基材510また
は基材770に用いることができる。
【0212】
例えば、シリコンや炭化シリコンからなる単結晶半導体基板、多結晶半導体基板、シリコ
ンゲルマニウム等の化合物半導体基板、SOI基板等を基材510または基材770に用
いることができる。これにより、半導体素子を基材510または基材770に形成するこ
とができる。
【0213】
例えば、樹脂、樹脂フィルムまたはプラスチック等の有機材料を基材510または基材7
70に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(
ナイロン、アラミド等)、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリウレタンまたはアクリル
樹脂、エポキシ樹脂またはシリコーンなどのシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を基
材510または基材770に用いることができる。例えば、これらの材料を含む樹脂フィ
ルム、樹脂板または積層材料等を用いることができる。これにより、重量を低減すること
ができる。または、例えば、落下に伴う破損等の発生頻度を低減することができる。
【0214】
具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリエーテルサルフォン(PES)、シクロオレフィンポリマー(COP)または
シクロオレフィンコポリマー(COC)等を基材510または基材770に用いることが
できる。
【0215】
例えば、金属板、薄板状のガラス板または無機材料等の膜と樹脂フィルム等を貼り合わせ
た複合材料を基材510または基材770に用いることができる。例えば、繊維状または
粒子状の金属、ガラスもしくは無機材料等を樹脂に分散した複合材料を基材510または
基材770に用いることができる。例えば、繊維状または粒子状の樹脂もしくは有機材料
等を無機材料に分散した複合材料を基材510または基材770に用いることができる。
【0216】
また、単層の材料または複数の層が積層された材料を、基材510または基材770に用
いることができる。例えば、絶縁膜等が積層された材料を用いることができる。具体的に
は、酸化シリコン層、窒化シリコン層または酸化窒化シリコン層等から選ばれた一または
複数の膜が積層された材料を用いることができる。これにより、例えば、基材に含まれる
不純物の拡散を防ぐことができる。または、ガラスまたは樹脂に含まれる不純物の拡散を
防ぐことができる。または、樹脂を透過する不純物の拡散を防ぐことができる。
【0217】
また、紙または木材などを基材510または基材770に用いることができる。
【0218】
例えば、作製工程中の熱処理に耐えうる程度の耐熱性を有する材料を基材510または基
材770に用いることができる。具体的には、トランジスタまたは容量等を直接形成する
作成工程中に加わる熱に耐熱性を有する材料を、基材510または基材770に用いるこ
とができる。
【0219】
例えば、作製工程中に加わる熱に耐熱性を有する工程用基板に絶縁膜、トランジスタまた
は容量等を形成し、形成された絶縁膜、トランジスタまたは容量等を、例えば、基材51
0または基材770に転置する方法を用いることができる。これにより、例えば、可撓性
を有する基板に絶縁膜、トランジスタまたは容量等を形成できる。
【0220】
《封止材705》
封止材705は、機能層520および基材770の間に挟まれる領域を備え、機能層52
0および基材770を貼り合わせる機能を備える(図13(A)参照)。
【0221】
無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料等を封止材705に用いること
ができる。
【0222】
例えば、熱溶融性の樹脂または硬化性の樹脂等の有機材料を、封止材705に用いること
ができる。
【0223】
例えば、反応硬化型接着剤、光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤または/および嫌気型接着
剤等の有機材料を封止材705に用いることができる。
【0224】
具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミ
ド樹脂、イミド樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラ
ル)樹脂、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂等を含む接着剤を封止材705に用
いることができる。
【0225】
《構造体KB》
構造体KBは、機能層520および基材770の間に挟まれる領域を備える。また、構造
体KBは、機能層520および基材770の間に所定の間隙を設ける機能を備える。
【0226】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0227】
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様の機能パネルの構成について、図13乃至図15を参
照しながら説明する。
【0228】
<機能パネル700の構成例1>
機能パネル700は、発光素子550G(i,j)を備える(図13参照)。
【0229】
《発光素子550G(i,j)の構成例2》
電極551G(i,j)、電極552および発光性の材料を含む層553G(j)を、発
光素子550G(i,j)に用いることができる。また、発光性の材料を含む層553G
(j)は、電極551G(i,j)および電極552に挟まれる領域を備える。
【0230】
[発光性の材料を含む層553G(j)の構成例1]
例えば、積層材料を発光性の材料を含む層553G(j)に用いることができる。
【0231】
例えば、青色の光を発する材料、緑色の光を発する材料、赤色の光を発する材料、赤外線
を発する材料または紫外線を発する材料を、発光性の材料を含む層553G(j)に用い
ることができる。
【0232】
[発光性の材料を含む層553G(j)の構成例2]
例えば、白色の光を射出するように積層された積層材料を、発光性の材料を含む層553
G(j)に用いることができる。
【0233】
具体的には、色相が互いに異なる光を発する複数の材料を、発光性の材料を含む層553
G(j)に用いることができる。
【0234】
例えば、青色の光を射出する蛍光材料を含む発光性の材料を含む層と、緑色および赤色の
光を射出する蛍光材料以外の材料を含む層を積層した積層材料を、発光性の材料を含む層
553G(j)に用いることができる。または、青色の光を射出する蛍光材料を含む発光
性の材料を含む層と、黄色の光を射出する蛍光材料以外の材料を含む層と、を積層した積
層材料を、発光性の材料を含む層553G(j)に用いることができる。
【0235】
なお、発光性の材料を含む層553G(j)に、例えば、着色膜を重ねて用いることがで
きる。これにより、白色の光から、所定の色相の光を取り出すことができる。
【0236】
[発光性の材料を含む層553G(j)の構成例3]
例えば、青色の光または紫外線を射出するように積層された積層材料を、発光性の材料を
含む層553G(j)に用いることができる。また、例えば、色変換層を重ねて用いるこ
とができる。
【0237】
[発光性の材料を含む層553G(j)の構成例4]
発光性の材料を含む層553G(j)は、発光ユニットを備える。発光ユニットは、一方
から注入された電子が他方から注入された正孔と再結合する領域を1つ備える。また、発
光ユニットは発光性の材料を含み、発光性の材料は電子と正孔の再結合により生じるエネ
ルギーを光として放出する。なお、正孔輸送層および電子輸送層を発光ユニットに用いる
ことができる。正孔輸送層は電子輸送層より正極側に配置され、正孔輸送層は電子輸送層
より正孔の移動度が高い。
【0238】
例えば、複数の発光ユニットおよび中間層を発光性の材料を含む層553G(j)に用い
ることができる。中間層は、二つの発光ユニットの間に挟まれる領域を備える。中間層は
電荷発生領域を備え、中間層は陰極側に配置された発光ユニットに正孔を供給し、陽極側
に配置された発光ユニットに電子を供給する機能を備える。なお、複数の発光ユニットお
よび中間層を備える構成をタンデム型の発光素子という場合がある。
【0239】
これにより、発光に係る電流効率を高めることができる。または、同じ輝度において、発
光素子を流れる電流密度を下げることができる。または、発光素子の信頼性を高めること
ができる。
【0240】
例えば、一の色相の光を発する材料を含む発光ユニットを、他の色相の光を発する材料を
含む発光ユニットと重ねて、発光性の材料を含む層553G(j)に用いることができる
。または、一の色相の光を発する材料を含む発光ユニットを、同一の色相の光を発する材
料を含む発光ユニットと重ねて、発光性の材料を含む層553G(j)に用いることがで
きる。具体的には、青色の光を発する材料を含む二つの発光ユニットを重ねて用いること
ができる。
【0241】
ところで、例えば、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)、中分子化
合物(低分子と高分子の中間領域の化合物:分子量400以上4000以下)等を、発光
性の材料を含む層553G(j)に用いることができる。
【0242】
[電極551G(i,j)、電極552]
例えば、配線等に用いることができる材料を電極551G(i,j)または電極552に
用いることができる。具体的には、可視光について透光性を有する材料を電極551G(
i,j)または電極552に用いることができる。
【0243】
例えば、導電性酸化物またはインジウムを含む導電性酸化物、酸化インジウム、インジウ
ム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などを用い
ることができる。または、光が透過する程度に薄い金属膜を用いることができる。または
、可視光について透光性を有する材料を用いることができる。
【0244】
例えば、光の一部を透過し、光の他の一部を反射する金属膜を電極551G(i,j)ま
たは電極552に用いることができる。例えば、発光性の材料を含む層553G(j)な
どを用いて、電極551G(i,j)および電極552の間の距離を調整する。
【0245】
これにより、微小共振器構造を発光素子550G(i,j)に設けることができる。また
は、所定の波長の光を他の光より効率よく取り出すことができる。または、スペクトルの
半値幅が狭い光を取り出すことができる。または、鮮やかな色の光を取り出すことができ
る。
【0246】
例えば、効率よく光を反射する膜を、電極551G(i,j)または電極552に用いる
ことができる。具体的には、銀およびパラジウム等を含む材料または銀および銅等を含む
材料を金属膜に用いることができる。
【0247】
また、電極551G(i,j)は、開口部591Gにおいて、画素回路530G(i,j
)と電気的に接続される(図14(A)参照)。電極551G(i,j)は、例えば、絶
縁膜528に形成される開口部と重なり、電極551G(i,j)は周縁に絶縁膜528
を備える。
【0248】
これにより、電極551G(i,j)および電極552の短絡を防止することができる。
【0249】
《光電変換素子PD(i,j)の構成例2》
光電変換素子PD(i,j)は、電極551S(i,j)、電極552および光電変換材
料を含む層553S(j)を備える(図14(A)参照)。
【0250】
例えば、ヘテロ接合型の光電変換素子、バルクヘテロ接合型の光電変換素子等を、光電変
換素子PD(i,j)に用いることができる。
【0251】
[光電変換材料を含む層553S(j)の構成例1]
例えば、p型の半導体膜とn型の半導体膜が互いに接するように積層した積層膜を、光電
変換材料を含む層553S(j)に用いることができる。なお、光電変換材料を含む層5
53S(j)にこのような構造の積層膜を用いる光電変換素子PD(i,j)を、PN型
のフォトダイオードということができる。
【0252】
例えば、p型の半導体膜およびn型の半導体膜の間にi型の半導体膜を挟むように、p型
の半導体膜、i型の半導体膜およびn型の半導体膜を積層した積層膜を、光電変換材料を
含む層553S(j)に用いることができる。なお、光電変換材料を含む層553S(j
)にこのような構造の積層膜を用いる光電変換素子PD(i,j)を、PIN型のフォト
ダイオードということができる。
【0253】
例えば、p+型の半導体膜およびn型の半導体膜の間にp-型の半導体膜を挟み、当該p
-型の半導体膜および当該n型の半導体膜の間にp型の半導体膜を挟むように、p+型の
半導体膜、p-型の半導体膜、p型の半導体膜およびn型の半導体膜を積層した積層膜を
、光電変換材料を含む層553S(j)に用いることができる。なお、光電変換材料を含
む層553S(j)にこのような構造の積層膜を用いる光電変換素子PD(i,j)を、
アバランシェフォトダイオードということができる。
【0254】
[光電変換材料を含む層553S(j)の構成例2]
例えば、14族の元素を含む半導体を、光電変換材料を含む層553S(j)に用いるこ
とができる。具体的には、シリコンを含む半導体を、光電変換材料を含む層553S(j
)に用いることができる。例えば、水素化アモルファスシリコン、微結晶シリコン、ポリ
シリコンまたは単結晶シリコン等を、光電変換材料を含む層553S(j)に用いること
ができる。
【0255】
例えば、有機半導体を、光電変換材料を含む層553S(j)に用いることができる。具
体的には、発光性の材料を含む層553G(j)に用いる層の一部を、光電変換材料を含
む層553S(j)の一部に用いることができる。
【0256】
具体的には、発光性の材料を含む層553G(j)に用いる正孔輸送層を、光電変換材料
を含む層553S(j)に用いることができる。または、発光性の材料を含む層553G
(j)に用いる電子輸送層を、光電変換材料を含む層553S(j)に用いることができ
る。または、正孔輸送層および電子輸送層を、光電変換材料を含む層553S(j)に用
いることができる。これにより、発光性の材料を含む層553G(j)に用いる正孔輸送
層を形成する工程において、光電変換材料を含む層553S(j)に用いる正孔輸送層を
形成することができる。または、発光性の材料を含む層553G(j)に用いる電子輸送
層を形成する工程において、光電変換材料を含む層553S(j)に用いる電子輸送層を
形成することができる。または、作製工程を簡略化することができる。
【0257】
また、例えば、フラーレン(例えばC60、C70等)またはその誘導体等の電子受容性
の有機半導体材料をn型の半導体膜に用いることができる。
【0258】
また、例えば、銅(II)フタロシアニン(Copper(II) phthalocy
anine;CuPc)またはテトラフェニルジベンゾペリフランテン(Tetraph
enyldibenzoperiflanthene;DBP)等の電子供与性の有機半
導体材料をp型の半導体膜に用いることができる。
【0259】
また、例えば、電子受容性の半導体材料と電子供与性の半導体材料とを共蒸着した膜をi
型の半導体膜に用いることができる。
【0260】
<機能パネル700の構成例2>
機能パネル700は、絶縁膜528および絶縁膜573を有する(図13(A)参照)。
【0261】
《絶縁膜528》
絶縁膜528は機能層520および基材770の間に挟まれる領域を備え、絶縁膜528
は発光素子550G(i,j)と重なる領域に開口部を備える(図13(A)参照)。
【0262】
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を、絶縁膜528に用いることができる
。具体的には、酸化珪素膜、アクリル樹脂を含む膜またはポリイミドを含む膜等を絶縁膜
528に用いることができる。
【0263】
《絶縁膜573》
絶縁膜573は、機能層520との間に発光素子550G(i,j)を挟む領域を備える
図13(A)参照)。
【0264】
例えば、単数の膜または複数の膜を積層した積層膜を絶縁膜573に用いることができる
。具体的には、発光素子550G(i,j)を損傷し難い方法で形成することができる絶
縁膜573Aと、欠陥の少ない緻密な絶縁膜573Bと、を積層した積層膜を、絶縁膜5
73に用いることができる。
【0265】
これにより、発光素子550G(i,j)への不純物の拡散を抑制することができる。ま
たは、発光素子550G(i,j)の信頼性を高めることができる。
【0266】
<機能パネル700の構成例3>
機能パネル700は、機能層720を備える(図13(A)参照)。
【0267】
《機能層720》
機能層720は、遮光膜BM、着色膜CF(G)および絶縁膜771を備える。また、色
変換層を用いることができる。
【0268】
《遮光膜BM》
遮光膜BMは画素702G(i,j)と重なる領域に開口部を備える。また、遮光膜BM
は画素702S(i,j)と重なる領域に開口部を備える。
【0269】
例えば、暗色の材料を遮光膜BMに用いることができる。これにより、表示のコントラス
トを向上することができる。
【0270】
《着色膜CF(G)》
着色膜CF(G)は、基材770および発光素子550G(i,j)の間に挟まれる領域
を備える。例えば、所定の色の光を選択的に透過する材料を着色膜CF(G)に用いるこ
とができる。具体的には、赤色の光、緑色の光または青色の光を透過する材料を着色膜C
F(G)に用いることができる。
【0271】
《絶縁膜771の構成例》
絶縁膜771は、基材770および発光素子550G(i,j)の間に挟まれる領域を備
える。
【0272】
絶縁膜771は、基材770との間に、遮光膜BM、着色膜CF(G)または色変換層を
挟む領域を備える。これにより、遮光膜BM、着色膜CF(G)または色変換層の厚さに
由来する凹凸を平坦にすることができる。
【0273】
《色変換層》
色変換層は、基材770および発光素子550G(i,j)の間に挟まれる領域を備える
【0274】
例えば、入射する光の波長より長い波長を有する光を射出する材料を色変換層に用いるこ
とができる。例えば、青色の光または紫外線を吸収して緑色の光に変換して放出する材料
、青色の光または紫外線を吸収して赤色の光に変換して放出する材料、または紫外線を吸
収して青色の光に変換して放出する材料を色変換層に用いることができる。具体的には、
直径数nmの量子ドットを色変換層に用いることができる。これにより、半値幅が狭いス
ペクトルを有する光を放出できる。または、彩度の高い光を放出することができる。
【0275】
<機能パネル700の構成例4>
機能パネル700は、遮光膜KBMを備える(図13(A)参照)。
【0276】
《遮光膜KBM》
遮光膜KBMは画素702S(i,j)と重なる領域に開口部を備える。また、遮光膜K
BMは、機能層520および基材770の間に挟まれる領域を備え、機能層520および
基材770の間に所定の間隙を設ける機能を備える。例えば、暗色の材料を遮光膜KBM
に用いることができる。これにより、画素702S(i,j)に進入する迷光を抑制する
ことができる。
【0277】
<機能パネル700の構成例5>
機能パネル700は、機能膜770Pなどを備える(図13(A)参照)。
【0278】
《機能膜770P等》
機能膜770Pは、発光素子550G(i,j)と重なる領域を備える。
【0279】
例えば、反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムまたは集光
フィルム等を機能膜770Pに用いることができる。
【0280】
例えば、厚さ1μm以下の反射防止膜を、機能膜770Pに用いることができる。具体的
には、誘電体を3層以上、好ましくは5層以上、より好ましくは15層以上積層した積層
膜を機能膜770Pに用いることができる。これにより、反射率を0.5%以下好ましく
は0.08%以下に抑制することができる。
【0281】
例えば、円偏光フィルムを機能膜770Pに用いることができる。
【0282】
また、ゴミの付着を抑制する帯電防止膜、汚れを付着しにくくする撥水性の膜、汚れを付
着しにくくする撥油性の膜、反射防止膜(アンチ・リフレクション膜)、非光沢処理膜(
アンチ・グレア膜)、使用に伴う傷の発生を抑制するハードコート膜、発生した傷が修復
する自己修復性のフィルムなどを、機能膜770Pに用いることができる。
【0283】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0284】
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様の機能パネルの構成について、図16乃至図18を参
照しながら説明する。
【0285】
図16は、本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する図である。
【0286】
図17は、本発明の一態様の機能パネルの構成を説明する回路図である。図17(A)は
、本発明の一態様の機能パネルに用いることができる増幅回路の一部を説明する回路図で
あり、図17(B)は、本発明の一態様の機能パネルに用いることができるサンプリング
回路の一部を説明する回路図である。
【0287】
図18は、本発明の一態様の機能パネルの動作を説明する図である。
【0288】
<機能パネル700の構成例1>
本実施の形態で説明する機能パネル700は、領域231を有する(図16参照)。
【0289】
《領域231の構成例1》
領域231は、一群の画素703(i,1)乃至画素703(i,n)および他の一群の
画素703(1,j)乃至画素703(m,j)を備える。また、領域231は、導電膜
G1(i)、導電膜TX(i)、導電膜S1g(j)および導電膜WX(j)を備える。
【0290】
一群の画素703(i,1)乃至画素703(i,n)は、行方向(図中に矢印R1で示
す方向)に配設され、一群の画素703(i,1)乃至画素703(i,n)は、画素7
03(i,j)を含む。
【0291】
また、一群の画素703(i,1)乃至画素703(i,n)は、導電膜G1(i)と電
気的に接続され、一群の画素703(i,1)乃至画素703(i,n)は、導電膜TX
(i)と電気的に接続される。
【0292】
他の一群の画素703(1,j)乃至画素703(m,j)は、行方向と交差する列方向
(図中に矢印C1で示す方向)に配設され、他の一群の画素703(1,j)乃至画素7
03(m,j)は、画素703(i,j)を含む。
【0293】
また、他の一群の画素703(1,j)乃至画素703(m,j)は、導電膜S1g(j
)と電気的に接続され、他の一群の画素703(1,j)乃至画素703(m,j)は、
導電膜WX(j)と電気的に接続される。
【0294】
これにより、複数の画素から撮像情報を取得することができる。または、複数の画素に画
像情報を供給することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な
機能パネルを提供することができる。
【0295】
《領域231の構成例2》
領域231は、1インチあたり600個以上の複数の画素を備える。なお、複数の画素は
画素703(i,j)を含む。
【0296】
《領域231の構成例3》
領域231は、複数の画素を行列状に備える。例えば、領域231は、7600個以上の
画素を行方向に備え、領域231は4300個以上の画素を列方向に備える。具体的には
、7680個の画素を行方向に備え、4320個の画素を列方向に備える。
【0297】
これにより、精細な画像を表示することができる。その結果、利便性、有用性または信頼
性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0298】
《領域231の構成例4》
領域231は、対角線の長さが40インチ以上、好ましくは60インチ以上、より好まし
くは80インチ以上である。また、領域231は、対角線の長さが例えば150インチ以
下であると、パネルの重量を軽くできるため好ましい。
【0299】
これにより、臨場感のある画像を表示することができる。その結果、利便性、有用性また
は信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0300】
また、図示しないが、領域231は、導電膜VCOM2および導電膜ANOを有する。
【0301】
<機能パネル700の構成例2>
本実施の形態で説明する機能パネルは、駆動回路GDを有する(図16参照)。
【0302】
《駆動回路GDの構成例1》
駆動回路GDは第1の選択信号を供給する。
【0303】
《画素回路530G(i,j)の構成例1》
画素回路530G(i,j)は、第1の選択信号を供給され、画素回路530G(i,j
)は、第1の選択信号に基づいて、画像信号を取得する。例えば、導電膜G1(i)を用
いて、第1の選択信号を供給することができる(図9(B)参照)。または、導電膜S1
g(j)を用いて画像信号を供給することができる。なお、第1の選択信号を供給し、画
像信号を画素回路530G(i,j)に取得させる動作を「書き込み」ということができ
る(図18参照)。
【0304】
発光素子550G(i,j)は画像信号に基づいて、発光する(図9(B)参照)。
【0305】
なお、発光素子550G(i,j)は、画素回路530G(i,j)と電気的に接続され
る電極551G(i,j)と、導電膜VCOM2と電気的に接続される電極552を備え
る(図10および図13(A)参照)。
【0306】
<機能パネル700の構成例3>
本発明の一態様の機能パネルは、読み出し回路RC(j)と、導電膜VLENと、導電膜
VIVと、導電膜CLと、を有する(図16図11図17(A)および図17(B)
参照)。
【0307】
《読み出し回路RC(j)の構成例》
読み出し回路RC(j)は、増幅回路およびサンプリング回路SC(j)を備える(図1
6参照)。
【0308】
《増幅回路の構成例》
増幅回路は、トランジスタM32(j)を含む(図17(A)参照)。
【0309】
トランジスタM32(j)は、導電膜VLENと電気的に接続されるゲート電極と、導電
膜WX(j)と電気的に接続される第1の電極と、導電膜VIVと電気的に接続される第
2の電極と、備える。
【0310】
なお、スイッチSW33が導通状態のとき、導電膜WX(j)は、トランジスタM31(
j)およびトランジスタM32(j)を接続する(図11および図17(A)参照)。こ
れにより、トランジスタM31(j)およびトランジスタM32(j)を用いて、ソース
フォロワ回路を構成することができる。または、ノードFDの電位に基づいて、導電膜W
X(j)の電位を変化することができる。
【0311】
《サンプリング回路SC(j)の構成例》
サンプリング回路SC(j)は、第1の端子IN(j)、第2の端子および第3の端子O
UT(j)を備える(図17(B)参照)。
【0312】
第1の端子IN(j)は導電膜WX(j)と電気的に接続され、第2の端子は導電膜CL
と電気的に接続され、第3の端子OUT(j)は第1の端子IN(j)の電位に基づいて
変化する信号を供給する機能を備える。
【0313】
これにより、画素回路530S(i,j)から撮像信号を取得することができる。または
、例えば、相関二重サンプリング法を適用することができる。または、サンプリング回路
SC(j)を導電膜WX(j)ごとに設けることができる。または、画素回路530S(
i,j)の差分信号を、導電膜WX(j)ごとに取得することができる。または、サンプ
リング回路SC(j)の動作周波数を抑制することができる。または、ノイズを低減する
ことができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供
することができる。
【0314】
<機能パネル700の構成例4>
機能パネル700は、駆動回路RDを有する(図16参照)。
【0315】
《駆動回路RDの構成例1》
駆動回路RDは、第2の選択信号および第3の選択信号を供給する。
【0316】
《画素回路530S(i,j)の構成例1》
画素回路530S(i,j)は、第1の選択信号を供給されていない期間に、第2の選択
信号および第3の選択信号を供給される(図18参照)。また、画素回路530S(i,
j)は、第2の選択信号に基づいて、撮像信号を取得し、第3の選択信号に基づいて、撮
像信号を供給する。例えば、導電膜TX(i)を用いて、第2の選択信号を供給し、導電
膜SE(i)を用いて、第3の選択信号を供給することができる(図11参照)。
【0317】
なお、第2の選択信号を供給し、撮像信号を画素回路530S(i,j)に取得させる動
作を「撮像」ということができる(図18参照)。また、画素回路530S(i,j)か
ら撮像信号を読み出す動作を「読み出し」ということができる。また、所定の電圧を光電
変換素子PD(i,j)に供給する動作を「初期化」と、所定の期間、初期化後の光電変
換素子PD(i,j)を光にさらす動作を「露光」と、露光にともない変化した電圧を画
素回路530S(i,j)に反映する動作を「転送」ということができる。また、図中の
SRSは相関二重サンプリング法に用いる参照信号を供給する動作に、「出力」は撮像信
号を供給する動作に相当する。
【0318】
例えば、1フレームの画像情報を、16.7msで書き込むことができる。具体的には、
60Hzのフレームレートで動作することができる。なお、画像信号を、画素回路530
G(i,j)に15.2μsで書き込むことができる。
【0319】
例えば、1フレームの画像情報を、16フレームに相当する期間、保持することができる
。または、1フレームの撮像情報を、16フレームに相当する期間で撮影および読み出す
ことができる。
【0320】
具体的には、15μsで初期化し、1ms以上5ms以下で露光し、150μsで転送す
ることができる。または、250msで読み出すことができる。
【0321】
なお、光電変換素子PD(i,j)は、画素回路530S(i,j)と電気的に接続され
る電極551S(i,j)と、導電膜VPDと電気的に接続される電極552を備える(
図11および図14(A)参照)。また、発光素子550G(i,j)に用いる電極55
2を、光電変換素子PD(i,j)に用いることができる。これにより、機能パネルの構
成および作製工程を簡略化することができる。
【0322】
これにより、第1の選択信号が供給されていない期間に撮像することができる。または、
撮像時のノイズを抑制することができる。または、第1の選択信号が供給されていない期
間に、撮像信号を読み取ることができる。または、読み取り時のノイズを抑制することが
できる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供するこ
とができる。
【0323】
《画素703(i,j)の構成例3》
画素703(i,j)は、一の画像信号を保持している期間に、第2の選択信号を供給さ
れる。例えば、画素回路530G(i,j)が一の画像信号を保持している期間に、画素
703(i,j)は、発光素子550G(i,j)を用いて、当該画像信号に基づいて、
光を射出することができる(図18参照)。または、画素回路530G(i,j)が、第
1の選択信号に基づいて、一の画像信号を取得したのちに、再び第1の選択信号を供給さ
れるまでの間に、画素回路530S(i,j)は第2の選択信号を供給される。
【0324】
これにより、画像信号を用いて、発光素子550G(i,j)が射出する光の強度を制御
することができる。または、強度が制御された光を、被写体に照射することができる。ま
たは、光電変換素子PD(i,j)を用いて、被写体を撮像することができる。または、
照射する光の強度を制御しながら、光電変換素子PD(i,j)を用いて、被写体を撮像
することができる。または、画素回路530G(i,j)が保持する信号の、一の画像信
号から他の画像信号への変化がもたらす、撮像信号への影響をなくすことができる。その
結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0325】
<機能パネル700の構成例5>
また、本発明の一態様の機能パネル700は、マルチプレクサMUXと、増幅回路AMP
と、アナログデジタル変換回路ADCと、を有する(図16参照)。
【0326】
《マルチプレクサMUXの構成例》
マルチプレクサMUXは、複数のサンプリング回路SCから一つを選んで撮像信号を取得
し、例えば増幅回路AMPに供給する機能を備える。
【0327】
例えば、マルチプレクサMUXは、サンプリング回路SC(j)の第3の端子OUT(j
)と電気的に接続される(図17(B)参照)。具体的には、マルチプレクサMUXは、
サンプリング回路SC(1)乃至サンプリング回路SC(9)と電気的に接続され、所定
のサンプリング回路から撮像信号を取得し、増幅回路AMPに供給することができる。
【0328】
これにより、行方向に配設される複数の画素から所定の画素を選択して撮像情報を取得す
ることができる。または、同時に取得する撮像信号の数を所定の数に抑制することができ
る。または、入力チャンネル数が、行方向に配設される画素の数より少ないアナログデジ
タル変換回路ADCを用いることができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優
れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0329】
《増幅回路AMPの構成例》
増幅回路AMPは撮像信号を増幅し、アナログデジタル変換回路ADCに供給することが
できる。
【0330】
なお、機能層520はマルチプレクサMUXおよび増幅回路AMPを備える。
【0331】
これにより、例えば、画素回路530G(i,j)に用いる半導体膜を形成する工程にお
いて、マルチプレクサMUXおよび増幅回路AMPに用いる半導体膜を形成することがで
きる。または、機能パネルの作製工程を簡略化することができる。その結果、利便性、有
用性または信頼性に優れた新規な機能パネルを提供することができる。
【0332】
《アナログデジタル変換回路ADCの構成例》
アナログデジタル変換回路ADCは、アナログの撮像信号をデジタル信号に変換する機能
を備える。これにより、伝送に伴う撮像信号の劣化を抑制できる。
【0333】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0334】
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様の半導体装置の構成について、図5乃至図7を参照し
ながら説明する。
【0335】
図5は本発明の一態様の半導体装置の構成を説明する図である。図5(A)は本発明の一
態様の半導体装置の斜視図であり、図5(B)および図5(C)は図5(A)に示す半導
体装置の一部を屈曲した状態を説明する図である。
【0336】
図6は本発明の一態様の半導体装置に用いることができる筐体の構成を説明する図である
図6(A)は本発明の一態様の半導体装置の筐体の斜視図であり、図6(B)および図
6(C)は図6(A)に示す半導体装置の筐体の一部を屈曲した状態を説明する図である
【0337】
図7は本発明の一態様の半導体装置の構成を説明する図である。図7(A)は図5(B)
に示す本発明の一態様の半導体装置の断面図であり、図7(B)は、図7(A)の一部を
説明する図である。
【0338】
<半導体装置の構成例1>
本実施の形態で説明する半導体装置は、機能パネルと、筐体201を有する(図5(A)
乃至図5(C)参照)。例えば、実施の形態1乃至実施の形態5において説明する機能パ
ネルを、半導体装置に用いることができる。
【0339】
《筐体201の構成例1》
筐体201は、面201A(1)、面201A(2)および面201A(3)を備える(
図6(A)および図6(B)参照)。
【0340】
面201A(3)は、面201A(1)および面201A(2)の間に挟まれる(図6
B)および図7(A)参照)。
【0341】
面201A(1)は領域231(1)と重なり、面201A(2)は領域231(2)と
重なり、面201A(3)は領域231(3)との間に距離D3を備える(図7(B)参
照)。また、距離D3は、屈曲に伴い変化する。
【0342】
これにより、例えば、第3の領域231(3)の屈曲に伴い、筐体201および回路53
0の間の距離D3が変化しても、回路530は安定して動作することができる。または、
第1の基材510を用いて、第1の導電膜510Mを外力などから保護することができる
。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な半導体装置を提供することがで
きる。
【0343】
なお、領域231(3)は面201A(3)から着脱可能であり、領域231(2)は面
201A(2)に固定される。例えば、接合層201Bを領域231(2)および面20
1A(2)の固定に用いることができる。また、接合層201Bは、基材410の厚さと
同じ厚さを備える。これにより、領域231(2)および領域231(3)の間に生じる
段差を、小さくすることができる。または、例えば、指などで、領域231(2)および
領域231(3)の間を触っても、違和感を覚えにくい。
【0344】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0345】
(実施の形態7)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置の構成について、図19を参照しながら説
明する。
【0346】
図19は本発明の一態様の表示装置の構成を説明する図である。図19(A)は本発明の
一態様の表示装置のブロック図であり、図19(B)乃至図19(D)は本発明の一態様
の表示装置の外観を説明する投影図である。
【0347】
<表示装置の構成例>
本実施の形態で説明する表示装置は、機能パネル700と、制御部238と、を有する(
図19(A)参照)。
【0348】
《制御部238の構成例1》
制御部238は、画像情報VIおよび制御情報CIを供給される。例えば、クロック信号
またはタイミング信号などを制御情報CIに用いることができる。
【0349】
制御部238は画像情報VIに基づいて情報V11を生成し、制御情報CIに基づいて制
御信号を生成する。また、制御部238は情報V11および制御信号を供給する。
【0350】
例えば、情報V11は、8bit以上好ましくは12bit以上の階調を含む。また、例
えば、駆動回路に用いるシフトレジスタのクロック信号またはスタートパルスなどを、制
御信号に用いることができる。
【0351】
《制御部238の構成例2》
例えば、伸張回路234および画像処理回路235を制御部238に用いることができる
【0352】
《伸張回路234》
伸張回路234は、圧縮された状態で供給される画像情報VIを伸張する機能を備える。
伸張回路234は、記憶部を備える。記憶部は、例えば伸張された画像情報を記憶する機
能を備える。
【0353】
《画像処理回路235》
画像処理回路235は、例えば、記憶領域を備える。記憶領域は、例えば、画像情報VI
に含まれる情報を記憶する機能を備える。
【0354】
画像処理回路235は、例えば、所定の特性曲線に基づいて画像情報VIを補正して情報
を生成する機能と、情報を供給する機能を備える。
【0355】
《機能パネルの構成例1》
機能パネル700は情報および制御信号を供給される。例えば、実施の形態1乃至実施の
形態5において説明する機能パネル700を用いることができる。
【0356】
《画素703(i,j)の構成例5》
画素703(i,j)は、情報に基づいて表示する。
【0357】
これにより、表示素子を用いて画像情報を表示することができる。その結果、利便性、有
用性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。または、例えば、情
報機器端末(図19(B)参照)、映像表示システム(図19(C)参照)またはコンピ
ュータ(図19(D)参照)などを提供することができる。
【0358】
《機能パネルの構成例2》
例えば、機能パネル700は駆動回路および制御回路を備える(図19(A)参照)。
【0359】
《駆動回路》
駆動回路は制御信号に基づいて動作する。制御信号を用いることにより、複数の駆動回路
の動作を同期することができる。
【0360】
例えば、駆動回路GDを機能パネル700に用いることができる。駆動回路GDは、制御
信号を供給され、第1の選択信号を供給する機能を備える。
【0361】
また、例えば、駆動回路SDを機能パネル700に用いることができる。駆動回路SDは
、制御信号および情報を供給され、画像信号を供給することができる。
【0362】
また、例えば、駆動回路RDを機能パネル700に用いることができる。駆動回路RDは
制御信号を供給され、第2の選択信号を供給することができる。
【0363】
また、例えば、読み出し回路RCを機能パネル700に用いることができる。読み出し回
路RCは制御信号を供給され、例えば、相関二重サンプリング法を用いて、撮像信号を読
み出すことができる。
【0364】
《制御回路》
制御回路は制御信号を生成し、供給する機能を備える。例えば、クロック信号またはタイ
ミング信号などを制御信号に用いることができる。
【0365】
具体的には、リジッド基板上に形成された制御回路を機能パネルに用いることができる。
または、フレキシブルプリント基板を用いて、リジッド基板上に形成された制御回路およ
び制御部238を電気的に接続することができる。
【0366】
例えば、タイミングコントローラ233を制御回路に用いることができる。また、制御回
路243を用いて、駆動回路RDおよび読み出し回路RCの動作を同期することができる
【0367】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0368】
(実施の形態8)
本実施の形態では、本発明の一態様の入出力装置の構成について、図20乃至図22を参
照しながら説明する。
【0369】
図20は本発明の一態様の入出力装置の構成を説明するブロック図である。
【0370】
図21は本発明の一態様の入出力装置の構成を説明する図である。図21(A)は本発明
の一態様の入出力装置の斜視図であり、図21(B)および図21(C)は図21(A)
の一部を説明する断面図であり、図21(D)は、検知器の特性を模式的に説明する電気
抵抗-応力曲線である。
【0371】
図22は本発明の一態様の入出力装置の構成を説明する図である。図22(A)は本発明
の一態様の入出力装置に用いる部材の斜視図であり、図22(B)および図22(C)は
図21(A)の一部を説明する断面図であり、図22(D)は、飛び移り座屈をする構造
の特性を模式的に説明する応力-ひずみ曲線である。
【0372】
<入出力装置の構成例1>
本実施の形態で説明する入出力装置は、入力部240と、表示部230と、を有する(図
20参照)。
【0373】
《表示部230》
表示部230は機能パネルを備える。例えば、実施の形態1乃至実施の形態5において説
明する機能パネル700を表示部230に用いることができる。なお、入力部240およ
び表示部230を有する構成を入出力パネル700TPということができる。
【0374】
《入力部240の構成例1》
入力部240は検知領域241を備える。入力部240は検知領域241に近接するもの
を検知する機能を備える。
【0375】
検知領域241は、画素702G(i,j)と重なる領域を備える。
【0376】
これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示部と重なる領域に近接するも
のを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位
置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付
けることができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な入出力装置を
提供することができる。
【0377】
《検知領域241の構成例1》
検知領域241は、例えば、単数または複数の検知器を備える(図20参照)。
【0378】
検知領域241は、一群の検知器802(g,1)乃至検知器802(g,q)と、他の
一群の検知器802(1,h)乃至検知器802(p,h)と、を有する。なお、gは1
以上p以下の整数であり、hは1以上q以下の整数であり、pおよびqは1以上の整数で
ある。
【0379】
一群の検知器802(g,1)乃至検知器802(g,q)は、検知器802(g,h)
を含み、行方向(図中に矢印R2で示す方向)に配設される。なお、矢印R2で示す方向
は、矢印R1で示す方向と同じであっても良いし、異なっていてもよい。
【0380】
また、他の一群の検知器802(1,h)乃至検知器802(p,h)は、検知器802
(g,h)を含み、行方向と交差する列方向(図中に矢印C2で示す方向)に配設される
【0381】
《検知器》
検知器は近接するポインタを検知する機能を備える。例えば、指やスタイラスペン等をポ
インタに用いることができる。例えば、金属片またはコイル等を、スタイラスペンに用い
ることができる。
【0382】
具体的には、静電容量方式の近接センサ、電磁誘導方式の近接センサ、光学方式の近接セ
ンサ、抵抗膜方式の近接センサなどを、検知器に用いることができる。
【0383】
また、複数の方式の検知器を併用することもできる。例えば、指を検知する検知器と、ス
タイラスペンを検知する検知器とを、併用することができる。
【0384】
これにより、ポインタの種類を判別することができる。または、判別したポインタの種類
に基づいて、異なる命令を検知情報に関連付けることができる。具体的には、ポインタに
指を用いたと判別した場合は、検知情報をジェスチャーと関連付けることができる。また
は、ポインタにスタイラスペンを用いたと判別した場合は、検知情報を描画処理と関連付
けることができる。
【0385】
具体的には、静電容量方式、感圧方式または光学方式の近接センサを用いて、指を検知す
ることができる。または、電磁誘導方式または光学方式の近接センサを用いて、スタイラ
スペンを検知することができる。
【0386】
《入力部240の構成例2》
入力部240は発振回路OSCおよび検知回路DCを備える(図20参照)。
【0387】
発振回路OSCは探索信号を検知器802(g,h)に供給する。例えば、矩形波、のこ
ぎり波、三角波、サイン波等を、探索信号に用いることができる。
【0388】
検知器802(g,h)は、検知器802(g,h)に近接するポインタまでの距離およ
び探索信号に基づいて変化する検知信号を生成し供給する。
【0389】
検知回路DCは検知信号に基づいて入力情報を供給する。
【0390】
これにより、近接するポインタから検知領域241までの距離を検知することができる。
または、検知領域241内においてポインタが最も近接する位置を検知することができる
【0391】
《検知器の構成例1》
領域231は検知領域241よりポインタが近接する側に配設され、領域231は可撓性
を備える(図21(A)および図21(B)参照)。また、例えば、キーボードの配置を
示す画像を領域231に表示することができる(図21(A)参照)。
【0392】
《検知器の構成例2》
検知器802(g,h)は押し込み量を検知する機能を備え、検知器802(g,h)は
領域231を介してポインタを検知する(図21(B)参照)。
【0393】
例えば、ポインタが検知器802(g,h)に向けて押し込まれる量を、検知器802(
g,h)は検知する。具体的には、領域231を含む平面から検知領域241を含む平面
に向けて、指やスタイラスペンが押し込まれる量を、検知器802(g,h)は検知する
図21(C)参照)。
【0394】
例えば、圧力センサを検知器802(g,h)に用いることができる。具体的には、圧力
(σ)に応じて電気抵抗(ρ)が変化する素子を検知器802(g,h)に用いることが
できる(図21(D)参照)。これにより、検知器802(g,h)は押し込み量を検知
することができる。
【0395】
<入出力装置の構成例2>
また、本実施の形態で説明する入出力装置は、部材249を有する(図21(A)および
図22(A)参照)。
【0396】
《部材249の構成例》
部材249は検知領域241と重なり、弾性を備える。
【0397】
例えば、弾性体を部材249に用いることができる。具体的には、ばね、板バネ、ゴムま
たはスポンジなどを用いることができる。
【0398】
これにより、検知器802(g,h)は押し込み量を検知することができる。または、使
用者はポインタを押し込む量に応じた力を感触として得ることができる。
【0399】
また、例えば、飛び移り座屈をする構造を部材249に用いることができる。具体的には
、ドーム状などの構造を部材249に用いることができる(図22(B)参照)。
【0400】
部材249は、ひずみεが小さい領域において安定なモードmode1と、ひずみεが大
きい領域において安定なモードmode2を備える(図22(C)および図22(D)参
照)。また、部材249は、座屈点において、モードmode1から、モードmode2
に飛び移る(図22(D)参照)。また、ひずみを取り除くことにより、モードmode
2からモードmode1に可逆的に飛び移る。
【0401】
これにより、座屈点までの押し込み量において、検知器802(g,h)は押し込み量に
応じた力を検知することができる。または、使用者は力を感触として得ることができる。
または、座屈点を超える際に、使用者はクリック感を得ることができる。または、いわゆ
るタクタイルスイッチを設けることができる。または、使用者が押し込んだポインタを解
放することにより、飛び移り座屈をする構造は、もとのモードに復帰することができる。
【0402】
なお、飛び移り座屈をする構造に重ねて検知領域241を設け、検知領域241に重ねて
領域231を設け、操作の用に供する画像を、飛び移り座屈をする構造と重なる位置に表
示することができる。例えば、キーボードに好適に用いられる配置を、飛び移り座屈をす
る構造の配置に用いることができる。または、ホームボタンに好適に用いられる配置を、
飛び移り座屈をする構造の配置に用いることができる。
【0403】
これにより、表示された操作の用に供する画像を押し込むことができる。または、押し込
みに伴い、使用者はクリック感を得ることができる。
【0404】
または、飛び移り座屈をする複数の構造が全面にわたって設けられた領域を備える部材2
49を用いることができる。当該領域に重ねて検知領域241を設け、検知領域241に
重ねて領域231を設け、操作の用に供する画像を、構造が全面にわたって設けられた領
域と重なる位置に表示することができる。
【0405】
これにより、押し込みに伴いクリック感を得ることができる操作の用に供する画像を、自
由に配置することができる。
【0406】
なお、本実施の形態で説明する入出力装置に重ねて、検知部250を配設してもよい。例
えば、感圧スイッチを検知部250に用いることができる。具体的には、導電性の材料を
飛び移り座屈をするドーム状の構造に用いて、当該ドーム状の構造を感圧スイッチの接点
に用いることができる。これにより、いわゆるメンブレンスイッチを設けることができる
。または、クリック感を伴うスイッチを設けることができる。または、いわゆるタクタイ
ルスイッチを設けることができる。
【0407】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0408】
(実施の形態9)
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図23乃至図25
参照しながら説明する。
【0409】
図23(A)は本発明の一態様の情報処理装置の構成を説明するブロック図である。図2
3(B)および図23(C)は、情報処理装置の外観の一例を説明する投影図である。
【0410】
図24は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図24(A)
は、本発明の一態様のプログラムの主の処理を説明するフローチャートであり、図24
B)は、割り込み処理を説明するフローチャートである。
【0411】
図25は、本発明の一態様のプログラムを説明する図である。図25(A)は、本発明の
一態様のプログラムの割り込み処理を説明するフローチャートである。また、図25(B
)は、本発明の一態様の情報処理装置の操作を説明する模式図であり、図25(C)は、
本発明の一態様の情報処理装置の動作を説明するタイミングチャートである。
【0412】
<情報処理装置の構成例1>
本実施の形態で説明する情報処理装置は、演算装置210と、入出力装置220と、を有
する(図23(A)参照)。なお、入出力装置220は、演算装置210と電気的に接続
される。また、情報処理装置200は筐体を備えることができる(図23(B)および図
23(C)参照)。
【0413】
《演算装置210の構成例1》
演算装置210は入力情報IIまたは検知情報DSを供給される。演算装置210は入力
情報IIまたは検知情報DSに基づいて、制御情報CIおよび画像情報VIを生成し、制
御情報CIおよび画像情報VIを供給する。
【0414】
演算装置210は、演算部211および記憶部212を備える。また、演算装置210は
、伝送路214および入出力インターフェース215を備える。
【0415】
伝送路214は、演算部211、記憶部212、および入出力インターフェース215と
電気的に接続される。
【0416】
《演算部211》
演算部211は、例えばプログラムを実行する機能を備える。
【0417】
《記憶部212》
記憶部212は、例えば演算部211が実行するプログラム、初期情報、設定情報または
画像等を記憶する機能を有する。
【0418】
具体的には、ハードディスク、フラッシュメモリまたは酸化物半導体を含むトランジスタ
を用いたメモリ等を用いることができる。
【0419】
《入出力インターフェース215、伝送路214》
入出力インターフェース215は端子または配線を備え、情報を供給し、情報を供給され
る機能を備える。例えば、伝送路214と電気的に接続することができる。また、入出力
装置220と電気的に接続することができる。
【0420】
伝送路214は配線を備え、情報を供給し、情報を供給される機能を備える。例えば、入
出力インターフェース215と電気的に接続することができる。また、演算部211、記
憶部212または入出力インターフェース215と電気的に接続することができる。
【0421】
《入出力装置220の構成例》
入出力装置220は、入力情報IIおよび検知情報DSを供給する。入出力装置220は
、制御情報CIおよび画像情報VIを供給される(図23(A)参照)。
【0422】
例えば、キーボードのスキャンコード、位置情報、ボタンの操作情報、音声情報または画
像情報等を入力情報IIに用いることができる。または、例えば、情報処理装置200が
使用される環境等の照度情報、姿勢情報、加速度情報、方位情報、圧力情報、温度情報ま
たは湿度情報等を検知情報DSに用いることができる。
【0423】
例えば、画像情報VIを表示する輝度を制御する信号、彩度を制御する信号、色相を制御
する信号を、制御情報CIに用いることができる。または、画像情報VIの一部の表示を
変化する信号を、制御情報CIに用いることができる。
【0424】
入出力装置220は、表示部230、入力部240および検知部250を備える。例えば
、実施の形態8において説明する入出力装置を入出力装置220に用いることができる。
また、入出力装置220は通信部290を備えることができる。
【0425】
《表示部230の構成例》
表示部230は制御情報CIに基づいて、画像情報VIを表示する。
【0426】
表示部230は、制御部238と、駆動回路GDと、駆動回路SDと、機能パネル700
と、を有する(図19(A)参照)。例えば、実施の形態7において説明する表示装置を
表示部230に用いることができる。
【0427】
《入力部240の構成例》
入力部240は入力情報IIを生成する。例えば、入力部240は、位置情報P1を供給
する機能を備える。
【0428】
例えば、ヒューマンインターフェイス等を入力部240に用いることができる(図23
A)参照)。具体的には、キーボード、マウス、タッチセンサ、マイクまたはカメラ等を
入力部240に用いることができる。
【0429】
また、表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを用いることができる。なお、表
示部230と表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを備える入出力装置を、タ
ッチパネルまたはタッチスクリーンということができる。
【0430】
例えば、使用者は、タッチパネルに触れた指をポインタに用いて様々なジェスチャー(タ
ップ、ドラッグ、スワイプまたはピンチイン等)をすることができる。
【0431】
例えば、演算装置210は、タッチパネルに接触する指の位置または軌跡等の情報を解析
し、解析結果が所定の条件を満たすとき、所定のジェスチャーが供給されたとすることが
できる。これにより、使用者は、所定のジェスチャーにあらかじめ関連付けられた所定の
操作命令を、当該ジェスチャーを用いて供給できる。
【0432】
一例を挙げれば、使用者は、画像情報の表示位置を変更する「スクロール命令」を、タッ
チパネルに沿ってタッチパネルに接触する指を移動するジェスチャーを用いて供給できる
【0433】
また、使用者は、領域231の端部にナビゲーションパネルNPを引き出して表示する「
ドラッグ命令」を、領域231の端部に接する指を移動するジェスチャーを用いて供給で
きる(図23(C)参照)。また、使用者は、ナビゲーションパネルNPにインデックス
画像IND、他のページの一部または他のページのサムネイル画像TNを、所定の順番で
パラパラ表示する「リーフスルー命令」を、指を強く押し付ける位置を移動するジェスチ
ャーを用いて供給できる。または、指を押し付ける圧力を用いて供給できる。これにより
、紙の書籍のページをパラパラめくるように、電子書籍のページをめくることができる。
または、サムネイル画像TNまたはインデックス画像INDを頼りに、所定のページを探
すことができる。
【0434】
《検知部250の構成例》
検知部250は検知情報DSを生成する。例えば、検知部250は、情報処理装置200
が使用される環境の照度を検出する機能を備え、照度情報を供給する機能を備える。
【0435】
検知部250は、周囲の状態を検知して検知情報を供給する機能を備える。具体的には、
照度情報、姿勢情報、加速度情報、方位情報、圧力情報、温度情報または湿度情報等を供
給できる。
【0436】
例えば、光検出器、姿勢検出器、加速度センサ、方位センサ、GPS(Global p
ositioning System)信号受信回路、感圧スイッチ、圧力センサ、温度
センサ、湿度センサまたはカメラ等を、検知部250に用いることができる。
【0437】
《通信部290》
通信部290は、ネットワークに情報を供給し、ネットワークから情報を取得する機能を
備える。
【0438】
《筐体》
なお、筐体は入出力装置220または演算装置210を収納する機能を備える。または、
筐体は表示部230または演算装置210を支持する機能を備える。
【0439】
これにより、入力情報または検知情報に基づいて、制御情報を生成することができる。ま
たは、入力情報または検知情報に基づいて、画像情報を表示することができる。または、
情報処理装置は、情報処理装置が使用される環境において、情報処理装置の筐体が受ける
光の強さを把握して動作することができる。または、情報処理装置の使用者は、表示方法
を選択することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な情報処
理装置を提供することができる。
【0440】
なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成
の一部を含む場合がある。例えばタッチセンサが表示パネルに重ねられたタッチパネルは
、表示部であるとともに入力部でもある。
【0441】
《演算装置210の構成例2》
演算装置210は人工知能部213を備える(図23(A)参照)。
【0442】
人工知能部213は入力情報IIまたは検知情報DSを供給され、人工知能部213は入
力情報IIまたは検知情報DSに基づいて、制御情報CIを推論する。また、人工知能部
213は制御情報CIを供給する。
【0443】
これにより、好適であると感じられるように表示する制御情報CIを生成することができ
る。または、好適であると感じられるように表示することができる。または、快適である
と感じられるように表示する制御情報CIを生成することができる。または、快適である
と感じられるように表示することができる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優
れた新規な情報処理装置を提供することができる。
【0444】
[入力情報IIに対する自然言語処理]
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを自然言語処理して、入力情報II全体か
ら1つの特徴を抽出することができる。例えば、人工知能部213は、入力情報IIに込
められた感情等を推論し特徴にすることができる。また、当該特徴に好適であると経験的
に感じられる色彩、模様または書体等を推論することができる。また、人工知能部213
は、文字の色、模様または書体を指定する情報、背景の色または模様を指定する情報を生
成し、制御情報CIに用いることができる。
【0445】
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを自然言語処理して、入力情報IIに含ま
れる一部の言葉を抽出することができる。例えば、人工知能部213は文法的な誤り、事
実誤認または感情を含む表現等を抽出することができる。また、人工知能部213は、抽
出した一部を他の一部とは異なる色彩、模様または書体等で表示する制御情報CIを生成
し、用いることができる。
【0446】
[入力情報IIに対する画像処理]
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを画像処理して、入力情報IIから1つの
特徴を抽出することができる。例えば、人工知能部213は、入力情報IIが撮影された
年代、屋内または屋外、昼または夜等を推論し特徴にすることができる。また、当該特徴
に好適であると経験的に感じられる色調を推論し、当該色調を表示に用いるための制御情
報CIを生成することができる。具体的には、濃淡の表現に用いる色(例えば、フルカラ
ー、白黒または茶褐色等)を指定する情報を制御情報CIに用いることができる。
【0447】
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを画像処理して、入力情報IIに含まれる
一部の画像を抽出することができる。例えば、抽出した画像の一部と他の一部の間に境界
を表示する制御情報CIを生成することができる。具体的には、抽出した画像の一部を囲
む矩形を表示する制御情報CIを生成することができる。
【0448】
[検知情報DSを用いる推論]
具体的には、人工知能部213は検知情報DSを用いて、推論RIを生成することができ
る。または、推論RIに基づいて、情報処理装置200の使用者が快適であると感じられ
るように制御情報CIを生成することができる。
【0449】
具体的には、環境の照度等に基づいて、人工知能部213は、表示の明るさが快適である
と感じられるように、表示の明るさを調整する制御情報CIを生成することができる。ま
たは、人工知能部213は環境の騒音等に基づいて大きさが快適であると感じられるよう
に、音量を調整する制御情報CIを生成することができる。
【0450】
なお、表示部230が備える制御部238に供給するクロック信号またはタイミング信号
などを制御情報CIに用いることができる。または、入力部240が備える制御部に供給
するクロック信号またはタイミング信号などを制御情報CIに用いることができる。
【0451】
<情報処理装置の構成例2>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図24(A)および図24(B)を
参照しながら説明する。
【0452】
《プログラム》
本発明の一態様のプログラムは、下記のステップを有する(図24(A)参照)。
【0453】
[第1のステップ]
第1のステップにおいて、設定を初期化する(図24(A)(S1)参照)。
【0454】
例えば、起動時に表示する所定の画像情報と、当該画像情報を表示する所定のモードと、
当該画像情報を表示する所定の表示方法を特定する情報と、を記憶部212から取得する
。具体的には、一の静止画像情報または他の動画像情報を所定の画像情報に用いることが
できる。また、第1のモードまたは第2のモードを所定のモードに用いることができる。
【0455】
[第2のステップ]
第2のステップにおいて、割り込み処理を許可する(図24(A)(S2)参照)。なお
、割り込み処理が許可された演算装置は、主の処理と並行して割り込み処理を行うことが
できる。割り込み処理から主の処理に復帰した演算装置は、割り込み処理をして得た結果
を主の処理に反映することができる。
【0456】
なお、カウンタの値が初期値であるとき、演算装置に割り込み処理をさせ、割り込み処理
から復帰する際に、カウンタを初期値以外の値としてもよい。これにより、プログラムを
起動した後に常に割り込み処理をさせることができる。
【0457】
[第3のステップ]
第3のステップにおいて、第1のステップまたは割り込み処理において選択された、所定
のモードまたは所定の表示方法を用いて画像情報を表示する(図24(A)(S3)参照
)。なお、所定のモードは画像情報を表示するモードを特定し、所定の表示方法は画像情
報を表示する方法を特定する。また、例えば、画像情報VIを表示する情報に用いること
ができる。
【0458】
例えば、画像情報VIを表示する一の方法を、第1のモードに関連付けることができる。
または、画像情報VIを表示する他の方法を第2のモードに関連付けることができる。こ
れにより、選択されたモードに基づいて表示方法を選択することができる。
【0459】
《第1のモード》
具体的には、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で一の走査線に選択信号を供
給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第1のモードに関連付けることができる。
【0460】
例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で選択信号を供給すると、動画像
の動きを滑らかに表示することができる。
【0461】
例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で画像を更新すると、使用者の操
作に滑らかに追従するように変化する画像を、使用者が操作中の情報処理装置200に表
示することができる。
【0462】
《第2のモード》
具体的には、30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは1分に1回未満の頻
度で一の走査線に選択信号を供給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第2のモー
ドに関連付けることができる。
【0463】
30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは1分に1回未満の頻度で選択信号
を供給すると、フリッカーまたはちらつきが抑制された表示をすることができる。また、
消費電力を低減することができる。
【0464】
例えば、情報処理装置200を時計に用いる場合、1秒に1回の頻度または1分に1回の
頻度等で表示を更新することができる。
【0465】
ところで、例えば、発光素子を表示素子に用いる場合、発光素子をパルス状に発光させて
、画像情報を表示することができる。具体的には、パルス状に有機EL素子を発光させて
、その残光を表示に用いることができる。有機EL素子は優れた周波数特性を備えるため
、発光素子を駆動する時間を短縮し、消費電力を低減することができる場合がある。また
は、発熱が抑制されるため、発光素子の劣化を軽減することができる場合がある。
【0466】
[第4のステップ]
第4のステップにおいて、終了命令が供給された場合は第5のステップに進み、終了命令
が供給されなかった場合は第3のステップに進むように選択する(図24(A)(S4)
参照)。
【0467】
例えば、割り込み処理において供給された終了命令を判断に用いてもよい。
【0468】
[第5のステップ]
第5のステップにおいて、終了する(図24(A)(S5)参照)。
【0469】
《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図24(B)参照)
【0470】
[第6のステップ]
第6のステップにおいて、例えば、検知部250を用いて、情報処理装置200が使用さ
れる環境の照度を検出する(図24(B)(S6)参照)。なお、環境の照度に代えて環
境光の色温度や色度を検出してもよい。
【0471】
[第7のステップ]
第7のステップにおいて、検出した照度情報に基づいて表示方法を決定する(図24(B
)(S7)参照)。例えば、表示の明るさを暗すぎないように、または明るすぎないよう
に決定する。
【0472】
なお、第6のステップにおいて環境光の色温度や環境光の色度を検出した場合は、表示の
色味を調節してもよい。
【0473】
[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図24(B)(S8)参照)。
【0474】
<情報処理装置の構成例3>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図25を参照しながら説明する。
【0475】
図25(A)は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図25
(A)は、図24(B)に示す割り込み処理とは異なる割り込み処理を説明するフローチ
ャートである。
【0476】
なお、情報処理装置の構成例3は、供給された所定のイベントに基づいて、モードを変更
するステップを割り込み処理に有する点が、図24(B)を参照しながら説明する割り込
み処理とは異なる。ここでは、異なる部分について詳細に説明し、同様の構成を用いるこ
とができる部分について上記の説明を援用する。
【0477】
《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図25(A)参照)
【0478】
[第6のステップ]
第6のステップにおいて、所定のイベントが供給された場合は、第7のステップに進み、
所定のイベントが供給されなかった場合は、第8のステップに進む(図25(A)(U6
)参照)。例えば、所定の期間に所定のイベントが供給されたか否かを条件に用いること
ができる。具体的には、5秒以下、1秒以下または0.5秒以下好ましくは0.1秒以下
であって0秒より長い期間を所定の期間とすることができる。
【0479】
[第7のステップ]
第7のステップにおいて、モードを変更する(図25(A)(U7)参照)。具体的には
、第1のモードを選択していた場合は、第2のモードを選択し、第2のモードを選択して
いた場合は、第1のモードを選択する。
【0480】
例えば、表示部230の一部の領域について、表示モードを変更することができる。具体
的には、駆動回路GDA、駆動回路GDBおよび駆動回路GDCを備える表示部230の
一の駆動回路が選択信号を供給する領域について、表示モードを変更することができる(
図25(B)参照)。
【0481】
例えば、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域と重なる領域にある入力部240に、
所定のイベントが供給された場合に、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域の表示モ
ードを変更することができる(図25(B)および図25(C)参照)。具体的には、指
等を用いてタッチパネルに供給する「タップ」イベントに応じて、駆動回路GDBが供給
する選択信号の頻度を変更することができる。
【0482】
なお、信号GCLKは駆動回路GDBの動作を制御するクロック信号であり、信号PWC
1および信号PWC2は駆動回路GDBの動作を制御するパルス幅制御信号である。駆動
回路GDBは、信号GCLK、信号PWC1および信号PWC2等に基づいて、選択信号
を導電膜G2(m+1)乃至導電膜G2(2m)に供給する。
【0483】
これにより、例えば、駆動回路GDAおよび駆動回路GDCが選択信号を供給することな
く、駆動回路GDBが選択信号を供給することができる。または、駆動回路GDAおよび
駆動回路GDCが選択信号を供給する領域の表示を変えることなく、駆動回路GDBが選
択信号を供給する領域の表示を更新することができる。または、駆動回路が消費する電力
を抑制することができる。
【0484】
[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図25(A)(U8)参照)。なお
、主の処理を実行している期間に割り込み処理を繰り返し実行してもよい。
【0485】
《所定のイベント》
例えば、マウス等のポインティング装置を用いて供給する、「クリック」や「ドラッグ」
等のイベント、指等をポインタに用いてタッチパネルに供給する、「タップ」、「ドラッ
グ」または「スワイプ」等のイベントを用いることができる。
【0486】
また、例えば、ポインタが指し示すスライドバーの位置、スワイプの速度、ドラッグの速
度等を用いて、所定のイベントに関連付けられた命令の引数を与えることができる。
【0487】
例えば、検知部250が検知した情報をあらかじめ設定された閾値と比較して、比較結果
をイベントに用いることができる。
【0488】
具体的には、筐体に押し込むことができるように配設されたボタン等に接する感圧検知器
等を検知部250に用いることができる。
【0489】
《所定のイベントに関連付ける命令》
例えば、終了命令を、所定のイベントに関連付けることができる。
【0490】
例えば、表示されている一の画像情報から他の画像情報に表示を切り替える「ページめく
り命令」を、所定のイベントに関連付けることができる。なお、「ページめくり命令」を
実行する際に用いるページをめくる速度などを決定する引数を、所定のイベントを用いて
与えることができる。
【0491】
例えば、一の画像情報の表示されている一部分の表示位置を移動して、一部分に連続する
他の部分を表示する「スクロール命令」などを、所定のイベントに関連付けることができ
る。なお、「スクロール命令」を実行する際に用いる表示位置を移動する速度などを決定
する引数を、所定のイベントを用いて与えることができる。
【0492】
例えば、表示方法を設定する命令または画像情報を生成する命令などを、所定のイベント
に関連付けることができる。なお、生成する画像の明るさを決定する引数を所定のイベン
トに関連付けることができる。また、生成する画像の明るさを決定する引数を、検知部2
50が検知する環境の明るさに基づいて決定してもよい。
【0493】
例えば、プッシュ型のサービスを用いて配信される情報を、通信部290を用いて取得す
る命令などを、所定のイベントに関連付けることができる。
【0494】
なお、情報を取得する資格の有無を、検知部250が検知する位置情報を用いて判断して
もよい。具体的には、所定の教室、学校、会議室、企業、建物等の内部または領域にいる
場合に、情報を取得する資格を有すると判断してもよい。これにより、例えば、学校また
は大学等の教室で配信される教材を受信して、情報処理装置200を教科書等に用いるこ
とができる(図23(C)参照)。または、企業等の会議室で配信される資料を受信して
、会議資料に用いることができる。
【0495】
<情報処理装置の構成例4>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図26を参照しながら説明する。
【0496】
図26(A)は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図26
(A)は、図24(B)に示す割り込み処理とは異なる割り込み処理を説明するフローチ
ャートである。図26(B)は、図26(A)に示すプログラムの動作を説明する模式図
であり、図26(C)は、撮影した指紋の模式図である。
【0497】
なお、図26(A)を参照しながら説明する情報処理装置の構成例4は、図24(B)を
参照しながら説明する構成例とは、割り込み処理が異なる。具体的には、供給された所定
のイベントに基づいて、領域を特定するステップ、画像を生成するステップ、画像を表示
するステップ、撮像するステップを、割り込み処理が有する。ここでは、異なる部分につ
いて詳細に説明し、同様の構成を用いることができる部分について上記の説明を援用する
【0498】
《割り込み処理》
割り込み処理は、第6のステップ乃至第11のステップを備える(図26(A)参照)。
【0499】
[第6のステップ]
第6のステップにおいて、所定のイベントが供給された場合は、第7のステップに進み、
所定のイベントが供給されなかった場合は、第11のステップに進む(図26(A)(V
6)参照)。
【0500】
例えば、検知部250を用いて、所定のイベントを供給することができる。具体的には、
情報処理装置を持ち上げる等の運動を所定のイベントに用いることができる。例えば、角
加速度センサまたは加速度センサを用いて、情報処理装置の運動を検知することができる
。または、タッチセンサを用いて、指などの被写体の接触または近接を検知することがで
きる。
【0501】
[第7のステップ]
第7のステップにおいて、第1の領域SHを特定する(図26(A)(V7)参照)。
【0502】
例えば、本発明の一態様の入出力装置220に、指などの被写体が接触または近接した領
域を、第1の領域SHにすることができる。または、使用者等があらかじめ設定した領域
を第1の領域SHに用いることができる。
【0503】
具体的には、本発明の一態様の機能パネルに接触または近接する指THMなどを、画素7
03(i,j)を用いて撮影し、画像処理をして、第1の領域SHを特定することができ
る(図26(B)参照)。
【0504】
例えば、指THMなどの被写体の接触または近接により、外光が遮られて生じた影を、本
発明の一態様の機能パネルの画素703(i,j)を用いて撮影し、画像処理をして、第
1の領域SHを特定することができる。
【0505】
または、本発明の一態様の機能パネルの画素703(i,j)を用いて、接触または近接
する指THMなどの被写体に光を照射し、当該被写体が反射する光を、画素703(i,
j)を用いて撮影し、画像処理をして、第1の領域SHを特定することができる。
【0506】
または、タッチセンサを用いて、指THMなどの被写体が触れた領域を第1の領域SHに
特定することができる。
【0507】
[第8のステップ]
第8のステップにおいて、第1の領域SHに基づいて、第2の領域および第3の領域を含
む画像FIを生成する(図26(A)(V8)および図26(B)参照)。例えば、第1
の領域SHの形状を第2の領域の形状に用い、第1の領域SHを除く領域を、第3の領域
に用いる。
【0508】
[第9のステップ]
第9のステップにおいて、第2の領域が第1の領域SHに重なるように、画像FIを表示
する(図26(A)(V9)および図26(B)参照)。
【0509】
例えば、画像FIから画像信号を生成し、領域231に供給し、画素703(i,j)か
ら光を射出する。または、第1の選択信号を導電膜G1(i)に供給している期間に、生
成した画像信号を導電膜S1g(j)に供給し、画素703(i,j)に画像信号を書き
込むことができる。または、生成した画像信号を導電膜S1g(j)および導電膜S2g
(j)に供給し、画素703(i,j)に強調された画像信号を書き込むことができる。
または、強調された画像信号を用いて、輝度を高めて表示することができる。
【0510】
これにより、指などの被写体が触れた領域231または近接した第1の領域SHに重ねて
、画像FIを表示することができる。または、指などの被写体が触れた領域に、画素70
3(i,j)を用いて光を照射することができる。または、接触または近接する指THM
などの被写体に照明を当てることができる。または、使用者等があらかじめ設定した領域
に、指などの被写体を接触または近接するように、促すことができる。
【0511】
[第10のステップ]
第10のステップにおいて、画像FIを表示しながら、第1の領域SHに接触または近接
する被写体を撮像する(図26(A)(V10)および図26(B)参照)。
【0512】
例えば、領域231に近接する指THMなどに光を照射しながら、当該指などを撮影する
。具体的には、領域231に接する指THMの指紋FPを撮影することができる(図26
(C)参照)。
【0513】
例えば、画素703(i,j)に画像を表示した状態で、第1の選択信号の供給を停止す
ることができる。例えば、画素回路530G(i,j)に対する第1の選択信号の供給を
停止した状態で、画素703(i,j)を用いて撮像することができる。
【0514】
これにより、接触または近接する指などの被写体を、照明しながら撮像することができる
。または、第1の選択信号が供給されていない期間に撮像することができる。または、撮
像時のノイズを抑制することができる。または、指紋の鮮明な画像を取得することができ
る。または、使用者の認証に用いることができる画像を取得することができる。または、
領域231のどこであっても、領域231に触れる指の指紋を、鮮明に撮影することがで
きる。その結果、利便性、有用性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供するこ
とができる。
【0515】
[第11のステップ]
第11のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図26(A)(V11)参照)。
【0516】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0517】
(実施の形態10)
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図27乃至図29
参照しながら説明する。
【0518】
図27乃至図29は、本発明の一態様の情報処理装置の構成を説明する図である。図27
(A)は情報処理装置のブロック図であり、図27(B)乃至図27(E)は情報処理装
置の構成を説明する斜視図である。また、図28(A)乃至図28(E)は情報処理装置
の構成を説明する斜視図である。また、図29(A)および図29(B)は情報処理装置
の構成を説明する斜視図である。
【0519】
<情報処理装置>
本実施の形態で説明する情報処理装置5200Bは、演算装置5210と、入出力装置5
220と、を有する(図27(A)参照)。
【0520】
演算装置5210は、操作情報を供給される機能を備え、操作情報に基づいて画像情報を
供給する機能を備える。
【0521】
入出力装置5220は、表示部5230、入力部5240、検知部5250、通信部52
90、操作情報を供給する機能および画像情報を供給される機能を備える。また、入出力
装置5220は、検知情報を供給する機能、通信情報を供給する機能および通信情報を供
給される機能を備える。
【0522】
入力部5240は操作情報を供給する機能を備える。例えば、入力部5240は、情報処
理装置5200Bの使用者の操作に基づいて操作情報を供給する。
【0523】
具体的には、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデバイス、タッチセンサ
、照度センサ、撮像装置、音声入力装置、視線入力装置、姿勢検出装置などを、入力部5
240に用いることができる。
【0524】
表示部5230は機能パネルおよび画像情報を表示する機能を備える。例えば、実施の形
態1乃至実施の形態5において説明する機能パネルを表示部5230に用いることができ
る。
【0525】
検知部5250は検知情報を供給する機能を備える。例えば、情報処理装置が使用されて
いる周辺の環境を検知して、検知情報として供給する機能を備える。
【0526】
具体的には、照度センサ、撮像装置、姿勢検出装置、圧力センサ、人感センサなどを検知
部5250に用いることができる。
【0527】
通信部5290は通信情報を供給される機能および供給する機能を備える。例えば、無線
通信または有線通信により、他の電子機器または通信網と接続する機能を備える。具体的
には、無線構内通信、電話通信、近距離無線通信などの機能を備える。
【0528】
《情報処理装置の構成例1》
例えば、円筒状の柱などに沿った外形を表示部5230に適用することができる(図27
(B)参照)。また、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える。また
、人の存在を検知して、表示内容を変更する機能を備える。これにより、例えば、建物の
柱に設置することができる。または、広告または案内等を表示することができる。または
、デジタル・サイネージ等に用いることができる。
【0529】
《情報処理装置の構成例2》
例えば、使用者が使用するポインタの軌跡に基づいて画像情報を生成する機能を備える(
図27(C)参照)。具体的には、対角線の長さが20インチ以上、好ましくは40イン
チ以上、より好ましくは55インチ以上の機能パネルを用いることができる。または、複
数の機能パネルを並べて1つの表示領域に用いることができる。または、複数の機能パネ
ルを並べてマルチスクリーンに用いることができる。これにより、例えば、電子黒板、電
子掲示板、電子看板等に用いることができる。
【0530】
《情報処理装置の構成例3》
他の装置から情報を受信して、表示部5230に表示することができる(図27(D)参
照)。または、いくつかの選択肢を表示できる。または、使用者は選択肢からいくつかを
選択し、当該情報の送信元に返信できる。または、例えば、使用環境の照度に応じて、表
示方法を変更する機能を備える。これにより、例えば、スマートウオッチの消費電力を低
減することができる。または、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に
使用できるように、画像をスマートウオッチに表示することができる。
【0531】
《情報処理装置の構成例4》
表示部5230は、例えば、筐体の側面に沿って緩やかに曲がる曲面を備える(図27
E)参照)。または、表示部5230は機能パネルを備え、機能パネルは、例えば、前面
、側面、上面および背面に表示する機能を備える。これにより、例えば、携帯電話の前面
だけでなく、側面、上面および背面に情報を表示することができる。
【0532】
《情報処理装置の構成例5》
例えば、インターネットから情報を受信して、表示部5230に表示することができる(
図28(A)参照)。または、作成したメッセージを表示部5230で確認することがで
きる。または、作成したメッセージを他の装置に送信できる。または、例えば、使用環境
の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える。これにより、スマートフォンの消費
電力を低減することができる。または、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境において
も好適に使用できるように、画像をスマートフォンに表示することができる。
【0533】
《情報処理装置の構成例6》
リモートコントローラーを入力部5240に用いることができる(図28(B)参照)。
または、例えば、放送局またはインターネットから情報を受信して、表示部5230に表
示することができる。または、検知部5250を用いて使用者を撮影できる。または、使
用者の映像を送信できる。または、使用者の視聴履歴を取得して、クラウド・サービスに
提供できる。または、クラウド・サービスから、レコメンド情報を取得して、表示部52
30に表示できる。または、レコメンド情報に基づいて、番組または動画を表示できる。
または、例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える。これによ
り、晴天の日に屋内に差し込む強い外光が当たっても好適に使用できるように、映像をテ
レビジョンシステムに表示することができる。
【0534】
《情報処理装置の構成例7》
例えば、インターネットから教材を受信して、表示部5230に表示することができる(
図28(C)参照)。または、入力部5240を用いて、レポートを入力し、インターネ
ットに送信することができる。または、クラウド・サービスから、レポートの添削結果ま
たは評価を取得して、表示部5230に表示できる。または、評価に基づいて、好適な教
材を選択し、表示できる。
【0535】
例えば、他の情報処理装置から画像信号を受信して、表示部5230に表示することがで
きる。または、スタンドなどに立てかけて、表示部5230をサブディスプレイに用いる
ことができる。これにより、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に使
用できるように、画像をタブレットコンピュータに表示することができる。
【0536】
《情報処理装置の構成例8》
情報処理装置は、例えば、複数の表示部5230を備える(図28(D)参照)。例えば
、検知部5250で撮影しながら表示部5230に表示することができる。または、撮影
した映像を検知部に表示することができる。または、入力部5240を用いて、撮影した
映像に装飾を施せる。または、撮影した映像にメッセージを添付できる。または、インタ
ーネットに送信できる。または、使用環境の照度に応じて、撮影条件を変更する機能を備
える。これにより、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に閲覧できる
ように、被写体をデジタルカメラに表示することができる。
【0537】
《情報処理装置の構成例9》
例えば、他の情報処理装置をスレイブに用い、本実施の形態の情報処理装置をマスターに
用いて、他の情報処理装置を制御することができる(図28(E)参照)。または、例え
ば、画像情報の一部を表示部5230に表示し、画像情報の他の一部を他の情報処理装置
の表示部に表示することができる。他の情報処理装置に画像信号を供給することができる
。または、通信部5290を用いて、他の情報処理装置の入力部から書き込む情報を取得
できる。これにより、例えば、携帯可能なパーソナルコンピュータを用いて、広い表示領
域を利用することができる。
【0538】
《情報処理装置の構成例10》
情報処理装置は、例えば、加速度または方位を検知する検知部5250を備える(図29
(A)参照)。または、検知部5250は、使用者の位置または使用者が向いている方向
に係る情報を供給することができる。または、情報処理装置は、使用者の位置または使用
者が向いている方向に基づいて、右目用の画像情報および左目用の画像情報を生成するこ
とができる。または、表示部5230は、右目用の表示領域および左目用の表示領域を備
える。これにより、例えば、没入感を得られる仮想現実空間の映像を、ゴーグル型の情報
処理装置に表示することができる。
【0539】
《情報処理装置の構成例11》
情報処理装置は、例えば、撮像装置、加速度または方位を検知する検知部5250を備え
る(図29(B)参照)。または、検知部5250は、使用者の位置または使用者が向い
ている方向に係る情報を供給することができる。または、情報処理装置は、使用者の位置
または使用者が向いている方向に基づいて、画像情報を生成することができる。これによ
り、例えば、現実の風景に情報を添付して表示することができる。または、拡張現実空間
の映像を、めがね型の情報処理装置に表示することができる。
【0540】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
【0541】
例えば、本明細書等において、XとYとが接続されている、と明示的に記載されている場
合は、XとYとが電気的に接続されている場合と、XとYとが機能的に接続されている場
合と、XとYとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする
。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず
、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に開示されているものと
する。
【0542】
ここで、X、Yは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層
、など)であるとする。
【0543】
XとYとが直接的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能
とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に接続されていない場合であ
り、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量
素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)を介さずに
、XとYとが、接続されている場合である。
【0544】
XとYとが電気的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能
とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが
可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイ
ッチは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか
流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択し
て切り替える機能を有している。なお、XとYとが電気的に接続されている場合は、Xと
Yとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
【0545】
XとYとが機能的に接続されている場合の一例としては、XとYとの機能的な接続を可能
とする回路(例えば、論理回路(インバータ、NAND回路、NOR回路など)、信号変
換回路(DA変換回路、AD変換回路、ガンマ補正回路など)、電位レベル変換回路(電
源回路(昇圧回路、降圧回路など)、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など)
、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路(信号振幅または電流量などを大きく出来る
回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など)、信号生成
回路、記憶回路、制御回路など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能であ
る。なお、一例として、XとYとの間に別の回路を挟んでいても、Xから出力された信号
がYへ伝達される場合は、XとYとは機能的に接続されているものとする。なお、XとY
とが機能的に接続されている場合は、XとYとが直接的に接続されている場合と、XとY
とが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
【0546】
なお、XとYとが電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、XとYと
が電気的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟んで
接続されている場合)と、XとYとが機能的に接続されている場合(つまり、XとYとの
間に別の回路を挟んで接続されている場合)と、XとYとが直接接続されている場合(つ
まり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合)とが、本明
細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示的に記載
されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合と同様な
内容が、本明細書等に開示されているものとする。
【0547】
なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介
さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z
2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース
(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接
的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的
に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現
することが出来る。
【0548】
例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2
の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第
1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に
接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第
1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トラ
ンジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている
」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子な
ど)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など
)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様
な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別
して、技術的範囲を決定することができる。
【0549】
または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)
は、少なくとも第1の接続経路を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は
、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した、トラ
ンジスタのソース(又は第1の端子など)とトランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)との間の経路であり、前記第1の接続経路は、Z1を介した経路であり、トランジス
タのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路を介して、Yと電気
的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有しておらず、前記第3の
接続経路は、Z2を介した経路である。」と表現することができる。または、「トランジ
スタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路によって、Z1を介
して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、
前記第2の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン
(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路によって、Z2を介して、Yと電
気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有していない。」と表現
することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なく
とも第1の電気的パスによって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の電気
的パスは、第2の電気的パスを有しておらず、前記第2の電気的パスは、トランジスタの
ソース(又は第1の端子など)からトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)への
電気的パスであり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3
の電気的パスによって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の電気的パスは
、第4の電気的パスを有しておらず、前記第4の電気的パスは、トランジスタのドレイン
(又は第2の端子など)からトランジスタのソース(又は第1の端子など)への電気的パ
スである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成
における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子
など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定すること
ができる。
【0550】
なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X
、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、
層、など)であるとする。
【0551】
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されてい
る場合であっても、1つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もあ
る。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び
電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電
気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場
合も、その範疇に含める。
【符号の説明】
【0552】
ADC アナログデジタル変換回路
AMP 増幅回路
ANO 導電膜
C21 容量
C31 容量
CI 制御情報
CL 導電膜
CP 導電材料
CS 容量
D3 距離
DC 検知回路
DS 検知情報
FD ノード
G1 導電膜
G2 導電膜
GCLK 信号
GD 駆動回路
GDA 駆動回路
GDB 駆動回路
GDC 駆動回路
II 入力情報
IN 端子
MD トランジスタ
M21 トランジスタ
M31 トランジスタ
M32 トランジスタ
N21 ノード
OUT 端子
OSC 発振回路
P1 位置情報
PWC1 信号
PWC2 信号
RC 回路
RD 駆動回路
RS 導電膜
S1g 導電膜
S2g 導電膜
SC サンプリング回路
SD 駆動回路
SE 導電膜
SH 領域
SW21 スイッチ
SW22 スイッチ
SW31 スイッチ
SW32 スイッチ
SW33 スイッチ
TX 導電膜
VCOM2 導電膜
VCP 導電膜
VI 画像情報
VIV 導電膜
VLEN 導電膜
VPD 導電膜
VPI 導電膜
VR 導電膜
WX 導電膜
FPC1 フレキシブルプリント基板
200 情報処理装置
201 筐体
201A 面
201B 接合層
210 演算装置
211 演算部
212 記憶部
213 人工知能部
214 伝送路
215 入出力インターフェース
220 入出力装置
230 表示部
231 領域
233 タイミングコントローラ
234 伸張回路
235 画像処理回路
238 制御部
240 入力部
241 検知領域
243 制御回路
248 制御部
249 部材
250 検知部
290 通信部
410 基材
410A 接合層
501C 絶縁膜
501D 絶縁膜
504 導電膜
505 接合層
506 絶縁膜
508 半導体膜
508A 領域
508B 領域
508C 領域
510 基材
510M 導電膜
512A 導電膜
512B 導電膜
516 絶縁膜
518 絶縁膜
519B 端子
520 機能層
521 絶縁膜
524 導電膜
528 絶縁膜
530 回路
530G 画素回路
530S 画素回路
550G 発光素子
551G 電極
551S 電極
552 電極
553G 発光性の材料を含む層
553S 光電変換材料を含む層
573 絶縁膜
573A 絶縁膜
573B 絶縁膜
591G 開口部
591S 開口部
700 機能パネル
700TP 入出力パネル
702B 画素
702G 画素
702R 画素
702S 画素
703 画素
705 封止材
720 機能層
770 基材
770P 機能膜
771 絶縁膜
802 検知器
5200B 情報処理装置
5210 演算装置
5220 入出力装置
5230 表示部
5240 入力部
5250 検知部
5290 通信部
図1
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図30