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公報発行日 2024年12月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-169652 ログイン済みの方はこのURLへ
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【課題】堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去できる水栓の提供。
【解決手段】 基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなり、前記部材の表面は、JIS B 0681-2(2018)で定められる二乗平均平方根高さ(Sq)が0.04μm以上1μm以下であり、輪郭曲面のわい度(Ssk)が-1以上5以下であり、かつ自己相関長さ(Sal)が10μm以上50μm以下であることを特徴とする凹凸構造を有し、前記表面層は、撥水性であり、かつ、XPS深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その1点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が1.0at%以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が5分以内である、水栓。
【選択図】図1
本発明によれば、堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去できる水栓が提供される。
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