特開 2024-170947 水準調整装置および水準調整方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024170947

(43)【公開日】2024-12-11

(54)【発明の名称】水準調整装置および水準調整方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20241204BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20241204BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564Z

H01L21/68 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023087737

(22)【出願日】2023-05-29

(71)【出願人】

【識別番号】000000974

【氏名又は名称】川崎重工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100104433

【弁理士】

【氏名又は名称】宮園 博一

(74)【代理人】

【識別番号】100202728

【弁理士】

【氏名又は名称】三森 智裕

(72)【発明者】

【氏名】斎藤 雅行

【テーマコード（参考）】

5F131

5F146

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131AA03

5F131AA32

5F131AA33

5F131BA01

5F131BA11

5F131BA17

5F131BA21

5F131BA35

5F131BA37

5F131BA39

5F131CA06

5F131CA43

5F131CA47

5F131DA22

5F131DB51

5F131DB52

5F131DB62

5F131DD03

5F146JA01

5F146JA27

(57)【要約】

【課題】半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整装置を提供する。
【解決手段】この水準調整装置１００は、ＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きを検出する水準器１０と、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準調整機構２０と、水準器１０により検出されたＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構２０の調整量を出力とする学習済みモデル４３を用いることによって、水準調整機構２０の各々の調整量を取得する制御部４０と、を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

半導体製造装置の水平面に対する傾きを検出する水準器と、
前記半導体製造装置に配置された水準調整機構と、
前記水準器により検出された前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、前記水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、前記水準調整機構の調整量を取得する制御部と、を備える、水準調整装置。

【請求項2】

前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項3】

前記学習済みモデルは、撓んだ状態の前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、請求項２に記載の水準調整装置。

【請求項4】

前記学習済みモデルは、前記複数の水準調整機構のうちの少なくとも１つの調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化が学習されることにより生成されている、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項5】

前記水準調整機構は、前記半導体製造装置の下方の４隅に各々配置され、
前記制御部は、１隅に配置された前記水準調整機構の調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化に基づいて、床面から浮いている水準調整機構を特定する、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項6】

前記水準器は、容器中に収容された液体と、前記液体に含まれる気泡とを有する第１水準器を含み、
前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器を撮像する撮像部を備え、
前記学習済みモデルは、前記撮像部に撮像された、前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器の画像が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記撮像部に撮像された前記第１水準器の画像に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項7】

前記水準器は、検出した前記半導体製造装置の水平面に対する傾きのデータを信号として出力する第２水準器を含み、
前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に配置された前記第２水準器が検出した水平面に対する傾きのデータの信号が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記第２水準器により出力された信号に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項8】

前記制御部が取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量を表示する表示部を備える、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項9】

前記水準調整機構は、電動油圧ジャッキを含み、
前記制御部は、取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量に基づいて、前記複数の前記電動油圧ジャッキを動作させることにより、前記半導体製造装置が水平面に沿うように前記半導体製造装置の傾きを調整する、請求項１に記載の水準調整装置。

【請求項10】

半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを取得することと、
水準器により検出された前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、前記半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、前記水準調整機構の調整量を取得することと、を備える、水準調整方法。

【請求項11】

前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータを学習することにより前記学習済みモデルを生成すること、を備える、請求項１０に記載の水準調整方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この開示は、水準調整装置および水準調整方法の制御方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、半導体製造装置を床面に対して水平に設置するための水準調整装置が開示されている。特許文献１には、半導体製造装置の水準を調整する際において、作業者を支援する水平設置支援装置が開示されている。特許文献１の水平設置支援装置は、水準計測器と、データ処理部と、表示部と、を備えている。特許文献１の水平設置支援装置では、水準計測器は、半導体製造装置に載置されており、半導体製造装置の傾きを検出する。また、半導体製造装置の下面には、複数の脚部が配置されている。脚部は、アジャスタを含んでおり、作業者によりアジャスタが回転されることにより、脚部の高さが変更される。データ処理部は、水準計測器により検出された半導体製造装置の傾きのデータに基づいて、半導体製造装置が水平になるための、脚部のアジャスタの回転数を算出する。具体的には、アジャスタを１回転させたときの脚部の高さの変動量が既知である。また、データ処理部は、アジャスタを１回転させたときの脚部の高さの変動量と、半導体製造装置の傾きとの関係を表す数式を有している。なお、この数式では、アジャスタの回転数と半導体製造装置の傾きとが比例していると仮定されている。そして、データ処理部は、水準計測器により検出された半導体製造装置の傾きのデータに基づいて、いずれの脚部のアジャスタを何回転すれば、半導体製造装置が水平になるのかを算出する。そして、算出された脚部の各々のアジャスタの回転数が表示部に表示される。作業者は、表示部に表示されたアジャスタの回転数に基づいて、アジャスタを回転させる。これにより、半導体製造装置が水平になるように脚部の高さが調整される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第６７２４６２２号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ここで、半導体製造装置は、一般的に比較的大型であり重量が大きいため、半導体製造装置の下面に複数の脚部が配置されている場合、脚部の高さ調整が適切でないことに起因して半導体製造装置が撓むように変形する場合がある。このような場合において、上記特許文献１のように、アジャスタの回転数と半導体製造装置の傾きとが比例していると仮定されている数式を用いても、半導体製造装置を水平に配置するためのアジャスタの回転数が正確に算出できない。また、半導体製造装置の撓みなど、半導体製造装置の実際の状態を考慮した数式を求めるのは困難である。このため、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが望まれている。

【0005】

この開示は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この開示の１つの目的は、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整装置および水準調整方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

この開示の第１の局面による水準調整装置は、半導体製造装置の水平面に対する傾きを検出する水準器と、半導体製造装置に配置された水準調整機構と、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得する制御部と、を備える。

【0007】

この開示の第１の局面による水準調整装置は、上記のように、制御部は、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得する。これにより、学習済みモデルの生成においては、半導体製造装置が撓んでいる状態などの半導体製造装置の実際の状態と、複数の水準調整機構の調整量とを関連付けて学習することができるので、そのように学習された学習済みモデルを用いることによって、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することができる。

【0008】

この開示の第２の局面による水準調整方法は、半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを取得することと、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得することと、を備える。

【0009】

この開示の第２の局面による水準調整方法は、上記のように、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得することを備える。これにより、学習済みモデルの生成においては、半導体製造装置が撓んでいる状態などの半導体製造装置の実際の状態と、複数の水準調整機構の調整量とを関連付けて学習することができるので、そのように学習された学習済みモデルを用いることによって、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整方法を提供できる。

【発明の効果】

【0010】

本開示によれば、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく算出することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】第１実施形態による水準調整装置、および、ＥＦＥＭを示す図である。

【図2】基板処理システムの構成を示す図である。

【図3】第１実施形態による水準器を示す図である。

【図4】第１実施形態による水準調整装置のブロック図である。

【図5】第１実施形態による水準調整機構の調整量を推定する学習モデルを説明するための図である。

【図6】ＥＦＥＭが撓んだ状態を示す図である。

【図7】ＥＦＥＭに配置された水準器を示す図である。

【図8】図７とは異なる位置に配置された水準器を示す図である。

【図9】第１実施形態による水準調整方法を説明するためフロー図である。

【図10】第２実施形態による水準調整装置、および、ＥＦＥＭを示す図である。

【図11】第２実施形態による水準調整装置のブロック図である。

【図12】第２実施形態による水準調整方法を説明するためフロー図である。

【図13】第３実施形態による水準調整装置、および、ＥＦＥＭを示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本開示を具体化した本開示の実施形態を図面に基づいて説明する。

【0013】

［第１実施形態］
第１実施形態による水準調整装置１００について説明する。図１に示すように、水準調整装置１００は、作業者が、ＥＦＥＭ（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｆｒｏｎｔ Ｅｎｄ Ｍｏｄｕｌｅ）２０５を床面１に対して水平にするための作業を支援するための装置である。なお、ＥＦＥＭ２０５は、半導体製造装置の一例である。

【0014】

（基板処理システム）
ＥＦＥＭ２０５が含まれる基板処理システム２００の構成について説明する。図２に示すように、基板処理システム２００は、基板搬送ロボット２０１、ロードロック部２０２、複数の処理モジュール部２０３、搬送室２０４およびＥＦＥＭ２０５を備えている。基板搬送ロボット２０１は、水平多関節ロボットである。ロードロック部２０２は、基板２１０の取入れ、および、取出しを行うための部屋である。処理モジュール部２０３では、基板２１０に対して、レジストの塗布や、エッヂングなどの処理が行われる。搬送室２０４には、基板搬送ロボット２０１が配置される。ＥＦＥＭ２０５には、基板２１０を搬送するロボット２０５ａが配置されている。

【0015】

（水準調整装置）
水準調整装置１００の構成について説明する。図１に示すように、水準調整装置１００は、水準器１０と、複数の水準調整機構２０と、撮像部３０と、制御部４０と、表示部５０と、を備えている。なお、水準調整装置１００は、たとえば、タブレット端末のような、撮像部３０と表示部５０と制御部４０とを備える機器である。なお、水準器１０は、第１水準器の一例である。

【0016】

水準器１０の構成について説明する。水準器１０は、ＥＦＥＭ２０５に載置され、ＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きを検出する。図３に示すように、第１実施形態では、水準器１０は、容器１１中に収容された液体１２と、液体１２に含まれる気泡１３とを有する。水準器１０が水平面に載置されている場合には、気泡１３は容器１１の中央部に位置する。水準器１０が傾斜面に載置されている場合には、気泡１３は容器１１の中央部からずれた位置に位置する。

【0017】

水準調整機構２０の構成について説明する。図１に示すように、水準調整機構２０は、たとえば、電動油圧ジャッキ、手動式のジャッキ、または、手動で高さが調整されるアジャスタなどである。電動油圧ジャッキでは、電動ポンプから送り出される油の量によって電動油圧ジャッキの高さが調整される。たとえば、スイッチをオンすることにより、電動ポンプから油が送り出され、電動油圧ジャッキの高さが調整される。手動式のジャッキでは、手動によりハンドルが上下されることにより送り出される油の量によって手動式のジャッキの高さが調整される。アジャスタでは、アジャスタのボルト部に螺号するナット部が手動により回転されることにより、アジャスタの高さが調整される。また、水準調整機構２０は、ＥＦＥＭ２０５の下方に複数配置されている。たとえば、水準調整機構２０は、ＥＦＥＭ２０５の下方の４隅に各々配置されている。

【0018】

撮像部３０の構成について説明する。撮像部３０は、たとえば、２次元のカメラである。撮像部３０は、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０を撮像する。撮像部３０により撮像された画像は、制御部４０に送信される。また、撮像部３０は、水準器１０とともにＥＦＥＭ２０５も撮像する。そして、制御部４０は、たとえば、画像処理により、撮像部３０に撮像された画像に基づいて、水準器１０、水準器１０における気泡１３の位置、ＥＦＥＭ２０５、および、ＦＥＭ２０５のいずれの位置に水準器１０が配置されているのかを認識する

【0019】

制御部４０の構成について説明する。図４に示すように、制御部４０は、たとえば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）を含む。また、制御部４０は、ＲＡＭおよびＲＯＭなどのメモリや、ハードディスクなどの記憶部も含む。また、制御部４０は、学習部４１を含む。学習部４１は、水準器１０により検出されたＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構２０の調整量を出力とする学習済みモデル４３を生成する。また、学習部４１は、たとえば、深層学習を用いて学習済みモデル４３を生成する。

【0020】

学習済みモデル４３の生成方法について具体的に説明する。図５に示すように、第１実施形態では、学習済みモデル４３は、ＥＦＥＭ２０５に水準器１０が配置された状態での水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている。また、学習済みモデル４３は、複数の水準調整機構２０のうちの少なくとも１つの調整量を変化させた場合の水準器１０の検出結果の変化が学習されることにより生成されている。具体的には、複数の水準調整機構２０の調整量を様々に変化させながら、撮像部３０によりＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０が撮像される。また、撮像された各画像と、撮像された際の水準調整機構２０の調整量とは紐づけられている。学習部４１には、複数の水準調整機構２０の調整量を様々に変化させた際に複数の画像が学習用データ４２として入力される。学習部４１は、学習用データ４２を学習することにより学習済みモデル４３を生成する。このように生成された学習済みモデル４３では、水準調整機構２０の調整量に対して、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０の気泡１３が、水準器１０においてどの位置に位置するのかが学習されている。

【0021】

また、図６に示すように、第１実施形態では、学習済みモデル４３は、撓んだ状態のＥＦＥＭ２０５に水準器１０が配置された状態での水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている。すなわち、複数の水準調整機構２０の調整量を様々に変化させながら、撓んだ状態のＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０が撮像部３０により撮像される。なお、ＥＦＥＭ２０５の撓みは、水準調整機構２０の調整が適切でないことに起因して生じる。このように撮像された画像が学習部４１により学習されているため、生成された学習済みモデル４３では、ＥＦＥＭ２０５が撓んだ状態も考慮されている。

【0022】

水準調整機構２０の調整量を取得するための制御部４０の動作について説明する。図５に示すように、第１実施形態では、制御部４０は、水準器１０により検出されたＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構２０の調整量を出力とする学習済みモデル４３を用いることによって、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。具体的には、制御部４０は、学習済みモデル４３を用いることによって、撮像部３０に撮像された水準器１０の画像に基づいて、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。たとえば、図７および図８に示すような、ＥＦＥＭ２０５の上面に配置されている水準器１０が撮像部３０により撮像される。また、撮像部３０は、水準器１０だけでなくＥＦＥＭ２０５も撮像する。そして、撮像された画像が、学習済みモデル４３に入力される。学習済みモデル４３は、入力された画像に基づいて、ＥＦＥＭ２０５を水平にするための複数の水準調整機構２０の各々の調整量を推定する。水準調整機構２０の調整量は、複数の水準調整機構２０の各々に対して推定される。制御部４０は、学習済みモデル４３から水準調整機構２０の調整量を取得する。水準調整機構２０が電動油圧ジャッキの場合、電動ポンプから送り出される油の量を調整するためのスイッチをオンする時間や回数などが調整量として取得される。また、水準調整機構２０が手動式のジャッキの場合、ハンドルを上下する回数が調整量として取得される。水準調整機構２０がアジャスタの場合、アジャスタのナット部の回転数が調整量として取得される。

【0023】

表示部５０の構成について説明する。図１に示すように、表示部５０は、たとえば、液晶ディスプレイなどである。表示部５０は、水準調整装置１００の筐体に取り付けられていてもよいし、水準調整装置１００の筐体とは別個に配置されていてもよい。第１実施形態では、表示部５０は、制御部４０が取得した複数の水準調整機構２０の各々の調整量を表示する。すなわち、制御部４０は、取得した複数の水準調整機構２０の各々の調整量を表示部５０に表示させる処理を実行する。そして、作業者は、表示部５０に表示された複数の水準調整機構２０の各々の調整量に基づいて、複数の水準調整機構２０を調整する。

【0024】

次に、図９を参照して、第１実施形態の水準調整方法について説明する。水準調整方法は、複数の水準調整機構２０を調整することにより、ＥＦＥＭ２０５を水平にするための方法である。また、第１実施形態では、水準調整機構２０の調整は、作業者により実行される。

【0025】

ステップＳ１において、学習済みモデル４３が生成される。第１実施形態では、ＥＦＥＭ２０５に水準器１０が配置された状態での水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータを学習することにより学習済みモデル４３が生成される。具体的には、学習済みモデル４３を生成するための学習用データ４２が準備される。学習用データ４２は、複数の水準調整機構２０の調整量を様々に変化させた際に撮像部３０により撮像された、水準器１０およびＥＦＥＭ２０５が映っている複数の画像である。そして、作業者により学習用データ４２が学習部４１に入力されることにより、学習部４１は、学習済みモデル４３を生成する。

【0026】

水準調整機構２０が床面１から浮いている場合について説明する。ＥＦＥＭ２０５の４隅に水準調整機構２０が配置されている場合、３隅に配置された水準調整機構２０によってＥＦＥＭ２０５が水平にされ、残りの１隅に配置された水準調整機構２０が床面１から浮いている場合がある。そこで、学習済みモデル４３は、３隅に配置された水準調整機構２０によってＥＦＥＭ２０５が水平にされ、残りの１隅に配置された水準調整機構２０が床面１から浮いている状態での水準調整機構２０の調整量も学習されている。これにより、学習済みモデル４３が、３隅に配置された水準調整機構２０によってＥＦＥＭ２０５が水平にされ、残りの１隅に配置された水準調整機構２０が床面１から浮くような水準調整機構２０の調整量を推定することが抑制される。

【0027】

ステップＳ２において、制御部４０は、ＥＦＥＭ２０５に載置される水準器１０から、ＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータを取得する。具体的には、作業者が、ＥＦＥＭ２０５に水準器１０を載置する。そして、撮像部３０は、水準器１０をＥＦＥＭ２０５とともに撮像する。制御部４０は、撮像部３０からＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータとして、水準器１０およびＥＦＥＭ２０５が撮像された画像を取得する。

【0028】

ステップＳ３において、制御部４０は、学習により生成された学習済みモデル４３を用いることによって、水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータに基づいて、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。具体的には、制御部４０は、ステップＳ２において取得した水準器１０およびＥＦＥＭ２０５が撮像された画像を、学習済みモデル４３に入力する。そして、学習済みモデル４３は、入力された画像に基づいて、ＥＦＥＭ２０５を水平にするための複数の水準調整機構２０の各々の調整量を推定し、制御部４０は、推定された複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。

【0029】

ステップＳ４において、制御部４０は、取得した複数の水準調整機構２０の各々の調整量を、表示部５０に表示させる処理を実行する。作業者は、表示部５０に表示された複数の水準調整機構２０の各々の調整量に基づいて、複数の水準調整機構２０を調整する。複数の水準調整機構２０を調整した後でも、ＥＦＥＭ２０５が水平にならない場合、ステップＳ２からＳ４までの動作が繰り返される。たとえば、作業者が水準器１０を確認しながらステップＳ２からＳ４までの動作の繰り返すように水準調整機構２０を操作する。

【0030】

［第１実施形態の効果］
制御部４０は、水準器１０により検出されたＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構２０の調整量を出力とする学習済みモデル４３を用いることによって、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。これにより、学習済みモデル４３の生成においては、ＥＦＥＭ２０５が撓んでいる状態などのＥＦＥＭ２０５の実際の状態と、複数の水準調整機構２０の調整量とを関連付けて学習することができるので、そのように学習された学習済みモデル４３を用いることによって、ＥＦＥＭ２０５の実際の状態を考慮して、ＥＦＥＭ２０５を水平に配置するための調整量を精度よく取得することができる。

【0031】

学習済みモデル４３は、ＥＦＥＭ２０５に水準器１０が配置された状態での水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている。これにより、ＥＦＥＭ２０５に実際に水準器１０が配置された状態でのＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習されるので、学習済みモデル４３は、ＥＦＥＭ２０５の実際の状態を考慮した学習済みモデル４３となる。すなわち、ＥＦＥＭ２０５に実際に水準器１０を配置するだけで、容易に、ＥＦＥＭ２０５の実際の状態を考慮した学習済みモデル４３を生成することができる。

【0032】

学習済みモデル４３は、撓んだ状態のＥＦＥＭ２０５に水準器１０が配置された状態での水準器１０が検出したＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている。これにより、ＥＦＥＭ２０５が撓んでいる状態を考慮した学習済みモデル４３を生成することができる。

【0033】

学習済みモデル４３は、複数の水準調整機構２０のうちの少なくとも１つの調整量を変化させた場合の水準器１０の検出結果の変化が学習されることにより生成されている。これにより、水準調整機構２０ごとに、調整量を変化させた場合の水準器１０の検出結果の変化が学習されるので、ＥＦＥＭ２０５の調整量を精度よく学習することができる。

【0034】

水準器１０は、容器１１中に収容された液体１２と、液体１２に含まれる気泡１３とを有する。水準調整装置１００は、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０を撮像する撮像部３０を備える。学習済みモデル４３は、撮像部３０に撮像された、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１０の画像が学習されることにより生成されている。制御部４０は、学習済みモデル４３を用いることによって、撮像部３０に撮像された水準器１０の画像に基づいて、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。ここで、容器１１中に収容された液体１２と、液体１２に含まれる気泡１３とを有する水準器１０は、ジャイロセンサなどによって傾きを検出するデジタルの水準器１０に比べて小型であるので、水準調整装置１００の大型化を抑制できる。また、水準器１０は、デジタルの水準器１０に比べて取り扱いが容易である。また、デジタルの水準器１０と異なり校正の必要もない。

【0035】

水準調整装置１００は、制御部４０が取得した複数の水準調整機構２０の各々の調整量を表示する表示部５０を備える。これにより、作業者は、表示部５０により表示された複数の水準調整機構２０の各々の調整量に基づいて、複数の水準調整機構２０を容易に調整できる。また、水準器１０を作業者が視認し、複数の水準調整機構２０を別の作業者が調整する場合と異なり、一人の作業者によってＥＦＥＭ２０５を水平にすることができる。

【0036】

［第２実施形態］
第２実施形態による水準調整装置１１０について説明する。第２実施形態では、水準調整機構としての電動油圧ジャッキ１１１が制御部１１２により制御されている。

【0037】

第２実施形態による水準調整装置１１０の構成について説明する。図１０に示すように、水準調整装置１１０では、水準調整機構として、複数の電動油圧ジャッキ１１１が配置されている。また、図１１に示すように、水準調整装置１１０では、第１実施形態の水準調整装置１００と異なり表示部５０は配置されていなくてもよい。

【0038】

次に、図１２を参照して、第２実施形態の水準調整方法について説明する。なお、ステップＳ１、Ｓ２およびＳ３の動作は、上記第１実施形態のＳ１、Ｓ２およびＳ３の動作と同様である。

【0039】

ステップＳ１４において、制御部４０は、取得した複数の電動油圧ジャッキ１１１の各々の調整量に基づいて、複数の電動油圧ジャッキ１１１を動作させることにより、ＥＦＥＭ２０５が水平面に沿うようにＥＦＥＭ２０５の傾きを調整する。

【0040】

ステップＳ１５において、制御部４０は、ＥＦＥＭ２０５が水平になったか否かを判定する。具体的には、制御部４０は、複数の電動油圧ジャッキ１１１を調整した後、撮像部３０により水準器１０を撮像させ、撮像部３０により撮像された画像に基づいて、ＥＦＥＭ２０５が水平になったか否かを判定する。ステップＳ１５において、ｎｏの場合、ステップＳ３に戻る。ステップＳ１５において、ｙｅｓの場合、制御部４０による水準調整の動作が終了する。なお、制御部４０による水準調整の動作が終了後、ＥＦＥＭ２０５の下方にアジャスタが配置され、複数の電動油圧ジャッキ１１１は取り除かれる。

【0041】

［第２実施形態の効果］

【0042】

制御部１１２は、取得した複数の電動油圧ジャッキ１１１の各々の調整量に基づいて、複数の電動油圧ジャッキ１１１を動作させることにより、ＥＦＥＭ２０５が水平面に沿うようにＥＦＥＭ２０５の傾きを調整する。これにより、作業者が手動によって複数の電動油圧ジャッキ１１１を調整する必要がないので、作業者の手間を省くことができる。

【0043】

［第３実施形態］
第３実施形態による水準調整装置１２０の構成について説明する。図１３に示すように、第３実施形態では、水準器１２１は、ＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きのデータを信号として出力する。水準器１２１は、たとえば、ＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きのデータとしてデジタル信号を出力する。また、学習済みモデル４３は、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１２１が検出した水平面に対する傾きのデータの信号が学習されることにより生成されている。制御部４０は、学習済みモデル４３を用いることによって、水準器１２１により出力された信号に基づいて、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。また、第３実施形態の水準調整方法では、水準器１０を水準器１２１に置き換えた状態で、第１実施形態または第２実施形態の水準調整方法が実施される。なお、水準器１２１は、第２水準器の一例である。

【0044】

［第３実施形態の効果］
水準器１２１は、検出したＥＦＥＭ２０５の水平面に対する傾きのデータを信号として出力する。学習済みモデル４３は、ＥＦＥＭ２０５に配置された水準器１２１が検出した水平面に対する傾きのデータの信号が学習されることにより生成されている。制御部４０は、学習済みモデル４３を用いることによって、水準器１２１により出力された信号に基づいて、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を取得する。これにより、水準器１０を撮像する撮像部３０を配置することなく、複数の水準調整機構２０の各々の調整量を算出することができる。

【0045】

［変形例］
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本開示の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。

【0046】

上記第１、第２および第３実施形態では、本開示の半導体製造装置として、ＥＦＥＭ２０５を適用する例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、ＥＦＥＭ２０５以外の半導体製造装置に本開示を適用してもよい。

【0047】

上記第１実施形態では、ＥＦＥＭ２０５に、１つの水準器１０が配置される例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、ＥＦＥＭ２０５に複数の水準器１０を配置し、複数の水準器１０のＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータに基づいて、学習済みモデル４３が生成されてもよい。第２および第３実施形態についても同様である。

【0048】

上記第１実施形態では、水準調整装置１００に学習部４１が含まれる例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、水準調整装置１００以外の外部の装置に配置された学習部４１により学習済みモデル４３が生成されてもよい。第２および第３実施形態についても同様である。

【0049】

上記第１および第２実施形態では、ＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータとして撮像部３０に撮像された画像が適用され、上記第３実施形態では、ＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータとして、水準器１２１からの信号が適用される例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、ＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータとして、撮像部３０に撮像された画像および水準器１２１からの信号以外のデータを使用してもよい。

【0050】

上記第１、第２および第３実施形態では、撓んだ状態のＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータが学習される例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、撓まないような大きさのＥＦＥＭ２０５であれば、撓んだ状態のＥＦＥＭ２０５の傾きに関するデータを学習しなくてもよい。第２および第３実施形態についても同様である。

【0051】

上記第１実施形態では、水準調整機構２０が、ＥＦＥＭ２０５の下方の４隅に各々配置されている例を示したが、本開示はこれに限られない。たとえば、水準調整機構２０が、ＥＦＥＭ２０５の下方の４隅に加えて中央部に配置されていてもよい。第２および第３実施形態についても同様である。

【0052】

また、上記第２実施形態のように制御部１１２によって電動油圧ジャッキ１１１が制御される場合、電動油圧ジャッキ１１１が床面１から浮いているか否かを判定することが可能である。具体的には、電動油圧ジャッキ１１１がＥＦＥＭ２０５の下方の４隅に各々配置されている場合、４隅に配置された電動油圧ジャッキ１１１のうちの３つの電動油圧ジャッキ１１１によってＥＦＥＭ２０５が水平にされることが可能である。この場合、残りの１つの電動油圧ジャッキ１１１が床面１から浮いている場合がある。そこで、制御部４０は、ＥＦＥＭ２０５が水平にされた状態で、４隅に配置された電動油圧ジャッキ１１１を１つずつ、高さを大きくするとともに、撮像部３０は、水準器１０を撮像する。制御部４０は、撮像部３０により撮像された画像に基づいて、電動油圧ジャッキ１１１の高さを大きくしても、ＥＦＥＭ２０５の水平状態が維持されていると判定した場合、制御部４０は、この電動油圧ジャッキ１１１が床面１から浮いていた、と判定することができる。これにより、１隅に配置されている電動油圧ジャッキ１１１が床面１から浮いているような不安定な状態でＥＦＥＭ２０５が配置されることを抑制できる。

【0053】

また、上記第２実施形態のように制御部１１２によって電動油圧ジャッキ１１１が制御される場合、複数の電動油圧ジャッキ１１１に均等に荷重がかかっているか否かを判定することが可能である。具体的には、電動油圧ジャッキ１１１がＥＦＥＭ２０５の下方の４隅に各々配置されている場合、４隅に配置された電動油圧ジャッキ１１１によってＥＦＥＭ２０５が水平にされることが可能である一方、４隅に配置された電動油圧ジャッキ１１１にかかる加重が均等でない場合がある。そこで、制御部４０は、ＥＦＥＭ２０５が水平にされた状態で、４隅に配置された電動油圧ジャッキ１１１を１つずつ、高さを大きくするとともに、撮像部３０は、水準器１０を撮像する。制御部４０は、撮像部３０により撮像された画像に基づいて、電動油圧ジャッキ１１１の高さを少し大きくしても、ＥＦＥＭ２０５の水平状態が維持されていると判定した場合、制御部４０は、この電動油圧ジャッキ１１１にかかる荷重は小さい、と判定することができる。また、制御部４０は、撮像部３０により撮像された画像に基づいて、電動油圧ジャッキ１１１の高さを少し大きくすると、ＥＦＥＭ２０５の水平状態が維持できなくなると判定した場合、制御部４０は、この電動油圧ジャッキ１１１にかかる荷重は大きい、と判定することができる。これにより、制御部４０は、電動油圧ジャッキ１１１に均等に荷重がかかっているか否かを判定することが可能である。

【0054】

本明細書で開示する要素の機能は、開示された機能を実行するよう構成またはプログラムされた汎用プロセッサ、専用プロセッサ、集積回路、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）、従来の回路、および／または、それらの組み合わせ、を含む回路または処理回路を使用して実行できる。プロセッサは、トランジスタやその他の回路を含むため、処理回路または回路と見なされる。本開示において、回路、ユニット、または手段は、列挙された機能を実行するハードウェアであるか、または、列挙された機能を実行するようにプログラムされたハードウェアである。ハードウェアは、本明細書に開示されているハードウェアであってもよいし、あるいは、列挙された機能を実行するようにプログラムまたは構成されているその他の既知のハードウェアであってもよい。ハードウェアが回路の一種と考えられるプロセッサである場合、回路、手段、またはユニットはハードウェアとソフトウェアの組み合わせであり、ソフトウェアはハードウェアおよび／またはプロセッサの構成に使用される。

【0055】

［態様］
上記した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

【0056】

（項目１）
半導体製造装置の水平面に対する傾きを検出する水準器と、
前記半導体製造装置に配置された水準調整機構と、
前記水準器により検出された前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、前記水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、前記水準調整機構の調整量を取得する制御部と、を備える、水準調整装置。

【0057】

（項目２）
前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、項目１に記載の水準調整装置。

【0058】

（項目３）
前記学習済みモデルは、撓んだ状態の前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、項目２に記載の水準調整装置。

【0059】

（項目４）
前記学習済みモデルは、前記複数の水準調整機構のうちの少なくとも１つの調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化が学習されることにより生成されている、項目１から項目３までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0060】

（項目５）
前記水準調整機構は、前記半導体製造装置の下方の４隅に各々配置され、
前記制御部は、１隅に配置された前記水準調整機構の調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化に基づいて、床面から浮いている水準調整機構を特定する、項目１から項目４までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0061】

（項目６）
前記水準器は、容器中に収容された液体と、前記液体に含まれる気泡とを有する第１水準器を含み、
前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器を撮像する撮像部を備え、
前記学習済みモデルは、前記撮像部に撮像された、前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器の画像が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記撮像部に撮像された前記第１水準器の画像に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、項目１から項目５までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0062】

（項目７）
前記水準器は、検出した前記半導体製造装置の水平面に対する傾きのデータを信号として出力する第２水準器を含み、
前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に配置された前記第２水準器が検出した水平面に対する傾きのデータの信号が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記第２水準器により出力された信号に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、項目１から項目６までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0063】

（項目８）
前記制御部が取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量を表示する表示部を備える、項目１から項目７までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0064】

（項目９）
前記水準調整機構は、電動油圧ジャッキを含み、
前記制御部は、取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量に基づいて、前記複数の前記電動油圧ジャッキを動作させることにより、前記半導体製造装置が水平面に沿うように前記半導体製造装置の傾きを調整する、項目１から項目８までのいずれか１項に記載の水準調整装置。

【0065】

（項目１０）
半導体製造装置に載置される水準器から、前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを取得することと、
学習により生成された学習済みモデルを用いることによって、前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータに基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得することと、を備える、水準調整方法。

【0066】

（項目１１）
前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータを学習することにより前記学習済みモデルを生成すること、を備える、項目１０に記載の水準調整方法。

【符号の説明】

【0067】

１ 床面
１０ 水準器（第１水準器）
１１ 容器
１２ 液体
１３ 気泡
２０ 水準調整機構
３０ 撮像部
４０ 制御部
４３ 学習済みモデル
５０ 表示部
１００、１１０、１２０ 水準調整装置
１１１ 電動油圧ジャッキ
１２１ 水準器（第２水準器）
２０５ ＥＦＥＭ（半導体製造装置）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】