(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024171534
(43)【公開日】2024-12-12
(54)【発明の名称】弾性波デバイス
(51)【国際特許分類】
H03H 9/25 20060101AFI20241205BHJP
H01L 23/34 20060101ALI20241205BHJP
【FI】
H03H9/25 A
H01L23/34 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023088592
(22)【出願日】2023-05-30
(71)【出願人】
【識別番号】518453730
【氏名又は名称】三安ジャパンテクノロジー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100098202
【弁理士】
【氏名又は名称】中村 信彦
(72)【発明者】
【氏名】門川 裕
(72)【発明者】
【氏名】中村 浩
(72)【発明者】
【氏名】塩井 伸一
【テーマコード(参考)】
5F136
5J097
【Fターム(参考)】
5F136BB13
5F136DA11
5J097AA24
5J097BB02
5J097BB11
5J097DD19
5J097DD28
5J097EE08
5J097FF04
5J097HA04
5J097JJ06
5J097JJ09
5J097KK10
(57)【要約】
【課題】WLP構造の弾性波デバイスにおいて、これを構成するデバイスチップ2の放熱性を合理的に向上可能な新しい構造を提供する。
【解決手段】共振器9となるパターンを含む第1メタルパターン3と、第1メタルパターン3よりも大きい厚みを持つように形成され且つ信号入出力用端子10、信号入出力用端子10と共振器9とを接続する配線11a、複数の共振器9同士を接続する配線11bおよびグランド配線11cとなるパターンを含む第2メタルパターン4と、第2メタルパターン4上に形成されて共振器9の封止空間8を形成させるルーフ5と、ルーフ5を貫通する通過穴5cを利用して形成された外部接続用半田バンプ6と、ルーフ5に形成された有底穴5dを利用して形成された放熱用半田バンプ7とを備える。
【選択図】
図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
デバイスチップと、
前記デバイスチップの一面上に形成されると共に、共振器となるパターンを含む第1メタルパターンと、
前記デバイスチップの前記一面上に形成されると共に、いずれの位置でも前記第1メタルパターンよりも大きい所定の厚みを持つように形成され、かつ、信号入出力用端子、前記信号入出力用端子と前記共振器とを接続する配線、前記複数の共振器同士を接続する配線およびグランド配線となるパターンを含む第2メタルパターンと、
前記第2メタルパターン上に形成されて、前記デバイスチップの前記一面及び前記第2メタルパターンと共働して前記共振器の封止空間を形成させる樹脂製のルーフと、
前記ルーフを貫通する通過穴を利用して形成されると共に、前記第2メタルパターンに接合させた内端部と前記ルーフから突き出す外端部とを備えた外部接続用半田バンプと、
前記ルーフに形成された有底穴を利用して形成されると共に、前記ルーフから突き出す外端部を備えた放熱用半田バンプと、を備えてなる、弾性波デバイス。
【請求項2】
前記放熱用半田バンプを、前記デバイスチップの前記一面に直交する向きから見た状態において、前記複数の共振器同士を接続する配線の形成領域上となる箇所に形成させてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項3】
前記ルーフを、熱伝導率が高い樹脂から構成させてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項4】
前記放熱用半田バンプを、二以上備えてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項5】
前記放熱用半田バンプにおける前記有底穴内に位置される内端部及び側面部に接する前記有底穴の底面及び内面を、金属膜によって被覆させてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項6】
前記放熱用半田バンプにおける前記有底穴内に位置される側面部に接する前記有底穴の内面を、粗化処理させた粗面としてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項7】
前記放熱用半田バンプを、前記有底穴の底面に接する内端部と前記外端部との間に頸部を持つように形成させてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項8】
前記グランド配線を、前記第1メタルパターン、前記信号入出力用端子、前記信号入出力用端子と前記共振器を接続する配線、および、前記複数の共振器同士を接続する配線を囲うように配置させてなる、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、モバイル通信機器などにおいて周波数フィルタなどとして使用するのに適した弾性波デバイスの改良に関する。
【背景技術】
【0002】
WLP(Wafer Level Package)構造を有する弾性波(Surface Acoustic Wave/SAW)デバイスは、特許文献1に示される構造を持つ。
この特許文献1のものは、デバイスチップの一面上にカバーを設けると共に、このカバーにより形成された内部空間内に前記一面に形成させたIDT電極が位置されるようになっている。
ここで、弾性波デバイスへの信号の入力によりデバイスチップには熱が生じるが、デバイスチップを構成する圧電体は熱伝導率が低く放熱性が悪い。圧電体として利用されるタンタル酸リチウムやニオブ酸リチウムの熱伝導率は約4から6W/mK程度である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
この発明が解決しようとする主たる問題点は、この種のWLP構造の弾性波デバイスにおいて、これを構成するデバイスチップの放熱性を合理的に向上可能な新しい構造を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
前記課題を達成するために、この発明にあっては、第一の観点から、弾性波デバイスを、
デバイスチップと、
前記デバイスチップの一面上に形成されると共に、共振器となるパターンを含む第1メタルパターンと、
前記デバイスチップの前記一面上に形成されると共に、いずれの位置でも前記第1メタルパターンよりも大きい所定の厚みを持つように形成され、かつ、信号入出力用端子、前記信号入出力用端子と前記共振器とを接続する配線、前記複数の共振器同士を接続する配線およびグランド配線となるパターンを含む第2メタルパターンと、
前記第2メタルパターン上に形成されて、前記デバイスチップの前記一面及び前記第2メタルパターンと共働して前記共振器の封止空間を形成させる樹脂製のルーフと、
前記ルーフを貫通する通過穴を利用して形成されると共に、前記第2メタルパターンに接合させた内端部と前記ルーフから突き出す外端部とを備えた外部接続用半田バンプと、
前記ルーフに形成された有底穴を利用して形成されると共に、前記ルーフから突き出す外端部を備えた放熱用半田バンプと、を備えてなる、ものとした。
【0006】
また、前記放熱用半田バンプを、前記デバイスチップの前記一面に直交する向きから見た状態において、前記複数の共振器同士を接続する配線の形成領域上となる箇所に形成させるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。
【0007】
また、前記ルーフを、熱伝導率が高い樹脂から構成させることが、この発明の態様の一つとされる。
【0008】
また、前記放熱用半田バンプを、二以上備えさせるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。
【0009】
また、前記放熱用半田バンプにおける前記有底穴内に位置される内端部及び側面部に接する前記有底穴の底面及び内面を、金属膜によって被覆させるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。
【0010】
また、前記放熱用半田バンプにおける前記有底穴内に位置される側面部に接する前記有底穴の内面を、粗化処理させた粗面とすることが、この発明の態様の一つとされる。
【0011】
また、前記放熱用半田バンプを、前記有底穴の底面に接する内端部と前記外端部との間に頸部を持つように形成させることが、この発明の態様の一つとされる。
【0012】
また、前記グランド配線を、前記第1メタルパターン、前記信号入出力用端子、前記信号入出力用端子と前記共振器を接続する配線、および、前記複数の共振器同士を接続する配線を囲うように配置させるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。
【発明の効果】
【0013】
この発明にあっては、前記放熱用半田バンプを利用して、前記デバイスチップの放熱性を合理的に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【
図1】
図1は、この発明の一実施の形態にかかる弾性波デバイス(第一例)の断面構成図であり、
図2におけるC-C線位置で第一例を断面にして示している。
【
図2】
図2は、
図1におけるA-A線位置での断面構成図である。
【
図3】
図3は、
図2におけるB-B線位置での断面構成図である。
【
図4】
図4は、前記第一例を構成するデバイスチップ上に形成される共振器の一例を示した構成図である。
【
図5】
図5は、前記第一例のデバイスチップ上に形成される回路の一例を示した構成図である。
【
図6】
図6は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図7】
図7は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図8】
図8は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図9】
図9は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図10】
図10は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図11】
図11は、前記第一例の製造工程の要部を示した断面構成図である。
【
図12】
図12は、前記第一例と構成の一部を異ならせる弾性波デバイスの第二例の断面構成図である。
【
図13】
図13は、前記第一例と構成の一部を異ならせる弾性波デバイスの第三例の断面構成図である。
【
図14】
図14は、前記第一例と構成の一部を異ならせる弾性波デバイスの第四例の断面構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、
図1~
図14に基づいて、この発明の典型的な実施の形態について、説明する。この実施の形態にかかる弾性波デバイス1は、モバイル通信機器などにおいて周波数フィルタなどとして使用するのに適したものである。
【0016】
かかる弾性波デバイス1は、デバイスチップ2と、 第1メタルパターン3と、第2メタルパターン4と、ルーフ5と、外部接続用半田バンプ6と、放熱用半田バンプ7とを備えたものとなっている。
デバイスチップ2の一面2a上に、 第1メタルパターン3が形成されている。また、デバイスチップ2の一面2a上には、第1メタルパターン3以上の厚みの第2メタルパターン4が形成されている。
第2メタルパターン4は、デバイスチップ2の一面2aと側面2bとが接し合うデバイスチップ2の外縁部2cに形成されてデバイスチップ2の一面2aにおけるこの外縁部2cの内方をデバイスチップ2の主要面部2d(弾性波デバイス1としての機能を発揮する面部)として囲繞する外側部分4aと、主要面部2dにおける第1メタルパターン3の形成領域以外の領域に形成されて主として配線11として機能する仕切り壁状の内側部分4bとを備えている。
第2メタルパターン4の内側部分4bの一部は第1メタルパターン3の一部に重ね合わされるように形成されて、第1メタルパターン3に接続されるようにする場合もある。
ルーフ5は、その内面5aを、第2メタルパターン4におけるデバイスチップ2の一面2aに固着された第一端4cと反対の第二端4dに固着させて、第2メタルパターン4上に支持されている。
デバイスチップ2の一面2a上には、前記主要面部2dと、第2メタルパターン4の外側部分4aと、ルーフ5とによって、封止空間8(キャビティ、中空構造部)が形成され、この封止空間8内に第1メタルパターン3によって形成される後述の共振器9が配される。
【0017】
典型的には、前記デバイスチップ2は、一辺を0.5ないし1mmとし、厚さを0.15ないし0.2mmとする四角形(図示の例では長方形)の板状をなすように構成される。
また、典型的には、第1メタルパターン3は、前記デバイスチップ2の一面2aに直交する向きの厚さ(デバイスチップ2の一面2aを基準とした第1メタルパターン3の高さ)を0.1ないし0.5μmとするように構成される。
また、典型的には、第2メタルパターン4は、前記デバイスチップ2の一面2aに直交する向きの厚さを3ないし5μmとするように構成される。
また、典型的には、ルーフ5は、厚さを35ないし70μmとするように構成される。
これらから構成される弾性波デバイス1は、典型的には、厚さを0.25ないし0.35mm程度とする。
【0018】
かかる弾性波デバイス1は、前記デバイスチップ2の前記一面2aに直交する向きから見た状態において正方形又は長方形の四角形状の輪郭を持つようなっている。
すなわち、かかる弾性波デバイス1は、前記四角形状の二つの面1aと、この二つの面1a間に亘る四つの側面1bとを備えた扁平の六面体状を呈する。
なお、各図においては、弾性波デバイス1の構成を理解しやすいように、その構成要素の厚さは誇張して表している。
【0019】
デバイスチップ2は、弾性波を伝搬させる機能を持つ。デバイスチップ2には、典型的には、圧電体としてタンタル酸リチウムやニオブ酸リチウムが用いられ、また、デバイスチップ2は、これらにサファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスなどを積層させて、構成される場合もある。
【0020】
第1メタルパターン3は、前記デバイスチップ2の一面2a上に形成されると共に、いずれの位置でも所定の厚みを持つように形成され、かつ、共振器9となるパターンを含む。
図4に共振器9の構成の一例を示す。共振器9はIDT電極9cと、IDT電極9cを挟むようにして形成される反射器9dとを有する。IDT電極9cは、電極対からなり、各電極対は弾性波の伝搬方向xに長さ方向を交叉させるように平行配列された複数の電極指9e同士をこれらの一端側においてバスバー9fで接続させてなる。反射器9dは、弾性波の伝搬方向xに長さ方向を交叉させるように平行配列された複数の電極指9gの端部間をバスバー9hで接続させてなる。
第1メタルパターン3は、典型的には、フォトリソグラフィ技術により形成された導電性金属膜によって構成される。
【0021】
第2メタルパターン4は、
図1および
図2に示されるように、前記デバイスチップ2の前記一面2a上に形成されると共に、いずれの位置でも前記第1メタルパターン3よりも大きい所定の厚みを持つように形成され、かつ、信号入出力用端子10、前記信号入出力用端子10と前記共振器9とを接続する配線11a、前記複数の共振器9同士を接続する配線11bおよびグランド配線11cとなるパターンを含む。
図示の例では、第2メタルパターン4の外側部分4aは、デバイスチップ2の外縁部2cのやや内側にあって、この外縁部2cに実質的に平行をなす外壁面4eを有している。この外壁面4eより内側が前記主要面部2dとなる。
図示の例では、デバイスチップ2の四隅においてそれぞれ、第2メタルパターン4によって前記信号入出力用端子10として機能する第一部分4fが形成されている。
また、この第一部分4fと共振器9との間に前記配線11aとして機能する第二部分4gが形成されている。
また、隣り合う共振器9間に前記配線11bとして機能する第三部分4hが形成されている。
かかる第2メタルパターン4も、典型的には、フォトリソグラフィ技術により形成された導電性金属膜によって構成される。
【0022】
図5に、前記第1メタルパターン3及び第2メタルパターン4によって一つのデバイスチップ2上に備えられる回路の一例の概念を示す。符号9aは信号入出力用端子10間に直列に接続された共振器9、符号9bは信号入出力用端子10間に並列に接続された共振器9、符号12はグランドを示す。共振器9の数や配置は必要に応じて変更される。すなわち、
図5の回路によってラダー型フィルタが構成されるようになっている。
【0023】
図示の例では、前記のような回路におけるグランド12に接続されるグランド配線11cを、前記第1メタルパターン3、前記信号入出力用端子10、前記信号入出力用端子10と前記共振器9を接続する配線11a、および、前記複数の共振器9同士を接続する配線11bを囲うように配置させている。
前記グランド配線11cは、前記のような回路における共振器9とグランド12とを間に他の共振器9を介在させることなく結ぶ配線11である。
図示の例では、
図1及び
図2に示されるように、第2メタルパターン4の外側部分4aをグランド配線11cとして機能させるようにしている。
【0024】
前記ルーフ5は、樹脂から構成される。前記ルーフ5は、前記第2メタルパターン4上に形成されて、前記デバイスチップ2の前記一面2a及び前記第2メタルパターン4と共働して前記共振器9の封止空間8を形成させる。
前記ルーフ5は、熱伝導率が高い樹脂から構成することが好ましい。このような樹脂としては、熱伝導率の高い物質からなるフィラーを、基材となる樹脂に対して70wt%ないし90wt%の範囲で含ませるようにしたものが用いられる。かかるフィラーは典型的には直径10μm前後の粒状体として構成される。
具体的には、前記ルーフ5を構成する樹脂としては、フィラーを含有するエポキシ系樹脂や、フィラーを含有するフェノール系樹脂を用いることができる。フィラーとしては、典型的には、アルミナ、窒化アルミ、粉末ダイヤモンドを用いることができる。
前記ルーフ5は、デバイスチップ2の一面2aに実質的に平行な内面5a及び外面5bを有する。図示の例では、ルーフ5はデバイスチップ2と実質的に同じ形状と大きさを持った板状をなしている。ルーフ5の内面5aとデバイスチップ2の一面2aとの間には前記第2メタルパターン4の厚さ分のギャップが形成され、このギャップは第2メタルパターン4の外側部分4aによって気密封止されて前記封止空間8が形成される。
【0025】
前記外部接続用半田バンプ6は、前記ルーフ5を貫通する通過穴5cを利用して形成されると共に、前記第2メタルパターン4に接合させた内端部6aと前記ルーフ5から突き出す外端部6bとを備えている。
前記通過穴5cは、第2メタルパターン4における前記第一部分4fの直上において、前記ルーフ5に形成されており、通過穴5cの穴底は前記第一部分4fとなっている。
図示の例では、通過穴5cは、ルーフ5の内面5a側に向かうにつれて穴径を漸減させるように構成されており、穴壁を傾斜させている。
外部接続用半田バンプ6は、通過穴5c内に位置されて通過穴5cと相補となる形状を持った軸部6cと、ルーフ5の外面5b上に位置される頭部6dとを有し、両者の間にはルーフ5の外面に固着する周回顎部6eが形成されている。頭部6dは半球状を呈し、頭部6dによって前記外端部6bが形成されている。
【0026】
前記放熱用半田バンプ7は、前記ルーフ5に形成された有底穴5dを利用して形成されると共に、前記ルーフ5から突き出す外端部7aとを備えている。
前記有底穴5dは、前記ルーフ5の外面5b側に穴口を有し、前記ルーフ5の内面5a側に向けて凹んだ形態となっている。
有底穴5dの穴底はルーフ5の内面5aとの間に間隔を開けた位置に形成されると共に、図示の例では、ルーフ5の内面5aと実質的に平行をなすように形成されている。
また、図示の例では、有底穴5dは、ルーフ5の内面5a側に向かうにつれて穴径を漸減させるように構成されており、穴壁を傾斜させている。
放熱用半田バンプ7は、有底穴5d内に位置されて有底穴5dと相補となる形状を持った軸部7bと、ルーフ5の外面5b上に位置される頭部7cとを有し、両者の間にはルーフ5の外面5bに固着する周回顎部7dが形成されている。頭部7cは半球状を呈し、頭部7cによって前記外端部7aが形成されている。
【0027】
この実施の形態にあっては、弾性波デバイス1は、二以上の放熱用半田バンプ7を備えている。
また、
図3に示されるように、放熱用半田バンプ7は、弾性波デバイス1を前記デバイスチップ2の前記一面2aに直交する向きから見た状態において、前記共振器9の形成領域上となる箇所に形成されている。図示の例では、二以上の放熱用半田バンプ7の全てが共振器9の形成領域上に少なくともその一部を位置させるように形成されている。
また、前記放熱用半田バンプ7は、弾性波デバイス1をデバイスチップ2の前記一面に直交する向きから見た状態において、前記複数の共振器9同士を接続する配線11の形成領域上となる箇所に形成されている。図示の例では、二以上の放熱用半田バンプ7の一部(例えば、
図3において符号7eで示す放熱用半田バンプ7)が複数の共振器9同士を接続する配線11b(
図1参照)の形成領域上に少なくともその一部を位置させるように形成されている。
【0028】
この実施の形態にかかる弾性波デバイス1によれば、第一に、共振器9の封止空間8を前記第2メタルパターン4と前記ルーフ5とによって形成することから、弾性波デバイス1の厚さを最小化することができ、この種のデバイスの低背化の要請に資する。
また、第二に、デバイスチップ2に生じた熱を、第2メタルパターン4とルーフ5と放熱用半田バンプ7とを通じた直線的な第一経路L1(
図2参照)を通じて外部に効率的に逃がすことができる。ルーフ5を熱伝導率が高い樹脂から構成させることで、この第一経路L1を通じた放熱効率は向上される。
また、第三に、第2メタルパターン4を通じてルーフ5に伝導した熱を、放熱用半田バンプ7を通じた第二経路L2(
図2参照)を通じて外部に効率的に逃がすことができる。ルーフ5を熱伝導率が高い樹脂から構成させることで、この第二経路L2を通じた放熱効率は向上される。
また、第四に、デバイスチップ2に生じた熱を、第2メタルパターン4と外部接続用半田バンプ6とを通じた第三経路L3(
図2参照)を通じて外部に効率的に逃がすことができる。
【0029】
典型的には、
図2に示されるように、弾性波デバイス1は、前記外部接続用半田バンプ6、及び、放熱用半田バンプ7を、モジュール基板13に形成された金属製の接続部13aに超音波接合により固着させることでモジュール基板13に実装されてモジュールを構成する。デバイスチップ2に生じた熱はこのように弾性波デバイス1が実装されるモジュール基板13側に逃がされることとなる。
【0030】
図12は、
図1ないし
図5に示される弾性波デバイス1の構成の一部を変更した第二例を示している。
この第二例では、前記放熱用半田バンプ7における前記有底穴5d内に位置される内端部及び側面部に接する前記有底穴5dの底面及び内面を、金属膜14によって被覆させている。図示の例では、外部接続用半田バンプ6の通過穴5cの内面も金属膜14によって被覆させている。
かかる金属膜14は、典型的には、リフトオフによって形成させることができる。
このようにした場合、放熱用半田バンプ7とルーフ5との一体性が効果的に高められる。
【0031】
図13は、
図1ないし
図5に示される弾性波デバイス1の構成の一部を変更した第三例を示している。
この第三例では、前記放熱用半田バンプ7における前記有底穴5d内に位置される側面部に接する前記有底穴5dの内面を、粗化処理によって微細な凹凸を持った粗面5eとしている。
かかる粗化処理は、ルーフ5に有底穴5dを形成後の薬液処理によって形成可能である。
このようにした場合、有底穴5dの粗面5eと放熱用半田バンプ7の側面部との密着面積が大きくでき、放熱用半田バンプ7とルーフ5との一体性が効果的に高められる。
なお、この第三例では、外部接続用半田バンプ6の側面部に接する通過穴5cの内面も粗面5eとなっている。
【0032】
図14は、
図1ないし
図5に示される弾性波デバイス1の構成の一部を変更した第四例を示している。
この第四例では、前記放熱用半田バンプ7を、前記有底穴5dの底面に接する内端部と前記外端部7aとの間に頸部7eを持つように形成させている。
この第四例では、放熱用半田バンプ7は、頭部7cと軸部7bとを持つと共に、軸部7bの中間部を細径として前記頸部7eを形成させている。図示の例では、外部接続用半田バンプ6も頭部6dと軸部6cと頸部6fとを持つように構成されている。
このように放熱用半田バンプ7及び外部接続用半田バンプ6を形成することは、有底穴5d及び通過穴5cを薬液処理によって前記のような形態を持った放熱用半田バンプ7及び外部接続用半田バンプ6と相補となる穴形状とすることで後述のクリーム半田18の塗布とリフロー処理を通じて実現できる。
このようにした場合、前記頸部7eと内端部との間をいわばアンカーとして機能させることができ、放熱用半田バンプ7とルーフ5との一体性が効果的に高められる。
【0033】
以上に説明した弾性波デバイス1は、以下の各ステップを含む製造方法によって、適切且つ合理的に製造することができる。
【0034】
先ず、デバイスチップ2となるウエハ15の一面に、第1メタルパターン3を形成する(第1ステップ/図示は省略する。)。
【0035】
次いで、デバイスチップ2となるウエハ15の一面に、第2メタルパターン4を形成する(第2ステップ/図示は省略する。)。
【0036】
次いで、デバイスチップ2となるウエハ15の一面に、ルーフ5を形成する(第3ステップ/図示は省略する。)。
ルーフ5は、前記ウエハ15の一面上に、熱伝導率が高く、かつ、非感光性の樹脂よりなる面状体(フィルム)を積層し、両者を一体化させることで、形成させることができる。
このようにルーフ5を形成させた後、ルーフ5を加圧することによって、ルーフ5の内面5aと第2メタルパターン4とを隙間無く一体化させることで、前記第一経路L1を確実に成立させることができる。
【0037】
次いで、前記第3ステップにより形成されたルーフ5上に有底穴5dを形成させるためのレジスト16を形成し、このレジスト16を利用してルーフ5の一部を薬液処理によって取り除き有底穴5dを形成させる(
図6/第4ステップ)。
【0038】
次いで、第4ステップにおいて形成されたレジスト16を除去する(第5ステップ/図示は省略する。)
【0039】
次いで、ルーフ5上に通過穴5cを形成させるためのレジスト17を形成し、このレジスト17を利用してルーフ5の一部を薬液処理によって取り除き通過穴5cを形成させる(
図7/第6ステップ)。
【0040】
次いで、第6ステップにおいて形成されたレジスト17を除去する(
図8/第6ステップ)。
【0041】
次いで、通過穴5cと有底穴5dとに、典型的には印刷機によりクリーム半田18を塗布・充填する(
図9/第7ステップ)。
【0042】
第7ステップ後のリフロー処理によりルーフ5の外面5bから突き出す高さを持った外部接続用半田バンプ6及び放熱用半田バンプ7が形成される(
図10/第8ステップ)。
【0043】
この後、前記ウエハ15に対しダイシングを施すことで、前記ウエハ15から複数の前記の構造を備えた弾性波デバイス1が生成される(
図11)。
【0044】
なお、当然のことながら、本発明は以上に説明した実施態様に限定されるものではなく、本発明の目的を達成し得るすべての実施態様を含むものである。
【符号の説明】
【0045】
1 弾性波デバイス
1a 面
1b 側面
2 デバイスチップ
2a 一面
2b 側面
2c 外縁部
2d 主要面部
3 第1メタルパターン
4 第2メタルパターン
4a 外側部分
4b 内側部分
4c 第一端
4d 第二端
4e 外壁面
4f 第一部分
4g 第二部分
4h 第三部分
5 ルーフ
5a 内面
5b 外面
5c 通過穴
5d 有底穴
5e 粗面
6 外部接続用半田バンプ
6a 内端部
6b 外端部
6c 軸部
6d 頭部
6e 周回顎部
6f 頸部
7、7e 放熱用半田バンプ
7a 外端部
7b 軸部
7c 頭部
7d 周回顎部
7e 頸部
8 封止空間
9、9a、9b 共振器
9c IDT電極
9d 反射器
9e 電極指
9f バスバー
9g 電極指
9h バスバー
10 信号入出力用端子
11、11a、11b、11c 配線
12 グランド
13 モジュール基板
13a 接続部
14 金属膜
15 ウエハ
16、17 レジスト
18 クリーム半田
x 伝搬方向
L1 第一経路
L2 第二経路
L3 第三経路