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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024171550
(43)【公開日】2024-12-12
(54)【発明の名称】パストライザ
(51)【国際特許分類】
B65B 55/02 20060101AFI20241205BHJP
【ＦＩ】
B65B55/02 Z
【審査請求】有
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023088616
(22)【出願日】2023-05-30
(71)【出願人】
【識別番号】595012121
【氏名又は名称】株式会社加藤製缶鉄工所
(74)【代理人】
【識別番号】100086438
【弁理士】
【氏名又は名称】東山 喬彦
(74)【代理人】
【識別番号】100217168
【弁理士】
【氏名又は名称】東山 裕樹
(72)【発明者】
【氏名】加藤 勉
(57)【要約】
【課題】 処理対象物に処理水を散布する通常搬送経路から幾らか低い位置に搬送コンベヤを確実に沈めて浸漬槽を形成する構成を、シンプルな構成の下に、具体的に実機として実現できるようにした新規なパストライザの開発を技術課題とする。
【解決手段】 本発明のパストライザ１は、搬送コンベヤ２０により処理対象物Ｔを移送する際、上方から処理水Ｗを散水しながら、併せて処理対象物Ｔの底部を処理水中に浸漬する浸漬経路Ｒ１を設け、浸漬経路Ｒ１は、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０よりも低い位置を走行するように構成され、且つ当該浸漬経路Ｒ１では、処理水Ｗに漬かる処理対象物Ｔと、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０とを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴とする。
【選択図】図１
【解決手段】 本発明のパストライザ１は、搬送コンベヤ２０により処理対象物Ｔを移送する際、上方から処理水Ｗを散水しながら、併せて処理対象物Ｔの底部を処理水中に浸漬する浸漬経路Ｒ１を設け、浸漬経路Ｒ１は、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０よりも低い位置を走行するように構成され、且つ当該浸漬経路Ｒ１では、処理水Ｗに漬かる処理対象物Ｔと、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０とを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴とする。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴とするパストライザ。
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴とするパストライザ。
【請求項2】
前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続して成るものであり、
前記水中安定化構造は、当該連結ピンを金属製の素材で形成する構成を含むことを特徴とする請求項１記載のパストライザ。
前記水中安定化構造は、当該連結ピンを金属製の素材で形成する構成を含むことを特徴とする請求項１記載のパストライザ。
【請求項3】
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１または２記載のパストライザ。
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１または２記載のパストライザ。
【請求項4】
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項３記載のパストライザ。
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項３記載のパストライザ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば飲料などを充填・密封した容器を処理対象物とし、このものに加熱殺菌処理を行うパストライザに関するものであって、特に処理水による熱処理効率を向上させるべく、処理水を上方から処理対象物にシャワーリングする散水手法と、処理水を適宜貯留した貯留槽に処理対象物の底部を漬ける浸漬方式とを併用できるようにした新規なパストライザに係るものである。
【背景技術】
【0002】
一般にパストライザは、例えば飲料が充填・密封された缶や容器等を処理対象物とし、これを搬送しながら、その上方から処理ゾーン毎に適宜の温度の処理水を処理対象物に散水して、処理対象物を一定の時間・一定の高温雰囲気に保ち、加熱殺菌処理を行っている。具体的には、まず昇温ゾーンで処理水によって処理対象物を昇温させ、その後、殺菌ゾーンで処理水によって昇温した所定温度を一定時間維持するようにし、更にその後、冷却ゾーンで低温の処理水を散水して、処理対象物を適宜の温度まで冷却している。
【0003】
ところで、このようなパストライザにおいては、処理室内で処理対象物を移送する搬送コンベヤを、散水が行われる通常搬送経路（常高経路）よりも低い位置（高さ）に沈めて処理対象物の底部を処理水に漬け（浸漬させ）、散水と浸漬とにより効率的に殺菌処理するという思想はあった（例えば特許文献１参照）。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
【0004】
この転倒の原因は、処理対象物を移送している搬送コンベヤ自体が単に斜めになるというだけでなく、処理対象物の底部が、浸漬槽内に貯留された処理水中に漬かると、処理対象物自体に浮力が生じることが要因の一つと考えられる。また搬送コンベヤ自体も処理水中に沈降して走行することになるため、搬送コンベヤ自体も浮力を受け、少なくとも処理水に漬かっている搬送コンベヤ部分には、浮上するような付勢力が作用し、処理対象物の倒れ込み傾向をより助長することになる。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
【0005】
また、このような下り傾斜移送に伴う処理対象物の倒れ込みを危惧したことから、搬送コンベヤを下方に沈めることなく、浸漬槽を形成するという思想も案出されている（例えば特許文献２参照）。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
【0006】
なお、特許文献２は、特許文献１から十数年後の出願であることを考慮すると、搬送コンベヤを下方に沈めて浸漬槽を形成することが、当業者において極めて困難であることを裏付けるものと言える。もちろん、処理水を散水して処理対象物を熱処理することに加え、更に処理対象物の底部も処理水に浸漬して、散水・浸漬併用で殺菌処理する方が効率良く熱処理が行えることは明らかである。そのため本願発明では、どのようにしたら搬送コンベヤを確実に通常搬送経路よりも低い位置（高さ）に沈めて浸漬槽が実機として構成できるのかを案出したものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特公昭５４－７０５号公報
【特許文献2】実開平２－３１８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、このような背景を認識してなされたものであって、処理対象物に処理水を散布する通常搬送経路から幾らか低い位置に搬送コンベヤを確実に沈めて浸漬槽を形成する構成を、シンプルな構成の下に、具体的に実機として実現できるようにした新規なパストライザの開発を技術課題としたものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
すなわち請求項１記載のパストライザは、
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴として成るものである。
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えることを特徴として成るものである。
【0010】
また請求項２記載のパストライザは、前記請求項１記載の要件に加え、
前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続して成るものであり、
前記水中安定化構造は、当該連結ピンを金属製の素材で形成する構成を含むことを特徴として成るものである。
前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続して成るものであり、
前記水中安定化構造は、当該連結ピンを金属製の素材で形成する構成を含むことを特徴として成るものである。
【0011】
また請求項３記載のパストライザは、前記請求項１または２記載の要件に加え、
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
【0012】
また請求項４記載のパストライザは、前記請求項３記載の要件に加え、
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
【発明の効果】
【0013】
まず請求項１記載の発明によれば、搬送経路の少なくとも一部に、通常搬送経路より低い位置となる浸漬経路が設けられ、この浸漬経路では、処理対象物に散水が行われることに加え、処理水に漬けた熱伝達も行われる。従って、処理対象物への熱処理は、処理対象物の側面だけでなく、処理水に漬かった底部も伝熱面として利用することができ、極めて効率よく、処理水の熱を処理対象物に伝達することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
【0014】
また請求項２記載の発明によれば、搬送コンベヤを構成する複数のリンク要素が、幅方向において金属製の連結ピンによって接続され、この金属製の連結ピンを水中安定化構造として含むものである。すなわち、この種の連結ピンは、従来、樹脂製素材で形成されるのが一般的であったが、この連結ピンを金属製の素材で形成することにより、搬送コンベヤの重量を増加させ、処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に水中に沈降させて走行できるようにしたものである。従って、本発明によれば、極めてシンプルな構成の下に水中安定化構造を実現することができる。
【0015】
また請求項３記載の発明によれば、浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーを設け、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーを設けるため、これら双方のテンショナーによって浸漬槽において処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に沈降状態で走行させることができ、走行中の例えば浮力による浮き上がりや、水面の波立ちによる揺れなどを抑制することができる。
【0016】
また請求項４記載の発明によれば、浸漬経路の前後に設けられるテンショナーと対を成すように、浸漬導入傾斜路の前部と、浸漬退出傾斜路の後部とに搬送軌道を維持する支持部材が設けられるため、浸漬経路において処理水中を走行する搬送コンベヤの搬送軌道をより積極的に安定化させることができ、浸漬経路における処理対象物の倒れ込みをより確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明のパストライザを骨格的に示す側面図である。
【図2】同上パストライザの全体構成を示す説明図である。
【図3】処理対象物を載せて搬送する搬送コンベヤを示す側面図及び平面図（ａ）、並びにターンスプロケットを示す斜視図（ｂ）である。
【図4-1】浸漬アリの殺菌処理と、浸漬ナシの殺菌処理とにおいて品温データを比較して示すグラフである。
【0018】
本発明を実施するための形態は、以下の実施例に述べるものをその一つとするとともに、更にその技術思想内において改良し得る種々の手法をも含むものである。
【0019】
本発明のパストライザ１は、処理対象物Ｔを載せて搬送する搬送装置２の少なくとも一部を、処理水Ｗが散水される通常の搬送経路（これを通常搬送経路または常高経路としＲ０の符号を付す）よりも低い位置に形成し（ここを浸漬経路Ｒ１とする）、この浸漬経路Ｒ１において浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに、処理対象物Ｔの底部を漬けるようにしたものである。このため浸漬経路Ｒ１を通過する処理対象物Ｔは、上方から散水される処理水Ｗと、底部に漬かった処理水Ｗとによる熱処理、つまり散水と浸漬とによる双方の熱処理を受けるものである。また、そのため本発明のパストライザは、散水・浸漬併用のパストライザとも称されることがある。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
【0020】
パストライザ１は、上述したように例えば飲料を充填・密封した缶やペットボトル等を処理対象物Ｔとし、このものに加熱処理ないしは冷却処理を施して、飲料の殺菌等の安定化処理を行う設備装置である。このパストライザ１は、幅１．０～２．３ｍ、長さ数ｍ～十数ｍ程度の工場設備であり、一例として図１・図２に示すように、大別してペットボトル等の処理対象物Ｔを搬送する搬送系の装置と、処理媒体となる処理水Ｗの供給系装置とを具え、処理水Ｗの供給系装置は、搬送系の装置（搬送経路）を上下から挟むように設けられている。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
【0021】
搬送装置２は、容器等の処理対象物Ｔを安定的に微速（例えば１分間に２５０ｍｍ～１０００ｍｍ）で搬送すべく、平滑な搬送面を有する搬送コンベヤ２０を具えるものである。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、例えば樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、例えば樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
【0022】
処理対象物Ｔは、搬送装置２による搬送を受けながら、その搬送位置に応じて受ける実質的な処理、つまりパストライザ１によって処理対象物Ｔが受ける処理温度が異なるものであり、以下、これについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
【0023】
昇温ゾーンＺ１は、処理対象物Ｔの温度（製品温度）を、例えば常温状態から目的の殺菌温度まで徐々に上昇させて行く処理ゾーンであり、ここでは更に三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一予備加熱区間Ｚ１１、第二予備加熱区間Ｚ１２、加熱区間Ｚ１３とする。なお、区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４とが設けられており、これらを区別して示す場合には、第一予備加熱区間Ｚ１１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ａ」、「４Ａ」とする。また、第二予備加熱区間Ｚ１２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｂ」、「４Ｂ」とする。また、加熱区間Ｚ１３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｃ」、「４Ｃ」とする。
【0024】
殺菌ゾーンＺ２は、昇温ゾーンＺ１において目的の殺菌温度まで上昇させた処理対象物Ｔを、適宜の時間、当該温度に維持して、実質的な殺菌を行う処理ゾーンであり、ここでは二つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一殺菌区間Ｚ２１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｄ」、「４Ｄ」とする。また、第二殺菌区間Ｚ２２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｅ」、「４Ｅ」とする。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
【0025】
冷却ゾーンＺ３は、実質的な殺菌を終えた処理対象物Ｔを、常温程度まで徐々に冷まして行く処理ゾーンであり、ここでは三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から、第一徐冷区間Ｚ３１、第二徐冷区間Ｚ３２、冷却区間Ｚ３３とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一徐冷区間Ｚ３１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｆ」、「４Ｆ」とする。また、第二徐冷区間Ｚ３２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｇ」、「４Ｇ」とする。また、冷却区間Ｚ３３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｈ」、「４Ｈ」とする。
【0026】
各区間における処理水Ｗの作用温度は、一例として図中に示した通りであり、各ノズル装置３Ａ～３Ｈの上方に示した数値が、各ノズル装置３Ａ～３Ｈからスプレーされる処理水Ｗの温度の一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
【0027】
また、処理対象物Ｔは、このような区間を通過することに伴い、温度が刻々と変化するものであり、以下、この製品温度の変化の一例について説明しておく。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
【0028】
なお、パストライザ１（搬送装置２）の各処理ゾーンを構成する区間の数は、適宜、増減させることが可能である。具体的には、処理対象物Ｔのサイズや性状、あるいは殺菌温度・殺菌時間等によって適宜増減し得るものであり、例えば昇温ゾーンＺ１を一つの予備加熱区間と加熱区間との二区間で構成することが考えられるし、あるいは殺菌ゾーンＺ２を三つの殺菌区間で構成すること等も考えられる。
【0029】
次に、ノズル装置３について説明する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0030】
次に、処理水タンク４について説明する。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
【0031】
また、このような循環利用にあたり、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留・回収された処理水Ｗが、目的の温度よりも低いまたは高いことがあり得る。このため各処理水タンク４Ａ～４Ｈには、貯留した処理水Ｗを目的の温度に加熱するための加温装置５と、目的の温度に低下させるための冷却装置６とが設けられる。なお、これら加温装置５と冷却装置６とを処理水タンク４Ａ～４Ｈごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0032】
このような加温装置５（５Ａ～５Ｈ）としては、例えば図示を省略するボイラーから供給される蒸気Ｓを、各処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に吹き込むことによって加温を図る手法が挙げられる。この場合、一例として前記処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に、蒸気Ｓの吹き出し用の諸装置を配置して、蒸気Ｓの熱により処理水Ｗの加温を図る。
【0033】
一方、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗを冷却する冷却装置６（６Ａ～６Ｈ）としては、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに、図示を省略する冷却水源からの配管を接続する手法が挙げられる。この場合、処理水Ｗの温度を下げるには、例えば当該配管中に設けたポンプ（図示略）を稼働させて、冷却水源から冷却水を処理水タンク４に導入し、適宜の温度に調整する。なお、冷却水としては、例えば水道水（上水）が挙げられる。
【0034】
次に、上述した処理水タンク４からノズル装置３に処理水Ｗを供給する経路について説明する。各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗは、上述したように、その温度に応じてスプレーすべきノズル装置３の区間を選択してスプレーするように構成されており、これは言わば処理水Ｗを循環使用する形態である。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
【0035】
また、本実施例では別の相互循環も構成されている。具体的には、昇温ゾーンＺ１の第二予備加熱区間Ｚ１２と、冷却ゾーンＺ３の第一徐冷区間Ｚ３１との相互循環である。より詳細には、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗが、約４８℃となり、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗが、約５０℃となり、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
【0036】
また、本実施例では、回収した処理水Ｗを同一区間内のノズル装置３に戻すように移送する循環利用も行っており、これを自己循環と称し、上記相互循環と区別している。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
【0037】
以下、本発明の特徴的構成である浸漬経路Ｒ１について説明する。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
【0038】
以下、前記水中安定化構造について更に説明する。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
【0039】
次に、本発明において水中安定化構造を構成する各要素について更に具体的に説明する。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本実施例では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
なお、構成部材の重量を増加させるにあたっては、リンク要素２１の一部をステンレス等の金属製部材で形成することも可能であるし、一部のリンク要素２１に金属製の付属部材を幅方向に組み付けるようにして、全体的に重量を増加させることも可能である。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本実施例では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
なお、構成部材の重量を増加させるにあたっては、リンク要素２１の一部をステンレス等の金属製部材で形成することも可能であるし、一部のリンク要素２１に金属製の付属部材を幅方向に組み付けるようにして、全体的に重量を増加させることも可能である。
【0040】
因みに搬送コンベヤ２０の素材が何であっても（例えば樹脂製または金属製であろうが）、搬送コンベヤ２０が処理水中を沈降状態で走行する際には、水の抵抗を受け、これは一般的には水中での走行性を低下ないしは不安定化させるように作用する。しかしながら、金属製部材の方が樹脂製部材よりも重量が大きいため、水中走行にあたり水の抵抗を受けても、金属製の方が水中での走行がより安定するものと考えられる。これは同じ水流を受けた場合、軽量物よりも重量物の方が流され難いことと同様である。従って、このような意味合いからすれば、構成部材の重量を増加させるという水中安定化構造により、水の抵抗を抑制する作用も奏すると言える。
【0041】
また、水中安定化構造を構成する他の要素として、処理水中に没する浸漬経路Ｒ１、換言すれば浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２を含む浸漬経路Ｒ１の搬送軌道を積極的に維持する構成が挙げられる。具体的には、例えば図１の拡大図に示すように、浸漬導入傾斜路Ｒ１１と浸漬経路Ｒ１との間（屈曲部）にテンショナー３４を設け、且つ浸漬経路Ｒ１と浸漬退出傾斜路Ｒ１２との間（屈曲部）にテンショナー３４を設けるものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
【0042】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１の前後の傾斜角度、すなわち浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２の傾斜角度をともに緩やかな角度に抑える構成が挙げられ、具体的には水平面に対し５度以下の傾斜角度が好ましい（図１の拡大図参照）。これは上記傾斜角度が小さいほど、搬送中の処理対象物Ｔの傾き角度が小さく抑えられ、処理対象物Ｔを転倒し難くさせるためである。
【0043】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１において処理対象物Ｔの浸漬深度（浸漬比率）を抑える構成が挙げられる。具体的には処理対象物Ｔの全高さ寸法に対し、浸漬比率を底部から２０％、好ましくは１５％、より好ましくは１３％の深度に抑える構成が挙げられる。これは処理対象物Ｔの浸漬比率が小さくなれば、処理水Ｗに漬かる処理対象物Ｔの浮力も抑制でき、処理対象物Ｔとしても転倒し難くなるためである。因みに、処理対象物Ｔが３５０ミリリットルの飲料缶である場合、全高寸法は約１２０ｍｍとなり、浸漬深度は１５ｍｍ程に設定され、このときの浸漬比率は、
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
【0044】
本発明のパストライザ１は、以上のような基本構造を有するものであって、以下、このようなパストライザ１を適用して処理対象物Ｔを加熱殺菌する際の基本的な処理態様について説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理がなされる。以下、処理ゾーンごとに説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理がなされる。以下、処理ゾーンごとに説明する。
【0045】
（１）昇温ゾーン
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
【0046】
（２）殺菌ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
【0047】
ここで本実施例では、上述したように処理対象物Ｔは、当該殺菌ゾーンＺ２を通過する間、底部が浸漬槽３３に漬かるように搬送され、結果、散水による熱処理（殺菌処理）のみならず、浸漬による熱処理も併せて施される。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
【0048】
以下、散水・浸漬併用による熱処理（熱伝達）が良好であることを図４－１・図４－２に基づいて示す。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
【0049】
また、処理対象物Ｔたる飲料缶は、第１槽から第７槽（第８槽）を通過する間に、一連の熱処理が行われ、実質的な殺菌処理は、第４槽と第５槽で実施され、ここが上記図２の殺菌ゾーンＺ２に該当する。そして、これら第４槽及び第５槽の両区間において、飲料缶を６５℃（これが殺菌温度）で１０分保持する設定で、実質的な殺菌処理を行うものである。なお、処理対象物Ｔの浸漬は、ほぼ全ての処理区間、具体的には第１槽～第７槽で行われている。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
【0050】
図４－１・図４－２中に示す品温（処理対象物Ｔ）のデータは、太い実線が浸漬アリ（散水・浸漬併用）を示しており、細い実線が浸漬ナシ（散水単独）を示している。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
【0051】
（３）冷却ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
【0052】
本実施例では、上述したように昇温ゾーンＺ１と冷却ゾーンＺ３との間で処理水Ｗを相互循環させている。具体的には、まず一つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
【0053】
このような相互循環を行うのは、第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗの温度が、第二徐冷区間Ｚ３２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗの温度が、第一予備加熱区間Ｚ１１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているためである。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
【0054】
〔他の実施例〕
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
【0055】
また、先に述べた基本の実施例では、昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を、ともに三つの区間で形成したが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではない。具体的には、例えば昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を四つ以上の区間で形成することも可能であるし、あるいは昇温ゾーンＺ１を二つの区間で形成することも可能である。また、上述した基本の実施例では、相互循環を二組形成したが、特に上記区間数などに応じて、相互循環は一組だけ設けるようにしても構わない。
【0056】
また、先に述べた基本の実施例では、処理対象物Ｔを搬送する搬送コンベヤ２０（搬送装置２）として、浸漬槽３３の処理水中に没入させた際、浮力が生じる樹脂製のコンベヤ（ネットコンベヤ）を適用し、これを浸漬経路Ｒ１において安定沈下状態とする水中安定化構造について説明した。しかしながら、搬送コンベヤ２０としては、円形断面のロッド本体を多数、搬送方向に並設状態で配設した回転ロッドコンベヤを適用することも可能であり、この場合、多数本のロッド本体の全てまたは一部をステンレス素材等の金属素材で構成し、水中安定化構造とすることも、もとより可能である。因みに、上記回転ロッドコンベヤについては、本出願人が既に特許取得に及んでいる特許第７０８２３８２号、特許第７１６４１２０号に詳細に記載されており、この記載を援用する。
【符号の説明】
【0057】
１ パストライザ
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
【図1】
【図2】
【図3】
【図4-1】
【図4-2】
【手続補正書】
【提出日】2024-09-19
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば飲料などを充填・密封した容器を処理対象物とし、このものに加熱殺菌処理を行うパストライザに関するものであって、特に処理水による熱処理効率を向上させるべく、処理水を上方から処理対象物にシャワーリングする散水手法と、処理水を適宜貯留した貯留槽に処理対象物の底部を漬ける浸漬方式とを併用できるようにした新規なパストライザに係るものである。
【背景技術】
【0002】
一般にパストライザは、例えば飲料が充填・密封された缶や容器等を処理対象物とし、これを搬送しながら、その上方から処理ゾーン毎に適宜の温度の処理水を処理対象物に散水して、処理対象物を一定の時間・一定の高温雰囲気に保ち、加熱殺菌処理を行っている。具体的には、まず昇温ゾーンで処理水によって処理対象物を昇温させ、その後、殺菌ゾーンで処理水によって昇温した所定温度を一定時間維持するようにし、更にその後、冷却ゾーンで低温の処理水を散水して、処理対象物を適宜の温度まで冷却している。
【0003】
ところで、このようなパストライザにおいては、処理室内で処理対象物を移送する搬送コンベヤを、散水が行われる通常搬送経路（常高経路）よりも低い位置（高さ）に沈めて処理対象物の底部を処理水に漬け（浸漬させ）、散水と浸漬とにより効率的に殺菌処理するという思想はあった（例えば特許文献１参照）。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
【0004】
この転倒の原因は、処理対象物を移送している搬送コンベヤ自体が単に斜めになるというだけでなく、処理対象物の底部が、浸漬槽内に貯留された処理水中に漬かると、処理対象物自体に浮力が生じることが要因の一つと考えられる。また搬送コンベヤ自体も処理水中に沈降して走行することになるため、搬送コンベヤ自体も浮力を受け、少なくとも処理水に漬かっている搬送コンベヤ部分には、浮上するような付勢力が作用し、処理対象物の倒れ込み傾向をより助長することになる。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
【0005】
また、このような下り傾斜移送に伴う処理対象物の倒れ込みを危惧したことから、搬送コンベヤを下方に沈めることなく、浸漬槽を形成するという思想も案出されている（例えば特許文献２参照）。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
【0006】
なお、特許文献２は、特許文献１から十数年後の出願であることを考慮すると、搬送コンベヤを下方に沈めて浸漬槽を形成することが、当業者において極めて困難であることを裏付けるものと言える。もちろん、処理水を散水して処理対象物を熱処理することに加え、更に処理対象物の底部も処理水に浸漬して、散水・浸漬併用で殺菌処理する方が効率良く熱処理が行えることは明らかである。そのため本願発明では、どのようにしたら搬送コンベヤを確実に通常搬送経路よりも低い位置（高さ）に沈めて浸漬槽が実機として構成できるのかを案出したものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特公昭５４－７０５号公報
【特許文献2】実開平２－３１８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、このような背景を認識してなされたものであって、処理対象物に処理水を散布する通常搬送経路から幾らか低い位置に搬送コンベヤを確実に沈めて浸漬槽を形成する構成を、シンプルな構成の下に、具体的に実機として実現できるようにした新規なパストライザの開発を技術課題としたものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
すなわち請求項１記載のパストライザは、
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であることを特徴として成るものである。
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であることを特徴として成るものである。
【0010】
また請求項２記載のパストライザは、前記請求項１記載の要件に加え、
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴として成るものである。
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴として成るものである。
【0011】
また請求項３記載のパストライザは、前記請求項１または２記載の要件に加え、
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
【0012】
また請求項４記載のパストライザは、前記請求項３記載の要件に加え、
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
【発明の効果】
【0013】
まず請求項１または２記載の発明によれば、搬送経路の少なくとも一部に、通常搬送経路より低い位置となる浸漬経路が設けられ、この浸漬経路では、処理対象物に散水が行われることに加え、処理水に漬けた熱伝達も行われる。従って、処理対象物への熱処理は、処理対象物の側面だけでなく、処理水に漬かった底部も伝熱面として利用することができ、極めて効率よく、処理水の熱を処理対象物に伝達することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
また本発明によれば、搬送コンベヤを構成する複数のリンク要素が樹脂製の部材で形成され、且つこのリンク要素を幅方向において接続する連結ピンが金属製の部材で形成され、当該構成を水中安定化構造として含むものである。すなわち、この種の連結ピンは、従来、樹脂製素材で形成されるのが一般的であったが、この連結ピンを金属製の素材で形成することにより、搬送コンベヤの重量を増加させ、処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に水中に沈降させて走行できるようにしたものである。従って、本発明によれば、極めてシンプルな構成の下に水中安定化構造を実現することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
また本発明によれば、搬送コンベヤを構成する複数のリンク要素が樹脂製の部材で形成され、且つこのリンク要素を幅方向において接続する連結ピンが金属製の部材で形成され、当該構成を水中安定化構造として含むものである。すなわち、この種の連結ピンは、従来、樹脂製素材で形成されるのが一般的であったが、この連結ピンを金属製の素材で形成することにより、搬送コンベヤの重量を増加させ、処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に水中に沈降させて走行できるようにしたものである。従って、本発明によれば、極めてシンプルな構成の下に水中安定化構造を実現することができる。
【0014】
また請求項３記載の発明によれば、浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーを設け、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーを設けるため、これら双方のテンショナーによって浸漬槽において処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に沈降状態で走行させることができ、走行中の例えば浮力による浮き上がりや、水面の波立ちによる揺れなどを抑制することができる。
【0015】
また請求項４記載の発明によれば、浸漬経路の前後に設けられるテンショナーと対を成すように、浸漬導入傾斜路の前部と、浸漬退出傾斜路の後部とに搬送軌道を維持する支持部材が設けられるため、浸漬経路において処理水中を走行する搬送コンベヤの搬送軌道をより積極的に安定化させることができ、浸漬経路における処理対象物の倒れ込みをより確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明のパストライザを骨格的に示す側面図である。
【図2】同上パストライザの全体構成を示す説明図である。
【図3】処理対象物を載せて搬送する搬送コンベヤを示す側面図及び平面図（ａ）、並びにターンスプロケットを示す斜視図（ｂ）である。
【図4-1】浸漬アリの殺菌処理と、浸漬ナシの殺菌処理とにおいて品温データを比較して示すグラフである。
【0017】
本発明を実施するための形態は、以下の実施例に述べるものをその一つとするとともに、更にその技術思想内において改良し得る種々の手法をも含むものである。
【0018】
本発明のパストライザ１は、処理対象物Ｔを載せて搬送する搬送装置２の少なくとも一部を、処理水Ｗが散水される通常の搬送経路（これを通常搬送経路または常高経路としＲ０の符号を付す）よりも低い位置に形成し（ここを浸漬経路Ｒ１とする）、この浸漬経路Ｒ１において浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに、処理対象物Ｔの底部を漬けるようにしたものである。このため浸漬経路Ｒ１を通過する処理対象物Ｔは、上方から散水される処理水Ｗと、底部に漬かった処理水Ｗとによる熱処理、つまり散水と浸漬とによる双方の熱処理を受けるものである。また、そのため本発明のパストライザは、散水・浸漬併用のパストライザとも称されることがある。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
【0019】
パストライザ１は、上述したように例えば飲料を充填・密封した缶やペットボトル等を処理対象物Ｔとし、このものに加熱処理ないしは冷却処理を施して、飲料の殺菌等の安定化処理を行う設備装置である。このパストライザ１は、幅１．０～２．３ｍ、長さ数ｍ～十数ｍ程度の工場設備であり、一例として図１・図２に示すように、大別してペットボトル等の処理対象物Ｔを搬送する搬送系の装置と、処理媒体となる処理水Ｗの供給系装置とを具え、処理水Ｗの供給系装置は、搬送系の装置（搬送経路）を上下から挟むように設けられている。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
【0020】
搬送装置２は、容器等の処理対象物Ｔを安定的に微速（例えば１分間に２５０ｍｍ～１０００ｍｍ）で搬送すべく、平滑な搬送面を有する搬送コンベヤ２０を具えるものである。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
【0021】
処理対象物Ｔは、搬送装置２による搬送を受けながら、その搬送位置に応じて受ける実質的な処理、つまりパストライザ１によって処理対象物Ｔが受ける処理温度が異なるものであり、以下、これについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
【0022】
昇温ゾーンＺ１は、処理対象物Ｔの温度（製品温度）を、例えば常温状態から目的の殺菌温度まで徐々に上昇させて行く処理ゾーンであり、ここでは更に三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一予備加熱区間Ｚ１１、第二予備加熱区間Ｚ１２、加熱区間Ｚ１３とする。なお、区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４とが設けられており、これらを区別して示す場合には、第一予備加熱区間Ｚ１１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ａ」、「４Ａ」とする。また、第二予備加熱区間Ｚ１２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｂ」、「４Ｂ」とする。また、加熱区間Ｚ１３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｃ」、「４Ｃ」とする。
【0023】
殺菌ゾーンＺ２は、昇温ゾーンＺ１において目的の殺菌温度まで上昇させた処理対象物Ｔを、適宜の時間、当該温度に維持して、実質的な殺菌を行う処理ゾーンであり、ここでは二つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一殺菌区間Ｚ２１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｄ」、「４Ｄ」とする。また、第二殺菌区間Ｚ２２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｅ」、「４Ｅ」とする。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
【0024】
冷却ゾーンＺ３は、実質的な殺菌を終えた処理対象物Ｔを、常温程度まで徐々に冷まして行く処理ゾーンであり、ここでは三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から、第一徐冷区間Ｚ３１、第二徐冷区間Ｚ３２、冷却区間Ｚ３３とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一徐冷区間Ｚ３１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｆ」、「４Ｆ」とする。また、第二徐冷区間Ｚ３２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｇ」、「４Ｇ」とする。また、冷却区間Ｚ３３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｈ」、「４Ｈ」とする。
【0025】
各区間における処理水Ｗの作用温度は、一例として図中に示した通りであり、各ノズル装置３Ａ～３Ｈの上方に示した数値が、各ノズル装置３Ａ～３Ｈからスプレーされる処理水Ｗの温度の一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
【0026】
また、処理対象物Ｔは、このような区間を通過することに伴い、温度が刻々と変化するものであり、以下、この製品温度の変化の一例について説明しておく。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。
なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。
なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
【0027】
なお、パストライザ１（搬送装置２）の各処理ゾーンを構成する区間の数は、適宜、増減させることが可能である。具体的には、処理対象物Ｔのサイズや性状、あるいは殺菌温度・殺菌時間等によって適宜増減し得るものであり、例えば昇温ゾーンＺ１を一つの予備加熱区間と加熱区間との二区間で構成することが考えられるし、あるいは殺菌ゾーンＺ２を三つの殺菌区間で構成すること等も考えられる。
【0028】
次に、ノズル装置３について説明する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0029】
次に、処理水タンク４について説明する。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
【0030】
また、このような循環利用にあたり、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留・回収された処理水Ｗが、目的の温度よりも低いまたは高いことがあり得る。このため各処理水タンク４Ａ～４Ｈには、貯留した処理水Ｗを目的の温度に加熱するための加温装置５と、目的の温度に低下させるための冷却装置６とが設けられる。なお、これら加温装置５と冷却装置６とを処理水タンク４Ａ～４Ｈごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0031】
このような加温装置５（５Ａ～５Ｈ）としては、例えば図示を省略するボイラーから供給される蒸気Ｓを、各処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に吹き込むことによって加温を図る手法が挙げられる。この場合、一例として前記処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に、蒸気Ｓの吹出し用の諸装置を配置して、蒸気Ｓの熱により処理水Ｗの加温を図る。
【0032】
一方、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗを冷却する冷却装置６（６Ａ～６Ｈ）としては、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに、図示を省略する冷却水源からの配管を接続する手法が挙げられる。この場合、処理水Ｗの温度を下げるには、例えば当該配管中に設けたポンプ（図示略）を稼働させて、冷却水源から冷却水を処理水タンク４に導入し、適宜の温度に調整する。なお、冷却水としては、例えば水道水（上水）が挙げられる。
【0033】
次に、上述した処理水タンク４からノズル装置３に処理水Ｗを供給する経路について説明する。各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗは、上述したように、その温度に応じてスプレーすべきノズル装置３の区間を選択してスプレーするように構成されており、これは言わば処理水Ｗを循環使用する形態である。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
【0034】
また、本実施例では別の相互循環も構成されている。具体的には、昇温ゾーンＺ１の第二予備加熱区間Ｚ１２と、冷却ゾーンＺ３の第一徐冷区間Ｚ３１との相互循環である。より詳細には、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗが、約４８℃となり、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗが、約５０℃となり、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
【0035】
また、本実施例では、回収した処理水Ｗを同一区間内のノズル装置３に戻すように移送する循環利用も行っており、これを自己循環と称し、上記相互循環と区別している。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
【0036】
以下、本発明の特徴的構成である浸漬経路Ｒ１について説明する。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
【0037】
以下、前記水中安定化構造について更に説明する。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
【0038】
次に、本発明において水中安定化構造を構成する各要素について更に具体的に説明する。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本発明では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本発明では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
【0039】
因みに搬送コンベヤ２０の素材が何であっても（例えば樹脂製または金属製であろうが）、搬送コンベヤ２０が処理水中を沈降状態で走行する際には、水の抵抗を受け、これは一般的には水中での走行性を低下ないしは不安定化させるように作用する。しかしながら、金属製部材の方が樹脂製部材よりも重量が大きいため、水中走行にあたり水の抵抗を受けても、金属製の方が水中での走行がより安定するものと考えられる。これは同じ水流を受けた場合、軽量物よりも重量物の方が流され難いことと同様である。従って、このような意味合いからすれば、構成部材の重量を増加させるという水中安定化構造により、水の抵抗を抑制する作用も奏すると言える。
【0040】
また、水中安定化構造を構成する他の要素として、処理水中に没する浸漬経路Ｒ１、換言すれば浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２を含む浸漬経路Ｒ１の搬送軌道を積極的に維持する構成が挙げられる。具体的には、例えば図１の拡大図に示すように、浸漬導入傾斜路Ｒ１１と浸漬経路Ｒ１との間（屈曲部）にテンショナー３４を設け、且つ浸漬経路Ｒ１と浸漬退出傾斜路Ｒ１２との間（屈曲部）にテンショナー３４を設けるものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
【0041】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１の前後の傾斜角度、すなわち浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２の傾斜角度をともに緩やかな角度に抑える構成が挙げられ、具体的には水平面に対し５度以下の傾斜角度が好ましい（図１の拡大図参照）。これは上記傾斜角度が小さいほど、搬送中の処理対象物Ｔの傾き角度が小さく抑えられ、処理対象物Ｔを転倒し難くさせるためである。
【0042】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１において処理対象物Ｔの浸漬深度（浸漬比率）を抑える構成が挙げられる。具体的には処理対象物Ｔの全高さ寸法に対し、浸漬比率を底部から２０％、好ましくは１５％、より好ましくは１３％の深度に抑える構成が挙げられる。これは処理対象物Ｔの浸漬比率が小さくなれば、処理水Ｗに漬かる処理対象物Ｔの浮力も抑制でき、処理対象物Ｔとしても転倒し難くなるためである。因みに、処理対象物Ｔが３５０ミリリットルの飲料缶である場合、全高寸法は約１２０ｍｍとなり、浸漬深度は１５ｍｍ程に設定され、このときの浸漬比率は、
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
【0043】
本発明のパストライザ１は、以上のような基本構造を有するものであって、以下、このようなパストライザ１を適用して処理対象物Ｔを加熱殺菌する際の基本的な処理態様について説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理が成される。以下、処理ゾーンごとに説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理が成される。以下、処理ゾーンごとに説明する。
【0044】
（１）昇温ゾーン
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
【0045】
（２）殺菌ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
【0046】
ここで本実施例では、上述したように処理対象物Ｔは、当該殺菌ゾーンＺ２を通過する間、底部が浸漬槽３３に漬かるように搬送され、結果、散水による熱処理（殺菌処理）のみならず、浸漬による熱処理も併せて施される。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
【0047】
以下、散水・浸漬併用による熱処理（熱伝達）が良好であることを図４－１・図４－２に基づいて示す。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
【0048】
また、処理対象物Ｔたる飲料缶は、第１槽から第７槽（第８槽）を通過する間に、一連の熱処理が行われ、実質的な殺菌処理は、第４槽と第５槽で実施され、ここが上記図２の殺菌ゾーンＺ２に該当する。そして、これら第４槽及び第５槽の両区間において、飲料缶を６５℃（これが殺菌温度）で１０分保持する設定で、実質的な殺菌処理を行うものである。なお、処理対象物Ｔの浸漬は、ほぼ全ての処理区間、具体的には第１槽～第７槽で行われている。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
【0049】
図４－１・図４－２中に示す品温（処理対象物Ｔ）のデータは、太い実線が浸漬アリ（散水・浸漬併用）を示しており、細い実線が浸漬ナシ（散水単独）を示している。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
【0050】
（３）冷却ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
【0051】
本実施例では、上述したように昇温ゾーンＺ１と冷却ゾーンＺ３との間で処理水Ｗを相互循環させている。具体的には、まず一つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
【0052】
このような相互循環を行うのは、第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗの温度が、第二徐冷区間Ｚ３２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗの温度が、第一予備加熱区間Ｚ１１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているためである。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
【0053】
〔他の実施例〕
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
【0054】
また、先に述べた基本の実施例では、昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を、ともに三つの区間で形成したが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではない。具体的には、例えば昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を四つ以上の区間で形成することも可能であるし、あるいは昇温ゾーンＺ１を二つの区間で形成することも可能である。また、上述した基本の実施例では、相互循環を二組形成したが、特に上記区間数などに応じて、相互循環は一組だけ設けるようにしても構わない。
【0055】
また、先に述べた基本の実施例では、処理対象物Ｔを搬送する搬送コンベヤ２０（搬送装置２）として、浸漬槽３３の処理水中に没入させた際、浮力が生じる樹脂製のコンベヤ（ネットコンベヤ）を適用し、これを浸漬経路Ｒ１において安定沈下状態とする水中安定化構造について説明した。しかしながら、搬送コンベヤ２０としては、円形断面のロッド本体を多数、搬送方向に並設状態で配設した回転ロッドコンベヤを適用することも可能であるが、これは本発明に関連する参考例である。なお、回転ロッドコンベヤを適用した場合、多数本のロッド本体の全てまたは一部をステンレス素材等の金属素材で構成し、水中安定化構造とすることもできる。因みに、上記回転ロッドコンベヤについては、本出願人が既に特許取得に及んでいる特許第７０８２３８２号、特許第７１６４１２０号に詳細に記載されており、この記載を援用する。
【符号の説明】
【0056】
１ パストライザ
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
【手続補正2】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であることを特徴とするパストライザ。
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であることを特徴とするパストライザ。
【請求項2】
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴とする請求項１記載のパストライザ。
【請求項3】
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１または２記載のパストライザ。
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１または２記載のパストライザ。
【請求項4】
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項３記載のパストライザ。
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項３記載のパストライザ。
【手続補正書】
【提出日】2024-12-04
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば飲料などを充填・密封した容器を処理対象物とし、このものに加熱殺菌処理を行うパストライザに関するものであって、特に処理水による熱処理効率を向上させるべく、処理水を上方から処理対象物にシャワーリングする散水手法と、処理水を適宜貯留した貯留槽に処理対象物の底部を漬ける浸漬方式とを併用できるようにした新規なパストライザに係るものである。
【背景技術】
【0002】
一般にパストライザは、例えば飲料が充填・密封された缶や容器等を処理対象物とし、これを搬送しながら、その上方から処理ゾーン毎に適宜の温度の処理水を処理対象物に散水して、処理対象物を一定の時間・一定の高温雰囲気に保ち、加熱殺菌処理を行っている。具体的には、まず昇温ゾーンで処理水によって処理対象物を昇温させ、その後、殺菌ゾーンで処理水によって昇温した所定温度を一定時間維持するようにし、更にその後、冷却ゾーンで低温の処理水を散水して、処理対象物を適宜の温度まで冷却している。
【0003】
ところで、このようなパストライザにおいては、処理室内で処理対象物を移送する搬送コンベヤを、散水が行われる通常搬送経路（常高経路）よりも低い位置（高さ）に沈めて処理対象物の底部を処理水に漬け（浸漬させ）、散水と浸漬とにより効率的に殺菌処理するという思想はあった（例えば特許文献１参照）。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
ここで、上記特許文献１で搬送コンベヤを通常搬送経路より低い位置に沈めるにあたっては、通常搬送経路から浸漬経路（散水・浸漬併用経路）に移送する際、通常は搬送コンベヤを進行方向に対し下り傾斜状態に構成し、浸漬ゾーンに移行させる構成が採用されている。
しかしながら、このような下り傾斜移送を実施する構成は、観念的には充分に理解できるものの、実際に実機として行う場合には、当然ながら、処理対象物が正立姿勢から傾斜姿勢になるため、下り傾斜移送の際、処理対象物の転倒（完全な倒れ込み）が懸念される。
【0004】
この転倒の原因は、処理対象物を移送している搬送コンベヤ自体が単に斜めになるというだけでなく、処理対象物の底部が、浸漬槽内に貯留された処理水中に漬かると、処理対象物自体に浮力が生じることが要因の一つと考えられる。また搬送コンベヤ自体も処理水中に沈降して走行することになるため、搬送コンベヤ自体も浮力を受け、少なくとも処理水に漬かっている搬送コンベヤ部分には、浮上するような付勢力が作用し、処理対象物の倒れ込み傾向をより助長することになる。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
加えて、浸漬ゾーンは浸漬槽ではあるものの、上方からの処理水の散水（噴出）は継続されているから、浸漬槽の処理水表面は当然ながら静水状態（いわゆる静水面）とはならず、波立ち状態または幾らか揺れた状態になり、この波（波力）が搬送コンベヤや、この上に載置された処理対象物を揺らすように作用し（悪影響を及ぼし）、このような波力も処理対象物を転倒させる傾向を増長させるものであった。
そのため、処理対象物の底部を処理水に浸漬させるべく、搬送コンベヤを下り傾斜状態に設けることは、アイデアとしては案出されていても、実機としては実現されていなかった。
【0005】
また、このような下り傾斜移送に伴う処理対象物の倒れ込みを危惧したことから、搬送コンベヤを下方に沈めることなく、浸漬槽を形成するという思想も案出されている（例えば特許文献２参照）。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
この特許文献２では、浸漬槽（散水・浸漬併用経路）を構成するにあたり、搬送コンベヤの両側部に堰の作用を担う側壁を立設し、この側壁によって搬送コンベヤ上から周囲に落下する処理水を一時的に食い止め、搬送コンベヤ上に浸漬槽を形成するというものである。
しかしながら、特許文献２では、搬送コンベヤの前後（搬送方向の前後）は、処理対象物を移送するために開口されているため、この前後の開口部から搬送コンベヤ上の処理水が勢い良く流れ落ちてしまう。従って、この特許文献２でも、浸漬・併用経路は、実質的には槽（浸漬槽）として機能せず、実機として実現することはできなかった。すなわち、特許文献２も、アイデアとしては案出されていても、実機として浸漬槽を形成することは極めて困難であった。
【0006】
なお、特許文献２は、特許文献１から十数年後の出願であることを考慮すると、搬送コンベヤを下方に沈めて浸漬槽を形成することが、当業者において極めて困難であることを裏付けるものと言える。もちろん、処理水を散水して処理対象物を熱処理することに加え、更に処理対象物の底部も処理水に浸漬して、散水・浸漬併用で殺菌処理する方が効率良く熱処理が行えることは明らかである。そのため本願発明では、どのようにしたら搬送コンベヤを確実に通常搬送経路よりも低い位置（高さ）に沈めて浸漬槽が実機として構成できるのかを案出したものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特公昭５４－７０５号公報
【特許文献2】実開平２－３１８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、このような背景を認識してなされたものであって、処理対象物に処理水を散布する通常搬送経路から幾らか低い位置に搬送コンベヤを確実に沈めて浸漬槽を形成する構成を、シンプルな構成の下に、具体的に実機として実現できるようにした新規なパストライザの開発を技術課題としたものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
すなわち請求項１記載のパストライザは、
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であり、
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴として成るものである。
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であり、
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴として成るものである。
【0010】
また請求項２記載のパストライザは、前記請求項１記載の要件に加え、
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴として成るものである。
【0011】
また請求項３記載のパストライザは、前記請求項２記載の要件に加え、
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴として成るものである。
そして、これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
【発明の効果】
【0012】
まず請求項１記載の発明によれば、搬送経路の少なくとも一部に、通常搬送経路より低い位置となる浸漬経路が設けられ、この浸漬経路では、処理対象物に散水が行われることに加え、処理水に漬けた熱伝達も行われる。従って、処理対象物への熱処理は、処理対象物の側面だけでなく、処理水に漬かった底部も伝熱面として利用することができ、極めて効率よく、処理水の熱を処理対象物に伝達することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
また本発明によれば、搬送コンベヤを構成する複数のリンク要素が樹脂製の部材で形成され、且つこのリンク要素を幅方向において接続する連結ピンが金属製の部材で形成され、当該構成を水中安定化構造として含むものである。すなわち、この種の連結ピンは、従来、樹脂製素材で形成されるのが一般的であったが、この連結ピンを金属製の素材で形成することにより、搬送コンベヤの重量を増加させ、処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に水中に沈降させて走行できるようにしたものである。従って、本発明によれば、極めてシンプルな構成の下に水中安定化構造を実現することができる。
また、浸漬経路では水中安定化構造を具えるため、例えば処理対象物が、浸漬経路を移送される間に幾らか傾いても、処理対象物が完全に倒れ込んでしまうまでには至らない。すなわち、水中安定化構造によって、搬送コンベヤを確実に処理水中に沈めた状態で走行させることができ、また処理槽において処理対象物の底部を確実に処理水に浸漬させることができるため、浸漬経路による搬送中、処理対象物が幾らか傾いても、完全に倒れ込ませることなく搬送することができる。
また本発明によれば、搬送コンベヤを構成する複数のリンク要素が樹脂製の部材で形成され、且つこのリンク要素を幅方向において接続する連結ピンが金属製の部材で形成され、当該構成を水中安定化構造として含むものである。すなわち、この種の連結ピンは、従来、樹脂製素材で形成されるのが一般的であったが、この連結ピンを金属製の素材で形成することにより、搬送コンベヤの重量を増加させ、処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に水中に沈降させて走行できるようにしたものである。従って、本発明によれば、極めてシンプルな構成の下に水中安定化構造を実現することができる。
【0013】
また請求項２記載の発明によれば、浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーを設け、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーを設けるため、これら双方のテンショナーによって浸漬槽において処理水中を走行する搬送コンベヤを確実に沈降状態で走行させることができ、走行中の例えば浮力による浮き上がりや、水面の波立ちによる揺れなどを抑制することができる。
【0014】
また請求項３記載の発明によれば、浸漬経路の前後に設けられるテンショナーと対を成すように、浸漬導入傾斜路の前部と、浸漬退出傾斜路の後部とに搬送軌道を維持する支持部材が設けられるため、浸漬経路において処理水中を走行する搬送コンベヤの搬送軌道をより積極的に安定化させることができ、浸漬経路における処理対象物の倒れ込みをより確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明のパストライザを骨格的に示す側面図である。
【図2】同上パストライザの全体構成を示す説明図である。
【図3】処理対象物を載せて搬送する搬送コンベヤを示す側面図及び平面図（ａ）、並びにターンスプロケットを示す斜視図（ｂ）である。
【図4-1】浸漬アリの殺菌処理と、浸漬ナシの殺菌処理とにおいて品温データを比較して示すグラフである。
【0016】
本発明を実施するための形態は、以下の実施例に述べるものをその一つとするとともに、更にその技術思想内において改良し得る種々の手法をも含むものである。
【0017】
本発明のパストライザ１は、処理対象物Ｔを載せて搬送する搬送装置２の少なくとも一部を、処理水Ｗが散水される通常の搬送経路（これを通常搬送経路または常高経路としＲ０の符号を付す）よりも低い位置に形成し（ここを浸漬経路Ｒ１とする）、この浸漬経路Ｒ１において浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに、処理対象物Ｔの底部を漬けるようにしたものである。このため浸漬経路Ｒ１を通過する処理対象物Ｔは、上方から散水される処理水Ｗと、底部に漬かった処理水Ｗとによる熱処理、つまり散水と浸漬とによる双方の熱処理を受けるものである。また、そのため本発明のパストライザは、散水・浸漬併用のパストライザとも称されることがある。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
以下、本発明のパストライザ１について説明するが、まずパストライザ１の一般的な基本構成から説明する。
【0018】
パストライザ１は、上述したように例えば飲料を充填・密封した缶やペットボトル等を処理対象物Ｔとし、このものに加熱処理ないしは冷却処理を施して、飲料の殺菌等の安定化処理を行う設備装置である。このパストライザ１は、幅１．０～２．３ｍ、長さ数ｍ～十数ｍ程度の工場設備であり、一例として図１・図２に示すように、大別してペットボトル等の処理対象物Ｔを搬送する搬送系の装置と、処理媒体となる処理水Ｗの供給系装置とを具え、処理水Ｗの供給系装置は、搬送系の装置（搬送経路）を上下から挟むように設けられている。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
すなわち、パストライザ１は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
なお、処理対象物Ｔとしては、上述した缶やペットボトルの他、ビンや紙パックなども適用し得る。また、充填物としても、必ずしも飲料に限定されるものではなく、調味料やスープ類（液状食品）などを充填する場合がある。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。
【0019】
搬送装置２は、容器等の処理対象物Ｔを安定的に微速（例えば１分間に２５０ｍｍ～１０００ｍｍ）で搬送すべく、平滑な搬送面を有する搬送コンベヤ２０を具えるものである。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
搬送コンベヤ２０は、一例として図３に示すように、処理水Ｗの流下が許容できるように、樹脂製のリンク要素２１を巻回状に組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される（いわゆるチェーン状）。
もちろん、搬送コンベヤ２０は、上記のように適宜の幅寸法を有するように形成されるから、一例として上記図３（ａ）に示すように、リンク要素２１の前後（搬送方向における前後）の連結部２１ａが、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、重なった連結部２１ａ同士を幅方向に貫通する回動自在の連結ピン２２で接続して、全体的に通水可能なネットコンベヤ状に構成される。
また、搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２３を具えるとともに、下流側に駆動スプロケット２４を具える。なお、ターンスプロケット２３と駆動スプロケット２４とは、搬送コンベヤ２０の幅寸法に応じて、複数設けられており、側面から視て同じ幅方向位置に並ぶリンク要素２１が同期して走行するように構成されている（図３（ｂ）参照）。
【0020】
処理対象物Ｔは、搬送装置２による搬送を受けながら、その搬送位置に応じて受ける実質的な処理、つまりパストライザ１によって処理対象物Ｔが受ける処理温度が異なるものであり、以下、これについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
パストライザ１は、一例として上記図２に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。
【0021】
昇温ゾーンＺ１は、処理対象物Ｔの温度（製品温度）を、例えば常温状態から目的の殺菌温度まで徐々に上昇させて行く処理ゾーンであり、ここでは更に三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一予備加熱区間Ｚ１１、第二予備加熱区間Ｚ１２、加熱区間Ｚ１３とする。なお、区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４とが設けられており、これらを区別して示す場合には、第一予備加熱区間Ｚ１１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ａ」、「４Ａ」とする。また、第二予備加熱区間Ｚ１２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｂ」、「４Ｂ」とする。また、加熱区間Ｚ１３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｃ」、「４Ｃ」とする。
【0022】
殺菌ゾーンＺ２は、昇温ゾーンＺ１において目的の殺菌温度まで上昇させた処理対象物Ｔを、適宜の時間、当該温度に維持して、実質的な殺菌を行う処理ゾーンであり、ここでは二つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一殺菌区間Ｚ２１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｄ」、「４Ｄ」とする。また、第二殺菌区間Ｚ２２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｅ」、「４Ｅ」とする。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。
【0023】
冷却ゾーンＺ３は、実質的な殺菌を終えた処理対象物Ｔを、常温程度まで徐々に冷まして行く処理ゾーンであり、ここでは三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から、第一徐冷区間Ｚ３１、第二徐冷区間Ｚ３２、冷却区間Ｚ３３とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一徐冷区間Ｚ３１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｆ」、「４Ｆ」とする。また、第二徐冷区間Ｚ３２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｇ」、「４Ｇ」とする。また、冷却区間Ｚ３３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｈ」、「４Ｈ」とする。
【0024】
各区間における処理水Ｗの作用温度は、一例として図中に示した通りであり、各ノズル装置３Ａ～３Ｈの上方に示した数値が、各ノズル装置３Ａ～３Ｈからスプレーされる処理水Ｗの温度の一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ～３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ～４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ～４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ～３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ～４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。
【0025】
また、処理対象物Ｔは、このような区間を通過することに伴い、温度が刻々と変化するものであり、以下、この製品温度の変化の一例について説明しておく。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。
なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
処理対象物Ｔは、例えば図２に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。
なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。
【0026】
なお、パストライザ１（搬送装置２）の各処理ゾーンを構成する区間の数は、適宜、増減させることが可能である。具体的には、処理対象物Ｔのサイズや性状、あるいは殺菌温度・殺菌時間等によって適宜増減し得るものであり、例えば昇温ゾーンＺ１を一つの予備加熱区間と加熱区間との二区間で構成することが考えられるし、あるいは殺菌ゾーンＺ２を三つの殺菌区間で構成すること等も考えられる。
【0027】
次に、ノズル装置３について説明する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
ノズル装置３は、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、一例として上記図２に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に視て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0028】
次に、処理水タンク４について説明する。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ～３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、その温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に供給される（いわゆる循環利用）。
【0029】
また、このような循環利用にあたり、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留・回収された処理水Ｗが、目的の温度よりも低いまたは高いことがあり得る。このため各処理水タンク４Ａ～４Ｈには、貯留した処理水Ｗを目的の温度に加熱するための加温装置５と、目的の温度に低下させるための冷却装置６とが設けられる。なお、これら加温装置５と冷却装置６とを処理水タンク４Ａ～４Ｈごとに区別する場合には、末尾符号Ａ～Ｈを付して区別する。
【0030】
このような加温装置５（５Ａ～５Ｈ）としては、例えば図示を省略するボイラーから供給される蒸気Ｓを、各処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に吹き込むことによって加温を図る手法が挙げられる。この場合、一例として前記処理水タンク４Ａ～４Ｈ内に、蒸気Ｓの吹出し用の諸装置を配置して、蒸気Ｓの熱により処理水Ｗの加温を図る。
【0031】
一方、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗを冷却する冷却装置６（６Ａ～６Ｈ）としては、各処理水タンク４Ａ～４Ｈに、図示を省略する冷却水源からの配管を接続する手法が挙げられる。この場合、処理水Ｗの温度を下げるには、例えば当該配管中に設けたポンプ（図示略）を稼働させて、冷却水源から冷却水を処理水タンク４に導入し、適宜の温度に調整する。なお、冷却水としては、例えば水道水（上水）が挙げられる。
【0032】
次に、上述した処理水タンク４からノズル装置３に処理水Ｗを供給する経路について説明する。各処理水タンク４Ａ～４Ｈに貯留された処理水Ｗは、上述したように、その温度に応じてスプレーすべきノズル装置３の区間を選択してスプレーするように構成されており、これは言わば処理水Ｗを循環使用する形態である。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、約３３℃となり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、約３５℃となり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。
【0033】
また、本実施例では別の相互循環も構成されている。具体的には、昇温ゾーンＺ１の第二予備加熱区間Ｚ１２と、冷却ゾーンＺ３の第一徐冷区間Ｚ３１との相互循環である。より詳細には、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗが、約４８℃となり、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗが、約５０℃となり、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。
【0034】
また、本実施例では、回収した処理水Ｗを同一区間内のノズル装置３に戻すように移送する循環利用も行っており、これを自己循環と称し、上記相互循環と区別している。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。
【0035】
以下、本発明の特徴的構成である浸漬経路Ｒ１について説明する。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
本実施例では、一例として図１・図２に示すように、搬送経路の少なくとも一部を、散水が行われる通常搬送経路Ｒ０に対し、幾らか低い位置を走行するように形成し、ここで処理対象物Ｔの底部を処理水中に漬けるものである。なお、この経路を浸漬経路Ｒ１とするものであり、この浸漬経路Ｒ１では、上記のように搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３内に貯留された処理水中を走行するように形成される。そのため処理対象物Ｔが浸漬経路Ｒ１を通過する際には、処理対象物Ｔは上方から処理水Ｗが散水されることに加え、底部が浸漬槽３３に貯留された処理水Ｗに漬かりながら搬送される。
また、このため本発明では、処理水中に漬かる処理対象物Ｔと搬送コンベヤ２０とを処理水中に安定して沈下させた状態（これを安定沈下状態と称している）とする水中安定化構造を具える。
なお、浸漬経路Ｒ１の前後は、ともに傾斜状態に形成されるものであり、通常搬送経路Ｒ０から浸漬経路Ｒ１に至る傾斜経路を浸漬導入傾斜路Ｒ１１とし、浸漬経路Ｒ１から通常搬送経路Ｒ０に至る傾斜経路を浸漬退出傾斜路Ｒ１２とする。因みに、これら傾斜経路を通過する際には、処理対象物Ｔも傾斜面に応じて幾らか傾いた姿勢で搬送される。
【0036】
以下、前記水中安定化構造について更に説明する。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
水中安定化構造は、処理水中に沈み込んで走行する搬送コンベヤ２０と、底部が処理水Ｗに浸漬する処理対象物Ｔとを、安定沈下状態に維持する構造であり、端的にはこれらが処理水中に漬かるために生じる浮力や揺れ（あばれ）を抑制し、処理対象物Ｔの完全な倒れ込みを防止する構造を指す。換言すれば、水中安定化構造によって、処理水中を走行する搬送コンベヤ２０と、処理水中に底部が沈む処理対象物Ｔとが、処理水Ｗの浮力や水面の波立ち（波力）を受けても、浮かび上がることなく、また揺れ動いてしまう（あばれる）ことなく、処理対象物Ｔを安定して水中搬送できるようにしたものである。
【0037】
次に、本発明において水中安定化構造を構成する各要素について更に具体的に説明する。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本発明では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
水中安定化構造を構成する一構成要素として、搬送コンベヤ２０における構成部材の重量を増加させ、水中走行する搬送コンベヤ２０の浮力を抑制する構成が挙げられる（構成部材の重量増加）。
ここで従来の搬送コンベヤ２０は、構成部材であるリンク要素２１や連結ピン２２が樹脂製素材（プラスチック素材）で形成されるのが一般的であった。しかしながら、本発明では、多数のリンク要素２１を幅方向に接続する連結ピン２２をステンレス等の金属製部材で形成し、搬送コンベヤ２０の重量を増加させるようにしたものである。
これにより搬送コンベヤ２０が浸漬槽３３内で受ける浮力を抑制することができる。すなわち搬送コンベヤ２０が、浸漬槽３３に貯留した処理水中に沈んで行った際、処理水Ｗによる浮力を受けるが、この浮力に乱されることなく、また処理水Ｗの表面に、散水に伴う波立ちがあってもこの波立ち（波力）に耐え、確実に搬送コンベヤ２０を処理水中に沈み込ませ、処理水中を走行させることができるものである。そのため、浸漬導入傾斜路Ｒ１１において、処理対象物Ｔが幾らか前方（搬送方向進行側）に傾くようになっても、完全に倒れ込むまでには至らないものである。
【0038】
因みに搬送コンベヤ２０の素材が何であっても（例えば樹脂製または金属製であろうが）、搬送コンベヤ２０が処理水中を沈降状態で走行する際には、水の抵抗を受け、これは一般的には水中での走行性を低下ないしは不安定化させるように作用する。しかしながら、金属製部材の方が樹脂製部材よりも重量が大きいため、水中走行にあたり水の抵抗を受けても、金属製の方が水中での走行がより安定するものと考えられる。これは同じ水流を受けた場合、軽量物よりも重量物の方が流され難いことと同様である。従って、このような意味合いからすれば、構成部材の重量を増加させるという水中安定化構造により、水の抵抗を抑制する作用も奏すると言える。
【0039】
また、水中安定化構造を構成する他の要素として、処理水中に没する浸漬経路Ｒ１、換言すれば浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２を含む浸漬経路Ｒ１の搬送軌道を積極的に維持する構成が挙げられる。具体的には、例えば図１の拡大図に示すように、浸漬導入傾斜路Ｒ１１と浸漬経路Ｒ１との間（屈曲部）にテンショナー３４を設け、且つ浸漬経路Ｒ１と浸漬退出傾斜路Ｒ１２との間（屈曲部）にテンショナー３４を設けるものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
更に、上記テンショナー３４に加え、上記図１の拡大図に併せ示すように、通常搬送経路Ｒ０と浸漬導入傾斜路Ｒ１１との間（屈曲部）に支持部材３５を設け、且つ浸漬退出傾斜路Ｒ１２と通常搬送経路Ｒ０との間（屈曲部）に支持部材３５を設けることが好ましい。このように本実施例では、各経路の屈曲部にテンショナー３４と支持部材３５とを、対を成すように設けるものであり、これにより各経路の搬送軌道を積極的に維持している。すなわち各経路の屈曲部に設けたテンショナー３４と支持部材３５とにより、通常搬送経路Ｒ０から処理水中に没入するように下り傾斜状態に配される浸漬導入傾斜路Ｒ１１、そしてこれに続く、処理水中を没入状態で走行する浸漬経路Ｒ１、更には処理水中から浮上するように上り傾斜状態に配される浸漬退出傾斜路Ｒ１２を連続して構成する搬送コンベヤ２０に適宜の張力を付与し、これらの搬送軌道をより積極的に維持するものである。
【0040】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１の前後の傾斜角度、すなわち浸漬導入傾斜路Ｒ１１及び浸漬退出傾斜路Ｒ１２の傾斜角度をともに緩やかな角度に抑える構成が挙げられ、具体的には水平面に対し５度以下の傾斜角度が好ましい（図１の拡大図参照）。これは上記傾斜角度が小さいほど、搬送中の処理対象物Ｔの傾き角度が小さく抑えられ、処理対象物Ｔを転倒し難くさせるためである。
【0041】
更に、水中安定化構造を構成する更に他の要素として、浸漬経路Ｒ１において処理対象物Ｔの浸漬深度（浸漬比率）を抑える構成が挙げられる。具体的には処理対象物Ｔの全高さ寸法に対し、浸漬比率を底部から２０％、好ましくは１５％、より好ましくは１３％の深度に抑える構成が挙げられる。これは処理対象物Ｔの浸漬比率が小さくなれば、処理水Ｗに漬かる処理対象物Ｔの浮力も抑制でき、処理対象物Ｔとしても転倒し難くなるためである。因みに、処理対象物Ｔが３５０ミリリットルの飲料缶である場合、全高寸法は約１２０ｍｍとなり、浸漬深度は１５ｍｍ程に設定され、このときの浸漬比率は、
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
１５ｍｍ／１２０ｍｍ×１００＝１２．５％（＜１３％）
と算出される。
なお、本実施例では浸漬経路Ｒ１（浸漬槽３３）を、実質的な殺菌処理ゾーンＺ２のみに設けるようにしたが、熱処理の目的等に応じて、搬送経路（搬送コンベヤ２０）のほぼ全域にわたって設けるようにしても構わない。
【0042】
本発明のパストライザ１は、以上のような基本構造を有するものであって、以下、このようなパストライザ１を適用して処理対象物Ｔを加熱殺菌する際の基本的な処理態様について説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理が成される。以下、処理ゾーンごとに説明する。
処理対象物Ｔは、一例として図１・図２に示すように、搬送装置２（搬送コンベヤ２０）の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ～１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理が成される。以下、処理ゾーンごとに説明する。
【0043】
（１）昇温ゾーン
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、例えば上記図２に示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ～４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３～３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８～４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０～７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ～４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ａ～５Ｃによって適宜加温するものであり、処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ａ～６Ｃによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。
【0044】
（２）殺菌ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３～６４℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｄ・５Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。
【0045】
ここで本実施例では、上述したように処理対象物Ｔは、当該殺菌ゾーンＺ２を通過する間、底部が浸漬槽３３に漬かるように搬送され、結果、散水による熱処理（殺菌処理）のみならず、浸漬による熱処理も併せて施される。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
これは処理対象物Ｔに施す熱処理を効率的に行うためである。すなわち、散水のみによる熱処理では、処理対象物Ｔにおいて底部を除く表面（主に側面）が伝熱面となる。つまり、散水では主に処理対象物Ｔの側面が伝熱面となって、ここに触れながら流れ落ちる処理水Ｗによって処理対象物Ｔの熱処理が行われる。
これに対し、散水・浸漬併用では、処理対象物Ｔの側面に、散水された処理水Ｗが触れることに加え、浸漬経路Ｒ１において処理水Ｗに漬かった処理対象物Ｔの底部からも処理水Ｗの熱が伝わるため、効率よく処理対象物Ｔに熱を伝えることができる。
【0046】
以下、散水・浸漬併用による熱処理（熱伝達）が良好であることを図４－１・図４－２に基づいて示す。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
図４－１・図４－２は、飲料が充填された３５０ミリリットル缶を処理対象物Ｔとしたものであり、図中「浸漬アリ」が散水・浸漬併用による殺菌処理、図中「浸漬ナシ」が散水のみによる殺菌処理を示している。データとして示した温度は、飲料缶内の温度を測定した結果である。因みに、温度の測定は、安立計器株式会社 ＤＡＴＡ ＣＯＬＬＥＣＴＯＲ ＡＭ－７００２ ＴＹＰＥ Ｋを用いて行った。
【0047】
また、処理対象物Ｔたる飲料缶は、第１槽から第７槽（第８槽）を通過する間に、一連の熱処理が行われ、実質的な殺菌処理は、第４槽と第５槽で実施され、ここが上記図２の殺菌ゾーンＺ２に該当する。そして、これら第４槽及び第５槽の両区間において、飲料缶を６５℃（これが殺菌温度）で１０分保持する設定で、実質的な殺菌処理を行うものである。なお、処理対象物Ｔの浸漬は、ほぼ全ての処理区間、具体的には第１槽～第７槽で行われている。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
また、飲料缶が第１槽に入る際の入口温度は６℃であり、一連の熱処理を終えて第７槽から出てくる（第８槽に入る）際の出口温度は４０℃である。
【0048】
図４－１・図４－２中に示す品温（処理対象物Ｔ）のデータは、太い実線が浸漬アリ（散水・浸漬併用）を示しており、細い実線が浸漬ナシ（散水単独）を示している。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
そして、このデータから浸漬アリの方が、殺菌温度到達時間つまり品温が６５℃に達するまでのトータルの時間が短いことが確認でき、具体的には図４－２（ａ）に示すように、７分３０秒－７分５秒＝２５秒の短縮であった。
また浸漬アリの方が、長い時間、殺菌温度である６５℃を維持できることが確認でき、具体的には
１２分５０秒－１１分２５秒＝１分２５秒、長く維持することができた。
更に浸漬アリの方が、最高到達温度も高いことが分かり、具体的には
７０．９℃－７０．３℃＝０．６℃高いものであった。ここで浸漬ナシの最高到達温度は、上記のように７０．３℃であり、この温度に達する時間も浸漬アリの方が３５秒早かった。具体的には図４－２（ｂ）に示すように、
９分４５秒－９分１０秒＝３５秒の短縮であった。
更に、浸漬アリの方が、出口温度に到達するトータルの時間も短いことが確認でき、具体的には
２４分４５秒－２４分３５秒＝１０秒の短縮であった。
なお、図４－１・図４－２と図２とは、どちらも殺菌処理であるため、全体的な品温の温度推移としては同様の経過を辿るものであるが、処理対象物Ｔや条件が必ずしも同一ではないため、例えば槽内の温度等において、必ずしも一致しない点が存在する。
【0049】
（３）冷却ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
その後、処理対象物Ｔは、一例として上記図２に示すように、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ～４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９～５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４～３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９～３０℃程度となる。もちろん、ここでも各処理水タンク４Ｆ～４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度が、次のスプレーに供する温度よりも低い場合には、加温装置５Ｆ～５Ｈによって適宜加温するものであり、次のスプレーに供する温度よりも高い場合には、冷却装置６Ｆ～６Ｈによって適宜冷却するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。
【0050】
本実施例では、上述したように昇温ゾーンＺ１と冷却ゾーンＺ３との間で処理水Ｗを相互循環させている。具体的には、まず一つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
【0051】
このような相互循環を行うのは、第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗの温度が、第二徐冷区間Ｚ３２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗの温度が、第一予備加熱区間Ｚ１１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているためである。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加温装置５によって行われる蒸気Ｓによる加熱や、冷却装置６によって行われる上水等による冷却を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。
【0052】
〔他の実施例〕
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず上述した基本の実施例、特に図２に示す実施例では、殺菌ゾーンＺ２のみに浸漬槽３３を設ける構成例を示したが、浸漬槽３３は冷却ゾーンＺ３に設けることもできる。この場合、冷却ゾーンＺ３の上方から処理水Ｗのシャワーリングが施され、下方の浸漬槽３３では処理対象物Ｔの下部が処理水Ｗに漬かるため、処理対象物Ｔを効率的に冷却することができる。因みに図２に示す冷却ゾーンＺ３、とりわけ第一徐冷区間Ｚ３１～第二徐冷区間Ｚ３２に、浸漬槽３３を設ける際には、第一徐冷区間Ｚ３１と第二徐冷区間Ｚ３２とでは、処理水Ｗの温度差が比較的大きいことから、各区間ごとに別々の浸漬槽３３を設ける構成や、どちらか一方の区間に浸漬槽３３を設ける構成が採り得る。
【0053】
また、先に述べた基本の実施例では、昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を、ともに三つの区間で形成したが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではない。具体的には、例えば昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を四つ以上の区間で形成することも可能であるし、あるいは昇温ゾーンＺ１を二つの区間で形成することも可能である。また、上述した基本の実施例では、相互循環を二組形成したが、特に上記区間数などに応じて、相互循環は一組だけ設けるようにしても構わない。
【0054】
また、先に述べた基本の実施例では、処理対象物Ｔを搬送する搬送コンベヤ２０（搬送装置２）として、浸漬槽３３の処理水中に没入させた際、浮力が生じる樹脂製のコンベヤ（ネットコンベヤ）を適用し、これを浸漬経路Ｒ１において安定沈下状態とする水中安定化構造について説明した。しかしながら、搬送コンベヤ２０としては、円形断面のロッド本体を多数、搬送方向に並設状態で配設した回転ロッドコンベヤを適用することも可能であるが、これは本発明に関連する参考例である。なお、回転ロッドコンベヤを適用した場合、多数本のロッド本体の全てまたは一部をステンレス素材等の金属素材で構成し、水中安定化構造とすることもできる。因みに、上記回転ロッドコンベヤについては、本出願人が既に特許取得に及んでいる特許第７０８２３８２号、特許第７１６４１２０号に詳細に記載されており、この記載を援用する。
【符号の説明】
【0055】
１ パストライザ
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
２ 搬送装置
３ ノズル装置
４ 処理水タンク
５ 加温装置
６ 冷却装置
２０ 搬送コンベヤ
２１ リンク要素
２１ａ 連結部
２２ 連結ピン
２３ ターンスプロケット
２４ 駆動スプロケット
３Ａ ノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂ ノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃ ノズル装置（加熱区間）
３Ｄ ノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅ ノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆ ノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇ ノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈ ノズル装置（冷却区間）
４Ａ 処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ 処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ 処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ 処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ 処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ 処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ 処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ 処理水タンク（冷却区間）
５Ａ 加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ 加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ 加温装置（加熱区間）
５Ｄ 加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ 加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ 加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ 加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ 加温装置（冷却区間）
３１ ノズルパイプ
３１Ａ ノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂ ノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃ ノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄ ノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅ ノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆ ノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇ ノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈ ノズルパイプ（冷却区間）
３３ 浸漬槽
３４ テンショナー
３５ 支持部材
６Ａ 冷却装置（第一予備加熱区間）
６Ｂ 冷却装置（第二予備加熱区間）
６Ｃ 冷却装置（加熱区間）
６Ｄ 冷却装置（第一殺菌区間）
６Ｅ 冷却装置（第二殺菌区間）
６Ｆ 冷却装置（第一徐冷区間）
６Ｇ 冷却装置（第二徐冷区間）
６Ｈ 冷却装置（冷却区間）
Ｔ 処理対象物
Ｗ 処理水
Ｐ ポンプ
Ｓ 蒸気
Ｒ０ 通常搬送経路（常高経路）
Ｒ１ 浸漬経路
Ｒ１１ 浸漬導入傾斜路
Ｒ１２ 浸漬退出傾斜路
Ｚ１ 昇温ゾーン
Ｚ１１ 第一予備加熱区間
Ｚ１２ 第二予備加熱区間
Ｚ１３ 加熱区間
Ｚ２ 殺菌ゾーン
Ｚ２１ 第一殺菌区間
Ｚ２２ 第二殺菌区間
Ｚ２ｎ 第ｎ殺菌区間
Ｚ３ 冷却ゾーン
Ｚ３１ 第一徐冷区間
Ｚ３２ 第二徐冷区間
Ｚ３３ 冷却区間
【手続補正2】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
処理対象物を搬送コンベヤによって搬送しながら搬送方向に配設した複数の処理ゾーン毎に所定の処理温度の処理水を、処理対象物の上方に配置したノズル装置から散水し、処理対象物に所定の温度変化を与えるパストライザにおいて、
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であり、
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴とするパストライザ。
前記搬送コンベヤには、処理水を散水しながら、併せて処理対象物の底部を処理水中に浸漬する浸漬経路が設けられ、
当該浸漬経路は、散水が行われる通常搬送経路よりも低い位置を走行するように構成され、
且つ当該浸漬経路では、処理水に漬かる処理対象物と、処理水中を走行する搬送コンベヤとを安定沈下状態とする水中安定化構造を具えるものであり、
また前記搬送コンベヤは、複数のリンク要素における前後の連結部が、幅方向において交互に重なるように組み付けられ、交互に重なった連結部を幅方向に貫通する回動自在の連結ピンにより接続されて成り、
前記水中安定化構造は、前記リンク要素を樹脂製の素材で形成し、且つ前記連結ピンを金属製の素材で形成する構成であり、
前記処理対象物は、浸漬経路における搬送中、底部が処理水中に浸漬しながら、底部以外は、上方から散水される処理水を受け、底部も処理水からの伝熱を受ける伝熱面となることを特徴とするパストライザ。
【請求項2】
前記搬送コンベヤは、通常搬送経路から浸漬経路に至る浸漬導入傾斜路が、進行方向に向かって下り傾斜状態に形成されるとともに、浸漬経路から通常搬送経路に至る浸漬退出傾斜路が、進行方向に向かって上り傾斜状態に形成されるものであり、
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１記載のパストライザ。
更に浸漬導入傾斜路と浸漬経路との間にテンショナーが設けられ、且つ浸漬経路と浸漬退出傾斜路との間にテンショナーが設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方のテンショナーを含んで構成されることを特徴とする請求項１記載のパストライザ。
【請求項3】
前記通常搬送経路と浸漬導入傾斜路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項２記載のパストライザ。
且つ前記浸漬退出傾斜路と通常搬送経路との間に、搬送コンベヤの搬送軌道を維持する支持部材が設けられ、
前記水中安定化構造は、これら双方の支持部材を含んで構成されることを特徴とする請求項２記載のパストライザ。