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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024172253
(43)【公開日】2024-12-12
(54)【発明の名称】部品実装システム及び部品実装方法
(51)【国際特許分類】
   H05K 13/08 20060101AFI20241205BHJP
   H05K 13/04 20060101ALI20241205BHJP
   G01B 11/25 20060101ALI20241205BHJP
【FI】
H05K13/08 Q
H05K13/04 C
G01B11/25 H
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023089838
(22)【出願日】2023-05-31
(71)【出願人】
【識別番号】000003399
【氏名又は名称】JUKI株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】児玉 裕介
(72)【発明者】
【氏名】伊勢谷 和宏
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 飛翔
【テーマコード(参考)】
2F065
5E353
【Fターム(参考)】
2F065AA04
2F065AA21
2F065AA51
2F065AA53
2F065FF04
2F065HH07
2F065JJ19
2F065JJ26
2F065QQ24
2F065QQ31
5E353AA02
5E353BB05
5E353CC01
5E353CC04
5E353EE26
5E353EE53
5E353EE63
5E353HH30
5E353JJ21
5E353JJ50
5E353KK02
5E353KK11
5E353KK13
5E353KK21
5E353KK25
5E353LL04
5E353LL06
5E353MM04
5E353MM08
5E353QQ01
5E353QQ23
(57)【要約】
【課題】部品を基板に実装する実装処理において使用される生産プログラムを生成すること。
【解決手段】部品実装システムは、部品を基板に実装する実装ヘッド及び実装ヘッドのノズルに保持されている部品の3次元形状を計測する3次元計測装置を有する部品実装装置と、3次元計測装置により計測された部品の3次元形状を示す3次元データに基づいて、部品実装装置の制御に使用される生産プログラムを生成する生産プログラム生成装置と、を備える。
【選択図】図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
部品を基板に実装する実装ヘッド及び前記実装ヘッドのノズルに保持されている部品の3次元形状を計測する3次元計測装置を有する部品実装装置と、
前記3次元計測装置により計測された前記部品の3次元形状を示す3次元データに基づいて、前記部品実装装置の制御に使用される生産プログラムを生成する生産プログラム生成装置と、を備える、
部品実装システム。
【請求項2】
前記部品は、リードを有し、
前記3次元データは、前記リードの先端部の位置及び前記リードの長さを含む、
請求項1に記載の部品実装システム。
【請求項3】
前記部品実装装置は、前記生産プログラムに基づいて、前記部品実装装置を制御する制御装置を有し、
前記制御装置は、前記ノズルに保持されている前記部品のリードが前記基板に形成されている貫通孔に挿入されるように、前記部品実装装置を制御する、
請求項2に記載の部品実装システム。
【請求項4】
前記3次元計測装置は、
前記部品に周期が異なるパターン光を投影する投影装置と、
それぞれの前記パターン光が投影された前記部品の画像データを取得する撮像装置と、
前記部品の画像データに基づいて、前記3次元データを算出する処理装置と、を有する、
請求項1に記載の部品実装システム。
【請求項5】
実装ヘッドのノズルに保持されている部品の3次元形状を3次元計測装置で計測することと、
前記3次元計測装置により計測された前記部品の3次元形状を示す3次元データに基づいて、生産プログラムを生成することと、
前記生産プログラムを使用して、部品を基板に実装することと、を含む、
部品実装方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本明細書で開示する技術は、部品実装システム及び部品実装方法に関する。
【背景技術】
【0002】
部品実装システムに係る技術分野において、特許文献1に開示されているような、生産プログラムに基づいて部品を基板に実装する実装処理を行う部品実装装置が知られている。特許文献1において、生産プログラムには、基板に実装する部品種の情報や各部品の実装順の情報、各部品の実装位置や実装角度の情報、各部品の形状の情報、各部品を供給する部品供給装置の情報、部品の実装に用いるヘッドの情報、部品を吸着するノズルの情報、生産する基板の枚数の情報が定められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第2021/090415号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
部品種の情報や部品の形状の情報は、部品メーカーから提供される。部品メーカーから提供された情報が生産プログラムに反映される。部品メーカーから情報が提供されない場合においても、生産プログラムを生成する必要がある。
【0005】
本明細書で開示する技術は、部品を基板に実装する実装処理において使用される生産プログラムを生成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本明細書は、部品実装システムを開示する。部品実装システムは、部品を基板に実装する実装ヘッド及び実装ヘッドのノズルに保持されている部品の3次元形状を計測する3次元計測装置を有する部品実装装置と、3次元計測装置により計測された部品の3次元形状を示す3次元データに基づいて、部品実装装置の制御に使用される生産プログラムを生成する生産プログラム生成装置と、を備える。
【発明の効果】
【0007】
本明細書で開示する技術によれば、部品を基板に実装する実装処理において使用される生産プログラムが生成される。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1図1は、実施形態に係る部品実装システムを示す図である。
図2図2は、実施形態に係る部品実装装置を模式的に示す図である。
図3図3は、実施形態に係る3次元計測装置を模式的に示す図である。
図4図4は、実施形態に係る3次元計測装置を模式的に示す図である。
図5図5は、実施形態に係る部品実装システムを示すブロック図である。
図6図6は、実施形態に係るパターンデータを模式的に示す図である。
図7図7は、実施形態に係る生産プログラム生成方法を示すフローチャートである。
図8図8は、実施形態に係る部品実装方法を模式的に示す図である。
図9図9は、実施形態に係る部品実装方法を模式的に示す図である。
図10図10は、実施形態に係るコンピュータシステムを示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
[部品実装システム]
図1は、実施形態に係る部品実装システム1を示す図である。図1に示すように、部品実装システム1は、検査装置2と、部品実装装置3と、検査装置4と、管理装置5とを備える。検査装置2、部品実装装置3、及び検査装置4により、電子デバイスの生産ライン6が構築される。
【0010】
生産ライン6において、部品実装装置3は、複数台設けられる。複数台の部品実装装置3は、直列に配置される。図1に示す例において、生産ライン6は、直列に配置される3台の部品実装装置3を含む。部品実装装置3は、部品実装装置3Aと、部品実装装置3Bと、部品実装装置3Cとを含む。なお、部品実装装置3の台数は、2台でもよいし4台以上の任意の複数台でもよい。
【0011】
生産ライン6において基板Pが搬送される。生産ライン6において基板Pが搬送されることにより、電子デバイスが生産される。実施形態において、生産ライン6の先頭装置は、検査装置2である。生産ライン6の後尾装置は、検査装置4である。基板Pは、検査装置2に搬入された後、複数の部品実装装置3(3A,3B,3C)のそれぞれに順次搬送される。複数の部品実装装置3(3A,3B,3C)は、基板Pに部品Cを順次実装する。部品実装装置3において複数の部品Cが実装された基板Pは、検査装置4から搬出される。
【0012】
基板Pが生産ライン6に搬入される前に、印刷機により基板Pにクリーム半田が印刷される。クリーム半田が印刷された基板Pが、検査装置2に搬入される。なお、印刷機の図示は省略する。
【0013】
検査装置2は、部品Cが実装される前の基板Pの印刷状態を検査する半田印刷検査装置(SPI:Solder Paste Inspection)を含む。
【0014】
部品実装装置3は、クリーム半田が印刷された基板Pに部品Cを実装する。部品Cが実装された基板Pは、リフロー炉において加熱される。リフロー炉において基板Pが加熱されることにより、クリーム半田が溶ける。溶けたクリーム半田が冷却されることにより、部品Cが基板Pに半田付けされる。なお、リフロー炉の図示は省略する。
【0015】
検査装置4は、部品Cが実装された後の基板Pの状態を検査する基板外観検査装置(AOI:Automated Optical Inspection)を含む。
【0016】
管理装置5は、コンピュータシステムを含む。管理装置5は、生産ライン6を制御する。
【0017】
実施形態において、部品実装装置3により複数の部品Cが実装された基板Pを適宜、実装基板Pm、と称する。電子デバイスは、実装基板Pmを含む。
【0018】
基板Pは、プリント配線板(PWB:Printed Wiring Board)を含む。部品Cは、電子部品を含む。実装基板Pmは、プリント回路板(PCB:Printed Circuit Board)を含む。
【0019】
[部品実装装置]
図2は、実施形態に係る部品実装装置3を模式的に示す図である。実施形態においては、部品実装装置3にローカル座標系であるXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。所定面のX軸に平行な方向をX軸方向とする。所定面においてX軸と直交するY軸に平行な方向をY軸方向とする。所定面と直交するZ軸に平行な方向をZ軸方向とする。所定面を適宜、XY平面、と称する。実施形態において、XY平面と水平面とは、平行である。図2は、部品実装装置3を-Y方向から見た図である。
【0020】
図2に示すように、部品実装装置3は、ノズル21を有する実装ヘッド22と、部品Cを供給する部品供給装置23と、基板Pを供給する基板供給装置24と、基板Pを計測する基板計測装置27と、部品Cの3次元形状を計測する3次元計測装置10と、制御装置29とを備える。
【0021】
部品Cは、リードLを有するリード部品である。基板Pは、リードLが挿入される貫通孔を有する。部品実装装置3は、部品CのリードLが基板Pに形成されている貫通孔に挿入されるように、部品Cを基板Pに実装する。
【0022】
実装ヘッド22は、ノズル21に保持されている部品Cを基板Pに実装する。ノズル21は、部品Cを解放可能に保持する。ノズル21は、部品Cを吸着して保持する吸着ノズルでもよいし、部品Cを挟んで保持する把持ノズルでもよい。実装ヘッド22は、ヘッド駆動装置25により、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに移動する。ノズル21は、実装ヘッド22に設けられているノズル駆動装置26により、実装ヘッド22に対してZ軸方向及びθZ方向のそれぞれに移動する。ノズル21は、ヘッド駆動装置25及びノズル駆動装置26により、X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、及びθZ方向の4つの方向に移動可能である。
【0023】
部品供給装置23は、部品Cを供給位置SPに供給する。供給位置SPとは、部品供給装置23により部品Cが供給される位置をいう。部品供給装置23は、テープを支持するテープリールと、テープリールから繰り出されたテープに保持されている部品Cを搬送するフィーダとを含む。なお、部品供給装置23は、複数の部品Cを保持するトレイを含んでもよい。
【0024】
基板供給装置24は、基板Pを処理位置MPに供給する。処理位置MPとは、基板供給装置24により基板Pが供給される位置をいう。基板供給装置24は、基板Pを処理位置MPに搬送するコンベアベルトと、処理位置MPに搬送された基板Pの位置を固定するクランプ機構とを有する。
【0025】
基板計測装置27は、基板Pに形成されている貫通孔の位置を計測する。基板計測装置27は、基板Pが処理位置MPに配置されている状態で、基板Pの貫通孔の位置を計測する。
【0026】
3次元計測装置10は、ノズル21に保持されている部品Cの3次元形状を計測する。3次元計測装置10の計測データは、部品Cの3次元形状を示す3次元データを含む。3次元計測装置10は、計測位置TPに配置されている部品Cを計測する。計測位置TPとは、3次元計測装置10により部品Cの3次元形状が計測される位置をいう。
【0027】
図3及び図4のそれぞれは、実施形態に係る3次元計測装置10を模式的に示す図である。図3は、3次元計測装置10を-Y方向から見た図である。図4は、3次元計測装置10を+Z方向から見た図である。
【0028】
3次元計測装置10は、位相シフト法に基づいて、ノズル21に保持されている部品Cの3次元形状を計測する。部品Cは、ボディBと、ボディBの下面から下方に突出する複数のリードLとを有する。ノズル21は、ボディBを保持する。3次元計測装置10により計測される部品Cの3次元形状を示す3次元データは、リードLの3次元データを含む。実施形態において、部品Cの3次元データは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを含む。なお、部品Cの3次元データは、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを含んでもよい。
【0029】
3次元計測装置10は、パターン光PLを射出する射出装置13と、パターン光PLを反射する反射部材16と、パターン光PLが投影された部品Cを撮像する撮像装置14と、撮像装置14により撮像された部品Cの画像を示す画像データに基づいて、部品Cの3次元形状を算出する処理装置11とを有する。実施形態において、計側位置TPとは、パターン光PLが照射可能な位置をいう。パターン光PLは、少なくともリードLに照射される。実施形態において、パターン光PLは、第1パターン光PL1と、第2パターン光PL2とを含む。部品Cに入射する第1パターン光PL1の入射方向と第2パターン光PL2の入射方向とは異なる。
【0030】
射出装置13は、光を発生する光源31と、光源31から発生した光を光変調してパターン光PLを生成する光変調素子32と、光変調素子32で生成されたパターン光PLを射出する射出光学系33とを有する。
【0031】
光変調素子32は、デジタルミラーデバイス(DMD:Digital Mirror Device)を含む。なお、光変調素子32は、透過型の液晶パネルを含んでもよいし、反射型の液晶パネルを含んでもよい。光変調素子32は、処理装置11から出力されるパターンデータに基づいて、パターン光PLを生成する。射出装置13は、パターンデータに基づいてパターン化されたパターン光PLを射出する。
【0032】
反射部材16は、射出装置13から射出されたパターン光PLを反射して部品Cに照射する。反射部材16の反射面は、平面状である。
【0033】
撮像装置14は、部品Cで反射したパターン光PLを結像する結像光学系41と、結像光学系41を介して部品Cの画像データを取得する撮像素子42とを有する。撮像素子42は、CMOSイメージセンサ(Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor)又はCCDイメージセンサ(Charge Coupled Device Image Sensor)を含む固体撮像素子である。
【0034】
処理装置11は、プロセッサ及びプロセッサが実行するコンピュータプログラムを記憶するメモリを有するコンピュータシステムを含む。処理装置11は、射出装置13及び撮像装置14を制御する。
【0035】
3次元計測装置10は、位相シフト法に基づいて、ノズル21に保持されている状態で計測位置TPに配置されている部品Cの3次元形状を計測する。射出装置13は、パターン光PLとして、例えば正弦波状の明度分布の縞パターン光を位相シフトさせながら部品Cに照射する。パターン光PLは、複数の方向から部品Cに照射される。
【0036】
撮像装置14は、パターン光PLが投影された部品Cの画像データを取得する。撮像装置14は、第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データと、第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データとを取得する。
【0037】
図3に示すように、第1パターン光PL1は、射出装置13から射出され部品Cにダイレクトに照射されるパターン光PLである。第2パターン光PL2は、射出装置13から射出され反射部材16で反射して部品Cに照射されるパターン光PLである。
【0038】
処理装置11は、射出装置13からの第1パターン光PL1が部品Cに照射される第1照射状態と、反射部材16からの第2パターン光PL2が部品Cに照射される第2照射状態との一方から他方に変化するように、光変調素子32を制御する。
【0039】
部品Cに第1パターン光PL1を照射するとき、処理装置11は、射出光学系33の射出面33Sの第1領域331からパターン光PLが射出され、射出面33Sの第2領域332からパターン光PLが射出されないように、光変調素子32を制御する。第1領域331から射出されたパターン光PLは、反射部材16を介さずに、第1パターン光PL1として部品Cにダイレクトに照射される。
【0040】
部品Cに第2パターン光PL2を照射するとき、処理装置11は、射出光学系33の射出面33Sの第2領域332からパターン光PLが射出され、射出面33Sの第1領域331からパターン光PLが射出されないように、光変調素子32を制御する。第2領域332から射出されたパターン光PLは、光軸AXを通過して反射部材16に照射される。第2領域332から射出されたパターン光PLは、反射部材16を介して、第2パターン光PL2として部品Cに照射される。
【0041】
図2及び図3に示す例において、第1領域331は、射出光学系33の光軸よりも+X側の射出面33Sの半分の領域であり、第2領域332は、射出光学系33の光軸よりも-X側の射出面33Sの半分の領域である。第1領域331から射出されたパターン光PLは、ノズル21に保持されている状態で計測位置TPに配置されている部品Cに照射される。第2領域332から射出されたパターン光PLは、反射部材16の反射面に照射され、反射部材16の反射面で反射した後、ノズル21に保持されている状態で計測位置TPに配置されている部品Cに照射される。
【0042】
射出装置13、撮像装置14、及び反射部材16のそれぞれは、ハウジング17に支持される。射出装置13と撮像装置14と反射部材16との相対位置は、ハウジング17により固定される。撮像装置14は、計測位置TPよりも-Z側に配置される。撮像装置14の入射面41Sは、計測位置TPに配置される部品Cと対向可能である。
【0043】
反射部材16は、入射面41Sと計測位置TPに配置される部品Cとの間の結像光学系41の光軸AXの周囲の少なくとも一部に配置される。射出装置13は、入射面41Sと計測位置TPに配置される部品Cとの間の結像光学系41の光軸AXの周囲の少なくとも一部に配置される。反射部材16は、射出装置13よりも計測位置TPに近い位置に配置される。
【0044】
図4に示すように、射出装置13は、光軸AXの周囲に2つ配置される。反射部材16は、光軸AXの周囲に2つ配置される。
【0045】
第1の反射部材16は、光軸AXの-X側に配置される。第1の射出装置13は、光軸AXの+X側に配置される。第1の射出装置13は、第1の反射部材16に第2パターン光PL2を照射可能である。第1の反射部材16で反射した第2パターン光PL2は、計測位置TPに配置された部品Cに照射される。また、第1の射出装置13は、計測位置TPに配置された部品Cにダイレクトに第1パターン光PL1を照射可能である。
【0046】
第2の反射部材16は、光軸AXの+Y側に配置される。第2の射出装置13は、光軸AXの-Y側に配置される。第2の射出装置13は、第2の反射部材16に第2パターン光PL2を照射可能である。第2の反射部材16で反射した第2パターン光PL2は、計測位置TPに配置された部品Cに照射される。また、第2の射出装置13は、計測位置TPに配置された部品Cにダイレクトに第1パターン光PL1を照射可能である。
【0047】
射出装置13及び反射部材16は、部品Cに周期が異なるパターン光PLを投影する投影装置を構成する。第1の射出装置13及び第2の射出装置13と、第1の反射部材16及び第2の反射部材16とは、計測位置TPに配置された部品Cに、4つの方向からパターン光PLを投影可能である。撮像装置14は、第1の射出装置13からの第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データ、第1の反射部材16からの第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データ、第2の射出装置13からの第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データ、及び第2の反射部材16からの第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データのそれぞれを取得する。
【0048】
制御装置29は、プロセッサ及びプロセッサが実行するコンピュータプログラムを記憶するメモリを有するコンピュータシステムを含む。制御装置29は、部品実装装置3を制御する。制御装置29は、ヘッド駆動装置25、ノズル駆動装置26、基板計測装置27、及び処理装置11のそれぞれに接続される。制御装置29は、部品Cを基板Pに実装する前に、3次元計測装置10により部品Cの3次元形状を計測する。
【0049】
実装ヘッド22は、部品Cが供給される供給位置SPと、基板Pが供給される処理位置MPと、部品Cが計測される計測位置TPとを移動可能である。制御装置29は、供給位置SPに配置されている部品Cがノズル21に保持されるように実装ヘッド22を制御する。供給位置SPにおいて部品Cがノズル21に保持された後、制御装置29は、ノズル21に保持されている部品Cが計測位置TPに配置されるように、ヘッド駆動装置25及びノズル駆動装置26を制御する。制御装置29は、ノズル21に保持されている部品Cが計測位置TPに配置された後、3次元計測装置10により部品Cの3次元形状を計測する。3次元計測装置10により部品Cの3次元形状が計測された後、制御装置29は、部品Cが処理位置MPに配置されるように、ヘッド駆動装置25及びノズル駆動装置26を制御する。制御装置29は、ノズル21に保持されている部品Cが基板Pに実装されるように、実装ヘッド22を制御する。
【0050】
[部品実装システムのコンピュータシステム]
図5は、実施形態に係る部品実装システム1を示すブロック図である。処理装置11は、パターン生成部11Aと、画像データ取得部11Bと、画像処理部11Cと、位相値算出部11Dと、3次元データ算出部11Eとを有する。
【0051】
パターン生成部11Aは、パターンデータを生成する。パターン生成部11Aにおいて生成されたパターンデータは、光変調素子32に出力される。光変調素子32は、パターン生成部11Aにおいて生成されたパターンデータに基づいて、パターン光PLを生成する。パターン生成部11Aにおいて生成されるパターンデータは、反射部材16を介さずに射出装置13からの第1パターン光PL1を部品Cに照射するための第1パターンデータと、反射部材16を介して射出装置13からの第2パターン光PL2を部品Cに照射するための第2パターンデータとを含む。
【0052】
図6は、実施形態に係るパターンデータを模式的に示す図である。図6(A)に示すように、パターン生成部11Aは、部品Cに第1パターン光PL1を照射するとき、射出光学系33の射出面33Sの第1領域331からパターン光PLを射出させ、射出面33Sの第2領域332からパターン光PLを射出させないように、第1パターンデータを生成し、光変調素子32を制御する。
【0053】
図6(B)に示すように、パターン生成部11Aは、部品Cに第2パターン光PL2を照射するとき、射出光学系33の射出面33Sの第2領域332からパターン光PLを射出させ、射出面33Sの第1領域331からパターン光PLを射出させないように、第2パターンデータを生成し、光変調素子32を制御する。
【0054】
画像データ取得部11Bは、撮像素子42から画像データを取得する。画像データ取得部11Bは、第1の射出装置13及び第2の射出装置13により第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データ、及び第1の反射部材16及び第2の反射部材16からの第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データを取得する。
【0055】
画像処理部11Cは、画像データ取得部11Bにより取得された画像データを画像処理する。画像処理部11Cが行う画像処理として、2値化処理、クロージング処理、及び膨張処理が例示される。
【0056】
位相値算出部11Dは、画像処理部11Cにより画像処理された後の画像データの輝度に基づいて、画像データの複数の画素それぞれの位相値を算出する。位相値算出部11Dは、位相シフトされたパターン光PLのそれぞれが投影された部品CのリードLの複数の画像データの同一の点の輝度に基づいて、その点に対応する画像データの画素の位相値を算出する。位相値算出部11Dは、画像データの複数の点それぞれの輝度に基づいて、画像データの複数の画素それぞれの位相値を算出する。
【0057】
3次元データ算出部11Eは、画像データの複数の画素それぞれの位相値に基づいて、画像データの複数の画素それぞれに対応する部品Cの複数の点それぞれの高さデータを算出して、部品Cの3次元形状を示す3次元データを算出する。部品Cの3次元データは、リードLの3次元データを含む。実施形態において、3次元データ算出部11Eは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを算出する。なお、3次元データ算出部11Eは、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを算出してもよい。
【0058】
管理装置5は、生産プログラム生成装置7と、入力デバイス8と、ディスプレイ9とを有する。入力デバイス8は、管理者に操作されることにより入力データを生成する。入力デバイス8として、コンピュータ用キーボード又はタッチパネルが例示される。ディスプレイ9は、表示データを表示する。ディスプレイ9として、液晶ディスプレイが例示される。
【0059】
生産プログラム生成装置7は、プロセッサ及びプロセッサが実行するコンピュータプログラムを記憶するメモリを有するコンピュータシステムを含む。生産プログラム生成装置7は、生産プログラムを生成する。生産プログラムとは、生産ライン6において実装基板Pmの生産に使用されるコンピュータプログラムをいう。すなわち、生産プログラムとは、部品実装装置3の制御に使用されるコンピュータプログラムをいう。
【0060】
生産プログラム生成装置7は、初期データ取得部7Aと、3次元データ取得部7Bと、プログラム生成部7Cとを有する。
【0061】
初期データ取得部7Aは、基板Pに実装される部品Cに係る初期データを取得する。管理者は、入力デバイス8を操作して、生産プログラム生成装置7に初期データを入力する。初期データ取得部7Aは、入力デバイス8から入力された初期データを取得する。部品Cの初期データは、基板Pに実装される部品Cの種類、基板Pに実装される部品Cの数、基板Pに実装される部品Cの順序、及び基板Pに実装される部品Cの位置を含む。管理者は、規定の実装基板Pmが生産されるように、例えば実装基板Pmの設計データに基づいて、初期データを生産プログラム生成装置7に入力する。
【0062】
3次元データ取得部7Bは、基板Pに実装される部品Cの3次元形状を示す3次元データを取得する。3次元データ取得部7Bは、3次元計測装置10により計測された部品Cの3次元データを取得する。3次元データ取得部7Bは、処理装置11から部品Cの3次元データを取得する。部品Cの3次元データは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを含む。なお、部品Cの3次元データは、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを含んでもよい。
【0063】
プログラム生成部7Cは、初期データ取得部7Aにより取得された部品Cの初期データと、3次元データ取得部7Bにより取得された部品Cの3次元データとに基づいて、生産プログラムを生成する。プログラム生成部7Cは、部品Cの初期データと、部品Cの3次元データと、規定のプログラム生成アルゴリズムとに基づいて、生産プログラムを生成する。
【0064】
制御装置29は、生産ライン6において実装基板Pmが生産されるように、生産プログラム生成装置7において生成された生産プログラムに基づいて、部品実装装置3を制御する。制御装置29は、ノズル21に保持されている部品CのリードLが基板Pに形成されている貫通孔に挿入されるように、部品実装装置3を制御する。
【0065】
制御装置29は、プログラム取得部29Aと、制御部29Bとを有する。
【0066】
プログラム取得部29Aは、生産プログラム生成装置7において生成された生産プログラムを取得する。プログラム取得部29Aは、生産プログラムを記憶する。
【0067】
制御部29Bは、生産プログラムに基づいて、部品実装装置3を制御する。
【0068】
[生産プログラム生成方法]
次に、生産プログラム生成方法について説明する。図7は、実施形態に係る生産プログラム生成方法を示すフローチャートである。
【0069】
ノズル21に保持された部品Cが計測位置TPに配置される。パターン生成部11Aは、第1パターンデータ及び第2パターンデータをそれぞれ生成する。処理装置11は、第1パターンデータに基づく第1パターン光PL1及び第2パターンデータに基づく第2パターン光PL2のそれぞれを部品Cに照射する。画像データ取得部11Bは、第1パターン光PL1及び第2パターン光PL2がそれぞれ投影された部品Cの画像データを複数取得する。画像データ取得部11Bは、第1の射出装置13及び第2の射出装置13からの第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データ、及び第1の反射部材16及び第2の反射部材16からの第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データを、撮像装置14の撮像素子42から取得する(ステップSA1)。
【0070】
画像処理部11Cは、ステップSA1において取得された画像データを2値化処理する(ステップSA2)。2値化処理とは、分析対象の画像を白と黒の2色のみに変換する画像処理をいう。2値化処理により、部品Cの画像と背景との境界が明確になる。
【0071】
画像処理部11Cは、2値化処理された後の画像データを膨張処理又はクロージング処理する(ステップSA3)。膨張処理とは、2値画像の白画素領域を増加する処理をいう。注目画素の周囲に白い画素が少なくとも1つある場合、注目画素が白い画素に置換される。クロージング処理とは、2値画像を収縮する処理をいう。クロージング処理により、黒いノイズが消去される。なお、ステップSA3において、膨張処理とクロージング処理との両方が行われてもよいし、膨張処理とクロージング処理とが複数回繰り返されてもよい。
【0072】
位相値算出部11Dは、ステップSA3において膨張処理又はクロージング処理された部品Cの複数の画像データの輝度に基づいて、それらの画像データの複数の画素それぞれの位相値を算出する。3次元データ算出部11Eは、第1パターン光PL1が投影された部品Cの画像データと第2パターン光PL2が投影された部品Cの画像データとに基づいて、部品Cの3次元データを算出する。部品Cの3次元データは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを含む。なお、部品Cの3次元データは、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを含んでもよい(ステップSA4)。
【0073】
具体的には、3次元データ算出部11Eは、画像データの複数の画素それぞれの位相値に基づいて、リードLの先端部の3次元形状を算出する。3次元データ算出部11Eは、位相値に基づいて、三角測量の原理により、リードLの先端部に対応する画像データの各画素の高さデータを算出する。ここで、画像データの各画素における高さデータとリードLの先端部における各点の高さデータとは1対1で対応する。リードLの先端部における各点の高さデータは、3次元空間におけるリードLの先端部における各点の座標値を示す。3次元データ算出部11Eは、リードLの先端部における各点における高さデータに基づいて、リードLの先端部における3次元形状を算出する。3次元データ算出部11Eは、リードLの先端部の3次元形状に基づいて、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを算出することができる。また、3次元データ算出部11Eは、リードLの先端部の3次元形状に基づいて、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを算出することができる。
【0074】
実施形態においては、ステップSA4において部品Cの3次元データが算出された後、画像処理部11Cが、XY平面内における部品Cの中心の位置を算出する。リードLは、ボディBの下面に複数設けられる。リードLは、XY平面内の異なる複数の位置のそれぞれに設けられる。リードLは、ボディBに例えば9本設けられる。XY平面における複数のリードLの先端部のそれぞれの位置が算出されるので、画像処理部11Cは、複数のリードLの先端部のそれぞれの位置に基づいて、XY平面内における部品Cの中心の位置を算出することができる。
【0075】
XY平面内における部品Cの中心の位置が算出された後、制御部29Bは、XY平面内における撮像装置14の視野の中心と部品Cの中心とが一致するように、部品Cの位置を補正する(ステップSA5)。制御部29Bは、XY平面内における撮像装置14の視野の中心と部品Cの中心とが一致するように、部品Cを保持したノズル21を移動させる。制御部29Bは、XY平面内における撮像装置14の視野の中心と部品Cの中心とが一致するように、部品CをX軸方向又はY軸方向に移動させたり、θZ方向に回転させたりする。
【0076】
XY平面内における撮像装置14の視野の中心と部品Cの中心とが一致するように部品Cの位置が補正された後、部品Cにパターン光が照射され、部品Cの画像データが取得される(ステップSA6)。ステップSA6において行われる処理は、ステップSA1において行われた処理と同様である。ステップSA6の処理が行われた後、画像データが2値化処理される(ステップSA7)。ステップSA7において行われる処理は、ステップSA2において行われた処理と同様である。ステップSA7の処理が行われた後、部品Cの3次元データが算出される(ステップSA8)。ステップSA8において行われる処理は、ステップSA4において行われた処理と同様である。
【0077】
以上により、ローカル座標系における位置が補正された部品Cの3次元データが算出される。すなわち、XY平面内における撮像装置14の視野の中心と部品Cの中心とが一致した状態の部品Cの3次元データが算出される。
【0078】
ステップSA8において算出された部品Cの3次元データは、生産プログラム生成装置7に送信される。プログラム生成部7Cは、3次元計測装置10により計測された部品Cの3次元形状を示す3次元データに基づいて、生産プログラムを生成する(ステップSA9)。部品Cの3次元データは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、及びリードLの長さを示すリード長さLLを含む。なお、部品Cの3次元データは、部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを含んでもよい。
【0079】
[部品実装方法]
次に、部品実装方法について説明する。図8及び図9のそれぞれは、実施形態に係る部品実装方法を模式的に示す図である。
【0080】
制御装置29のプログラム取得部29Aは、生産プログラム生成装置7から生産プログラムを取得する。制御部29Bは、生産プログラムを使用して、部品Cを基板Pに実装する実装処理を行う。生産プログラムは、XY平面におけるリードLの先端部の位置、リードLの長さを示すリード長さLL、及び部品CのZ軸方向の全体の長さを示す部品高さCLを含む。
【0081】
制御部29Bは、生産プログラムに基づいて、ヘッド駆動装置25及びノズル駆動装置26を制御して、ノズル21に保持されている部品CのリードLの先端部を基板Pの上面に近接させる。
【0082】
図8に示すように、制御部29Bは、部品Cのリード長さLLに基づいて、ノズル21に保持されている部品CのリードLの下端部が基板Pの上面に近接するように、ノズル駆動装置26を制御して、ノズル21を-Z方向に下降させる。
【0083】
また、制御部29Bは、XY平面におけるリードLの先端部の位置と、基板計測装置27により計測されたXY平面内における基板Pの貫通孔の位置とに基づいて、ノズル21に保持されている部品CのリードLの下端部が基板Pの貫通孔に挿入されるように、ヘッド駆動装置25及びノズル駆動装置26を制御して、ノズル21をX軸方向又はY軸方向に移動させたり、ノズル21をθZ方向に回転させたりする。
【0084】
図9に示すように、XY平面におけるリードLの先端部の位置と基板Pの貫通孔の位置とが一致した状態で、ノズル21が-Z方向に下降することにより、ノズル21に保持されている部品CのリードLが基板Pに形成されている貫通孔に挿入される。
【0085】
[コンピュータシステム]
図10は、実施形態に係るコンピュータシステム1000を示すブロック図である。上述の生産プログラム生成装置7、制御装置29、及び処理装置11のそれぞれは、コンピュータシステム1000を含む。コンピュータシステム1000は、CPU(Central Processing Unit)のようなプロセッサ1001と、ROM(Read Only Memory)のような不揮発性メモリ及びRAM(Random Access Memory)のような揮発性メモリを含むメインメモリ1002と、ストレージ1003と、入出力回路を含むインターフェース1004とを有する。生産プログラム生成装置7、制御装置29、及び処理装置11のそれぞれの機能は、コンピュータプログラムとしてストレージ1003に記憶されている。プロセッサ1001は、コンピュータプログラムをストレージ1003から読み出してメインメモリ1002に展開し、コンピュータプログラムに従って上述の処理を実行する。なお、コンピュータプログラムは、ネットワークを介してコンピュータシステム1000に配信されてもよい。
【0086】
コンピュータプログラムは、上述の実施形態に従って、コンピュータシステム1000に、実装ヘッド22のノズル21に保持されている部品Cの3次元形状を3次元計測装置10で計測することと、3次元計測装置10により計測された部品Cの3次元形状を示す3次元データに基づいて、生産プログラムを生成することと、生産プログラムを使用して、部品Cを基板Pに実装することと、を実行させることができる。
【0087】
[効果]
以上説明したように、実施形態において、部品実装システム1は、部品Cを基板Pに実装する実装ヘッド22及び実装ヘッド22のノズル21に保持されている部品Cの3次元形状を計測する3次元計測装置10を有する部品実装装置3と、3次元計測装置10により計測された部品Cの3次元形状を示す3次元データに基づいて、部品実装装置3の制御に使用される生産プログラムを生成する生産プログラム生成装置7と、を備える。
【0088】
実施形態によれば、部品実装装置3に設けられている3次元計測装置10により、部品Cの形状及び寸法に係る3次元データが部品データとして計測される。これにより、部品Cの形状及び寸法に係る部品データが部品メーカーから提供されなくても、生産プログラム生成装置7は、3次元計測装置10により計測された部品Cの3次元データ(部品データ)に基づいて、生産プログラムを適正に生成することができる。
【符号の説明】
【0089】
1…部品実装システム、2…検査装置、3…部品実装装置、3A…部品実装装置、3B…部品実装装置、3C…部品実装装置、4…検査装置、5…管理装置、6…生産ライン、7…生産プログラム生成装置、7A…初期データ取得部、7B…3次元データ取得部、7C…プログラム生成部、8…入力デバイス、9…ディスプレイ、10…3次元計測装置、11…処理装置、11A…パターン生成部、11B…画像データ取得部、11C…画像処理部、11D…位相値算出部、11E…3次元データ算出部、13…射出装置、14…撮像装置、16…反射部材、17…ハウジング、21…ノズル、22…実装ヘッド、23…部品供給装置、24…基板供給装置、25…ヘッド駆動装置、26…ノズル駆動装置、27…基板計測装置、29…制御装置、29A…プログラム取得部、29B…制御部、31…光源、32…光変調素子、33…射出光学系、33S…射出面、41…結像光学系、41S…入射面、42…撮像素子、331…第1領域、332…第2領域、1000…コンピュータシステム、1001…プロセッサ、1002…メインメモリ、1003…ストレージ、1004…インターフェース、B…ボディ、C…部品、L…リード、MP…処理位置、P…基板、PL…パターン光、PL1…第1パターン光、PL2…第2パターン光、Pm…実装基板、SP…供給位置、TP…計測位置。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10