特開 2024-172496 磁性部品

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024172496

(43)【公開日】2024-12-12

(54)【発明の名称】磁性部品

(51)【国際特許分類】

   H01F 27/255 20060101AFI20241205BHJP

   H01F 3/08 20060101ALI20241205BHJP

   H01F 1/14 20060101ALI20241205BHJP

【ＦＩ】

H01F27/255

H01F3/08

H01F1/14

【審査請求】未請求

【請求項の数】2

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023090253

(22)【出願日】2023-05-31

(71)【出願人】

【識別番号】000003067

【氏名又は名称】ＴＤＫ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001494

【氏名又は名称】前田・鈴木国際特許弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】小枝 真仁

(72)【発明者】

【氏名】荒 健輔

(72)【発明者】

【氏名】森 智子

【テーマコード（参考）】

5E041

【Ｆターム（参考）】

5E041AA01

5E041AA02

5E041AA05

5E041AA07

5E041BC01

5E041BD12

5E041CA02

5E041HB17

5E041NN06

(57)【要約】

【課題】優れた直流重畳特性を有する磁性部品を提供すること。
【解決手段】軟磁性粉末を含む磁気コアと、コイルとを有する磁性部品である。磁気コアの断面における軟磁性粉末の平均面積率が、７５％以上９０％以下である。磁気コアが、中芯部と、中芯部の外側に位置する外側部とを有し、中芯部における軟磁性粉末の面積率分布の歪度と、外側部における軟磁性粉末の面積率分布の歪度との差の絶対値が、０．０１以上である。軟磁性粉末の面積率分布は、磁気コアの断面を等間隔格子で区分けすることで区画される各正方形領域において、軟磁性粉末の面積率を算出することで、特定される。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

軟磁性粉末を含む磁気コアと、コイルとを有し、
前記磁気コアの任意の断面における前記軟磁性粉末の面積率の平均が、７５％以上９０％以下であり、
前記断面における前記軟磁性粉末の最大粒子径をＤ_MAXとし、前記断面を等間隔格子で区分けすることで区画される、面積が（２Ｄ_MAX）²である各正方形領域における前記軟磁性粉末の面積率を算出することにより特定される、前記断面における前記軟磁性粉末の面積率分布の歪度が、前記磁気コアの中芯部と外側部とで０．０１以上の差（絶対値）を有する磁性部品。

【請求項2】

前記中芯部における前記軟磁性粉末の前記面積率分布の歪度と、前記外側部における前記軟磁性粉末の前記面積率分布の歪度との差の絶対値が、０．０５以上である請求項１に記載の磁性部品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、軟磁性粉末を含む磁気コアと、コイルとを有する磁性部品に関する。

【背景技術】

【0002】

インダクタ、トランス、チョークコイルなどの磁性部品は、様々な電子機器の電源回路などに多用されている。磁性部品では、磁気特性を向上させるために、磁気コアに含まれる軟磁性粉末の充填率を高める試みがなされてきた。たとえば、特許文献１では、軟磁性粉末として、粒度が異なる２種類の金属磁性粉を用いることで、磁気コアにおける軟磁性粉末の充填率を高めることができ、透磁率などの磁気特性が向上することが開示されている。

【0003】

ただし、磁気コアにおける軟磁性粉末の充填率を高めると、磁性粒子同士の接触点が増加することで局所的な磁気飽和がおき、直流重畳特性が低下することがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１１－１９２７２９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本開示における例示的な実施形態の目的は、優れた直流重畳特性を有する磁性部品を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記の目的を達成するために、本開示に係る磁性部品は、
軟磁性粉末を含む磁気コアと、コイルとを有し、
前記磁気コアの任意の断面における前記軟磁性粉末の面積率の平均が、７５％以上９０％以下であり、
前記断面における前記軟磁性粉末の最大粒子径をＤ_MAXとし、前記断面を等間隔格子で区分けすることで区画される、面積が（２Ｄ_MAX）²である各正方形領域における前記軟磁性粉末の面積率を算出することにより特定される、前記断面における前記軟磁性粉末の面積率分布の歪度が、前記磁気コアの中芯部と外側部とで０．０１以上の差（絶対値）を有する。

【0007】

磁性部品が、上記の特徴を有することで、高い透磁率と、優れた直流重畳特性とを両立させることができる。

【0008】

好ましくは、前記中芯部における前記軟磁性粉末の前記面積率分布の歪度と、前記外側部における前記軟磁性粉末の前記面積率分布の歪度との差の絶対値が、０．０５以上である。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、本開示の一実施形態に係る磁性部品の断面を示す模式図である。

【図2】図２は、磁気コアの断面を示す模式図である。

【図3】図３は、軟磁性粉末の粒度分布の一例である。

【図4A】図４Ａは、軟磁性粉末の面積率の測定方法を示す模式図である。

【図4B】図４Ｂは、軟磁性粉末の面積率の測定方法を示す模式図である。

【図5】図５は、軟磁性粉末の面積率分布を例示したグラフである。

【図6】図６は、磁性部品の製造方法の一例を示す模式図である。

【図7A】図７Ａは、軟磁性粉末の平均面積率（充填率）と直流重畳定格電流（Ｉｓａｔ）との関係を示すグラフである。

【図7B】図７Ｂは、軟磁性粉末の平均面積率（充填率）とインダクタンス（Ｌ）との関係を示すグラフである。

【図7C】図７Ｃは、インダクタンスと直流重畳定格電流との関係を示すグラフである。

【図8】図８は、インダクタンスと直流重畳定格電流との関係を示すグラフである。

【図9】図９は、インダクタンスと直流重畳定格電流との関係を示すグラフである。

【図10】図１０は、歪度の差の絶対値と直流重畳定格電流との関係を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本開示の実施形態を、図面を参照しつつ説明する。以下に説明する本開示の実施形態は、本開示を説明するための例示であり、実施形態に係る各構成要素、たとえば、数値、形状、材料、製造工程などは、技術的に問題が生じない範囲内で改変したり、変更したりしてもよい。

【0011】

本実施形態に係る磁性部品１００は、図１に示すように、磁気コア２と、コイル５と、一対の外部電極６と、を有する。図１に示すＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸は、相互に垂直であり、Ｚ軸がコイル軸と平行である。すなわち、図１は、コイル軸に沿った磁性部品１００の断面を示している。本実施形態において、コイル軸とは、コイル５の内周面に沿って、当該内周面で囲まれた領域の中心を通る中心線を意味する。

【0012】

磁気コア２は、磁性部品１００における素体であり、Ｘ軸と略垂直な２つの端面２ｅと、Ｙ軸と略垂直な２つの側面と、Ｚ軸と略垂直な２つの主面とを有する。２つの主面のうち、Ｚ軸上方に位置する主面を上面２ｓ１と称し、Ｚ軸下方に位置する主面を下面２ｓ２と称することとする。磁気コア２の形状は特に限定されず、たとえば、立方体形状、直方体形状、円柱形状、楕円柱形状、もしくは、その他多面体形状を有していてもよい。また、磁気コア２の寸法は、特に限定されず、たとえば、Ｘ軸方向の長さが１ｍｍ～１０ｍｍであってもよく、Ｙ軸方向の幅が１ｍｍ～１０ｍｍであってもよく、Ｚ軸方向の高さＴが１ｍｍ～１０ｍｍであってもよい。

【0013】

磁気コア２は、図１に示すように、中芯部２αと、外側部２βとを有する。中芯部２αは、コイル５の内周面で囲まれた領域であって、コイル５の内周側に位置する。図１では、一点鎖線で囲まれた領域が中芯部２αに該当し、中芯部２αのＺ軸方向の高さは、コイル５のＺ軸方向の高さと一致する。一方、外側部２βは、中芯部２α以外の領域であって、中芯部２αの外側に位置する。外側部２βは、コイル５のＺ軸と直交する端面を覆う領域、および、コイル５の外周面側を覆う領域を含む。つまり、磁性部品１００では、外側部２βが、中芯部２αおよびコイル５の外側を覆っている。

【0014】

磁気コア２の内部には、コイル５が埋設してあり、磁気コア２を構成する複合磁性体がコイル５の周囲を覆っている。また、磁気コア２の複合磁性体が、コイル５の導体間にも充填されていてもよい。コイル５は、胴体が螺旋状に巻回された構造を有しており、導体の巻回数および巻回方式は特に限定されず、導体が多層巻きされていてもよい。また、コイル５を構成する導体の材質、形状および寸法は、特に限定されず、導体の表面は、絶縁被覆で覆われていることが好ましい。なお、コイル５は、図１に示すような構造に限定されず、磁性部品１００のコイルは、コイルパターンが印刷されたフレキシブル基板であってもよい。

【0015】

コイル５における導体の一方の端部５ａは、磁気コア２の一方の端面２ｅに引き出されており、導体の他方の端部５ｂは、他方の端面２ｅに引き出されている。磁気コア２の端面には、それぞれ、外部電極６が形成してあり、一対の外部電極６は、それぞれ、コイル５の端部５ａ，５ｂと電気的に接続してある。外部電極６は、焼付電極層、樹脂電極層、または、メッキ電極層を含んでいてもよく、これら電極層から選択される２種以上を含む積層構造を有していてもよい。外部電極６の材質および厚みは、特に限定されない。

【0016】

磁性部品１００における磁気コア２は、軟磁性粉末１と樹脂３とを含む複合磁性体である。軟磁性粉末１は、軟磁性金属からなる金属粒子１０を含む。図２に示すように、軟磁性粉末１の金属粒子１０は、樹脂３中に分散しており、金属粒子１０が樹脂３を介して結合することにより、磁気コア２が所定の形状を成している。磁気コア２は、軟磁性粉末１および樹脂３の他に、空隙および改質剤などを含んでいてもよい。

【0017】

金属粒子１０の組成および構造は、特に限定されない。たとえば、金属粒子１０は、結晶質構造、ナノ結晶構造、もしくは、非晶質構造を有していてもよい。結晶質構造を有する軟磁性金属としては、純鉄、純コバルト、Ｆｅ－Ｎｉ合金、Ｆｅ－Ｓｉ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ－Ｎｉ合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｉ－Ｃｏ合金、Ｆｅ－Ｃｏ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｖ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｓｉ合金、もしくは、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｓｉ－Ａｌ合金などが挙げられる。ナノ結晶構造、または、非晶質構造を有する軟磁性金属としては、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｃ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｃ―Ｃｒ合金、Ｆｅ－Ｎｂ－Ｂ合金、Ｆｅ－Ｎｂ－Ｂ－Ｐ合金、Ｆｅ－Ｎｂ－Ｂ－Ｓｉ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｐ－Ｃ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｂ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｂ－Ｓｉ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｎｂ－Ｃｕ合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｎｂ－Ｐ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｂ－Ｐ－Ｓｉ合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｂ－Ｐ－Ｓｉ－Ｃｒ合金などが挙げられる。

【0018】

金属粒子１０の組成は、たとえば、ＥＤＸ装置（エネルギー分散型Ｘ線分析装置）もしくはＥＰＭＡ（電子プローブマイクロアナライザ）を用いて分析することができる。また、３ＤＡＰ（３次元アトムプローブ）を用いて金属粒子１０の組成を分析してもよい。３ＤＡＰを用いる場合には、測定対象の金属粒子１０の内部において小さな領域（例えばΦ２０ｎｍ×１００ｎｍの領域）を設定して平均組成を測定することができ、磁気コア２に含まれる樹脂成分や粒子表面の酸化などの影響を除外して粒子本体の組成を特定することができる。

【0019】

また、金属粒子１０の構造は、ＸＲＤ（Ｘ線回折）や電子線回折などを用いて解析することができる。本実施形態において、「非晶質構造」とは、非晶質化度が８５％以上の構造、もしくは、電子線回折で結晶起因のスポットが検出されない構造を意味する。非晶質構造には、概ね非晶質で構成される構造、もしくは、ヘテロアモルファスからなる構造などが含まれる。ヘテロアモルファスからなる構造の場合、非晶質中に存在する結晶の平均径（平均結晶子径）が、０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましい。また、本実施形態では、「ナノ結晶構造」とは、非晶質化度が８５％未満であって、かつ、平均結晶子径が１００ｎｍ以下（好ましくは３ｎｍ～５０ｎｍ）である構造を意味し、「結晶質構造」とは、非晶質化度が８５％未満であって、かつ、平均結晶子径が１００ｎｍを超過する構造を意味する。

【0020】

非晶質化度は、ＸＲＤにより金属粒子１０の構造を解析する場合、結晶性散乱積分強度と非晶性散乱積分強度の合計に対する非晶性散乱積分強度の比で表すことができる。また、電子顕微鏡を用いて金属粒子１０の内部における非晶質部分と結晶化部分とを特定し、金属粒子１０に占める非晶質部分の面積の比率から非晶質化度を求めてもよい。

【0021】

金属粒子１０の粒径は、特に限定されず、たとえば、金属粒子１０が、１μｍ以上１００μｍ以下の平均粒径を有していてもよい。金属粒子１０の粒径は、磁気コア２の断面を画像解析することで計測でき、本実施形態で示す「粒径」は、磁気コア２の断面で観測される金属粒子１０の円相当径を意味するものとする。各金属粒子１０の円相当径は、磁気コア２の断面における各金属粒子１０の面積をαとして、（４α／π）^1/2で表される。軟磁性粉末１の粒度分布は、磁気コア２の断面で少なくとも１００個の金属粒子１０の円相当径を計測することで、特定することが好ましく、金属粒子１０の平均粒径は、計測した円相当径の算術平均値を算出することで特定すればよい。

【0022】

また、金属粒子１０の形状は、必ずしも限定されないが、金属粒子１０の平均円形度が、０．８０以上であることが好ましく、０．９０以上であることがより好ましい。各金属粒子１０の円形度は、磁気コア２の断面における各金属粒子１０の面積をα、各金属粒子１０の周囲長をＬとして、２（πα）^1/2／Ｌで表される。平均円形度は、少なくとも１００個の金属粒子１０の円形度を測定することで算出することが好ましい。

【0023】

軟磁性粉末１では、粒子表面を覆うように絶縁被膜が形成してあることが好ましい。絶縁被膜は、軟磁性粉末１を構成する各金属粒子１０に形成してあってもよいし、軟磁性粉末１が、絶縁被膜を有する金属粒子１０と、絶縁被膜を有していない金属粒子１０と、を含んでいてもよい。絶縁被膜の材質は特に限定されない。たとえば、絶縁被膜は、粒子表面の酸化による被膜（酸化被膜）、もしくは、ＢＮ、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、リン酸塩、ケイ酸塩、ホウケイ酸塩、ビスマス酸塩、または各種ガラスなどの無機材料を含む被膜とすることができ、酸化物ガラスの被膜を含むことが好ましい。

【0024】

酸化物ガラスとしては、たとえば、ケイ酸塩（ＳｉＯ₂）系ガラス、リン酸塩（Ｐ₂Ｏ₅）系ガラス、ビスマス酸塩（Ｂｉ₂Ｏ₃）系ガラス、および、ホウケイ酸塩（Ｂ₂Ｏ₃－ＳｉＯ₂）系ガラスなどが例示される。より具体的に、ケイ酸塩系ガラスとしては、ＳｉＯ₂（Ｓｉ－Ｏ系ガラス）、ソーダガラス（Ｓｉ－Ｎａ－Ｃａ－Ｏ系ガラス）、Ｓｉ－Ｂａ－Ｍｎ－Ｏ系ガラス、Ｓｉ－Ｍｎ－Ｃａ－Ｎａ－Ｏ系ガラスなどが例示される。リン酸塩系ガラスとしては、Ｐ₂Ｏ₅（Ｐ－Ｏ系ガラス）、Ｐ－Ｚｎ－Ａｌ－Ｏ系ガラス、Ｐ－Ｚｎ－Ａｌ－Ｒ－Ｏ系ガラス（「Ｒ」は、アルカリ金属から選択される１種以上の元素）などが例示される。ビスマス酸塩系ガラスとしては、Ｂｉ－Ｚｎ－Ｂ－Ｓｉ－Ｏ系ガラス、Ｂｉ－Ｚｎ－Ｂ－Ｓｉ－Ａｌ－Ｏ系ガラスなどが例示される。また、ホウケイ酸塩系ガラスとしては、Ｂａ－Ｚｎ－Ｂ－Ｓｉ－Ａｌ－Ｏ系ガラスなどが例示される。

【0025】

絶縁被膜は、２種以上の被膜を積層した構造を有していてもよい。絶縁被膜の平均厚みは、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

【0026】

軟磁性粉末１は、１種の粉末で構成してあってもよいが、粒子組成、および／または、粒径が異なる２種以上の粒子群を含むことが好ましい。たとえば、図４Ｂに示すように、軟磁性粉末１が、金属粒子１０として、大粒子１０ａと、大粒子１０ａよりも小さい粒径を有する小粒子１０ｂと、を含むことが好ましい。

【0027】

軟磁性粉末１が、大粒子１０ａおよび小粒子１０ｂを含む場合、大粒子１０ａの平均粒径が、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。一方、小粒子１０ｂの平均粒径が、２μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上２μｍ未満であることがより好ましい。また、大粒子１０ａが、結晶質構造、ナノ結晶構造、もしくは、非晶質構造を有していてもよく、保磁力を低くする観点から、ナノ結晶構造もしくは非晶質構造を有することが好ましい。一方、小粒子１０ｂが、純鉄、純コバルト、Ｆｅ－Ｎｉ合金、Ｆｅ－Ｓｉ合金、もしくは、Ｆｅ－Ｃｏ合金などの飽和磁束密度の高い結晶質構造の軟磁性金属であることが好ましい。

【0028】

また、磁気コア２に含まれる大粒子１０ａおよび小粒子１０ｂの含有率は、特に限定されない。たとえば、磁気コア２の断面において、金属粒子１０の合計面積に対する大粒子１０ａの合計面積の比率が、５０％以上９０％以下であることが好ましく、６０％以上８０％以下であることがより好ましい。金属粒子１０の合計面積に対する小粒子１０ｂの合計面積の比率が、５％以上５０％以下であることが好ましく、５％～３０％であることがより好ましい。

【0029】

軟磁性金属１は、金属粒子１０として、上記の大粒子１０ａおよび小粒子１０ｂと共に、中粒子１０ｃを含んでいてもよい。中粒子１０ｃの平均粒径は、特に限定されず、たとえば、３μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。中粒子１０ｃは、結晶質構造、ナノ結晶構造、もしくは、非晶質構造を有していてもよく、保磁力を低くする観点から、ナノ結晶構造もしくは非晶質構造を有することが好ましい。中粒子１０ｃの含有率は特に限定されず、たとえば、金属粒子１０の合計面積に対する中粒子１０ｃの合計面積の比率が、５％～３０％であることが好ましい。

【0030】

上記のように、軟磁性粉末１が２種以上の粒子群を含む場合、軟磁性粉末１が絶縁被膜を有していない粒子群を含んでいてもよいが、少なくとも大粒子１０ａが絶縁被膜を有することが好ましく、大粒子１０ａ、中粒子１０ｃ、および、小粒子１０ｂが、それぞれ、絶縁被膜を有することがより好ましい。２種以上の粒子群がそれぞれ絶縁被膜を有する場合、各粒子群が、同じ材質の絶縁被膜を有していてもよいし、それぞれ異なる材質の絶縁被膜を有していてもよい。また、各粒子群の平均円形度は、特に限定されないが、大粒子１０ａ、中粒子１０ｃ、および、小粒子１０ｂが、それぞれ、０．８０以上の平均円形度を有することが好ましい。

【0031】

大粒子１０ａ、中粒子１０ｃ、および、小粒子１０ｂは、ＥＤＸ装置またはＥＰＭＡを用いた面分析により、磁気コア２の断面に含まれる金属粒子１０を組成に基づいて類別することで、識別することができる。また、軟磁性粉末１の粒度分布に基づいて、大粒子１０ａ、中粒子１０ｃ、および、小粒子１０ｂを識別してもよい。たとえば、図３が軟磁性粉末１の粒度分布の一例である。図３に示すような粒度分布を特定した場合、「最も大径側に位置するＰｅａｋ１に属する粒子群（ＬＰ１からＥＰ１までの範囲の粒子群）」を大粒子１０ａ、「最も小径側に位置するＰｅａｋ２に属する粒子群（ＥＰ２からＬＰ２までの範囲の粒子群）」を小粒子１０ｂ、「Ｐｅａｋ１とＰｅａｋ２の間に位置するＰｅａｋ３に属する粒子群（ＬＰ２からＬＰ１までの範囲の粒子群）」を中粒子１０ｃとして特定してもよい。

【0032】

樹脂３は、軟磁性粉末１を所定の分散状態で固定する絶縁性の結着材である。樹脂３の材質は、特に限定されず、たとえば、樹脂３が、熱可塑性樹脂を含んでいてもよいが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、またはシリコーン樹脂などの熱硬化性樹脂を含むことが好ましく、エポキシ樹脂を含むことがより好ましい。

【0033】

磁気コア２における軟磁性粉末１の充填率は、磁気コア２の断面における軟磁性粉末１の面積率で表される。「軟磁性粉末１の面積率」とは、磁気コア２の断面の面積に対する、当該断面に含まれる金属粒子１０の合計面積の比率を意味する。本実施形態では、磁気コア２の断面を複数の解析領域に分割し、各解析領域における軟磁性粉末１の面積率を測定することで、磁気コア２における軟磁性粉末１の面積率分布を特定する。以下、図４Ａおよび図４Ｂに基づいて、面積率分布の特定方法について詳述する。

【0034】

まず、コイル軸に沿う磁気コア２の断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し、当該断面に含まれる金属粒子１０の円相当径を計測する。そして、計測した円相当径の最大値を、軟磁性粉末１の最大粒子径Ｄ_MAX（単位：μｍ）として特定する。次に、図４Ａに示すように、観察している断面を等間隔格子Ｇにより区分けする。等間隔格子Ｇは、一定間隔で並ぶ縦線と横線の組合せからなる仮想の仕切りであり、図４Ａでは等間隔格子Ｇを点線で示している。等間隔格子Ｇの格子幅は、最大粒子径Ｄ_MAXの２倍の長さに設定する。つまり、磁気コア２の断面を、等間隔格子Ｇにより、１辺の長さが２Ｄ_MAXで、（２Ｄ_MAX）²の面積を有する正方形領域２０に区分けする。等間隔格子Ｇによって区画される正方形領域２０を、面積率の解析単位とする。なお、等間隔格子Ｇにおける縦線の数と横線の数とは、異なっていてもよいが、同程度であることが好ましい。

【0035】

図４Ｂが、１つの正方形領域２０を例示した模式図である。磁気コア２の断面を区分けした後、各正方形領域２０において軟磁性粉末１の面積率ｘ_iを測定する。各正方形領域２０の面積をＡ_i（すなわち、Ａ_i＝（２Ｄ_MAX）²）とし、各正方形領域２０に含まれる金属粒子１０の合計面積をα_iとして、各正方形領域２０における軟磁性粉末１の面積率ｘ_i（単位：％）は、Ａ_iに対するα_iの比率（α_i／Ａ_i）で表される。上記の方法で、各正方形領域２０における軟磁性粉末１の面積率ｘ_iを測定することで、磁気コア２における軟磁性粉末１の面積率分布を特定することができる。なお、上記の解析は、画像解析ソフトを利用して実施すればよい。

【0036】

軟磁性粉末１の面積率分布は、中芯部２αおよび外側部２βのそれぞれで特定する。つまり、中芯部２αの断面、および、外側部２βの断面を、それぞれ、等間隔格子Ｇによる区分けして、中芯部２αにおける軟磁性粉末１の面積率分布、および、外側部２βにおける軟磁性粉末１の面積率分布を特定する。この際、中芯部２αおよび外側部２βでは、それぞれ、面積率ｘ_iを測定する正方形領域２０の数を、少なくとも３０に設定し、１００以上に設定することが好ましい。なお、面積率分布の解析では、コイル５を避けて解析領域を設定することが好ましく、コイル５の一部が映り込んでいる正方形領域２０は、解析対象外とする。

【0037】

以下の説明において、「中芯部２αにおける面積率分布」は、中芯部２αで測定した軟磁性粉末１の面積率ｘ_iの分布を意味し、「外側部２βにおける面積率分布」は、外側部２βで測定した軟磁性粉末１の面積率ｘ_iの分布を意味し、「磁気コア２における面積率分布」は、中芯部２αにおける軟磁性粉末１の面積率ｘ_iおよび外側部２βにおける軟磁性粉末１の面積率ｘ_iを、両方含む分布を意味するものとする。

【0038】

本実施形態の磁気コア２では、面積率ｘ_iの平均（以下、平均面積率ｘ_Aと称する）が、７５％以上９０％以下である。この平均面積率ｘ_Aは、磁気コア２における面積率分布の平均値であり、磁気コア２における軟磁性粉末１の平均充填率に相当する。平均面積率ｘ_Aは、中芯部２αおよび外側部２βで測定したα_i／Ａ_iの合計をサンプル数（すなわち中芯部２αおよび外側部２βで設定した正方形領域２０の総数）で割ることで算出してもよいし、中芯部２αおよび外側部２βで測定したα_iの合計をＡ_iの合計で割ることで算出してもよい。

【0039】

中芯部２αにおける面積率分布と、外側部２βにおける面積率分布とが、同程度の平均値を有していてもよいし、異なる平均値を有していてもよい。つまり、中芯部２αにおける軟磁性粉末１の平均面積率をｘ_Aαとし、外側部２βにおける軟磁性粉末１の平均面積率をｘ_Aβとすると、ｘ_Aαとｘ_Aβの関係が、ｘ_Aα＝ｘ_Aβであってもよく、ｘ_Aα≠ｘ_Aβであってもよい。平均面積率ｘ_Aが７５％以上９０％以下の範囲であれば、ｘ_Aαおよびｘ_Aβは特に限定されないが、ｘ_Aαおよびｘ_Aβが、いずれも、７５％以上９０％以下であることが好ましい。なお、ｘ_Aαおよびｘ_Aβを異なる値に設定する場合（つまり、ｘ_Aα≠ｘ_Aβの場合）には、外側部２βにおける平均面積率ｘ_Aβよりも中芯部２αにおける平均面積率ｘ_Aαを高く設定することが好ましい（つまり、ｘ_Aβ＜ｘ_Aαであることが好ましい）。

【0040】

磁性部品１００の磁気コア２では、中芯部２αと外側部２βとが、それぞれ、「歪度」が異なる面積率分布を有する。ここで、「歪度（単位なし）」とは、面積率分布の左右対称性を示す指標であり、面積率分布が正規分布からどの程度歪んでいるかを表す統計量を意味する。具体的に、磁気コア２における面積率分布の歪度は、以下の式（１）により算出される。

【0041】

【数1】

上記の式（１）において、ｘ_iは各正方形領域２０における軟磁性粉末１の面積率、ｘ_Aは軟磁性粉末１の平均面積率、σは面積率の標準偏差、ｎはサンプル数（すなわち正方形領域２０の数）を意味する。中芯部２αにおける面積率分布の歪度、および、外側部２βにおける面積率分布の歪度も、上記の式（１）に基づいて算出すればよい。

【0042】

図５は、軟磁性粉末１の面積率分布を例示したグラフであり、当該グラフにおける横軸が面積率（すなわち充填率）であり、縦軸が頻度である。横軸に沿ってグラフの右側を高充填側と称し、グラフの左側を低充填側と称することとする。図５のグラフでは、軟磁性粉末１の面積率分布として、３種類の分布曲線を示しており、各分布曲線における平均面積率は、いずれも、８０％である。図５に示す３種類の分布曲線のうち、実線で示す分布曲線が正規分布である。正規分布は、極大点を中心として左右対称の形状を有しており、軟磁性粉末１の面積率分布が正規分布に従う場合には、歪度は０である。

【0043】

図５において一点鎖線で示す分布曲線が、歪度が負の値を示す面積率分布の一例である。歪度が負の値を示す場合には、面積率が、極大点を基準として、高充填側よりも低充填側に広く分布する。換言すると、面積率分布における低充填側の裾が、高充填側の裾よりも長くなれば、歪度が負の値を示す。一方、図５において点線で示す分布曲線が、歪度が正の値を示す面積率分布の一例である。歪度が正の値を示す場合には、面積率が、極大点を基準として、低充填側よりも高充填側に広く分布する。換言すると、面積率分布における高充填側の裾が、低充填側の裾よりも長くなれば、歪度が正の値を示す。

【0044】

本実施形態では、中芯部２αにおける面積率分布の歪度を符号「Ｓα」を用いて表記し、外側部２βにおける面積率分布の歪度を符号「Ｓβ」を用いて表記することとする。また、磁気コア２における面積率分布の歪度、すなわち、中芯部２αにおける面積率ｘ_iおよび外側部２βにおける面積率ｘ_iを両方含む分布から特定される歪度を、符号「Ｓ_k」を用いて表記する。なお、磁気コア２における面積率分布の歪度Ｓ_kを算出する際には、中芯部２αで計測する面積率ｘ_iのデータ数と、外側部２βで計測する面積率ｘ_iのデータ数とを、同じ数に設定することが好ましい。

【0045】

本実施形態の磁性部品１００では、中芯部２αにおける面積率分布の歪度Ｓαと、外側部２βにおける面積率分布の歪度Ｓβとの差の絶対値が、０．０１以上である。換言すると、磁気コア２が０．０１≦｜Ｓα－Ｓβ｜を満たす。

【0046】

７５％≦ｘ_A≦９０％を満たす磁気コア２において、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定することで、－０．０１＜（Ｓα－Ｓβ）＜０．０１の場合よりも、直流重畳定格電流（Ｉｓａｔ）を高くすることができ、磁性部品１００の直流重畳特性を向上させることができる。

【0047】

一方、７５％≦ｘ_A≦９０％を満たす磁気コア２において、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定した場合には、－０．０１＜（Ｓα－Ｓβ）＜０．０１の場合よりも、透磁率を高くすることができる。磁性部品を設計する際には、まず、所望のインダクタンスを定め、所望のインダクタンスが得られるように軟磁性粉末の平均充填率を設定する。本実施形態の磁性部品１００では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に制御することで、－０．０１＜（Ｓα－Ｓβ）＜０．０１の場合よりも、所望のインダクタンスを得るために必要な平均充填率（平均面積率ｘ_A）を低くすることができる。つまり、低い充填率で高いインダクタンスが得られるため、金属粒子１０同士の接触を抑制でき、局所的な磁気飽和を抑制できる。その結果、磁性部品１００の直流重畳特性を向上させることができる。

【0048】

上記のとおり、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）は、負の値であってもよく、正の値であってもよく、歪度の差の絶対値（｜Ｓα－Ｓβ｜）を０．０１以上に制御することで、直流重畳特性を向上させることができる。直流重畳特性をさらに向上させる観点から、｜Ｓα－Ｓβ｜は０．０５以上であることが好ましく、０．１０以上であることがより好ましく、０．５０以上であることがさらに好ましい。｜Ｓα－Ｓβ｜の上限は、必ずしも限定されないが、たとえば、｜Ｓα－Ｓβ｜は、１０．００以下であることが好ましく、５．００以下であることがより好ましい。また、高透磁率と良好な直流重畳特性とをより好適に両立させる観点では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が負の値（たとえば、－１０．００以上－０．０１以下）を示すことが好ましい。

【0049】

｜Ｓα－Ｓβ｜を０．０１以上に設定する場合、ＳαおよびＳβのいずれか一方を０．００に設定してもよい。Ｓαの絶対値およびＳβの絶対値は、いずれも、０．０１以上に設定することが好ましく、０．０１以上５．００以下に設定することがより好ましい。

【0050】

前述のとおり、Ｓ_kは、中芯部２αにおける面積率ｘ_iおよび外側部２βにおける面積率ｘ_iを両方含む分布の歪度を意味する。磁気コア２が０．０１≦｜Ｓα－Ｓβ｜を満たしていれば、Ｓ_kは特に限定されない。たとえば、Ｓ_kの絶対値が、０．０１以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．１０以上であることがより好ましい。Ｓ_kが負の値を示す場合は、直流重畳特性がより向上する傾向となり、Ｓ_kが正の値を示す場合は、インダクタンスがより向上する傾向となる。なお、Ｓ_kの絶対値の上限は特に限定されず、たとえば、Ｓ_kの絶対値が１０．００以下であることが好ましく、５．００以下であることがより好ましい。

【0051】

以下、本実施形態に係る磁性部品１００の製造方法の一例について説明する。

【0052】

まず、軟磁性粉末１を準備する。軟磁性粉末１の製造方法は、特に限定されず、所望の粒子組成に応じて、適する製造方法を採用すればよい。たとえば、水アトマイズ法またはガスアトマイズ法などのアトマイズ法により軟磁性粉末を製造してもよい。もしくは、金属塩の蒸発、還元、熱分解のうち少なくとも１種以上を用いたＣＶＤ法により軟磁性粉末を製造してもよい。また、単ロール法などにより軟磁性金属薄帯を作製し、その軟磁性金属薄帯を粉砕することで軟磁性粉末を製造してもよい。その他にも、電解法、または、カルボニル法で軟磁性粉末を製造してもよい。

【0053】

非晶質構造またはナノ結晶構造の軟磁性粉末を製造する場合には、上記の粉末製造方法の中でも、ガスアトマイズ法もしくは単ロール法を採用することが好ましい。また、ナノ結晶構造の軟磁性粉末は、ガスアトマイズ法もしくは単ロール法で作製した非晶質構造の軟磁性粉末に対して、結晶構造を制御するための熱処理を施すことで、製造してもよい。

【0054】

２種以上の粒子群を含む軟磁性粉末１を製造する場合には、各粒子群の原料粉末を準備する。たとえば、大粒子１０ａおよび小粒子１０ｂを含む軟磁性粉末１を製造する場合には、大粒子１０ａからなる大径粉と、小粒子１０ｂからなる小径粉とを、それぞれ作製し、大径粉と小径粉とを所望の比率で混合すればよい。また、大粒子１０ａ、中粒子１０ｃ、および小粒子１０ｂを含む軟磁性粉末１を製造する場合には、大径粉、小径粉、および中粒子１０ｃからなる中径粉を作製し、これらを所望の比率で混合すればおい。大径粉、中径粉、および小径粉の比率は、特に限定されない。たとえば、軟磁性粉末１００ｗｔ％に対して、大径粉の比率が、５０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下であることが好ましく、６０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下であることがより好ましい。また、中径粉の比率、および、小径粉の比率が、それぞれ、５ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であることが好ましい。

【0055】

軟磁性粉末１における粒子表面に絶縁被膜を形成する場合には、軟磁性粉末１に対して、被膜形成処理を施せばよい。被膜形成処理の方法は、特に限定されず、形成する絶縁被膜の種類に応じて、適する被膜形成処理を選択すればよい。被膜形成処理としては、たとえば、熱処理、リン酸塩処理、メカノケミカル法による表面処理、メカニカルアロイング、シランカップリング処理、もしくは、水熱合成などが例示される。

【0056】

なお、大径粉、中径粉、および小径粉などの２種以上の粉末を混合して軟磁性粉末１を製造する場合には、混合後の軟磁性粉末１に対して被膜形成処理を施してもよいし、混合前の原料粉末に対して、被膜形成処理を施してもよい。

【0057】

次に、軟磁性粉末１を用いて、磁気コア２の原料である顆粒を製造する。まず、熱硬化性樹脂および硬化剤などの樹脂原料を、アセトンまたはエタノールなどの有機溶媒に添加し、樹脂溶液を作製する。そして、軟磁性粉末１を樹脂溶液に加えて混練する。この際、軟磁性粉末１と樹脂溶液との混練には、ニーダー、プラネタリーミキサー、自転・公転ミキサーまたは二軸押出機などの各種混練機を用いればよく、混練物中に改質剤、防腐剤、分散剤、非磁性粉末などを添加してもよい。混練後、有機溶媒を揮発させることで、顆粒が得られる。

【0058】

上記の混練工程における軟磁性粉末１と樹脂原料との配合比は、特に限定されず、たとえば、硬化後の樹脂３の含有率が、軟磁性粉末１００重量部に対して、１重量部以上５重量部以下となるように、軟磁性粉末１および樹脂原料を秤量することが好ましい。また、大径粉、中径粉、および小径粉などの２種以上の原料粉末を使用する場合には、これら原料粉末を事前に混合してから、得られた混合粉を樹脂溶液に添加してもよいし、原料粉末を混合せずに樹脂溶液に添加し、混練工程で樹脂原料と共に原料粉末を混合させてもよい。

【0059】

顆粒の寸法および形状は、特に限定されないが、たとえば、顆粒は０．０２ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下の粒形状を有することが好ましく、顆粒の平均径が、０．０５ｍｍ以上０．２０ｍｍ以下であることが好ましい。顆粒の寸法を上記の範囲に制御するために、混練工程後に篩分級を実施することが好ましい。篩分級の条件は、必ずしも限定されないが、たとえば、混練工程後の顆粒を、目開きが２０μｍ～５００μｍの複数の篩を用いて分級することで、顆粒の粒度分布を０．０２ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下の範囲に制御でき、かつ、粒度分布の尖度を向上させることができる。本実施形態では、篩分級後の顆粒を１次顆粒と称することとする。

【0060】

１次顆粒のみを原料として用いて成形体を製造すると、当該成形体における軟磁性粉末の面積率分布が正規分布に従い、面積率分布の歪度が０に近似する傾向となる。面積率分布の歪度は、顆粒の比重（単位ｇ／ｃｍ³）の分布に基づいて制御することができる。各顆粒の比重は、各顆粒における軟磁性粉末の含有率と相関があり、比重が大きい顆粒では軟磁性粉末の含有率が高く、比重が小さい顆粒では軟磁性粉末の含有率が低い。たとえば、原料顆粒から比重が大きい顆粒を除去し、比重が小さい顆粒の割合を高めると、面積率分布の歪度を負の値に制御することができる。一方、原料顆粒から比重が小さい顆粒を除去し、比重が大きい顆粒の割合を高めると、面積率分布の歪度を正の値に制御することができる。したがって、本実施形態では、面積率分布の歪度を所望の値に制御するために、篩分級後にさらに気流分級を施した２次顆粒を準備する。

【0061】

２次顆粒の製造条件は必ずしも限定されない。面積率分布の歪度を負の値に制御するためには、比重が小さい２次顆粒を製造すればよい。たとえば、目開きが２０μｍ～１００μｍのメッシュサイズが細かい篩を用いて、混練工程後の顆粒を分級し、２０μｍ～１００μｍの粒度分布を有する顆粒を抽出する。そして、篩分級後の顆粒に対してさらに気流分級を実施し、比重が大きい顆粒を除去することで、比重が小さい２次顆粒を抽出すればよい。

【0062】

一方で、面積率分布の歪度を正の値に制御するためには、比重が大きい２次顆粒を製造すればよい。たとえば、目開きが２００μｍ～５００μｍのメッシュサイズが荒い篩を用いて、混練工程後の顆粒を分級し、２００μｍ～５００μｍの粒度分布を有する顆粒を抽出する。そして、篩分級後の顆粒に対してさらに気流分級を実施し、比重が小さい顆粒を除去することで、比重が大きい２次顆粒を抽出すればよい。

【0063】

面積率分布の歪度は、篩分級および気流分級の条件により調整することができる。また、面積率分布の歪度をより高い精度で制御する観点では、１次顆粒と２次顆粒とを混合して用いることが好ましく、１次顆粒と２次顆粒との配合比により、面積率分布の歪度を調整することができる。

【0064】

また、本実施形態では、｜Ｓα－Ｓβ｜を０．０１以上に設定するために、上述した１次顆粒と２次顆粒とを用いて、顆粒の比重分布が異なる中芯部用原料と、外側部用原料とを準備する。中芯部用原料および外側部用原料の製造では、ＳαおよびＳβが所望の値となるように、分級条件、および、１次顆粒と２次顆粒の配合比を設定すればよい。

【0065】

たとえば、中芯部用原料と外側部用原料のいずれか一方を、１次顆粒のみで構成し、他方を１次顆粒と２次顆粒との混合顆粒で構成してもよい。もしくは、中芯部用原料と外側部用原料のいずれか一方を、１次顆粒と比重が小さい２次顆粒との混合顆粒で構成し、他方を、１次顆粒と比重が大きい２次顆粒との混合顆粒で構成してもよい。また、中芯部用原料と外側部用原料の両方で、同じ２次顆粒を使用してもよく、この場合は、中芯部用原料と外側部用原料とで、２次顆粒の配合比を変えることで、｜Ｓα－Ｓβ｜を０．０１以上に設定してもよい。

【0066】

磁気コア２は、中芯部用原料と外側部用原料とを用いて、１段階圧縮により製造してもよいし、２段階圧縮により製造してもよい。たとえば、１段階圧縮で磁気コア２を製造する場合には、金型のキャビティ内にコイル５を設置すると共に、外側部用原料を外側部２βに対応する箇所に充填し、かつ、中芯部用原料を中芯部２αに対応する箇所に充填すればよい。その後、金型に充填した顆粒を圧縮することで、コイル５が埋設された圧粉体が得られる。この際の成形圧は、特に限定されず、たとえば、９．８ＭＰａ以上１．２×１０³ＭＰａ以下（０．１ｔ／ｃｍ²以上１２ｔ／ｃｍ²以下）に設定してもよい。

【0067】

２段階圧縮により磁気コア２を製造する場合は、まず、予備成形体を製造する。たとえば、中芯部用原料を用いて少なくとも１つの第１予備成形体２００αを製造し、外側部用原料を用いて少なくとも１つの第２予備成形体２００βを製造すればよい。その後、図６に示すように、第１予備成形体２００α、第２予備成形体２００β、および、コイル５を組合せ、その組立体を本圧縮することで、コイル５が埋設された圧粉体が得られる。

【0068】

なお、図６では、１つの第１予備成形体２００αをコイル５の内側に配置しているが、２つ以上の第１予備成形体２００αを使用してもよい。また、第１予備成形体２００αは、コイル５と同じ高さを有していてもよく、異なる高さを有していてもよい。図６では、コイル５のＺ軸上方に配置する第２予備成形体２００βと、コイル５のＺ軸下方に配置する第２予備成形体２００βを図示している。ただし、磁性部品１００の構造や寸法に応じて、第２予備成形体２００βの数は、３以上であってもよい。

【0069】

本圧縮における成形圧は、特に限定されず、たとえば、９．８ＭＰａ以上１．２×１０³ＭＰａ以下（０．１ｔ／ｃｍ²以上１２ｔ／ｃｍ²以下）に設定してもよい。また、本圧縮における成形圧は、予備成形体を製造する際の成形圧（以下予備成形圧と称する）と同程度の圧力に設定してもよいし、異なる圧力に設定してもよい。本圧縮における成形圧が、予備成形圧よりも低いことが好ましく、予備成形圧の４０％～８０％程度低いことがより好ましい。

【0070】

磁気コア２における軟磁性粉末１の平均面積率ｘ_A（すなわち平均充填率）は、樹脂３の含有率（樹脂原料の配合比）により制御できるが、成形圧によっても制御可能である。樹脂３として熱硬化性樹脂を用いる場合は、成形後の圧粉体を１００℃～２００℃で１時間～５時間加熱して、熱硬化性樹脂を硬化させる。なお、２段階圧縮により磁気コアを製造する場合は、予備成形体を硬化開始温度よりも低い温度で加熱してもよい。そして、本圧縮後に硬化開始温度よりも高い温度で本加熱することで、熱硬化性樹脂を完全硬化させてもよい。

【0071】

コイル５が埋設された磁気コア２を製造した後、磁気コア２の端面２ｅに外部電極６を形成することで、図１に示すような断面を有する磁性部品１００が得られる。

【0072】

磁性部品１００の用途は、特に限定されず、たとえば、磁性部品１００は、電源回路に用いられるパワーインダクタとして好適に利用することができる。

【0073】

（実施形態のまとめ）
本実施形態の磁性部品１００は、軟磁性粉末１を含む磁気コア２と、コイル５とを有する。磁気コア２の断面における軟磁性粉末１の平均面積率ｘ_Aが７５％以上９０％以下であり、磁気コア２が、コイル５の内周側に位置する中芯部２αと、中芯部２αの外側に位置する外側部２βとを有する。中芯部２αにおける軟磁性粉末１の面積率分布の歪度Ｓαと、外側部２βにおける軟磁性粉末１の面積率分布の歪度Ｓβとの差の絶対値が、０．０１以上である（すなわち、０．０１≦｜Ｓα－Ｓβ｜）。

【0074】

磁性部品１００が上記の特徴を有することで、従来の磁性部品よりも、直流重畳特性を向上させることができる。より具体的に、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定することで、従来よりも、直重畳定格電流を高くすることができ、優れた直流重畳特性が得られる。また、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定することで、従来よりも高いインダクタンスが得られ、所望のインダクタンスを得るために必要な充填率を低減することができる。その結果、従来よりも直流重畳特性を向上させることができる。

【0075】

以上、本開示の実施形態について説明してきたが、本開示は上述した実施形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内で種々に改変することができる。

【0076】

たとえば、本実施形態の磁性部品１００では、コイル５が磁気コア２の内部に埋設されているが、Ｅ－Ｉ型やＥ－Ｅ型のような所定形状の磁気コア２の表面にワイヤを巻回することでコイル５を形成してもよい。

【実施例0077】

以下、本開示をさらに詳細な実施例に基づき説明するが、本開示はこれら実施例に限定されない。

【0078】

（実験１）
試料Ａ６～試料Ａ１５
表１に示す試料Ａ６～試料Ａ１５に係る磁性部品を、それぞれ、以下に示す手順で製造した。

【0079】

まず、軟磁性粉末の原料粉として、大粒子および小粒子を準備した。具体的に、急冷ガスアトマイズ法により、非晶質構造を有する大粒子を製造した。当該大粒子の平均組成は、Ｆｅが５７．５ａｔ％、Ｃｏが２４．６ａｔ％、Ｂが１１ａｔ％、Ｐが３ａｔ％、Ｓｉが３ａｔ％、Ｃｒが１ａｔ％であり、大粒子の平均粒径は２５μｍであった。また、当該大粒子に対してメカノケミカル法による被膜形成処理を施し、Ｐ－Ｚｎ－Ｎａ－Ａｌ－Ｏの組成を有する絶縁被膜を形成した。当該絶縁被膜の平均厚みは、２０ｎｍであった。一方、小粒子としては、１μｍの平均粒径を有する結晶質構造のＦｅ粉末を準備した。

【0080】

次に、樹脂原料として、エポキシ樹脂と、硬化剤であるイミド樹脂とを準備し、これら樹脂原料をアセトンに添加して樹脂溶液を得た。そして、樹脂溶液、大粒子、および、小粒子を混練し、得られた混練物を所定の条件で乾燥させアセトンを揮発させることで、顆粒を得た。当該混練工程では、大粒子と小粒子の合計１００ｗｔ％に対して、大粒子の比率を８０ｗｔ％、小粒子の比率を２０ｗｔ％に設定した。また、硬化後の樹脂成分の含有率が軟磁性粉末１００重量部に対して２．５重量部となるように、軟磁性粉末（大粒子および小粒子）と樹脂原料とを秤量した。

【0081】

次に、目開きが２０μｍ～５００μｍの篩を用いて、混練工程後の顆粒を分級し、１次顆粒を得た。試料Ａ６～試料Ａ１５では、当該１次顆粒を、外側部用原料として用いた。

【0082】

また、試料Ａ６～試料Ａ１０では、目開きが２０μｍ～１００μｍの篩を用いて混練工程後の顆粒を分級し、さらに、篩分級後の顆粒に対して気流分級を実施し、比重の小さい２次顆粒を抽出した。試料Ａ６～試料Ａ１０では、１次顆粒と、比重の小さい２次顆粒とを、面積率分布の歪度が－０．５０となるような比率で混合し、この混合顆粒を、中芯部用原料として用いた。

【0083】

一方、試料Ａ１１～試料Ａ１５では、目開きが２００μｍ～５００μｍの篩を用いて混練工程後の顆粒を分級し、さらに、篩分級後の顆粒に対して気流分級を実施し、比重の大きい２次顆粒を抽出した。試料Ａ１１～試料Ａ１５では、１次顆粒と、比重の大きい２次顆粒とを、面積率分布の歪度が０．５０となるような比率で混合し、この混合顆粒を、中芯部用原料として用いた。

【0084】

次に、中芯部用原料を用いて第１予備成形体を製造し、外側部用原料を用いて第２予備成形体を製造した。そして、第１予備成形体、第２予備成形体、および、コイルを、図６に示すように組み合わせて、その組立体を圧縮することで、コイルが埋設された圧粉体を得た。本圧縮の際の成形圧は、９．８ＭＰａ以上１．２×１０³ＭＰａ以下の範囲に設定し、当該成形圧によって、各試料における軟磁性粉末の平均面積率ｘ_A（平均充填率）を表１に示す値に制御した。そして、上記の圧粉体を１８０℃で６０分間、加熱処理することで、圧粉体中のエポキシ樹脂を硬化させた。

【0085】

その後、磁気コアの端面に、外部電極を形成した。以上の工程により各試料に係る磁性部品を製造した。各磁性部品における磁気コアは、長さ３ｍｍ、幅３ｍｍ、コイル軸方向の高さ１ｍｍの直方体形状を有していた。

【0086】

試料Ａ１～試料Ａ５
試料Ａ１～試料Ａ５では、試料Ａ６～試料Ａ１５と同じ軟磁性粉末および樹脂原料を用いて、試料Ａ６～試料Ａ１５と同じ条件で１次顆粒を製造した。試料Ａ１～試料Ａ５では、混合顆粒を使用せずに、１次顆粒のみを用いて、磁気コアを製造した。つまり、試料Ａ１～試料Ａ５では、１次顆粒のみを金型に充填して、第１予備成形体および第２予備成形体を製造した。そして、１次顆粒のみからなる第１予備成形体および第２予備成形体を用いて、試料Ａ６～試料Ａ１５と同様の方法で、磁性部品を製造した。

【0087】

試料Ａ１～試料Ａ５においても、試料Ａ６～試料Ａ１５と同様に、本圧縮時の成形圧を９．８ＭＰａ以上１．２×１０³ＭＰａ以下の範囲に設定し、この成形圧によって、平均面積率ｘ_A（平均充填率）を表１に示す値に制御した。また、磁性部品における磁気コアは、長さ３ｍｍ、幅３ｍｍ、コイル軸方向の高さ１ｍｍの直方体形状を有していた。

【0088】

実験１の各試料では、作製した磁気コアに対して、以下に示す評価を実施した。

【0089】

磁気コアの断面解析
磁気コアのコイル軸方向に沿う断面を鏡面研磨し、コイルの内側に位置する中芯部と、中芯部の外側に位置する外側部と、を特定した。そして、中芯部の断面、および、外側部の断面を、それぞれ、ＳＥＭで観察し、画像解析ソフト（ナノシステム株式会社、Ｎａｎｏ Ｈｕｎｔｅｒ ＮＳ２Ｋ－Ｐｒｏ）を用いて各領域における軟磁性粉末の面積率分布を解析した。具体的に、まず、コイル軸に沿う断面に含まれる各金属粒子の円相当径を測定し、軟磁性粉末の最大粒子径Ｄ_MAX（円相当径の最大値）を特定した。次に、各領域（中芯部および外側部）の断面を、最大粒子径Ｄ_MAXの２倍の格子幅を有する等間隔格子を用いて、１００個の正方形領域に区分けした。そして、（２Ｄ_MAX）²の面積を有する各正方形領域に含まれる金属粒子の合計面積を計測することで、各正方形領域における軟磁性粉末の面積率ｘ_iを算出した。

【0090】

測定結果に基づいて、軟磁性粉末の平均面積率ｘ_A、中芯部における面積率分布の歪度Ｓα、外側部における面積率分布の歪度Ｓβ、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を算出した。実験１の各試料における解析結果を表１に示す。なお、平均面積率ｘ_A（表１に示す「平均」）は、中芯部における面積率ｘ_iおよび外側部における面積率ｘ_iを両方含む分布の算術平均値を意味する。

【0091】

１次顆粒のみを用いた試料Ａ１～試料Ａ５の磁気コアでは、中芯部および外側部の両方で、軟磁性粉末の面積率分布が、正規分布に従い、ＳαおよびＳβがいずれも０．００であった。一方、試料Ａ６～試料Ａ１０の磁気コアでは、混合顆粒を充填した中芯部において、Ｓαが－０．５０となり、１次顆粒を充填した外側部において、Ｓβが０．００となり、歪度の差が－０．５０となった。試料Ａ１１～試料１５では、混合顆粒を充填した中芯部において、Ｓαが０．５０となり、１次顆粒を充填した外側部において、Ｓβが０．００となり、歪度の差が０．５０となった。

【0092】

磁性部品の特性評価
周波数１ＭＨｚにおける磁性部品のインダクタンスＬ₀（単位：μＨ）を、ＬＣＲメータ（アジレント・テクノロジー社製４２８４Ａ）を用いて測定した。当該インダクタンスＬ₀は、４．０μＨ以上を良好と判定した。

【0093】

また、磁性部品に対して、直流電流を０Ａから一定の上昇率で印加し、その際のインダクタンスの変化を計測した。そして、直流電流を印加した際のインダクタンスＬが、０ＡにおけるインダクタンスＬ₀に対して１０％低下した際の直流電流の値（すなわち、Ｌ／Ｌ₀＝９０％となった際の直流電流値）を、直流重畳定格電流Ｉｓａｔ（単位：Ａ）として特定した。実験１における各試料の評価結果を表１に示す。

【0094】

【表1】

【0095】

表１に示すように、軟磁性粉末の平均面積率ｘ_Aが７５％以上の試料（試料Ａ２～試料Ａ５、試料Ａ７～試料Ａ１０、試料Ａ１２～試料Ａ１５）では、インダクタンスが４．０μＨ以上となり、高いインダクタンスを確保できた。直流重畳特性については、平均面積率ｘ_Aの増加に伴い、直流重畳定格電流が低下していく傾向となるが、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例（試料Ａ７～試料Ａ１０）、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例（試料Ａ１２～試料Ａ１５）では、高いインダクタンスを確保しつつ、歪度の差が０．００の比較例（試料Ａ２～試料Ａ５）よりも、良好な直流重畳特性が得られることがわかった。以下、図７Ａ～図７Ｂに基づいて、直流重畳特性の向上効果について詳述する。

【0096】

図７Ａは、磁気コアにおける軟磁性粉末の平均面積率ｘ_A（平均充填率）とＩｓａｔとの関係を示すグラフである。図７Ａの横軸が平均面積率ｘ_A、縦軸がＩｓａｔであり、表１に示す試料Ａ１～試料Ａ１５の評価結果をプロットしている。図７Ａに示しように、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５の実施例では、比較例よりも高いＩｓａｔが得られ、直流重畳特性が向上した。

【0097】

一方、図７Ｂは、磁気コアにおける軟磁性粉末の平均面積率ｘ_A（平均充填率）と、インダクタンスとの関係を示すグラフである。図７Ｂの横軸が平均面積率ｘ_A、縦軸がインダクタンスであり、表１に示す試料Ａ１～試料Ａ１５の評価結果をプロットしている。平均面積率ｘ_Aが７５％以上９０％の範囲では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例におけるインダクタンスが、比較例よりも向上した。

【0098】

磁性部品の設計においては、まず、所望のインダクタンスを定め、当該インダクタンスを実現するために必要な軟磁性粉末の平均充填率を設定する。直流重畳特性は、設定した平均充填率の結果として現れる特性である。歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例では、比較例よりも高いインダクタンスが得られるため、所望のインダクタンスを得るための平均充填率を低減することができる。たとえば、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例では、Ｌ₀＝５．５μＨを得るために、軟磁性粉末の平均充填率を８０％以上に設定する必要があるが、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例では、比較例よりも低い平均充填率でＬ₀＝５．５μＨを実現できる。このように、平均充填率を低減できることから、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）の実施例では、所定のインダクタンスにおける直流重畳特性を比較例よりも向上させることができる。

【0099】

図７Ｃが、インダクタンスとＩｓａｔの関係を示すグラフであり、表１に示す各試料の評価結果をプロットしている。図７Ｃから明らかなように、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例では、Ｌ₀＝５．５μＨでのＩｓａｔが２．０Ａ程度であるのに対して、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例では、Ｌ₀＝５．５μＨでのＩｓａｔが凡そ２．２Ａ以上であり、比較例よりも直流重畳特性を向上させることができる。なお、図７Ｃでは、プロットがグラフの右上に近づくほど磁気特性が良好であると判断できる。図７Ｃに示すグラフから、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例では、高いインダクタンスと優れた直流重畳特性とを両立できることがわかった。

【0100】

（実験２）
実験２では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）による直流重畳特性の向上効果をより詳細に検討するために、表２および表３に示す磁気コアを製造した。なお、実験２では、表２および表３に示すように、所定の（Ｓα－Ｓβ）それぞれに対して、平均面積率が異なる４つの磁性部品を製造した。

【0101】

実験２では、実験１と同じ軟磁性粉末および樹脂原料を用いて、実験１と同じ条件で１次顆粒を製造した。また、実験１と同様に、混練工程後の顆粒に対して、篩分級および気流分級を施し、比重の小さい２次顆粒と、比重の大きい２次顆粒とを製造した。

【0102】

試料Ｂ１～試料Ｂ３６では、中芯部における歪度（Ｓα）、および、外側部（Ｓβ）が、それぞれ、表２に示す値となるように、１次顆粒と２次顆粒とを混合し、中芯部用原料および外側部用原料とを製造した。特に試料Ｂ５～試料Ｂ３６では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が負の値を示すように、各原料顆粒における１次顆粒と２次顆粒との混合比を設定した。

【0103】

試料Ｃ１～試料Ｃ３２では、中芯部における歪度（Ｓα）、および、外側部（Ｓβ）が、それぞれ、表３に示す値となるように、１次顆粒と２次顆粒とを混合し、中芯部用原料および外側部用原料とを製造した。試料Ｃ１～試料Ｃ３２では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を正の値に設定した。

【0104】

実験２においても、実験１と同様の方法で、中芯部用原料および外側部用原料を用いて、２段階圧縮により、コイルが埋設された磁気コアを有する磁性部品を製造した。この際、成形圧を調整することで、平均面積率ｘ_Aを表２および表３に示す値に設定した。

【0105】

実験２の各試料においても、実験１と同じ方法で、平均面積率ｘ_A、中芯部における面積率分布の歪度Ｓα、外側部における面積率分布の歪度Ｓβ、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）、インダクタンス（Ｌ₀）、およびＩｓａｔを測定した。各試料の評価結果を表２および表３に示す。表２は、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定した実施例の評価結果を示しており、表３は、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定した実施例の評価結果を示している。また、図８は、インダクタンスとＩｓａｔの関係を示すグラフであって、表２に示す評価結果の一部（（Ｓα－Ｓβ）＝０．００、－０．０１、－０．０５、－０．１０、－０．５０）をプロットした。図９は、μｉとＩｓａｔの関係を示すグラフであって、表３に示す評価結果の一部（（Ｓα－Ｓβ）＝０．００、０．０１、０．０５、０．１０、０．５０）をプロットした。

【0106】

また、実験２では、歪度の差が等しい４つの試料の評価結果から、インダクタンスを５．５μＨに設定した場合のＩｓａｔを算出した。具体的に、各歪度の差における４つの試料の評価結果を、図８および図９に示すような、インダクタンスとＩｓａｔの関係を示すグラフにプロットし、この４つのプロットに基づく近似直線を最小二乗法により求めた。そして、当該近似直線を用いて、インダクタンスを５．５μＨに設定した場合のＩｓａｔを算出した。表２および表３に、近似直線の傾き（単位：Ａ）と切片（単位：Ａ）、および、インダクタンスを５．５μＨでのＩｓａｔ（単位：Ａ）を示す。

【0107】

図１０は、歪度の差の絶対値（｜Ｓα－Ｓβ｜）と、Ｌ₀＝５．５μＨでのＩｓａｔとの関係を示すグラフである。図１０の横軸は歪度の差の絶対値を示す対数軸であり、縦軸がＬ₀＝５．５μＨでのＩｓａｔを示す軸であり、表２に示す実施例（すなわち（Ｓα－Ｓβ）≦－０．０１の実施例）の評価結果を、黒丸のマーカーと実線で示し、表３に示す実施例（すなわち０．０１≦（Ｓα－Ｓβ）の実施例）の評価結果を、白抜きのマーカーと点線で示した。なお、図１０に示す二点鎖線は、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００でインダクタンスを５．５μＨに設定した場合のＩｓａｔを示すラインであり、グラフ横軸とは無関係である。

【0108】

また、インダクタンスを５．５μＨに設定した場合において、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００である比較例のＩｓａｔを基準として、各歪度の差におけるＩｓａｔの向上率（単位：％）を算出した。具体的に、歪度の差が０．００でインダクタンスを５．５μＨに設定した場合のＩｓａｔを「Ｉ_STD」とし、各歪度の差でインダクタンスを５．５μＨに設定した場合のＩｓａｔを「Ｉ_diff」として、各歪度の差におけるＩｓａｔの向上率を、計算式「Ｉ_Skew／Ｉ_STD（％）」に基づいて算出した。Ｉｓａｔの向上率は、５％以上を良好と判定し、１０％以上を特に良好と判定した。

【0109】

【表2】

【表3】

【0110】

表２に示す評価結果から、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定することで、直流重畳特性が向上することがわかった。より具体的に、図８のグラフにおいて、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定することで、インダクタンスとＩｓａｔの関係を示すプロットが、比較例のプロットよりもグラフ右上に向かって移動する傾向が確認できた。この結果から、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を－０．０１以下に設定することで、高いインダクタンスを確保しつつ直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【0111】

また、図１０において黒塗りのマーカーと実線で示すグラフから、－１．００≦（Ｓα－Ｓβ）≦－０．０１の範囲では、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）の低下に伴って、Ｉｓａｔがより向上する傾向が確認でき、－１０．００≦（Ｓα－Ｓβ）≦－１．００の範囲では、Ｉｓａｔが高止まりする傾向が確認できた。表２、図８および図１０の結果から、（Ｓα－Ｓβ）≦－０．０１の場合、歪度の差は、－０．０５以下であることが好ましく、－０．１０以下であることがより好ましく、－０．５０以下であることがさらに好ましいことが分かった。また、（Ｓα－Ｓβ）≦－０．０１の場合、歪度の差の下限は特に限定されず、たとえば、－１０．００であってもよいことがわかった。

【0112】

表３に示す評価結果から、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定することで、インダクタンスが向上することがわかった。また、図９のグラフにおいて、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定することで、インダクタンスとＩｓａｔの関係を示すプロットが、比較例のプロットよりもグラフ右上に向かって移動する傾向が確認できた。この結果から、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を０．０１以上に設定することで、高いインダクタンスを確保しつつ直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【0113】

また、図１０において白抜きのマーカーと点線で示すグラフから、０．０１≦（Ｓα－Ｓβ）≦１．００の範囲では、歪度の差の上昇に伴って、Ｉｓａｔがより向上する傾向が確認でき、１．００≦（Ｓα－Ｓβ）≦１０．００の範囲においても、高いＩｓａｔが得られることが確認できた。表３、図９および図１０の結果から、０．０１≦（Ｓα－Ｓβ）の場合、歪度の差は、０．０５以上であることが好ましく、０．１０以上であることがより好ましく、０．５０以上であることがさらに好ましいことが分かった。また、０．０１≦（Ｓα－Ｓβ）の場合、歪度の差の上限は特に限定されず、たとえば、１０．００であってもよいことがわかった。

【0114】

以上のとおり、実験２の評価結果から、軟磁性粉末の平均面積率を７５％以上９０％以下に設定した磁気コアにおいて、歪度の差の絶対値を０．０１以上に制御することで、高いインダクタンスを確保しつつ、直流重畳特性の向上が図れることが立証できた。

【0115】

（実験３）
実験３では、実験２と同様に、中芯部における歪度Ｓα、および、外側部における歪度Ｓβが、表４～表５に示す値となるように、１次顆粒と２次顆粒との混合比を調整し、各試料に係る磁性部品を製造した。歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を「－０．５０」に設定した実施例（試料Ｄ５～試料Ｄ２０、試料Ａ７～試料Ａ１０、試料Ｂ２１～試料Ｂ２４）の評価結果を表４に示す。また、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）を「０．５０」に設定した実施例（試料Ｅ５～試料Ｅ２０、試料Ａ１２～試料Ａ１５、試料Ｃ１７～試料Ｃ２０）の評価結果を表５に示す。

【0116】

【表4】

【表5】

【0117】

実験３の実施例においても、実験２と同様に、歪度の差の絶対値を０．０１以上に設定することで、高いインダクタンスと良好な直流重畳特性とを両立させることができた。

【0118】

（実験４）
実験４では、大粒子の絶縁被膜に関する条件を変更して、表６に示す１５種類の磁性部品を製造した。具体的に、試料Ｆ１～試料Ｆ３では、絶縁被膜を有していない大粒子を用いた。試料Ｆ４～試料Ｆ９では、大粒子における絶縁被膜の平均厚みを変更し、試料Ｆ１０～試料Ｆ１５では、大粒子における絶縁被膜の組成を変更した。軟磁性粉末に関するその他の仕様（大粒子の組成、大粒子の平均粒径、小粒子の仕様、および、大粒子と小粒子の比率など）は、実験１と同じであり、実験１と同様の条件で磁性部品を製造した。

【0119】

実験４では、大粒子の絶縁被膜に関する条件に応じて、それぞれ、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例の３種の磁性部品を製造した。各比較例および各実施例におけるＳαおよびＳβは、実験２と同様に、１次顆粒と２次顆粒の配合比により制御した。また、実験４では、対応する比較例および実施例が同程度（誤差が±０．２μＨの範囲内）のインダクタンスＬ₀を示すように、各試料における成形圧を設定し、比較例におけるＩｓａｔを基準として、各実施例におけるＩｓａｔの向上率を算出した。

【0120】

実験４の評価結果を、表６に示す。

【表6】

【0121】

試料Ｆ１～試料Ｆ３の評価結果から、絶縁被膜の有無に拘わらず、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。また、試料Ｆ４～試料Ｆ１５の評価結果から、絶縁被膜の組成や厚みを変えた場合であっても、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【0122】

（実験５）
試料Ｇ１～試料Ｇ１５
試料Ｇ１～試料Ｇ１５では、大粒子と小粒子とを表７に示す比率で混ぜ合わせて、磁性部品を製造した。試料Ｇ１～試料Ｇ１５で使用した大粒子と小粒子の仕様（粒子組成、平均粒径、被膜組成、および被膜平均厚み）は、実験１～２と同じであり、大粒子と小粒子の比率以外の製造条件は、実験１～２と同様とした。

【0123】

試料Ｈ１～試料Ｈ１２
試料Ｈ１～試料Ｈ１２では、小粒子を表８に示す組成に変更して、磁性部品を製造した。試料Ｈ１～試料Ｈ１２における小粒子の平均粒径は、いずれも、１μｍであった。また、試料Ｈ１～試料Ｈ１２では、いずれも、大粒子の比率を８０ｗｔ％、小粒子の比率を２０％に設定した。上記以外の実験条件は、実験１～２と同様とした。

【0124】

実験５では、変更した製造条件（大粒子と小粒子の比率（表７）、小粒子の組成（表８））に応じて、それぞれ、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例の３種の磁性部品を製造した。また、実験５では、対応する比較例および実施例が同程度のインダクタンスＬ₀を示すように、各試料における成形圧を設定し、比較例におけるＩｓａｔを基準として、各実施例におけるＩｓａｔの向上率を算出した。

【0125】

【表7】

【表8】

【0126】

表７に示す評価結果から、大粒子と小粒子の比率を変えた場合であっても、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。また、インダクタンスを高める観点では、大粒子の比率を６０ｗｔ％以上に設定することが好ましいことがわかった。

【0127】

表８に示す評価結果から、小粒子の組成を変えた場合であっても、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【0128】

（実験６）
実験６では、大粒子、中粒子、および、小粒子を含む軟磁性粉末を用いて、１５種類の磁性部品を製造した。実験６の各試料で使用した大粒子および小粒子の仕様（粒子組成、平均粒径、被膜組成、および被膜平均厚み）は、実験１～実験２と同様とし、顆粒の製造時に大粒子および小粒子と共に、表９に示す組成を有する中粒子を添加した。試料Ｉ１～試料Ｉ１５で使用した中粒子の平均粒径は、いずれも、５μｍであった。また、試料Ｉ１～試料Ｉ１５では、いずれも、大粒子の比率を８０ｗｔ％、中粒子の比率を１０ｗｔ％、および、小粒子の比率を１０％に設定した。上記以外の実験条件は、実験１～２と同様とした。

【0129】

実験６では、軟磁性粉末の構成に応じて、それぞれ、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例の３種の磁性部品を製造した。また、実験６では、対応する比較例および実施例が同程度のインダクタンスＬ₀を示すように、各試料における成形圧を設定し、比較例におけるＩｓａｔを基準として、各実施例におけるＩｓａｔの向上率を算出した。

【0130】

【表9】

【0131】

表９に示す評価結果から、軟磁性粉末を３種の粒子群で構成した場合であっても、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【0132】

（実験７）
実験７では、大粒子の組成を変更して、表１０～表１２に示す磁気コアを製造した。表１０の試料Ｊ１～試料Ｊ９では、非晶質構造を有する大粒子を用い、表１１の試料Ｋ１～試料Ｋ９では、ナノ結晶構造を有する大粒子を用い、表１２の試料Ｌ１～試料Ｌ１２では、結晶質構造を有する大粒子を用いた。実験７の各実施例で使用した大粒子の平均粒径は、いずれも２５μｍであり、各試料における大粒子には、いずれも、平均厚みが２０ｎｍで実験１と同じ組成を有する絶縁被膜を形成した。

【0133】

実験７では、大粒子の組成に応じて、それぞれ、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．００の比較例、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が－０．５０の実施例、および、歪度の差（Ｓα－Ｓβ）が０．５０の実施例の３種の磁性部品を製造した。また、実験７では、対応する比較例および実施例が同程度のインダクタンスＬ₀を示すように、各試料における成形圧を設定し、比較例におけるＩｓａｔを基準として、各実施例におけるＩｓａｔの向上率を算出した。

【0134】

【表10】

【表11】

【表12】

【0135】

実験７の表１０～表１２に示す評価結果から、大粒子の組成に拘わらず、歪度の差に基づいて、直流重畳特性の向上が図れることがわかった。

【符号の説明】

【0136】

１００ … 磁性部品
２ … 磁気コア
１ … 軟磁性粉末
１０ … 金属粒子
１０ａ … 大粒子
１０ｂ … 小粒子
１０ｃ … 中粒子
３ … 樹脂
２０ … 正方形領域
２α … 中芯部
２β … 外側部
２ｓ１ … 上面
２ｓ２ … 下面
５ … コイル
５ａ，５ｂ … 端部
６ … 外部電極

【図1】

【図2】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図5】

【図6】

【図7A】

【図7B】

【図7C】

【図8】

【図9】

【図10】