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特開2024-173693組成物、光学フィルム、層、光学フィルター、光学素子、固体撮像装置、およびカメラモジュール
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024173693
(43)【公開日】2024-12-12
(54)【発明の名称】組成物、光学フィルム、層、光学フィルター、光学素子、固体撮像装置、およびカメラモジュール
(51)【国際特許分類】
G02B 5/22 20060101AFI20241205BHJP
G02B 5/28 20060101ALI20241205BHJP
C09B 67/20 20060101ALI20241205BHJP
【ＦＩ】
G02B5/22
G02B5/28
C09B67/20 F
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024068670
(22)【出願日】2024-04-19
(31)【優先権主張番号】P 2023089798
(32)【優先日】2023-05-31
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000004178
【氏名又は名称】ＪＳＲ株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】000004008
【氏名又は名称】日本板硝子株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001070
【氏名又は名称】弁理士法人エスエス国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】生井 準人
(72)【発明者】
【氏名】大崎 仁視
(72)【発明者】
【氏名】下河 広幸
(72)【発明者】
【氏名】櫻本 貴士
(72)【発明者】
【氏名】土屋 駿
(72)【発明者】
【氏名】川部 泰典
(72)【発明者】
【氏名】内田 洋介
(72)【発明者】
【氏名】二村 聡太
(72)【発明者】
【氏名】長屋 勝也
(72)【発明者】
【氏名】久保 雄一郎
(72)【発明者】
【氏名】新毛 勝秀
(72)【発明者】
【氏名】高城 智孝
(72)【発明者】
【氏名】増田 一瞳
(72)【発明者】
【氏名】井上 輝英
(72)【発明者】
【氏名】蔡 雷
【テーマコード（参考）】
2H148
【Ｆターム（参考）】
2H148CA04
2H148CA12
2H148CA17
2H148CA27
2H148GA05
2H148GA19
(57)【要約】
【課題】外観および再分散性に優れる組成物であって、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても耐久性に優れる光学フィルムや光学フィルターを形成することができる組成物を提供すること。
【解決手段】ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する、組成物（Ｄ）。
【選択図】なし
【解決手段】ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する、組成物（Ｄ）。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する、組成物（Ｄ）。
【請求項2】
さらに紫外線吸収性化合物（Ｕ）を含有する、請求項１に記載の組成物（Ｄ）。
【請求項3】
さらに前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）を含有する、請求項１に記載の組成物（Ｄ）。
【請求項4】
組成物（Ｄ）の透過スペクトル（但し、波長８００ｎｍにおける透過率が１０％±１％となるように調整した組成物（Ｄ）の透過スペクトル）が、下記（ｉ）～（ｉｖ）の要件を満たす、請求項１に記載の組成物（Ｄ）。
（ｉ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である
（ｉｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ｉｉｉ）波長６８０～７８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第１カットオフ波長を有する
（ｉｖ）波長３２０～３８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第２カットオフ波長を有する
（ｉ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である
（ｉｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ｉｉｉ）波長６８０～７８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第１カットオフ波長を有する
（ｉｖ）波長３２０～３８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第２カットオフ波長を有する
【請求項5】
前記透過スペクトルが、さらに下記（ｖ）の要件を満たす、請求項４に記載の組成物（Ｄ）。
（ｖ）波長９００～１１００ｎｍの範囲における透過率の標準偏差が０．５％以下である
（ｖ）波長９００～１１００ｎｍの範囲における透過率の標準偏差が０．５％以下である
【請求項6】
請求項１に記載の組成物（Ｄ）から形成された光学フィルム。
【請求項7】
透過スペクトルが、下記（Ｉ）～（Ｖ）の要件を満たす、請求項１に記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）。
（Ｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ＩＩ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が５％以下である
（ＩＩＩ）波長６８０～７３０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第３カットオフ波長を有する
（ＩＶ）波長３４０～４００ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第４カットオフ波長を有する
（Ｖ）波長９５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である
（Ｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ＩＩ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が５％以下である
（ＩＩＩ）波長６８０～７３０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第３カットオフ波長を有する
（ＩＶ）波長３４０～４００ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第４カットオフ波長を有する
（Ｖ）波長９５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である
【請求項8】
請求項１に記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）を有する光学フィルター。
【請求項9】
請求項１に記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）と、
前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）とを有する、
光学フィルター。
前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）とを有する、
光学フィルター。
【請求項10】
誘電体多層膜を有する、請求項８に記載の光学フィルター。
【請求項11】
請求項８～１０のいずれか一項に記載の光学フィルターを有する光学素子。
【請求項12】
請求項８～１０のいずれか一項に記載の光学フィルターを有する固体撮像装置。
【請求項13】
請求項８～１０のいずれか一項に記載の光学フィルターを有するカメラモジュール。
【請求項14】
組成物（Ｄ）であって、
該組成物（Ｄ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、
前記組成物（Ｄ）の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、
前記組成物（Ｄ）中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、
前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、
組成物（Ｄ）。
該組成物（Ｄ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、
前記組成物（Ｄ）の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、
前記組成物（Ｄ）中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、
前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、
組成物（Ｄ）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、組成物、光学フィルム、層、光学フィルター、光学素子、固体撮像装置、およびカメラモジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置には、カラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されている。これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。
【0003】
このような近赤外線カットフィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたフィルターが使用されている。例えば、基材としてリン酸ガラスに酸化銅を分散させた吸収ガラスを用いた吸収ガラス型光学フィルター（例：特許文献１参照）や、樹脂フィルム中に近赤外線吸収色素を添加した光学フィルター（例：特許文献２参照）が知られている。
【0004】
近年、固体撮像装置の高性能化に伴い、カメラ画像のゴーストやフレアの低減が強く求められている。ゴーストやフレアの低減には光学フィルターの近赤外線吸収性能を高めることが効果的であることが知られており、これを達成可能な近赤外線カットフィルターとして、吸収ガラス基材上に近赤外線吸収色素を含有する樹脂層を有する構成の光学フィルター（例：特許文献３参照）、樹脂フィルム中に複数種の近赤外線吸収色素を添加した光学フィルター（例：特許文献４参照）、ホスホン酸銅系錯体と近赤外線吸収色素とを含有する樹脂層を透明ガラス基板上に有する光学フィルター（例：特許文献５参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第２０１１／０７１１５７号
【特許文献2】特開２０１１－１０００８４号公報
【特許文献3】国際公開第２０１４／０３０６２８号
【特許文献4】特開２０１９－０３２３７１号公報
【特許文献5】特開２０２０－１２９１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、吸収ガラスを用いた光学フィルターは、落下時の「割れ」の問題を回避できず、近赤外線吸収色素のみで広範囲の近赤外波長域を吸収させる構成では可視光透過率の低下が顕著となっていた。
また、ホスホン酸銅系錯体と近赤外線吸収色素とを用いた光学フィルターは、優れた分光特性（高い可視光透過率と低い近赤外線透過率の両立）を達成可能なことが知られているが、従来の光学フィルターでは、ホスホン酸銅系錯体の高温高湿条件下での耐久性に課題があり、実用に耐えるものは得られていなかった。
さらに、従来のホスホン酸銅系錯体を含む組成物は、透明性の高い外観を有さない場合や、溶媒中に再分散させた際に不透明な濁りが発生する場合があり、外観や再分散性の点で改良の余地があることがわかった。
また、ホスホン酸銅系錯体と近赤外線吸収色素とを用いた光学フィルターは、優れた分光特性（高い可視光透過率と低い近赤外線透過率の両立）を達成可能なことが知られているが、従来の光学フィルターでは、ホスホン酸銅系錯体の高温高湿条件下での耐久性に課題があり、実用に耐えるものは得られていなかった。
さらに、従来のホスホン酸銅系錯体を含む組成物は、透明性の高い外観を有さない場合や、溶媒中に再分散させた際に不透明な濁りが発生する場合があり、外観や再分散性の点で改良の余地があることがわかった。
【0007】
本発明は以上のことに鑑みてなされた発明であり、外観および再分散性に優れる組成物であって、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても耐久性に優れる光学フィルムや光学フィルターを形成することができる組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記構成例によれば前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
［１］ ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する、組成物（Ｄ）。
【0010】
［２］ さらに紫外線吸収性化合物（Ｕ）を含有する、［１］に記載の組成物（Ｄ）。
［３］ さらに前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）を含有する、［１］または［２］に記載の組成物（Ｄ）。
［３］ さらに前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）を含有する、［１］または［２］に記載の組成物（Ｄ）。
【0011】
［４］ 組成物（Ｄ）の透過スペクトル（但し、波長８００ｎｍにおける透過率が１０％±１％となるように調整した組成物（Ｄ）の透過スペクトル）が、下記（ｉ）～（ｉｖ）の要件を満たす、［１］～［３］のいずれかに記載の組成物（Ｄ）。
（ｉ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である
（ｉｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ｉｉｉ）波長６８０～７８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第１カットオフ波長を有する
（ｉｖ）波長３２０～３８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第２カットオフ波長を有する
（ｉ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である
（ｉｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ｉｉｉ）波長６８０～７８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第１カットオフ波長を有する
（ｉｖ）波長３２０～３８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第２カットオフ波長を有する
【0012】
［５］ 前記透過スペクトルが、さらに下記（ｖ）の要件を満たす、［４］に記載の組成物（Ｄ）。
（ｖ）波長９００～１１００ｎｍの範囲における透過率の標準偏差が０．５％以下である
（ｖ）波長９００～１１００ｎｍの範囲における透過率の標準偏差が０．５％以下である
【0013】
［６］ ［１］～［５］のいずれかに記載の組成物（Ｄ）から形成された光学フィルム。
【0014】
［７］ 透過スペクトルが、下記（Ｉ）～（Ｖ）の要件を満たす、［１］～［５］のいずれかに記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）。
（Ｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ＩＩ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が５％以下である
（ＩＩＩ）波長６８０～７３０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第３カットオフ波長を有する
（ＩＶ）波長３４０～４００ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第４カットオフ波長を有する
（Ｖ）波長９５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である
（Ｉ）波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である
（ＩＩ）波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が５％以下である
（ＩＩＩ）波長６８０～７３０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第３カットオフ波長を有する
（ＩＶ）波長３４０～４００ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第４カットオフ波長を有する
（Ｖ）波長９５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である
【0015】
［８］ ［１］～［５］のいずれかに記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）を有する光学フィルター。
【0016】
［９］ ［１］～［５］のいずれかに記載の組成物（Ｄ）から形成された層（Ｄ１）と、
前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）とを有する、
光学フィルター。
前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）とを有する、
光学フィルター。
【0017】
［１０］ 誘電体多層膜を有する、［８］または［９］に記載の光学フィルター。
【0018】
［１１］ ［８］～［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを有する光学素子。
［１２］ ［８］～［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを有する固体撮像装置。
［１３］ ［８］～［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを有するカメラモジュール。
［１２］ ［８］～［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを有する固体撮像装置。
［１３］ ［８］～［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを有するカメラモジュール。
【0019】
［１４］ 組成物（Ｄ）であって、
該組成物（Ｄ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、
前記組成物（Ｄ）の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、
前記組成物（Ｄ）中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、
前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、
組成物（Ｄ）。
該組成物（Ｄ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、
前記組成物（Ｄ）の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、
前記組成物（Ｄ）中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、
前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、
組成物（Ｄ）。
【発明の効果】
【0020】
本発明によれば、外観および再分散性に優れる組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても耐久性に優れる光学フィルムおよび光学フィルターを提供することができる。
また、本発明によれば、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても耐久性に優れる光学フィルムおよび光学フィルターを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下の記載は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されることはない。
【0023】
本明細書において、数値範囲を示す「～」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、数値範囲を示す「～」とは、その前後いずれか一方に記載される単位は特に断りがない限り同じ単位を示すことを意味する。
本明細書において、数値範囲を示す「～」とは、その前後いずれか一方に記載される単位は特に断りがない限り同じ単位を示すことを意味する。
【0024】
本発明の実施形態において「透過」とは、対象となる波長または波長領域において、透過率が、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上であることを指す。「遮蔽」とは、対象となる波長または波長領域において、透過率が、好ましくは１０％未満、より好ましくは５％未満、さらに好ましくは１％未満であることを指す。また、「光線」とは、特段の規定が無い限り全光線を示す。
【0025】
≪組成物（Ｄ）≫
本発明の一実施形態に係る組成物（Ｄ）（以下「本組成物１」ともいう。）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する組成物である。
また、本発明の他の実施形態に係る組成物（Ｄ）（以下「本組成物２」ともいう。）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、本組成物２中の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、本組成物２中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、組成物である。
以下、本組成物１および本組成物２を総合して、「本組成物」ともいう。
本組成物は、該本組成物中における化合物（Ａ）の凝集を抑制し、光吸収性化合物（Ａ）の劣化を抑制することが可能である。また、本組成物は、外観および再分散性に優れる。
本発明の一実施形態に係る組成物（Ｄ）（以下「本組成物１」ともいう。）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有する組成物である。
また、本発明の他の実施形態に係る組成物（Ｄ）（以下「本組成物２」ともいう。）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む光吸収性化合物（Ａ）、および、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を含有し、本組成物２中の固形分の含有量が、１５～８５質量％であり、本組成物２中の前記重合体（Ｂ１）の含有量が５～７０質量％であり、前記化合物（Ａ）１質量部に対する前記重合体（Ｂ１）の含有量が０．５～６質量部である、組成物である。
以下、本組成物１および本組成物２を総合して、「本組成物」ともいう。
本組成物は、該本組成物中における化合物（Ａ）の凝集を抑制し、光吸収性化合物（Ａ）の劣化を抑制することが可能である。また、本組成物は、外観および再分散性に優れる。
【0026】
また、本組成物、特に本組成物２によれば、溶液流延法（ソルベントキャスティング法）などにより、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際に、キャリア（支持体）へのムラのない流延と、所定の条件下での好ましい乾燥スピードと、光学フィルムや層（Ｄ１）内におけるムラやヘイズを抑制することができる。
【0027】
本組成物１中の固形分の含有量は、好ましくは１５～８５質量％、より好ましくは３０～８５質量％、さらに好ましくは４０～８５質量％である。
本組成物２中の固形分の含有量は、１５～８５質量％であり、好ましくは３０～８５質量％、より好ましくは４０～８５質量％である。
本組成物２中の固形分の含有量は、１５～８５質量％であり、好ましくは３０～８５質量％、より好ましくは４０～８５質量％である。
【0028】
本組成物中の固形分の含有量は、本組成物の乾燥質量であり、本組成物中の溶媒以外の成分の含有量であり、以下のようにして求める。
本組成物の質量Ｍ１を測定する。次に、該組成物を加熱オーブン内で加熱して、乾燥させ、固形分だけを残す。その残存した固形分の重量ｍ１を測定する。ｍ１／Ｍ１×１００の値を、本組成物中の固形分の含有量とする。
本組成物の質量Ｍ１を測定する。次に、該組成物を加熱オーブン内で加熱して、乾燥させ、固形分だけを残す。その残存した固形分の重量ｍ１を測定する。ｍ１／Ｍ１×１００の値を、本組成物中の固形分の含有量とする。
【0029】
なお、本組成物１については、溶媒を除去した、固形状組成物であってもよく、このような固形状の組成物も、本組成物の一実施形態である。
該固形状の組成物の具体的な形態は、例えば、顆粒状、粉末状、ペレット状が挙げられる。本組成物を流通等させる場合には、固形状の組成物の方が、溶媒を含む組成物よりも簡便に、また、コスト的にも有利に流通させることができる。
なお、固形状の組成物は、下記第２溶媒などの溶媒に再分散させることで、容易に液状に戻すことができる。
該固形状の組成物の具体的な形態は、例えば、顆粒状、粉末状、ペレット状が挙げられる。本組成物を流通等させる場合には、固形状の組成物の方が、溶媒を含む組成物よりも簡便に、また、コスト的にも有利に流通させることができる。
なお、固形状の組成物は、下記第２溶媒などの溶媒に再分散させることで、容易に液状に戻すことができる。
【0030】
＜光吸収性化合物（Ａ）＞
前記光吸収性化合物（Ａ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む化合物であり、これらの成分を含めば、特に限定されないが、ホスホン酸成分を含む銅錯体であることが好ましい。
本組成物に用いる化合物（Ａ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
前記光吸収性化合物（Ａ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む化合物であり、これらの成分を含めば、特に限定されないが、ホスホン酸成分を含む銅錯体であることが好ましい。
本組成物に用いる化合物（Ａ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0031】
化合物（Ａ）は、原材料として、銅化合物およびホスホン酸（ホスホン酸化合物）を用いて合成することができる。
但し、銅化合物と、ホスホン酸化合物との反応過程を詳細に明らかにすること、得られた反応生成物（化合物（Ａ））の構造を特定することは、非常に難しい。これらの事情があるため、化合物（Ａ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む化合物と表す。該化合物（Ａ）は、例えば、ホスホン酸銅化合物であり、例えば、ホスホン酸化合物と銅化合物との錯体である。
但し、銅化合物と、ホスホン酸化合物との反応過程を詳細に明らかにすること、得られた反応生成物（化合物（Ａ））の構造を特定することは、非常に難しい。これらの事情があるため、化合物（Ａ）は、ホスホン酸成分と銅成分とを含む化合物と表す。該化合物（Ａ）は、例えば、ホスホン酸銅化合物であり、例えば、ホスホン酸化合物と銅化合物との錯体である。
【0032】
化合物（Ａ）は、例えば、ホスホン酸成分とリン酸エステル成分と銅成分とを含む化合物（例：ホスホン酸－リン酸エステル－銅化合物）であってもよく、ホスホン酸成分と銅成分とを含む化合物と、ホスホン酸成分とリン酸エステル成分と銅成分とを含む化合物との混合物であってもよく、これらの化合物の錯体であってもよい。
これらの化合物（Ａ）は、（近）赤外線領域に広い吸収帯を有し、該化合物（Ａ）を用いることで、（近）赤外線領域の透過率が低いながらも、可視光透過率の高い光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
これらの化合物（Ａ）は、（近）赤外線領域に広い吸収帯を有し、該化合物（Ａ）を用いることで、（近）赤外線領域の透過率が低いながらも、可視光透過率の高い光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0033】
また、ホスホン酸、ホスフィン酸、リン酸エステル、リン酸、ホスフィン酸、メタリン酸およびピロリン酸などは、いずれもリン原子を含む化合物であり、化合物（Ａ）は、ホスホン酸以外に、ホスフィン酸、リン酸エステル、リン酸、ホスフィン酸、メタリン酸およびピロリン酸などから選ばれる少なくとも１種の成分を含んでいてもよい。
【0034】
本組成物中の化合物（Ａ）の含有量は、好ましくは５～７５質量％、より好ましくは７～６５質量％、さらに好ましくは８～５５質量％である。
化合物（Ａ）の含有量が前記範囲にあることで、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
化合物（Ａ）の含有量が前記範囲にあることで、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0035】
（銅成分）
前記銅成分とは、化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料である銅化合物由来の成分であり、銅イオン、銅錯体、および銅を含有する化合物などを含む概念である。
化合物（Ａ）に含まれる銅成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
前記銅成分とは、化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料である銅化合物由来の成分であり、銅イオン、銅錯体、および銅を含有する化合物などを含む概念である。
化合物（Ａ）に含まれる銅成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0036】
銅成分は、近赤外線領域の光の一部に対する好ましい吸収特性を有し得る。具体的には、二価の銅イオンのｄ軌道における電子の遷移によって、このエネルギーに対応する近赤外線領域の波長の光を選択的に吸収することにより、優れた近赤外線吸収特性が発揮されると考えられる。銅成分は、例えば一種類以上の配位子によって六配位の構造を有していてもよく、このような銅成分は、近赤外線領域の光の吸収能力の向上が見込める。
【0037】
銅成分の原材料としては特に限定されないが、例えば、酢酸銅、安息香酸銅、ピロリン酸銅、ステアリン酸銅などの有機酸の銅化合物およびこれら銅化合物の水和物が挙げられ、これらの１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【0038】
化合物（Ａ）中の銅成分の含有量は、近赤外線領域の光の吸収能力に優れる化合物を容易に得ることができる等の点から、銅原子の含有量として、好ましくは０．５～４０質量％、より好ましくは１～２０質量％、さらに好ましくは２～１５質量％である。
【0039】
（ホスホン酸成分）
前記ホスホン酸成分とは、化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料であるホスホン酸（ホスホン酸化合物）由来の成分である。
化合物（Ａ）に含まれるホスホン酸成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
前記ホスホン酸成分とは、化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料であるホスホン酸（ホスホン酸化合物）由来の成分である。
化合物（Ａ）に含まれるホスホン酸成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0040】
前記ホスホン酸化合物としては、例えば、下記式（ａ１）で表される化合物、下記式（ａ２）で表される化合物が挙げられる。
前記ホスホン酸化合物としては、１種または２種以上の下記式（ａ１）で表される化合物を用いてもよく、１種または２種以上の下記式（ａ２）で表される化合物を用いてもよく、１種または２種以上の下記式（ａ１）で表される化合物と、１種または２種以上の下記式（ａ２）で表される化合物とを用いてもよい。
前記ホスホン酸化合物としては、１種または２種以上の下記式（ａ１）で表される化合物を用いてもよく、１種または２種以上の下記式（ａ２）で表される化合物を用いてもよく、１種または２種以上の下記式（ａ１）で表される化合物と、１種または２種以上の下記式（ａ２）で表される化合物とを用いてもよい。
【0041】
例えば、下記式（ａ１）で表される化合物を用いて得られる化合物（Ａ）は、波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の吸収能は高いが、波長７００ｎｍおよび波長３５０ｎｍ近傍の光吸収能が低い傾向にある。このため、該化合物（Ａ）を用いた光学フィルムや層（Ｄ１）を透過する光は、ヒトの視感度との一致性では少し不十分な場合がある。
一方で、下記式（ａ２）で表される化合物を用いて得られる化合物（Ａ）は、波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の吸収能は比較的低いが、波長７００ｎｍおよび波長３５０ｎｍ近傍の光吸収能が比較的高い傾向にある。
これらの特性を補完しあう等の点からは、本組成物は、下記式（ａ１）で表される化合物と下記式（ａ２）で表される化合物とを用いた化合物（Ａ）を含むことが好ましく、また、下記式（ａ１）で表される化合物を用いた化合物（Ａ）と、下記式（ａ２）で表される化合物を用いた化合物（Ａ）とを併用することが好ましい。
一方で、下記式（ａ２）で表される化合物を用いて得られる化合物（Ａ）は、波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の吸収能は比較的低いが、波長７００ｎｍおよび波長３５０ｎｍ近傍の光吸収能が比較的高い傾向にある。
これらの特性を補完しあう等の点からは、本組成物は、下記式（ａ１）で表される化合物と下記式（ａ２）で表される化合物とを用いた化合物（Ａ）を含むことが好ましく、また、下記式（ａ１）で表される化合物を用いた化合物（Ａ）と、下記式（ａ２）で表される化合物を用いた化合物（Ａ）とを併用することが好ましい。
【0042】
【化1】
【0043】
式（ａ１）において、Ｒ１は、アルキル基またはアルキル基における少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基である。
化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料として、前記式（ａ１）で表されるホスホン酸化合物を用いると、得られる化合物（Ａ）を含む本組成物から形成された光学フィルムや層（Ｄ１）の透過帯域の長波長側が波長７００ｎｍ付近となり、該光学フィルムや層（Ｄ１）が所望の透過率特性を有しやすい。
化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料として、前記式（ａ１）で表されるホスホン酸化合物を用いると、得られる化合物（Ａ）を含む本組成物から形成された光学フィルムや層（Ｄ１）の透過帯域の長波長側が波長７００ｎｍ付近となり、該光学フィルムや層（Ｄ１）が所望の透過率特性を有しやすい。
【0044】
前記式（ａ１）で表されるホスホン酸化合物としては、例えば、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ｎ－プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ｎ－ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、ｓｅｃ－ブチルホスホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルホスホン酸、ｎ－ヘキシルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸が挙げられる。
【0045】
【化2】
【0046】
式（ａ２）において、Ｒ２は、アリール基、または、アリール基における少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子、ニトロ基およびヒドロキシ基から選ばれる少なくとも１つで置換された基である。
化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料として、前記式（ａ２）で表されるホスホン酸化合物を用いると、得られる化合物（Ａ）を含む本組成物から形成された光学フィルムや層（Ｄ１）が所望の透過率特性をより有しやすい。
化合物（Ａ）を合成する際に用いる原材料として、前記式（ａ２）で表されるホスホン酸化合物を用いると、得られる化合物（Ａ）を含む本組成物から形成された光学フィルムや層（Ｄ１）が所望の透過率特性をより有しやすい。
【0047】
前記式（ａ２）で表されるホスホン酸化合物としては、例えば、フェニルホスホン酸、ブロモフェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、フルオロフェニルホスホン酸、ヨードフェニルホスホン酸、ニトロフェニルホスホン酸、ヒドロキシフェニルホスホン酸、トリルホスホン酸、キシリルホスホン酸、ナフチルホスホン酸が挙げられる。
【0048】
化合物（Ａ）中のホスホン酸成分の含有量は、可視光領域の光の透過能力に優れる化合物を容易に得ることができる等の点から、好ましくは１～６０質量％、より好ましくは２～４０質量％、さらに好ましくは４～２８質量％である。
【0049】
（リン酸エステル成分）
化合物（Ａ）は、リン酸エステル成分をさらに含有していてもよく、化合物（Ａ）の溶媒中での凝集をより抑制することができる等の点から、リン酸エステル成分を有していることが好ましい。
化合物（Ａ）がリン酸エステル成分を有することで、リン酸エステル成分の働きにより、本組成物および該本組成物から形成される光学フィルムや層（Ｄ１）中において、化合物（Ａ）が適切に分散しやすい。
化合物（Ａ）は、リン酸エステル成分をさらに含有していてもよく、化合物（Ａ）の溶媒中での凝集をより抑制することができる等の点から、リン酸エステル成分を有していることが好ましい。
化合物（Ａ）がリン酸エステル成分を有することで、リン酸エステル成分の働きにより、本組成物および該本組成物から形成される光学フィルムや層（Ｄ１）中において、化合物（Ａ）が適切に分散しやすい。
【0050】
前記リン酸エステル成分は、化合物（Ａ）の分散剤として機能していてもよく、その一部が銅成分などの金属成分と反応して化合物を形成していてもよい。
例えば、リン酸エステル成分は、銅成分と一部錯体を形成していてもよい。
例えば、リン酸エステル成分は、銅成分と一部錯体を形成していてもよい。
【0051】
前記リン酸エステル成分とは、化合物（Ａ）を合成する際に用い得る原材料であるリン酸エステル化合物由来の成分である。
化合物（Ａ）に含まれるリン酸エステル成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
化合物（Ａ）に含まれるリン酸エステル成分は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0052】
前記リン酸エステル化合物としては、例えば、ポリオキシアルキル基を有する化合物が挙げられる。該リン酸エステル化合物としては、例えば、下記式（ｂ１）で表されるリン酸ジエステル、下記式（ｂ２）で表されるリン酸モノエステルが挙げられ、これらが任意の比率で混合されたリン酸エステルであってもよい。
【0053】
【化3】
【0054】
前記リン酸エステル化合物としては、第一工業製薬（株）製の、プライサーフ Ａ２０８Ｎ（ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ１２、Ｃ１３）エーテルリン酸エステル）、プライサーフ Ａ２０８Ｆ（ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ８）エーテルリン酸エステル）、プライサーフ Ａ２０８Ｂ（ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル）、プライサーフ Ａ２１９Ｂ（ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル）、プライサーフ Ａ２１２Ｃ（ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、プライサーフ Ａ２１５Ｃ（ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル）；日光ケミカルズ（株）製の、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル）、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－４（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル）、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６（ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル）が挙げられる。
【0055】
化合物（Ａ）がリン酸エステル成分を含む場合、化合物（Ａ）中のリン酸エステル成分の含有量は、化合物（Ａ）の溶媒中での凝集をより抑制することができる等の点から、好ましくは０．５～５０質量％、より好ましくは１～３０質量％、さらに好ましくは２～２５質量％である。
【0056】
（化合物（Ａ）の合成方法）
化合物（Ａ）の合成方法は特に制限されないが、例えば、前記銅化合物と、前記ホスホン酸化合物と、必要により前記リン酸エステル化合物とを混合・撹拌することで合成することができる。なお、この合成の際には、溶媒（以下「第１溶媒」ともいう。）を用いることが好ましい。
前記リン酸エステル化合物を用いる場合、化合物（Ａ）の合成方法としては、第１溶媒に溶解させた前記銅化合物と、前記リン酸エステル化合物とを混合・撹拌したａ液と、第１溶媒に溶解させた前記ホスホン酸化合物のｂ液とを混合・撹拌することで合成することが好ましい。
前記合成の際に用いる各原材料の使用量は、化合物（Ａ）中の、各原材料由来の成分の含有量が前記範囲となるような量で用いることが好ましい。
化合物（Ａ）の合成方法は特に制限されないが、例えば、前記銅化合物と、前記ホスホン酸化合物と、必要により前記リン酸エステル化合物とを混合・撹拌することで合成することができる。なお、この合成の際には、溶媒（以下「第１溶媒」ともいう。）を用いることが好ましい。
前記リン酸エステル化合物を用いる場合、化合物（Ａ）の合成方法としては、第１溶媒に溶解させた前記銅化合物と、前記リン酸エステル化合物とを混合・撹拌したａ液と、第１溶媒に溶解させた前記ホスホン酸化合物のｂ液とを混合・撹拌することで合成することが好ましい。
前記合成の際に用いる各原材料の使用量は、化合物（Ａ）中の、各原材料由来の成分の含有量が前記範囲となるような量で用いることが好ましい。
【0057】
前記第１溶媒としては特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、２－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、イソペンタノール、２－メチルブタノール、２－ペンタノール、ｔｅｒｔ－ペンタノール、３－メトキシブタノール、ｎ－ヘキサノール、２－メチルペンタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、２－エチルブタノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、ｎ－オクタノール、２－エチルヘキサノール、２－オクタノール、ｎ－ノニルアルコール、２，６－ジメチル－４－ヘプタノール、ｎ－デカノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；ヘプタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；シクロペンタン、シクロヘキサン、キシレン、トルエンなどの炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、オキセタンなどの複素環式化合物類；塩化メチレン（ジクロロメタン）、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどの塩素系溶媒；が挙げられる。
前記第１溶媒は、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
前記第１溶媒は、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【0058】
前記第１溶媒としては、前記ａ液とｂ液とを混合・撹拌した際に、反応生成物（化合物（Ａ））が析出するように、いわゆる該化合物（Ａ）に対する貧溶媒を用いてもよい。このような貧溶媒を用いることで、化合物（Ａ）の固形分を溶媒と分離して取り出し易い。
【0059】
化合物（Ａ）は、前記ａ液とｂ液とを混合・撹拌して得られた反応生成物を、例えば、ろ過により第１溶媒から分離することで、固形状の化合物（Ａ）として得ることができる。さらに、このように分離して得た固形状の反応生成物を、さらに、該反応生成物の貧溶媒に投入して、数分～数時間撹拌し、再析出した沈殿をろ過等により溶媒と分離してもよい。この再析出とろ過による分離とは、１回または２回以上繰り返してもよい。
なお、化合物（Ａ）は、例えば、前記ａ液とｂ液とを混合・撹拌して得られた第１溶媒を含む反応生成物をそのまま本組成物を調製する際の原材料として用いてもよい。
なお、化合物（Ａ）は、例えば、前記ａ液とｂ液とを混合・撹拌して得られた第１溶媒を含む反応生成物をそのまま本組成物を調製する際の原材料として用いてもよい。
【0060】
なお、化合物（Ａ）は、ホスホン酸成分および銅成分以外の成分を含まないということではない。例えば、水や酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＯ－）なども、銅イオンに配位することが可能であるので、反応生成物には、これらなども含まれていてもよく、第１溶媒が含まれていてもよい。
【0061】
＜ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）＞
ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）としては特に制限されないが、例えば、二価フェノール由来の構成単位と芳香族ジカルボン酸由来の構成単位とを含む重合体が挙げられ、その好適例としては、下記式（Ｉ）で表されるポリアリレートを含む重合体（Ｂ１ａ）が挙げられる。
ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を用いることでホスホン酸銅系錯体を含有した光学フィルターとした場合でも高温高湿条件下での耐久性が向上する。また、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を用いることで、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得ることもできる。
本組成物に用いる重合体（Ｂ１）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）としては特に制限されないが、例えば、二価フェノール由来の構成単位と芳香族ジカルボン酸由来の構成単位とを含む重合体が挙げられ、その好適例としては、下記式（Ｉ）で表されるポリアリレートを含む重合体（Ｂ１ａ）が挙げられる。
ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を用いることでホスホン酸銅系錯体を含有した光学フィルターとした場合でも高温高湿条件下での耐久性が向上する。また、ポリアリレートを含む重合体（Ｂ１）を用いることで、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得ることもできる。
本組成物に用いる重合体（Ｂ１）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0062】
【化4】
【0063】
なお、式（Ｉ）中、ｌ、ｍおよびｎは、ｌ＋ｍ＋ｎ＝１００（モル％）であり、ｌ＝０～１００、ｍ＝０～１００、ｎ＝０～１００である。
ｌ：ｍは、０：１００～９０：１０（モル比）であることが好ましい。
また、前記ｌは、好ましくは５０～７０モル％である。
ｌが前記範囲にあると、溶剤溶解性および耐衝撃性に優れる重合体（Ｂ１）を容易に得ることができる。
ｌ：ｍは、０：１００～９０：１０（モル比）であることが好ましい。
また、前記ｌは、好ましくは５０～７０モル％である。
ｌが前記範囲にあると、溶剤溶解性および耐衝撃性に優れる重合体（Ｂ１）を容易に得ることができる。
【0064】
前記二価フェノールとしては、例えば、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン（以下「ビスフェノールＡ」ともいう。）と、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン（以下「ビスフェノールＴＭＣ」ともいう。）と、４，４－ジヒドロキシビフェニル（以下「ビフェノール」ともいう。）が挙げられる。
ビスフェノールＡは、安価な化合物であり、該ビスフェノールＡ由来の構成単位を含むことで、機械特性、特に耐衝撃性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
ビスフェノールＴＭＣは、シクロヘキサン環に３個のメチル置換基を有するため、該ビスフェノールＴＭＣ由来の構成単位を含むことで、溶剤溶解性および耐熱性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
さらに、ビフェノールは剛直な構造のため、該ビフェノール由来の構成単位を含むことで、耐熱性および熱間剛性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
ビスフェノールＡは、安価な化合物であり、該ビスフェノールＡ由来の構成単位を含むことで、機械特性、特に耐衝撃性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
ビスフェノールＴＭＣは、シクロヘキサン環に３個のメチル置換基を有するため、該ビスフェノールＴＭＣ由来の構成単位を含むことで、溶剤溶解性および耐熱性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
さらに、ビフェノールは剛直な構造のため、該ビフェノール由来の構成単位を含むことで、耐熱性および熱間剛性に優れる重合体（Ｂ１ａ）を容易に得ることができる。
【0065】
前記二価フェノールは、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
前記二価フェノールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＴＭＣおよびビフェノールから選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましく、これらから選ばれる少なくとも２種を用いることがより好ましく、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＴＭＣおよびビフェノールを用いることが特に好ましい。
前記二価フェノールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＴＭＣおよびビフェノールから選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましく、これらから選ばれる少なくとも２種を用いることがより好ましく、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＴＭＣおよびビフェノールを用いることが特に好ましい。
【0066】
前記芳香族ジカルボン酸としては、フタル酸が好ましい。
該フタル酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、またはこれらの混合物などが挙げられる。
これらの中でも、重合体（Ｂ１ａ）を合成する際に、良好な合成反応を進めることができる等の点から、イソフタル酸とテレフタル酸の混合物を用いることが好ましい。この場合、テレフタル酸とイソフタル酸との混合比率は、得られる重合体（Ｂ１ａ）の性能にバランスよく優れる等の点から、モル比で、テレフタル酸／イソフタル酸＝８／２～２／８であることが好ましく、より好ましくは７／３～３／７である。最も好ましいのは、両者の等モル混合物である。
該フタル酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、またはこれらの混合物などが挙げられる。
これらの中でも、重合体（Ｂ１ａ）を合成する際に、良好な合成反応を進めることができる等の点から、イソフタル酸とテレフタル酸の混合物を用いることが好ましい。この場合、テレフタル酸とイソフタル酸との混合比率は、得られる重合体（Ｂ１ａ）の性能にバランスよく優れる等の点から、モル比で、テレフタル酸／イソフタル酸＝８／２～２／８であることが好ましく、より好ましくは７／３～３／７である。最も好ましいのは、両者の等モル混合物である。
【0067】
また、重合体（Ｂ１）としては、芳香族ジカルボン酸由来の構成単位の一部を、本発明の効果を阻害しない範囲で、１種または２種以上の他の脂肪族ジカルボン酸由来の構成単位で置き換えてもよい。このような脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、ジカルボキシメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸、ドデカン二酸が挙げられる。
【0068】
重合体（Ｂ１）を重合する方法は特に制限されないが、界面重合法であることが好ましい。界面重合法によれば、溶液重合法と比較して反応が速く、例えば、原料としてイソフタル酸ハライドを用いる場合、該イソフタル酸ハライドの加水分解を最小限に抑えることができるため、高分子量の重合体（Ｂ１）を容易に合成することができる。また、界面重合法によれば、得られる重合体（Ｂ１）の粘度をコントロールすることができ、さらに、不純物量の少ない重合体（Ｂ１）を容易に合成することができる。
【0069】
重合体（Ｂ１）を重合する方法の具体例としては、特許第５３５５３３０号公報や特許第５７４９６２１号公報に記載の方法が挙げられる。
【0070】
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量は、好ましくは７０～１００質量％、より好ましくは９０～１００質量％、特に好ましくは１００質量％である。つまり、重合体（Ｂ１）は、ポリアリレートである（ポリアリレートのみからなる）ことが特に好ましい。
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量が１００質量％以外の場合、該重合体（Ｂ１）に含まれる重合体（Ｂ１）以外の成分としては、重合体（Ｂ１）を合成する際に用いた原料（未反応成分）や添加剤等が挙げられる。
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量が１００質量％以外の場合、該重合体（Ｂ１）に含まれる重合体（Ｂ１）以外の成分としては、重合体（Ｂ１）を合成する際に用いた原料（未反応成分）や添加剤等が挙げられる。
【0071】
本組成物１中の、重合体（Ｂ１）の含有量は、好ましくは５～７０質量％、より好ましくは８～６０質量％、さらに好ましくは１０～５０質量％である。
また、本組成物２中の、重合体（Ｂ１）の含有量は、５～７０質量％であり、好ましくは８～６０質量％、より好ましくは１０～５０質量％である。
本組成物中の重合体（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得るこができ、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
また、本組成物２中の、重合体（Ｂ１）の含有量は、５～７０質量％であり、好ましくは８～６０質量％、より好ましくは１０～５０質量％である。
本組成物中の重合体（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得るこができ、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0072】
本組成物１において、化合物（Ａ）１質量部に対する重合体（Ｂ１）の含有量は、好ましくは０．５～６質量部、より好ましくは０．８～５．５質量部、さらに好ましくは１．０～５．０質量部である。
本組成物２において、化合物（Ａ）１質量部に対する重合体（Ｂ１）の含有量は、０．５～６質量部であり、好ましくは０．８～５．５質量部、より好ましくは１．０～５．０質量部である。
化合物（Ａ）１質量部に対する重合体（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得るこができ、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
本組成物２において、化合物（Ａ）１質量部に対する重合体（Ｂ１）の含有量は、０．５～６質量部であり、好ましくは０．８～５．５質量部、より好ましくは１．０～５．０質量部である。
化合物（Ａ）１質量部に対する重合体（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、外観および再分散性に優れる本組成物を容易に得るこができ、本組成物中において、化合物（Ａ）が凝集し難く、適切に分散され、本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際にも、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成中に化合物（Ａ）が凝集し難く、化合物（Ａ）が十分に分散された光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することができるため、所望の分光特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0073】
＜その他の成分＞
本組成物１は、本発明の効果を損なわない範囲において、前記化合物（Ａ）および重合体（Ｂ１）以外のその他の成分を含んでいてもよい。また、本組成物２は、本発明の効果を損なわない範囲において、前記化合物（Ａ）、重合体（Ｂ１）および溶媒（第２溶媒）以外のその他の成分を含んでいてもよい。
該その他の成分としては、例えば、前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）、紫外線吸収性化合物（Ｕ）、溶媒（第２溶媒）、光安定化剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、密着促進剤、蛍光消光剤、前記重合体（Ｂ１）以外の重合体、可塑剤、フィラーが挙げられる。また、キャスト成形等により本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する場合などの際には、該光学フィルムや層（Ｄ１）の形成を容易にするために、レベリング剤、消泡剤、剥離促進剤等も、その他の成分として挙げられる。
これらその他の成分はそれぞれ、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
本組成物１は、本発明の効果を損なわない範囲において、前記化合物（Ａ）および重合体（Ｂ１）以外のその他の成分を含んでいてもよい。また、本組成物２は、本発明の効果を損なわない範囲において、前記化合物（Ａ）、重合体（Ｂ１）および溶媒（第２溶媒）以外のその他の成分を含んでいてもよい。
該その他の成分としては、例えば、前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）、紫外線吸収性化合物（Ｕ）、溶媒（第２溶媒）、光安定化剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、密着促進剤、蛍光消光剤、前記重合体（Ｂ１）以外の重合体、可塑剤、フィラーが挙げられる。また、キャスト成形等により本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する場合などの際には、該光学フィルムや層（Ｄ１）の形成を容易にするために、レベリング剤、消泡剤、剥離促進剤等も、その他の成分として挙げられる。
これらその他の成分はそれぞれ、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【0074】
これらその他の成分は、本組成物を調製する際に、化合物（Ａ）および重合体（Ｂ１）とともに混合してもよいし、化合物（Ａ）や重合体（Ｂ１）を合成する際に添加してもよい。
【0075】
前記重合体（Ｂ１）以外の重合体としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系重合体、ポリエーテル系重合体、ポリイミド系重合体、ポリエステル系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリアミド（アラミド）系重合体、ポリサルホン系重合体、ポリエーテルサルホン系重合体、ポリパラフェニレン系重合体、ポリアミドイミド系重合体、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系重合体、フッ素化芳香族ポリマー系重合体、（変性）アクリル系重合体、エポキシ系重合体が挙げられる。
これらの重合体の具体例としては、国際公開第２０１９／１６８０９０号に記載の樹脂等が挙げられる。
また、前記重合体（Ｂ１）以外の重合体としては、後述する重合体（Ｂ２－１）を用いてもよい。
本組成物において、重合体（Ｂ１）１００質量部に対する重合体（Ｂ１）以外の重合体の含有量は、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４０質量部以下、さらに好ましくは５質量部以上３０質量部以下である。
これらの重合体の具体例としては、国際公開第２０１９／１６８０９０号に記載の樹脂等が挙げられる。
また、前記重合体（Ｂ１）以外の重合体としては、後述する重合体（Ｂ２－１）を用いてもよい。
本組成物において、重合体（Ｂ１）１００質量部に対する重合体（Ｂ１）以外の重合体の含有量は、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４０質量部以下、さらに好ましくは５質量部以上３０質量部以下である。
【0076】
〔色素（Ｃ）〕
色素（Ｃ）としては、前記化合物（Ａ）および後述の紫外線吸収性化合物（Ｕ）以外の化合物であれば特に制限されず、本組成物の用途に応じて、従来公知の色素の中から、適宜選択すればよい。
本組成物に色素（Ｃ）を用いる場合、本組成物に用いる色素（Ｃ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
色素（Ｃ）としては、前記化合物（Ａ）および後述の紫外線吸収性化合物（Ｕ）以外の化合物であれば特に制限されず、本組成物の用途に応じて、従来公知の色素の中から、適宜選択すればよい。
本組成物に色素（Ｃ）を用いる場合、本組成物に用いる色素（Ｃ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0077】
色素（Ｃ）としては、可視光吸収剤、（近）赤外線吸収剤が好ましく、可視光領域（例：４３０～５８０ｎｍ）の光を十分に透過し、近赤外波長領域（例：７００～１１００ｎｍ）の光を十分に吸収する能力を有する（近）赤外線吸収剤が好ましい。
なお、色素（Ｃ）は溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましい。
なお、色素（Ｃ）は溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましい。
【0078】
色素（Ｃ）としては、無機化合物、有機化合物および有機無機化合物のいずれでも特に制限はなく、例えば、染料や色素として用いられている種々公知の化合物を用いることができる。
これらの化合物としては、例えば、アゾ系化合物、アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、アントラキノン系化合物、キノフタロン系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、ピロロピロール系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、アクリジン系化合物、ポリメチン系化合物、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ペリレン系化合物、ジオキサジン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、これらの金属キレート化合物、金属ジチオラート系化合物が挙げられる。
なお、ポリメチン系化合物は、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物を除くポリメチン化合物であり、フタロシアニン系化合物はポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物を除くフタロシアニン系化合物である。
これらの化合物としては、例えば、アゾ系化合物、アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、アントラキノン系化合物、キノフタロン系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、ピロロピロール系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、アクリジン系化合物、ポリメチン系化合物、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ペリレン系化合物、ジオキサジン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、これらの金属キレート化合物、金属ジチオラート系化合物が挙げられる。
なお、ポリメチン系化合物は、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物を除くポリメチン化合物であり、フタロシアニン系化合物はポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物を除くフタロシアニン系化合物である。
【0079】
これらの中でも、アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、アントラキノン系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、ポリメチン系化合物、メロシアニン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ペリレン系化合物、ジオキサジン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、および、これらの金属キレート化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましく、
アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、ポリメチン系化合物、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、および、これらの金属キレート化合物から選ばれる少なくとも１種がさらに好ましい。
アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、ポリメチン系化合物、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、および、これらの金属キレート化合物から選ばれる少なくとも１種がさらに好ましい。
【0080】
具体的な色素の構造については、例えば、「新版染料便覧」（有機合成化学協会編；丸善、１９７０）、「色素ハンドブック」（大河原他編；講談社、１９８６）などに記載されている。
【0081】
本組成物が色素（Ｃ）を含有する場合、その含有量は、重合体（Ｂ１）１００質量部に対し、好ましくは０．０５～１０質量部、より好ましくは０．１～５質量部、さらに好ましくは０．２～２質量部である。
色素（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、該色素（Ｃ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、所望の光学特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
色素（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、該色素（Ｃ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、所望の光学特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0082】
〔紫外線吸収性化合物（Ｕ）〕
本組成物は、（近）紫外線領域の少なくとも一部の光を吸収する紫外線吸収性化合物（Ｕ）を含んでいてもよい。
本組成物が該化合物（Ｕ）を含むことで、重合体（Ｂ１）や化合物（Ａ）の劣化を抑制することができる。
本組成物に化合物（Ｕ）を用いる場合、本組成物に用いる化合物（Ｕ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
本組成物は、（近）紫外線領域の少なくとも一部の光を吸収する紫外線吸収性化合物（Ｕ）を含んでいてもよい。
本組成物が該化合物（Ｕ）を含むことで、重合体（Ｂ１）や化合物（Ａ）の劣化を抑制することができる。
本組成物に化合物（Ｕ）を用いる場合、本組成物に用いる化合物（Ｕ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0083】
化合物（Ｕ）は、所望の波長範囲の光を吸収すること、特定の溶媒に対し相溶性を有すること、本組成物中において良好に分散すること、および耐環境性に優れていること等の観点から選択することが好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる化合物（Ｕ）を２種以上用いてもよい。
【0084】
化合物（Ｕ）の例としては、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸系化合物、シアノアクリレート系化合物およびトリアジン系化合物が挙げられる。
化合物（Ｕ）の具体例としては、特開２０１２－１８３９５公報の［０２５８］～［０２５９］段落に記載された化合物、特開２００７－７２１６３号公報に記載された化合物が挙げられる。
化合物（Ｕ）の具体例としては、特開２０１２－１８３９５公報の［０２５８］～［０２５９］段落に記載された化合物、特開２００７－７２１６３号公報に記載された化合物が挙げられる。
【0085】
化合物（Ｕ）としては、市販品を用いてもよく、該市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ ＰＳ、Ｔｉｎｕｖｉｎ ９９－２、Ｔｉｎｕｖｉｎ ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２９、Ｔｉｎｕｖｉｎ ９００、Ｔｉｎｕｖｉｎ ９２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４０５、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４６０、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９、Ｔｉｎｕｖｉｎ １５７７（いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【0086】
本組成物が化合物（Ｕ）を含有する場合、その含有量は、重合体（Ｂ１）１００質量部に対し、好ましくは０．１～５質量部である。
化合物（Ｕ）の含有量が前記範囲にあると、該化合物（Ｕ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、所望の光学特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
化合物（Ｕ）の含有量が前記範囲にあると、該化合物（Ｕ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、所望の光学特性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる。
【0087】
〔溶媒（第２溶媒）〕
本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、第２溶媒を含有してもよく、第２溶媒を含有していることが好ましい。
本組成物１および本組成物２は、１種または２種以上の第２溶媒を含有することが好ましい。
本組成物に第２溶媒を用いる場合、本組成物に用いる第２溶媒は、１種でもよく、２種以上でもよい。
本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、第２溶媒を含有してもよく、第２溶媒を含有していることが好ましい。
本組成物１および本組成物２は、１種または２種以上の第２溶媒を含有することが好ましい。
本組成物に第２溶媒を用いる場合、本組成物に用いる第２溶媒は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0088】
なお、本組成物は、化合物（Ａ）を合成する際に用い得る第１溶媒を含んでいてもよい。
本組成物が該第１溶媒を含む場合、その含有量は、好ましくは５質量％以下、より好ましくは３質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下である。
本組成物が該第１溶媒を含む場合、その含有量は、好ましくは５質量％以下、より好ましくは３質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下である。
【0089】
前記第２溶媒としては特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、２－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、イソペンタノール、２－メチルブタノール、２－ペンタノール、ｔｅｒｔ－ペンタノール、３－メトキシブタノール、ｎ－ヘキサノール、２－メチルペンタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、２－エチルブタノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、ｎ－オクタノール、２－エチルヘキサノール、２－オクタノール、ｎ－ノニルアルコール、２，６－ジメチル－４－ヘプタノール、ｎ－デカノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；アセトン、ヘプタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、キシレン、トルエンなどの炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、オキセタンなどの複素環式化合物類；塩化メチレン（ジクロロメタン）、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどの塩素系溶媒；ジエチルエーテルなどのエーテル類；ギ酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類；が挙げられる。
【0090】
第２溶媒は、重合体（Ｂ１）の特性や、本組成物の安定性、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際の工程の安定性、光学フィルムや層（Ｄ１）に求められる特性などを考慮して決定してもよい。
光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際に、溶液流延法などを用いる場合、第２溶媒としては、低沸点の溶媒（例：塩素系溶媒）が好ましい。
光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際に、溶液流延法などを用いる場合、第２溶媒としては、低沸点の溶媒（例：塩素系溶媒）が好ましい。
【0091】
溶液流延法によって光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する場合、流延後に溶媒を除去することで光学フィルムや層（Ｄ１）を形成することから、沸点の比較的低い溶媒を第２溶媒として選択することが好ましく、この場合沸点が１１５℃以下の溶媒が好ましく、８０℃以下の溶媒がより好ましく、７０℃以下の溶媒がさらに好ましく、６０℃以下の溶媒が特に好ましい。
また、第２溶媒として、沸点の高い溶媒を用いた場合、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際に、溶媒が光学フィルムや層（Ｄ１）内に過剰に残存する可能性がある。このような残存溶媒の多い光学フィルムや層（Ｄ１）をカメラモジュールに用いると、一部の溶媒が蒸発して電子部品や光学部品に悪影響をもたらす可能性がある。
一方で、第２溶媒の沸点が３０℃未満であると、本組成物を調製する際に該溶媒が蒸発して粘度が上昇したり、ポットライフが著しく短くなることがある。
また、第２溶媒として、沸点の高い溶媒を用いた場合、光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する際に、溶媒が光学フィルムや層（Ｄ１）内に過剰に残存する可能性がある。このような残存溶媒の多い光学フィルムや層（Ｄ１）をカメラモジュールに用いると、一部の溶媒が蒸発して電子部品や光学部品に悪影響をもたらす可能性がある。
一方で、第２溶媒の沸点が３０℃未満であると、本組成物を調製する際に該溶媒が蒸発して粘度が上昇したり、ポットライフが著しく短くなることがある。
【0092】
以上のことから、第２溶媒の沸点は、好ましくは３０～１１５℃、より好ましくは３０～８０℃、さらに好ましくは３５～７０℃、特に好ましくは３５～６０℃である。
このような第２溶媒としては、例えば、アセトン（５６℃）、クロロホルム（６１℃）、塩化メチレン（４０℃）、ジエチルエーテル（３５℃）、ギ酸エチル（５２℃）、ヘキサン（６９℃）、メタノール（６５℃）、酢酸メチル（５７℃）、ペンタン（３６℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）、メチルエチルケトン（８０℃）、トルエン（１１１℃）が好ましい。
このような第２溶媒としては、例えば、アセトン（５６℃）、クロロホルム（６１℃）、塩化メチレン（４０℃）、ジエチルエーテル（３５℃）、ギ酸エチル（５２℃）、ヘキサン（６９℃）、メタノール（６５℃）、酢酸メチル（５７℃）、ペンタン（３６℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）、メチルエチルケトン（８０℃）、トルエン（１１１℃）が好ましい。
【0093】
本組成物が第２溶媒を含む場合、その含有量は、好ましくは１５～８５質量％、より好ましくは２０～７０質量％である。
【0094】
〔光安定化剤〕
本組成物は、紫外線を含む光の作用によって、重合体（Ｂ１）や化合物（Ａ）が劣化することを抑制する等の目的で、光安定化剤を含んでいてもよい。
本組成物に光安定化剤を用いる場合、本組成物に用いる光安定化剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
本組成物は、紫外線を含む光の作用によって、重合体（Ｂ１）や化合物（Ａ）が劣化することを抑制する等の目的で、光安定化剤を含んでいてもよい。
本組成物に光安定化剤を用いる場合、本組成物に用いる光安定化剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0095】
光安定化剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定化剤（ＨＡＬＳ）が挙げられる。
ヒンダードアミン系光安定化剤としては、例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブシリーズが挙げられる。
ヒンダードアミン系光安定化剤としては、例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブシリーズが挙げられる。
【0096】
本組成物が光安定化剤を含む場合、その含有量は、重合体（Ｂ１）や化合物（Ａ）の劣化を十分に抑制できる等の点から、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、好ましくは０．００１～２０質量部、より好ましくは０．０１～１０質量部、さらに好ましくは０．１～５質量部である。
【0097】
〔シランカップリング剤〕
本組成物は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。
シランカップリング剤を用いることで、本組成物中の化合物（Ａ）と、重合体（Ｂ１）との結びつきを強くし、耐候性などを向上させることできると考えられる。また、例えば、被着体（例：ガラスなどの無機質系支持体）上に本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する場合、該支持体と光学フィルムや層（Ｄ１）との剥離が起こることを抑制することができる。
本組成物にシランカップリング剤を用いる場合、本組成物に用いるシランカップリング剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
本組成物は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。
シランカップリング剤を用いることで、本組成物中の化合物（Ａ）と、重合体（Ｂ１）との結びつきを強くし、耐候性などを向上させることできると考えられる。また、例えば、被着体（例：ガラスなどの無機質系支持体）上に本組成物から光学フィルムや層（Ｄ１）を形成する場合、該支持体と光学フィルムや層（Ｄ１）との剥離が起こることを抑制することができる。
本組成物にシランカップリング剤を用いる場合、本組成物に用いるシランカップリング剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0098】
シランカップリング剤としては、例えば、アルコキシシランモノマーまたはその加水分解物が挙げられる。
該アルコキシシランモノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－Ｎ’－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
該アルコキシシランモノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－Ｎ’－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
【0099】
本組成物がシランカップリング剤を含む場合、その含有量は、耐候性に優れる本組成物を容易に得ることができ、被着体との密着性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができる等の点から、重合体（Ｂ１）１００質量部に対して、好ましくは０．１～２０質量部、より好ましくは１～１０質量部である。
【0100】
＜本組成物の調製方法＞
本組成物は、化合物（Ａ）、重合体（Ｂ１）、および、必要により前記その他の成分を混合することで調製することができる。
この際の混合順等は特に制限されないが、重合体（Ｂ１）を適量の第２溶媒に溶解して得られた溶液と、前記のようにして得られた化合物（Ａ）とを、混合・撹拌することが好ましい。この際には、例えば、室温で５～６０分間程度撹拌して、得られた組成物中に凝集や塊が視認できない程度に、撹拌することが好ましい。
本組成物は、化合物（Ａ）、重合体（Ｂ１）、および、必要により前記その他の成分を混合することで調製することができる。
この際の混合順等は特に制限されないが、重合体（Ｂ１）を適量の第２溶媒に溶解して得られた溶液と、前記のようにして得られた化合物（Ａ）とを、混合・撹拌することが好ましい。この際には、例えば、室温で５～６０分間程度撹拌して、得られた組成物中に凝集や塊が視認できない程度に、撹拌することが好ましい。
【0101】
なお、得られる本組成物中の化合物（Ａ）の濃度を調整する目的も含め、前記のようにして得られた組成物から、第２溶媒を蒸留等によって一定程度除去してもよい。該蒸留は、除去対象の第２溶媒の沸点やその近傍、または該沸点以上の温度で行うことが好ましいが、例えば８５℃を超える温度で蒸留をすると、化合物（Ａ）に熱的なダメージが生じる可能性がある。従って、該蒸留を行う場合には、８５℃以下の温度で行うことが好ましい。一方で、選択される第２溶媒の沸点の関係上、実質的な沸点を低下させる目的で、減圧を伴う蒸留（減圧蒸留）を行ってもよい。
【0102】
＜本組成物の光学特性＞
本組成物は、化合物（Ａ）が分散した液状の場合、一定の透過スペクトルを有していてもよく、透過スペクトルに関する特性である下記要件（ｉ）～（ｉｖ）を満たすことが好ましい。本組成物の透過スペクトルに関する特性を測定する際は、例えば、本組成物を透過する光の物理的な光路長が１±０．２５ｍｍとなるような石英製の透明セルに入れて行う。ここで、物理的光路長とは、媒質の屈折率を考慮しない長さである。
なお、本組成物の透過スペクトルに関する特性は、波長８００ｎｍにおける透過率が１０±１％となるように、必要により溶媒量を調整（溶媒の除去または添加）した測定用サンプルを用い、温度が２５±５℃の環境下で行った時の特性であり、具体的には、下記実施例における「組成物の透過スペクトルの測定」に記載の方法で測定される。
本組成物は、化合物（Ａ）が分散した液状の場合、一定の透過スペクトルを有していてもよく、透過スペクトルに関する特性である下記要件（ｉ）～（ｉｖ）を満たすことが好ましい。本組成物の透過スペクトルに関する特性を測定する際は、例えば、本組成物を透過する光の物理的な光路長が１±０．２５ｍｍとなるような石英製の透明セルに入れて行う。ここで、物理的光路長とは、媒質の屈折率を考慮しない長さである。
なお、本組成物の透過スペクトルに関する特性は、波長８００ｎｍにおける透過率が１０±１％となるように、必要により溶媒量を調整（溶媒の除去または添加）した測定用サンプルを用い、温度が２５±５℃の環境下で行った時の特性であり、具体的には、下記実施例における「組成物の透過スペクトルの測定」に記載の方法で測定される。
【0103】
要件（ｉ）：波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である。
該透過率の平均値は、好ましくは８％以下、より好ましくは６％以下である。
波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が前記範囲にある本組成物を用いることで、十分な赤外線の遮蔽性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に到達する光を、一般的に赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近い光とすることが可能である。
該透過率の平均値は、好ましくは８％以下、より好ましくは６％以下である。
波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が前記範囲にある本組成物を用いることで、十分な赤外線の遮蔽性を有する光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に到達する光を、一般的に赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近い光とすることが可能である。
【0104】
化合物（Ａ）を含む本組成物を用いて、層（Ｄ１）等を形成する場合、その層（Ｄ１）等の厚みによって、得られる透過スペクトルが変化する。例えば、波長８００～１１００ｎｍの範囲内の透過率をより低下させたい時は、層（Ｄ１）等の厚みを厚くし、波長４６０～５８０ｎｍの可視光領域の一部の透過率を増加させたい時は、層（Ｄ１）等の厚みを薄くする、などによって、求める透過率の特性に応じて、厚みを調整してもよい。
【0105】
なお、本発明において、波長Ａ～Ｂｎｍの透過率の平均値（平均透過率）は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における透過率を測定し、その透過率の合計を、測定した透過率の数（波長範囲、Ｂ－Ａ＋１）で除した値である。
【0106】
要件（ｉｉ）：波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上である。
波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が前記範囲にある本組成物を用いることで、可視光領域の光の透過性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、より明るい像を容易に得ることができる。
波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が前記範囲にある本組成物を用いることで、可視光領域の光の透過性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、より明るい像を容易に得ることができる。
【0107】
要件（ｉｉｉ）：波長６８０～７８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第１カットオフ波長を有する。
第１カットオフ波長が前記範囲にある本組成物を用いることで、赤外線域に属する光の遮蔽性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に到達する光を、一般的に赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近い光とすることが可能である。
第１カットオフ波長が前記範囲にある本組成物を用いることで、赤外線域に属する光の遮蔽性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に到達する光を、一般的に赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近い光とすることが可能である。
【0108】
要件（ｉｖ）：波長３２０～３８０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第２カットオフ波長を有する。
第２カットオフ波長が前記範囲にある本組成物を用いることで、紫外線域に属する光の遮蔽性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に達する光を、一般的に紫外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができ、また、撮像素子に達する光に波長の短い光が含まれることによる、パープルフリンジなどの色にじみが生じる影響を低減することができる。
第２カットオフ波長が前記範囲にある本組成物を用いることで、紫外線域に属する光の遮蔽性に優れる光学フィルムや層（Ｄ１）を容易に形成することができ、該光学フィルムや層（Ｄ１）を有する撮像装置等は、撮像素子に達する光を、一般的に紫外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができ、また、撮像素子に達する光に波長の短い光が含まれることによる、パープルフリンジなどの色にじみが生じる影響を低減することができる。
【0109】
本組成物は、前記要件（ｉ）～（ｉｖ）に加え、下記要件（ｖ）～（ｖｉｉ）を満たしていてもよく、下記要件（ｖ）～（ｖｉｉ）を満たすことが好ましい。
【0110】
要件（ｖ）：波長９００～１１００ｎｍの範囲における透過率の標準偏差が０．５％以下である。
該標準偏差は、好ましくは０．３％以下である。
化合物（Ａ）の濃度や量を調整して、波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の吸収性を高めようとする場合、波長９００～１１００ｎｍにおける透過率のばらつきが小さく、透過スペクトルがよりフラットであることの方が、この範囲の光の吸収性を容易に低減することができる。
前記標準偏差が前記範囲を超える場合は、例えば波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の透過率を充分に低減させた場合であっても、一部の波長範囲の透過率の低下が十分ではない場合が生じる可能性がある。
該標準偏差は、好ましくは０．３％以下である。
化合物（Ａ）の濃度や量を調整して、波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の吸収性を高めようとする場合、波長９００～１１００ｎｍにおける透過率のばらつきが小さく、透過スペクトルがよりフラットであることの方が、この範囲の光の吸収性を容易に低減することができる。
前記標準偏差が前記範囲を超える場合は、例えば波長８００～１２００ｎｍの範囲の光の透過率を充分に低減させた場合であっても、一部の波長範囲の透過率の低下が十分ではない場合が生じる可能性がある。
【0111】
なお、本発明において、波長Ａ～Ｂｎｍの透過率の標準偏差は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における透過率を測定した時の、これらの透過率の標準偏差である。
【0112】
要件（ｖｉ）：波長３００～１２００ｎｍの範囲において、透過率が５０％以上である帯域波長の幅が３５０～４２０ｎｍである。
要件（ｖｉ）は、いわゆる透過帯域の幅を特定し、該波長の幅が前記範囲にあると、可視光域等の透過帯域が十分長くなり、透過帯域の一部が遮蔽されることが起こり難く、また、透過帯域以外の光を十分に遮蔽し易くなる傾向にある。
要件（ｖｉ）は、いわゆる透過帯域の幅を特定し、該波長の幅が前記範囲にあると、可視光域等の透過帯域が十分長くなり、透過帯域の一部が遮蔽されることが起こり難く、また、透過帯域以外の光を十分に遮蔽し易くなる傾向にある。
【0113】
要件（ｖｉｉ）：波長１１００～１２００ｎｍの範囲における透過率の平均値が１０％以下である。
該透過率の平均値は、好ましくは８％以下である。
化合物（Ａ）を含む組成物の場合、波長１１００ｎｍ以上の範囲の光の透過率が高くなる傾向にあるが、本組成物によれば、この要件（ｖｉｉ）を容易に満たすことができ、この要件（ｖｉｉ）を満たす本組成物は、例えば、波長８００～１１００ｎｍの範囲の光の透過率を充分に低減し、かつ、波長１１００ｎｍ以上の透過率を低く抑えることができる傾向にある。
該透過率の平均値は、好ましくは８％以下である。
化合物（Ａ）を含む組成物の場合、波長１１００ｎｍ以上の範囲の光の透過率が高くなる傾向にあるが、本組成物によれば、この要件（ｖｉｉ）を容易に満たすことができ、この要件（ｖｉｉ）を満たす本組成物は、例えば、波長８００～１１００ｎｍの範囲の光の透過率を充分に低減し、かつ、波長１１００ｎｍ以上の透過率を低く抑えることができる傾向にある。
【0114】
≪光学フィルムおよび層（Ｄ１）≫
本発明に係る光学フィルムおよび層（Ｄ１）は、本組成物から形成される。該光学フィルムは、本組成物から従来公知の方法により製膜して得られる膜状のものを指し、層（Ｄ１）と同義である。そのため、以下の層（Ｄ１）に関する記載は、光学フィルムにも適用することができる。以下では、光学フィルムおよび層（Ｄ１）を「層（Ｄ１）等」ともいう。
本発明に係る光学フィルムおよび層（Ｄ１）は、本組成物から形成される。該光学フィルムは、本組成物から従来公知の方法により製膜して得られる膜状のものを指し、層（Ｄ１）と同義である。そのため、以下の層（Ｄ１）に関する記載は、光学フィルムにも適用することができる。以下では、光学フィルムおよび層（Ｄ１）を「層（Ｄ１）等」ともいう。
【0115】
層（Ｄ１）等を、例えば、撮像装置やカメラモジュール内に搭載する用途に用いる場合、層（Ｄ１）等の厚みが薄いほど撮像装置やカメラモジュールの低背位化に有利である。一方、層（Ｄ１）等の厚みが過剰に薄いと、例えば、剛性や機械的強度が著しく低下するため、層（Ｄ１）等のハンドリングが困難になる場合がある。
これらのことを考慮すると、層（Ｄ１）等の厚みは、好ましくは２３０μｍ以下、より好ましくは３５～２２０μｍ、さらに好ましくは５０～２１０μｍである。
これらのことを考慮すると、層（Ｄ１）等の厚みは、好ましくは２３０μｍ以下、より好ましくは３５～２２０μｍ、さらに好ましくは５０～２１０μｍである。
【0116】
層（Ｄ１）等は、２３０μｍ以下の厚みとした時に、層（Ｄ１）等の主面（面積の最も大きい面）に対し、入射角０°の光を入射させた際の透過スペクトルにおいて、以下の特性（Ｉ）～（Ｖ）を有していてもよく、以下の特性（Ｉ）～（Ｖ）を有していることが好ましい。
ここで、層（Ｄ１）等の透過スペクトルに関する特性、特に下記特性（Ｉ）～（ＶＩＩＩ）は、具体的には、下記実施例における「層（Ｄ１－Ａ１）の透過スペクトルの測定」に記載の方法で得られる。
ここで、層（Ｄ１）等の透過スペクトルに関する特性、特に下記特性（Ｉ）～（ＶＩＩＩ）は、具体的には、下記実施例における「層（Ｄ１－Ａ１）の透過スペクトルの測定」に記載の方法で得られる。
【0117】
特性（Ｉ）：波長４６０～５８０ｎｍの範囲における透過率の平均値が８０％以上であり、好ましくは８５％以上である。
特性（Ｉ）を満たす層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、該層（Ｄ１）等を透過して、撮像素子等に到達する可視光域の光の光束が大きくなり、より明るい像を容易に形成することができる。
特性（Ｉ）を満たす層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、該層（Ｄ１）等を透過して、撮像素子等に到達する可視光域の光の光束が大きくなり、より明るい像を容易に形成することができる。
【0118】
特性（ＩＩ）：波長８００～１１００ｎｍの範囲における透過率の平均値が５％以下であり、好ましくは３％以下である。
特性（ＩＩ）を満たす層（Ｄ１）等は、近赤外線域の光を十分に遮蔽することができ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に近赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができる。
特性（ＩＩ）を満たす層（Ｄ１）等は、近赤外線域の光を十分に遮蔽することができ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に近赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができる。
【0119】
特性（ＩＩＩ）：波長６８０～７３０ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第３カットオフ波長を有する。該第３カットオフ波長は、好ましくは６８０～７２０ｎｍの範囲にある。
第３カットオフ波長が前記範囲にある層（Ｄ１）等は、近赤外線域の光の遮蔽性に優れ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に近赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができる。
また、第３カットオフ波長と第１カットオフ波長との差の絶対値は、好ましくは１０～６０ｎｍ、より好ましくは１５～５５ｎｍである。
第３カットオフ波長と第１カットオフ波長との差の絶対値が前記範囲にある層（Ｄ１）等は、時間経過とともに、著しい化合物（Ａ）の凝集がなく、シェルフライフに優れる。
第３カットオフ波長が前記範囲にある層（Ｄ１）等は、近赤外線域の光の遮蔽性に優れ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に近赤外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができる。
また、第３カットオフ波長と第１カットオフ波長との差の絶対値は、好ましくは１０～６０ｎｍ、より好ましくは１５～５５ｎｍである。
第３カットオフ波長と第１カットオフ波長との差の絶対値が前記範囲にある層（Ｄ１）等は、時間経過とともに、著しい化合物（Ａ）の凝集がなく、シェルフライフに優れる。
【0120】
特性（ＩＶ）：波長３４０～４００ｎｍの範囲に、透過率が５０％となる第４カットオフ波長を有する。該第４カットオフ波長は、好ましくは３５０～４００ｎｍの範囲、より好ましくは３６０～４００ｎｍの範囲にある。
特性（ＩＶ）を満たす層（Ｄ１）等は、紫外線域の光の遮蔽性に優れ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に紫外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができ、また、撮像素子等に達する光に波長の短い光が含まれることによる、パープルフリンジなどの色にじみが生じる影響を低減することができる。
特性（ＩＶ）を満たす層（Ｄ１）等は、紫外線域の光の遮蔽性に優れ、該層（Ｄ１）等を有する撮像装置などは、撮像素子等に到達する光を、一般的に紫外線域の光を感知しないヒトの視感度に近いものとすることができ、また、撮像素子等に達する光に波長の短い光が含まれることによる、パープルフリンジなどの色にじみが生じる影響を低減することができる。
【0121】
特性（Ｖ）：波長９５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下であり、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．２％以下である。
特性（Ｖ）を満たす層（Ｄ１）等は、波長９００～１１００ｎｍにおける近赤外線域の光を、該近赤外線による悪影響が生じないレベルにまで遮蔽可能である。
特性（Ｖ）を満たす層（Ｄ１）等は、波長９００～１１００ｎｍにおける近赤外線域の光を、該近赤外線による悪影響が生じないレベルにまで遮蔽可能である。
【0122】
さらに、層（Ｄ１）等は、２３０μｍ以下の厚みとした時に、層（Ｄ１）等の主面に対し、入射角０°の光を入射させた際の透過スペクトルにおいて、以下の特性（ＶＩ）～（ＶＩＩＩ）を有していてもよく、以下の特性（ＶＩ）～（ＶＩＩＩ）を有していることが好ましい。これらの特性は、赤外線領域の光の遮蔽性を表す指標であり、層（Ｄ１）等の評価指標として重視される場合がある。
【0123】
特性（ＶＩ）：波長８００ｎｍにおける透過率が３％以下
特性（ＶＩＩ）：波長１０００ｎｍにおける透過率が０．５％以下
特性（ＶＩＩＩ）：波長１１００ｎｍにおける透過率が０．５％以下
特性（ＶＩＩ）：波長１０００ｎｍにおける透過率が０．５％以下
特性（ＶＩＩＩ）：波長１１００ｎｍにおける透過率が０．５％以下
【0124】
＜層（Ｄ１）等の形成方法＞
層（Ｄ１）等の形成方法は特に制限されず、本組成物を用いる以外は、従来公知の方法で形成することができる。
層（Ｄ１）等の形成方法は特に制限されず、本組成物を用いる以外は、従来公知の方法で形成することができる。
【0125】
単層の層（Ｄ１）等を形成する方法としては、例えば、溶融成形、流延法（キャスティング法）、押出成形法、カレンダー法が挙げられる。これらの中でも、該層（Ｄ１）等を光学部品に用いる場合には、光学部品に求められる平滑性や低ヘイズ性、量産性を考慮して、また、本組成物に含まれる化合物（Ａ）の熱的性質等の点から、溶融成形、流延法が好ましい。
【0126】
・溶融成形
前記溶融成形としては、具体的には、本組成物を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；本組成物を溶融成形する方法；溶剤を含む液状の本組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記溶融成形としては、具体的には、本組成物を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；本組成物を溶融成形する方法；溶剤を含む液状の本組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
【0127】
・流延法
前記流延法では、例えば、平滑なガラス板や金属製ベルト等の支持体の主面上に、液状の本組成物を、ディスペンサやダイなどを用いて流延させ、次いで、乾燥させることで塗膜を形成し、その後、該塗膜を支持体から剥離することで、層（Ｄ１）等を形成することができる。
また、剥離した層（Ｄ１）等を必要により、ポストキュアしてもよい。
前記流延法では、例えば、平滑なガラス板や金属製ベルト等の支持体の主面上に、液状の本組成物を、ディスペンサやダイなどを用いて流延させ、次いで、乾燥させることで塗膜を形成し、その後、該塗膜を支持体から剥離することで、層（Ｄ１）等を形成することができる。
また、剥離した層（Ｄ１）等を必要により、ポストキュアしてもよい。
【0128】
前記本組成物を流延させる支持体の主面には、例えば、剥離促進剤（例：フッ素化合物を含む表面処理剤）を塗布しておき、得られる塗膜を支持体から剥離しやすくしてもよい。
【0129】
なお、所定の厚みの層（Ｄ１）等を形成するために、例えば、任意の形状のフレーム（枠）を、前記支持体の主面上に配置しておき、その枠内に、所定量の本組成物を流延することで、形成される層（Ｄ１）等の厚みをコントロールすることもできる。
【0130】
また、量産性に適した層（Ｄ１）等の形成方法としては、例えば、複数のローラー等によって連続的に移動する平滑な金属製のベルト等の支持体上に、スリットダイ等によって、溶媒を含む本組成物を塗布し、支持体上で該溶媒の少なくとも一部を蒸発させて、塗布した本組成物を乾燥、固化させることで塗膜を形成し、その後、該塗膜を支持体から剥離することで、層（Ｄ１）等を形成することができる。得られた層（Ｄ１）等は、必要により、例えば、オーブン内を通過させて溶媒を完全に近い程度に蒸発させてもよい（ポストキュア）。
なお、得られた層（Ｄ１）等は、必要により、延伸させてもよく、巻き取りローラー等で巻き取ってもよい。
なお、得られた層（Ｄ１）等は、必要により、延伸させてもよく、巻き取りローラー等で巻き取ってもよい。
【0131】
≪光学フィルター≫
本発明に係る光学フィルター（以下「本フィルター」ともいう。）は、前記層（Ｄ１）を有するフィルターであり、所望の光学特性を有する光学フィルターを容易に得ることができる等の点から、本フィルターは、さらに誘電体多層膜を有することが好ましい。なお、以下では、本フィルターを構成する誘電体多層膜以外の層（膜）を「基材（ｉ）」ともいう。
本フィルターに含まれる層（Ｄ１）は１層でもよく、本フィルターは、同一または異なる層（Ｄ１）を２層以上有していてもよい。
本発明に係る光学フィルター（以下「本フィルター」ともいう。）は、前記層（Ｄ１）を有するフィルターであり、所望の光学特性を有する光学フィルターを容易に得ることができる等の点から、本フィルターは、さらに誘電体多層膜を有することが好ましい。なお、以下では、本フィルターを構成する誘電体多層膜以外の層（膜）を「基材（ｉ）」ともいう。
本フィルターに含まれる層（Ｄ１）は１層でもよく、本フィルターは、同一または異なる層（Ｄ１）を２層以上有していてもよい。
【0132】
本フィルターは、本発明の効果がより発揮される等の点から、可視光領域の光を透過し、近赤外線領域の光を遮蔽する、所謂、近赤外線カットフィルターであるか、または、可視光領域の光および近赤外線領域の一部の光を透過し、透過させたい一部の近赤外線領域の光以外の近赤外線領域の光を遮蔽する、所謂、デュアルバンドパスフィルターであることが好ましく、近赤外線カットフィルターであることがより好ましい。
【0133】
本フィルターを、例えば、撮像装置やカメラモジュール内に搭載する用途に用いる場合、本フィルターの厚みが薄いほど撮像装置やカメラモジュールの低背位化に有利である。一方、本フィルターの厚みが過剰に薄いと、例えば、剛性や機械的強度が著しく低下する場合がある。
これらのことを考慮すると、本フィルターの厚みは、好ましくは６０～３００μｍ、より好ましくは７０～２８０μｍ、さらに好ましくは８０～２５０μｍである。
これらのことを考慮すると、本フィルターの厚みは、好ましくは６０～３００μｍ、より好ましくは７０～２８０μｍ、さらに好ましくは８０～２５０μｍである。
【0134】
＜基材（ｉ）＞
基材（ｉ）は、層（Ｄ１）を有すれば特に制限されず、単層であっても、多層であってもよい。
また、基材（ｉ）は、オーバーコート層および機能膜から選ばれる少なくとも１種を、１層または２層以上有してもよい。
基材（ｉ）は、層（Ｄ１）を有すれば特に制限されず、単層であっても、多層であってもよい。
また、基材（ｉ）は、オーバーコート層および機能膜から選ばれる少なくとも１種を、１層または２層以上有してもよい。
【0135】
前記基材（ｉ）は、前記層（Ｄ１）として、前記化合物（Ａ）、前記重合体（Ｂ１）および前記色素（Ｃ）を含む層（Ｄ１－１）を含有する基材（ｉ－１）であることが好ましく、または、
前記基材（ｉ）は、前記層（Ｄ１）として、前記色素（Ｃ）を含まない層（Ｄ１－２）と、前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）を含み、かつ、前記化合物（Ａ）を含まない層（Ｄ２）とを含有する基材（ｉ－２）であることが好ましい。
前記基材（ｉ）は、前記層（Ｄ１）として、前記色素（Ｃ）を含まない層（Ｄ１－２）と、前記化合物（Ａ）以外の色素（Ｃ）を含み、かつ、前記化合物（Ａ）を含まない層（Ｄ２）とを含有する基材（ｉ－２）であることが好ましい。
【0136】
前記基材（ｉ－１）は、２層以上の層（Ｄ１－１）を有していてもよく、さらに、前記層（Ｄ１－２）および後述の層（Ｄ２）から選ばれる少なくとも１種の層を１層または２層以上有していてもよい。
また、前記基材（ｉ－２）は、２層以上の層（Ｄ１－２）を有していてもよく、２層以上の層（Ｄ２）を有していてもよい。
前記層（Ｄ１－１）および（Ｄ１－２）は、前記色素（Ｃ）を含むまたは含まないことが限定された以外は、前記層（Ｄ１）の欄に記載の層と同様の層である。
また、前記基材（ｉ－２）は、２層以上の層（Ｄ１－２）を有していてもよく、２層以上の層（Ｄ２）を有していてもよい。
前記層（Ｄ１－１）および（Ｄ１－２）は、前記色素（Ｃ）を含むまたは含まないことが限定された以外は、前記層（Ｄ１）の欄に記載の層と同様の層である。
【0137】
前記基材（ｉ）は、ガラス支持体上に層（Ｄ１）が積層されていてもよく、さらに、層（Ｄ２）が積層されていることが好ましい。このような基材（ｉ）において、ガラス支持体、層（Ｄ１）、層（Ｄ２）の積層の順番は特に問わず、また、ガラス支持体、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）はそれぞれ、２層以上であってもよい。
前記ガラス支持体としては特に制限されないが、フツリン酸塩系ガラス、近赤外線吸収ガラス（例：リン酸塩系ガラス等にＣｕＯ等を添加した吸収型のガラス）、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、サファイヤガラス等からなるガラス支持体が挙げられる。なお、前記「リン酸塩系ガラス」には、ガラスの骨格の一部がＳｉＯ２で構成されるケイリン酸塩ガラスも含まれるものとする。
前記ガラス支持体としては特に制限されないが、フツリン酸塩系ガラス、近赤外線吸収ガラス（例：リン酸塩系ガラス等にＣｕＯ等を添加した吸収型のガラス）、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、サファイヤガラス等からなるガラス支持体が挙げられる。なお、前記「リン酸塩系ガラス」には、ガラスの骨格の一部がＳｉＯ２で構成されるケイリン酸塩ガラスも含まれるものとする。
【0138】
前記基材（ｉ）の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、得られる光学フィルターの入射角依存性を低減するように適宜選択することが望ましく、好ましくは２０～２３０μｍ、さらに好ましくは３５～２２０μｍ、特に好ましくは５０～２１０μｍである。
基材（ｉ）の厚みが前記範囲にあると、該基材（ｉ）を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。
基材（ｉ）の厚みが前記範囲にあると、該基材（ｉ）を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。
【0139】
本フィルターの用途にもよるが、基材（ｉ）は、以下の（α）～（ε）を満たすことが好ましい。なお、以下の（α）～（ε）は、基材（ｉ）の主面に対し、０°の方向から入射した光を測定した時の透過率に関する。
【0140】
（α）：波長３５０～４５０ｎｍ、好ましくは３７５～４３５ｎｍ、より好ましくは４００～４２０ｎｍにおいて、透過率が５０％未満から５０％超となる波長が存在する。
【0141】
（β）：波長４３０～５７０ｎｍ（可視領域）における、透過率の平均値が７０％以上、好ましくは７２．５％以上、より好ましくは７５％以上である。
該透過率の平均値は高い方が好ましいため、その上限は特に制限されず、１００％であってもよい。
該透過率の平均値は高い方が好ましいため、その上限は特に制限されず、１００％であってもよい。
【0142】
（γ）：波長６００～７００ｎｍにおいて、透過率が５０％超から５０％未満となる波長（ＩＲ５０）が存在する。
ＩＲ５０は、好ましくは６１０ｎｍ以上、より好ましくは６１５ｎｍ以上、さらに好ましくは６２０ｎｍ以上、特に好ましくは６３０ｎｍ以上、好ましくは７００ｎｍ未満、より好ましくは６９０ｎｍ以下、さらに好ましくは６９０ｎｍ未満、特に好ましくは６８５ｎｍ以下の範囲に存在することが望ましい。
このような波長が存在する場合、幅広く、急峻な近赤外線吸収と高い可視光透過率を両立した基材（ｉ）を容易に得ることができ、不要な近赤外線を選択的に効率よくカットすることができるとともに、基材（ｉ）上に誘電体多層膜を製膜した際、可視光波長～近赤外線波長領域付近の光学特性の入射角依存性を低減することができ、ゴーストや色シェーディングが低減された良好なカメラ画像を容易に得ることができる。
ＩＲ５０は、好ましくは６１０ｎｍ以上、より好ましくは６１５ｎｍ以上、さらに好ましくは６２０ｎｍ以上、特に好ましくは６３０ｎｍ以上、好ましくは７００ｎｍ未満、より好ましくは６９０ｎｍ以下、さらに好ましくは６９０ｎｍ未満、特に好ましくは６８５ｎｍ以下の範囲に存在することが望ましい。
このような波長が存在する場合、幅広く、急峻な近赤外線吸収と高い可視光透過率を両立した基材（ｉ）を容易に得ることができ、不要な近赤外線を選択的に効率よくカットすることができるとともに、基材（ｉ）上に誘電体多層膜を製膜した際、可視光波長～近赤外線波長領域付近の光学特性の入射角依存性を低減することができ、ゴーストや色シェーディングが低減された良好なカメラ画像を容易に得ることができる。
【0143】
（δ）：波長７００～８００ｎｍにおいて、透過率の平均値が、１％以下、好ましくは０．７５％以下、より好ましくは０．５％以下ある。
【0144】
（ε）：波長８００～１１００ｎｍにおいて、透過率の最大値が、４０％以下、好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下である。
【0145】
〔層（Ｄ２）〕
前記層（Ｄ２）は、前記色素（Ｃ）を含み、かつ、前記化合物（Ａ）を含まない層であれば特に制限されないが、前記色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）であることが好ましい。
層（Ｄ２）を有する本フィルターは、色素（Ｃ）の吸収特性により、化合物（Ａ）を含み、かつ、色素（Ｃ）を含まない本フィルターよりも急峻なカットオフ特性を達成でき、本フィルターに入射する光の入射角度による分光特性の変化が少ない傾向にある。
前記層（Ｄ２）は、前記色素（Ｃ）を含み、かつ、前記化合物（Ａ）を含まない層であれば特に制限されないが、前記色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）、および、光または熱によって硬化する硬化性化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを含有する組成物（Ｄ２）から形成された層（Ｄ２）であることが好ましい。
層（Ｄ２）を有する本フィルターは、色素（Ｃ）の吸収特性により、化合物（Ａ）を含み、かつ、色素（Ｃ）を含まない本フィルターよりも急峻なカットオフ特性を達成でき、本フィルターに入射する光の入射角度による分光特性の変化が少ない傾向にある。
【0146】
層（Ｄ２）を、例えば、撮像装置やカメラモジュール内に搭載する用途に用いる場合、層（Ｄ２）の厚みが薄いほど撮像装置やカメラモジュールの低背位化に有利である。一方、層（Ｄ２）の厚みが過剰に薄いと、目標とする分光特性を達成するために、色素（Ｃ）の層（Ｄ２）中の濃度を高くせざるを得ない場合があり、例えば、色素（Ｃ）の析出や保存安定性が課題となる場合がある。
これらのことを考慮すると、層（Ｄ２）の厚みは、好ましくは１～１２０μｍ、より好ましくは２～１１０μｍ、さらに好ましくは３～１００μｍである。
これらのことを考慮すると、層（Ｄ２）の厚みは、好ましくは１～１２０μｍ、より好ましくは２～１１０μｍ、さらに好ましくは３～１００μｍである。
【0147】
［色素（Ｃ）］
該色素（Ｃ）は、前記本組成物の欄に記載した色素（Ｃ）と同様の色素である。
組成物（Ｄ２）に用いる色素（Ｃ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
該色素（Ｃ）は、前記本組成物の欄に記載した色素（Ｃ）と同様の色素である。
組成物（Ｄ２）に用いる色素（Ｃ）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0148】
組成物（Ｄ２）中の色素（Ｃ）の含有量は、重合体（Ｂ２－１）および硬化性化合物（Ｂ２－２）の合計１００質量部に対し、好ましくは０．０５～１０質量部、より好ましくは０．１～５質量部、さらに好ましくは０．２～２質量部である。
色素（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、該色素（Ｃ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、形成される層（Ｄ２）を有する本フィルターは、所望の光学特性を有する。
色素（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、該色素（Ｃ）の有する光吸収特性が十分に発揮され、形成される層（Ｄ２）を有する本フィルターは、所望の光学特性を有する。
【0149】
［重合体（Ｂ２－１）］
重合体（Ｂ２－１）は、後述の硬化性化合物（Ｂ２－２）以外の重合体であれば特に限定されない。
組成物（Ｄ２）に重合体（Ｂ２－１）を用いる場合、用いる重合体（Ｂ２－１）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
重合体（Ｂ２－１）は、後述の硬化性化合物（Ｂ２－２）以外の重合体であれば特に限定されない。
組成物（Ｄ２）に重合体（Ｂ２－１）を用いる場合、用いる重合体（Ｂ２－１）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0150】
重合体（Ｂ２－１）としては、例えば、熱安定性や層（Ｄ２）の成形性を確保し、かつ、１００℃以上程度の蒸着温度で行う高温蒸着で誘電体多層膜を形成し得る層を容易に得ることができる等の点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、特に好ましくは１２０～３６０℃である重合体が挙げられる。
また、重合体（Ｂ２－１）のＴｇが１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得る層が得られるため、特に好ましい。
また、重合体（Ｂ２－１）のＴｇが１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得る層が得られるため、特に好ましい。
【0151】
重合体（Ｂ２－１）としては、当該重合体からなる厚さ０．１ｍｍの板の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８）が、好ましくは７５～９５％、さらに好ましくは７８～９５％、特に好ましくは８０～９５％となる重合体を用いることが望ましい。
全光線透過率が前記範囲にある重合体（Ｂ２－１）を用いると、透明性に優れる層（Ｄ２）や光学フィルターを容易に得ることができる。
全光線透過率が前記範囲にある重合体（Ｂ２－１）を用いると、透明性に優れる層（Ｄ２）や光学フィルターを容易に得ることができる。
【0152】
重合体（Ｂ２－１）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１５，０００～３５０，０００、より好ましくは３０，０００～２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは１０，０００～１５０，０００、より好ましくは２０，０００～１００，０００である。
【0153】
重合体（Ｂ２－１）としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系重合体、ポリエーテル系重合体、ポリイミド系重合体、ポリエステル系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリアミド（アラミド）系重合体、ポリサルホン系重合体、ポリエーテルサルホン系重合体、ポリパラフェニレン系重合体、ポリアミドイミド系重合体、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系重合体、フッ素化芳香族ポリマー系重合体、（変性）アクリル系重合体、エポキシ系重合体が挙げられる。
これらの重合体の具体例としては、国際公開第２０１９／１６８０９０号に記載の樹脂等が挙げられる。
また、重合体（Ｂ２－１）としては、前記重合体（Ｂ１）を用いてもよい。
これらの重合体の具体例としては、国際公開第２０１９／１６８０９０号に記載の樹脂等が挙げられる。
また、重合体（Ｂ２－１）としては、前記重合体（Ｂ１）を用いてもよい。
【0154】
組成物（Ｄ２）が重合体（Ｂ２－１）を含有する場合、その含有量は、組成物（Ｄ２）の粘度（塗工性）等の点から、好ましくは５～３０質量％、より好ましくは１０～２５質量％である。
【0155】
［硬化性化合物（Ｂ２－２）］
硬化性化合物（Ｂ２－２）は、光または熱によって硬化する化合物であれば特に限定されない。
組成物（Ｄ２）に化合物（Ｂ２－２）を用いる場合、用いる化合物（Ｂ２－２）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
硬化性化合物（Ｂ２－２）は、光または熱によって硬化する化合物であれば特に限定されない。
組成物（Ｄ２）に化合物（Ｂ２－２）を用いる場合、用いる化合物（Ｂ２－２）は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【0156】
化合物（Ｂ２－２）としては、例えば、エポキシ系化合物、アリルエステル系硬化性化合物、シルセスキオキサン系光硬化性化合物、アクリル系光硬化性化合物、アクリル系熱硬化性化合物、ビニル系光硬化性化合物が挙げられる。これらの中でも、エポキシ系化合物、シルセスキオキサン系光硬化性化合物、アクリル系光硬化性化合物、アクリル系熱硬化性化合物が好ましい。
【0157】
化合物（Ｂ２－２）としては、該化合物（Ｂ２－２）を含む組成物（Ｄ２）から得られる厚さ０．１ｍｍの層（Ｄ２）の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８）が、好ましくは７５～９５％、さらに好ましくは７８～９５％、特に好ましくは８０～９５％となるような化合物であることが望ましい。
【0158】
化合物（Ｂ２－２）としては、例えば、熱安定性および層（Ｄ２）の成形性を確保し、かつ、１００℃以上程度の蒸着温度で行う高温蒸着で誘電体多層膜を形成し得る層を容易に得ることができる等の点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である層（Ｄ２）を形成することができる化合物が望ましい。
また、Ｔｇが１４０℃以上である層（Ｄ２）を形成することができる化合物を用いると、高温での成形や処理が可能な層（Ｄ２）が得られるため、より好ましい。
また、Ｔｇが１４０℃以上である層（Ｄ２）を形成することができる化合物を用いると、高温での成形や処理が可能な層（Ｄ２）が得られるため、より好ましい。
【0159】
（エポキシ系化合物）
前記エポキシ系化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステル、α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルおよび不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物等のオキシラニル基を有する不飽和化合物；オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル等のオキセタニル基を有する不飽和化合物が挙げられる。
前記エポキシ系化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステル、α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルおよび不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物等のオキシラニル基を有する不飽和化合物；オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル等のオキセタニル基を有する不飽和化合物が挙げられる。
【0160】
（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２－メチルグリシジル、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７－エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチルが挙げられる。
α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとしては、例えば、α－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、α－エチルアクリル酸６，７－エポキシヘプチル、α－エチルアクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルが挙げられる。
不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物としては、例えば、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテルが挙げられる。
オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、２－エチル－３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－メチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンが挙げられる。
α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとしては、例えば、α－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、α－エチルアクリル酸６，７－エポキシヘプチル、α－エチルアクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルが挙げられる。
不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物としては、例えば、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテルが挙げられる。
オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、２－エチル－３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－メチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンが挙げられる。
【0161】
これらの中でも、特に、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２－メチルグリシジル、メタクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル、３－メタクリロイルオキシメチル－３－エチルオキセタン、３－メチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタンまたは３－エチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタンが、重合性等の点から好ましい。
【0162】
（シルセスキオキサン系光硬化性化合物）
前記シルセスキオキサン系光硬化性化合物としては、下記式（１）で表される化合物が好ましい。
［ＲＳｉＯ３／２］ｎ （１）
（式（１）中、Ｒは、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基、オキセタニル基またはビニル基のいずれか一つを有する有機官能基であり、ｎは８、１０、１２または１４である。）
前記シルセスキオキサン系光硬化性化合物としては、下記式（１）で表される化合物が好ましい。
［ＲＳｉＯ３／２］ｎ （１）
（式（１）中、Ｒは、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基、オキセタニル基またはビニル基のいずれか一つを有する有機官能基であり、ｎは８、１０、１２または１４である。）
【0163】
また、前記シルセスキオキサン系光硬化性化合物としては、下記式（２）で表されるケイ素化合物を、有機極性溶媒および塩基性触媒存在下で加水分解反応させると共に一部を縮合させ、得られた加水分解生成物をさらに非極性溶媒および塩基性触媒存在下で再縮合させてなる化合物も好ましい。
ＲＳｉＸ３ （２）
（式（２）中、Ｒは、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基、オキセタニル基またはビニル基のいずれか一つを有する有機官能基であり、Ｘは加水分解性基である。）
ＲＳｉＸ３ （２）
（式（２）中、Ｒは、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基、オキセタニル基またはビニル基のいずれか一つを有する有機官能基であり、Ｘは加水分解性基である。）
【0164】
式（１）および（２）における（メタ）アクリロイル基、グリシジル基、オキセタニル基またはビニル基のいずれか一つを有する有機官能基の一例としては、下記式（３）、（４）、（５）または（６）で表される有機官能基が挙げられる。
【0165】
【化5】
【0166】
【化6】
【0167】
（アクリル系光硬化性化合物）
前記アクリル系光硬化性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類；これらの水酸基へのエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物であるポリ（メタ）アクリレート類；分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類；オリゴエーテル（メタ）アクリレート類；オリゴウレタン（メタ）アクリレート類；オリゴエポキシ（メタ）アクリレート類が挙げられる。
前記アクリル系光硬化性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類；これらの水酸基へのエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物であるポリ（メタ）アクリレート類；分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類；オリゴエーテル（メタ）アクリレート類；オリゴウレタン（メタ）アクリレート類；オリゴエポキシ（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【0168】
これらの中でも、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。
【0169】
前記アクリル系光硬化性化合物の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の、アロニックス Ｍ－４００、Ｍ－４０８、Ｍ－４５０、Ｍ－３０５、Ｍ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３１５、Ｍ－３２０、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－２０８、Ｍ－２１０、Ｍ－２１５、Ｍ－２２０、Ｍ－２２５、Ｍ－２３３、Ｍ－２４０、Ｍ－２４５、Ｍ－２６０、Ｍ－２７０、Ｍ－１１００、Ｍ－１２００、Ｍ－１２１０、Ｍ－１３１０、Ｍ－１６００、Ｍ－２２１、Ｍ－２０３、ＴＯ－９２４、ＴＯ－１２７０、ＴＯ－１２３１、ＴＯ－５９５、ＴＯ－７５６、ＴＯ－１３４３、ＴＯ－９０２、ＴＯ－９０４、ＴＯ－９０５、ＴＯ－１３３０；日本化薬（株）製の、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０、Ｄ－３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０、ＤＮ－００７５、ＤＮ－２４７５、ＳＲ－２９５、ＳＲ－３５５、ＳＲ－３９９Ｅ、ＳＲ－４９４、ＳＲ－９０４１、ＳＲ－３６８、ＳＲ－４１５、ＳＲ－４４４、ＳＲ－４５４、ＳＲ－４９２、ＳＲ－４９９、ＳＲ－５０２、ＳＲ－９０２０、ＳＲ－９０３５、ＳＲ－１１１、ＳＲ－２１２、ＳＲ－２１３、ＳＲ－２３０、ＳＲ－２５９、ＳＲ－２６８、ＳＲ－２７２、ＳＲ－３４４、ＳＲ－３４９、ＳＲ－６０１、ＳＲ－６０２、ＳＲ－６１０、ＳＲ－９００３、ＰＥＴ－３０、Ｔ－１４２０、ＧＰＯ－３０３、ＴＣ－１２０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ－２２０、ＨＸ－６２０、Ｒ－５５１、Ｒ－７１２、Ｒ－１６７、Ｒ－５２６、Ｒ－５５１、Ｒ－７１２、Ｒ－６０４、Ｒ－６８４、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３２０、ＴＰＡ－３３０、ＫＳ－ＨＤＤＡ、ＫＳ－ＴＰＧＤＡ、ＫＳ－ＴＭＰＴＡ；共栄社化学（株）製の、ライトアクリレート ＰＥ－４Ａ、ＤＰＥ－６Ａ、ＤＴＭＰ－４Ａ；（株）レゾナック製の、ＦＡ－５１１ＡＳ、ＦＡ－５１２ＡＳ；新中村化学工業（株）製の、ＮＫエステル Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＤＰＨ；が挙げられる。
【0170】
化合物（Ｂ２－２）としてアクリル系光硬化性化合物を用いる場合、該アクリル系光硬化性化合物とともに、通常、光重合開始剤を用いる。
化合物（Ｂ２－２）としてアクリル系光硬化性化合物を用いる場合、アクリル系光硬化性化合物と光重合開始剤とを含む組成物（Ｄ２）を用いてもよく、アクリル系光硬化性化合物と光重合開始剤とを反応・硬化させ、得られた硬化物を含む組成物（Ｄ２）を用いてもよい。
化合物（Ｂ２－２）としてアクリル系光硬化性化合物を用いる場合、アクリル系光硬化性化合物と光重合開始剤とを含む組成物（Ｄ２）を用いてもよく、アクリル系光硬化性化合物と光重合開始剤とを反応・硬化させ、得られた硬化物を含む組成物（Ｄ２）を用いてもよい。
【0171】
前記光重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生してアクリル系光硬化性化合物の重合を開始することができる化合物であることが好ましく、具体例としては、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３－メチルアセトフェノン、４－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－（１－メチルビニル）フェニル）プロパノン）が挙げられる。
【0172】
前記光重合開始剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４－６１、ダロキュア１１１６、１１７３、ルシリンＴＰＯ；ＵＣＢ社製の、ユベクリルＰ３６；フラテツリ・ランベルティ社製の、エザキュアー ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ；が挙げられる。
【0173】
光重合開始剤の使用量は、アクリル系光硬化性化合物を十分に硬化させることができる等の点から、アクリル系光硬化性化合物１００質量部に対し、好ましくは０．５～１５質量％、より好ましくは１～８質量％である。
【0174】
（アクリル系熱硬化性化合物）
前記アクリル系熱硬化性化合物としては特に制限されないが、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ１）と、オキシラニル基含有不飽和化合物およびオキセタニル基含有不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とを用いて得られた共重合体（ａ１２）であることが好ましい。このような共重合体（ａ１２）は化合物（ａ１）および（ａ２）を含有してなる不飽和混合物を溶媒中、重合開始剤の存在下でラジカル共重合することによって製造することができる。
前記アクリル系熱硬化性化合物としては特に制限されないが、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ１）と、オキシラニル基含有不飽和化合物およびオキセタニル基含有不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とを用いて得られた共重合体（ａ１２）であることが好ましい。このような共重合体（ａ１２）は化合物（ａ１）および（ａ２）を含有してなる不飽和混合物を溶媒中、重合開始剤の存在下でラジカル共重合することによって製造することができる。
【0175】
化合物（ａ１）は、ラジカル重合性を有する不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物であり、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル、両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート、カルボキシ基を有する多環式化合物およびその無水物が挙げられる。
【0176】
オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、α－エチル（メタ）アクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピル（メタ）アクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチル（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸－３，４－エポキシブチル、（メタ）アクリル酸－６，７－エポキシヘプチル、α－エチル（メタ）アクリル酸－６，７－エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテルが挙げられる。これらの中でも、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸－６，７－エポキシヘプチル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸－３，４－エポキシシクロヘキシルメチルなどが共重合反応性および得られる層（Ｄ２）の耐熱性、耐薬性を高める等の点から好ましい。
オキセタニル基含有不飽和化合物としては、前記オキシラニル基を有する不飽和化合物のオキシラニル基をオキセタニル基に置換した化合物等が挙げられる。
オキセタニル基含有不飽和化合物としては、前記オキシラニル基を有する不飽和化合物のオキシラニル基をオキセタニル基に置換した化合物等が挙げられる。
【0177】
共重合体（ａ１２）における、化合物（ａ１）から誘導される構成単位の質量に対する、化合物（ａ２）から誘導される構成単位の質量の比（（ａ２）／（ａ１））は、好ましくは１以上、より好ましくは１．１以上、さらに好ましくは１．２以上である。
（ａ２）／（ａ１）が前記範囲にあると、低温保管安定性が高く、長期の保管が可能であり、耐熱性、耐薬性などに優れる組成物（Ｄ２）を容易に得ることができる。
（ａ２）／（ａ１）が前記範囲にあると、低温保管安定性が高く、長期の保管が可能であり、耐熱性、耐薬性などに優れる組成物（Ｄ２）を容易に得ることができる。
【0178】
化合物（ａ２）から誘導される構成単位の含有量は、共重合体（ａ１２）を構成する全構成単位１００質量％に対し、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上である。
該構成単位の含有量が前記範囲にあると、低温保管安定性が高く、長期の保管が可能であり、耐熱性、耐薬性などに優れる組成物（Ｄ２）を容易に得ることができる。
該構成単位の含有量が前記範囲にあると、低温保管安定性が高く、長期の保管が可能であり、耐熱性、耐薬性などに優れる組成物（Ｄ２）を容易に得ることができる。
【0179】
共重合体（ａ１２）は、化合物（ａ１）および（ａ２）以外に、これらと共重合可能な他の不飽和化合物（ａ３）から誘導される構成単位を有していてもよい。
【0180】
前記化合物（ａ３）としては、ラジカル重合性を有する不飽和化合物であれば特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格および（ポリ）アルキレングリコール骨格から選ばれる少なくとも１種の骨格を有する不飽和化合物、フェノール性水酸基を有する不飽和化合物が挙げられる。
【0181】
化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有量は、耐熱性、耐薬性に優れる層（Ｄ２）を容易に形成することができる等の点から、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される構成単位の合計１００質量％に対し、好ましくは５～４０質量％、より好ましくは５～２５質量％である。
【0182】
化合物（ａ２）から誘導される構成単位の含有量は、耐熱性、耐薬性に優れる層（Ｄ２）を容易に形成することができる等の点から、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される構成単位の合計１００質量％に対し、好ましくは１０～８０質量％、より好ましくは２０～６０質量％である。
【0183】
化合物（ａ３）として脂環構造を有する不飽和化合物を用いる場合、該不飽和化合物から誘導される構成単位の含有量は、耐熱性により優れる層（Ｄ２）を容易に形成することができる等の点から、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される構成単位の合計１００質量％に対し、好ましくは１０～８０質量％、より好ましくは２０～６０質量％である。
【0184】
アクリル系熱硬化性化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは２×１０３～１×１０５、より好ましくは５×１０３～５×１０４である。
また、アクリル系熱硬化性化合物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは５．０以下、より好ましくは３．０以下である。
また、アクリル系熱硬化性化合物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは５．０以下、より好ましくは３．０以下である。
【0185】
アクリル系熱硬化性化合物は、例えば、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）および化合物（ａ３）を、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で重合することによって合成することができる。
【0186】
［添加剤］
組成物（Ｄ２）には、本発明の効果を損なわない範囲において、前記色素（Ｃ）、重合体（Ｂ２－１）および化合物（Ｂ２－２）以外の添加剤を含んでいてもよい。
該添加剤としては、例えば、前記紫外線吸収性化合物（Ｕ）、溶媒、前記光安定化剤、前記シランカップリング剤、酸化防止剤、密着促進剤、蛍光消光剤、可塑剤、フィラーが挙げられる。また、キャスト成形等により組成物（Ｄ２）から層（Ｄ２）を形成する場合には、該層（Ｄ２）の形成を容易にするために、レベリング剤、消泡剤、剥離促進剤等を添加剤として用いることもできる。
これら添加剤はそれぞれ、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
組成物（Ｄ２）には、本発明の効果を損なわない範囲において、前記色素（Ｃ）、重合体（Ｂ２－１）および化合物（Ｂ２－２）以外の添加剤を含んでいてもよい。
該添加剤としては、例えば、前記紫外線吸収性化合物（Ｕ）、溶媒、前記光安定化剤、前記シランカップリング剤、酸化防止剤、密着促進剤、蛍光消光剤、可塑剤、フィラーが挙げられる。また、キャスト成形等により組成物（Ｄ２）から層（Ｄ２）を形成する場合には、該層（Ｄ２）の形成を容易にするために、レベリング剤、消泡剤、剥離促進剤等を添加剤として用いることもできる。
これら添加剤はそれぞれ、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【0187】
これら添加剤は、組成物（Ｄ２）を調製する際に、色素（Ｃ）、重合体（Ｂ２－１）および化合物（Ｂ２－２）とともに混合してもよいし、重合体（Ｂ２－１）や化合物（Ｂ２－２）を合成する際に添加してもよい。
【0188】
（溶媒）
組成物（Ｄ２）は、色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）および化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを、１種または２種以上の溶媒中で混合することで調製することが好ましい。
組成物（Ｄ２）は、色素（Ｃ）と、重合体（Ｂ２－１）および化合物（Ｂ２－２）から選ばれる少なくとも１種とを、１種または２種以上の溶媒中で混合することで調製することが好ましい。
【0189】
前記溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；
酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；
イソプロピルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２－ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類；
フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；
クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－メトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－エトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－エトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸メチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸エチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸メチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸エチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－メトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－エトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸メチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸エチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸メチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸エチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－ブチル等のアルコキシプロピオン酸アルキル類；が挙げられる。
酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；
イソプロピルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２－ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類；
フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；
クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－メトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－エトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－エトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸メチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸エチル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－ブチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸メチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸エチル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、２－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－メトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－エトキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸メチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸エチル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－ｎ－プロポキシプロピオン酸ｎ－ブチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸メチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸エチル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－プロピル、３－ｎ－ブトキシプロピオン酸ｎ－ブチル等のアルコキシプロピオン酸アルキル類；が挙げられる。
【0190】
組成物（Ｄ２）として、アクリル系光硬化性化合物を用いる場合、該組成物（Ｄ２）の粘度が、通常０．１～５０，０００ｍＰａ・秒／２５℃、好ましくは０．５～１０，０００ｍＰａ・秒／２５℃となるように溶媒を用いることが好ましい。
【0191】
（レベリング剤）
前記レベリング剤としては特に制限されないが、例えば、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤が挙げられる。
レベリング剤を用いる場合、用いるレベリング剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
シリコーン系レベリング剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリル基を有するポリシロキサンが挙げられる。
レベリング剤を用いる場合、その使用量は、組成物（Ｄ２）の固形分１００質量％に対し、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは３質量％以下である。
前記レベリング剤としては特に制限されないが、例えば、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤が挙げられる。
レベリング剤を用いる場合、用いるレベリング剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
シリコーン系レベリング剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリル基を有するポリシロキサンが挙げられる。
レベリング剤を用いる場合、その使用量は、組成物（Ｄ２）の固形分１００質量％に対し、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは３質量％以下である。
【0192】
（酸化防止剤）
前記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、硫黄系、リン系の各酸化防止剤が挙げられる。
酸化防止剤を用いる場合、用いる酸化防止剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
酸化防止剤を用いる場合、その使用量は、組成物（Ｄ２）の固形分１００質量％に対し、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは３質量％以下である。
前記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、硫黄系、リン系の各酸化防止剤が挙げられる。
酸化防止剤を用いる場合、用いる酸化防止剤は、１種でもよく、２種以上でもよい。
酸化防止剤を用いる場合、その使用量は、組成物（Ｄ２）の固形分１００質量％に対し、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは３質量％以下である。
【0193】
［層（Ｄ２）の形成方法］
層（Ｄ２）の形成方法は特に制限されず、組成物（Ｄ２）を用いる以外は、従来公知の方法で形成することができる。
組成物（Ｄ２）として、前記重合体（Ｂ２－１）等の重合体を用いる場合、前記層（Ｄ１）の形成方法と同様の方法で層（Ｄ２）を形成することができる。
層（Ｄ２）の形成方法は特に制限されず、組成物（Ｄ２）を用いる以外は、従来公知の方法で形成することができる。
組成物（Ｄ２）として、前記重合体（Ｂ２－１）等の重合体を用いる場合、前記層（Ｄ１）の形成方法と同様の方法で層（Ｄ２）を形成することができる。
【0194】
組成物（Ｄ２）として、例えば、前記アクリル系光硬化性化合物等の光硬化性化合物を用いる場合、光、好ましくは紫外線または電子線を照射して、該組成物（Ｄ２）を硬化させることで、層（Ｄ２）を形成することができる。
例えば、紫外線を照射する場合、紫外線の照射光量は、好ましくは０．０１～１０Ｊ／ｃｍ２、より好ましくは０．１～２Ｊ／ｃｍ２である。また、例えば、電子線を照射する場合、電子線の照射条件としては、加速電圧が、好ましくは１０～３００ｋＶ、電子密度が、好ましくは０．０２～０．３０ｍＡ／ｃｍ２、電子線照射量が、好ましくは１～１０Ｍｒａｄである条件が挙げられる。
なお、溶媒を含む光硬化性の組成物（Ｄ２）を用いる場合、例えば、０～２００℃で溶媒（揮発成分）を乾燥させた後、光を照射することが好ましい。
例えば、紫外線を照射する場合、紫外線の照射光量は、好ましくは０．０１～１０Ｊ／ｃｍ２、より好ましくは０．１～２Ｊ／ｃｍ２である。また、例えば、電子線を照射する場合、電子線の照射条件としては、加速電圧が、好ましくは１０～３００ｋＶ、電子密度が、好ましくは０．０２～０．３０ｍＡ／ｃｍ２、電子線照射量が、好ましくは１～１０Ｍｒａｄである条件が挙げられる。
なお、溶媒を含む光硬化性の組成物（Ｄ２）を用いる場合、例えば、０～２００℃で溶媒（揮発成分）を乾燥させた後、光を照射することが好ましい。
【0195】
〔基材（ｉ）の製造方法〕
前記基材（ｉ）の製造方法としては特に制限されず、従来公知の方法で製造することができる。
前記基材（ｉ）が、層（Ｄ１）の単層である場合、該基材（ｉ）は、前記層（Ｄ１）の形成方法と同様の方法で製造することができる。
前記基材（ｉ）が、例えば、層（Ｄ１）および（Ｄ２）を有する場合、例えば、以下の積層方法１～３を含む方法で製造することができる。
前記基材（ｉ）の製造方法としては特に制限されず、従来公知の方法で製造することができる。
前記基材（ｉ）が、層（Ｄ１）の単層である場合、該基材（ｉ）は、前記層（Ｄ１）の形成方法と同様の方法で製造することができる。
前記基材（ｉ）が、例えば、層（Ｄ１）および（Ｄ２）を有する場合、例えば、以下の積層方法１～３を含む方法で製造することができる。
【0196】
・積層方法１
予め、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）を、前記と同様の方法で、それぞれ独立に形成し、形成した層（Ｄ１）と層（Ｄ２）とを、直接貼合する方法、または接着層を介して貼合する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、重合体（Ｂ２－１）を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
直接貼合する方法としては、層（Ｄ１）および／または層（Ｄ２）の貼合面に、例えば、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）に含まれる重合体の双方に溶解性を有する溶剤を塗布して、両層を貼合し、乾燥させる方法が挙げられる。
前記接着層としては、層（Ｄ１）と層（Ｄ２）とを接着することができれば特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂層、光硬化性樹脂層、熱硬化性樹脂層が挙げられる。以下の接着層も同様の層が挙げられる。
これらの中でも、特に、熱可塑性樹脂層を介して接着させる方法が、貼合時の硬化収縮が少ない等の点で好ましい。熱可塑性樹脂層を介して接着させる際は、例えば、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）に含まれる重合体の双方に溶解性を有する溶剤に熱可塑性樹脂を溶解させることで得た樹脂溶液を、層（Ｄ１）および／または層（Ｄ２）上に塗布して、両層を貼合し、乾燥させる方法が挙げられる。
予め、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）を、前記と同様の方法で、それぞれ独立に形成し、形成した層（Ｄ１）と層（Ｄ２）とを、直接貼合する方法、または接着層を介して貼合する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、重合体（Ｂ２－１）を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
直接貼合する方法としては、層（Ｄ１）および／または層（Ｄ２）の貼合面に、例えば、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）に含まれる重合体の双方に溶解性を有する溶剤を塗布して、両層を貼合し、乾燥させる方法が挙げられる。
前記接着層としては、層（Ｄ１）と層（Ｄ２）とを接着することができれば特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂層、光硬化性樹脂層、熱硬化性樹脂層が挙げられる。以下の接着層も同様の層が挙げられる。
これらの中でも、特に、熱可塑性樹脂層を介して接着させる方法が、貼合時の硬化収縮が少ない等の点で好ましい。熱可塑性樹脂層を介して接着させる際は、例えば、層（Ｄ１）および層（Ｄ２）に含まれる重合体の双方に溶解性を有する溶剤に熱可塑性樹脂を溶解させることで得た樹脂溶液を、層（Ｄ１）および／または層（Ｄ２）上に塗布して、両層を貼合し、乾燥させる方法が挙げられる。
【0197】
・積層方法２
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に熱をかけることで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系熱硬化性化合物等の熱硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法２の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理（例：コロナ処理やプラズマ処理等の表面処理）をしてもよい。
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に熱をかけることで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系熱硬化性化合物等の熱硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法２の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理（例：コロナ処理やプラズマ処理等の表面処理）をしてもよい。
【0198】
前記塗布の方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができるが、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法（スリット塗布法）、バー塗布法、印刷法（例：インクジェット印刷）が挙げられる。以下の塗布の方法も同様の方法が挙げられる。
【0199】
前記熱をかける際の加熱条件は、用いる組成物（Ｄ２）や層（Ｄ１）に応じて適宜設定すればよいが、例えば、１２０～２００℃の加熱温度で、５分～１時間加熱する条件が挙げられる。
【0200】
前記中間層としては、例えば、熱可塑性樹脂層、光硬化性樹脂層、熱硬化性樹脂層が挙げられる。以下の中間層も同様の層が挙げられる。
【0201】
・積層方法３
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に光を照射することで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系光硬化性化合物等の光硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法２の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理をしてもよい。
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に光を照射することで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系光硬化性化合物等の光硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法２の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理をしてもよい。
【0202】
前記光を照射する際の照射条件は、例えば、前記層（Ｄ２）の形成方法の欄に記載の紫外線や電子線を照射する条件と同様の条件が挙げられる。
【0203】
なお、前記積層方法１～３において、層（Ｄ１）および／または層（Ｄ２）は２層以上あってもよい。２層以上である層（Ｄ１）の層間や２層以上である層（Ｄ２）の層間には、前記と同様に接着層や中間層を設けてもよい。
また、積層方法２または３において、層（Ｄ１）と層（Ｄ２）の形成する順番が逆、つまり、予め層（Ｄ２）を形成した後、形成した層（Ｄ２）上に層（Ｄ１）を形成してもよい。
また、積層方法２または３において、層（Ｄ１）と層（Ｄ２）の形成する順番が逆、つまり、予め層（Ｄ２）を形成した後、形成した層（Ｄ２）上に層（Ｄ１）を形成してもよい。
【0204】
〔オーバーコート層および機能膜〕
前記基材（ｉ）は、本発明の効果を損なわない範囲において、オーバーコート層や機能膜（例：反射防止膜、ハードコート膜、帯電防止膜）を有していてもよい。
前記基材（ｉ）は、本発明の効果を損なわない範囲において、オーバーコート層や機能膜（例：反射防止膜、ハードコート膜、帯電防止膜）を有していてもよい。
【0205】
前記オーバーコート層や機能膜の厚みは、好ましくは０．１～２０μｍ、さらに好ましくは０．５～１０μｍ、特に好ましくは０．７～５μｍである。
【0206】
前記オーバーコート層や機能膜を形成する材料は、層（Ｄ１）や層（Ｄ２）で用いられる重合体を主成分として含有する組成物であってもよい。ただし、前記オーバーコート層や機能膜には、化合物（Ａ）および色素（Ｃ）を含まないものとする。
また、前記オーバーコート層や機能膜は、前記積層方法１のように貼合することで形成してもよく、前記積層方法２または３のように塗布することで形成してもよい。
また、前記オーバーコート層や機能膜は、前記積層方法１のように貼合することで形成してもよく、前記積層方法２または３のように塗布することで形成してもよい。
【0207】
オーバーコート層や機能膜を有する基材（ｉ）を製造する方法としては特に制限されず、従来公知の方法で製造することができるが、例えば、反射防止剤、オーバーコート剤、中間層剤および帯電防止剤等から選ばれる少なくとも１種のコーティング剤を、バーコーター等を用い、該オーバーコート層や機能膜を形成したい被着体に塗布した後、紫外線照射等により硬化する方法が挙げられる。
なお、前記塗布する前には、形成されるオーバーコート層や機能膜の密着性を上げる目的で、被着体にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
なお、前記塗布する前には、形成されるオーバーコート層や機能膜の密着性を上げる目的で、被着体にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
【0208】
前記コーティング剤としては、例えば、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型化合物や熱硬化型化合物を含むコーティング剤が挙げられる。
これらの化合物の具体例としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系、エポキシアクリレート系化合物が挙げられる。
これらの化合物の具体例としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系、エポキシアクリレート系化合物が挙げられる。
【0209】
また、前記コーティング剤は、重合開始剤を含んでいてもよい。
該重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。該重合開始剤は、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
重合開始剤の配合割合は、コーティング剤の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１～１０質量％、より好ましくは０．５～１０質量％、さらに好ましくは１～５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化特性および取り扱い性に優れるコーティング剤を容易に得ることができ、所望の硬度を有するオーバーコート層や機能膜を容易に得ることができる。
該重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。該重合開始剤は、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
重合開始剤の配合割合は、コーティング剤の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１～１０質量％、より好ましくは０．５～１０質量％、さらに好ましくは１～５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化特性および取り扱い性に優れるコーティング剤を容易に得ることができ、所望の硬度を有するオーバーコート層や機能膜を容易に得ることができる。
【0210】
さらに、前記コーティング剤には、有機溶剤を加えてもよく、該有機溶剤としては、公知の溶剤を使用することができる。
該有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；が挙げられる。
これら有機溶剤は、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
該有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；が挙げられる。
これら有機溶剤は、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【0211】
〔誘電体多層膜〕
前記誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した積層体が挙げられる。
本フィルターの用途にもよるが、本フィルターを近赤外線の少なくとも一部を遮蔽するフィルターとする場合、該誘電体多層膜は、近赤外線を反射する能力を備える積層体であることが好ましい。
前記誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した積層体が挙げられる。
本フィルターの用途にもよるが、本フィルターを近赤外線の少なくとも一部を遮蔽するフィルターとする場合、該誘電体多層膜は、近赤外線を反射する能力を備える積層体であることが好ましい。
【0212】
誘電体多層膜は、前記基材（ｉ）の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。基材（ｉ）の片面に誘電体多層膜を設ける場合、製造コストや製造容易性に優れる。また、基材（ｉ）の両面に誘電体多層膜を設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい光学フィルターを容易に得ることができる。本フィルターを固体撮像素子用途等に使用する場合、反りやねじれが小さいフィルターが好ましいことから、誘電体多層膜を前記基材（ｉ）の両面に設けることが好ましい。
【0213】
前記高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７～２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０～１０質量％）含有させたものが挙げられる。
【0214】
前記低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２～１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
【0215】
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材（ｉ）上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
【0216】
誘電体多層膜を、近赤外線を反射する能力を備える誘電体多層膜とする場合、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００～１４００ｎｍ、好ましくは７５０～１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学膜厚（ｎｄ）と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
【0217】
誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、本フィルター全体として６～７０層であることが好ましく、１０～６０層であることがより好ましい。各層の厚み、本フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、本フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
【0218】
基材（ｉ）の吸収特性に合わせて、高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択すると、可視光領域に十分な透過率を確保した上で近赤外線領域に十分な光線カット特性を有し、かつ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減した本フィルターを容易に得ることができる。
【0219】
＜本フィルターの用途＞
本フィルターは、層（Ｄ１）を有するため、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても優れた耐久性を有する。
本フィルターは、層（Ｄ１）を有するため、高い可視光透過率および低い近赤外線透過率を有し、かつ、高温高湿環境下においても優れた耐久性を有する。
【0220】
このような本フィルターを用いることで、ＲＧＢバランスが良好で、ゴーストや色シェーディングが低減された良好なカメラ画像を得ることができる。
したがって、本フィルターは、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、本フィルターは、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、本フィルターは、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
したがって、本フィルターは、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、本フィルターは、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、本フィルターは、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
【0221】
≪光学素子、固体撮像装置およびカメラモジュール≫
本発明に係る光学素子、固体撮像装置およびカメラモジュールは、本フィルターを有すれば特に制限されず、従来公知の構成とすればよい。
該固体撮像装置の好適例としては、カメラモジュールが挙げられる。
ここで、固体撮像装置およびカメラモジュールは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。
本発明に係る光学素子、固体撮像装置およびカメラモジュールは、本フィルターを有すれば特に制限されず、従来公知の構成とすればよい。
該固体撮像装置の好適例としては、カメラモジュールが挙げられる。
ここで、固体撮像装置およびカメラモジュールは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。
【0222】
前記光学素子、固体撮像装置およびカメラモジュールの構成としては、図１のようにレンズを有する構成でもよいし、図２のようにレンズを有さない構成でもよい。
本フィルターを、光学素子、固体撮像装置やモジュールに用いる場合の各部材の配置の一例を図１に示す。この図１では、本フィルター１は、レンズ３２、撮像素子（イメージセンサー）２４と共に構成される。光学フィルター１は、図１（Ａ）のようにレンズ３２の前方（レンズ３２の撮像素子２４とは反対側）に位置しても、図１（Ｂ）のようにレンズ３２の後方（レンズ３２の撮像素子２４側）に位置してもよい。
また、本フィルターは、図２（Ａ）のようにフレネルゾーンプレートやフレネルレンズ、メタレンズなどのレンズとしての役割を有する光学素子３３を用いたレンズレス固体撮像装置に用いてもよい。
本フィルターを、光学素子、固体撮像装置やモジュールに用いる場合の各部材の配置の一例を図１に示す。この図１では、本フィルター１は、レンズ３２、撮像素子（イメージセンサー）２４と共に構成される。光学フィルター１は、図１（Ａ）のようにレンズ３２の前方（レンズ３２の撮像素子２４とは反対側）に位置しても、図１（Ｂ）のようにレンズ３２の後方（レンズ３２の撮像素子２４側）に位置してもよい。
また、本フィルターは、図２（Ａ）のようにフレネルゾーンプレートやフレネルレンズ、メタレンズなどのレンズとしての役割を有する光学素子３３を用いたレンズレス固体撮像装置に用いてもよい。
【実施例0223】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。
【0224】
＜重合体Ｂ１－１～Ｂ１－４＞
下記表１に記載の数値（モル比）で原料である二価フェノール成分および芳香族ジカルボン酸ハライドを用い、特許第５３５５３３０号公報、および、特許第５７４９６２１号公報の記載と同様の手順にて重合体を得た。
下記表１に記載の数値（モル比）で原料である二価フェノール成分および芳香族ジカルボン酸ハライドを用い、特許第５３５５３３０号公報、および、特許第５７４９６２１号公報の記載と同様の手順にて重合体を得た。
【0225】
【表1】
【0226】
表１中の二価フェノール成分、および芳香族ジカルボン酸ハライドとしては、それぞれ以下の製品を用いた。
ビスフェノールＡ：［２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン］（三井化学（株）製、「ビスフェノールＡ」）
ビスフェノールＴＭＣ：［ビスフェノール－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン］（本州化学工業（株）製、「ＢｉｓＰ－ＴＭＣ」）
ビフェノール:［４，４－ジヒドロキシビフェニル］（本州化学工業（株）製「ビフェノール」）
イソフタル酸クロライド：（イハラニッケイ化学工業（株）製、「イソフタロイルクロライド」）
ビスフェノールＡ：［２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン］（三井化学（株）製、「ビスフェノールＡ」）
ビスフェノールＴＭＣ：［ビスフェノール－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン］（本州化学工業（株）製、「ＢｉｓＰ－ＴＭＣ」）
ビフェノール:［４，４－ジヒドロキシビフェニル］（本州化学工業（株）製「ビフェノール」）
イソフタル酸クロライド：（イハラニッケイ化学工業（株）製、「イソフタロイルクロライド」）
【0227】
＜重合体Ｂ２－１－１＞
下記式（ａ）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００ｇ、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８ｇおよびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、得られた溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２ｇと、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９ｇとを添加し、得られた溶液を８０℃で３時間加熱撹拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
下記式（ａ）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００ｇ、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８ｇおよびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、得られた溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２ｇと、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９ｇとを添加し、得られた溶液を８０℃で３時間加熱撹拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【0228】
【化7】
【0229】
得られた開環重合体溶液１，０００ｇをオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［（Ｃ６Ｈ５）３］３を０．１２ｇ添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ２、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。得られた反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、該凝固物を乾燥することで、水素添加重合体を得た。得られた重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。これを重合体Ｂ２－１－１とする。
【0230】
＜重合体Ｂ２－１－２＞
日本ゼオン（株）製のＺＥＯＮＯＲ（Ｍｎ：１８，０００、Ｍｗ：３８，０００）を重合体Ｂ２－１－２とした。
日本ゼオン（株）製のＺＥＯＮＯＲ（Ｍｎ：１８，０００、Ｍｗ：３８，０００）を重合体Ｂ２－１－２とした。
【0231】
＜重合体Ｂ２－１－３＞
３Ｌの４つ口フラスコに、２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに、温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
３Ｌの４つ口フラスコに、２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに、温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
【0232】
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。
【0233】
室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「重合体Ｂ２－１－３」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた重合体Ｂ２－１－３は、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
【0234】
＜重合体Ｂ２－１－４＞
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４－ビス（４－アミノ－α，α－ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）を入れて、γ－ブチロラクトン６８．６５ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、撹拌しながら冷却し、固形分濃度２０質量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎ入れてポリイミドを沈殿させた。ろ別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「重合体Ｂ２－１－４」ともいう。）を得た。得られた重合体Ｂ２－１－４のＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ－１、１７７０ｃｍ－１の吸収が見られた。重合体Ｂ２－１－４は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４－ビス（４－アミノ－α，α－ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）を入れて、γ－ブチロラクトン６８．６５ｇおよびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、撹拌しながら冷却し、固形分濃度２０質量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎ入れてポリイミドを沈殿させた。ろ別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「重合体Ｂ２－１－４」ともいう。）を得た。得られた重合体Ｂ２－１－４のＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ－１、１７７０ｃｍ－１の吸収が見られた。重合体Ｂ２－１－４は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。
【0235】
なお、重合体Ｂ２－１－４の対数粘度は、下記の方法により測定した。
ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ－メチル－２－ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン－フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。
ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ－メチル－２－ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン－フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。
【0236】
μ＝｛ｌｎ（ｔｓ／ｔ０）｝／Ｃ
ｔ０：溶媒の流下時間
ｔｓ：希薄高分子溶液の流下時間
Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
ｔ０：溶媒の流下時間
ｔｓ：希薄高分子溶液の流下時間
Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
【0237】
＜重合体Ｂ２－１－５＞
温度計、撹拌機、および還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水１４８６３質量部、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液５７７２質量部を加え、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン２１４８質量部およびナトリウムハイドロサルファイト４質量部を溶解し、塩化メチレン８５１８質量部を加えた後、撹拌しながら２３～２７℃にてホスゲン１０００質量部を６０分間かけて吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール３８質量部を加え、さらにトリエチルアミン２質量部を添加して２０～２７℃で４０分間撹拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸および純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させ、下記式（７）で表される繰り返し単位を有するポリカーボネートを得た。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は２１，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１７４℃であった。得られたポリカーボネートを重合体Ｂ２－１－５とする。
温度計、撹拌機、および還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水１４８６３質量部、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液５７７２質量部を加え、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン２１４８質量部およびナトリウムハイドロサルファイト４質量部を溶解し、塩化メチレン８５１８質量部を加えた後、撹拌しながら２３～２７℃にてホスゲン１０００質量部を６０分間かけて吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール３８質量部を加え、さらにトリエチルアミン２質量部を添加して２０～２７℃で４０分間撹拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸および純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させ、下記式（７）で表される繰り返し単位を有するポリカーボネートを得た。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は２１，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１７４℃であった。得られたポリカーボネートを重合体Ｂ２－１－５とする。
【0238】
【化8】
【0239】
＜重合体Ｂ２－２－１＞
冷却管と撹拌機とを備えたフラスコに、下記不飽和混合物の質量１００質量部に対し、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）が７質量部、および、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルが２００質量部となるように予め仕込んだ。
そこに、メタクリル酸２０質量％、メタクリル酸グリシジル３０質量％、およびメタクリル酸メチル５０質量％を含む不飽和混合物を１００質量部投入し、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し、重合を終結させた。
その後、反応生成溶液を多量のメタノールに滴下し、反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、テトラヒドロフランに再溶解し、多量のメタノールで再度凝固させた。この再溶解－凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を６０℃で４８時間真空乾燥し、目的とする重合体Ｂ２－２－１を得た。
冷却管と撹拌機とを備えたフラスコに、下記不飽和混合物の質量１００質量部に対し、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）が７質量部、および、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルが２００質量部となるように予め仕込んだ。
そこに、メタクリル酸２０質量％、メタクリル酸グリシジル３０質量％、およびメタクリル酸メチル５０質量％を含む不飽和混合物を１００質量部投入し、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し、重合を終結させた。
その後、反応生成溶液を多量のメタノールに滴下し、反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、テトラヒドロフランに再溶解し、多量のメタノールで再度凝固させた。この再溶解－凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を６０℃で４８時間真空乾燥し、目的とする重合体Ｂ２－２－１を得た。
【0240】
［実施例Ａ１］
酢酸銅一水和物（以下「ＣＡＭ」ともいう。関東化学（株）製）４．８８ｇと、第１溶媒としてエタノール（関東化学（株）製、電子工業用ＥＬグレード）１９５．１２ｇとを混合して、３時間撹拌を行い、酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物（第一工業製薬（株）製、製品名：プライサーフ Ａ２０８Ｎ）を２．５７２ｇ加えて３０分間撹拌し、酢酸銅－リン酸エステル溶液であるａ１液を得た。
次に、ｎ－ブチルホスホン酸（以下「ＢＰＡ」ともいう。）２．８８６ｇと、４０ｇのエタノールとを加えて１０分間撹拌し、ホスホン酸溶液であるｂ１液を得た。
酢酸銅一水和物（以下「ＣＡＭ」ともいう。関東化学（株）製）４．８８ｇと、第１溶媒としてエタノール（関東化学（株）製、電子工業用ＥＬグレード）１９５．１２ｇとを混合して、３時間撹拌を行い、酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物（第一工業製薬（株）製、製品名：プライサーフ Ａ２０８Ｎ）を２．５７２ｇ加えて３０分間撹拌し、酢酸銅－リン酸エステル溶液であるａ１液を得た。
次に、ｎ－ブチルホスホン酸（以下「ＢＰＡ」ともいう。）２．８８６ｇと、４０ｇのエタノールとを加えて１０分間撹拌し、ホスホン酸溶液であるｂ１液を得た。
【0241】
ａ１液を撹拌しながら該ａ１液にｂ１液を加え、室温で１５分間撹拌して反応させて、リン酸エステル－ホスホン酸－銅溶液であるｃ１液を得た。ｃ１液には、反応により生成したと考えられる固形物が沈殿していたことを目視で確認できた。反応生成物は、ホスホン酸、リン酸エステルおよび銅成分の一部の成分または全てを含む化合物であると考えられる。
前記沈殿を含むｃ１液に対して、吸引ろ過を行って反応生成物の固形物を得た。固形状の反応生成物を、２００ｇのエタノールに加えて、室温で１０分間撹拌を行ったうえで、再度吸引ろ過を行い、一回精製された固形状の化合物Ａ－１を得た。
前記沈殿を含むｃ１液に対して、吸引ろ過を行って反応生成物の固形物を得た。固形状の反応生成物を、２００ｇのエタノールに加えて、室温で１０分間撹拌を行ったうえで、再度吸引ろ過を行い、一回精製された固形状の化合物Ａ－１を得た。
【0242】
重合体Ｂ１－１ ３．２２ｇを、第２溶媒としてのトルエン８０ｇに加えて、室温で１０分間撹拌し、溶液を得た。得られた溶液に、化合物Ａ－１を追加して、室温でさらに１０分間撹拌して、溶液に化合物Ａ－１が分散されたｄ１液を得た。
ｄ１液には、化合物Ａ－１の固形物は視認できず、化合物Ａ－１が分散している状態となっていた。このことから、固形状の化合物Ａ－１には、分散作用のあるリン酸エステルも一定量含まれており、トルエン溶媒中の化合物Ａ－１の分散に、リン酸エステルが寄与していると考えられる。
ｄ１液には、化合物Ａ－１の固形物は視認できず、化合物Ａ－１が分散している状態となっていた。このことから、固形状の化合物Ａ－１には、分散作用のあるリン酸エステルも一定量含まれており、トルエン溶媒中の化合物Ａ－１の分散に、リン酸エステルが寄与していると考えられる。
【0243】
その後、ｄ１液をフラスコに入れ、６０℃に温度設定されたオイルバス（東京理化器械（株）製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械（株）製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）を用いて脱溶媒処理を行うことで、ｄ１液の精製を行った。その際、真空ポンプを用いて、フラスコ内を、突沸に気を付けながら常圧より段階的に減圧し、最終的に１００ｈＰａに至るまで減圧した。その後、溶媒量がある程度減少したことを確認して作業を終了し、１１．４５ｇの組成物１を得た。
組成物１は、ホスホン酸、リン酸エステルおよび銅成分の一部または全てを含む化合物Ａ－１が分散されており、組成物１の外観は透明な緑色であることが確認できた。
表２において、透明な緑色である外観を有する組成物に対して、「外観」を○と表記した。
組成物１は、ホスホン酸、リン酸エステルおよび銅成分の一部または全てを含む化合物Ａ－１が分散されており、組成物１の外観は透明な緑色であることが確認できた。
表２において、透明な緑色である外観を有する組成物に対して、「外観」を○と表記した。
【0244】
以上のプロセスにおいて、銅成分の供給源としての酢酸銅一水和物の使用により、化合物Ａ－１（特にホスホン酸銅化合物）の生成に伴い、副生物として酢酸が生成したと考えられる。しかしながら、得られた組成物１には、酢酸特有の匂いは感じられず、酢酸が十分に除去されていたことが示唆された。これはエタノールのような貧溶媒との作用による化合物Ａ－１の析出と、ろ過による精製または洗浄プロセス、蒸留による溶媒除去プロセスが有効に機能した結果であると考えられる。
【0245】
（固形分の算出）
組成物１ １０ｇ（Ｍ１）を正確に測り取り、予め質量を測定したアルミニウム製のシャーレに入れて、表面温度を１８０℃に設定したホットプレート上にシャーレを静置した。そのまま、１０分間程度、静置を続け、シャーレ内の液状成分がほぼ完全に揮発したことを確認した。乾燥した組成物１が入ったままのシャーレの質量を測定し、該測定した質量からシャーレの質量を差し引いた質量ｍ１を測定し、ｍ１／Ｍ１×１００を組成物１の固形分（質量％）として算出した。
組成物１ １０ｇ（Ｍ１）を正確に測り取り、予め質量を測定したアルミニウム製のシャーレに入れて、表面温度を１８０℃に設定したホットプレート上にシャーレを静置した。そのまま、１０分間程度、静置を続け、シャーレ内の液状成分がほぼ完全に揮発したことを確認した。乾燥した組成物１が入ったままのシャーレの質量を測定し、該測定した質量からシャーレの質量を差し引いた質量ｍ１を測定し、ｍ１／Ｍ１×１００を組成物１の固形分（質量％）として算出した。
【0246】
組成物１の固形分は８０．３質量％であった。固形分ｍ１以外の成分を溶媒と考えると、組成物１中の溶媒の含有量は１９．７質量％であると算出される。
さらに、組成物１を１００質量％とした場合、投入した重合体Ｂ１－１は、投入した重合体Ｂ１－１の質量と得られた組成物１の質量とから２８．１質量％であるので、溶媒の１９．７質量％と重合体Ｂ１－１の２８．１質量％を差し引いた５２．２質量％が化合物Ａ－１であると算出される。化合物Ａ－１が全て銅錯体化合物であるとみなす時、組成物１に含まれる化合物Ａ－１（銅錯体化合物）は５２．２質量％であると算出される。
また、組成物１の固形分に対する化合物Ａ－１（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１（銅錯体化合物）の比は１．８６であった。
さらに、組成物１を１００質量％とした場合、投入した重合体Ｂ１－１は、投入した重合体Ｂ１－１の質量と得られた組成物１の質量とから２８．１質量％であるので、溶媒の１９．７質量％と重合体Ｂ１－１の２８．１質量％を差し引いた５２．２質量％が化合物Ａ－１であると算出される。化合物Ａ－１が全て銅錯体化合物であるとみなす時、組成物１に含まれる化合物Ａ－１（銅錯体化合物）は５２．２質量％であると算出される。
また、組成物１の固形分に対する化合物Ａ－１（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１（銅錯体化合物）の比は１．８６であった。
【0247】
（再分散性の評価）
組成物１が、再分散性を有しているかを確認するために、蒸留に用いた溶媒と同じ溶媒（第２溶媒）で組成物１の固形分が１０質量％になるように、溶媒の量を調整し、組成物１を再分散させた。その結果、再分散後の組成物１は、緑色の透明性の高い外観を有しており、不透明な濁りが発生していない良好な状態となっていること、つまり再分散性が良好であることを確認した。
表２において、十分に明るい照明のもと、目視観測して、濁りのない透明性の高い再分散性を示した組成物を○と示す。
組成物１が、再分散性を有しているかを確認するために、蒸留に用いた溶媒と同じ溶媒（第２溶媒）で組成物１の固形分が１０質量％になるように、溶媒の量を調整し、組成物１を再分散させた。その結果、再分散後の組成物１は、緑色の透明性の高い外観を有しており、不透明な濁りが発生していない良好な状態となっていること、つまり再分散性が良好であることを確認した。
表２において、十分に明るい照明のもと、目視観測して、濁りのない透明性の高い再分散性を示した組成物を○と示す。
【0248】
（組成物の透過スペクトルの測定）
石英セル（ＳｔａｒｎａＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、型番：２０／Ｃ／Ｑ１、光路長：１ｍｍ、光路幅：１０ｍｍ、外寸：長さ３．５ｍｍ、幅１２．５ｍｍ、高さ４５ｍｍ、容量：０．３１ｍＬ）に、組成物１を入れて、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製、型番：Ｖ７７０）を用いて、石英セルの面に対し０°の入射角の光を照射し、波長３００～１２００ｎｍの範囲の各波長に対する透過率を測定した。
なお、透過スペクトル測定用のサンプルは、波長８００ｎｍにおける透過率が１０％±１％となるように、組成物１の濃度を、組成物１の調製の際に用いた第２溶媒と同じ溶媒を適量追加することによって調整した。
組成物１の透過スペクトルを図３に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表３に示す。
石英セル（ＳｔａｒｎａＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、型番：２０／Ｃ／Ｑ１、光路長：１ｍｍ、光路幅：１０ｍｍ、外寸：長さ３．５ｍｍ、幅１２．５ｍｍ、高さ４５ｍｍ、容量：０．３１ｍＬ）に、組成物１を入れて、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製、型番：Ｖ７７０）を用いて、石英セルの面に対し０°の入射角の光を照射し、波長３００～１２００ｎｍの範囲の各波長に対する透過率を測定した。
なお、透過スペクトル測定用のサンプルは、波長８００ｎｍにおける透過率が１０％±１％となるように、組成物１の濃度を、組成物１の調製の際に用いた第２溶媒と同じ溶媒を適量追加することによって調整した。
組成物１の透過スペクトルを図３に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表３に示す。
【0249】
（層（Ｄ１）の作製）
表面防汚コーティング剤（ダイキン工業（株）製、製品名：オプツールＤＳＸ、有効成分の濃度：２０質量％）０．１ｇと、ハイドロフルオロエーテル含有液（３Ｍ社製、製品名：ノベック７１００）１９．９ｇとを混合し、５分間撹拌して、フッ素処理剤（有効成分の濃度：０．１質量％）を調製した。このフッ素処理剤を、１３０ｍｍ×１００ｍｍ×０．７０ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の一方の主面に塗布した。その後、そのガラス基板を室温で２４時間放置してフッ素処理剤の塗膜を乾燥させ、その後、ノベック７１００を含んだ無塵布で軽くガラス表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにしてフッ素処理基板を作製した。
次に、作製したフッ素処理基板のフッ素処理をした主面の中心部の５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲にディスペンサを用いて組成物１を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を室温低湿環境下で十分に乾燥させた後、８５℃で３時間焼成を行った。その後得られた塗膜を基板から引き剥がし、厚さ１５５μｍの光学フィルムである層（Ｄ１－Ａ１）を作製した。
表面防汚コーティング剤（ダイキン工業（株）製、製品名：オプツールＤＳＸ、有効成分の濃度：２０質量％）０．１ｇと、ハイドロフルオロエーテル含有液（３Ｍ社製、製品名：ノベック７１００）１９．９ｇとを混合し、５分間撹拌して、フッ素処理剤（有効成分の濃度：０．１質量％）を調製した。このフッ素処理剤を、１３０ｍｍ×１００ｍｍ×０．７０ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の一方の主面に塗布した。その後、そのガラス基板を室温で２４時間放置してフッ素処理剤の塗膜を乾燥させ、その後、ノベック７１００を含んだ無塵布で軽くガラス表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにしてフッ素処理基板を作製した。
次に、作製したフッ素処理基板のフッ素処理をした主面の中心部の５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲にディスペンサを用いて組成物１を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を室温低湿環境下で十分に乾燥させた後、８５℃で３時間焼成を行った。その後得られた塗膜を基板から引き剥がし、厚さ１５５μｍの光学フィルムである層（Ｄ１－Ａ１）を作製した。
【0250】
（層（Ｄ１－Ａ１）の透過スペクトルの測定）
紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製、型番：Ｖ７７０）を用いて、得られた層（Ｄ１－Ａ１）の主面に対し０°の入射角の光を照射し、波長３００～１２００ｎｍの範囲の各波長に対する、該層（Ｄ１－Ａ１）の透過率を測定した。
層（Ｄ１－Ａ１）の透過スペクトルを図７に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製、型番：Ｖ７７０）を用いて、得られた層（Ｄ１－Ａ１）の主面に対し０°の入射角の光を照射し、波長３００～１２００ｎｍの範囲の各波長に対する、該層（Ｄ１－Ａ１）の透過率を測定した。
層（Ｄ１－Ａ１）の透過スペクトルを図７に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
【0251】
[実施例Ａ２]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物（反応生成物）Ａ－２を得、また、固形分が７６．６質量％であり、溶媒の含有量が２３．４質量％である、１２．３３ｇの組成物２を作製した。組成物２中の化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の含有量は４９．８質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は２６．８質量％であり、組成物２の固形分に対する化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の比は１．８５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２の外観および再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物（反応生成物）Ａ－２を得、また、固形分が７６．６質量％であり、溶媒の含有量が２３．４質量％である、１２．３３ｇの組成物２を作製した。組成物２中の化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の含有量は４９．８質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は２６．８質量％であり、組成物２の固形分に対する化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－２（銅錯体化合物）の比は１．８５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２の外観および再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0252】
原材料
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８３５ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．３１ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８３５ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．３１ｇ
第２溶媒：トルエン
【0253】
[実施例Ａ３]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－３を得、また、固形分が７５．９質量％であり、溶媒の含有量が２４．１質量％である、１５．２２ｇの組成物３を作製した。組成物３中の化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の含有量は４１．７質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３４．２質量％であり、組成物３の固形分に対する化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の比は１．２２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物３の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－３を得、また、固形分が７５．９質量％であり、溶媒の含有量が２４．１質量％である、１５．２２ｇの組成物３を作製した。組成物３中の化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の含有量は４１．７質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３４．２質量％であり、組成物３の固形分に対する化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－３（銅錯体化合物）の比は１．２２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物３の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0254】
実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物３の透過スペクトルを測定した。組成物３の透過スペクトルを図４に示す。また、透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表３に示す。
さらに、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、厚さ１８２μｍの層（Ｄ１－Ａ３）を作製し、該層（Ｄ１－Ａ３）の透過スペクトルを測定した。実施例Ａ３に係る層（Ｄ１－Ａ３）の透過スペクトルを図８に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
さらに、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、厚さ１８２μｍの層（Ｄ１－Ａ３）を作製し、該層（Ｄ１－Ａ３）の透過スペクトルを測定した。実施例Ａ３に係る層（Ｄ１－Ａ３）の透過スペクトルを図８に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
【0255】
原材料
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．７８０ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製） ３．０８６ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ５．２０ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．７８０ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製） ３．０８６ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ５．２０ｇ
第２溶媒：トルエン
【0256】
[実施例Ａ４]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－４を得、また、固形分が７８．７質量％であり、溶媒の含有量が２１．３質量％である、１９．０８ｇの組成物４を作製した。組成物４中の化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の含有量は３１．２質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は４７．５質量％であり、組成物４の固形分に対する化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の比は０．４０であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の比は０．６６であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物４の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－４を得、また、固形分が７８．７質量％であり、溶媒の含有量が２１．３質量％である、１９．０８ｇの組成物４を作製した。組成物４中の化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の含有量は３１．２質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は４７．５質量％であり、組成物４の固形分に対する化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の比は０．４０であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－４（銅錯体化合物）の比は０．６６であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物４の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0257】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ９．０６ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ９．０６ｇ
第２溶媒：トルエン
【0258】
[実施例Ａ５]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－５を得、また、固形分が８０．７質量％であり、溶媒の含有量が１９．３質量％である、３７．８８ｇの組成物５を作製した。組成物５中の化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の含有量は１６．１質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は６４．６質量％であり、組成物５の固形分に対する化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の比は０．２０であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の比は０．２５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物５の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－５を得、また、固形分が８０．７質量％であり、溶媒の含有量が１９．３質量％である、３７．８８ｇの組成物５を作製した。組成物５中の化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の含有量は１６．１質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は６４．６質量％であり、組成物５の固形分に対する化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の比は０．２０であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－５（銅錯体化合物）の比は０．２５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物５の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0259】
実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物５の透過スペクトルを測定した。組成物５の透過スペクトルを図５に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表３に示す。
【0260】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８３５ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ２４．４７ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８３５ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ２４．４７ｇ
第２溶媒：トルエン
【0261】
［実施例Ａ６］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－６を得、また、固形分が８１．９質量％であり、溶媒の含有量が１８．１質量％である、１１．３０ｇの組成物６を作製した。組成物６中の化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の含有量は５２．９質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は２９．０質量％であり、組成物６の固形分に対する化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の比は１．８２であった。
実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物６の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－６を得、また、固形分が８１．９質量％であり、溶媒の含有量が１８．１質量％である、１１．３０ｇの組成物６を作製した。組成物６中の化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の含有量は５２．９質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は２９．０質量％であり、組成物６の固形分に対する化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の比は０．６５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－６（銅錯体化合物）の比は１．８２であった。
実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物６の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0262】
実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物６の透過スペクトルを測定した。組成物６の透過スペクトルを図６に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表３に示す。
さらに、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、厚さ１６８μｍの層（Ｄ１－Ａ６）を作製し、該層（Ｄ１－Ａ６）の透過スペクトルを測定した。実施例Ａ６に係る層（Ｄ１－Ａ６）の透過スペクトルを図９に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
さらに、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、厚さ１６８μｍの層（Ｄ１－Ａ６）を作製し、該層（Ｄ１－Ａ６）の透過スペクトルを測定した。実施例Ａ６に係る層（Ｄ１－Ａ６）の透過スペクトルを図９に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
【0263】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ３．２８ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ３．２８ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
【0264】
精製（減圧蒸留）条件
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
【0265】
[実施例Ａ７]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－７を得、また、固形分が７５．８質量％であり、溶媒の含有量が２４．２質量％である、１４．２３ｇの組成物７を作製した。組成物７中の化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の含有量は４２．１質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３３．７質量％であり、組成物７の固形分に対する化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の比は１．２５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物７の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－７を得、また、固形分が７５．８質量％であり、溶媒の含有量が２４．２質量％である、１４．２３ｇの組成物７を作製した。組成物７中の化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の含有量は４２．１質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３３．７質量％であり、組成物７の固形分に対する化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－７（銅錯体化合物）の比は１．２５であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物７の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0266】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ４．８０ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ４．８０ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
【0267】
精製（減圧蒸留）条件
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
【0268】
［実施例Ａ８］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－８を得、また、固形分が６８．４質量％であり、溶媒の含有量が３１．６質量％である、２４．１４ｇの組成物８を作製した。組成物８中の化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の含有量は２８．１質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は４０．３質量％であり、組成物８の固形分に対する化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の比は０．４１であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の比は０．７０であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物８の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、ｄ１液の精製（減圧蒸留）条件を以下のように変更した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－８を得、また、固形分が６８．４質量％であり、溶媒の含有量が３１．６質量％である、２４．１４ｇの組成物８を作製した。組成物８中の化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の含有量は２８．１質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は４０．３質量％であり、組成物８の固形分に対する化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の比は０．４１であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－８（銅錯体化合物）の比は０．７０であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物８の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0269】
さらに、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、厚さ１２６μｍの層（Ｄ１－Ａ８）を作製し、該層（Ｄ１－Ａ８）の透過スペクトルを測定した。実施例Ａ８に係る層（Ｄ１－Ａ８）の透過スペクトルを図１０に示す。また、該透過スペクトルから看取できる特定の波長または波長域におけるパラメータを表４に示す。
【0270】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．２８４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２（日光ケミカルズ（株）製） ３．０８８ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ９．７４ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．２８４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２（日光ケミカルズ（株）製） ３．０８８ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ９．７４ｇ
第２溶媒：塩化メチレン
【0271】
精製（減圧蒸留）条件
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
オイルバス温度：３０℃
蒸留容器内圧力：５００ｈＰａ
【0272】
[実施例Ａ９]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－９を得、また、固形分が５６．９質量％であり、溶媒の含有量が４３．１質量％である、１６．５０ｇの組成物９を作製した。組成物９中の化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の含有量は３６．０質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は２０．９質量％であり、組成物９の固形分に対する化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の比は１．７２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物９の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－９を得、また、固形分が５６．９質量％であり、溶媒の含有量が４３．１質量％である、１６．５０ｇの組成物９を作製した。組成物９中の化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の含有量は３６．０質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は２０．９質量％であり、組成物９の固形分に対する化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－９（銅錯体化合物）の比は１．７２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物９の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0273】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ３．４５ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ３．４５ｇ
第２溶媒：トルエン
【0274】
［実施例Ａ１０］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、２６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－９を得、また、固形分が５４．６質量％であり、溶媒の含有量が４５．４質量％である、２１．５２ｇの組成物１０を作製した。組成物１０中の化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の含有量は２４．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は３０．３質量％であり、組成物１０の固形分に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．４５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．８０であり、重合体Ｂ１－３に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１０の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、２６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－９を得、また、固形分が５４．６質量％であり、溶媒の含有量が４５．４質量％である、２１．５２ｇの組成物１０を作製した。組成物１０中の化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の含有量は２４．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は３０．３質量％であり、組成物１０の固形分に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．４５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．８０であり、重合体Ｂ１－３に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１０の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0275】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：メチルホスホン酸 ２．０１９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ６．５２ｇ
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１） ２６．１ｍｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：メチルホスホン酸 ２．０１９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ６．５２ｇ
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１） ２６．１ｍｇ
第２溶媒：トルエン
【0276】
［実施例Ａ１１］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１１を得、また、固形分が６５．７質量％であり、溶媒の含有量が３４．３質量％である、２５．７２ｇの組成物１１を作製した。組成物１１中の化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の含有量は２２．０質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は４３．７質量％であり、組成物１１の固形分に対する化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の比は０．３３であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の比は０．５０であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１１の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１１を得、また、固形分が６５．７質量％であり、溶媒の含有量が３４．３質量％である、２５．７２ｇの組成物１１を作製した。組成物１１中の化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の含有量は２２．０質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は４３．７質量％であり、組成物１１の固形分に対する化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の比は０．３３であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１１（銅錯体化合物）の比は０．５０であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１１の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0277】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：エチルホスホン酸 ２．２５９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ １１．２５ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：エチルホスホン酸 ２．２５９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ １１．２５ｇ
第２溶媒：トルエン
【0278】
[実施例Ａ１２]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１２を得、また、固形分が６５．１質量％であり、溶媒の含有量が３４．９質量％である、１６．３３ｇの組成物１２を作製した。組成物１２中の化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の含有量は４１．２質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は２３．９質量％であり、組成物１２の固形分に対する化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の比は１．７２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１２の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１２を得、また、固形分が６５．１質量％であり、溶媒の含有量が３４．９質量％である、１６．３３ｇの組成物１２を作製した。組成物１２中の化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の含有量は４１．２質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は２３．９質量％であり、組成物１２の固形分に対する化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１２（銅錯体化合物）の比は１．７２であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１２の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0279】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．２８４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ ３．０８８ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ３．９１ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．２８４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ ３．０８８ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ３．９１ｇ
第２溶媒：トルエン
【0280】
［実施例Ａ１３］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１３を得、また、固形分が６２．８質量％であり、溶媒の含有量が３７．２質量％である、１６．７５ｇの組成物１３を作製した。組成物１３中の化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の含有量は３９．６質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は２３．２質量％であり、組成物１３の固形分に対する化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の比は１．７１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１３の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１３を得、また、固形分が６２．８質量％であり、溶媒の含有量が３７．２質量％である、１６．７５ｇの組成物１３を作製した。組成物１３中の化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の含有量は３９．６質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は２３．２質量％であり、組成物１３の固形分に対する化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の比は０．６３であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－１３（銅錯体化合物）の比は１．７１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１３の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0281】
原材料
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．３３４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ ２．９８４ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．８８ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：メタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ３．３３４ｇ
リン酸エステル：ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ ２．９８４ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．８８ｇ
第２溶媒：トルエン
【0282】
［実施例Ａ１４］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、３６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１４を得、また、固形分が６２．１質量％であり、溶媒の含有量が３７．９質量％である、２４．９３ｇの組成物１４を作製した。組成物１４中の化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の含有量は２５．９質量％であり、重合体Ｂ１－４の含有量は３６．２質量％であり、組成物１４の固形分に対する化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の比は０．４２であり、重合体Ｂ１－４に対する化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の比は０．７１であり、重合体Ｂ１－４に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１４の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、３６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１４を得、また、固形分が６２．１質量％であり、溶媒の含有量が３７．９質量％である、２４．９３ｇの組成物１４を作製した。組成物１４中の化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の含有量は２５．９質量％であり、重合体Ｂ１－４の含有量は３６．２質量％であり、組成物１４の固形分に対する化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の比は０．４２であり、重合体Ｂ１－４に対する化合物Ａ－１４（銅錯体化合物）の比は０．７１であり、重合体Ｂ１－４に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１４の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0283】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ヘキシルホスホン酸 ３．４７２ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－４ ９．０３ｇ
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１） ３６．１ｍｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ヘキシルホスホン酸 ３．４７２ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－４ ９．０３ｇ
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１） ３６．１ｍｇ
第２溶媒：トルエン
【0284】
［実施例Ａ１５］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１５を得、また、固形分が３５．０質量％であり、溶媒の含有量が６５．０質量％である、３０．０２ｇの組成物１５を作製した。組成物１５中の化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の含有量は１９．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は１５．７質量％であり、組成物１５の固形分に対する化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の比は１．２３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１５の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１５を得、また、固形分が３５．０質量％であり、溶媒の含有量が６５．０質量％である、３０．０２ｇの組成物１５を作製した。組成物１５中の化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の含有量は１９．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は１５．７質量％であり、組成物１５の固形分に対する化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の比は０．５５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１５（銅錯体化合物）の比は１．２３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１５の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0285】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．９４３ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．３１５ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ４．７１ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．９４３ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．３１５ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ４．７１ｇ
第２溶媒：トルエン
【0286】
［実施例Ａ１６］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１６を得、また、固形分が４０．３質量％であり、溶媒の含有量が５９．７質量％である、７０．２５ｇの組成物１６を作製した。組成物１６中の化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の含有量は８．２質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３２．１質量％であり、組成物１６の固形分に対する化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の比は０．２０であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の比は０．２６であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１６の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１６を得、また、固形分が４０．３質量％であり、溶媒の含有量が５９．７質量％である、７０．２５ｇの組成物１６を作製した。組成物１６中の化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の含有量は８．２質量％であり、重合体Ｂ１－１の含有量は３２．１質量％であり、組成物１６の固形分に対する化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の比は０．２０であり、重合体Ｂ１－１に対する化合物Ａ－１６（銅錯体化合物）の比は０．２６であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１６の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0287】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．９４３ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．３１５ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ２２．５３ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．９４３ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．３１５ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－１ ２２．５３ｇ
第２溶媒：トルエン
【0288】
［実施例Ａ１７］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１７を得、また、固形分が２０．６質量％であり、溶媒の含有量が７９．４質量％である、４４．８１ｇの組成物１７を作製した。組成物１７中の化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の含有量は１３．３質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は７．３質量％であり、組成物１７の固形分に対する化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の比は０．６４であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の比は１．８１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１７の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１７を得、また、固形分が２０．６質量％であり、溶媒の含有量が７９．４質量％である、４４．８１ｇの組成物１７を作製した。組成物１７中の化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の含有量は１３．３質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は７．３質量％であり、組成物１７の固形分に対する化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の比は０．６４であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－１７（銅錯体化合物）の比は１．８１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１７の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0289】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．２８ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ ３．２８ｇ
第２溶媒：トルエン
【0290】
［実施例Ａ１８］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１８を得、また、固形分が１７．８質量％であり、溶媒の含有量が８２．２質量％である、６３．５７ｇの組成物１８を作製した。組成物１８中の化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の含有量は９．５質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は８．３質量％であり、組成物１８の固形分に対する化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の比は０．５３であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の比は１．１４であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１８の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１８を得、また、固形分が１７．８質量％であり、溶媒の含有量が８２．２質量％である、６３．５７ｇの組成物１８を作製した。組成物１８中の化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の含有量は９．５質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は８．３質量％であり、組成物１８の固形分に対する化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の比は０．５３であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１８（銅錯体化合物）の比は１．１４であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１８の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0291】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ５．２９ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－３ ５．２９ｇ
第２溶媒：トルエン
【0292】
［実施例Ａ１９］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１９を得、また、固形分が７０．６質量％であり、溶媒の含有量が２９．４質量％である、２３．８８ｇの組成物１９を作製した。組成物１９中の化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の含有量は２４．０質量％であり、重合体Ｂ１－１およびＢ１－２の合計含有量は４６．６質量％であり、組成物１９の固形分に対する化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の比は０．３４であり、重合体Ｂ１－１およびＢ１－２の合計に対する化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の比は０．５１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１９の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１９を得、また、固形分が７０．６質量％であり、溶媒の含有量が２９．４質量％である、２３．８８ｇの組成物１９を作製した。組成物１９中の化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の含有量は２４．０質量％であり、重合体Ｂ１－１およびＢ１－２の合計含有量は４６．６質量％であり、組成物１９の固形分に対する化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の比は０．３４であり、重合体Ｂ１－１およびＢ１－２の合計に対する化合物Ａ－１９（銅錯体化合物）の比は０．５１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１９の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
【0293】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：エチルホスホン酸 ２．２５９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：各５０質量％の重合体Ｂ１－１と重合体Ｂ１－２との混合物 １１．１４ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：エチルホスホン酸 ２．２５９ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．８２９ｇ
重合体（Ｂ１）：各５０質量％の重合体Ｂ１－１と重合体Ｂ１－２との混合物 １１．１４ｇ
第２溶媒：トルエン
【0294】
[実施例Ａ２０]
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－２０を得、また、固形分が６４．２質量％であり、溶媒の含有量が３５．８質量％である、１２．３１ｇの組成物２０を作製した。組成物２０中の化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の含有量は４８．３質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は１５．９質量％であり、組成物２０の固形分に対する化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の比は０．７５であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の比は３．０３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２０の外観と再分散性を評価した。
組成物２０は、凝集などを確認できない緑色の透明な液状であり、外観の評価は問題ないものと判断した（評価：○）。しかしながら、組成物２０の再分散において、液中で該組成物２０を構成する成分のわずかな凝集が確認でき、用途や仕様により許容できるが、組成物１～１９と比較して再分散性は若干劣ると判断し、表２において△と表記した。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用いた以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－２０を得、また、固形分が６４．２質量％であり、溶媒の含有量が３５．８質量％である、１２．３１ｇの組成物２０を作製した。組成物２０中の化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の含有量は４８．３質量％であり、重合体Ｂ１－２の含有量は１５．９質量％であり、組成物２０の固形分に対する化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の比は０．７５であり、重合体Ｂ１－２に対する化合物Ａ－２０（銅錯体化合物）の比は３．０３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２０の外観と再分散性を評価した。
組成物２０は、凝集などを確認できない緑色の透明な液状であり、外観の評価は問題ないものと判断した（評価：○）。しかしながら、組成物２０の再分散において、液中で該組成物２０を構成する成分のわずかな凝集が確認でき、用途や仕様により許容できるが、組成物１～１９と比較して再分散性は若干劣ると判断し、表２において△と表記した。
【0295】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ １．９６ｇ
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：重合体Ｂ１－２ １．９６ｇ
第２溶媒：トルエン
【0296】
［比較例ａ１］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を添加しなかった以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－２１を得、また、固形分が５７．７質量％であり、溶媒の含有量が４２．３質量％である、１０．３１ｇの組成物２１を作製した。組成物２１中の化合物Ａ－２１（銅錯体化合物）の含有量は５７．７質量％であり、組成物２１の固形分に対する化合物Ａ－２１（銅錯体化合物）の比は１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２１の外観と再分散性を評価した。
組成物２１は、凝集などを確認できない緑色の透明な液状であり、外観の評価は問題ないものと判断した（評価：○）。しかしながら、組成物２１の再分散において、液中で該組成物２１を構成する成分の凝集が確認でき、再分散性は良いとは言えない結果であり、表２において×と表記した。このことから、重合体（Ｂ１）を用いないと、再分散の際に凝集が生じ、適切な組成物が得られないことが示唆された。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を添加しなかった以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－２１を得、また、固形分が５７．７質量％であり、溶媒の含有量が４２．３質量％である、１０．３１ｇの組成物２１を作製した。組成物２１中の化合物Ａ－２１（銅錯体化合物）の含有量は５７．７質量％であり、組成物２１の固形分に対する化合物Ａ－２１（銅錯体化合物）の比は１であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物２１の外観と再分散性を評価した。
組成物２１は、凝集などを確認できない緑色の透明な液状であり、外観の評価は問題ないものと判断した（評価：○）。しかしながら、組成物２１の再分散において、液中で該組成物２１を構成する成分の凝集が確認でき、再分散性は良いとは言えない結果であり、表２において×と表記した。このことから、重合体（Ｂ１）を用いないと、再分散の際に凝集が生じ、適切な組成物が得られないことが示唆された。
【0297】
原材料
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：なし
第２溶媒：トルエン
第１溶媒：エタノール
酢酸銅一水和物 ４．８８ｇ
ホスホン酸：ｎ－ブチルホスホン酸 ２．８８６ｇ
リン酸エステル：プライサーフ Ａ２０８Ｎ ２．５７２ｇ
重合体（Ｂ１）：なし
第２溶媒：トルエン
【0298】
【表2】
【0299】
表２中の略字はそれぞれ以下の化合物を表す。
ＣＡＭ：酢酸銅一水和物
ＢＰＡ：ｎ－ブチルホスホン酸
ＭＰＡ：メチルホスホン酸
ＥＰＡ：エチルホスホン酸
ＨＰＡ：ｎ－ヘキシルホスホン酸
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）：下記式（Ｕ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長３６４ｎｍ）
ＣＡＭ：酢酸銅一水和物
ＢＰＡ：ｎ－ブチルホスホン酸
ＭＰＡ：メチルホスホン酸
ＥＰＡ：エチルホスホン酸
ＨＰＡ：ｎ－ヘキシルホスホン酸
紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）：下記式（Ｕ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長３６４ｎｍ）
【0300】
【化9】
【0301】
【表3】
【0302】
【表4】
【0303】
＜実施例Ｄ１－１＞
表５に記載の通り、重合体Ｂ１－１を１００質量部、前記実施例Ａ１１で得られた化合物Ａ－１１を５０質量部、および溶媒としてジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２０質量％の溶液（層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１）を調製した。
表５に記載の通り、重合体Ｂ１－１を１００質量部、前記実施例Ａ１１で得られた化合物Ａ－１１を５０質量部、および溶媒としてジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２０質量％の溶液（層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１）を調製した。
【0304】
＜実施例Ｄ１－２～Ｄ１－５、および比較例Ｄ１－６～Ｄ１－９＞
実施例Ｄ１－１において、重合体（Ｂ１）、重合体（Ｂ２－１）、化合物Ａ、その他化合物として紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の種類および使用量を表５のように変更した以外は、実施例Ｄ１－１と同様にして層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－２～Ｄ１－９を調製した。
実施例Ｄ１－１において、重合体（Ｂ１）、重合体（Ｂ２－１）、化合物Ａ、その他化合物として紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の種類および使用量を表５のように変更した以外は、実施例Ｄ１－１と同様にして層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－２～Ｄ１－９を調製した。
【0305】
【表5】
【0306】
＜調製例Ｄ２－１＞
表６に記載の通り、重合体Ｂ２－１－１を１００質量部、近赤外線吸収色素Ｃ－１を０．０７質量部、近赤外線吸収色素Ｃ－２を０．０７質量部、および溶媒としてジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２０質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１）を調製した。
表６に記載の通り、重合体Ｂ２－１－１を１００質量部、近赤外線吸収色素Ｃ－１を０．０７質量部、近赤外線吸収色素Ｃ－２を０．０７質量部、および溶媒としてジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２０質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１）を調製した。
【0307】
＜調製例Ｄ２－２およびＤ２－３＞
調製例Ｄ２－１において、重合体（Ｂ２－１）、および、近赤外線吸収色素の添加量を表６のように変更した以外は、調製例Ｄ２－１と同様にして層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－２およびＤ２－３を調製した。
調製例Ｄ２－１において、重合体（Ｂ２－１）、および、近赤外線吸収色素の添加量を表６のように変更した以外は、調製例Ｄ２－１と同様にして層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－２およびＤ２－３を調製した。
【0308】
【表6】
【0309】
表６中の近赤外線吸収色素Ｃ－１は、下記式（Ｃ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１１ｎｍ）である。
【0310】
【化10】
【0311】
表６中の近赤外線吸収色素Ｃ－２は、下記式（Ｃ－２）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）である。
【0312】
【化11】
【0313】
表６中の近赤外線吸収色素Ｃ－３は、下記式（Ｃ－３）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１５ｎｍ）である。
【0314】
【化12】
【0315】
表６中の近赤外線吸収色素Ｃ－４は、下記式（Ｃ－４）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７６ｎｍ）である。
【0316】
【化13】
【0317】
＜調製例Ｄ２－４＞
重合体Ｂ２－２－１を１００質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－１を０．７０質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－２を０．７０質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．４０質量部、密着促進剤としてγ－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを１．８質量部、および溶媒としてシクロペンタノンおよびジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２２質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－４）を調製した。
重合体Ｂ２－２－１を１００質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－１を０．７０質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－２を０．７０質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．４０質量部、密着促進剤としてγ－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを１．８質量部、および溶媒としてシクロペンタノンおよびジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２２質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－４）を調製した。
【0318】
＜調製例Ｄ２－５＞
トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを１００質量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを５質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－１を１．４０質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－２を１．４０質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．２０質量部、および溶媒としてメチルエチルケトンを加えて混合し、固形分濃度が３５質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－５）を調製した。
トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを１００質量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを５質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－１を１．４０質量部、前記近赤外線吸収色素Ｃ－２を１．４０質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．２０質量部、および溶媒としてメチルエチルケトンを加えて混合し、固形分濃度が３５質量％の溶液（層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－５）を調製した。
【0319】
＜調製例Ｅ１＞
トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを１００質量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを５質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．２０質量部、および溶媒としてメチルエチルケトンを加えて混合し、固形分濃度が３５質量％の溶液（組成物Ｅ１）を調製した。
トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを１００質量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを５質量部、界面活性剤として信越化学工業（株）製ＫＦ－６４３を０．２０質量部、および溶媒としてメチルエチルケトンを加えて混合し、固形分濃度が３５質量％の溶液（組成物Ｅ１）を調製した。
【0320】
［実施例Ｐ１］
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、層（Ｄ１）として厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－１を作製した。
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、層（Ｄ１）として厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－１を作製した。
【0321】
層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、層（Ｄ２）として厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ２－１を作製した。
【0322】
層Ｄ１－１上にメチル－ｎ－ペンチルケトンを液膜厚２．０μｍとなるようにバーコーターで塗布した後、メチル－ｎ－ペンチルケトンを塗布した面上に層Ｄ２－１をラミネーター（（株）ユーボン製、製品名；ラミーマン ＩＫＯ－６５０Ｅ）を用いて貼合し、厚さ０．２ｍｍの基材ＥＸ１－Ｓｕｂを作製した。
【0323】
基材ＥＸ１－Ｓｕｂの主面の一方に組成物Ｅ１をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。
次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２、２００ｍＷ）を行い、組成物Ｅ１を硬化させ、基材ＥＸ１－Ｓｕｂ上にオーバーコート層を形成した。同様に、基材ＥＸ１－Ｓｕｂの主面の他方にも組成物Ｅ１からなるオーバーコート層を形成し、基材ＥＸ１－Ｓｔａｃｋを得た。この基材の分光透過率を日本分光（株）製、製品名：「Ｖ－７３００」を用いて測定した。得られた透過スペクトルを図１１に示す。
次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２、２００ｍＷ）を行い、組成物Ｅ１を硬化させ、基材ＥＸ１－Ｓｕｂ上にオーバーコート層を形成した。同様に、基材ＥＸ１－Ｓｕｂの主面の他方にも組成物Ｅ１からなるオーバーコート層を形成し、基材ＥＸ１－Ｓｔａｃｋを得た。この基材の分光透過率を日本分光（株）製、製品名：「Ｖ－７３００」を用いて測定した。得られた透過スペクトルを図１１に示す。
【0324】
続いて、得られた基材ＥＸ１－Ｓｔａｃｋの主面の一方（層（Ｄ２）上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに該基材の主面の他方（層（Ｄ１）上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、厚さ約０．２０９ｍｍの光学フィルターを作製した。
【0325】
誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ２）層とチタニア（ＴｉＯ２）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）。誘電体多層膜（ＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ２）層とチタニア（ＴｉＯ２）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
【0326】
誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。
各層の厚さと層数については、可視光域の反射防止効果と所望とする近赤外線域のカット性能とを達成できるよう、基材の屈折率の波長依存特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（ＥｓｓｅｎｔｉａｌＭａｃｌｅｏｄ、ＴｈｉｎＦｉｌｍＣｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例Ｐ１においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表７の通りとした。
各層の厚さと層数については、可視光域の反射防止効果と所望とする近赤外線域のカット性能とを達成できるよう、基材の屈折率の波長依存特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（ＥｓｓｅｎｔｉａｌＭａｃｌｅｏｄ、ＴｈｉｎＦｉｌｍＣｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例Ｐ１においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表７の通りとした。
【0327】
【表7】
【0328】
膜構成最適化の結果、実施例Ｐ１では、誘電体多層膜（Ｉ）は、物理膜厚約３１～１５７ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１０～９５ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２６の多層蒸着膜であった。
誘電体多層膜（ＩＩ）は、物理膜厚約３７～１９４ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１２～１１４ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜であった。
最適化を行った膜構成の一例を表８に示す。
誘電体多層膜（ＩＩ）は、物理膜厚約３７～１９４ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１２～１１４ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜であった。
最適化を行った膜構成の一例を表８に示す。
【0329】
【表8】
【0330】
＜光学特性＞
得られた光学フィルターの主面の垂直方向から入射した光の透過率を、日本分光（株）製、製品名：「Ｖ－７３００」を用いて測定し、波長４５０～５８０ｎｍにおける平均透過率および波長８００～１０００ｎｍにおける平均透過率を算出した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１５に示す。
得られた光学フィルターの主面の垂直方向から入射した光の透過率を、日本分光（株）製、製品名：「Ｖ－７３００」を用いて測定し、波長４５０～５８０ｎｍにおける平均透過率および波長８００～１０００ｎｍにおける平均透過率を算出した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１５に示す。
【0331】
＜耐久性＞
８５℃／８５％ＲＨに設定した恒温恒湿オーブン（エスペック（株）製：ＳＨ－２２２）中に３ｃｍ角にカットした光学フィルターを入れて１０００時間静置した。１０００時間後の各波長領域における分光特性を「Ｖ－７３００」を用いて測定し、波長４５０～５８０ｎｍにおける平均透過率および波長８００～１０００ｎｍにおける平均透過率を算出した。結果を表１１に示す。
恒温恒湿オーブンに入れる前後の前記各平均透過率の値の差から、光学フィルターの耐久性を評価することができる。
８５℃／８５％ＲＨに設定した恒温恒湿オーブン（エスペック（株）製：ＳＨ－２２２）中に３ｃｍ角にカットした光学フィルターを入れて１０００時間静置した。１０００時間後の各波長領域における分光特性を「Ｖ－７３００」を用いて測定し、波長４５０～５８０ｎｍにおける平均透過率および波長８００～１０００ｎｍにおける平均透過率を算出した。結果を表１１に示す。
恒温恒湿オーブンに入れる前後の前記各平均透過率の値の差から、光学フィルターの耐久性を評価することができる。
【0332】
［実施例Ｐ２］
実施例Ｐ１において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－２を用いて層Ｄ１－２を作製し、層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１に代えて層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－２を用いて、厚さ０．０５ｍｍの層Ｄ２－２をそれぞれ作製した。
作製した層Ｄ１－２および層Ｄ２－２を用いたこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして基材ＥＸ２－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１２に示す。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１６に示す。
実施例Ｐ１において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－２を用いて層Ｄ１－２を作製し、層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１に代えて層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－２を用いて、厚さ０．０５ｍｍの層Ｄ２－２をそれぞれ作製した。
作製した層Ｄ１－２および層Ｄ２－２を用いたこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして基材ＥＸ２－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１２に示す。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１６に示す。
【0333】
［実施例Ｐ３］
実施例Ｐ１において、層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１に代えて層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－３を用いて層Ｄ２－３を作製したこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして基材ＥＸ３－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１３に示す。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１７に示す。
実施例Ｐ１において、層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－１に代えて層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－３を用いて層Ｄ２－３を作製したこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして基材ＥＸ３－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１３に示す。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１７に示す。
【0334】
［実施例Ｐ４］
実施例Ｐ１において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－４を作製した。
層Ｄ１－４の主面の一方に層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－４をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で３分間加熱し、溶剤を揮発除去することで層Ｄ２－４を形成した。この際、乾燥後の厚みが１０μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次いで、オーブン中１５０℃で２０分間加熱することで層Ｄ２－４を硬化させ、基材ＥＸ４－Ｓｔａｃｋを得た。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１４に示す。
実施例Ｐ１において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－４を作製した。
層Ｄ１－４の主面の一方に層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－４をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で３分間加熱し、溶剤を揮発除去することで層Ｄ２－４を形成した。この際、乾燥後の厚みが１０μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次いで、オーブン中１５０℃で２０分間加熱することで層Ｄ２－４を硬化させ、基材ＥＸ４－Ｓｔａｃｋを得た。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ１と同様にして測定した。得られた透過スペクトルを図１４に示す。
【0335】
続いて、実施例Ｐ１と同様にして、基材ＥＸ４－Ｓｔａｃｋの硬化した層Ｄ２－４が形成された面に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、基材ＥＸ４－Ｓｔａｃｋの主面の他方に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成することで、厚さ約０．２１５ｍｍの光学フィルターを作製した。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１８に示す。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１８に示す。
【0336】
［実施例Ｐ５］
実施例Ｐ４において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－４を作製する代わりに、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．１０ｍｍの層Ｄ１－５を作製したこと以外は実施例Ｐ４と同様にして、基材ＥＸ５－Ｓｔａｃｋを作製した。
実施例Ｐ４において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－４を作製する代わりに、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３を用いて厚さ０．１０ｍｍの層Ｄ１－５を作製したこと以外は実施例Ｐ４と同様にして、基材ＥＸ５－Ｓｔａｃｋを作製した。
【0337】
続いて、得られた基材ＥＸ５－Ｓｔａｃｋの硬化した層Ｄ２－４が形成された面に誘電体多層膜（ＩＩＩ）を形成し、さらに該基材の主面の他方に誘電体多層膜（ＩＶ）を形成することで、厚さ約０．１１４ｍｍの光学フィルターを作製した。
【0338】
誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ２）層とチタニア（ＴｉＯ２）層とが交互に積層されてなる（合計３８層）。誘電体多層膜（ＩＶ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ２）層とチタニア（ＴｉＯ２）層とが交互に積層されてなる（合計８層）。誘電体多層膜（ＩＩＩ）および（ＩＶ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
【0339】
誘電体多層膜（ＩＩＩ）および（ＩＶ）の設計は、最適化を行う際の入力パラメータを下記表９のようにした以外は実施例Ｐ１と同様に行った。
【0340】
【表9】
【0341】
膜構成最適化の結果、実施例Ｐ５では、誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、物理膜厚約２７～１７４ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１０～１０１ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数３８の多層蒸着膜であった。
誘電体多層膜（ＩＶ）は、物理膜厚約１２～１０７ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１２～７８ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数８の多層蒸着膜であった。
最適化を行った膜構成の一例を表１０に示す。
誘電体多層膜（ＩＶ）は、物理膜厚約１２～１０７ｎｍのシリカ層と物理膜厚約１２～７８ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数８の多層蒸着膜であった。
最適化を行った膜構成の一例を表１０に示す。
【0342】
【表10】
【0343】
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示し、得られた透過スペクトルを図１９に示す。
【0344】
［実施例Ｐ６］
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－４を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－６Ａを作製した。さらに、同様の手順で、厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－６Ｂを作製した。
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－４を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－６Ａを作製した。さらに、同様の手順で、厚さ０．１０ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－６Ｂを作製した。
【0345】
層Ｄ１－６Ａ上にメチル－ｎ－ペンチルケトンを液膜厚２．０μｍとなるようにバーコーターで塗布した後、メチル－ｎ－ペンチルケトンを塗布した面上に層Ｄ１－６Ｂをラミネーター（（株）ユーボン製、製品名；ラミーマン ＩＫＯ－６５０Ｅ）を用いて貼合し、層（Ｄ１）として層Ｄ１－６を作製した。
【0346】
続いて、層Ｄ１－６の主面の一方に、実施例Ｐ４と同様にして層Ｄ２－４を形成し、硬化することで、基材ＥＸ６－Ｓｔａｃｋを得た。
【0347】
実施例Ｐ１と同様にして、基材ＥＸ６－Ｓｔａｃｋの硬化した層Ｄ２－４が形成された面に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、基材ＥＸ６－Ｓｔａｃｋの主面の他方に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成することで、光学フィルターを作製した。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0348】
［実施例Ｐ７］
実施例Ｐ４において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－５を用いた以外は、実施例Ｐ４と同様にして厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－７を作製した。
層Ｄ１－７の主面の一方に層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－５をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去することで層Ｄ２－７を形成した。この際、乾燥後の厚みが５μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。
次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２、２００ｍＷ）を行い、層Ｄ２－７を硬化させ、基材ＥＸ７－Ｓｔａｃｋを得た。
実施例Ｐ４において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－３に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－５を用いた以外は、実施例Ｐ４と同様にして厚さ０．２０ｍｍの層Ｄ１－７を作製した。
層Ｄ１－７の主面の一方に層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－５をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去することで層Ｄ２－７を形成した。この際、乾燥後の厚みが５μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。
次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２、２００ｍＷ）を行い、層Ｄ２－７を硬化させ、基材ＥＸ７－Ｓｔａｃｋを得た。
【0349】
実施例Ｐ１と同様にして、基材ＥＸ７－Ｓｔａｃｋの硬化した層Ｄ２－７が形成された面に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、基材ＥＸ７－Ｓｔａｃｋの主面の他方に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成することで、光学フィルターを作製した。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0350】
［実施例Ｐ８］
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．０７ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－８Ａを作製した。さらに、同様の手順で、厚さ０．０７ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－８Ｂを作製した。
層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．０７ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－８Ａを作製した。さらに、同様の手順で、厚さ０．０７ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ１－８Ｂを作製した。
【0351】
層Ｄ１－８Ａ上にメチル－ｎ－ペンチルケトンを液膜厚２．０μｍとなるようにバーコーターで塗布した後、メチル－ｎ－ペンチルケトンを塗布した面上に層Ｄ１－８Ｂをラミネーター（（株）ユーボン製、製品名；ラミーマン ＩＫＯ－６５０Ｅ）を用いて貼合し、層（Ｄ１）として厚さ０．１４ｍｍの層Ｄ１－８を作製した。
【0352】
層（Ｄ２）形成用組成物Ｄ２－２を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、層（Ｄ２）として厚さ０．０３ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの層Ｄ２－８を作製した。
【0353】
重合体Ｂ２－１－１を１００質量部、および溶媒としてジクロロメタンを加えて混合し、固形分濃度が２０質量％の溶液を作成した。この溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．０３ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍのフィルムＦ－１を作製した。
【0354】
層Ｄ１－８の主面の一方の上に、メチル－ｎ－ペンチルケトンを液膜厚２．０μｍとなるようにバーコーターで塗布した後、メチル－ｎ－ペンチルケトンを塗布した面上に層Ｄ２－８をラミネーター（（株）ユーボン製、製品名；ラミーマン ＩＫＯ－６５０Ｅ）を用いて貼合した。続いて、層Ｄ１－８の主面の他方の面上に同様にしてフィルムＦ－１を貼合し、厚さ０．２０ｍｍの基材ＥＸ８－Ｓｕｂを作製した。
【0355】
続いて、得られた基材ＥＸ８－Ｓｕｂの両面に、実施例Ｐ１と同様にオーバーコート層を形成し、基材ＥＸ８－Ｓｔａｃｋを得た。
作製した基材ＥＸ８－Ｓｔａｃｋを用いたこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして光学フィルターを作製した。この際、得られた基材ＥＸ８－Ｓｔａｃｋの主面の一方（層Ｄ２－８上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに該基材の主面の他方（フィルムＦ－１上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成した。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
作製した基材ＥＸ８－Ｓｔａｃｋを用いたこと以外は、実施例Ｐ１と同様にして光学フィルターを作製した。この際、得られた基材ＥＸ８－Ｓｔａｃｋの主面の一方（層Ｄ２－８上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに該基材の主面の他方（フィルムＦ－１上に形成されたオーバーコート層上）に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成した。
作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ１と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0356】
［比較例Ｐ１］
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－６を用いて層Ｄ１－９を作製した。
作製した層Ｄ１－９を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ９－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－６を用いて層Ｄ１－９を作製した。
作製した層Ｄ１－９を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ９－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0357】
［比較例Ｐ２］
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－７を用いて層Ｄ１－１０を作製した。
作製した層Ｄ１－１０を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１０－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－７を用いて層Ｄ１－１０を作製した。
作製した層Ｄ１－１０を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１０－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0358】
［比較例Ｐ３］
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－８を用いて層Ｄ１－１１を作製した。
作製した層Ｄ１－１１を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１１－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－８を用いて層Ｄ１－１１を作製した。
作製した層Ｄ１－１１を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１１－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0359】
［比較例Ｐ４］
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－９を用いて層Ｄ１－１２を作製した。
作製した層Ｄ１－１２を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１２－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
実施例Ｐ３において、層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－１に代えて層（Ｄ１）形成用組成物Ｄ１－９を用いて層Ｄ１－１２を作製した。
作製した層Ｄ１－１２を用いたこと以外は、実施例Ｐ３と同様にして基材ＥＸ１２－Ｓｔａｃｋおよび光学フィルターを作製した。
作製した基材の分光透過率を実施例Ｐ３と同様にして測定した。
また、作製した光学フィルターを用い、実施例Ｐ３と同様にして、光学特性および耐久性を評価した。結果を表１１に示す。
【0360】
【表11】
【符号の説明】
【0361】
１・・・光学フィルター
２４・・・イメージセンサー
２５・・・イメージセンサーフレーム
２６・・・フレーム
３１・・・筐体
３２・・・レンズ
３３・・・フレネルゾーンプレートやフレネルレンズ等のレンズ代替光学素子
２４・・・イメージセンサー
２５・・・イメージセンサーフレーム
２６・・・フレーム
３１・・・筐体
３２・・・レンズ
３３・・・フレネルゾーンプレートやフレネルレンズ等のレンズ代替光学素子
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【手続補正書】
【提出日】2024-05-28
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0070】
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量は、好ましくは７０～１００質量％、より好ましくは９０～１００質量％、特に好ましくは１００質量％である。つまり、重合体（Ｂ１）は、ポリアリレートである（ポリアリレートのみからなる）ことが特に好ましい。
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量が１００質量％以外の場合、該重合体（Ｂ１）に含まれるポリアリレート以外の成分としては、重合体（Ｂ１）を合成する際に用いた原料（未反応成分）や添加剤等が挙げられる。
重合体（Ｂ１）中のポリアリレートの含有量が１００質量％以外の場合、該重合体（Ｂ１）に含まれるポリアリレート以外の成分としては、重合体（Ｂ１）を合成する際に用いた原料（未反応成分）や添加剤等が挙げられる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0078】
色素（Ｃ）としては、無機化合物、有機化合物および有機無機化合物のいずれでも特に制限はなく、例えば、染料や色素として用いられている種々公知の化合物を用いることができる。
これらの化合物としては、例えば、アゾ系化合物、アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、アントラキノン系化合物、キノフタロン系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、ピロロピロール系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、アクリジン系化合物、ポリメチン系化合物、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ペリレン系化合物、ジオキサジン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、これらの金属キレート化合物、金属ジチオラート系化合物が挙げられる。
なお、ポリメチン系化合物は、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物を除くポリメチン系化合物であり、フタロシアニン系化合物はポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物を除くフタロシアニン系化合物である。
これらの化合物としては、例えば、アゾ系化合物、アゾメチン系化合物、アゾピリドン系化合物、ピラゾロンアゾ系化合物、インドール系化合物、アントラキノン系化合物、キノフタロン系化合物、クマリン系化合物、ジピロメテン系化合物、ピロロピロール系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、アクリジン系化合物、ポリメチン系化合物、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ペリレン系化合物、ジオキサジン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、これらの金属キレート化合物、金属ジチオラート系化合物が挙げられる。
なお、ポリメチン系化合物は、オキソノール系化合物、メロシアニン系化合物、アリーリデン系化合物、ベンジリデン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物を除くポリメチン系化合物であり、フタロシアニン系化合物はポルフィリン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物を除くフタロシアニン系化合物である。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0173】
光重合開始剤の使用量は、アクリル系光硬化性化合物を十分に硬化させることができる等の点から、アクリル系光硬化性化合物１００質量部に対し、好ましくは０．５～１５質量部、より好ましくは１～８質量部である。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0201】
・積層方法３
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に光を照射することで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系光硬化性化合物等の光硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法３の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理をしてもよい。
予め、層（Ｄ１）を、前記と同様の方法で形成した後、形成した層（Ｄ１）上に、組成物（Ｄ２）を塗布し、塗布した組成物（Ｄ２）に光を照射することで、層（Ｄ２）を形成する方法。
この場合、層（Ｄ２）は、アクリル系光硬化性化合物等の光硬化性化合物を用いた組成物（Ｄ２）から形成される層であることが好ましい。
この方法３の際には、層（Ｄ２）を塗布する前に、層（Ｄ１）上に、中間層を設けてもよく、層（Ｄ１）表面に対し、所望の表面処理をしてもよい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0274】
［実施例Ａ１０］
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、２６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１０を得、また、固形分が５４．６質量％であり、溶媒の含有量が４５．４質量％である、２１．５２ｇの組成物１０を作製した。組成物１０中の化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の含有量は２４．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は３０．３質量％であり、組成物１０の固形分に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．４５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．８０であり、重合体Ｂ１－３に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１０の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。
実施例Ａ１において、化合物Ａ（反応生成物）および組成物の原材料として以下の原材料を用い、重合体（Ｂ１）を第２溶媒であるトルエンに混合して溶液を得る際に、２６．１ｍｇの紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）を添加した以外は、実施例Ａ１と同様の条件と方法により、化合物Ａ－１０を得、また、固形分が５４．６質量％であり、溶媒の含有量が４５．４質量％である、２１．５２ｇの組成物１０を作製した。組成物１０中の化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の含有量は２４．３質量％であり、重合体Ｂ１－３の含有量は３０．３質量％であり、組成物１０の固形分に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．４５であり、重合体Ｂ１－３に対する化合物Ａ－１０（銅錯体化合物）の比は０．８０であり、重合体Ｂ１－３に対する紫外線吸収性化合物（Ｕ－１）の比は４．０×１０－３であった。
また、実施例Ａ１と同様の条件と方法によって、組成物１０の外観と再分散性を評価したところ、いずれも良好であった。結果を表２に示す。