(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024175768
(43)【公開日】2024-12-19
(54)【発明の名称】半導体装置および車両
(51)【国際特許分類】
H01L 23/29 20060101AFI20241212BHJP
H01L 25/07 20060101ALI20241212BHJP
【FI】
H01L23/36 A
H01L25/04 C
【審査請求】未請求
【請求項の数】16
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023093752
(22)【出願日】2023-06-07
(71)【出願人】
【識別番号】000116024
【氏名又は名称】ローム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100135389
【弁理士】
【氏名又は名称】臼井 尚
(72)【発明者】
【氏名】神田 沢水
【テーマコード(参考)】
5F136
【Fターム(参考)】
5F136BB04
5F136DA08
5F136DA27
5F136DA41
5F136EA13
5F136FA03
5F136FA12
(57)【要約】
【課題】 放熱を促進することが可能な半導体装置および車両を提供すること。
【解決手段】 半導体装置A1は、熱交換基材1と、熱交換基材1に搭載された半導体素子と、熱交換基材1の一部および半導体素子を覆う封止樹脂7と、を備え、熱交換基材1は、外殻部1aおよび外殻部1aによって密閉された空間部1cと、空間部1cに封入された作動液15とを含み、且つ封止樹脂7に覆われた被覆部11と封止樹脂7から露出する露出部12と、を有し、作動液15が被覆部11と露出部12とを移動することにより、被覆部11において吸収した熱を、露出部12から放出する。
【選択図】
図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱交換基材と、
前記熱交換基材に搭載された半導体素子と、
前記熱交換基材の一部および前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備え、
前記熱交換基材は、外殻部および前記外殻部によって密閉された空間部と、前記空間部に封入された作動液とを含み、且つ前記封止樹脂に覆われた被覆部と前記封止樹脂から露出する露出部と、を有し、前記作動液が前記被覆部と前記露出部とを移動することにより、前記被覆部において吸収した熱を、前記露出部から放出する、半導体装置。
【請求項2】
複数の前記半導体素子を備え、
前記複数の半導体素子は、第1半導体素子および第2半導体素子を含み、
前記第1半導体素子が、上アーム回路を構成し、
前記第2半導体素子が、下アーム回路を構成する、請求項1に記載の半導体装置。
【請求項3】
前記第1半導体素子は、厚さ方向において互いに反対側に配置された第1電極および第2電極と、前記第1電極および前記第2電極に流れる電流を制御する制御信号が入力される第3電極と、を有し、
前記第2半導体素子は、前記厚さ方向において互いに反対側に配置された第4電極および第5電極と、前記第4電極および前記第5電極に流れる電流を制御する制御信号が入力される第6電極と、を有する、請求項2に記載の半導体装置。
【請求項4】
前記第1電極は、ドレイン電極であり、
前記第2電極は、ソース電極であり、
前記第3電極は、ゲート電極であり、
前記第4電極は、ドレイン電極であり、
前記第5電極は、ソース電極であり、
前記第6電極は、ゲート電極である、請求項3に記載の半導体装置。
【請求項5】
前記第2電極および前記第4電極が、前記熱交換基材に導通接合されている、請求項4に記載の半導体装置。
【請求項6】
前記被覆部は、前記厚さ方向において互いに反対側に位置する主面および裏面を有し、
前記第2電極および前記第4電極は、前記主面に導通接合されている、請求項5に記載の半導体装置。
【請求項7】
前記第1半導体素子および前記第2半導体素子と前記熱交換基材との間に介在する絶縁層を備える、請求項4に記載の半導体装置。
【請求項8】
前記絶縁層および前記絶縁層に対して前記熱交換基材とは反対側に積層された第1金属層を有する絶縁基板を備え、
前記第2電極および前記第4電極が、前記第1金属層に導通接合されている、請求項7に記載の半導体装置。
【請求項9】
前記絶縁基板は、前記絶縁層と前記熱交換基材との間に介在する第2金属層をさらに有する、請求項8に記載の半導体装置。
【請求項10】
前記第1電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する正極端子をさらに備える、請求項5ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項11】
前記第5電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する負極端子をさらに備える、請求項10に記載の半導体装置。
【請求項12】
前記熱交換基材に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する出力端子をさらに備える、請求項11に記載の半導体装置。
【請求項13】
前記第3電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する第1ゲート端子と、
前記第6電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する第2ゲート端子と、をさらに備える、請求項12に記載の半導体装置。
【請求項14】
前記正極端子、前記負極端子および前記出力端子と前記第1ゲート端子および第2ゲート端子とは、前記封止樹脂から互いに異なる方向に突出している、請求項13に記載の半導体装置。
【請求項15】
前記第1ゲート端子および第2ゲート端子と前記露出部とは、前記封止樹脂から同じ方向に突出している、請求項14に記載の半導体装置。
【請求項16】
駆動源と、
請求項1に記載の半導体装置と、を備え、
前記半導体装置は、前記駆動源に導通している、車両。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、半導体装置および車両に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、従来の半導体装置が開示されている。特許文献1に記載の半導体装置は、半導体素子および封止樹脂を備えている。封止樹脂は、半導体素子を覆っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【0004】
[概要]
半導体素子において生じる熱は、速やかに外部に放熱されることが好ましい。
【0005】
本開示は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、放熱を促進することが可能な半導体装置および車両を提供することをその課題とする。
【0006】
本開示の第1の側面によって提供される半導体装置は、熱交換基材と、前記熱交換基材に搭載された半導体素子と、前記熱交換基材の一部および前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備え、前記熱交換基材は、外殻部および前記外殻部によって密閉された空間部と、前記空間部に封入された作動液とを含み、且つ前記封止樹脂に覆われた被覆部と前記封止樹脂から露出する露出部と、を有し、前記作動液が前記被覆部と前記露出部とを移動することにより、前記被覆部において吸収した熱を、前記露出部から放出する。
【0007】
本開示の第2の側面によって提供される車両は、駆動源と、本開示の第1の側面によって提供される半導体装置と、を備え、前記半導体装置は、前記駆動源に導通している。
【0008】
本開示のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【
図1】
図1は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す平面図である。
【
図2】
図2は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す底面図である。
【
図3】
図3は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す部分平面図である。
【
図4】
図4は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す部分底面図である。
【
図5】
図5は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す正面図である。
【
図8】
図8は、
図3のVIII-VIII線に沿う断面図である。
【
図9】
図9は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す部分拡大断面図である。
【
図10】
図10は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す部分拡大断面図である。
【
図11】
図11は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示す回路図である。
【
図12】
図12は、本開示の第1実施形態にかかる半導体装置が搭載された車両を示す構成図である。
【
図13】
図13は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置の第1変形例を示す平面図である。
【
図14】
図14は、本開示の第2実施形態に係る半導体装置を示す部分平面図である。
【0010】
[詳細な説明]
以下、本開示の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
【0011】
本開示における「第1」、「第2」、「第3」等の用語は、単に識別のために用いたものであり、それらの対象物に順列を付することを意図していない。
【0012】
本開示において、「ある物Aがある物Bに形成されている」、および、「ある物Aがある物B上に形成されている」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに直接形成されていること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物を介在させつつ、ある物Aがある物Bに形成されていること」を含む。同様に、「ある物Aがある物Bに配置されている」および「ある物Aがある物B上に配置されている」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに直接配置されていること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物を介在させつつ、ある物Aがある物Bに配置されていること」を含む。同様に、「ある物Aがある物B上に位置している」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに接して、ある物Aがある物B上に位置していること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物が介在しつつ、ある物Aがある物B上に位置していること」を含む。また、「ある物Aがある物Bにある方向に見て重なる」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bのすべてに重なること」、および、「ある物Aがある物Bの一部に重なること」を含む。また、本開示において「ある面Aが方向B(の一方側または他方側)を向く」とは、面Aの方向Bに対する角度が90°である場合に限定されず、面Aが方向Bに対して傾いている場合を含む。
【0013】
<第1実施形態>
図1~
図11は、本開示の第1実施形態に係る半導体装置を示している。本実施形態の半導体装置A1は、熱交換基材1、半導体素子および封止樹脂7を備える。また、本実施形態の半導体装置A1は、複数の半導体素子を備えている。複数の半導体素子は、1以上の第1半導体素子4および1以上の第2半導体素子5を含んでいてもよい。本例においては、半導体装置A1は、複数の第1半導体素子4および複数の第2半導体素子5を備えるが、第1半導体素子4および第2半導体素子5のそれぞれの個数は、何ら限定されない。また、半導体装置A1は、正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85を備えていてもよい。図示された例のように、半導体装置A1は、1以上の制御端子86および1以上の制御端子87を備えていてもよい。
【0014】
これらの図において、本開示の厚さ方向を厚さ方向zと定義する。厚さ方向zの第1側をz1側、z方向の第1側とは反対側の第2側をz2側と称する。また、厚さ方向zと直交する一方向を第1方向xと定義する。第1方向xの第1側をx1側、x1側とは反対側の第2側をx2側と称する。また、厚さ方向zおよび第1方向xと直交する方向を第2方向yと定義する。第2方向yの第1側をy1側、y1側とは反対側の第2側をy2側と称する。
【0015】
半導体装置A1の具体的な用途等は何ら限定されない。半導体装置A1においては、第1半導体素子4が上アーム回路を構成し、第2半導体素子5が下アーム回路を構成することにより、ハーフブリッジ回路が構成されている。半導体装置A1は、たとえば直流電力を交流電力に変換し、モータ等の駆動源に電力供給するためのインバータを構成する。本実施形態の半導体装置A1は、1つのハーフブリッジ回路を有する場合を例に説明するが、たとえば3つのハーフブリッジ回路を有することにより、いわゆる三相交流モータに電力供給する構成であってもよい。
【0016】
熱交換基材1は、第1半導体素子4および第2半導体素子5から生じた熱を外部に放出するためのものであり、その一例は、ヒートパイプと称される場合がある。
図6~
図10に示すように、熱交換基材1は、外殻部1a、多孔質部1b、空間部1cおよび作動液15を含む。
【0017】
外殻部1aは、金属を含み、たとえばCu(銅)、Ni(ニッケル)、Fe(鉄)等、またはこれらの合金を含む。外殻部1aは、熱交換基材1の外表面を含む部分である。空間部1cは、外殻部1aによって密閉された空間である。多孔質部1bは、外殻部1aと空間部1cとの間に介在しており、多孔質の部位である。多孔質部1bの材質は、たとえば外殻部1aと同じ材質であってもよい。作動液15は、空間部1cに封入されており、種々の揮発性の液体が適宜選択される。
【0018】
また、
図1~
図8に示すように、熱交換基材1は、被覆部11および露出部12を有する。被覆部11は、封止樹脂7に覆われた部位である。露出部12は、封止樹脂7から突出部位である。熱交換基材1は、被覆部11において吸収した熱を、露出部12から放出する。
【0019】
被覆部11および露出部12の形状および大きさは、何ら限定されない。本実施形態においては、被覆部11は、主面111および裏面112を有する。主面111は、厚さ方向zのz1側を向く面である。裏面112は、厚さ方向zのz2側を向く面である。
【0020】
第1半導体素子4、第2半導体素子5の各々は、SiC(炭化ケイ素)を主とする半導体材料を用いて構成されている。なお、当該半導体材料は、SiCに限定されず、Si(シリコン)、GaAs(ヒ化ガリウム)あるいはGaN(窒化ガリウム)などであってもよい。また、本実施形態において、第1半導体素子4、第2半導体素子5は、MOSFETである。なお、第1半導体素子4、第2半導体素子5は、MOSFETに限定されず、MISFET(Metal-Insulator-Semiconductor FET)を含む電界効果トランジスタや、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)のようなバイポーラトランジスタ、LSIなどのICチップ、ダイオード、コンデンサなどであってもよい。本実施形態においては、第1半導体素子4、第2半導体素子5は、いずれも同一素子であり、かつ、nチャネル型のMOSFETである場合を示す。第1半導体素子4、第2半導体素子5は、z方向に見て(以下、「平面視」ともいう。)、矩形状であるが、これに限定されない。
【0021】
図9に示すように、第1半導体素子4は、第1電極41、第2電極42および第3電極43を有する。第1電極41は、厚さ方向zのz1側に配置されており、本実施形態においては、ドレイン電極である。第2電極42は、厚さ方向zのz2側に配置されており、本実施形態においては、ソース電極である。接合材59は、厚さ方向zのz2側に配置されており、本実施形態においては、ゲート電極である。
【0022】
本実施形態においては、第2電極42が、主面111に導通接合されている。この導通接合の具体的態様は、何ら限定されない。図示された例においては、第2電極42は、中間部材45を介して、主面111に導通接合されている。
【0023】
中間部材45は、たとえばCu(銅)、Ni(ニッケル)、Fe(鉄)等の金属またはこれらの合金を含む。中間部材45と主面111との接合形態は、何ら限定されない。この導通接合は、たとえば図示しない導通接合材を介して実現されていてもよいし、たとえば溶接等の手法によって実現されていてもよいし、たとえば固相拡散接合によって実現されてもよいし、たとえば中間部材45と被覆部11とが一体的に形成されていてもよい。
【0024】
第2電極42と中間部材45との導通接合の接合形態は、何ら限定されない。図示された例においては、第2電極42と中間部材45とは、接合材49を介して導通接合されている。接合材49は、たとえばはんだ、Ag(銀)ペースト、金属焼結材等であってもよい。
【0025】
本実施形態においては、複数の第1半導体素子4が、第2方向yに沿って配列されているが、複数の第1半導体素子4の配置は、何ら限定されない。
【0026】
図10に示すように、第2半導体素子5は、第4電極51、第5電極52および第6電極53を有する。第4電極51は、厚さ方向zのz1側に配置されており、本実施形態においては、ドレイン電極である。第5電極52は、厚さ方向zのz2側に配置されており、本実施形態においては、ソース電極である。接合材59は、厚さ方向zのz2側に配置されており、本実施形態においては、ゲート電極である。
【0027】
本実施形態においては、第4電極51が裏面112に導通接合されている。この導通接合の具体的態様は、何ら限定されない。図示された例においては、第4電極51は、接合材59を介して裏面112に導通接合されている。接合材59は、たとえばはんだ、Ag(銀)ペースト、金属焼結材等であってもよい。
【0028】
本実施形態においては、複数の第2半導体素子5が、第2方向yに沿って配列されているが、複数の第2半導体素子5の配置は、何ら限定されない。
【0029】
封止樹脂7は、
図1~
図10に示すように、熱交換基材1の一部である被覆部11と、複数の第1半導体素子4および複数の第2半導体素子5を覆う。また、本実施形態においては、封止樹脂7は、正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84、第2ゲート端子85、複数の制御端子86および複数の制御端子87の一部ずつを覆う。
【0030】
封止樹脂7の材質は、絶縁性であり、たとえばエポキシ樹脂を含む。封止樹脂7の形状は何ら限定されず、図示された例においては、封止樹脂7は、樹脂第1面71、樹脂第2面72、樹脂第3面73、樹脂第4面74、樹脂第5面75および樹脂第6面76を有する。
【0031】
樹脂第1面71は、厚さ方向zのz1側を向く面である。樹脂第2面72は、厚さ方向zのz2側を向く面である。樹脂第3面73は、第1方向xのx1側を向く面である。樹脂第4面74は、第1方向xのx2側を向く面である。樹脂第5面75は、第2方向yのy1側を向く面である。樹脂第6面76は、第2方向yのy2側を向く面である。
【0032】
正極端子81は、
図2、
図4、
図6および
図9に示すように、第1電極41に導通している。本実施形態においては、正極端子81は、端子部811、複数の接続部812および中継部813を有する。
【0033】
端子部811は、封止樹脂7から突出した部位である。図示された例においては、端子部811は、封止樹脂7の樹脂第3面73から第1方向xのx1側に突出している。端子部811は、半導体装置A1を後述の車両B1等に搭載される際に用いられる。
【0034】
接続部812は、第1電極41に電気的に接続された部位であり、封止樹脂7によって覆われている。本実施形態においては、正極端子81は、複数の第1半導体素子4の個数と同数の複数の接続部812を有する。本実施形態の接続部812は、接合材49を介して第1電極41に導通接合されている。
【0035】
中継部813は、端子部811と複数の接続部812との間に介在する部位である。中継部813は、封止樹脂7によって覆われている。中継部813は、主面111から厚さ方向zのz1側に離れている。
【0036】
負極端子82は、
図1、
図3、
図8および
図10に示すように、第5電極52に導通している。本実施形態においては、負極端子82は、端子部821、複数の接続部822および中継部823を有する。
【0037】
端子部821は、封止樹脂7から突出した部位である。図示された例においては、端子部821は、封止樹脂7の樹脂第3面73から第1方向xのx1側に突出している。また、端子部821は、端子部811に対して、第2方向yのy1側に位置している。端子部821は、半導体装置A1を後述の車両B1等に搭載される際に用いられる。
【0038】
接続部822は、第5電極52に電気的に接続された部位であり、封止樹脂7によって覆われている。本実施形態においては、負極端子82は、複数の第2半導体素子5の個数と同数の複数の接続部822を有する。本実施形態の接続部822は、接合材59を介して第5電極52に導通接合されている。
【0039】
中継部823は、端子部821と複数の接続部822との間に介在する部位である。中継部823は、封止樹脂7によって覆われている。中継部823は、裏面112から厚さ方向zのz2側に離れている。
【0040】
出力端子83は、
図1~
図5および
図7に示すように、熱交換基材1に導通している。本実施形態においては、半導体装置A1は、2つの出力端子83を有する。各出力端子83は、端子部831および接続部832を有する。
【0041】
端子部831は、封止樹脂7から突出した部位である。図示された例においては、端子部831は、封止樹脂7の樹脂第3面73から第1方向xのx1側に突出している。また、端子部831は、第2方向yにおいて端子部811および端子部821の間に位置している。端子部831は、半導体装置A1を後述の車両B1等に搭載される際に用いられる。
【0042】
接続部832は、被覆部11に導通接合されている。一方の出力端子83の端子部831は、主面111に導通接合されている。他方の出力端子83の端子部831は、裏面112に導通接合されている。接続部832と被覆部11との導通接合は、たとえば図示しない導通接合材を介して実現されていてもよいし、たとえば溶接等の手法によって実現されていてもよいし、たとえば固相拡散接合によって実現されてもよいし、たとえば出力端子83と被覆部11とが一体的に形成されていてもよい。
【0043】
半導体装置A1は、いずれかの出力端子83のみを備える構成であってもよいし、3つ以上の出力端子83を備えていてもよい。
【0044】
第1ゲート端子84は、
図2、
図4、
図6および
図9に示すように、第3電極43に導通している。本実施形態においては、第1ゲート端子84は、端子部841、複数の接続部842および中継部843を有する。
【0045】
端子部841は、封止樹脂7から突出した部位である。図示された例においては、端子部841は、封止樹脂7の樹脂第4面74から第1方向xのx2側に突出している。また、端子部841は、樹脂第4面74から第1方向xのx2側に延びる部分と、当該部分から厚さ方向zのz2側に延びる部分とを有する。図示された例においては、端子部841は、露出部12に対して第2方向yのy2側に位置する。端子部841は、半導体装置A1を後述の車両B1等に搭載される際に用いられる。
【0046】
接続部842は、第3電極43に電気的に接続された部位であり、封止樹脂7によって覆われている。本実施形態においては、第1ゲート端子84は、複数の第1半導体素子4の個数と同数の複数の接続部842を有する。本実施形態の接続部842は、接合材49を介して第3電極43に導通接合されている。
【0047】
また、本実施形態においては、半導体装置A1は、絶縁部材89を有する。絶縁部材89の材質は絶縁性であり、たとえば樹脂等を含む。絶縁部材89は、第1ゲート端子84と主面111との間に介在しており、第1ゲート端子84と熱交換基材1とを絶縁している。中間部材45の厚さ方向zの大きさは、接続部842の厚さ方向zの大きさと絶縁部材89の厚さ方向zの大きさとの合計以上であることが好ましい。
【0048】
中継部843は、端子部841と複数の接続部842との間に介在する部位である。中継部843は、封止樹脂7によって覆われている。中継部843は、主面111から厚さ方向zのz1側に離れている。
【0049】
また、半導体装置A1は、1以上の制御端子86を備えていてもよい。1以上の制御端子86としては、たとえば第2電極42に導通するソースセンス端子、図示しないサーミスタまたは熱電対に導通する温度検出端子、等が挙げられる。
【0050】
第2ゲート端子85は、
図1、
図3、
図8および
図10に示すように、第6電極53に導通している。本実施形態においては、第2ゲート端子85は、端子部851、複数の接続部852および中継部853を有する。
【0051】
端子部851は、封止樹脂7から突出した部位である。図示された例においては、端子部851は、封止樹脂7の樹脂第4面74から第1方向xのx2側に突出している。また、端子部851は、樹脂第4面74から第1方向xのx2側に延びる部分と、当該部分から厚さ方向zのz2側に延びる部分とを有する。図示された例においては、端子部851は、露出部12に対して第2方向yのy1側に位置する。端子部851は、半導体装置A1を後述の車両B1等に搭載される際に用いられる。
【0052】
接続部852は、第6電極53に電気的に接続された部位であり、封止樹脂7によって覆われている。本実施形態においては、第2ゲート端子85は、複数の第2半導体素子5の個数と同数の複数の接続部852を有する。本実施形態の接続部852は、接合材59を介して第6電極53に導通接合されている。
【0053】
中継部853は、端子部851と複数の接続部852との間に介在する部位である。中継部853は、封止樹脂7によって覆われている。中継部853は、裏面112から厚さ方向zのz2側に離れている。
【0054】
また、半導体装置A1は、1以上の制御端子87を備えていてもよい。1以上の制御端子87としては、たとえば第5電極52に導通するソースセンス端子、図示しないサーミスタまたは熱電対に導通する温度検出端子、等が挙げられる。
【0055】
図11は、半導体装置A1を示す回路図である。同図に示すように、第1半導体素子4が上アーム回路を構成しており、第2半導体素子5が下アーム回路を構成している。正極端子81および負極端子82は、直流電力が入力される端子である。出力端子83は、交流電力が供給される駆動源等に接続される端子である。第1ゲート端子84には、第1半導体素子4を制御する制御信号が入力される。第2ゲート端子85には、第2半導体素子5を制御する制御信号が入力される。
【0056】
次に、
図12に基づき、半導体装置A1が搭載された車両B1について説明する。車両B1は、たとえば電気自動車(EV)である。
【0057】
図12に示すように、車両B1は、車載充電器91、蓄電池92および駆動系統93を備える。車載充電器91には、屋外に設置された給電施設(図示略)から無線により電力が供給される。この他、給電施設から車載充電器91への電力の供給手段は、有線でもよい。車載充電器91には、昇圧型のDC-DCコンバータが構成されている。車載充電器91に供給された電力の電圧は、当該コンバータにより昇圧された後、蓄電池92に給電される。昇圧された電圧は、たとえば600Vである。
【0058】
駆動系統93は、車両B1を駆動する。駆動系統93は、インバータ931および駆動源932を有する。半導体装置A1は、インバータ931の一部を構成する。蓄電池92に蓄えられた電力は、インバータ931に給電される。蓄電池92からインバータ931に給電される電力は、直流電力である。この他、
図12に示す電力系統とは異なり、蓄電池92とインバータ931との間に昇圧型のDC-DCコンバータをさらに設けてもよい。インバータ931は、直流電力を交流電力に変換する。半導体装置A1を含めたインバータ931は、駆動源932に導通している。
【0059】
駆動源932は、交流モータおよび変速機を有する。インバータ931によって変換された交流電力が駆動源932に供給されると、交流モータが回転するとともに、その回転が変速機に伝達される。変速機は、交流モータから伝達された回転数を適宜減じた上で、車両B1の駆動軸を回転させる。これにより、車両B1が駆動する。車両B1の駆動にあたっては、アクセルペダルの変動量などの情報に基づき交流モータの回転数を自在に操作する必要がある。インバータ931における半導体装置A1は、要求される交流モータの回転数に対応させるべく、周波数が適宜変化された交流電力を出力するために必要である。
【0060】
次に、半導体装置A1および車両B1の作用について説明する。
【0061】
図7に示す例においては、露出部12にヒートシンクHsが取り付けられている。ヒートシンクHsは、たとえば車両B1の構成部品である。本実施形態においては、熱交換基材1は、出力端子83と導通している。このため、ヒートシンクHsと露出部12との間に、絶縁部材19が設けられている。絶縁部材19は、たとえば樹脂、セラミック、絶縁テープ等である。
【0062】
図7に示すように、熱交換基材1内においては、空間部1cに封入された作動液15の一部が、たとえば毛細管現象により多孔質部1bに吸収される。第1半導体素子4および第2半導体素子5が発熱すると、被覆部11に熱が伝えられる。この熱は、外殻部1aを介して多孔質部1bに吸収されている作動液15に伝わる。これにより、作動液15が蒸発すると、潜熱の吸収により、第1半導体素子4および第2半導体素子5からの熱がさらに吸収される。
【0063】
蒸発した作動液15の気体は、空間部1cを通じて露出部12に移動する。一方、被覆部11の多孔質部1bにおいて作動液15が蒸発すると、毛細管現象により、露出部12の多孔質部1bに吸収されていた作動液15が被覆部11の多孔質部1bへと移動する。露出部12に移動した作動液15の気体は、ヒートシンクHsによる吸熱等により冷やされ、凝縮する。この際、潜熱の放出により、作動液15からヒートシンクHsへと熱が放出される。一方、被覆部11の多孔質部1bに移動してきた作動液15は、第1半導体素子4および第2半導体素子5からの熱により蒸発する。
【0064】
このように、熱交換基材1内に封入された作動液15の被覆部11における蒸発および露出部12における凝縮が継続的に生じる。これにより、潜熱の吸収および放出が生じ、第1半導体素子4および第2半導体素子5からの熱がヒートシンクHsに放出される。したがって、本実施形態によれば、半導体装置A1の放熱を促進することができる。
【0065】
図1に示すように、正極端子81、負極端子82および出力端子83が第1方向xのx1側に突出し、露出部12、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85は、第1方向xのx2側に突出している。封止樹脂7の第2方向yには、いずれの端子等も突出していない。このため、複数の半導体装置A1を車両B1等に搭載する際に、複数の半導体装置A1を第2方向yに配列することが可能である。
【0066】
露出部12は、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85等よりも、第1方向xのx2側に突出している。これにより、
図7に示すように、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85等とヒートシンクHsとの干渉を抑制することができる。
【0067】
図9および
図10に示すように、第1半導体素子4の第2電極42および第2半導体素子5の第4電極51は、熱交換基材1に導通接合されている。これにより、第1半導体素子4および第2半導体素子5からの熱を、より速やかに熱交換基材1に伝えることが可能であり、半導体装置A1の放熱促進に好ましい。
【0068】
第1半導体素子4が主面111に搭載され、第2半導体素子5が裏面112に搭載されている。これにより、第1半導体素子4および第2半導体素子5を厚さ方向zに視て互いに重なるような位置関係で配置することが可能である。したがって、半導体装置A1の小型化を図ることができる。
【0069】
図13~
図17は、本開示の変形例および他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。また、各変形例および各実施形態における各部の構成は、技術的な矛盾を生じない範囲において相互に適宜組み合わせ可能である。
【0070】
<第1実施形態 第1変形例>
図13は、半導体装置A1の第1変形例を示している。本変形例の半導体装置A11は、熱交換基材1の構成が上述の半導体装置A1と異なっている。
【0071】
本変形例では、熱交換基材1は、2つの露出部12を有する。一方の露出部12は、封止樹脂7の樹脂第5面75から第2方向yのy1側に突出している。他方の露出部12は、封止樹脂7の樹脂第6面76から第2方向yのy2側に突出している。
【0072】
本変形例によっても、半導体装置A11の放熱を促進することができる。また、露出部12が、正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85のいずれとも異なる方向に突出している。これにより、上述のヒートシンクHsを露出部12に当接させる場合に、ヒートシンクHsと正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85のいずれかと干渉することを回避しやすいという利点がある。本変形例から理解されるように、露出部12の具体的な構成は、何ら限定されない。
【0073】
<第2実施形態>
図14~
図17は、本開示の第2実施形態に係る半導体装置を示している。本実施形態の半導体装置A2は、絶縁層61を備える。また、半導体装置A2においては、絶縁層61を有する絶縁基板6が採用されている。
【0074】
絶縁基板6は、第1半導体素子4および第2半導体素子5と熱交換基材1との間に介在しており、第1半導体素子4および第2半導体素子5と熱交換基材1とを絶縁している。このため、本実施形態の熱交換基材1は、正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85のいずれとも導通していない。
【0075】
絶縁基板6は、絶縁層61、第1金属層62および第2金属層63を有する。絶縁層61は、絶縁性を有し、たとえばセラミックからなる。第1金属層62は、絶縁層61に対して厚さ方向zのz2側に積層されており、たとえば銅(Cu)等の金属または合金を含む。第2金属層63は、絶縁層61に対して厚さ方向zのz1側に積層されており、たとえば銅(Cu)等の金属または合金を含む。
【0076】
本実施形態においては、第2金属層63が主面111に接合されている。第2金属層63と主面111との接合手法は、何ら限定されず、たとえば図示しない導通接合材を介して実現されていてもよいし、たとえば溶接等の手法によって実現されていてもよいし、たとえば固相拡散接合によって実現されてもよいし、たとえば第2金属層63と被覆部11とが一体的に形成されていてもよい。
【0077】
また、本実施形態においては、第2電極42および第4電極51が、第1金属層62に導通している。第2電極42は、中間部材45を介して第1金属層62に導通接合されていてもよい。第4電極51は、接合材59を介して第1金属層62に導通接合されていてもよい。
【0078】
出力端子83は、第1金属層62に導通接合されている。接続部832と第1金属層62との接合手法は、何ら限定されず、たとえば図示しない導通接合材を介して実現されていてもよいし、たとえば溶接等の手法によって実現されていてもよいし、たとえば固相拡散接合によって実現されてもよいし、たとえば出力端子83と第1金属層62とが一体的に形成されていてもよい。
【0079】
本実施形態によっても、半導体装置A2の放熱を促進することができる。また、熱交換基材1が第1半導体素子4および第2半導体素子5や、正極端子81、負極端子82、出力端子83、第1ゲート端子84および第2ゲート端子85のいずれとも導通していない。このため、たとえば、
図16に示すように露出部12とヒートシンクHsとを、絶縁部材等を用いることなく、直接当接させることができる。
【0080】
本開示に係る半導体装置および車両は、上述した実施形態に限定されるものではない。本開示に係る半導体装置および車両の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
【0081】
[付記1]
熱交換基材と、
前記熱交換基材に搭載された半導体素子と、
前記熱交換基材の一部および前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備え、
前記熱交換基材は、外殻部および前記外殻部によって密閉された空間部と、前記空間部に封入された作動液とを含み、且つ前記封止樹脂に覆われた被覆部と前記封止樹脂から露出する露出部と、を有し、前記作動液が前記被覆部と前記露出部とを移動することにより、前記被覆部において吸収した熱を、前記露出部から放出する、半導体装置。
[付記2]
複数の前記半導体素子を備え、
前記複数の半導体素子は、第1半導体素子および第2半導体素子を含み、
前記第1半導体素子が、上アーム回路を構成し、
前記第2半導体素子が、下アーム回路を構成する、付記1に記載の半導体装置。
[付記3]
前記第1半導体素子は、厚さ方向において互いに反対側に配置された第1電極および第2電極と、前記第1電極および前記第2電極に流れる電流を制御する制御信号が入力される第3電極と、を有し、
前記第2半導体素子は、前記厚さ方向において互いに反対側に配置された第4電極および第5電極と、前記第4電極および前記第5電極に流れる電流を制御する制御信号が入力される第6電極と、を有する、付記2に記載の半導体装置。
[付記4]
前記第1電極は、ドレイン電極であり、
前記第2電極は、ソース電極であり、
前記第3電極は、ゲート電極であり、
前記第4電極は、ドレイン電極であり、
前記第5電極は、ソース電極であり、
前記第6電極は、ゲート電極である、付記3に記載の半導体装置。
[付記5]
前記第2電極および前記第4電極が、前記熱交換基材に導通接合されている、付記4に記載の半導体装置。
[付記6]
前記被覆部は、前記厚さ方向において互いに反対側に位置する主面および裏面を有し、
前記第2電極および前記第4電極は、前記主面に導通接合されている、付記5に記載の半導体装置。
[付記7]
前記第1半導体素子および前記第2半導体素子と前記熱交換基材との間に介在する絶縁層を備える、付記4に記載の半導体装置。
[付記8]
前記絶縁層および前記絶縁層に対して前記熱交換基材とは反対側に積層された第1金属層を有する絶縁基板を備え、
前記第2電極および前記第4電極が、前記第1金属層に導通接合されている、付記7に記載の半導体装置。
[付記9]
前記絶縁基板は、前記絶縁層と前記熱交換基材との間に介在する第2金属層をさらに有する、付記8に記載の半導体装置。
[付記10]
前記第1電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する正極端子をさらに備える、付記5ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
[付記11]
前記第5電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する負極端子をさらに備える、付記10に記載の半導体装置。
[付記12]
前記熱交換基材に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する出力端子をさらに備える、付記11に記載の半導体装置。
[付記13]
前記第3電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する第1ゲート端子と、
前記第6電極に導通し、且つ前記封止樹脂から突出する部分を有する第2ゲート端子と、をさらに備える、付記12に記載の半導体装置。
[付記14]
前記正極端子、前記負極端子および前記出力端子と前記第1ゲート端子および第2ゲート端子とは、前記封止樹脂から互いに異なる方向に突出している、付記13に記載の半導体装置。
[付記15]
前記第1ゲート端子および第2ゲート端子と前記露出部とは、前記封止樹脂から同じ方向に突出している、付記14に記載の半導体装置。
[付記16]
駆動源と、
付記1ないし15のいずれかに記載の半導体装置と、を備え、
前記半導体装置は、前記駆動源に導通している、車両。
【符号の説明】
【0082】
A1,A11,A2:半導体装置
B1 :車両
1 :熱交換基材
1a :外殻部
1b :多孔質部
1c :空間部
4 :第1半導体素子
5 :第2半導体素子
6 :絶縁基板
7 :封止樹脂
11 :被覆部
12 :露出部
15 :作動液
19 :絶縁部材
41 :第1電極
42 :第2電極
43 :第3電極
45 :中間部材
49 :接合材
51 :第4電極
52 :第5電極
53 :第6電極
59 :接合材
61 :絶縁層
62 :第1金属層
63 :第2金属層
71 :樹脂第1面
72 :樹脂第2面
73 :樹脂第3面
74 :樹脂第4面
75 :樹脂第5面
76 :樹脂第6面
81 :正極端子
82 :負極端子
83 :出力端子
84 :第1ゲート端子
85 :第2ゲート端子
86 :制御端子
87 :制御端子
89 :絶縁部材
91 :車載充電器
92 :蓄電池
93 :駆動系統
111 :主面
112 :裏面
811 :端子部
812 :接続部
813 :中継部
821 :端子部
822 :接続部
823 :中継部
831 :端子部
832 :接続部
841 :端子部
842 :接続部
843 :中継部
851 :端子部
852 :接続部
853 :中継部
931 :インバータ
932 :駆動源
Hs :ヒートシンク
x :第1方向
y :第2方向
z :厚さ方向