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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024176265
(43)【公開日】2024-12-19
(54)【発明の名称】露光装置、及び物品の製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20241212BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 501
G03F7/20 521
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023094701
(22)【出願日】2023-06-08
(71)【出願人】
【識別番号】000001007
【氏名又は名称】キヤノン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100094112
【弁理士】
【氏名又は名称】岡部 讓
(74)【代理人】
【識別番号】100101498
【弁理士】
【氏名又は名称】越智 隆夫
(74)【代理人】
【識別番号】100106183
【弁理士】
【氏名又は名称】吉澤 弘司
(74)【代理人】
【識別番号】100136799
【弁理士】
【氏名又は名称】本田 亜希
(72)【発明者】
【氏名】田實 慎也
(72)【発明者】
【氏名】橋本 隆行
(72)【発明者】
【氏名】木村 仁
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 剛
【テーマコード（参考）】
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H197AA10
2H197AB02
2H197CD15
2H197DB05
2H197DC02
2H197DC14
2H197HA03
2H197HA04
2H197HA05
(57)【要約】
【課題】繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に対して繋ぎ露光を行う際に基板の基板面上の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と繋ぎ領域とを含む第１の露光領域、及び非走査方向に配列される繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含む第２の露光領域を露光するか判定する制御部を備え、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、繋ぎ領域における露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【選択図】 図６
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に対して繋ぎ露光を行う際に基板の基板面上の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と繋ぎ領域とを含む第１の露光領域、及び非走査方向に配列される繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含む第２の露光領域を露光するか判定する制御部を備え、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、繋ぎ領域における露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【選択図】 図６
【特許請求の範囲】
【請求項1】
原版及び基板を走査方向に走査しながら前記原版のパターンの像を前記基板の基板面上に投影し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持しながら前記走査方向と前記基板面内において前記走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、
該基板ステージによって保持されている前記基板の前記基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、
前記露光を制御する制御部と、
を備え、
前記基板面上の第１の露光領域は、前記非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第２の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、
前記制御部は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、
前記少なくとも一つの位置は、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
前記基板を保持しながら前記走査方向と前記基板面内において前記走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、
該基板ステージによって保持されている前記基板の前記基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、
前記露光を制御する制御部と、
を備え、
前記基板面上の第１の露光領域は、前記非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第２の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、
前記制御部は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、
前記少なくとも一つの位置は、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
【請求項2】
前記第２のトレランス値は、前記第１の露光領域を露光する際の前記露光装置の第１の構成において前記基板ステージ上の前記第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に前記第１の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される積算露光量と、前記第２の露光領域を露光する際の前記露光装置の第２の構成において前記基板ステージ上の前記第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に前記第２の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、前記第３の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項3】
前記少なくとも一つの位置は、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も小さい位置とを含み、
前記合算積算露光量は、前記第１の露光の際に取得される第１の積算露光量と、前記第２の露光の際に取得される第２の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
前記合算積算露光量は、前記第１の露光の際に取得される第１の積算露光量と、前記第２の露光の際に取得される第２の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項4】
前記判定工程は、
前記第１の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第３の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第１の積算露光量を取得する工程と、
前記第２の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第４の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第２の積算露光量を取得する工程と、
前記少なくとも一つの位置における前記第１の積算露光量及び前記第２の積算露光量の合算積算露光量と前記第１のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
前記第１の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第３の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第１の積算露光量を取得する工程と、
前記第２の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第４の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第２の積算露光量を取得する工程と、
前記少なくとも一つの位置における前記第１の積算露光量及び前記第２の積算露光量の合算積算露光量と前記第１のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項5】
前記第１のトレランス値は、前記露光装置の露光性能に基づいて決定されると共に、前記第２のプラス側トレランス値より大きい第１のプラス側トレランス値と、前記露光性能に基づいて決定されると共に、前記第２のマイナス側トレランス値より小さい第１のマイナス側トレランス値とを含み、
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第１のプラス側トレランス値以下であり、且つ前記第１のマイナス側トレランス値以上である場合に前記制御部によって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第１のプラス側トレランス値以下であり、且つ前記第１のマイナス側トレランス値以上である場合に前記制御部によって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項6】
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第１のプラス側トレランス値を上回っているか、若しくは前記第１のマイナス側トレランス値を下回っている場合に前記露光装置の構成を調整する調整工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項7】
前記調整工程は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域内の複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最大値と前記第３の領域における前記積算露光量の平均値との間の差の絶対値、及び前記複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最小値と該平均値との間の差の絶対値が小さくなるように前記露光装置の構成を調整する工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項8】
前記複数の位置は、前記少なくとも一つの位置であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項9】
前記判定工程は、前記第１の露光領域を露光する際の前記露光装置の第１の構成において前記基板ステージ上の前記第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される第１の積算露光量と、前記第２の露光領域を露光する際の前記露光装置の第２の構成において前記基板ステージ上の前記第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に前記第４の領域において取得される第２の積算露光量との合算積算露光量と、前記第２のトレランス値とを互いに比較することで前記少なくとも一つの位置を決定する決定工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項10】
前記第２のトレランス値は、前記第１の露光の際に前記第１の領域において取得される前記積算露光量と、前記第２の露光の際に前記第２の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、前記第３の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含み、
前記決定工程は、前記第４の領域内において、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
前記決定工程は、前記第４の領域内において、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項11】
前記決定工程は、
前記第１の露光及び前記第２の露光を行う工程と、
前記第１の領域における前記積算露光量及び前記第２の領域における前記積算露光量を取得する工程と、
前記第４の領域における前記合算積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
前記第１の露光及び前記第２の露光を行う工程と、
前記第１の領域における前記積算露光量及び前記第２の領域における前記積算露光量を取得する工程と、
前記第４の領域における前記合算積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項12】
前記決定工程は、前記第２のプラス側トレランス値及び前記第２のマイナス側トレランス値をそれぞれ、前記第３の領域における前記積算露光量の最大値及び最小値として決定する工程を含むことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項13】
前記決定工程は、
前記合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る第１の位置が検出されるか判定する工程と、
該第１の位置が検出されないと判定された際に、前記第４の領域における前記露光量が増大するように前記第１の構成及び前記第２の構成を調整する工程と、
該調整された第１の構成において前記第１の露光を行うことで前記第４の領域における前記第１の積算露光量を取得する工程と、
該調整された第２の構成において前記第２の露光を行うことで前記第４の領域における前記第２の積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
前記合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る第１の位置が検出されるか判定する工程と、
該第１の位置が検出されないと判定された際に、前記第４の領域における前記露光量が増大するように前記第１の構成及び前記第２の構成を調整する工程と、
該調整された第１の構成において前記第１の露光を行うことで前記第４の領域における前記第１の積算露光量を取得する工程と、
該調整された第２の構成において前記第２の露光を行うことで前記第４の領域における前記第２の積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【請求項14】
前記決定工程は、
前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る第２の位置が検出されるか判定する工程と、
該第２の位置が検出されないと判定された際に、前記第４の領域における前記露光量が減少するように前記第１の構成及び前記第２の構成を調整する工程と、
該調整された第１の構成において前記第１の露光を行うことで前記第４の領域における前記第１の積算露光量を取得する工程と、
該調整された第２の構成において前記第２の露光を行うことで前記第４の領域における前記第２の積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る第２の位置が検出されるか判定する工程と、
該第２の位置が検出されないと判定された際に、前記第４の領域における前記露光量が減少するように前記第１の構成及び前記第２の構成を調整する工程と、
該調整された第１の構成において前記第１の露光を行うことで前記第４の領域における前記第１の積算露光量を取得する工程と、
該調整された第２の構成において前記第２の露光を行うことで前記第４の領域における前記第２の積算露光量を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【請求項15】
光を射出する光源と、該光源からの前記光が通過する開口が形成されている遮光部とを含み、露光光を前記原版に導光する照明光学系を備え、
前記決定工程は、前記決定された少なくとも一つの位置と、前記光源の種類、前記光源のモード及び前記非走査方向における前記開口に対する前記第４の領域の相対位置のうち少なくとも一つとを互いに対応付けて前記制御部によって記憶させる工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
前記決定工程は、前記決定された少なくとも一つの位置と、前記光源の種類、前記光源のモード及び前記非走査方向における前記開口に対する前記第４の領域の相対位置のうち少なくとも一つとを互いに対応付けて前記制御部によって記憶させる工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項16】
前記非走査方向に移動することによって露光光の少なくとも一部を遮光することで、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記露光量を調整する露光量調整部を含み、前記原版を通過した前記露光光を前記基板に導光する投影光学系を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項17】
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の露光装置によって基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項18】
基板を保持しながら該基板の基板面に平行な走査方向と該基板面内において該走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、該基板ステージによって保持されている前記基板の前記基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部とを備える露光装置において原版及び前記基板を前記走査方向に走査しながら前記原版のパターンの像を前記基板面上に投影し、前記基板を露光する露光方法であって、
前記基板面上の第１の露光領域は、前記非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第２の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、
前記露光方法は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を含み、
前記少なくとも一つの位置は、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光方法。
前記基板面上の第１の露光領域は、前記非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第２の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、
前記露光方法は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を含み、
前記少なくとも一つの位置は、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、露光装置においては基板上の隣接する露光領域を互いに部分的に重複させながら複数の当該露光領域それぞれに対して露光を行うことで、当該基板上の大きい領域にパターンを形成する、いわゆる繋ぎ露光が行われている。
そしてそのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する露光領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが求められる。
そしてそのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する露光領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが求められる。
【0003】
特許文献１は、照明光学系と原版との間に設けられた露光光が通過する可変スリットの開口の形状を調整することで、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１７－５３８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
一方、露光装置において繋ぎ露光を行う際に繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制するためには、当該繋ぎ領域における当該露光量を計測する必要がある。
このとき、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することでスループットが低下してしまう。
このとき、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することでスループットが低下してしまう。
【0006】
そこで本発明は、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板を保持しながら走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、露光を制御する制御部とを備え、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、制御部は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】第一実施形態に係る露光装置の模式的断面図。
【図2】第一実施形態に係る露光装置において行われる繋ぎ露光を説明する上面図。
【図3】第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による積算露光量及び合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
【図4】第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ露光を行う際の可変スリット及び露光量調整板と露光領域との間の配置関係を示す上面図。
【図5】第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
【図6】第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する処理、及び当該判定する処理の際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
【図7】第二実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
【図8】第二実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
また以下では、投影光学系４の光軸に平行な方向をＺ方向とする。また当該Ｚ方向に垂直な断面内（基板面内）において、原版３及び基板１６それぞれの走査方向をＹ方向、当該Ｙ方向に直交する非走査方向をＸ方向と定義する。
また以下では、投影光学系４の光軸に平行な方向をＺ方向とする。また当該Ｚ方向に垂直な断面内（基板面内）において、原版３及び基板１６それぞれの走査方向をＹ方向、当該Ｙ方向に直交する非走査方向をＸ方向と定義する。
【0011】
［第一実施形態］
従来、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイや半導体デバイス等の製造においては、原版と感光剤が塗布された基板とを互いに同期移動させながら投影光学系を介して当該原版のパターンの像を当該基板に投影する露光装置が用いられる。
また近年、基板の大型化に伴う露光領域の増大に対応するために、一回の走査露光によって原版のパターン（部分パターン）が転写される基板上の領域（部分領域）より大きい領域にパターンを形成することが求められている。
従来、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイや半導体デバイス等の製造においては、原版と感光剤が塗布された基板とを互いに同期移動させながら投影光学系を介して当該原版のパターンの像を当該基板に投影する露光装置が用いられる。
また近年、基板の大型化に伴う露光領域の増大に対応するために、一回の走査露光によって原版のパターン（部分パターン）が転写される基板上の領域（部分領域）より大きい領域にパターンを形成することが求められている。
【0012】
そして、基板上の走査方向に直交する非走査方向において互いに部分的に重複する複数の部分領域それぞれに対して露光を行うことで、当該基板上の大きい領域にパターンを形成する、いわゆる繋ぎ露光が提案されている。
ここで、そのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する部分領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが重要である。
ここで、そのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する部分領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが重要である。
【0013】
そして従来、照明光学系と原版との間に設けられた露光光が通過する可変スリットの開口の形状を調整することで、そのような繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制している露光装置が提案されている。
また従来、投影光学系の光軸に平行な方向における基板ステージの位置を周期的に変動させることによって露光領域における露光量の分布を変化させることで、繋ぎ領域に対する複数回の露光における露光量の間の差を低減している露光装置が提案されている。
また従来、露光光の照明領域の大きさを変化させるための遮光板を回転移動させることで繋ぎ領域における露光量を調整している露光装置が提案されている。
また従来、投影光学系の光軸に平行な方向における基板ステージの位置を周期的に変動させることによって露光領域における露光量の分布を変化させることで、繋ぎ領域に対する複数回の露光における露光量の間の差を低減している露光装置が提案されている。
また従来、露光光の照明領域の大きさを変化させるための遮光板を回転移動させることで繋ぎ領域における露光量を調整している露光装置が提案されている。
【0014】
一方、露光装置においてそのような繋ぎ露光を行う際に繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制するためには、当該繋ぎ領域における当該露光量を定期的に計測する必要がある。
しかしながら、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することで露光装置におけるスループットが低下してしまう。
一方、当該計測の間隔を増大させることで露光装置におけるスループットの低下を抑制することもできるが、この場合繋ぎ領域における露光量のばらつきが十分に検出されないことで繋ぎ露光の精度が低下してしまう虞がある。
しかしながら、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することで露光装置におけるスループットが低下してしまう。
一方、当該計測の間隔を増大させることで露光装置におけるスループットの低下を抑制することもできるが、この場合繋ぎ領域における露光量のばらつきが十分に検出されないことで繋ぎ露光の精度が低下してしまう虞がある。
【0015】
そこで本実施形態は、繋ぎ領域における露光量のばらつきの抑制における精度を維持しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することを目的としている。
図１は、第一実施形態に係る露光装置１００の模式的断面図を示している。
図１は、第一実施形態に係る露光装置１００の模式的断面図を示している。
【0016】
本実施形態に係る露光装置１００は、半導体デバイスやフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等のデバイスを製造する工程に含まれるフォトリソグラフィ工程において用いられるリソグラフィ装置である。
具体的に本実施形態に係る露光装置１００は、パターンが形成された原版面を有する原版３を介して基板１６を露光することによって当該パターンの像を基板１６の基板面上に投影することで、原版３の当該パターンを基板１６に転写する露光処理を行う。
具体的に本実施形態に係る露光装置１００は、パターンが形成された原版面を有する原版３を介して基板１６を露光することによって当該パターンの像を基板１６の基板面上に投影することで、原版３の当該パターンを基板１６に転写する露光処理を行う。
【0017】
本実施形態に係る露光装置１００は、照明光学系１、アライメントスコープ２、原版ステージ２７、投影光学系４、露光量調整板１９（露光量調整部）、基板ステージ１７及び制御部２０を備えている。
照明光学系１は、原版３に露光光を導光するように構成されており、光源５、コンデンサレンズ６及び８、フライアイレンズ７、可変スリット９（遮光部）、結像光学系１０及び平面鏡１１を有している。
照明光学系１は、原版３に露光光を導光するように構成されており、光源５、コンデンサレンズ６及び８、フライアイレンズ７、可変スリット９（遮光部）、結像光学系１０及び平面鏡１１を有している。
【0018】
光源５は、水銀ランプ及び楕円ミラーを含んでおり、光を射出するように構成されている。
可変スリット９は、光源５と原版３との間に設けられており、光源５から出射した光のうち開口９ｐに入射した光のみを透過（通過）させることで、基板１６の基板面上における照明範囲を規定する。
可変スリット９は、光源５と原版３との間に設けられており、光源５から出射した光のうち開口９ｐに入射した光のみを透過（通過）させることで、基板１６の基板面上における照明範囲を規定する。
【0019】
結像光学系１０は、可変スリット９を通過した光を原版３に結像させるように配置されている複数のミラーを含んでいる。
平面鏡１１は、照明光学系１において光源５から出射した光の光路を折り曲げるように配置されている。
平面鏡１１は、照明光学系１において光源５から出射した光の光路を折り曲げるように配置されている。
【0020】
アライメントスコープ２は、原版３及び基板１６それぞれに形成されているアライメントマークを検出することで、原版３と基板１６との間の位置合わせを行う。
投影光学系４は、原版ステージ２７によって保持されている原版３のパターンの像を基板ステージ１７によって保持されている基板１６の基板面上に投影する。
投影光学系４は、原版ステージ２７によって保持されている原版３のパターンの像を基板ステージ１７によって保持されている基板１６の基板面上に投影する。
【0021】
具体的に投影光学系４では、原版３を通過した露光光が、第１の平行平板１３ａ、平面鏡１４、凹面鏡１２、凸面鏡１５、凹面鏡１２、平面鏡１４、第２の平行平板１３ｂの順に透過する又は反射されることで、基板１６上に導光される。
これにより、原版３に形成されているパターンの像が基板１６の基板面上に投影されることで転写される。
なお投影光学系４は、原版３のパターンの像を基板１６の基板面上に等倍で投影する等倍結像光学系でもよく、拡大結像光学系や縮小結像光学系であっても構わない。
これにより、原版３に形成されているパターンの像が基板１６の基板面上に投影されることで転写される。
なお投影光学系４は、原版３のパターンの像を基板１６の基板面上に等倍で投影する等倍結像光学系でもよく、拡大結像光学系や縮小結像光学系であっても構わない。
【0022】
原版ステージ２７は、原版３の原版面が投影光学系４の物体面の位置に配置されるように原版３を保持しながら走査方向及び非走査方向に移動可能に構成されている。
基板ステージ１７は、基板１６の基板面が投影光学系４の像面の位置に配置されるように基板１６を保持しながら走査方向及び非走査方向に移動可能に構成されている。
基板ステージ１７は、基板１６の基板面が投影光学系４の像面の位置に配置されるように基板１６を保持しながら走査方向及び非走査方向に移動可能に構成されている。
【0023】
また基板ステージ１７には、基板１６の基板面上に導光される露光光の光量を計測する光量センサ１８（計測部）が設けられている。
具体的に光量センサ１８は、基板ステージ１７上に基板１６が載置された際の基板１６の基板面と略同一な高さの所定の位置における露光光の光量を計測することができる。
具体的に光量センサ１８は、基板ステージ１７上に基板１６が載置された際の基板１６の基板面と略同一な高さの所定の位置における露光光の光量を計測することができる。
【0024】
露光量調整板１９は、例えば金属で形成されており、投影光学系４を通過した露光光の一部を遮光するように投影光学系４と基板１６との間に設けられている。
具体的に露光量調整板１９は、少なくとも非走査方向（Ｘ方向）に移動するための機構を有しており、遮光する露光光の光量を調整することで基板１６における露光量を調整することができる。
具体的に露光量調整板１９は、少なくとも非走査方向（Ｘ方向）に移動するための機構を有しており、遮光する露光光の光量を調整することで基板１６における露光量を調整することができる。
【0025】
制御部２０は、ＣＰＵやメモリ等を含んでおり、露光装置１００全体の制御を行うように構成されている。
具体的に制御部２０は、例えば後述する繋ぎ露光を行う際の露光量調整板１９の駆動を制御するように構成されている。
具体的に制御部２０は、例えば後述する繋ぎ露光を行う際の露光量調整板１９の駆動を制御するように構成されている。
【0026】
本実施形態に係る露光装置１００は、基板１６に対して繋ぎ露光を行うことができるように構成されている。
図２（ａ）乃至（ｃ）は、本実施形態に係る露光装置１００において行われる繋ぎ露光を説明するための図を示している。
図２（ａ）乃至（ｃ）は、本実施形態に係る露光装置１００において行われる繋ぎ露光を説明するための図を示している。
【0027】
具体的に図２（ａ）は、基板１６における第１の露光領域２２ａを露光する第１の露光での動作を示している基板１６の上面図である。
第１の露光では、原版３と基板１６とを互いに同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３によって第１の露光領域２２ａを露光している。
第１の露光では、原版３と基板１６とを互いに同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３によって第１の露光領域２２ａを露光している。
【0028】
図２（ｂ）は、第１の露光領域２２ａが露光された後の動作を示している基板１６の上面図である。
具体的に図２（ｂ）では、原版３と基板１６とを互いに同期させて非走査方向（Ｘ方向）に移動させており、この際、基板１６に対して露光は行われない。
なお、この際に原版３及び基板１６を非走査方向へ移動させる移動量は、第１の露光領域２２ａと第２の露光によって露光される第２の露光領域２２ｂとの間に露光されない領域が形成されないように、すなわち双方の一部が互いに重なるように決定される。
具体的に図２（ｂ）では、原版３と基板１６とを互いに同期させて非走査方向（Ｘ方向）に移動させており、この際、基板１６に対して露光は行われない。
なお、この際に原版３及び基板１６を非走査方向へ移動させる移動量は、第１の露光領域２２ａと第２の露光によって露光される第２の露光領域２２ｂとの間に露光されない領域が形成されないように、すなわち双方の一部が互いに重なるように決定される。
【0029】
図２（ｃ）は、基板１６における第２の露光領域２２ｂを露光する第２の露光での動作を示している基板１６の上面図である。
第２の露光では、原版３と基板１６とを互いに同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３によって第２の露光領域２２ｂを露光している。
ここで、第２の露光領域２２ｂは第１の露光領域２２ａと一部が重なるように露光されているため、第１の露光領域２２ａと第２の露光領域２２ｂとの間において互いに部分的に重複する繋ぎ領域２４（繋ぎ露光によって重複して露光される領域）が形成される。
第２の露光では、原版３と基板１６とを互いに同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３によって第２の露光領域２２ｂを露光している。
ここで、第２の露光領域２２ｂは第１の露光領域２２ａと一部が重なるように露光されているため、第１の露光領域２２ａと第２の露光領域２２ｂとの間において互いに部分的に重複する繋ぎ領域２４（繋ぎ露光によって重複して露光される領域）が形成される。
【0030】
すなわち第１の露光領域２２ａは、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域２５ａと第１の繋ぎ領域２４とを含んでいる（図３）。
また第２の露光領域２２ｂは、非走査方向に配列される、第１の繋ぎ領域２４に重なる第２の繋ぎ領域２４と第２の非繋ぎ領域２５ｂとを含んでいる（図３）。
なお、本実施形態に係る露光装置１００では第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂに対する二回の走査露光が行われているが、これに限らず三回以上の走査露光が行われても構わない。
また第２の露光領域２２ｂは、非走査方向に配列される、第１の繋ぎ領域２４に重なる第２の繋ぎ領域２４と第２の非繋ぎ領域２５ｂとを含んでいる（図３）。
なお、本実施形態に係る露光装置１００では第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂに対する二回の走査露光が行われているが、これに限らず三回以上の走査露光が行われても構わない。
【0031】
図３は、本実施形態に係る露光装置１００での第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂの繋ぎ露光による積算露光量及び合算積算露光量それぞれの非走査方向における位置依存性を示している。
ここで、所定の位置における積算露光量とは当該所定の位置に対して行われた一回の走査露光における露光量の積算値である。
また、所定の位置における合算積算露光量とは当該所定の位置に対して行われた各走査露光における露光量の積算値を合算したものである。
また図３では、第１の露光領域２２ａを露光した際の第１の非繋ぎ領域２５ａの積算露光量が１００パーセントの一定値を示すと共に、第２の露光領域２２ｂを露光した際の第２の非繋ぎ領域２５ｂの積算露光量が１００パーセントの一定値を示すとしている。
ここで、所定の位置における積算露光量とは当該所定の位置に対して行われた一回の走査露光における露光量の積算値である。
また、所定の位置における合算積算露光量とは当該所定の位置に対して行われた各走査露光における露光量の積算値を合算したものである。
また図３では、第１の露光領域２２ａを露光した際の第１の非繋ぎ領域２５ａの積算露光量が１００パーセントの一定値を示すと共に、第２の露光領域２２ｂを露光した際の第２の非繋ぎ領域２５ｂの積算露光量が１００パーセントの一定値を示すとしている。
【0032】
具体的に図３には、第１の露光による第１の露光領域２２ａにおける積算露光量の非走査方向位置依存性２６ａと、第２の露光による第２の露光領域２２ｂにおける積算露光量の非走査方向位置依存性２６ｂとが示されている。
また図３には、第１の露光による第１の露光領域２２ａにおける積算露光量（第１の積算露光量）と、第２の露光による第２の露光領域２２ｂにおける積算露光量（第２の積算露光量）との合算積算露光量の非走査方向位置依存性２６が示されている。
なお図３に示されている積算露光量の非走査方向位置依存性２６ａ及び２６ｂはそれぞれ、走査方向については互いに同一の所定の位置となっている。
また図３には、第１の露光による第１の露光領域２２ａにおける積算露光量（第１の積算露光量）と、第２の露光による第２の露光領域２２ｂにおける積算露光量（第２の積算露光量）との合算積算露光量の非走査方向位置依存性２６が示されている。
なお図３に示されている積算露光量の非走査方向位置依存性２６ａ及び２６ｂはそれぞれ、走査方向については互いに同一の所定の位置となっている。
【0033】
繋ぎ領域２４は、第１の露光領域２２ａに対する第１の露光及び第２の露光領域２２ｂに対する第２の露光によって重複して露光される。
そのため、第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂの全体にわたって合算積算露光量を均一にするためには、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を調整する必要がある。
そのため、第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂの全体にわたって合算積算露光量を均一にするためには、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を調整する必要がある。
【0034】
具体的には、第１の非繋ぎ領域２５ａでは積算露光量が略１００パーセントになる一方で、繋ぎ領域２４では積算露光量が第１の非繋ぎ領域２５ａとは反対側の端部で０パーセントに減少するように、第１の露光による第１の露光領域２２ａの積算露光量を調整する。
また、第２の非繋ぎ領域２５ｂでは積算露光量が略１００パーセントになる一方で、繋ぎ領域２４では積算露光量が第２の非繋ぎ領域２５ｂとは反対側の端部で０パーセントに減少するように、第２の露光による第２の露光領域２２ｂの積算露光量を調整する。
これにより、第１の非繋ぎ領域２５ａ、繋ぎ領域２４及び第２の非繋ぎ領域２５ｂそれぞれにおける合算積算露光量を互いに略同一にすることができる。
また、第２の非繋ぎ領域２５ｂでは積算露光量が略１００パーセントになる一方で、繋ぎ領域２４では積算露光量が第２の非繋ぎ領域２５ｂとは反対側の端部で０パーセントに減少するように、第２の露光による第２の露光領域２２ｂの積算露光量を調整する。
これにより、第１の非繋ぎ領域２５ａ、繋ぎ領域２４及び第２の非繋ぎ領域２５ｂそれぞれにおける合算積算露光量を互いに略同一にすることができる。
【0035】
次に、本実施形態に係る露光装置１００において繋ぎ領域２４の合算積算露光量を調整する具体的な方法について説明する。
【0036】
図４（ａ）は、本実施形態に係る露光装置１００において第１の露光領域２２ａを露光する際の可変スリット９に形成されている開口９ｐ及び露光量調整板１９ａと第１の露光領域２２ａとの間の配置関係（第１の構成）を示す上面図である。
本実施形態に係る露光装置１００では、露光量調整板１９として露光量調整板１９ａ及び露光量調整板１９ｂを設けている。
本実施形態に係る露光装置１００では、露光量調整板１９として露光量調整板１９ａ及び露光量調整板１９ｂを設けている。
【0037】
そして本実施形態に係る露光装置１００では、第１の露光の際に図４（ａ）に示されているように投影光学系４と基板１６との間の露光光の光路、すなわち可変スリット９の開口９ｐの一部を遮蔽するように露光量調整板１９ａを非走査方向（Ｘ方向）に挿入させる。
これにより、第１の露光によって第１の露光領域２２ａを露光する際の繋ぎ領域２４における露光量を低下させることができる。
これにより、第１の露光によって第１の露光領域２２ａを露光する際の繋ぎ領域２４における露光量を低下させることができる。
【0038】
図４（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００において第２の露光領域２２ｂを露光する際の可変スリット９に形成されている開口９ｐ及び露光量調整板１９ｂと第２の露光領域２２ｂとの間の配置関係（第２の構成）を示す上面図である。
本実施形態に係る露光装置１００では、第２の露光の際に図４（ｂ）に示されているように投影光学系４と基板１６との間の露光光の光路、すなわち可変スリット９の開口９ｐの一部を遮蔽するように露光量調整板１９ｂを非走査方向（Ｘ方向）に挿入させる。
これにより、第２の露光によって第２の露光領域２２ｂを露光する際の繋ぎ領域２４における露光量を低下させることができる。
本実施形態に係る露光装置１００では、第２の露光の際に図４（ｂ）に示されているように投影光学系４と基板１６との間の露光光の光路、すなわち可変スリット９の開口９ｐの一部を遮蔽するように露光量調整板１９ｂを非走査方向（Ｘ方向）に挿入させる。
これにより、第２の露光によって第２の露光領域２２ｂを露光する際の繋ぎ領域２４における露光量を低下させることができる。
【0039】
すなわち本実施形態に係る露光装置１００では、第１の露光及び第２の露光それぞれでの繋ぎ領域２４における露光量を露光量調整板１９ａ及び１９ｂの駆動の大きさによって調整することができる。
具体的に露光量調整板１９ａ及び１９ｂはそれぞれ、走査方向に対して交差する方向、すなわち走査方向及び非走査方向それぞれに対して非平行な方向に延びたエッジにより、繋ぎ領域２４における積算露光量を各非繋ぎ領域における積算露光量と同程度にできる。
具体的に露光量調整板１９ａ及び１９ｂはそれぞれ、走査方向に対して交差する方向、すなわち走査方向及び非走査方向それぞれに対して非平行な方向に延びたエッジにより、繋ぎ領域２４における積算露光量を各非繋ぎ領域における積算露光量と同程度にできる。
【0040】
そして基板１６の基板面上における積算露光量は、基板ステージ１７に設けられている光量センサ１８によって計測することができる。
具体的に光量センサ１８は、第１の露光については、図４（ａ）に示されている第１の計測範囲９ａにおいて第１の露光領域２２ａのうち繋ぎ領域２４と第１の非繋ぎ領域２５ａの一部とのそれぞれの積算露光量を計測する。
より具体的に光量センサ１８は、第１の露光については、繋ぎ領域２４に対応する領域（第４の領域）と、第１の非繋ぎ領域２５ａの一部に対応する領域（第３の領域）とのそれぞれにおける積算露光量を計測する。
具体的に光量センサ１８は、第１の露光については、図４（ａ）に示されている第１の計測範囲９ａにおいて第１の露光領域２２ａのうち繋ぎ領域２４と第１の非繋ぎ領域２５ａの一部とのそれぞれの積算露光量を計測する。
より具体的に光量センサ１８は、第１の露光については、繋ぎ領域２４に対応する領域（第４の領域）と、第１の非繋ぎ領域２５ａの一部に対応する領域（第３の領域）とのそれぞれにおける積算露光量を計測する。
【0041】
すなわち、光量センサ１８によって第１の計測範囲９ａにおける積算露光量を計測する際には、図４（ａ）に示されるように繋ぎ領域２４での非走査方向における露光量分布が０乃至１００パーセントの間で連続的となるように予め露光量調整板１９ａを挿入する。
そして、走査方向においては所定の位置であり、且つ非走査方向においては繋ぎ領域２４の第１の非繋ぎ領域２５ａとは反対側の端部に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を駆動した後、光量センサ１８によって当該端部の積算露光量を計測する。
そして、走査方向においては所定の位置であり、且つ非走査方向においては繋ぎ領域２４の第１の非繋ぎ領域２５ａとは反対側の端部に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を駆動した後、光量センサ１８によって当該端部の積算露光量を計測する。
【0042】
次に、上記端部から非走査方向の第１の非繋ぎ領域２５ａ側に所定の距離だけ離隔した位置に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を非走査方向にステップ駆動させた後、光量センサ１８によって当該位置の積算露光量を計測する。
そして、光量センサ１８が第１の計測範囲９ａの第１の非繋ぎ領域２５ａ側端部に配置されるまで上記のステップ駆動及び計測を繰り返すことで、第１の計測範囲９ａにおける積算露光量を計測することができる。
そして、光量センサ１８が第１の計測範囲９ａの第１の非繋ぎ領域２５ａ側端部に配置されるまで上記のステップ駆動及び計測を繰り返すことで、第１の計測範囲９ａにおける積算露光量を計測することができる。
【0043】
また光量センサ１８は、第２の露光については、図４（ｂ）に示されている第２の計測範囲９ｂにおいて第２の露光領域２２ｂのうち繋ぎ領域２４と第２の非繋ぎ領域２５ｂの一部とのそれぞれの積算露光量を計測する。
より具体的に光量センサ１８は、第２の露光については、繋ぎ領域２４に対応する領域と、第２の非繋ぎ領域２５ｂの一部に対応する領域とのそれぞれにおける積算露光量を計測する。
より具体的に光量センサ１８は、第２の露光については、繋ぎ領域２４に対応する領域と、第２の非繋ぎ領域２５ｂの一部に対応する領域とのそれぞれにおける積算露光量を計測する。
【0044】
すなわち、光量センサ１８によって第２の計測範囲９ｂにおける積算露光量を計測する際には、図４（ｂ）に示されるように繋ぎ領域２４での非走査方向における露光量分布が０乃至１００パーセントの間で連続的となるように予め露光量調整板１９ｂを挿入する。
そして、走査方向においては所定の位置であり、且つ非走査方向においては繋ぎ領域２４の第２の非繋ぎ領域２５ｂとは反対側の端部に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を駆動した後、光量センサ１８によって当該端部の積算露光量を計測する。
そして、走査方向においては所定の位置であり、且つ非走査方向においては繋ぎ領域２４の第２の非繋ぎ領域２５ｂとは反対側の端部に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を駆動した後、光量センサ１８によって当該端部の積算露光量を計測する。
【0045】
次に、上記端部から非走査方向の第２の非繋ぎ領域２５ｂ側に所定の距離だけ離隔した位置に光量センサ１８が配置されるように基板ステージ１７を非走査方向にステップ駆動させた後、光量センサ１８によって当該位置の積算露光量を計測する。
そして、光量センサ１８が第２の計測範囲９ｂの第２の非繋ぎ領域２５ｂ側端部に配置されるまで上記のステップ駆動及び計測を繰り返すことで、第２の計測範囲９ｂにおける積算露光量を計測することができる。
そして、光量センサ１８が第２の計測範囲９ｂの第２の非繋ぎ領域２５ｂ側端部に配置されるまで上記のステップ駆動及び計測を繰り返すことで、第２の計測範囲９ｂにおける積算露光量を計測することができる。
【0046】
図５は、本実施形態に係る露光装置１００での第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量の非走査方向における位置依存性を示している。
そして図６（ａ）は、本実施形態に係る露光装置１００において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャートである。
なお、当該フローチャートにおける各ステップは、制御部２０によって実行される。
そして図６（ａ）は、本実施形態に係る露光装置１００において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャートである。
なお、当該フローチャートにおける各ステップは、制御部２０によって実行される。
【0047】
まず処理が開始されると、第１の露光領域２２ａを露光する構成において第１の露光領域２２ａに対応する領域（第１の領域）を露光させながら光量センサ１８によって第１の計測範囲９ａの積算露光量を計測する（ステップＳ１１）。
またステップＳ１１では、第２の露光領域２２ｂを露光する構成において第２の露光領域２２ｂに対応する領域（第２の領域）を露光させながら光量センサ１８によって第２の計測範囲９ｂの積算露光量を計測する。
またステップＳ１１では、第２の露光領域２２ｂを露光する構成において第２の露光領域２２ｂに対応する領域（第２の領域）を露光させながら光量センサ１８によって第２の計測範囲９ｂの積算露光量を計測する。
【0048】
次に、繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定するためのトレランス値を決定する（ステップＳ１２）。
具体的にステップＳ１２では、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂそれぞれにおいて計測された積算露光量（合算積算露光量）から上記トレランス値を決定する。
具体的にステップＳ１２では、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂそれぞれにおいて計測された積算露光量（合算積算露光量）から上記トレランス値を決定する。
【0049】
より具体的にステップＳ１２では、まず図５に示されているように、第１の非繋ぎ領域２５ａにおいて計測された積算露光量と第２の非繋ぎ領域２５ｂにおいて計測された積算露光量とのうちの最大値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋に設定する。
なお、例えば当該最大値に対して当該最大値の０．５％の値を加算した値、換言すると当該最大値の１．００５倍の値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋（第２のプラス側トレランス値、第２のトレランス値）に設定しても構わない。
なお、例えば当該最大値に対して当該最大値の０．５％の値を加算した値、換言すると当該最大値の１．００５倍の値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋（第２のプラス側トレランス値、第２のトレランス値）に設定しても構わない。
【0050】
また、第１の非繋ぎ領域２５ａにおいて計測された積算露光量と第２の非繋ぎ領域２５ｂにおいて計測された積算露光量とのうちの最小値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－（第２のマイナス側トレランス値、第２のトレランス値）に設定する。
なお、例えば当該最小値から当該最小値の０．５％の値を減算した値、換言すると当該最小値の０．９９５倍の値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に設定しても構わない。
なお、例えば当該最小値から当該最小値の０．５％の値を減算した値、換言すると当該最小値の０．９９５倍の値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に設定しても構わない。
【0051】
また第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－は、上記のように露光装置１００において計測された第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量から決定されることが好ましいが、これに限られない。
すなわち、他の装置において取得された所定の計測値を用いて第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を決定しても構わない。
すなわち、他の装置において取得された所定の計測値を用いて第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を決定しても構わない。
【0052】
次に、繋ぎ領域２４において計測された合算積算露光量からプラス側特徴点を決定する（ステップＳ１３、決定工程）。
具体的にステップＳ１３では、図５に示されているように、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回るプラス側特徴点３０ａ及び３０ｂを決定する。
なお図５に示されているように、互いに連続する複数の位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回っている場合には、当該複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置をプラス側特徴点に設定すればよい。
具体的にステップＳ１３では、図５に示されているように、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回るプラス側特徴点３０ａ及び３０ｂを決定する。
なお図５に示されているように、互いに連続する複数の位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回っている場合には、当該複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置をプラス側特徴点に設定すればよい。
【0053】
次に、繋ぎ領域２４において計測された合算積算露光量からマイナス側特徴点を決定する（ステップＳ１４、決定工程）。
具体的にステップＳ１４では、図５に示されているように、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回るマイナス側特徴点３１ａを決定する。
なお図５に示されているように、互いに連続する複数の位置における合算積算露光量が第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回っている場合には、当該複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置をマイナス側特徴点に設定すればよい。
具体的にステップＳ１４では、図５に示されているように、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回るマイナス側特徴点３１ａを決定する。
なお図５に示されているように、互いに連続する複数の位置における合算積算露光量が第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回っている場合には、当該複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置をマイナス側特徴点に設定すればよい。
【0054】
そしてプラス側特徴点３０ａ、３０ｂとマイナス側特徴点３１ａとを、第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂを露光した際の開口９ｐにおける繋ぎ領域２４に対応する位置と照明光学系１の設定とに対応付けて保存（記憶）する（ステップＳ１５）。その後、処理を終了する。
具体的に開口９ｐにおける繋ぎ領域２４に対応する位置とは、非走査方向における開口９ｐに対する繋ぎ領域２４の相対位置とすることができる。
具体的に開口９ｐにおける繋ぎ領域２４に対応する位置とは、非走査方向における開口９ｐに対する繋ぎ領域２４の相対位置とすることができる。
【0055】
またここでいう照明光学系１の設定には、例えば光源５の種類、及び光源５から射出される光の光量を調整するフィルターの数や組み合わせ等の光源５のモードが含まれる。
このようにして、第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量が露光装置１００における繋ぎ位置の情報と関連付けられて制御部２０によって管理される。
このようにして、第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量が露光装置１００における繋ぎ位置の情報と関連付けられて制御部２０によって管理される。
【0056】
そして本実施形態に係る露光装置１００では、上記において決定されたプラス側特徴点３０ａ、３０ｂ及びマイナス側特徴点３１ａ（少なくとも一つの位置）のような特徴点における合算積算露光量を計測することで繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する。
図６（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する処理を示すフローチャートである。
図６（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する処理を示すフローチャートである。
【0057】
まず、露光装置１００において第１の露光領域２２ａを露光する構成で繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれを露光する（第３の露光）。そして、繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれにおける積算露光量を光量センサ１８によって計測させる（ステップＳ２１）。
次に、露光装置１００において第２の露光領域２２ｂを露光する構成で繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれを露光する（第４の露光）。そして、繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれにおける積算露光量を光量センサ１８によって計測させる（ステップＳ２２）。
次に、露光装置１００において第２の露光領域２２ｂを露光する構成で繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれを露光する（第４の露光）。そして、繋ぎ領域２４のプラス側特徴点及びマイナス側特徴点それぞれにおける積算露光量を光量センサ１８によって計測させる（ステップＳ２２）。
【0058】
そして、上記のように計測された繋ぎ領域２４のプラス側特徴点における二つの積算露光量の合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋（第１のプラス側トレランス値、第１のトレランス値）を上回っているか判定する（ステップＳ２３、比較工程）。
なお当該第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋は、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂの合算積算露光量と比較した際に繋ぎ領域２４の合算積算露光量において求められる精度に応じて決定することができる。
換言すると当該第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋は、第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋より大きく、露光装置１００の繋ぎ露光において求められる露光性能に応じて決定することができる。
なお当該第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋は、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂの合算積算露光量と比較した際に繋ぎ領域２４の合算積算露光量において求められる精度に応じて決定することができる。
換言すると当該第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋は、第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋より大きく、露光装置１００の繋ぎ露光において求められる露光性能に応じて決定することができる。
【0059】
もし、当該プラス側特徴点における合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋を上回っていない場合には（ステップＳ２３のＮｏ）、ステップＳ２４に移行する。
一方、当該プラス側特徴点における合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋を上回っている場合には（ステップＳ２３のＹｅｓ）、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であると判定し（ステップＳ２５、判定工程）、処理を終了する。
一方、当該プラス側特徴点における合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋を上回っている場合には（ステップＳ２３のＹｅｓ）、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であると判定し（ステップＳ２５、判定工程）、処理を終了する。
【0060】
次にステップＳ２４では、上記のように計測された繋ぎ領域２４のマイナス側特徴点における二つの積算露光量の合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－を下回っているか判定する（比較工程）。
なお当該第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－は、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂの積算露光量と比較した際に繋ぎ領域２４の合算積算露光量において求められる精度に応じて決定することができる。
換言すると当該第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－（第１のマイナス側トレランス値、第１のトレランス値）は、第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－より小さく、露光装置１００の繋ぎ露光において求められる露光性能に応じて決定することができる。
なお当該第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－は、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂの積算露光量と比較した際に繋ぎ領域２４の合算積算露光量において求められる精度に応じて決定することができる。
換言すると当該第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－（第１のマイナス側トレランス値、第１のトレランス値）は、第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－より小さく、露光装置１００の繋ぎ露光において求められる露光性能に応じて決定することができる。
【0061】
もし、当該マイナス側特徴点における合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－を下回っていない場合には（ステップＳ２４のＮｏ）、ステップＳ２１に移行した後、処理を継続する。
一方、当該マイナス側特徴点における合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－を下回っている場合には（ステップＳ２４のＹｅｓ）、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であると判定し（ステップＳ２５）、処理を終了する。
一方、当該マイナス側特徴点における合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－を下回っている場合には（ステップＳ２４のＹｅｓ）、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であると判定し（ステップＳ２５）、処理を終了する。
【0062】
そしてプラス側特徴点の合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋以下であると共にマイナス側特徴点の合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－以上である時、第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂに対する繋ぎ露光が行われる。
すなわち、本実施形態に係る露光装置１００における繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する処理は、露光装置１００において繋ぎ露光を行う度に当該繋ぎ露光の直前に行ってもよい。
また当該判定する処理は、製品レイアウトが変更された際に行ってもよく、所定の時間が経過する度に行っても構わない。
すなわち、本実施形態に係る露光装置１００における繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する処理は、露光装置１００において繋ぎ露光を行う度に当該繋ぎ露光の直前に行ってもよい。
また当該判定する処理は、製品レイアウトが変更された際に行ってもよく、所定の時間が経過する度に行っても構わない。
【0063】
また、繋ぎ領域２４の露光量の調整（調整工程）は、繋ぎ領域２４内の複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最大値と、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量の平均値との間の差の絶対値を小さくするように行われる。
加えて当該調整は、繋ぎ領域２４内の複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最小値と、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量の平均値との間の差の絶対値を小さくするように行われる。
加えて当該調整は、繋ぎ領域２４内の複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最小値と、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量の平均値との間の差の絶対値を小さくするように行われる。
【0064】
すなわち当該調整では、上記の差が小さくなるように露光装置１００の構成、具体的には第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂを露光する際の可変スリット９に形成されている開口９ｐと露光量調整板１９ａ及び１９ｂとのそれぞれの位置が調整される。
なお当該調整における繋ぎ領域２４内の合算積算露光量の計測位置の数は、当該調整の精度に応じて決定してもよく、当該調整を繋ぎ領域２４内の上記プラス側特徴点及び上記マイナス側特徴点において計測された合算積算露光量を用いて行っても構わない。
なお当該調整における繋ぎ領域２４内の合算積算露光量の計測位置の数は、当該調整の精度に応じて決定してもよく、当該調整を繋ぎ領域２４内の上記プラス側特徴点及び上記マイナス側特徴点において計測された合算積算露光量を用いて行っても構わない。
【0065】
以上のように本実施形態に係る露光装置１００では、まず上記のように決定された第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に基づいて繋ぎ領域２４におけるプラス側特徴点及びマイナス側特徴点を含む特徴点を決定する。
具体的に本実施形態に係る露光装置１００では、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける光量センサ１８による積算露光量の計測結果から第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－が決定される。
そして、当該決定された第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－と、繋ぎ領域２４における光量センサ１８による合算積算露光量の計測結果とを互いに比較することで、繋ぎ領域２４における特徴点を決定する。
具体的に本実施形態に係る露光装置１００では、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける光量センサ１８による積算露光量の計測結果から第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－が決定される。
そして、当該決定された第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－と、繋ぎ領域２４における光量センサ１８による合算積算露光量の計測結果とを互いに比較することで、繋ぎ領域２４における特徴点を決定する。
【0066】
また本実施形態に係る露光装置１００では、当該決定された特徴点における光量センサ１８による合算積算露光量の計測結果と、第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋及び第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－とを互いに比較する。
そして、当該比較に基づいて繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
そして、当該比較に基づいて繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
【0067】
このように本実施形態に係る露光装置１００では、当該判定を行う際の繋ぎ領域２４内の合算積算露光量の計測位置の数が低減されることによって計測時間が低減することでスループットを向上させることができる。
すなわち本実施形態によれば、繋ぎ領域２４の合算積算露光量の計測における精度及び処理時間の双方において有利な露光装置を提供することができる。
すなわち本実施形態によれば、繋ぎ領域２４の合算積算露光量の計測における精度及び処理時間の双方において有利な露光装置を提供することができる。
【0068】
［第二実施形態］
図７（ａ）は、第二実施形態に係る露光装置での第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量の非走査方向における位置依存性を示している。
なお本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成を有しているため、同一の部材には同一の符番を付し、説明を省略する。
図７（ａ）は、第二実施形態に係る露光装置での第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量の非走査方向における位置依存性を示している。
なお本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成を有しているため、同一の部材には同一の符番を付し、説明を省略する。
【0069】
本実施形態に係る露光装置は、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回るプラス側特徴点及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回るマイナス側特徴点が取得されない場合に以下の処理を行う。
図８は、本実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャートである。
なお、当該フローチャートにおける各ステップは、制御部２０によって実行される。
図８は、本実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャートである。
なお、当該フローチャートにおける各ステップは、制御部２０によって実行される。
【0070】
まず処理が開始されると、第一実施形態に係る露光装置１００におけるステップＳ１１と同様に、第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおける合算積算露光量を計測する（ステップＳ３１）。
次に、繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測されるプラス側特徴点を決定するための第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を決定する（ステップＳ３２）。
次に、繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測されるプラス側特徴点を決定するための第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を決定する（ステップＳ３２）。
【0071】
すなわちステップＳ３２では、第１の非繋ぎ領域２５ａにおいて計測された積算露光量と第２の非繋ぎ領域２５ｂにおいて計測された積算露光量とのうちの最大値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋に設定する。
なお、例えば当該最大値に対して当該最大値の０．５％の値を加算した値、換言すると当該最大値の１．００５倍の値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋に設定しても構わない。
なお、例えば当該最大値に対して当該最大値の０．５％の値を加算した値、換言すると当該最大値の１．００５倍の値を第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋に設定しても構わない。
【0072】
次に、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋を上回るプラス側特徴点（第１の位置）が有るか、すなわち当該プラス側特徴点が決定可能か判定する（ステップＳ３３）。
もし、当該プラス側特徴点が有る場合には（ステップＳ３３のＹｅｓ）、第一実施形態に係る露光装置１００におけるステップＳ１３と同様にプラス側特徴点を決定し（ステップＳ３４）、ステップＳ３６に移行する。
一方、図７（ａ）に示されているように当該プラス側特徴点が無い場合には（ステップＳ３３のＮｏ）、ステップＳ３５に移行する。
もし、当該プラス側特徴点が有る場合には（ステップＳ３３のＹｅｓ）、第一実施形態に係る露光装置１００におけるステップＳ１３と同様にプラス側特徴点を決定し（ステップＳ３４）、ステップＳ３６に移行する。
一方、図７（ａ）に示されているように当該プラス側特徴点が無い場合には（ステップＳ３３のＮｏ）、ステップＳ３５に移行する。
【0073】
ステップＳ３５では、図４（ａ）及び（ｂ）に示すような露光量調整板１９ａ及び１９ｂの位置を、可変スリット９の開口９ｐによる露光領域において遮光されている領域を低減させるように非走査方向に所定の距離だけシフトさせた後、ステップＳ３１に戻る。
これにより、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を増大させることができる。
これにより、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を増大させることができる。
【0074】
図７（ｂ）は、ステップＳ３５における露光量調整板１９ａ及び１９ｂの位置の非走査方向におけるシフトを少なくとも一回行った後の第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量の非走査方向における位置依存性を示している。
図７（ｂ）に示されているように、図７（ａ）に示されている場合に比べて、繋ぎ領域２４における合算積算露光量が全体的に増大していることがわかる。
そして、図７（ｂ）に示されているような繋ぎ領域２４の合算積算露光量の非走査方向における位置依存性からステップＳ３４においてプラス側特徴点３０ａ及び３０ｂを決定することができる。
図７（ｂ）に示されているように、図７（ａ）に示されている場合に比べて、繋ぎ領域２４における合算積算露光量が全体的に増大していることがわかる。
そして、図７（ｂ）に示されているような繋ぎ領域２４の合算積算露光量の非走査方向における位置依存性からステップＳ３４においてプラス側特徴点３０ａ及び３０ｂを決定することができる。
【0075】
次にステップＳ３６では、ステップＳ３１と同様に第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおける合算積算露光量を計測する。
次に、繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測されるマイナス側特徴点を決定するための第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を決定する（ステップＳ３７）。
次に、繋ぎ領域２４の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測されるマイナス側特徴点を決定するための第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を決定する（ステップＳ３７）。
【0076】
すなわちステップＳ３７では、第１の非繋ぎ領域２５ａにおいて計測された積算露光量と第２の非繋ぎ領域２５ｂにおいて計測された積算露光量とのうちの最小値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に設定する。
なお、例えば当該最小値から当該最小値の０．５％の値を減算した値、換言すると当該最小値の０．９９５倍の値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に設定しても構わない。
なお、例えば当該最小値から当該最小値の０．５％の値を減算した値、換言すると当該最小値の０．９９５倍の値を第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に設定しても構わない。
【0077】
次に、計測された繋ぎ領域２４の合算積算露光量において第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－を下回るマイナス側特徴点（第２の位置）が有るか、すなわち当該マイナス側特徴点が決定可能か判定する（ステップＳ３８）。
もし、当該マイナス側特徴点が有る場合には（ステップＳ３８のＹｅｓ）、第一実施形態に係る露光装置１００におけるステップＳ１４と同様にマイナス側特徴点を決定し（ステップＳ３９）、ステップＳ４１に移行する。
一方、図７（ａ）に示されているように当該マイナス側特徴点が無い場合には（ステップＳ３８のＮｏ）、ステップＳ４０に移行する。
もし、当該マイナス側特徴点が有る場合には（ステップＳ３８のＹｅｓ）、第一実施形態に係る露光装置１００におけるステップＳ１４と同様にマイナス側特徴点を決定し（ステップＳ３９）、ステップＳ４１に移行する。
一方、図７（ａ）に示されているように当該マイナス側特徴点が無い場合には（ステップＳ３８のＮｏ）、ステップＳ４０に移行する。
【0078】
ステップＳ４０では、図４（ａ）及び（ｂ）に示すような露光量調整板１９ａ及び１９ｂの位置を、可変スリット９の開口９ｐによる露光領域において遮光されている領域を増大させるように非走査方向に所定の距離だけシフトさせた後、ステップＳ３６に戻る。
これにより、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を低減させることができる。
これにより、繋ぎ領域２４における合算積算露光量を低減させることができる。
【0079】
図７（ｃ）は、ステップＳ４０における露光量調整板１９ａ及び１９ｂの位置の非走査方向におけるシフトを少なくとも一回行った後の第１の計測範囲９ａ及び第２の計測範囲９ｂにおいて計測された合算積算露光量の非走査方向における位置依存性を示している。
図７（ｃ）に示されているように、図７（ａ）に示されている場合に比べて、繋ぎ領域２４における合算積算露光量が全体的に低減されていることがわかる。
そして、図７（ｃ）に示されているような繋ぎ領域２４の合算積算露光量の非走査方向における位置依存性からステップＳ３９においてマイナス側特徴点３１ａを決定することができる。
図７（ｃ）に示されているように、図７（ａ）に示されている場合に比べて、繋ぎ領域２４における合算積算露光量が全体的に低減されていることがわかる。
そして、図７（ｃ）に示されているような繋ぎ領域２４の合算積算露光量の非走査方向における位置依存性からステップＳ３９においてマイナス側特徴点３１ａを決定することができる。
【0080】
最後にステップＳ４１において、プラス側特徴点３０ａ及び３０ｂとマイナス側特徴点３１ａとを、第１の露光領域２２ａ及び第２の露光領域２２ｂを露光した際の開口９ｐにおける繋ぎ領域２４に対応する位置と照明光学系１の設定とに対応付けて保存する。その後、処理を終了する。
そして本実施形態に係る露光装置においても、第一実施形態に係る露光装置１００と同様にステップＳ２１乃至Ｓ２５を行うことで、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
そして本実施形態に係る露光装置においても、第一実施形態に係る露光装置１００と同様にステップＳ２１乃至Ｓ２５を行うことで、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
【0081】
以上のように本実施形態に係る露光装置では、まず上記のように決定された第１のプラス側トレランス値Ｔ１＋及び第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に基づいて繋ぎ領域２４におけるプラス側特徴点及びマイナス側特徴点を含む特徴点を決定する。
そして、当該決定された特徴点において計測された合算積算露光量と、第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋及び第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－とを互いに比較することで、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
これにより、当該判定を行う際の繋ぎ領域２４における合算積算露光量の計測時間が低減することでスループットを向上させることができる。
そして、当該決定された特徴点において計測された合算積算露光量と、第２のプラス側トレランス値Ｔ２＋及び第２のマイナス側トレランス値Ｔ２－とを互いに比較することで、繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定する。
これにより、当該判定を行う際の繋ぎ領域２４における合算積算露光量の計測時間が低減することでスループットを向上させることができる。
【0082】
また本実施形態に係る露光装置では、上記のようにプラス側特徴点及びマイナス側特徴点を含む特徴点を決定することができない場合に、当該特徴点を決定することができるように露光量調整板１９の位置をシフトさせることで繋ぎ領域２４の露光量を調整している。
これにより、様々な繋ぎ露光に対応させながら繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定することができる。
これにより、様々な繋ぎ露光に対応させながら繋ぎ領域２４の露光量の調整が必要であるか判定することができる。
【0083】
なお本実施形態に係る露光装置では、上記のように第１のマイナス側トレランス値Ｔ１－に基づいて繋ぎ領域２４におけるマイナス側特徴点を決定できない場合に、繋ぎ領域２４の非走査方向における中央位置をマイナス側特徴点に設定しても上記の効果が得られる。
また本実施形態において、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量はほぼ一定となるよう露光が行われる。
また本実施形態において、第１の非繋ぎ領域２５ａ及び第２の非繋ぎ領域２５ｂにおける積算露光量はほぼ一定となるよう露光が行われる。
【0084】
以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限られず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
また本実施形態には、上記の第一実施形態及び第二実施形態のいずれかに係る露光装置に加えて、上記に示した処理を行う露光方法も含まれる。
また本実施形態には、上記の第一実施形態及び第二実施形態のいずれかに係る露光装置に加えて、上記に示した処理を行う露光方法も含まれる。
【0085】
［物品の製造方法］
次に、本実施形態に係る露光装置を用いた物品の製造方法について説明する。
次に、本実施形態に係る露光装置を用いた物品の製造方法について説明する。
【0086】
ここで製造される物品としては、半導体デバイス、表示デバイス、カラーフィルタ、光学部品及び微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）等が含まれる。
例えば半導体デバイスは、ウエハに回路パターンを作るための前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させるための加工工程を含む後工程とを経ることにより製造される。
例えば半導体デバイスは、ウエハに回路パターンを作るための前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させるための加工工程を含む後工程とを経ることにより製造される。
【0087】
前工程は、本実施形態に係る露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する露光工程と、当該露光工程によって露光された感光剤を現像する現像工程とを含む。
そして、ウエハに対して現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等を行うことで、当該ウエハ上に回路パターンが形成される。
そして、ウエハに対して現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等を行うことで、当該ウエハ上に回路パターンが形成される。
【0088】
これらの露光、現像及びエッチング等の工程を繰り返して、ウエハ上に複数の層からなる回路パターンが形成される。
後工程では、回路パターンが形成されたウエハ上に対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング及び検査工程が行われる。
後工程では、回路パターンが形成されたウエハ上に対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング及び検査工程が行われる。
【0089】
表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。
透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラスウエハ上に感光剤を塗布する工程と、本実施形態に係る露光装置を使用して当該感光剤が塗布されたガラスウエハを露光する工程と、当該露光された感光剤を現像する工程とを含む。
透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラスウエハ上に感光剤を塗布する工程と、本実施形態に係る露光装置を使用して当該感光剤が塗布されたガラスウエハを露光する工程と、当該露光された感光剤を現像する工程とを含む。
【0090】
本実施形態に係る物品の製造方法によれば、従来よりも高品位且つ高生産性の物品を製造することができる。
【0091】
本実施形態の開示は、以下の構成及び方法を含む。
（構成１）原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板を保持しながら走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、露光を制御する制御部とを備え、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、制御部は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
（構成２）第２のトレランス値は、第１の露光領域を露光する際の露光装置の第１の構成において基板ステージ上の第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に第１の領域において計測される露光量を積算することによって取得される積算露光量と、第２の露光領域を露光する際の露光装置の第２の構成において基板ステージ上の第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に第２の領域において取得される積算露光量とのうち、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、第３の領域において取得される積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含むことを特徴とする構成１に記載の露光装置。
（構成３）少なくとも一つの位置は、非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置と、非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置とを含み、合算積算露光量は、第１の露光の際に取得される第１の積算露光量と、第２の露光の際に取得される第２の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする構成２に記載の露光装置。
（構成４）判定工程は、第１の構成において少なくとも一つの位置を露光させる第３の露光を行うことで少なくとも一つの位置における第１の積算露光量を取得する工程と、第２の構成において少なくとも一つの位置を露光させる第４の露光を行うことで少なくとも一つの位置における第２の積算露光量を取得する工程と、少なくとも一つの位置における第１の積算露光量及び第２の積算露光量の合算積算露光量と第１のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする構成２または３に記載の露光装置。
（構成５）第１のトレランス値は、露光装置の露光性能に基づいて決定されると共に、第２のプラス側トレランス値より大きい第１のプラス側トレランス値と、露光性能に基づいて決定されると共に、第２のマイナス側トレランス値より小さい第１のマイナス側トレランス値とを含み、判定工程は、少なくとも一つの位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値以下であり、且つ第１のマイナス側トレランス値以上である場合に制御部によって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする構成４に記載の露光装置。
（構成６）判定工程は、少なくとも一つの位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値を上回っているか、若しくは第１のマイナス側トレランス値を下回っている場合に露光装置の構成を調整する調整工程を含むことを特徴とする構成５に記載の露光装置。
（構成７）調整工程は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域内の複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最大値と第３の領域における積算露光量の平均値との間の差の絶対値、及び複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最小値と平均値との間の差の絶対値が小さくなるように露光装置の構成を調整する工程を含むことを特徴とする構成６に記載の露光装置。
（構成８）複数の位置は、少なくとも一つの位置であることを特徴とする構成７に記載の露光装置。
（構成９）判定工程は、第１の露光領域を露光する際の露光装置の第１の構成において基板ステージ上の第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域において計測される露光量を積算することによって取得される第１の積算露光量と、第２の露光領域を露光する際の露光装置の第２の構成において基板ステージ上の第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に第４の領域において取得される第２の積算露光量との合算積算露光量と、第２のトレランス値とを互いに比較することで少なくとも一つの位置を決定する決定工程を含むことを特徴とする構成１乃至８のいずれか一項に記載の露光装置。
（構成１０）第２のトレランス値は、第１の露光の際に第１の領域において取得される積算露光量と、第２の露光の際に第２の領域において取得される積算露光量とのうち、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、第３の領域において取得される積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含み、決定工程は、第４の領域内において、非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置と、非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする構成９に記載の露光装置。
（構成１１）決定工程は、第１の露光及び第２の露光を行う工程と、第１の領域における積算露光量及び第２の領域における積算露光量を取得する工程と、第４の領域における合算積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１０に記載の露光装置。
（構成１２）決定工程は、第２のプラス側トレランス値及び第２のマイナス側トレランス値をそれぞれ、第３の領域における積算露光量の最大値及び最小値として決定する工程を含むことを特徴とする構成１１に記載の露光装置。
（構成１３）決定工程は、合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る第１の位置が検出されるか判定する工程と、第１の位置が検出されないと判定された際に、第４の領域における露光量が増大するように第１の構成及び第２の構成を調整する工程と、調整された第１の構成において第１の露光を行うことで第４の領域における第１の積算露光量を取得する工程と、調整された第２の構成において第２の露光を行うことで第４の領域における第２の積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１２に記載の露光装置。
（構成１４）決定工程は、合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る第２の位置が検出されるか判定する工程と、第２の位置が検出されないと判定された際に、第４の領域における露光量が減少するように第１の構成及び第２の構成を調整する工程と、調整された第１の構成において第１の露光を行うことで第４の領域における第１の積算露光量を取得する工程と、調整された第２の構成において第２の露光を行うことで第４の領域における第２の積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１２または１３に記載の露光装置。
（構成１５）光を射出する光源と、光源からの光が通過する開口が形成されている遮光部とを含み、露光光を原版に導光する照明光学系を備え、決定工程は、決定された少なくとも一つの位置と、光源の種類、光源のモード及び非走査方向における開口に対する第４の領域の相対位置のうち少なくとも一つとを互いに対応付けて制御部によって記憶させる工程を含むことを特徴とする構成９乃至１４のいずれか一項に記載の露光装置。
（構成１６）非走査方向に移動することによって露光光の少なくとも一部を遮光することで、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における露光量を調整する露光量調整部を含み、原版を通過した露光光を基板に導光する投影光学系を備えることを特徴とする構成１乃至１５のいずれか一項に記載の露光装置。
（方法１）構成１乃至１６のいずれか一項に記載の露光装置によって基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを含むことを特徴とする物品の製造方法。
（方法２）基板を保持しながら基板の基板面に平行な走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部とを備える露光装置において原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板面上に投影し、基板を露光する露光方法であって、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、露光方法は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を含み、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光方法。
（構成１）原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板を保持しながら走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、露光を制御する制御部とを備え、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、制御部は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
（構成２）第２のトレランス値は、第１の露光領域を露光する際の露光装置の第１の構成において基板ステージ上の第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に第１の領域において計測される露光量を積算することによって取得される積算露光量と、第２の露光領域を露光する際の露光装置の第２の構成において基板ステージ上の第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に第２の領域において取得される積算露光量とのうち、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、第３の領域において取得される積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含むことを特徴とする構成１に記載の露光装置。
（構成３）少なくとも一つの位置は、非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置と、非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置とを含み、合算積算露光量は、第１の露光の際に取得される第１の積算露光量と、第２の露光の際に取得される第２の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする構成２に記載の露光装置。
（構成４）判定工程は、第１の構成において少なくとも一つの位置を露光させる第３の露光を行うことで少なくとも一つの位置における第１の積算露光量を取得する工程と、第２の構成において少なくとも一つの位置を露光させる第４の露光を行うことで少なくとも一つの位置における第２の積算露光量を取得する工程と、少なくとも一つの位置における第１の積算露光量及び第２の積算露光量の合算積算露光量と第１のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする構成２または３に記載の露光装置。
（構成５）第１のトレランス値は、露光装置の露光性能に基づいて決定されると共に、第２のプラス側トレランス値より大きい第１のプラス側トレランス値と、露光性能に基づいて決定されると共に、第２のマイナス側トレランス値より小さい第１のマイナス側トレランス値とを含み、判定工程は、少なくとも一つの位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値以下であり、且つ第１のマイナス側トレランス値以上である場合に制御部によって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする構成４に記載の露光装置。
（構成６）判定工程は、少なくとも一つの位置における合算積算露光量が第１のプラス側トレランス値を上回っているか、若しくは第１のマイナス側トレランス値を下回っている場合に露光装置の構成を調整する調整工程を含むことを特徴とする構成５に記載の露光装置。
（構成７）調整工程は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域内の複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最大値と第３の領域における積算露光量の平均値との間の差の絶対値、及び複数の位置それぞれにおける合算積算露光量の最小値と平均値との間の差の絶対値が小さくなるように露光装置の構成を調整する工程を含むことを特徴とする構成６に記載の露光装置。
（構成８）複数の位置は、少なくとも一つの位置であることを特徴とする構成７に記載の露光装置。
（構成９）判定工程は、第１の露光領域を露光する際の露光装置の第１の構成において基板ステージ上の第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域において計測される露光量を積算することによって取得される第１の積算露光量と、第２の露光領域を露光する際の露光装置の第２の構成において基板ステージ上の第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に第４の領域において取得される第２の積算露光量との合算積算露光量と、第２のトレランス値とを互いに比較することで少なくとも一つの位置を決定する決定工程を含むことを特徴とする構成１乃至８のいずれか一項に記載の露光装置。
（構成１０）第２のトレランス値は、第１の露光の際に第１の領域において取得される積算露光量と、第２の露光の際に第２の領域において取得される積算露光量とのうち、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、第３の領域において取得される積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含み、決定工程は、第４の領域内において、非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も大きい位置と、非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする構成９に記載の露光装置。
（構成１１）決定工程は、第１の露光及び第２の露光を行う工程と、第１の領域における積算露光量及び第２の領域における積算露光量を取得する工程と、第４の領域における合算積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１０に記載の露光装置。
（構成１２）決定工程は、第２のプラス側トレランス値及び第２のマイナス側トレランス値をそれぞれ、第３の領域における積算露光量の最大値及び最小値として決定する工程を含むことを特徴とする構成１１に記載の露光装置。
（構成１３）決定工程は、合算積算露光量が第２のプラス側トレランス値を上回る第１の位置が検出されるか判定する工程と、第１の位置が検出されないと判定された際に、第４の領域における露光量が増大するように第１の構成及び第２の構成を調整する工程と、調整された第１の構成において第１の露光を行うことで第４の領域における第１の積算露光量を取得する工程と、調整された第２の構成において第２の露光を行うことで第４の領域における第２の積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１２に記載の露光装置。
（構成１４）決定工程は、合算積算露光量が第２のマイナス側トレランス値を下回る第２の位置が検出されるか判定する工程と、第２の位置が検出されないと判定された際に、第４の領域における露光量が減少するように第１の構成及び第２の構成を調整する工程と、調整された第１の構成において第１の露光を行うことで第４の領域における第１の積算露光量を取得する工程と、調整された第２の構成において第２の露光を行うことで第４の領域における第２の積算露光量を取得する工程とを含むことを特徴とする構成１２または１３に記載の露光装置。
（構成１５）光を射出する光源と、光源からの光が通過する開口が形成されている遮光部とを含み、露光光を原版に導光する照明光学系を備え、決定工程は、決定された少なくとも一つの位置と、光源の種類、光源のモード及び非走査方向における開口に対する第４の領域の相対位置のうち少なくとも一つとを互いに対応付けて制御部によって記憶させる工程を含むことを特徴とする構成９乃至１４のいずれか一項に記載の露光装置。
（構成１６）非走査方向に移動することによって露光光の少なくとも一部を遮光することで、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における露光量を調整する露光量調整部を含み、原版を通過した露光光を基板に導光する投影光学系を備えることを特徴とする構成１乃至１５のいずれか一項に記載の露光装置。
（方法１）構成１乃至１６のいずれか一項に記載の露光装置によって基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを含むことを特徴とする物品の製造方法。
（方法２）基板を保持しながら基板の基板面に平行な走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部とを備える露光装置において原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板面上に投影し、基板を露光する露光方法であって、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、露光方法は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を含み、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光方法。
【符号の説明】
【0092】
３ 原版
１６ 基板
１７ 基板ステージ
１８ 光量センサ（計測部）
２０ 制御部
２２ａ 第１の露光領域
２２ｂ 第２の露光領域
２４ 第１の繋ぎ領域、第２の繋ぎ領域
２５ａ 第１の非繋ぎ領域
２５ｂ 第２の非繋ぎ領域
３０ａ、３０ｂ、３１ａ 特徴点（少なくとも一つの位置）
１００ 露光装置
１６ 基板
１７ 基板ステージ
１８ 光量センサ（計測部）
２０ 制御部
２２ａ 第１の露光領域
２２ｂ 第２の露光領域
２４ 第１の繋ぎ領域、第２の繋ぎ領域
２５ａ 第１の非繋ぎ領域
２５ｂ 第２の非繋ぎ領域
３０ａ、３０ｂ、３１ａ 特徴点（少なくとも一つの位置）
１００ 露光装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
